JP7328292B2 - 保持装置、露光装置、及び物品の製造方法 - Google Patents

保持装置、露光装置、及び物品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7328292B2
JP7328292B2 JP2021155516A JP2021155516A JP7328292B2 JP 7328292 B2 JP7328292 B2 JP 7328292B2 JP 2021155516 A JP2021155516 A JP 2021155516A JP 2021155516 A JP2021155516 A JP 2021155516A JP 7328292 B2 JP7328292 B2 JP 7328292B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
holding
optical element
holding portion
base
holds
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021155516A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2023046745A (ja
Inventor
恭平 白畑
正人 羽切
一貴 木村
美津留 関
友樹 由井
友弘 西川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2021155516A priority Critical patent/JP7328292B2/ja
Priority to TW111129493A priority patent/TW202314397A/zh
Priority to CN202211024317.XA priority patent/CN115857279A/zh
Priority to KR1020220114195A priority patent/KR20230043714A/ko
Publication of JP2023046745A publication Critical patent/JP2023046745A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7328292B2 publication Critical patent/JP7328292B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、保持装置、露光装置、及び物品の製造方法に関する。
液晶パネルや有機ELディスプレイ、或いは半導体デバイスなどの製造では、投影光学系を介して、感光材が塗布された基板に原版のパターンを露光する露光装置が用いられる。露光装置は、微細なパターンを精度よく転写する必要があるため、露光装置に搭載される光学素子を精度よく保持することが要求される。
特許文献1には、自重により変形してしまった光学素子の面形状を、変形する前の状態に戻すことができる機構を備えた保持装置について開示されている。また、特許文献1には、光学素子に局所的に発生している応力を除去する手法について記載されている。
特開2021-005018号公報
また、露光装置に搭載された光学素子は、外乱の影響による振動モードの発生により、露光精度に影響を及ぼすおそれがある。特許文献1には、光学素子で発生する振動が露光精度に悪影響を及ぼすという課題認識は無く、光学素子で生じる振動に対する対策について開示されていない。特に、光学素子の光軸と垂直な方向の軸回りに回転する振動モードは、他の振動モードに比べて光学素子の敏感度が高いため、光学性能を悪化させる要因の1つとなりうる。
そこで、本発明は、光学性能の低下を抑制するために有利な保持装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての保持装置は、光学素子を保持する保持装置であって、ベースと、前記光学素子と前記ベースとを保持する第1保持部と、前記第1保持部が前記光学素子を保持する保持位置とは異なる位置で前記光学素子と前記ベースとを保持する第2保持部と、前記光学素子で発生する振動を検出する検出部と、を有し、前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方の剛性を変更できるように構成されていることを特徴とする。
本発明によれば、光学性能の低下を抑制するために有利な保持装置を提供することができる。
第1実施形態における保持装置の構成を示す概略図である。 振動センサの配置を説明するための図である。 第1実施形態における剛性調整手段を説明するための図である。 第2実施形態における保持装置の構成を示す概略図である。 第2実施形態における剛性調整手段を説明するための図である。 第2実施形態における保持装置の変形例の構成を示す概略図である。 露光装置の構成を示す概略図である。
以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。尚、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
<第1実施形態>
図1を参照して、光学素子1を保持する保持装置100について説明する。図1(a)及び図1(b)は、本実施形態の保持装置100の構成を示す図である。本実施形態では、重力方向をZ軸方向と定義し、Z軸方向に対して垂直な方向であり、且つ互いに直交する方向をそれぞれX軸方向、Y軸方向と定義する。図1(a)はX軸方向から見た保持装置100の側面図であり、図1(b)は図1(a)に示す鎖線A-A´の断面をY軸方向から見た図である。本実施形態における保持装置100は、図1(a)及び図1(b)に示すように直交座標系に定義された空間において、光学素子1が光学面の面法線が重力方向に対して直交になるように保持されている。
保持装置100は、ベース2と、光学素子1を固定して保持する固定部5と、連結部13(第1保持部)と、連結部10(第2保持部)と、振動センサ20、21、22を有する。固定部5は、連結部10、13を介してベース2と結合されている。固定部5は必須な構成ではなく、光学素子1に直接、連結部10、13が連結される構成であっても良い。連結部10及び連結部13の少なくとも一方は、ベース2が光学素子1を保持する保持力を変更できるように構成されている。すなわち、連結部10及び連結部13の少なくとも一方は、ベース2が光学素子1を保持することにより光学素子1に付与される剛性を変更できる剛性調整手段を有する。
図1(b)に示すように、固定部5には、固有振動数で振動する光学素子1の変形形状を計測するために、光学素子1で発生する振動を検出する振動センサ20、21、22(振動検出部)が設けられる。図2は、本実施形態における振動センサ20、21、22の配置位置を詳細に示した図である。振動センサ20は光学素子1のY軸方向の振動成分を検出し、振動センサ21は光学素子1のX軸方向の振動成分を検出し、振動センサ22は光学素子1のZ軸方向の振動成分を検出する。
本実施形態では、Y方向の振動成分を光学素子1の領域毎に計測するために、3つの振動センサ20が設けられる。これにより、Y方向の並進の振動を測定することができる。また、振動センサ20、21、22のそれぞれで計測された振動成分から、既知の方法により、X軸回りの回転成分ωXやZ軸回りの回転成分ωZを算出することができる。尚、振動センサ20、21、22が配置される数や配置される位置については、計測したい振動成分に基づいて、任意に設定されても良い。
図3を参照して、連結部13の構成を詳細に説明する。図3は、保持装置100における連結部13の構成を示す図である。以下の説明では、連結部13が剛性調整手段を有する例について説明するが、連結部13と同様な構成により連結部10が剛性調整手段を有していても良い。また、連結部10のみが、以下に説明する構成により剛性調整手段を有していても良い。
連結部13は、連結部材11a、11bと、板バネ12(剛性調整手段)を有する。連結部材11aは、固定部5の1箇所を固定し、板バネ12と連結部材11bとを介してベース2に連結される。連結部材11bは、ベース2の2箇所を固定する。板バネ12は、固定部5とベース2の間でY方向に橋渡しするように、連結部材11a、11bを介して配置される。板バネ12は、光学素子1を配置した後でも変更することが可能な構成となっており、板バネ12の材質、厚み、数等を変更することにより、光学素子1とベース2とを保持する保持力を調整可能な構成となっている。
本実施形態において、連結部10、13は、図1(a)に示すように、光学素子1を光学素子1における光軸を含まない領域で保持している。光軸は、光学素子1の中心を通過し、光軸方向はY軸方向と並行な方向である。本実施形態では、複数の連結部を介してベース2と固定部5とを固定しており、連結部10は、連結部13が光学素子1を保持している保持位置とは異なる位置で光学素子1とベース2とを保持している。
しかしながら、本実施形態のように複数の連結部が構成される場合に、それぞれの連結部が光学素子1を保持する保持力が異なると、例えば、光学素子1のあおりωX(光学素子1の光軸と垂直な方向であるX軸回りの回転)方向に振動モードが発生してしまう。
連結部10、13は、設計の段階で光学性能に影響するおそれが大きい回転の振動モードが発生しないように構成される。しかしながら、保持装置100の各部品における公差や保持装置100の組立時における製造誤差等により、設計値よりも大きな回転の振動モードが発生してしまうおそれがある。
回転の振動モードは、連結部10が光学素子1を保持する剛性と、連結部13が光学素子1を保持する剛性との差に応じて、回転振動モードが発生する。そのため、連結部10が光学素子1を保持する保持力と、連結部13が光学素子1を保持する保持力との差が低減されるように、連結部10及び連結部13が構成されることが好ましい。本実施形態では、連結部10及び連結部13の少なくとも一方は、設置後に材質、厚み、数等を変更できるように構成される。
次に、本実施形態において剛性調整手段を調整する調整方法について説明する。まず、振動センサ20、21、22により振動成分を取得する。振動センサ20、21、22で取得した振動成分から、回転の振動モードを算出する。回転の振動モードを算出した結果、例えばωX方向の回転の振動モードが発生している場合、連結部10が光学素子1を保持する保持力と、連結部13が光学素子1を保持する保持力との差が生じていることが考えられる。
そこで、本実施形態では、連結部10が光学素子1を保持する保持力と、連結部13が光学素子1を保持する保持力との差が低減するように、板バネ12を調整する。具体的には、連結部13が光学素子1を保持する保持力が、連結部10が光学素子1を保持する保持力よりも小さい場合には、板バネ12の材質を変形量が小さい材質に変更する。これにより、保持力を高めることができる。あるいは、板バネ12の厚みを大きくして変形量が小さくなるようにすることで保持力を高めても良いし、板バネ12の数を増やして、変形量が小さくなるようにすることで保持力を高めても良い。
上記の調整を実行することにより、光学素子1の回転の振動モードを低減させることができる。より詳細には、光学素子1の回転の振動モードを並進の振動モードに変換させることができる。光学素子1の並進の振動モードは、回転の振動モードに比べて敏感度が小さい。したがって、本実施形態における保持装置100は、光学性能の低下を抑制することができる。
<第2実施形態>
第1実施形態では、剛性調整手段が板バネである例について説明した。本実施形態では、板バネ以外の剛性調整手段について説明する。図4を参照して、光学素子1を保持する保持装置200について説明する。図4(a)及び図4(b)は、本実施形態の保持装置200の構成を示す図である。本実施形態では、重力方向をZ軸方向と定義し、Z軸方向に対して垂直な方向であり、且つ互いに直交する方向をそれぞれX軸方向、Y軸方向と定義する。図4(a)はY軸方向から見た保持装置200の正面図であり、図4(b)は図4(a)に示す鎖線B-B´の断面をX軸方向から見た図である。本実施形態における保持装置200は、図4(a)及び図4(b)に示すように直交座標系に定義された空間において、光学素子1が光学面の面法線が重力方向に対して直交になるように保持されている。
保持装置200は、ベース2a、2bと、光学素子1が載置される連結部16(第1保持部)と、載置部17(第2保持部)と、振動センサ20、21、22を有する。光学素子1は、載置部17を介してベース2aにより保持されている。また、光学素子1は、連結部16を介してベース2bにより保持されている。連結部16及び載置部17の少なくとも一方は、ベース2a、2bが光学素子1を保持する保持力を変更できるように構成されている。すなわち、連結部16及び載置部17の少なくとも一方は、ベース2a、2bが光学素子1を保持することにより光学素子1に付与される剛性を変更できる剛性調整手段を有する。
図4(a)に示すように、光学素子1の裏面には、固有振動数で振動する光学素子1の変形形状を計測するために、光学素子1で発生する振動を検出する振動センサ20、21、22(振動検出部)が設けられる。振動センサ20は光学素子1のY軸方向の振動成分を検出し、振動センサ21は光学素子1のX軸方向の振動成分を検出し、振動センサ22は光学素子1のZ軸方向の振動成分を検出する。
ベース2bは、ベース2aの上部に搭載され、ベース2aの内部に蓋をするように構成される。連結部16は、光学素子1の上部中央の1箇所を直接保持し、剛性調整手段を備えてベース2bと連結される。載置部17は、光学素子1の外周と接する下方2箇所で光軸(Y軸)とZ軸からなるY-Z平面に対して対称となる位置で光学素子1の自重を支えている。載置部17には、光学素子1のY方向を規制するように光学素子1の表面と裏面を挟み込むように構成されている。
図5を参照して、連結部16の構成を詳細に説明する。図5は、保持装置200における連結部16の構成を示す図である。以下の説明では、連結部16が剛性調整手段を有する例について説明するが、連結部16と同様な構成により載置部17が剛性調整手段を有していても良い。また、載置部17のみが、以下に説明する構成により剛性調整手段を有していても良い。
連結部16は、連結部材14とボルト15(剛性調整手段)を有する。ボルト15は、ベース2bと連結部16とを複数箇所で固定する。ボルト15は、光学素子1を配置した後でもボルト15の配置、締結トルク、数等を変更することが可能な構成となっている。ボルト15の配置、締結トルク、数等を変更することにより、光学素子1とベース2bとを保持する保持力を調整可能な構成となっている。
連結部材14で光学素子1とベース2bを連結するが、光学素子1は光学面の面法線が重力方向に直交になるよう配置されるため、光学素子1の上部を支持するために片持ち梁構造となってしまう。そのような構成により、光学素子1がωX方向に振動する振動モードが発生してしまう原因となりえる。
本実施形態における剛性調整手段を調整する調整方法は、第1実施形態と同様であり、センサ20、21、22で計測された振動成分に基づいて、回転の振動モードが低減されるように調整を行う。本実施形態では、連結部16が光学素子1を保持する保持力と、載置部17が光学素子1を保持する保持力との差が低減するように、ボルト15を調整する。具体的には、連結部16が光学素子1を保持する保持力が、載置部17が光学素子1を保持する保持力よりも小さい場合には、ボルト15の数を増やすことにより、保持力を高めることができる。あるいは、ボルト15の締結トルクを大きくすることで保持力を高めても良いし、ボルト15の配置を工夫することで変形量を小さくすることにより保持力を高めても良い。
したがって、上記の調整を実行することにより、光学素子1の回転の振動モードを低減させることができる。より詳細には、光学素子1の回転の振動モードを並進の振動モードに変換させることができる。光学素子1の並進の振動モードは、回転の振動モードに比べて敏感度が小さい。したがって、本実施形態における保持装置200は、光学性能の低下を抑制することができる。
本実施形態の変形例について、図6を参照して説明する。図6(a)及び図6(b)は、本実施形態の変形例における保持装置300の構成を示す図である。図6(a)はY軸方向から見た保持装置300の正面図であり、図6(b)は図6(a)に示す鎖線C-C´の断面をX軸方向から見た図である。図4における保持装置200とは、動吸振器30、31を更に有している点で異なる。動吸振器30、31以外の構成については図4における保持装置200と同様であるため、説明を省略する。
動吸振器30、31は、設計段階で予め把握している光学素子1の高次の回転振動モードを減衰させることができる。動吸振器30、31は光学素子1に直接取り付けられ、減衰させたい振動モードにつき2つ配置される。例えば、動吸振器30は、光学素子1の背面上部に配置され、光学素子1のωX方向の回転振動を減衰させる。動吸振器31は光学素子1の外周部に配置され、光学素子1のωZ方向の回転振動を減衰させる。
動吸振器30、31を用いることで、高次の回転の振動成分を減衰させることができるが、保持装置300の各部品における公差や保持装置300の組立時における製造誤差等により発生しうる低次の振動成分が残存してしまう。そこで、高次の振動に対しては動吸振器30、31により低減させ、低次の振動に対しては剛性調整手段を調整することで光学性能の悪化を改善することができる。
したがって、上記の調整を実行することにより、光学素子1の回転の振動モードを低減させることができる。より詳細には、光学素子1の回転の振動モードを並進の振動モードに変換させることができる。光学素子1の並進の振動モードは、回転の振動モードに比べて敏感度が小さい。したがって、本実施形態における保持装置300は、光学性能の低下を抑制することができる。
<露光装置の実施形態>
上記の保持装置100、200、300を露光装置に適用する実施形態について図7を参照して説明する。図7は、本実施形態における露光装置EXPの構成を示す概略図である。露光装置EXPは、原版M(マスク)を保持する原版ステージ40と、照明光学系ILによって照明される原版Mのパターンを基板Pに投影する投影光学系POと、基板Pを保持する基板ステージ44とを有する。不図示の光源から照射された露光光は、照明光学系ILにより原版Mに集光される。
投影光学系POは、原版M上に形成されたパターンを感光材が塗布された基板P上に投影し、パターンを転写するための光学系である。本実施形態では、オフナー型の光学系による投影光学系を想定する。オフナー型の光学系の場合、良好な像領域を確保するために原版Mは円弧形状の照明領域で照射される。また、基板Pへ到達する露光光の照射形状も円弧形状となる。不図示の光源は、例えば、高圧水銀ランプやLEDによる光源である。
光源から照射された光は、照明光学系IL、原版Mを透過し、台形ミラー41、凹面ミラー42、凸面ミラー43、凹面ミラー42、台形ミラー41の順に反射した後に、基板Pに到達し、原版M上のパターンが基板P上に転写される。凸面ミラー43は、例えば、第1実施形態で説明した保持装置100により保持される。
また、凹面ミラー42は、凸面ミラー43よりも大きいため、第1実施形態における保持装置100よりも安定して保持されることが好ましい。そこで、凹面ミラー42の自重を支えることができるよう、第2実施形態における保持装置200のように、光学素子の底面を支えることができる構成であることが好ましい。よって、凹面ミラー42は、例えば、第2実施形態で説明した保持装置200により保持される。
上記の例では投影光学系POの少なくとも1つの光学素子を保持装置100や保持装置200で保持する例について説明したが、これに限らず、例えば、照明光学系ILの少なくとも1つの光学素子を保持装置100や保持装置200で保持しても良い。
露光装置EXPにおける凹面ミラー42や凸面ミラー43を本発明に係る保持装置により保持することで、露光装置EXP設置後にも回転の振動モードを低減させることができる。したがって、露光装置EXPを用いた露光処理は、露光性能の低下を抑制することができるため、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
<物品の製造方法の実施形態>
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、フラットパネルディスプレイ(FPD)を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板上に塗布された感光剤に上記の露光装置による露光で潜像パターンを形成し、露光基板を得る工程(露光工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された露光基板を現像し、現像基板を得る工程(現像工程)とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
1 光学素子
2 ベース
10 連結部(第2保持部)
12 板バネ(剛性調整手段)
13 連結部(第1保持部)
100 保持装置

Claims (19)

  1. 光学素子を保持する保持装置であって、
    ベースと、
    前記光学素子と前記ベースとを保持する第1保持部と、
    前記第1保持部が前記光学素子を保持する保持位置とは異なる位置で前記光学素子と前記ベースとを保持する第2保持部と、
    前記光学素子で発生する振動を検出する検出部と、を有し、
    前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方の剛性を変更できるように構成されていることを特徴とする保持装置。
  2. 前記光学素子を固定して保持する固定部を更に有し、
    前記第1保持部及び前記第2保持部は、前記固定部を介して前記光学素子と前記ベースとを保持することを特徴とする請求項1に記載の保持装置。
  3. 前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記第1保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力と、前記第2保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力との差が低減できるように構成されている請求項1又は2に記載の保持装置。
  4. 光学素子を保持する保持装置であって、
    ベースと、
    前記光学素子と前記ベースとを保持する第1保持部と、
    前記第1保持部が前記光学素子を保持する保持位置とは異なる位置で前記光学素子と前記ベースとを保持する第2保持部と、を有し、
    前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方の剛性を変更できるように構成され、
    前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記第1保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力と、前記第2保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力との差が低減できるように構成されていることを特徴とする保持装置。
  5. 前記第1保持部及び前記第2保持部は、前記光学素子を該光学素子における光軸を含まない領域で保持することを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の保持装置。
  6. 前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記ベースが前記光学素子を保持することにより前記光学素子に付与される剛性を変更できるように構成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の保持装置。
  7. 前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記剛性を調整できる剛性調整手段を有することを特徴とする請求項6に記載の保持装置。
  8. 前記剛性調整手段は、板バネを含むことを特徴とする請求項7に記載の保持装置。
  9. 前記剛性調整手段は、ボルトを含むことを特徴とする請求項7に記載の保持装置。
  10. 前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記光学素子で発生する回転の振動モードを低減できるように調整可能であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の保持装置。
  11. 前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記光学素子で発生する回転の振動モードを並進の振動モードに変換するように調整可能であることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の保持装置。
  12. 前記回転の振動モードは、前記光学素子の光軸に対して垂直な方向の軸回りに回転する方向の振動であることを特徴とする請求項11に記載の保持装置。
  13. 前記並進の振動モードは、前記光学素子の光軸に沿った方向の振動であることを特徴とする請求項11に記載の保持装置。
  14. 光学素子を保持する保持装置であって、
    ベースと、
    前記光学素子と前記ベースとを保持する第1保持部と、
    前記第1保持部が前記光学素子を保持する保持位置とは異なる位置で前記光学素子と前記ベースとを保持する第2保持部と、を有し、
    前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方の剛性を変更できるように構成され、
    前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記光学素子で発生する回転の振動モードを並進の振動モードに変換するように調整可能であることを特徴とする保持装置。
  15. ベースにより第1保持部及び第2保持部を介して光学素子を保持する保持装置において、前記ベースが前記光学素子を保持する保持力を調整する調整方法であって、
    前記光学素子で発生する振動を検出する検出工程と、
    前記検出工程で検出された結果に基づいて、前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方の剛性を変更する調整工程と、を含むことを特徴とする調整方法。
  16. 前記調整工程では、前記検出工程で検出された結果に基づいて、前記第1保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力と、前記第2保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力との差が低減するように、前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方を調整することを特徴とする請求項15に記載の調整方法。
  17. 前記調整工程では、前記検出工程で検出された結果に基づいて、前記光学素子で発生する回転の振動モードを低減することを特徴とする請求項15又は16に記載の調整方法。
  18. 原版に形成されたパターンを、光源からの露光光を用いて基板上に塗布された感光材に転写するように前記感光材を露光する露光装置であって、
    前記光源からの露光光を前記原版に照明する照明光学系と、
    前記原版を透過した露光光を前記基板上に投影する投影光学系と、を有し、
    前記照明光学系及び前記投影光学系に含まれる少なくとも1つの光学素子は、請求項1乃至14のいずれか一項に記載の保持装置によって保持されていることを特徴とする露光装置。
  19. 請求項18に記載の露光装置を用いて基板を露光し、露光基板を得る露光工程と、
    前記露光基板を現像し、現像基板を得る現像工程と、を含み、
    前記現像基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
JP2021155516A 2021-09-24 2021-09-24 保持装置、露光装置、及び物品の製造方法 Active JP7328292B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021155516A JP7328292B2 (ja) 2021-09-24 2021-09-24 保持装置、露光装置、及び物品の製造方法
TW111129493A TW202314397A (zh) 2021-09-24 2022-08-05 保持裝置、曝光裝置及物品之製造方法
CN202211024317.XA CN115857279A (zh) 2021-09-24 2022-08-25 保持装置、曝光装置以及物品制造方法
KR1020220114195A KR20230043714A (ko) 2021-09-24 2022-09-08 보유지지 장치, 노광 장치, 및 물품의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021155516A JP7328292B2 (ja) 2021-09-24 2021-09-24 保持装置、露光装置、及び物品の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023046745A JP2023046745A (ja) 2023-04-05
JP7328292B2 true JP7328292B2 (ja) 2023-08-16

Family

ID=85660616

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021155516A Active JP7328292B2 (ja) 2021-09-24 2021-09-24 保持装置、露光装置、及び物品の製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7328292B2 (ja)
KR (1) KR20230043714A (ja)
CN (1) CN115857279A (ja)
TW (1) TW202314397A (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013513828A (ja) 2009-12-14 2013-04-22 フラウンホッファー−ゲゼルシャフト・ツァー・フォデラング・デル・アンゲワンテン・フォーシュング・エー.ファウ. 投射装置用の偏向装置、画像を投射する投射装置、及び、投射装置用の偏向装置を制御する方法
JP2014022739A (ja) 2012-07-17 2014-02-03 Carl Zeiss Smt Gmbh リソグラフィ装置及び方法
JP2018005189A (ja) 2016-07-08 2018-01-11 キヤノン株式会社 保持装置、光学装置、および移動体
DE102017207763A1 (de) 2017-05-09 2018-04-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Gelenkanordnung für ein optisches Element, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP2018066958A (ja) 2016-10-21 2018-04-26 キヤノン株式会社 光学装置、投影光学系、露光装置及び物品の製造方法
CN110703407A (zh) 2019-10-17 2020-01-17 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 高精度拼接反射镜支撑驱动结构

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013513828A (ja) 2009-12-14 2013-04-22 フラウンホッファー−ゲゼルシャフト・ツァー・フォデラング・デル・アンゲワンテン・フォーシュング・エー.ファウ. 投射装置用の偏向装置、画像を投射する投射装置、及び、投射装置用の偏向装置を制御する方法
JP2014022739A (ja) 2012-07-17 2014-02-03 Carl Zeiss Smt Gmbh リソグラフィ装置及び方法
JP2018005189A (ja) 2016-07-08 2018-01-11 キヤノン株式会社 保持装置、光学装置、および移動体
JP2018066958A (ja) 2016-10-21 2018-04-26 キヤノン株式会社 光学装置、投影光学系、露光装置及び物品の製造方法
DE102017207763A1 (de) 2017-05-09 2018-04-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Gelenkanordnung für ein optisches Element, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
CN110703407A (zh) 2019-10-17 2020-01-17 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 高精度拼接反射镜支撑驱动结构

Also Published As

Publication number Publication date
KR20230043714A (ko) 2023-03-31
CN115857279A (zh) 2023-03-28
JP2023046745A (ja) 2023-04-05
TW202314397A (zh) 2023-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5525559B2 (ja) リソグラフィ装置
TWI442189B (zh) 用於將圖案從圖案化器件轉印到基板的微影裝置及阻尼方法
JP2010262284A (ja) 保護装置、マスク、マスク形成装置、マスク形成方法、露光装置、デバイス製造方法、及び異物検出装置
JP6316973B2 (ja) ステージ位置決めシステムおよびリソグラフィ装置
KR101476865B1 (ko) 노광 장치와 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법
JP5196162B2 (ja) 面位置検出装置、面位置検出方法、露光装置、及びデバイス製造方法
US10871369B2 (en) Systems for and methods of measuring photomask flatness with reduced gravity-induced error
US20050105069A1 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP7328292B2 (ja) 保持装置、露光装置、及び物品の製造方法
JP5350139B2 (ja) 露光装置、及びデバイスの製造方法
US8009273B2 (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
WO2007086557A1 (ja) 光学部材保持装置、光学部材の位置調整方法、及び露光装置
JP2014099564A (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
JP2021124611A (ja) 振動制御装置、露光装置、および物品製造方法
US20110065051A1 (en) Supporting device, optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP4174262B2 (ja) 光学要素の支持構造、光学系、光学系の調整方法、露光装置、露光方法、半導体デバイス製造方法
JP3337951B2 (ja) 投影露光装置および方法
US10539879B2 (en) Optical apparatus, exposure apparatus, method of manufacturing optical apparatus, and method of manufacturing article
JPH03214721A (ja) 露光装置
JP2022130036A (ja) 露光装置、露光方法及び物品の製造方法
KR20210043686A (ko) 광학 요소 지지
KR20200045405A (ko) 기판 유지장치, 노광장치 및 물품의 제조방법
JP2001267234A (ja) 露光装置
JP2013125790A (ja) 保持装置、露光装置、およびデバイス製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220628

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220628

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230502

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230622

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230704

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230803

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7328292

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151