JP7328135B2 - X-ray analysis device, analysis method, and program - Google Patents

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Description

本発明は、粒子状物質から発生する二次X線を用いて、当該粒子状物質を分析するX線分析装置、分析方法、及び、当該分析方法をコンピュータシステムに実行させるプログラムに関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an X-ray analysis apparatus for analyzing particulate matter using secondary X-rays generated from the particulate matter, an analysis method, and a program for causing a computer system to execute the analysis method.

物質にX線を照射すると、その物質に特有のX線(二次X線と呼ばれる)が発生することが知られている。物質にX線を照射することにより発生する主な二次X線としては、物質に含まれる元素に由来する蛍光X線、入射したX線が物質により散乱されることで発生する散乱X線がある。 It is known that when a substance is irradiated with X-rays, X-rays peculiar to that substance (called secondary X-rays) are generated. The main secondary X-rays generated by irradiating a substance with X-rays are fluorescent X-rays derived from the elements contained in the substance, and scattered X-rays generated when the incident X-rays are scattered by the substance. be.

また、上記の物質から発生する二次X線を検出し、検出した二次X線のうち蛍光X線を用いて、当該物質に含まれる元素の分析を行うことが知られている(例えば、特許文献1を参照)。 Further, it is known to detect the secondary X-rays generated from the above substances and analyze the elements contained in the substances using the fluorescent X-rays among the detected secondary X-rays (for example, See Patent Document 1).

特許第6096419号Patent No. 6096419

近年、排気ガスなどの気体中に存在する粒子状物質に含まれる元素を分析する手法についての要求が高まっている。粒子状物質に含まれる元素を分析する手法として、上記の蛍光X線を用いる方法が考えられる。なぜなら、蛍光X線を用いる元素の分析方法においては、物質に含まれる元素を数ppmオーダーのレベルで精度よく測定できるからである。 In recent years, there has been an increasing demand for techniques for analyzing elements contained in particulate matter present in gases such as exhaust gas. As a technique for analyzing elements contained in particulate matter, the above-described method using fluorescent X-rays is conceivable. This is because the elemental analysis method using fluorescent X-rays can accurately measure the elements contained in the substance at a level of the order of several ppm.

その一方で、粒子状物質から発生する蛍光X線の強度は、その粒子状物質に含まれる元素量だけでなく、測定領域に存在する粒子状物質の量、及び、測定領域における粒子状物質の状態にも依存する。そのため、蛍光X線を用いて粒子状物質に含まれる元素の含有量を精度よく測定するためには、測定領域に存在する粒子状物質の量が適切であるか否か、及び、粒子状物質が測定領域においてどのような状態で存在しているかを把握する必要がある。 On the other hand, the intensity of fluorescent X-rays generated from particulate matter is determined not only by the amount of elements contained in the particulate matter, but also by the amount of particulate matter present in the measurement area and the amount of particulate matter in the measurement area. It also depends on the state. Therefore, in order to accurately measure the content of elements contained in particulate matter using fluorescent X-rays, it is necessary to determine whether the amount of particulate matter present in the measurement area is appropriate and whether the amount of particulate matter It is necessary to grasp the state in which is present in the measurement area.

本発明の目的は、二次X線を用いた粒子状物質の分析において、粒子状物質の測定領域における状態を簡単な方法により把握することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to grasp the state of particulate matter in a measurement region by a simple method in the analysis of particulate matter using secondary X-rays.

以下に、課題を解決するための手段として複数の態様を説明する。これら態様は、必要に応じて任意に組み合せることができる。
本発明に一見地にかかるX線分析装置は、粒子状物質から発生する蛍光X線を用いて粒子状物質の分析を行う装置である。X線分析装置は、試料台と、X線源と、検出器と、演算部と、を備える。
試料台には、粒子状物質が載置される。X線源は、試料台に載置された粒子状物質にX線を照射する。検出器は、粒子状物質にX線を照射することにより発生した二次X線を検出する。演算部は、検出器により検出された二次X線の強度に基づいて、粒子状物質の試料台における状態に関する状態情報を取得する。また、演算部は、粒子状物質から発生する二次X線に基づいて、粒子状物質に含まれる元素を分析する。
これにより、本発明に係るX線分析装置は、粒子状物質から発生する二次X線を用いて、試料台における粒子状物質の状態(状態情報)を簡単に把握することができる。また、この状態情報を用いて、測定対象試料である粒子状物質が蛍光X線分析を行うために適切か否かを判断できる。
A plurality of aspects will be described below as means for solving the problem. These aspects can be arbitrarily combined as needed.
An X-ray analysis apparatus according to the present invention is an apparatus that analyzes particulate matter using fluorescent X-rays generated from particulate matter. An X-ray analysis apparatus includes a sample stage, an X-ray source, a detector, and a computing section.
Particulate matter is placed on the sample stage. The X-ray source irradiates the particulate matter placed on the sample stage with X-rays. The detector detects secondary X-rays generated by irradiating the particulate matter with X-rays. The computing unit acquires state information about the state of the particulate matter on the sample stage based on the intensity of the secondary X-rays detected by the detector. Further, the calculation unit analyzes elements contained in the particulate matter based on secondary X-rays generated from the particulate matter.
As a result, the X-ray analyzer according to the present invention can easily grasp the state (state information) of the particulate matter on the sample table using the secondary X-rays generated from the particulate matter. Also, using this state information, it is possible to determine whether or not the particulate matter, which is the sample to be measured, is suitable for performing fluorescent X-ray analysis.

演算部は、二次X線のうち、第1エネルギー以下のエネルギーを有する低エネルギー二次X線の強度に基づいて、試料台に載置された粒子状物質の表面状態に関する情報を取得してもよい。
これにより、低エネルギーを有する二次X線が物質の表面において発生するとの特性を用いて、試料台に載置された粒子状物質の表面状態を把握できる。
The computing unit obtains information about the surface state of the particulate matter placed on the sample stage based on the intensity of the low-energy secondary X-rays having energy equal to or lower than the first energy among the secondary X-rays. good too.
Accordingly, the surface state of the particulate matter placed on the sample stage can be grasped using the property that secondary X-rays having low energy are generated on the surface of the matter.

演算部は、低エネルギー二次X線の強度に基づいて、試料台に載置された粒子状物質の表面積に関する情報を取得してもよい。
これにより、低エネルギーを有する二次X線が物質の表面において発生するとの特性を用いて、試料台に載置された粒子状物質の表面積を把握できる。
The computing unit may obtain information about the surface area of the particulate matter placed on the sample stage based on the intensity of the low-energy secondary X-rays.
By using the property that secondary X-rays having low energy are generated on the surface of the substance, the surface area of the particulate matter placed on the sample stage can be grasped.

演算部は、低エネルギー二次X線の強度に基づいて、試料台に載置された粒子状物質の粒子径に関する情報を取得してもよい。
これにより、低エネルギーを有する二次X線が物質の表面において発生するとの特性を用いて、粒子状物質の粒子径を把握できる。
The computing unit may acquire information about the particle size of the particulate matter placed on the sample stage based on the intensity of the low-energy secondary X-rays.
Accordingly, the particle size of the particulate matter can be grasped using the property that secondary X-rays having low energy are generated on the surface of the matter.

演算部は、二次X線のうち、第1エネルギーより大きいエネルギーを有する高エネルギー二次X線の強度に基づいて、試料台に載置された粒子状物質の厚みに関する情報を取得してもよい。
これにより、高エネルギーを有する二次X線が物質の内部からも発生するとの特性を用いて、試料台に載置された粒子状物質の厚みを把握できる。
The computing unit acquires information about the thickness of the particulate matter placed on the sample stage based on the intensity of the high-energy secondary X-rays having energy higher than the first energy among the secondary X-rays. good.
By using the characteristic that secondary X-rays having high energy are also generated from the inside of the substance, the thickness of the particulate matter placed on the sample stage can be grasped.

演算部は、二次X線のうち、粒子状物質から発生する散乱X線の強度に基づいて、状態情報を取得してもよい。
これにより、粒子状物質に含まれる元素によらず、試料台に載置された粒子状物質の状態を把握できる。
The computing unit may acquire the state information based on the intensity of the scattered X-rays generated from the particulate matter among the secondary X-rays.
Accordingly, the state of the particulate matter placed on the sample stage can be grasped regardless of the elements contained in the particulate matter.

演算部は、二次X線のうち、粒子状物質に含まれる元素に由来する蛍光X線の強度に基づいて、状態情報を取得してもよい。
これにより、試料台に載置された粒子状物質の状態を、より正確に把握できる。
The computing unit may acquire the state information based on the intensity of the fluorescent X-rays derived from the elements contained in the particulate matter among the secondary X-rays.
As a result, the state of the particulate matter placed on the sample stage can be grasped more accurately.

上記のX線分析装置は、校正用試料と、開口部材と、切換部と、をさらに備えてもよい。校正用試料は、検出器にて検出されるX線を校正するために用いられる。開口部材には、X線源から発生するX線を通過させる開口が設けられる。切換部は、校正用試料又は開口部材の開口を、X線源と試料台との間に切り換えて配置する。
切換部により校正用試料または開口部材のいずれをX線源と試料台との間に配置するかを切り換えることで、X線分析装置の校正と、試料台に載置された粒子状物質の分析とを容易に切り換えて実行できる。
The above X-ray analysis apparatus may further include a calibration sample, an opening member, and a switching section. A calibration sample is used to calibrate X-rays detected by the detector. The aperture member is provided with an aperture through which the X-rays generated from the X-ray source pass. The switching unit switches and arranges the calibration sample or the aperture of the aperture member between the X-ray source and the sample stage.
Calibration of the X-ray analyzer and analysis of particulate matter placed on the sample stage are performed by switching which of the calibration sample and the aperture member is arranged between the X-ray source and the sample stage by the switching unit. can be easily switched between.

試料台の少なくとも粒子状物質が載置される表面は、導電性を有してもよい。
これにより、試料台から粒子状物質を除去する際に、静電気により粒子状物質が試料台に残留することを抑制できる。
At least the surface of the sample stage on which the particulate matter is placed may have electrical conductivity.
Thereby, when removing the particulate matter from the sample table, it is possible to suppress the particulate matter from remaining on the sample table due to static electricity.

試料台の表面は、導電性を有する材料にてコーティングされてもよい。これにより、導電性を有さない試料台の表面に導電性を持たせることができる。 The surface of the sample stage may be coated with a conductive material. As a result, the surface of the sample table, which does not have conductivity, can be made conductive.

試料台の表面にコーティングされる材料は、導電性を有する金属、又は、ダイヤモンドライクカーボンであってもよい。これにより、試料台の表面に対してコーティングにより容易に導電性を持たせることができる。 The material coated on the surface of the sample stage may be a conductive metal or diamond-like carbon. As a result, the surface of the sample table can be easily made conductive by the coating.

試料台は、導電性を有する金属、又は、グラファイトにて構成されてもよい。これにより、試料台全体に導電性を持たせることができる。 The sample stage may be made of conductive metal or graphite. As a result, the entire sample stage can be made conductive.

本発明の他の見地に係る分析方法は、試料台を備えるX線分析装置を用いた粒子状物質の分析方法である。分析方法は、以下のステップを含む。
◎試料台に載置された粒子状物質にX線を照射するステップ。
◎粒子状物質にX線を照射することにより発生した二次X線を検出するステップ。
◎検出された二次X線の強度に基づいて、粒子状物質の試料台における状態に関する状態情報を取得するステップ。
◎粒子状物質から発生する二次X線に基づいて、粒子状物質に含まれる元素を分析するステップ。
これにより、粒子状物質から発生する二次X線を用いて、試料台における粒子状物質の状態情報を簡単に把握することができる。また、この状態情報を用いて、測定対象試料である粒子状物質が蛍光X線分析を行うために適切か否かを判断できる。
An analysis method according to another aspect of the present invention is a method for analyzing particulate matter using an X-ray analysis device provided with a sample stage. The analytical method includes the following steps.
A step of irradiating the particulate matter placed on the sample stage with X-rays.
A step of detecting secondary X-rays generated by irradiating the particulate matter with X-rays.
A step of obtaining state information about the state of the particulate matter on the sample stage based on the intensity of the detected secondary X-rays.
A step of analyzing elements contained in the particulate matter based on secondary X-rays generated from the particulate matter.
Thereby, the state information of the particulate matter on the sample stage can be easily grasped using the secondary X-rays generated from the particulate matter. Also, using this state information, it is possible to determine whether or not the particulate matter, which is the sample to be measured, is suitable for performing fluorescent X-ray analysis.

本発明のさらなる他の見地に係るプログラムは、以下のステップをコンピュータに実行させるプログラムである。
◎試料台に載置された粒子状物質にX線を照射するステップ。
◎粒子状物質にX線を照射することにより発生した二次X線を検出するステップ。
◎検出された二次X線の強度に基づいて、粒子状物質の試料台における状態に関する状態情報を取得するステップ。
◎粒子状物質から発生する二次X線に基づいて、粒子状物質に含まれる元素を分析するステップ。
これにより、粒子状物質から発生する二次X線を用いて、試料台における粒子状物質の状態情報を簡単に把握することができる。また、この状態情報を用いて、測定対象試料である粒子状物質が蛍光X線分析を行うために適切か否かを判断できる。
A program according to still another aspect of the present invention is a program that causes a computer to execute the following steps.
A step of irradiating the particulate matter placed on the sample stage with X-rays.
A step of detecting secondary X-rays generated by irradiating the particulate matter with X-rays.
A step of obtaining state information about the state of the particulate matter on the sample stage based on the intensity of the detected secondary X-rays.
A step of analyzing elements contained in the particulate matter based on secondary X-rays generated from the particulate matter.
Thereby, the state information of the particulate matter on the sample stage can be easily grasped using the secondary X-rays generated from the particulate matter. Also, using this state information, it is possible to determine whether or not the particulate matter, which is the sample to be measured, is suitable for performing fluorescent X-ray analysis.

粒子状物質から発生する二次X線の性質を用いて、粒子状物質の試料台における状態を簡単な方法により把握できる。 Using the properties of secondary X-rays generated from particulate matter, the state of particulate matter on the sample stage can be grasped by a simple method.

X線分析装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of an X-ray-analysis apparatus. 開口部材の構成を示す図。The figure which shows the structure of an opening member. X線源と試料台との間に開口が配置された場合のX線の経路を示す図。FIG. 4 is a diagram showing paths of X-rays when an aperture is arranged between the X-ray source and the sample stage; X線源と試料台との間に校正用試料が配置された場合のX線の経路を示す図。FIG. 4 is a diagram showing paths of X-rays when a calibration sample is placed between an X-ray source and a sample stage; X線分析装置の動作を示すフローチャート。4 is a flow chart showing the operation of the X-ray analysis device; 二次X線のスペクトルの一例を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an example of a spectrum of secondary X-rays; 高エネルギー二次X線の強度が変化する場合の例を示す図。FIG. 4 is a diagram showing an example of a case in which the intensity of high-energy secondary X-rays changes; 高エネルギー二次X線の強度と粒子状物質の厚みとの関係を模式的に示す図。FIG. 4 is a diagram schematically showing the relationship between the intensity of high-energy secondary X-rays and the thickness of particulate matter; 低エネルギー二次X線の強度が変化する場合の例を示す図。FIG. 4 is a diagram showing an example of changing the intensity of low-energy secondary X-rays; 低エネルギー二次X線の強度と粒子状物質の試料台の近傍における状態との関係を模式的に示す図。FIG. 4 is a diagram schematically showing the relationship between the intensity of low-energy secondary X-rays and the state of particulate matter in the vicinity of the sample table; 粒子状物質の粒子径と充填率との関係を模式的に示す図。FIG. 4 is a diagram schematically showing the relationship between the particle diameter of particulate matter and the filling rate; 粒子状物質の粒子径と低エネルギー二次X線の強度との関係を示す図。FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the particle size of particulate matter and the intensity of low-energy secondary X-rays;

1.第1実施形態
(1)X線分析装置
以下、第1実施形態に係るX線分析装置100を説明する。X線分析装置100は、X線を粒子状物質Pへ照射して発生する蛍光X線を検出し、蛍光X線スペクトルの測定又は試料に含有される元素を分析する蛍光X線分析を行うための装置である。なお、以下において、「元素分析」又は「分析」との用語は、元素の「定性」と「定量」とを含む意味で用いられる。
X線分析装置100は、例えば、測定対象の粒子状物質Pの発生源またはその近傍に配置され、発生源にて発生した粒子状物質Pに含まれる元素の特定とその含有量を、その場観察にて測定(インライン測定)できる。
インライン測定を実行するX線分析装置100は、例えば、焼却炉、各種工場から排出される排ガスの煙道に配置され、当該排ガスに含まれる粒子状物質P(例えば、重金属を含有する粒子など)を分析できる。
1. First Embodiment (1) X-ray Analysis Apparatus An X-ray analysis apparatus 100 according to the first embodiment will be described below. The X-ray analyzer 100 detects fluorescent X-rays generated by irradiating the particulate matter P with X-rays, and performs fluorescent X-ray spectrum measurement or fluorescent X-ray analysis for analyzing elements contained in a sample. device. In the following, the terms "elemental analysis" and "analysis" are used to include "qualitative" and "quantitative" of elements.
The X-ray analysis apparatus 100 is arranged, for example, at or near the generation source of the particulate matter P to be measured, and identifies the element contained in the particulate matter P generated at the source and determines the content of the element on the spot. It can be measured by observation (in-line measurement).
The X-ray analysis device 100 that performs in-line measurement is arranged, for example, in the flue of exhaust gas discharged from incinerators and various factories, and particulate matter P (for example, particles containing heavy metals, etc.) contained in the exhaust gas. can be analyzed.

X線分析装置100は、排ガスに含まれる粒子状物質以外にも、例えば、化粧品の粉末、小麦、コーンスターチ、片栗粉などの食料粉末、塩などの結晶粉末など、一般的な粒子状物質Pの分析も可能である。 The X-ray analyzer 100 analyzes general particulate matter P such as, for example, cosmetic powder, food powder such as wheat, cornstarch and potato starch, and crystal powder such as salt, in addition to particulate matter contained in the exhaust gas. is also possible.

以下、図1を用いて、上記のX線分析装置100の具体的構成を説明する。図1は、X線分析装置の構成を示す図である。X線分析装置100は、試料支持部1と、X線源2と、検出器3と、開口部材4と、遮蔽体5と、演算部6と、を主に備える。 A specific configuration of the above-described X-ray analysis apparatus 100 will be described below with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an X-ray analysis apparatus. The X-ray analysis apparatus 100 mainly includes a sample support section 1 , an X-ray source 2 , a detector 3 , an aperture member 4 , a shield 5 and a calculation section 6 .

(2)試料支持部
試料支持部1は、水平板状であり、測定対象である粒子状物質Pが載置されることによって、当該粒子状物質Pを支持する。試料支持部1は、基部13と、基部13に対して着脱が可能な着脱部12とを有している。基部13及び着脱部12は、共に貫通孔11が形成され、ほぼ平板状になっている。貫通孔11を塞ぐようにX線透過膜14が張られており、X線透過膜14は基部13と着脱部12とで挟まれて固定されている。着脱部12を外した状態で、基部13の貫通孔11にX線透過膜14を張り、着脱部12を基部13に装着することで、X線透過膜14が固定される。
(2) Sample Supporting Section The sample supporting section 1 has a horizontal plate shape, and supports the particulate matter P to be measured by placing the particulate matter P thereon. The sample support section 1 has a base section 13 and a detachable section 12 that is detachable from the base section 13 . The base portion 13 and the attachment/detachment portion 12 are both formed with a through hole 11 and have a substantially flat plate shape. An X-ray transparent film 14 is stretched so as to block the through hole 11 , and the X-ray transparent film 14 is sandwiched and fixed between the base portion 13 and the detachable portion 12 . With the detachable portion 12 removed, the X-ray permeable film 14 is stretched over the through hole 11 of the base portion 13, and the detachable portion 12 is attached to the base portion 13, whereby the X-ray permeable film 14 is fixed.

上記貫通孔11のX線透過膜14が張られた側とは反対側に、試料台15が設けられている。測定対象である粒子状物質Pは、試料台15に載置される。試料台15は、粒子状物質PがX線分析装置100の光学系(X線源2、検出器3など)に侵入することを防止する。
試料台15は、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネートなどの、炭素元素を含む樹脂又はプラスチックで構成された板状部材である。試料台15の少なくとも粒子状物質Pが載置される表面(上面)には、導電性の材料がコーティングされている。なお、導電性材料は、試料台15の全体にコーティングされていてもよい。
A sample stage 15 is provided on the side of the through-hole 11 opposite to the side on which the X-ray permeable film 14 is stretched. Particulate matter P to be measured is placed on a sample stage 15 . The sample stage 15 prevents particulate matter P from entering the optical system (X-ray source 2, detector 3, etc.) of the X-ray analysis apparatus 100. FIG.
The sample table 15 is, for example, a plate-shaped member made of resin or plastic containing carbon elements, such as acrylic resin or polycarbonate. At least the surface (upper surface) of the sample table 15 on which the particulate matter P is placed is coated with a conductive material. In addition, the conductive material may be coated on the entire sample table 15 .

試料台15への導電性コーティングは、例えば、金などの導電性を有する金属を、蒸着により試料台15の表面にコーティングすることにより実現できる。また、導電性コーティングが試料台15から剥離することを防止するため、導電性コーティングの前に、試料台15の表面に他の金属などをコーティングしておいてもよい。
また、導電性コーティングに用いる材料は、X線を照射したときに、測定対象となる元素からの蛍光X線と同一かそれに近いエネルギーを有する蛍光X線を発生させないものとすることが好ましい。
The conductive coating on the sample table 15 can be realized by coating the surface of the sample table 15 with a conductive metal such as gold, for example, by vapor deposition. Moreover, in order to prevent the conductive coating from peeling off from the sample stage 15, the surface of the sample stage 15 may be coated with another metal or the like before the conductive coating.
In addition, it is preferable that the material used for the conductive coating does not generate fluorescent X-rays having the same energy as or close to that of the fluorescent X-rays from the element to be measured when irradiated with X-rays.

他の実施形態において、導電性を有する金属のコーティングは、例えば、ニッケルペーストなどの金属粉末を高濃度にて含有するペースト状の液体を試料台15に塗布して乾燥させることにより、実現することもできる。 In another embodiment, the conductive metal coating can be realized by applying a paste-like liquid containing a high concentration of metal powder such as nickel paste to the sample table 15 and drying it. can also

さらなる他の実施形態において、例えば、ダイヤモンドライクカーボンを試料台15の表面にコーティングすることもできる。ダイヤモンドライクカーボンのコーティング膜は平坦性が高いため、粒子状物質Pを試料台15から容易に除去することができる。 In yet another embodiment, for example, the surface of the sample stage 15 can be coated with diamond-like carbon. Since the diamond-like carbon coating film has high flatness, the particulate matter P can be easily removed from the sample stage 15 .

アクリル樹脂、ポリカーボネートなどの透明な物質にて構成された試料台15をコーティングする場合には、コーティング膜を薄くして、試料台15が光を透過できるようにしておいてもよい。
これにより、試料台15に載置された粒子状物質Pの状態を、後述する撮像素子9により撮影できる。また、試料台15から電荷を逃がすことができる程度の導電性があればよいので、導電性コーティング膜は薄くできる。
When the sample table 15 made of a transparent material such as acrylic resin or polycarbonate is coated, the coating film may be made thin so that the sample table 15 can transmit light.
As a result, the state of the particulate matter P placed on the sample stage 15 can be photographed by the imaging device 9, which will be described later. In addition, the conductive coating film can be made thin because it is sufficient if the conductive coating is sufficiently conductive to allow the charge to escape from the sample table 15 .

または、導電性を有する透明な膜を試料台15にコーティングすることによっても、試料台15の帯電を防止すると共に、撮像素子9による粒子状物質Pの撮影が可能となる。 Alternatively, by coating the sample table 15 with a conductive transparent film, charging of the sample table 15 can be prevented and the particulate matter P can be photographed by the imaging device 9 .

さらなる他の実施形態において、試料台15自体を、例えば、グラファイト、金などの導電性を有する金属により構成してもよい。これにより、試料台15全体に導電性を持たせることができる。 In yet another embodiment, the sample stage 15 itself may be made of a conductive metal such as graphite or gold. Thereby, the entire sample table 15 can be made conductive.

本実施形態において、試料台15は、グラウンド電位に接続されている。これにより、試料台15から粒子状物質Pを除去する際に、静電気により粒子状物質Pが試料台15に残留することを抑制できる。
他の実施形態において、試料台15は、所定の電位を印加するための電圧発生装置に接続されていてもよい。電圧発生装置は、粒子状物質Pが帯びる電位の極性(正電位、負電位)と同一の極性を有する電位を、試料台15に印加する。これにより、試料台15と粒子状物質Pとの間に反発力が働いて、静電気により粒子状物質Pが試料台15に残留することを抑制できる。
In this embodiment, the sample stage 15 is connected to ground potential. Thereby, when the particulate matter P is removed from the sample table 15, it is possible to suppress the particulate matter P from remaining on the sample table 15 due to static electricity.
In another embodiment, the sample stage 15 may be connected to a voltage generator for applying a predetermined potential. The voltage generator applies a potential having the same polarity as the potential (positive potential, negative potential) of the particulate matter P to the sample stage 15 . As a result, a repulsive force acts between the sample table 15 and the particulate matter P, and it is possible to suppress the particulate matter P from remaining on the sample table 15 due to static electricity.

(3)X線源
X線源2は、試料台15上に載置された粒子状物質Pの下面に対して斜め下側からX線を照射する位置に配置されている。X線源2は、X線管を用いて構成されており、X線の出射端を試料支持部1の貫通孔11へ向けて配置されている。
後述するように、本実施形態では、散乱X線を用いて、試料台15上に載置された粒子状物質Pの状態に関する情報(状態情報)を取得する。従って、粒子状物質Pから散乱X線を発生させるために、X線源2から出力されるX線は、10keV以下のエネルギーを有することが好ましい。このようなX線源2としては、例えば、パラジウムをターゲットとしたX線源、又は、ロジウムをターゲットとしたX線源を使用できる。
(3) X-Ray Source The X-ray source 2 is arranged at a position that irradiates the lower surface of the particulate matter P placed on the sample table 15 with X-rays obliquely from below. The X-ray source 2 is configured using an X-ray tube, and is arranged so that the X-ray emitting end is directed toward the through hole 11 of the sample support 1 .
As will be described later, in this embodiment, scattered X-rays are used to acquire information (state information) about the state of the particulate matter P placed on the sample stage 15 . Therefore, in order to generate scattered X-rays from the particulate matter P, the X-rays output from the X-ray source 2 preferably have energy of 10 keV or less. As such an X-ray source 2, for example, an X-ray source with a palladium target or an X-ray source with a rhodium target can be used.

(4)検出器
検出器3は、試料台15上に載置された粒子状物質Pの下面から斜め下方向へ放射された二次X線を検出することができる位置に配置されている。検出器3は、例えば、Si素子等のX線検出素子(例えば、シリコンドリフト検出器(SDD))を用いて構成されており、二次X線の入射端を試料支持部1の貫通孔11へ向けて配置されている。
(4) Detector The detector 3 is arranged at a position where it can detect secondary X-rays emitted obliquely downward from the lower surface of the particulate matter P placed on the sample stage 15 . The detector 3 is configured using, for example, an X-ray detection element such as a Si element (for example, a silicon drift detector (SDD)). placed towards.

X線源2及び検出器3を上記のように配置することにより、X線源2から試料台15上の粒子状物質PへX線が照射され、粒子状物質Pでは二次X線が発生する。この二次X線は、検出器3により検出される。図1には、X線源2から試料台15へ向けて照射されるX線、及び試料台15から検出器3に入射する二次X線を破線で示している。 By arranging the X-ray source 2 and the detector 3 as described above, X-rays are irradiated from the X-ray source 2 to the particulate matter P on the sample table 15, and the particulate matter P generates secondary X-rays. do. This secondary X-ray is detected by the detector 3 . In FIG. 1, X-rays emitted from the X-ray source 2 toward the sample table 15 and secondary X-rays incident on the detector 3 from the sample table 15 are indicated by broken lines.

(5)開口部材
開口部材4は、試料支持部1の直下、X線源2から試料支持部1までのX線の経路上に配置されている。開口部材4は、X線源2から出力されたX線が通過する開口を有する部材である。以下、図2を用いて、開口部材4の具体的構成を説明する。図2は、開口部材の構成を示す図である。
開口部材4は、例えばタンタル製の板状部材であり、X線が通過する径が異なる複数の開口41、42、43が形成されている。なお、開口の数は3個に限定されるものではなく、2個であってもよく4個以上であってもよい。複数の開口41、42、43は、水平面内で、X線源2及び検出器3が並んだ方向とは交差する方向に沿って並んでいる。
(5) Aperture Member The aperture member 4 is arranged directly below the sample support section 1 and on the X-ray path from the X-ray source 2 to the sample support section 1 . The aperture member 4 is a member having an aperture through which the X-rays output from the X-ray source 2 pass. A specific configuration of the opening member 4 will be described below with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the opening member.
The aperture member 4 is, for example, a plate-shaped member made of tantalum, and is formed with a plurality of apertures 41, 42, and 43 having different diameters through which X-rays pass. Note that the number of openings is not limited to three, and may be two or four or more. The plurality of openings 41, 42, 43 are arranged in a horizontal plane along a direction intersecting the direction in which the X-ray source 2 and the detector 3 are arranged.

また、開口部材4には、窓部45が設けられている。窓部45は、例えば、アクリル板等の透明部材を用いて構成されている。窓部45は、開口41、42、43が並んだ方向に沿った位置に設けられている。 A window portion 45 is provided in the opening member 4 . The window part 45 is configured using a transparent member such as an acrylic plate, for example. The window part 45 is provided at a position along the direction in which the openings 41, 42, 43 are arranged.

さらに、開口部材4には、校正用試料44が設けられている。校正用試料44は、検出器3にて検出されるX線の校正を行うための試料である。校正用試料44は、例えば、開口41、42、43が並んだ方向に沿った位置の窓部45とは反対側に設けられる。 Furthermore, the aperture member 4 is provided with a calibration sample 44 . The calibration sample 44 is a sample for calibrating X-rays detected by the detector 3 . The calibration sample 44 is provided, for example, on the opposite side of the window portion 45 along the direction in which the openings 41, 42, and 43 are arranged.

ここで、X線分析装置100において実行される校正について説明する。
二次X線を用いるX線分析装置100において実行される校正には、粒子状物質Pから発生する蛍光X線のピーク位置が正しいエネルギー位置となるように装置を校正するエネルギー校正と、X線の強度を校正する強度校正と、がある。
Here, calibration performed in the X-ray analysis apparatus 100 will be described.
Calibration performed in the X-ray analysis device 100 using secondary X-rays includes energy calibration for calibrating the device so that the peak position of the fluorescent X-rays generated from the particulate matter P is at the correct energy position, and X-ray and intensity calibration for calibrating the intensity of

上記のうち、エネルギー校正は、測定対象の粒子状物質Pに含まれる元素が既知であれば、試料台15に載置された粒子状物質Pから発生する蛍光X線を用いて実行できる。
その一方、強度校正は、試料台15に載置された粒子状物質Pから発生する二次X線を用いては実行できない。なぜなら、検出器3にて検出される二次X線の強度は、試料台15に載置される粒子状物質Pにより変動するからである。
Among the above, energy calibration can be performed using fluorescent X-rays generated from the particulate matter P placed on the sample stage 15 if the elements contained in the particulate matter P to be measured are known.
On the other hand, intensity calibration cannot be performed using secondary X-rays generated from the particulate matter P placed on the sample stage 15 . This is because the intensity of secondary X-rays detected by the detector 3 varies depending on the particulate matter P placed on the sample table 15 .

従って、本実施形態においては、開口部材4に設けられる校正用試料44は、強度校正用の試料である。強度校正用の試料としては、例えば、銅(Cu)の板状部材を使用できる。 Therefore, in this embodiment, the calibration sample 44 provided in the opening member 4 is a sample for intensity calibration. As a strength calibration sample, for example, a copper (Cu) plate member can be used.

なお、測定対象の粒子状物質Pに含まれる元素が不明である場合などには、校正用試料44として、エネルギー補正用の試料が設けられていてもよい。エネルギー補正用の試料としては、例えば、NIST(National Institute of Standards & Technology)にて規定された標準物質などの、所定の元素が予め決められた量だけ含まれる物質を使用できる。 In addition, when the element contained in the particulate matter P to be measured is unknown, a sample for energy correction may be provided as the calibration sample 44 . As a sample for energy correction, for example, a substance containing a predetermined amount of a predetermined element, such as a standard substance defined by NIST (National Institute of Standards & Technology), can be used.

図2に示すように、開口部材4は、シャフト71を介して、切換部7に接続されている。切換部7は、開口部材4の開口41、42、43のいずれか、校正用試料44、又は、窓部45を、X線源2と試料台15との間に切り換えて配置する。切換部7は、例えば、長さ方向の一端が開口部材4に接続されたシャフト71を、その長さ方向に移動させる公知の機構により構成できる。 As shown in FIG. 2 , the opening member 4 is connected to the switching section 7 via a shaft 71 . The switching unit 7 switches and arranges one of the openings 41 , 42 , 43 of the opening member 4 , the calibration sample 44 , or the window 45 between the X-ray source 2 and the sample stage 15 . The switching unit 7 can be configured by, for example, a known mechanism for moving a shaft 71 having one longitudinal end connected to the opening member 4 in its longitudinal direction.

以下、図3A及び図3Bを用いて、開口41、42、43又は校正用試料44が、X線源2と試料台15との間に切り換えて配置された場合のX線の経路について説明する。図3Aは、X線源と試料台との間に開口が配置された場合のX線の経路を示す図である。図3Bは、X線源と試料台との間に校正用試料が配置された場合のX線の経路を示す図である。
X線源2と試料台15との間に開口41、42、43のいずれかが配置された場合、X線源2から発生したX線は、図3Aに示すように、X線源2と試料台15の間に配置された開口41、42、43のいずれかを通過する。これにより、X線源2から出力されたX線は、開口41、42、43の径に応じてビーム径(強度)が調整されて、試料台15に載置された粒子状物質Pに到達する。
3A and 3B, X-ray paths when the openings 41, 42, 43 or the calibration sample 44 are alternately arranged between the X-ray source 2 and the sample stage 15 will be described. . FIG. 3A is a diagram showing paths of X-rays when an aperture is placed between the X-ray source and the sample table. FIG. 3B is a diagram showing paths of X-rays when a calibration sample is placed between the X-ray source and the sample table.
When any one of the openings 41, 42, 43 is arranged between the X-ray source 2 and the sample table 15, the X-rays generated from the X-ray source 2 pass through the X-ray source 2 and the sample stage 15 as shown in FIG. It passes through one of the openings 41 , 42 , 43 arranged between the sample stages 15 . As a result, the X-rays output from the X-ray source 2 are adjusted in beam diameter (intensity) according to the diameters of the openings 41, 42, and 43, and reach the particulate matter P placed on the sample stage 15. do.

一方、X線源2と試料台15との間に校正用試料44が配置された場合、X線源2から発生したX線は、図3Bに示すように、校正用試料44において散乱等されて、遮蔽体5に設けられた開口51を通過する。当該開口を通過したX線が、検出器3にて検出される。 On the other hand, when the calibration sample 44 is arranged between the X-ray source 2 and the sample stage 15, the X-rays generated from the X-ray source 2 are scattered in the calibration sample 44 as shown in FIG. 3B. and passes through the opening 51 provided in the shield 5 . X-rays passing through the opening are detected by the detector 3 .

また、X線源2と試料台15との間に窓部45が配置された場合には、貫通孔11の直下に配置された撮像素子9(例えば、CCDイメージセンサ、CMOSイメージセンサなど)(図1)により、試料台15に載置された粒子状物質Pを撮影できる。 Further, when the window portion 45 is arranged between the X-ray source 2 and the sample table 15, the imaging element 9 (for example, CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) arranged directly below the through-hole 11 ( 1), the particulate matter P placed on the sample table 15 can be photographed.

切換部7により、校正用試料44又は開口部材4の開口41、42、43のいずれをX線源2と試料台15との間に配置するかを切り換えることで、X線分析装置100の校正と、試料台15に載置された粒子状物質Pの分析とを、容易かつ自動的に切り換えて実行できる。 By switching between the calibration sample 44 or the apertures 41, 42, and 43 of the aperture member 4 to be arranged between the X-ray source 2 and the sample stage 15 by the switching unit 7, the calibration of the X-ray analysis apparatus 100 can be performed. and the analysis of the particulate matter P placed on the sample table 15 can be easily and automatically switched and executed.

(6)遮蔽体
遮蔽体5は、例えば、アルミニウム及び/又は銅にて構成された部材である。遮蔽体5は、X線源2と検出器3との中間の位置に配置される。
また、遮蔽体5は、開口部材4に結合している。従って、遮蔽体5は、開口部材4と共に移動するようになっている。さらに、開口部材4の校正用試料44が設けられた位置に対応する遮蔽体5の部分には、開口51(図3B)が設けられる。
(6) Shield The shield 5 is a member made of, for example, aluminum and/or copper. A shield 5 is arranged at a position intermediate the X-ray source 2 and the detector 3 .
Also, the shield 5 is coupled to the opening member 4 . Accordingly, the shield 5 is adapted to move together with the opening member 4 . Further, an aperture 51 (FIG. 3B) is provided in the portion of the shield 5 corresponding to the position of the aperture member 4 where the calibration sample 44 is provided.

上記の位置に遮蔽体5が配置され、かつ、遮蔽体5に上記の開口51が設けられることにより、粒子状物質Pの分析時には、X線源2の出射口21と検出器3の入射口31とを結んだ経路を通るX線が遮蔽され、X線源2から検出器3へX線が直接に入射することが防止される。
一方、X線分析装置100の校正時には、X線源2の出射口21から出力されたX線は、校正用試料44にて散乱等され、上記の開口51を通過して検出器3に到達する。
By arranging the shield 5 at the position described above and providing the opening 51 in the shield 5, when the particulate matter P is analyzed, the exit 21 of the X-ray source 2 and the entrance of the detector 3 X-rays passing through the path connecting the X-ray source 2 and the detector 3 are prevented from entering directly from the X-ray source 2 .
On the other hand, during calibration of the X-ray analysis apparatus 100, the X-rays output from the exit port 21 of the X-ray source 2 are scattered by the calibration sample 44, pass through the opening 51, and reach the detector 3. do.

(7)演算部
演算部6は、CPU(Central Processing Unit)と、RAM、ROM、ハードディスク、SSD(Soild State Disk)などの記憶装置と、表示部と、各種インターフェースと、などを有するコンピュータシステムである。
以下に説明する演算部6の各機能の一部又は全部は、上記のコンピュータシステムの記憶装置に記憶されたプログラムにより実現されていてもよい。また、演算部6の各構成要素の機能の一部又は全部の機能は、カスタムICなどの半導体装置により実現されていてもよい。
(7) Operation Unit The operation unit 6 is a computer system having a CPU (Central Processing Unit), a storage device such as a RAM, a ROM, a hard disk, and an SSD (Soil State Disk), a display unit, various interfaces, and the like. be.
A part or all of each function of the calculation unit 6 described below may be implemented by a program stored in the storage device of the computer system. Moreover, some or all of the functions of the constituent elements of the calculation unit 6 may be realized by a semiconductor device such as a custom IC.

演算部6は、X線分析装置100の各構成要素(X線源2、検出器3、切換部7)を制御する機能を実現する。また、検出器3にて検出された二次X線(散乱X線、蛍光X線)の強度に基づいて、粒子状物質Pの試料台15における状態に関する情報(以下、状態情報と呼ぶ)を取得する機能を実現する。 The calculation unit 6 implements a function of controlling each component (the X-ray source 2, the detector 3, the switching unit 7) of the X-ray analysis apparatus 100. FIG. Further, based on the intensity of secondary X-rays (scattered X-rays, fluorescent X-rays) detected by the detector 3, information on the state of the particulate matter P on the sample stage 15 (hereinafter referred to as state information) is obtained. Realize the function to get.

さらに、演算部6は、粒子状物質Pの分析のための信号処理を実行する。具体的には、演算部6は、検出器3が検出したX線、すなわち、粒子状物質Pから発生する二次X線のエネルギーとカウント数との関係、即ち二次X線のスペクトルを取得する処理を行う。 Furthermore, the calculation unit 6 executes signal processing for analysis of the particulate matter P. FIG. Specifically, the calculation unit 6 acquires the relationship between the energy of the X-rays detected by the detector 3, that is, the secondary X-rays generated from the particulate matter P and the count number, that is, the spectrum of the secondary X-rays. process.

演算部6は、さらに、二次X線に含まれる蛍光X線を用いて、粒子状物質Pに含有される元素の定性分析又は定量分析を行う機能を実現する。具体的には、蛍光X線のピーク位置から粒子状物質Pに含まれる元素を特定し、蛍光X線のピーク強度から当該元素の含有量を算出できる。 The calculation unit 6 further realizes a function of performing qualitative analysis or quantitative analysis of elements contained in the particulate matter P using fluorescent X-rays contained in the secondary X-rays. Specifically, the element contained in the particulate matter P can be specified from the peak position of the fluorescent X-ray, and the content of the element can be calculated from the peak intensity of the fluorescent X-ray.

図1に示すように、演算部6には、表示部8が接続されている。表示部8は、例えば、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイなどのディスプレイである。
演算部6は、分析時には、例えば、検出器3にて検出した二次X線のスペクトル、粒子状物質Pに含まれる測定対象元素の含有量(含有量の時間的な推移、現在の含有量)などを、表示部8に表示する。
また、演算部6は、例えば、測定対象とする粒子状物質Pの種類、測定対象とする元素等を、表示部8にリスト表示する。
As shown in FIG. 1 , a display unit 8 is connected to the computing unit 6 . The display unit 8 is, for example, a display such as a liquid crystal display or an organic EL display.
At the time of analysis, the calculation unit 6, for example, the spectrum of the secondary X-ray detected by the detector 3, the content of the element to be measured contained in the particulate matter P (change in content over time, current content ) and the like are displayed on the display unit 8 .
In addition, the calculation unit 6 displays, for example, a list of the types of particulate matter P to be measured, elements to be measured, and the like on the display unit 8 .

さらに、X線分析装置100は、試料台15に載置された粒子状物質Pの状態を測定するための装置を備えていてもよい。例えば、超音波、レーザなどを粒子状物質Pに照射して、粒子状物質Pの堆積厚み等を測定する装置を備えていてもよい。
この場合、演算部6は、上記の超音波及び/又はレーザの強度等に基づいて、粒子状物質Pの体積厚み等を算出してもよい。
Furthermore, the X-ray analysis apparatus 100 may include a device for measuring the state of the particulate matter P placed on the sample stage 15 . For example, a device for measuring the deposition thickness of the particulate matter P by irradiating the particulate matter P with an ultrasonic wave, a laser, or the like may be provided.
In this case, the calculation unit 6 may calculate the volume thickness and the like of the particulate matter P based on the intensity and the like of the ultrasonic wave and/or the laser.

(8)X線分析装置の動作
(8-1)全体動作
以下、図4を用いて、検出器3にて検出した二次X線により、粒子状物質Pを分析するまでの全体動作を説明する。図4は、X線分析装置の全体動作を示すフローチャートである。
X線分析装置100が動作を開始すると、まず、演算部6は、ステップS1において、X線源2に対してX線を出力するよう指令する。これにより、X線源2から出力されたX線が、試料台15に載置されている粒子状物質Pに照射される。
(8) Operation of the X-ray analysis device (8-1) Overall operation Hereinafter, the overall operation until the particulate matter P is analyzed by the secondary X-rays detected by the detector 3 will be described using FIG. do. FIG. 4 is a flow chart showing the overall operation of the X-ray analysis apparatus.
When the X-ray analysis apparatus 100 starts operating, first, the calculation unit 6 commands the X-ray source 2 to output X-rays in step S1. As a result, the particulate matter P placed on the sample stage 15 is irradiated with the X-rays output from the X-ray source 2 .

粒子状物質PにX線を照射中に、ステップS2において、粒子状物質Pから発生する二次X線のスペクトルが取得される。具体的には、まず、検出器3が、検出した二次X線のカウント数を演算部6に出力する。その後、演算部6が、入力した二次X線のカウント数から、当該二次X線のスペクトルを取得する。 While the particulate matter P is being irradiated with X-rays, the spectrum of secondary X-rays generated from the particulate matter P is acquired in step S2. Specifically, first, the detector 3 outputs the count number of detected secondary X-rays to the calculation unit 6 . After that, the calculation unit 6 acquires the spectrum of the secondary X-rays from the input count number of the secondary X-rays.

二次X線のスペクトルを取得後、ステップS3において、演算部6が、ステップS2にて取得二次X線の強度に基づいて、状態情報を取得する。ステップS3における状態情報の取得処理については、後ほど詳しく説明する。 After acquiring the spectrum of the secondary X-rays, in step S3, the computing unit 6 acquires state information based on the intensity of the secondary X-rays acquired in step S2. The state information acquisition process in step S3 will be described later in detail.

状態情報を取得後、演算部6は、ステップS4において、当該状態情報に基づいて、試料台15における粒子状物質Pの状態を判断し、粒子状物質Pの元素分析を実行するか否かを決定する。
状態情報に基づいて、例えば、試料台15に十分な量の粒子状物質Pが載置されており、かつ、試料台15から粒子状物質Pの一部が浮いた状態でないと判断されたら(ステップS4で「Yes」)すなわち、粒子状物質Pの状態が元素分析にとって適切であると判断されたら、演算部6は、ステップS5において、粒子状物質Pの元素分析を実行する。
After acquiring the state information, the computing unit 6 determines the state of the particulate matter P on the sample table 15 based on the state information in step S4, and determines whether or not to perform the elemental analysis of the particulate matter P. decide.
Based on the state information, for example, if it is determined that a sufficient amount of particulate matter P is placed on the sample table 15 and part of the particulate matter P is not floating from the sample table 15 ( "Yes" in step S4) That is, when it is determined that the state of the particulate matter P is suitable for elemental analysis, the computing unit 6 performs elemental analysis of the particulate matter P in step S5.

なお、ステップS5において、演算部6は、ステップS2にて取得された二次X線のスペクトルを用いて元素分析を実行してもよいし、ステップS5において新たに二次X線のスペクトルを取得し元素分析を実行してもよい。 In step S5, the calculation unit 6 may perform elemental analysis using the secondary X-ray spectrum acquired in step S2, or newly acquire a secondary X-ray spectrum in step S5. However, elemental analysis may be performed.

一方、状態情報に基づいて、例えば、試料台15に十分な量の粒子状物質Pが載置されていないか、又は、試料台15から粒子状物質Pの一部が浮いた状態であると判断されたら(ステップS4で「No」)、すなわち、粒子状物質Pの状態が元素分析にとって不適切であると判断されたら、演算部6は、ステップS6において、粒子状物質Pの状態が元素分析にとって適切となるような処理を実行する。例えば、より多くの粒子状物質Pを試料台15に載置するか、又は、試料台15に振動を加えるなどして、粒子状物質Pと試料台15との間の隙間を充填させる。
その後、演算部6は、ステップS6の実行により粒子状物質Pの状態が元素分析にとって適切となったか否かを確認するために、上記のステップS1~S4の処理を実行する。
他の実施形態において、演算部6は、ステップS6において、粒子状物質Pの分析を実行しないと決定してもよい。
On the other hand, based on the state information, for example, it may be determined that a sufficient amount of particulate matter P is not placed on the sample table 15, or part of the particulate matter P is floating from the sample table 15. If it is determined ("No" in step S4), that is, if it is determined that the state of the particulate matter P is unsuitable for elemental analysis, the computing unit 6 determines in step S6 that the state of the particulate matter P is an elemental Perform processing as appropriate for the analysis. For example, more particulate matter P is placed on the sample table 15 or the sample table 15 is vibrated to fill the gap between the particulate matter P and the sample table 15 .
After that, the calculation unit 6 executes the above steps S1 to S4 in order to confirm whether or not the state of the particulate matter P has become suitable for elemental analysis as a result of execution of step S6.
In another embodiment, the calculation unit 6 may decide not to analyze the particulate matter P in step S6.

(8-2)状態情報の取得
(8-2-1)二次X線から得られる状態情報(概略)
以下、ステップS3において実行される状態情報の取得について説明する。まず、二次X線のスペクトルから得られる状態情報について、詳細に説明する。以下の説明では、図5に示すような二次X線のスペクトルが、ある特定の測定時に取得されたとする。図5は、二次X線のスペクトルの一例を示す図である。
図5では、粒子状物質Pから発生した二次X線のスペクトルを実線にて表し、粒子状物質Pが載置されていないときに検出されるX線(すなわち、X線源2から出力されるX線)のスペクトルを点線にて表している。
(8-2) Acquisition of state information (8-2-1) State information obtained from secondary X-rays (outline)
Acquisition of status information executed in step S3 will be described below. First, state information obtained from the secondary X-ray spectrum will be described in detail. In the following description, it is assumed that the secondary X-ray spectrum as shown in FIG. 5 was acquired during a certain measurement. FIG. 5 is a diagram showing an example of a secondary X-ray spectrum.
In FIG. 5, the solid line represents the spectrum of the secondary X-rays generated from the particulate matter P, and the X-rays detected when the particulate matter P is not placed (that is, the X-rays output from the X-ray source 2). The spectrum of X-rays (X-rays) is represented by a dotted line.

図5において、エネルギー値E1、E2、E3の現れているピークは、X線源2のターゲット由来のピークであるとする。一方、エネルギー値E4、E5に現れているピークは、粒子状物質Pに含まれる元素の蛍光X線によるピークあるとする(同一元素からの蛍光X線のピークであってもよいし、異なる元素からの蛍光X線のピークであってもよい)。 In FIG. 5, peaks appearing with energy values E1, E2, and E3 are assumed to be peaks derived from the target of the X-ray source 2. In FIG. On the other hand, it is assumed that the peaks appearing at the energy values E4 and E5 are peaks due to fluorescent X-rays of elements contained in the particulate matter P (the peaks may be fluorescent X-ray peaks from the same element, or peaks from different elements). It may be the peak of fluorescent X-rays from ).

(8-2-2)高エネルギー二次X線から得られる状態情報
今回、試料台15に同一の粒子状物質Pを載置して二次X線のスペクトルを複数回取得したところ、図6に示すように、所定の閾値(第1エネルギーEtと呼ぶ)より大きいエネルギー範囲の二次X線(高エネルギー二次X線と呼ぶ)の強度がより大きく変動する場合が見られた。図6は、高エネルギー二次X線の強度が変化する場合の例を示す図である。
第1エネルギーEtの値は、例えば、3keVであった。
(8-2-2) State information obtained from high-energy secondary X-rays This time, when the same particulate matter P was placed on the sample table 15 and secondary X-ray spectra were acquired multiple times, Fig. 6 , the intensity of secondary X-rays (referred to as high-energy secondary X-rays) in an energy range greater than a predetermined threshold value (referred to as first energy Et) fluctuated more greatly in some cases. FIG. 6 is a diagram showing an example in which the intensity of high-energy secondary X-rays changes.
The value of the first energy Et was, for example, 3 keV.

検討の結果、上記の高エネルギー二次X線の強度の変動と、試料台15に載置された粒子状物質Pの高さ(厚み)との間には相関があることが判明した。この相関は、X線源2から出力される高エネルギー側のX線が、粒子状物質Pのより深い位置(厚みの大きい位置)まで伝搬し、粒子状物質Pの深い位置から高エネルギー二次X線を発生できることに由来していることが判明した。
以下、図7を用いて、上記の考察を模式的に説明する。図7は、高エネルギー二次X線の強度と粒子状物質の厚みとの関係を模式的に示す図である。
As a result of examination, it was found that there is a correlation between the fluctuations in the intensity of the high-energy secondary X-rays and the height (thickness) of the particulate matter P placed on the sample stage 15 . This correlation indicates that the high-energy X-rays output from the X-ray source 2 propagate to a deeper position (larger thickness position) in the particulate matter P, and from a deep position in the particulate matter P to a high-energy secondary It was found that this was due to the ability to generate X-rays.
The above consideration will be schematically described below with reference to FIG. FIG. 7 is a diagram schematically showing the relationship between the intensity of high-energy secondary X-rays and the thickness of particulate matter.

すなわち、図7の(A)に示す場合を基準とすると、図7の(B)に示すように試料台15における粒子状物質Pの厚みが大きい場合には、高エネルギー側のX線が粒子状物質Pの深くまで伝搬できるので、当該高エネルギー側のX線の大部分が粒子状物質Pから高エネルギー二次X線を発生させるために使用される。その結果、粒子状物質Pの厚みが大きい場合に取得される高エネルギー二次X線の強度は、図7の(A)の場合に取得される高エネルギー二次X線の強度よりも大きくなる。 That is, when the case shown in FIG. 7A is used as a reference, when the thickness of the particulate matter P on the sample stage 15 is large as shown in FIG. Most of the high-energy X-rays are used to generate high-energy secondary X-rays from the particulate matter P because they can propagate deep into the particulate matter P. As a result, the intensity of the high-energy secondary X-rays obtained when the thickness of the particulate matter P is large is greater than the intensity of the high-energy secondary X-rays obtained in the case of (A) in FIG. .

その一方、図7の(C)に示すように試料台15における粒子状物質Pの厚みが小さい場合には、高エネルギー側のX線の大部分が粒子状物質Pを通過するので、高エネルギー側のX線のごく一部のみが、粒子状物質Pから高エネルギー二次X線を発生させるために使用される。その結果、粒子状物質Pの厚みが小さい場合に取得される高エネルギー二次X線の強度は、図7の(A)の場合に取得される高エネルギー二次X線の強度よりも小さくなる。 On the other hand, when the thickness of the particulate matter P on the sample table 15 is small as shown in FIG. 7C, most of the X-rays on the high energy side pass through the particulate matter P. Only a small fraction of the X-rays on the side are used to generate high-energy secondary X-rays from the particulate matter P. As a result, the intensity of the high-energy secondary X-rays obtained when the thickness of the particulate matter P is small is lower than the intensity of the high-energy secondary X-rays obtained in the case of (A) in FIG. .

上記の原理により、演算部6は、高エネルギー二次X線が物質の内部からも発生するとの特性を用いて、高エネルギー二次X線の強度に基づいて、試料台15に載置された粒子状物質Pの厚みに関する情報を、状態情報として取得できる。 Based on the above principle, the calculation unit 6 uses the characteristic that high-energy secondary X-rays are also generated from the inside of the substance, and based on the intensity of the high-energy secondary X-rays, the sample stage 15 is placed on the Information about the thickness of the particulate matter P can be obtained as state information.

例えば、演算部6は、高エネルギー二次X線の強度が所定の閾値よりも小さい場合には、試料台15に載置された粒子状物質Pの厚み(載置量)が適切な分析を行うには不十分であると決定できる。
上記の「所定の閾値」は、例えば、試料台15に粒子状物質Pを適切量載置したときに得られる高エネルギー二次X線の強度の実測値であってもよいし、理論計算により算出された理論値であってもよい。当該「所定の閾値」は、演算部6の記憶装置に記憶されている。
For example, when the intensity of the high-energy secondary X-rays is smaller than a predetermined threshold value, the calculation unit 6 performs an analysis in which the thickness (mounting amount) of the particulate matter P placed on the sample stage 15 is appropriate. can be determined to be insufficient to do.
The above-mentioned "predetermined threshold value" may be, for example, a measured value of the intensity of high-energy secondary X-rays obtained when an appropriate amount of particulate matter P is placed on the sample table 15, or a theoretical calculation It may be a calculated theoretical value. The “predetermined threshold value” is stored in the storage device of the calculation unit 6 .

また、演算部6は、高エネルギー二次X線のうちの特定のエネルギー値における二次X線の強度に基づいて状態情報を取得してもよいし、高エネルギー二次X線のエネルギー範囲で強度を積分した積分強度を用いて状態情報を取得してもよい。 Further, the calculation unit 6 may acquire the state information based on the intensity of the secondary X-rays at a specific energy value among the high-energy secondary X-rays, or obtain the state information in the energy range of the high-energy secondary X-rays The state information may be acquired using the integrated intensity obtained by integrating the intensity.

この場合、演算部6は、例えば、表示部8などに、粒子状物質Pの厚み(載置量)が不十分である旨の警告を表示してもよい。これにより、例えば、粒子状物質Pの載置量が十分な量となってから、粒子状物質Pの分析を開始できる。
あるいは、演算部6は、粒子状物質Pの分析と状態情報の取得とを同時に実行し、当該状態情報から把握した粒子状物質Pの厚みが十分であるか否かの情報に基づいて、対応する粒子状物質Pの分析が適切であるか否かを判断してもよい。
In this case, the calculation unit 6 may display, for example, a warning on the display unit 8 or the like that the thickness (mounting amount) of the particulate matter P is insufficient. Thereby, for example, the analysis of the particulate matter P can be started after the loading amount of the particulate matter P reaches a sufficient amount.
Alternatively, the calculation unit 6 simultaneously executes the analysis of the particulate matter P and the acquisition of the state information, and based on the information as to whether the thickness of the particulate matter P grasped from the state information is sufficient or not, responds You may judge whether the analysis of the particulate matter P to carry out is appropriate.

他の実施形態において、演算部6は、試料台15に載置された粒子状物質Pの厚みに関する情報に基づいて、検出器3にて検出される二次X線の強度(特に、高エネルギー二次X線の強度)を補正してもよい。 In another embodiment, the computing unit 6 calculates the intensity of the secondary X-rays detected by the detector 3 (in particular, high-energy secondary X-ray intensity) may be corrected.

(8-2-3)低エネルギー二次X線から得られる状態情報
また、試料台15に同一の粒子状物質Pを載置して二次X線のスペクトルを複数回取得したところ、図8に示すように、第1エネルギーEt以下のエネルギー範囲の二次X線(低エネルギー二次X線と呼ぶ)の強度がより大きく変動する場合があることも判明した。図8は、低エネルギー二次X線の強度が変化する場合の例を示す図である。
(8-2-3) State information obtained from low-energy secondary X-rays In addition, when the same particulate matter P was placed on the sample table 15 and secondary X-ray spectra were acquired a plurality of times, Fig. 8 , the intensity of secondary X-rays in the energy range equal to or lower than the first energy Et (referred to as low-energy secondary X-rays) sometimes fluctuates more. FIG. 8 is a diagram showing an example in which the intensity of low-energy secondary X-rays changes.

検討の結果、上記の低エネルギー二次X線の強度の変動と、試料台15に載置された粒子状物質Pの試料台15の近傍における状態との間に相関があることが判明した。この相関は、X線源2から出力される低エネルギー側のX線が、試料台15の近傍までしか伝搬せず、試料台15の近傍に存在する粒子状物質Pからしか低エネルギー二次X線を発生できないことに由来していることが判明した。
以下、図9を用いて、上記の考察を模式的に説明する。図9は、低エネルギー二次X線の強度と粒子状物質の試料台の近傍における状態との関係を模式的に示す図である。
As a result of examination, it was found that there is a correlation between the intensity fluctuation of the low-energy secondary X-rays and the state of the particulate matter P placed on the sample stage 15 in the vicinity of the sample stage 15 . This correlation indicates that the low-energy X-rays output from the X-ray source 2 propagate only to the vicinity of the sample table 15, and the low-energy secondary X-rays are transmitted only from the particulate matter P existing in the vicinity of the sample table 15. It turned out that this was due to the inability to generate lines.
The above discussion will be schematically described below with reference to FIG. FIG. 9 is a diagram schematically showing the relationship between the intensity of low-energy secondary X-rays and the state of particulate matter in the vicinity of the sample stage.

すなわち、図9の(A)に示す場合を基準とすると、図9の(B)に示すように、試料台15の近傍に粒子状物質Pが存在しない大きな空間が存在する場合には、図9の(A)の場合と比較して、粒子状物質Pの試料台15に近い側の表面と検出器3との間の距離が大きくなる。
低エネルギー側のX線は粒子状物質Pの内部まで伝搬しにくいとの性質があるため、
粒子状物質Pのごく表面にのみ低エネルギー側のX線が到達する。その結果、粒子状物質Pのごく表面からしか低エネルギー二次X線が発生しない。粒子状物質Pの試料台15に近い側の表面と検出器3との間の距離が大きいので、この場合に検出器3にて取得される低エネルギー二次X線の強度は、図9の(A)の場合に取得される低エネルギー二次X線の強度よりも小さくなる。
That is, if the case shown in FIG. 9A is used as a reference, as shown in FIG. Compared to the case of 9 (A), the distance between the surface of the particulate matter P closer to the sample stage 15 and the detector 3 is increased.
Since X-rays on the low-energy side have the property of being difficult to propagate to the inside of the particulate matter P,
The X-rays on the low-energy side reach only the very surface of the particulate matter P. As a result, low-energy secondary X-rays are generated only from the very surface of the particulate matter P. Since the distance between the surface of the particulate matter P closer to the sample table 15 and the detector 3 is large, the intensity of the low-energy secondary X-rays acquired by the detector 3 in this case is as shown in FIG. It is smaller than the intensity of the low-energy secondary X-rays obtained in case (A).

この傾向は、試料台15近傍における粒子状物質Pの載置状態が「粗」である場合、すなわち、粒子状物質Pの密度が試料台15の近傍において低い場合にも見られる。なぜなら、この場合、低エネルギー側のX線が到達できる範囲に存在する粒子状物質Pの量が少ないからである。 This tendency is also seen when the placement state of the particulate matter P in the vicinity of the sample stage 15 is "rough", that is, when the density of the particulate matter P is low in the vicinity of the sample stage 15 . This is because, in this case, the amount of particulate matter P present in the range that can be reached by low-energy X-rays is small.

その一方、図9の(C)に示すように、粒子状物質Pが存在しない空間が(ほとんど)存在しない場合には、図9の(A)の場合と比較して、粒子状物質Pの試料台15に近い側の表面と検出器3との間の距離が小さくなる。
上記のように低エネルギー二次X線は粒子状物質Pのごく表面からしか発生せず、かつ、粒子状物質Pの試料台15に近い側の表面と検出器3との間の距離が小さいので、この場合に検出器3にて取得される低エネルギー二次X線の強度は、図9の(A)の場合に取得される低エネルギー二次X線の強度よりも大きくなる。
On the other hand, as shown in (C) of FIG. 9, when there is (almost) no space in which the particulate matter P does not exist, the amount of particulate matter P is lower than in the case of (A) in FIG. The distance between the surface closer to the sample stage 15 and the detector 3 becomes smaller.
As described above, low-energy secondary X-rays are generated only from the very surface of the particulate matter P, and the distance between the surface of the particulate matter P closer to the sample stage 15 and the detector 3 is small. Therefore, the intensity of the low-energy secondary X-rays acquired by the detector 3 in this case is greater than the intensity of the low-energy secondary X-rays acquired in the case of FIG. 9A.

この傾向は、試料台15近傍における粒子状物質Pの載置状態が「密」である場合、すなわち、粒子状物質Pの密度が試料台15の近傍において高い場合にも見られる。なぜなら、この場合、低エネルギー側のX線が到達できる範囲に存在する粒子状物質Pの量が多いからである。 This tendency is also seen when the placement state of the particulate matter P in the vicinity of the sample table 15 is “dense”, that is, when the density of the particulate matter P is high in the vicinity of the sample table 15 . This is because, in this case, there is a large amount of particulate matter P existing within the reachable range of X-rays on the low-energy side.

上記の原理により、演算部6は、低エネルギー二次X線が物質の表面において発生するとの特性を用いて、低エネルギー二次X線の強度に基づいて、試料台15に載置された粒子状物質Pの試料台15の近傍における表面状態に関する情報を、状態情報として取得できる。 Based on the above principle, the calculation unit 6 uses the characteristic that low-energy secondary X-rays are generated on the surface of a substance, and based on the intensity of the low-energy secondary X-rays, particles placed on the sample table 15 Information about the surface state of the material P in the vicinity of the sample stage 15 can be obtained as state information.

例えば、演算部6は、低エネルギー二次X線の強度が所定の閾値よりも小さい場合には、粒子状物質Pの試料台15近傍における載置状態が不適切で、適切な分析を実行できないと決定できる。
上記の「所定の閾値」は、例えば、試料台15に粒子状物質Pを密に載置したときに得られる低エネルギー二次X線の強度の実測値であってもよいし、理論計算により算出された理論値であってもよい。当該「所定の閾値」は、演算部6の記憶装置に記憶されている。
For example, when the intensity of the low-energy secondary X-rays is less than a predetermined threshold, the calculation unit 6 cannot perform appropriate analysis because the state of placement of the particulate matter P near the sample stage 15 is inappropriate. can be determined.
The above-mentioned "predetermined threshold value" may be, for example, a measured value of the intensity of low-energy secondary X-rays obtained when the particulate matter P is densely placed on the sample table 15, or may be obtained by theoretical calculation. It may be a calculated theoretical value. The “predetermined threshold value” is stored in the storage device of the calculation unit 6 .

また、演算部6は、低エネルギー二次X線のうちの特定のエネルギー値における二次X線の強度に基づいて状態情報を取得してもよいし、低エネルギー二次X線のエネルギー範囲で強度を積分した積分強度を用いて状態情報を取得してもよい。 Further, the calculation unit 6 may acquire the state information based on the intensity of the secondary X-rays at a specific energy value among the low-energy secondary X-rays, or in the energy range of the low-energy secondary X-rays The state information may be acquired using the integrated intensity obtained by integrating the intensity.

この場合、演算部6は、例えば、表示部8などに、粒子状物質Pの試料台15近傍における載置状態が不適切である旨の警告を表示してもよい。これにより、例えば、試料台15を振動させるなどして、試料台15近傍における粒子状物質Pの載置状態を改善できる。 In this case, the calculation unit 6 may, for example, display a warning on the display unit 8 or the like to the effect that the placement state of the particulate matter P near the sample table 15 is inappropriate. As a result, for example, by vibrating the sample table 15, the placement state of the particulate matter P in the vicinity of the sample table 15 can be improved.

他の実施形態において、演算部6は、演算部6が取得した試料台15に載置された粒子状物質Pの試料台15近傍における載置状態に関する情報に基づいて、検出器3にて検出される二次X線の強度(特に、低エネルギー二次X線の強度)を補正してもよい。 In another embodiment, the computing unit 6 detects by the detector 3 based on the information about the mounting state of the particulate matter P placed on the sample stage 15 in the vicinity of the sample stage 15 acquired by the computing unit 6. The intensity of the received secondary X-rays (particularly the intensity of low-energy secondary X-rays) may be corrected.

(8-3)まとめ
上記のように、第1実施形態に係るX線分析装置100は、試料台15に載置された粒子状物質Pから発生する二次X線のスペクトルを用いて、試料台15に載置された粒子状物質Pの厚みに関する情報、試料台15の近傍における粒子状物質Pの載置状態に関する情報を、容易に取得できる。すなわち、第1実施形態に係るX線分析装置100においては、試料台15における粒子状物質Pの厚みや載置状態を簡単に把握できる。
また、この状態情報を用いて、測定対象試料である粒子状物質Pが蛍光X線分析を行うために適切か否かを判断できる。
(8-3) Summary As described above, the X-ray analysis apparatus 100 according to the first embodiment uses the spectrum of secondary X-rays generated from the particulate matter P placed on the sample stage 15 to detect the sample Information about the thickness of the particulate matter P placed on the table 15 and information about the placement state of the particulate matter P in the vicinity of the sample table 15 can be easily obtained. That is, in the X-ray analysis apparatus 100 according to the first embodiment, it is possible to easily grasp the thickness and placement state of the particulate matter P on the sample stage 15 .
Further, by using this state information, it is possible to determine whether or not the particulate matter P, which is the sample to be measured, is suitable for the fluorescent X-ray analysis.

さらに、粒子状物質Pから発生する二次X線のスペクトルを用いて状態情報を取得することにより、演算部6は、試料台15に載置された粒子状物質Pの厚みに関する情報と、試料台15の近傍における粒子状物質Pの載置状態に関する情報とを、同時に取得できる。 Furthermore, by acquiring state information using the spectrum of secondary X-rays generated from the particulate matter P, the computing unit 6 obtains information about the thickness of the particulate matter P placed on the sample stage 15 and the sample Information about the placement state of the particulate matter P in the vicinity of the table 15 can be obtained at the same time.

なお、測定対象である粒子状物質Pに含まれる元素とその含有量が既知である場合には、演算部6は、当該粒子状物質Pに含まれる元素に由来する蛍光X線の強度に基づいて、状態情報を取得することが好ましい。図5などに示す例においては、粒子状物質Pに含まれる元素に由来する蛍光X線のエネルギー値は、エネルギー値E4、E5である。
なぜなら、蛍光X線の強度は他の二次X線(散乱X線)の強度よりも大きいので、粒子状物質Pのより正確な状態情報を短時間に取得できるからである。
When the elements contained in the particulate matter P to be measured and their contents are known, the calculation unit 6 calculates the intensity of the fluorescent X-ray derived from the element contained in the particulate matter P. to obtain the status information. In the example shown in FIG. 5 and the like, the energy values of the fluorescent X-rays derived from the elements contained in the particulate matter P are energy values E4 and E5.
This is because the intensity of fluorescent X-rays is greater than the intensity of other secondary X-rays (scattered X-rays), so more accurate state information of particulate matter P can be obtained in a short time.

また、X線源2のターゲット由来の蛍光X線は比較的強度が大きいので、ターゲット由来の蛍光X線のエネルギー値を有する二次X線を、状態情報を取得するために使用できる。
図5などに示す例においては、ターゲット由来の蛍光X線のエネルギー値は、エネルギー値E1~E3である。
Moreover, since the fluorescent X-rays originating from the target of the X-ray source 2 have a relatively high intensity, the secondary X-rays having the energy value of the fluorescent X-rays originating from the target can be used to acquire the state information.
In the example shown in FIG. 5 and the like, the energy values of the fluorescent X-rays originating from the target are energy values E1 to E3.

その一方、粒子状物質Pに含まれる元素又はその含有量が不明である場合には、演算部6は、当該粒子状物質Pから発生する散乱X線の強度に基づいて、状態情報を取得できる。
なぜなら、散乱X線は粒子状物質Pに含まれる元素によらず発生するものであるので、粒子状物質Pに関する情報が少ない場合であっても、当該粒子状物質Pについての状態情報を取得できるからである。
On the other hand, if the elements contained in the particulate matter P or their content are unknown, the computing unit 6 can acquire the state information based on the intensity of the scattered X-rays generated from the particulate matter P. .
This is because scattered X-rays are generated regardless of the elements contained in the particulate matter P, so even if there is little information about the particulate matter P, state information about the particulate matter P can be obtained. It is from.

他の実施形態において、演算部6は、粒子状物質Pから発生した二次X線の強度に基づいて取得した状態情報と、二次X線以外の測定量に基づいて取得した粒子状物質Pの状態と、を組み合わせて、粒子状物質Pの状態を最終的に判断してもよい。
例えば、撮像素子9により取得した粒子状物質Pの画像と、状態情報と、を用いて粒子状物質Pの状態を判断できる。また、粒子状物質Pの画像から、測定対象の粒子状物質P以外の不純物が含まれているか否かを判断できる。
また、二次X線に基づいた粒子状物質Pの厚みに関する情報と、他の方法(超音波、レーザ等)により測定した厚みと、を組み合わせて、粒子状物質Pの厚みを正確に判断できる。
In another embodiment, the computing unit 6 obtains the state information based on the intensity of the secondary X-rays generated from the particulate matter P and the particulate matter P obtained based on the measured quantity other than the secondary X-rays. , and the state of the particulate matter P may be finally determined.
For example, the state of the particulate matter P can be determined using the image of the particulate matter P acquired by the imaging device 9 and the state information. Also, from the image of the particulate matter P, it can be determined whether or not impurities other than the particulate matter P to be measured are included.
In addition, the thickness of the particulate matter P can be accurately determined by combining information on the thickness of the particulate matter P based on secondary X-rays and the thickness measured by another method (ultrasonic wave, laser, etc.). .

さらなる他の実施形態において、状態情報の取得は、所定の時間毎(例えば、1時間毎)に実行するのが好ましい。これにより、X線源2からX線を常時出力することを回避できる。その一方、X線源2からX線を常時出力してもよい場合には、状態情報の取得を常時実行してもよい。 In yet another embodiment, acquisition of status information is preferably performed every predetermined time (eg, every hour). Thereby, it is possible to avoid constantly outputting X-rays from the X-ray source 2 . On the other hand, when X-rays may be constantly output from the X-ray source 2, acquisition of status information may be executed constantly.

2.第2実施形態
上記の第1実施形態においては、粒子状物質Pから発生した二次X線に基づいて得られた状態情報を、粒子状物質Pの分析が適切に実行させるか否かの警告、及び、検出器3にて検出される二次X線の強度の補正に使用するかのいずれかであった。
上記のように、状態情報は、二次X線の発生箇所に関連して得られる情報であるので、試料台15に載置された粒子状物質Pの特性を測定する目的にも使用できる。
2. Second Embodiment In the above-described first embodiment, the state information obtained based on the secondary X-rays generated from the particulate matter P is warned as to whether or not the analysis of the particulate matter P is appropriately executed. , and used to correct the intensity of secondary X-rays detected by the detector 3 .
As described above, the state information is information obtained in relation to the location where secondary X-rays are generated, so it can also be used for the purpose of measuring the properties of the particulate matter P placed on the sample stage 15 .

第1実施形態において説明したように、低エネルギー二次X線は、試料台15の近傍に存在する粒子状物質P、すなわち、粒子状物質Pの試料台15に載置された側の表面から発生するものである。よって、低エネルギー二次X線を、粒子状物質Pの表面状態を測定する目的に使用できる。 As described in the first embodiment, the low-energy secondary X-rays are emitted from the particulate matter P present in the vicinity of the sample stage 15, that is, from the surface of the particulate matter P placed on the sample stage 15. It occurs. Therefore, low-energy secondary X-rays can be used for the purpose of measuring the surface state of the particulate matter P.

低エネルギー二次X線が粒子状物質Pの表面から発生するものであるとすると、粒子状物質Pの試料台15に載置された側の表面積に応じて、低エネルギー二次X線の大きさも変化する。
この原理を用いて、演算部6は、低エネルギー二次X線の強度に基づいて、試料台15に載置された粒子状物質Pの表面積に関する情報を取得できる。具体的には、低エネルギー二次X線の強度が大きい場合には表面積が大きいとの情報を取得でき、小さい場合には表面積が小さいとの情報を取得できる。
Assuming that the low-energy secondary X-rays are generated from the surface of the particulate matter P, the magnitude of the low-energy secondary X-rays varies depending on the surface area of the particulate matter P placed on the sample stage 15. also change.
Using this principle, the computing unit 6 can acquire information about the surface area of the particulate matter P placed on the sample stage 15 based on the intensity of the low-energy secondary X-rays. Specifically, when the intensity of the low-energy secondary X-rays is high, information indicating that the surface area is large can be obtained, and when the intensity is low, information indicating that the surface area is small can be obtained.

また、演算部6は、表面積と低エネルギー二次X線の強度との関係を表す検量線と、検出器3にて取得した低エネルギー二次X線の強度とから、粒子状物質Pの試料台15側における表面積を算出できる。
上記の表面積と低エネルギー二次X線の強度との関係を表す検量線は、予め決められた複数の表面積にて試料台15に粒子状物質Pを載置して複数の二次X線のスペクトルを取得し、取得した二次X線のうちの低エネルギー二次X線の強度と、そのときの表面積の値と、を関連付けて作成できる。
Further, the calculation unit 6 calculates the sample of the particulate matter P from the calibration curve representing the relationship between the surface area and the intensity of the low-energy secondary X-rays and the intensity of the low-energy secondary X-rays obtained by the detector 3. The surface area on the platform 15 side can be calculated.
The calibration curve representing the relationship between the surface area and the intensity of the low-energy secondary X-rays is obtained by placing the particulate matter P on the sample table 15 at a plurality of predetermined surface areas and generating a plurality of secondary X-rays. A spectrum can be acquired, and the intensity of low-energy secondary X-rays among the acquired secondary X-rays can be associated with the surface area value at that time.

演算部6は、低エネルギー二次X線の強度に基づいて、試料台15に載置された粒子状物質Pの粒子径に関する情報を取得できる。
例えば、粒子状物質Pの粒子径がある程度揃っているとすると、試料台15の一定面積に載置される粒子状物質Pの充填率は、図10に示すように、その粒子径により変化する。
具体的には、粒子径が大きい場合には一定面積中の充填率が小さくなり(図10の(A))、粒子径が小さい場合には一定面積中の充填率が大きくなる(図10の(B))。
図10は、粒子状物質の粒子径と充填率との関係を模式的に示す図である。
The computing unit 6 can acquire information about the particle size of the particulate matter P placed on the sample table 15 based on the intensity of the low-energy secondary X-rays.
For example, if the particle diameters of the particulate matter P are uniform to some extent, the packing rate of the particulate matter P placed on a certain area of the sample stage 15 varies depending on the particle diameter, as shown in FIG. .
Specifically, when the particle diameter is large, the filling rate in a given area decreases ((A) in FIG. 10), and when the particle diameter is small, the filling rate in a given area increases (FIG. 10). (B)).
FIG. 10 is a diagram schematically showing the relationship between the particle size of particulate matter and the filling rate.

そして、大きな粒子径の粒子状物質Pが小さい充填率にて試料台15上に充填された場合には、試料台15の一定面積に載置された粒子状物質Pの表面積は小さくなる。
その一方、小さな粒子径の粒子状物質Pが大きい充填率にて試料台15上に充填された場合には、試料台15の一定面積における粒子状物質Pの表面積は大きくなる。
When the sample table 15 is filled with the particulate matter P having a large particle diameter at a small filling rate, the surface area of the particulate matter P placed on the fixed area of the sample table 15 becomes small.
On the other hand, when the particulate matter P with a small particle diameter is filled on the sample stage 15 at a high filling rate, the surface area of the particulate matter P in a given area of the sample stage 15 increases.

上記の原理を利用して、図11に示すように、演算部6は、低エネルギー二次X線の強度が大きければ、試料台15に載置された粒子状物質Pの粒子径が小さいとの情報を取得できる。また、低エネルギー二次X線の強度が小さければ、試料台15に載置された粒子状物質Pの粒子径が大きいとの情報を取得できる。
図11は、粒子状物質の粒子径と低エネルギー二次X線の強度との関係を示す図である。
Using the above principle, as shown in FIG. 11, the calculation unit 6 determines that the particle size of the particulate matter P placed on the sample table 15 is small when the intensity of the low-energy secondary X-ray is large. information can be obtained. Further, when the intensity of the low-energy secondary X-rays is small, it is possible to acquire information that the particle size of the particulate matter P placed on the sample stage 15 is large.
FIG. 11 is a diagram showing the relationship between the particle size of particulate matter and the intensity of low-energy secondary X-rays.

また、演算部6は、粒子径と低エネルギー二次X線の強度との関係を表す検量線と、検出器3にて取得した低エネルギー二次X線の強度とから、粒子状物質Pの粒子径を算出できる。
上記の粒子径と低エネルギー二次X線の強度との関係を表す検量線は、予め決められた異なる粒子径の粒子状物質Pを試料台15に載置して複数の二次X線のスペクトルを取得し、取得した二次X線のうちの低エネルギー二次X線の強度と、そのときの粒子状物質Pの粒子径と、を関連付けて作成できる。
Further, the calculation unit 6 calculates the particulate matter P from the calibration curve representing the relationship between the particle diameter and the intensity of the low-energy secondary X-rays and the intensity of the low-energy secondary X-rays acquired by the detector 3. Particle size can be calculated.
The calibration curve representing the relationship between the particle diameter and the intensity of the low-energy secondary X-rays is obtained by placing particulate matter P having different predetermined particle diameters on the sample stage 15 and generating a plurality of secondary X-rays. A spectrum can be obtained by associating the intensity of low-energy secondary X-rays among the obtained secondary X-rays with the particle size of the particulate matter P at that time.

低エネルギー二次X線を用いることにより、数十μmオーダーから数mmオーダー程度の範囲の粒子径を測定できる。 By using low-energy secondary X-rays, it is possible to measure particle diameters in the order of several tens of μm to several millimeters.

低エネルギー二次X線を用いた粒子径の測定は一定面積内の粒子状物質Pの充填率に基づいているので、粒子径を測定する際には、例えば開口部材4の開口41、42、43を用いて、X線源2から出力するX線の照射径を一定にしておくことが好ましい。
また、粒子径を適切に算出するためには、少なくとも、測定対象の粒子状物質Pの粒子径よりも十分に大きな領域にX線を照射することが好ましい。
さらに、粒子径を正確に測定するためには、試料台15に載置された粒子状物質Pの広い範囲にX線を照射することが好ましい。
Since the measurement of the particle size using low-energy secondary X-rays is based on the filling rate of the particulate matter P within a certain area, when measuring the particle size, for example, the openings 41, 42 of the opening member 4, 43 is preferably used to keep the irradiation diameter of the X-ray output from the X-ray source 2 constant.
Moreover, in order to appropriately calculate the particle size, it is preferable to irradiate X-rays to at least a region sufficiently larger than the particle size of the particulate matter P to be measured.
Furthermore, in order to accurately measure the particle diameter, it is preferable to irradiate a wide range of the particulate matter P placed on the sample table 15 with X-rays.

そのため、粒子径の測定をする場合には、開口部材4に設けられた開口のうち、最大の径を有する開口(例えば、開口43)を用いて、X線の照射径を一定とすることが好ましい。 Therefore, when measuring the particle diameter, the aperture having the largest diameter (for example, the aperture 43) among the apertures provided in the aperture member 4 can be used to keep the X-ray irradiation diameter constant. preferable.

さらに、X線源2からのX線が、試料台15に載置された粒子状物質Pの深い位置まで到達し、当該深い位置から二次X線が発生することを回避するために、X線源2から発生させるX線のエネルギーの最大値は、なるべく小さくしておくことが好ましい。 Furthermore, in order to prevent the X-rays from the X-ray source 2 from reaching a deep position in the particulate matter P placed on the sample stage 15 and secondary X-rays from occurring from the deep position, the X-ray It is preferable to keep the maximum energy of the X-rays generated from the radiation source 2 as small as possible.

また、演算部6は、粒子状物質Pの厚さと高エネルギー二次X線の強度との関係を表す検量線と、検出器3にて取得した高エネルギー二次X線の強度とから、粒子状物質Pの厚さを具体的に算出できる。
上記の厚さと高エネルギー二次X線の強度との関係を表す検量線は、予め決められた複数の厚みにて試料台15に粒子状物質Pを載置して複数の二次X線のスペクトルを取得し、取得した二次X線のうちの高エネルギー二次X線の強度と、そのときの厚みと、を関連付けて作成できる。
Further, the calculation unit 6 calculates the particle Specifically, the thickness of the material P can be calculated.
The calibration curve representing the relationship between the thickness and the intensity of the high-energy secondary X-rays is obtained by placing the particulate matter P on the sample table 15 at a plurality of predetermined thicknesses and generating a plurality of secondary X-rays. A spectrum can be obtained, and the intensity of high-energy secondary X-rays among the obtained secondary X-rays can be associated with the thickness at that time.

3.他の実施形態
以上、本発明の複数の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。特に、本明細書に書かれた複数の実施形態及び変形例は必要に応じて任意に組み合せ可能である。
(A)粒子状物質Pが載置されていない試料台15にX線を照射したときに発生する二次X線を、検出器3にて検出されるX線の強度の校正に使用してもよい。
3. Other Embodiments Although a plurality of embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible without departing from the gist of the invention. In particular, multiple embodiments and modifications described herein can be arbitrarily combined as needed.
(A) Secondary X-rays generated when X-rays are irradiated to the sample table 15 on which no particulate matter P is placed are used to calibrate the intensity of the X-rays detected by the detector 3. good too.

(B)測定対象となる元素、及び/又は、粒子状物質Pの主成分の元素により、X線源2から発生させるX線のエネルギーの最大値を変更してもよい。測定対象となる元素、及び/又は、粒子状物質Pの主成分の元素が重い元素である場合には、エネルギーの最大値を大きくする。軽い元素である場合には、エネルギーの最大値を小さくする。これにより、試料台15に載置された粒子状物質PにX線が入り込む深さを調整できる。
X線源2から発生させるX線のエネルギーの最大値は、例えば、X線源2のターゲットに当てる電子の加速電圧を、発生させたいX線のエネルギーの最大値に対応する電圧とすることで変更できる。
(B) Depending on the element to be measured and/or the element that is the main component of the particulate matter P, the maximum value of the energy of the X-rays generated from the X-ray source 2 may be changed. When the element to be measured and/or the element that is the main component of the particulate matter P is a heavy element, the maximum value of energy is increased. If the element is light, the maximum energy value is reduced. Thereby, the depth of penetration of the X-rays into the particulate matter P placed on the sample table 15 can be adjusted.
The maximum value of the energy of the X-rays generated from the X-ray source 2 can be obtained, for example, by setting the acceleration voltage of the electrons applied to the target of the X-ray source 2 to a voltage corresponding to the maximum value of the energy of the X-rays to be generated. can be changed.

(C)例えば、インライン測定により大量に測定された二次X線のスペクトルと、各スペクトルを用いて取得した状態情報と、を演算部6の記憶装置にデータベースとして記憶してもよい。そして、上記二次X線のスペクトルと、対応する状態情報と、を教師データとして学習させてもよい。すなわち、上記の演算部6を、この学習により形成される学習済みモデルとしてもよい。
これにより、上記の学習済みモデルである演算部6は、得られた二次X線スペクトルから、粒子状物質Pについての状態情報を自動的に取得できる。
(C) For example, spectra of secondary X-rays measured in large quantities by in-line measurement and state information obtained using each spectrum may be stored in the storage device of the calculation unit 6 as a database. Then, the spectrum of the secondary X-ray and the corresponding state information may be learned as teaching data. That is, the computing unit 6 may be a learned model formed by this learning.
Thereby, the arithmetic unit 6, which is the learned model, can automatically obtain the state information about the particulate matter P from the obtained secondary X-ray spectrum.

また、上記の学習の際には、他の手段(例えば、撮像素子9など)により取得した粒子状物質Pに関する情報を、さらに教師データとして含めてもよい。
これにより、学習済みモデルである演算部6は、得られた二次X線スペクトルと他の手段による情報とに基づいて、粒子状物質Pについての状態情報を自動的に取得できる。例えば、得られた二次X線スペクトルと粒子状物質Pの画像から、不純物が含まれているか否かを自動的に判断できる。
Further, in the above learning, information on the particulate matter P acquired by other means (for example, the imaging device 9, etc.) may be further included as teacher data.
As a result, the computation unit 6, which is a learned model, can automatically acquire state information about the particulate matter P based on the obtained secondary X-ray spectrum and information obtained by other means. For example, from the obtained secondary X-ray spectrum and the image of the particulate matter P, it is possible to automatically determine whether or not impurities are contained.

本発明は、粒子状物質から発生する二次X線を用いて当該粒子状物質を分析するX線分析装置、及び、粒子状物質の分析方法に広く適用できる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be widely applied to an X-ray analysis apparatus that analyzes particulate matter using secondary X-rays generated from the particulate matter, and a particulate matter analysis method.

100 X線分析装置
1 試料支持部
11 貫通孔
12 着脱部
13 基部
14 X線透過膜
15 試料台
2 X線源
21 出射口
3 検出器
31 入射口
4 開口部材
41~43 開口
44 校正用試料
45 窓部
5 遮蔽体
51 開口
6 演算部
7 切換部
71 シャフト
8 表示部
9 撮像素子
Et 第1エネルギー
P 粒子状物質
100 X-ray analysis device 1 sample support section 11 through hole 12 detachable section 13 base section 14 X-ray transparent film 15 sample table 2 X-ray source 21 exit port 3 detector 31 entrance port 4 opening members 41 to 43 opening 44 calibration sample 45 Window part 5 Shield 51 Opening 6 Calculation part 7 Switching part 71 Shaft 8 Display part 9 Imaging element Et First energy P Particulate matter

Claims (13)

試料から発生する蛍光X線を用いて前記試料を分析するX線分析装置であって、
前記試料が載置される試料台と、
前記試料台に載置された前記試料にX線を照射するX線源と、
前記試料に前記X線を照射することにより発生した二次X線を検出する検出器と、
前記検出器により検出された前記二次X線の強度に基づいて、前記試料の前記試料台における状態に関する状態情報を取得する演算部と、
を備え、
前記演算部は、前記状態情報に基づいて前記試料の前記試料台における状態を判断し、前記試料の前記試料台における状態が適切か否かに基づいて、前記試料に含まれる元素を分析するか否かを決定し、
前記演算部は、前記二次X線のうち、前記試料台の近傍までしか伝搬しない低いエネルギーを有するX線が前記試料に照射されることにより前記試料台の近傍に存在する前記試料から発生する低エネルギー二次X線の強度に基づいて、前記試料台に載置された前記試料の表面状態に関する情報を取得する、
X線分析装置。
An X-ray analyzer for analyzing a sample using fluorescent X-rays generated from the sample,
a sample table on which the sample is placed;
an X-ray source that irradiates the sample placed on the sample table with X-rays;
a detector for detecting secondary X-rays generated by irradiating the sample with the X-rays;
a computing unit that acquires state information about the state of the sample on the sample table based on the intensity of the secondary X-rays detected by the detector;
with
The computing unit determines the state of the sample on the sample stage based on the state information, and analyzes the elements contained in the sample based on whether the state of the sample on the sample stage is appropriate. decide whether or not
The calculation unit generates from the sample existing near the sample stage by irradiating the sample with an X-ray having a low energy that only propagates to the vicinity of the sample stage among the secondary X-rays. Acquiring information about the surface state of the sample placed on the sample stage based on the intensity of the low-energy secondary X-rays;
X-ray analyzer.
前記演算部は、前記低エネルギー二次X線の強度に基づいて、前記試料台に載置された前記試料の表面積に関する情報を取得する、請求項に記載のX線分析装置。 2. The X-ray analysis apparatus according to claim 1 , wherein said calculation unit acquires information on the surface area of said sample placed on said sample table based on the intensity of said low-energy secondary X-rays. 前記演算部は、前記低エネルギー二次X線の強度に基づいて、前記試料台に載置された前記試料の粒子径に関する情報を取得する、請求項1又は2に記載のX線分析装置。 3. The X-ray analysis apparatus according to claim 1, wherein said calculation unit acquires information on the particle size of said sample placed on said sample table based on the intensity of said low-energy secondary X-rays. 前記演算部は、前記二次X線のうち、第1エネルギーより大きいエネルギーを有する高エネルギー二次X線の強度に基づいて、前記試料台に載置された前記試料の厚みに関する情報を取得する、請求項1~のいずれかに記載のX線分析装置。 The computing unit acquires information about the thickness of the sample placed on the sample table based on the intensity of high-energy secondary X-rays having energy higher than a first energy among the secondary X-rays. The X-ray analysis apparatus according to any one of claims 1 to 3 . 前記演算部は、前記二次X線のうち、前記試料から発生する散乱X線の強度に基づいて、前記状態情報を取得する、請求項1~のいずれかに記載のX線分析装置。 5. The X-ray analysis apparatus according to any one of claims 1 to 4 , wherein said computing unit acquires said state information based on the intensity of scattered X-rays generated from said sample among said secondary X-rays. 前記演算部は、前記二次X線のうち、前記試料に含まれる元素に由来する蛍光X線の強度に基づいて、前記状態情報を取得する、請求項1~のいずれかに記載のX線分析装置。 The X according to any one of claims 1 to 5 , wherein the computing unit acquires the state information based on the intensity of fluorescent X-rays derived from elements contained in the sample, among the secondary X-rays. Line analyzer. 前記検出器にて検出されるX線を校正するための校正用試料と、
前記X線源から発生するX線を通過させる開口が設けられた開口部材と、
前記校正用試料又は前記開口部材の開口を、前記X線源と前記試料台との間に切り換えて配置する切換部と、
をさらに備える、請求項1~のいずれかに記載のX線分析装置。
a calibration sample for calibrating X-rays detected by the detector;
an aperture member provided with an aperture through which X-rays generated from the X-ray source pass;
a switching unit for switching and arranging the calibration sample or the aperture of the aperture member between the X-ray source and the sample stage;
The X-ray analysis apparatus according to any one of claims 1 to 6 , further comprising:
前記試料台の少なくとも前記試料が載置される表面は導電性を有する、請求項1~のいずれかに記載のX線分析装置。 The X-ray analysis apparatus according to any one of claims 1 to 7 , wherein at least the surface of said sample table on which said sample is placed has conductivity. 前記試料台の表面は、導電性を有する材料にてコーティングされている、請求項に記載のX線分析装置。 9. The X-ray analysis apparatus according to claim 8 , wherein the surface of said sample stage is coated with a conductive material. 前記試料台の表面にコーティングされる材料は、導電性を有する金属、又は、ダイヤモンドライクカーボンである、請求項に記載のX線分析装置。 10. The X-ray analysis apparatus according to claim 9 , wherein the material coated on the surface of said sample stage is a conductive metal or diamond-like carbon. 前記試料台は導電性を有する金属又はグラファイトにて構成される、請求項8~10のいずれかに記載のX線分析装置。 11. The X-ray analysis apparatus according to any one of claims 8 to 10 , wherein said sample table is made of conductive metal or graphite. 試料台を備えるX線分析装置を用いた試料の分析方法であって、
前記試料台に載置された前記試料にX線を照射するステップと、
前記試料に前記X線を照射することにより発生した二次X線を検出するステップと、
検出された前記二次X線の強度に基づいて、前記試料の前記試料台における状態に関する状態情報を取得するステップと、
前記状態情報に基づいて前記試料の前記試料台における状態を判断し、前記試料の前記試料台における状態が適切か否かに基づいて、前記試料に含まれる元素を分析するか否かを決定するステップと、
を含み、
前記状態情報を取得するステップは、前記二次X線のうち、前記試料台の近傍までしか伝搬しない低いエネルギーを有するX線が前記試料に照射されることにより前記試料台の近傍に存在する前記試料から発生する低エネルギー二次X線の強度に基づいて、前記試料台に載置された前記試料の表面状態に関する情報を取得するステップを含む、
分析方法。
A method for analyzing a sample using an X-ray analyzer equipped with a sample stage,
irradiating the sample placed on the sample table with X-rays;
detecting secondary X-rays generated by irradiating the sample with the X-rays;
acquiring state information about the state of the sample on the sample table based on the intensity of the detected secondary X-rays;
Determining the state of the sample on the sample stage based on the state information, and determining whether to analyze the elements contained in the sample based on whether the state of the sample on the sample stage is appropriate. a step;
including
In the step of acquiring the state information, among the secondary X-rays, the secondary X-rays, which have low energy and propagate only to the vicinity of the sample stage, are irradiated to the sample so that the X-rays existing in the vicinity of the sample stage Acquiring information about the surface state of the sample placed on the sample stage based on the intensity of low-energy secondary X-rays generated from the sample;
Analysis method.
試料台に載置された試料にX線を照射するステップと、
前記試料に前記X線を照射することにより発生した二次X線を検出するステップと、
検出された前記二次X線の強度に基づいて、前記試料の前記試料台における状態に関する状態情報を取得するステップと、
前記状態情報に基づいて前記試料の前記試料台における状態を判断し、前記試料の前記試料台における状態が適切か否かに基づいて、前記試料に含まれる元素を分析するか否かを決定するステップと、
含み、
前記状態情報を取得するステップが、前記二次X線のうち、前記試料台の近傍までしか伝搬しない低いエネルギーを有するX線が前記試料に照射されることにより前記試料台の近傍に存在する前記試料から発生する低エネルギー二次X線の強度に基づいて、前記試料台に載置された前記試料の表面状態に関する情報を取得するステップを含む、
分析方法をコンピュータに実行させるプログラム。
irradiating the sample placed on the sample table with X-rays;
detecting secondary X-rays generated by irradiating the sample with the X-rays;
acquiring state information about the state of the sample on the sample table based on the intensity of the detected secondary X-rays;
Determining the state of the sample on the sample stage based on the state information, and determining whether to analyze the elements contained in the sample based on whether the state of the sample on the sample stage is appropriate. a step;
including
In the step of acquiring the state information, among the secondary X-rays, X-rays having low energy that propagate only up to the vicinity of the sample stage are irradiated to the sample, and the X-rays existing in the vicinity of the sample stage Acquiring information about the surface state of the sample placed on the sample stage based on the intensity of low-energy secondary X-rays generated from the sample;
A program that causes a computer to carry out an analysis method .
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