JP7328292B2 - 保持装置、露光装置、及び物品の製造方法 - Google Patents
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図1を参照して、光学素子1を保持する保持装置100について説明する。図1(a)及び図1(b)は、本実施形態の保持装置100の構成を示す図である。本実施形態では、重力方向をZ軸方向と定義し、Z軸方向に対して垂直な方向であり、且つ互いに直交する方向をそれぞれX軸方向、Y軸方向と定義する。図1(a)はX軸方向から見た保持装置100の側面図であり、図1(b)は図1(a)に示す鎖線A-A´の断面をY軸方向から見た図である。本実施形態における保持装置100は、図1(a)及び図1(b)に示すように直交座標系に定義された空間において、光学素子1が光学面の面法線が重力方向に対して直交になるように保持されている。
第1実施形態では、剛性調整手段が板バネである例について説明した。本実施形態では、板バネ以外の剛性調整手段について説明する。図4を参照して、光学素子1を保持する保持装置200について説明する。図4(a)及び図4(b)は、本実施形態の保持装置200の構成を示す図である。本実施形態では、重力方向をZ軸方向と定義し、Z軸方向に対して垂直な方向であり、且つ互いに直交する方向をそれぞれX軸方向、Y軸方向と定義する。図4(a)はY軸方向から見た保持装置200の正面図であり、図4(b)は図4(a)に示す鎖線B-B´の断面をX軸方向から見た図である。本実施形態における保持装置200は、図4(a)及び図4(b)に示すように直交座標系に定義された空間において、光学素子1が光学面の面法線が重力方向に対して直交になるように保持されている。
上記の保持装置100、200、300を露光装置に適用する実施形態について図7を参照して説明する。図7は、本実施形態における露光装置EXPの構成を示す概略図である。露光装置EXPは、原版M(マスク)を保持する原版ステージ40と、照明光学系ILによって照明される原版Mのパターンを基板Pに投影する投影光学系POと、基板Pを保持する基板ステージ44とを有する。不図示の光源から照射された露光光は、照明光学系ILにより原版Mに集光される。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、フラットパネルディスプレイ(FPD)を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板上に塗布された感光剤に上記の露光装置による露光で潜像パターンを形成し、露光基板を得る工程(露光工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された露光基板を現像し、現像基板を得る工程(現像工程)とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
2 ベース
10 連結部(第2保持部)
12 板バネ(剛性調整手段)
13 連結部(第1保持部)
100 保持装置
Claims (19)
- 光学素子を保持する保持装置であって、
ベースと、
前記光学素子と前記ベースとを保持する第1保持部と、
前記第1保持部が前記光学素子を保持する保持位置とは異なる位置で前記光学素子と前記ベースとを保持する第2保持部と、
前記光学素子で発生する振動を検出する検出部と、を有し、
前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方の剛性を変更できるように構成されていることを特徴とする保持装置。 - 前記光学素子を固定して保持する固定部を更に有し、
前記第1保持部及び前記第2保持部は、前記固定部を介して前記光学素子と前記ベースとを保持することを特徴とする請求項1に記載の保持装置。 - 前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記第1保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力と、前記第2保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力との差が低減できるように構成されている請求項1又は2に記載の保持装置。
- 光学素子を保持する保持装置であって、
ベースと、
前記光学素子と前記ベースとを保持する第1保持部と、
前記第1保持部が前記光学素子を保持する保持位置とは異なる位置で前記光学素子と前記ベースとを保持する第2保持部と、を有し、
前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方の剛性を変更できるように構成され、
前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記第1保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力と、前記第2保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力との差が低減できるように構成されていることを特徴とする保持装置。 - 前記第1保持部及び前記第2保持部は、前記光学素子を該光学素子における光軸を含まない領域で保持することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の保持装置。
- 前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記ベースが前記光学素子を保持することにより前記光学素子に付与される剛性を変更できるように構成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の保持装置。
- 前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記剛性を調整できる剛性調整手段を有することを特徴とする請求項6に記載の保持装置。
- 前記剛性調整手段は、板バネを含むことを特徴とする請求項7に記載の保持装置。
- 前記剛性調整手段は、ボルトを含むことを特徴とする請求項7に記載の保持装置。
- 前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記光学素子で発生する回転の振動モードを低減できるように調整可能であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の保持装置。
- 前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記光学素子で発生する回転の振動モードを並進の振動モードに変換するように調整可能であることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の保持装置。
- 前記回転の振動モードは、前記光学素子の光軸に対して垂直な方向の軸回りに回転する方向の振動であることを特徴とする請求項11に記載の保持装置。
- 前記並進の振動モードは、前記光学素子の光軸に沿った方向の振動であることを特徴とする請求項11に記載の保持装置。
- 光学素子を保持する保持装置であって、
ベースと、
前記光学素子と前記ベースとを保持する第1保持部と、
前記第1保持部が前記光学素子を保持する保持位置とは異なる位置で前記光学素子と前記ベースとを保持する第2保持部と、を有し、
前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方の剛性を変更できるように構成され、
前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方は、前記光学素子で発生する回転の振動モードを並進の振動モードに変換するように調整可能であることを特徴とする保持装置。 - ベースにより第1保持部及び第2保持部を介して光学素子を保持する保持装置において、前記ベースが前記光学素子を保持する保持力を調整する調整方法であって、
前記光学素子で発生する振動を検出する検出工程と、
前記検出工程で検出された結果に基づいて、前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方の剛性を変更する調整工程と、を含むことを特徴とする調整方法。 - 前記調整工程では、前記検出工程で検出された結果に基づいて、前記第1保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力と、前記第2保持部を介して前記ベースが前記光学素子を保持する保持力との差が低減するように、前記第1保持部及び前記第2保持部の少なくとも一方を調整することを特徴とする請求項15に記載の調整方法。
- 前記調整工程では、前記検出工程で検出された結果に基づいて、前記光学素子で発生する回転の振動モードを低減することを特徴とする請求項15又は16に記載の調整方法。
- 原版に形成されたパターンを、光源からの露光光を用いて基板上に塗布された感光材に転写するように前記感光材を露光する露光装置であって、
前記光源からの露光光を前記原版に照明する照明光学系と、
前記原版を透過した露光光を前記基板上に投影する投影光学系と、を有し、
前記照明光学系及び前記投影光学系に含まれる少なくとも1つの光学素子は、請求項1乃至14のいずれか一項に記載の保持装置によって保持されていることを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置を用いて基板を露光し、露光基板を得る露光工程と、
前記露光基板を現像し、現像基板を得る現像工程と、を含み、
前記現像基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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Citations (6)
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---|---|---|---|---|
JP2013513828A (ja) | 2009-12-14 | 2013-04-22 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト・ツァー・フォデラング・デル・アンゲワンテン・フォーシュング・エー.ファウ. | 投射装置用の偏向装置、画像を投射する投射装置、及び、投射装置用の偏向装置を制御する方法 |
JP2014022739A (ja) | 2012-07-17 | 2014-02-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | リソグラフィ装置及び方法 |
JP2018005189A (ja) | 2016-07-08 | 2018-01-11 | キヤノン株式会社 | 保持装置、光学装置、および移動体 |
DE102017207763A1 (de) | 2017-05-09 | 2018-04-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Gelenkanordnung für ein optisches Element, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
JP2018066958A (ja) | 2016-10-21 | 2018-04-26 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置及び物品の製造方法 |
CN110703407A (zh) | 2019-10-17 | 2020-01-17 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 高精度拼接反射镜支撑驱动结构 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013513828A (ja) | 2009-12-14 | 2013-04-22 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト・ツァー・フォデラング・デル・アンゲワンテン・フォーシュング・エー.ファウ. | 投射装置用の偏向装置、画像を投射する投射装置、及び、投射装置用の偏向装置を制御する方法 |
JP2014022739A (ja) | 2012-07-17 | 2014-02-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | リソグラフィ装置及び方法 |
JP2018005189A (ja) | 2016-07-08 | 2018-01-11 | キヤノン株式会社 | 保持装置、光学装置、および移動体 |
JP2018066958A (ja) | 2016-10-21 | 2018-04-26 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置及び物品の製造方法 |
DE102017207763A1 (de) | 2017-05-09 | 2018-04-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Gelenkanordnung für ein optisches Element, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
CN110703407A (zh) | 2019-10-17 | 2020-01-17 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 高精度拼接反射镜支撑驱动结构 |
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