JP7325778B2 - 低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法、組成物及び低分子量ポリテトラフルオロエチレン - Google Patents

Description

本開示は、低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法、組成物及び低分子量ポリテトラフルオロエチレンに関する。

分子量数千から数十万の低分子量ポリテトラフルオロエチレン（「ポリテトラフルオロエチレンワックス」や「ポリテトラフルオロエチレンマイクロパウダー」とも呼ばれる）は、化学的安定性に優れ、表面エネルギーが極めて低いことに加え、フィブリル化が生じにくいので、滑り性や塗膜表面の質感を向上させる添加剤として、プラスチックス、インク、化粧品、塗料、グリース等の製造に用いられている（例えば、特許文献１参照）。

低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法としては、重合法、放射線分解法、熱分解法等が知られている。放射線分解法では、従来、空気雰囲気下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射して低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得るのが一般的である。

また、放射線分解法によって副生し得るパーフルオロカルボン酸及びその塩を低減する方法の検討も行われている（例えば、特許文献２及び３参照）。

特開平１０－１４７６１７号公報 国際公開第２０１８／０２６０１２号 国際公開第２０１８／０２６０１７号

本開示は、パーフルオロオクタン酸及びその塩を生成させにくい低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法を提供することを目的とする。
また、本開示は、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が少ない新規な低分子量ＰＴＦＥ組成物及び低分子量ＰＴＦＥを提供することも目的とする。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、上記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程（１）、及び、上記照射により生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルの少なくとも一部を失活させることにより、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（２）を含む低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法に関する。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、上記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程（１）、及び、工程（１）で得られた低分子量化物を、ポリテトラフルオロエチレンの室温転移温度（β_１分散温度である１９℃）以上の温度で加温又は加熱処理することにより、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（２ａ）を含む低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法にも関する。

工程（２ａ）における加温又は加熱処理を、７０℃以上の温度で行うことが好ましい。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、上記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程（１）、及び、工程（１）で得られた低分子量化物を５分間以上保持することにより、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（２ｂ）を含む低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法にも関する。

工程（２ｂ）における保持を、１０時間以上行うことが好ましい。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、上記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程（１）、及び、上記照射により生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルの少なくとも一部を失活させることにより、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（２）を含み、工程（１）及び（２）を同時に実施する低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法にも関する。

上記遊離水素原子を生成し得る物質は、炭化水素系有機化合物、アミン類、シラン系有機化合物、水及び水素からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。

上記遊離水素原子を生成し得る物質は、鎖式炭化水素化合物、環式炭化水素化合物、合成高分子、生分解性高分子、炭水化物、アンモニア及び水からなる群より選択される少なくとも１種であることも好ましい。

上記遊離水素原子を生成し得る物質の量は、上記高分子量ポリテトラフルオロエチレンに対し、０．０００１～１０００質量％であることが好ましい。

工程（１）における放射線の線量が１０～１０００ｋＧｙであることが好ましい。

工程（１）における放射線の線量が１００～７５０ｋＧｙであることも好ましい。

工程（１）を、実質的に酸素の不存在下で実施することが好ましい。

工程（２）を、実質的に酸素の不存在下で実施することが好ましい。

工程（１）の開始から工程（２）の終了までの期間中、実質的に酸素が不存在の状態を維持することが好ましい。

上記高分子量ポリテトラフルオロエチレンは、標準比重が２．１３０～２．２３０であることが好ましい。

上記高分子量ポリテトラフルオロエチレン及び上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンがいずれも粉末であることが好ましい。

上記製造方法は、工程（１）の前に、更に、上記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを、その一次融点以上に加熱することにより成形品を得る工程（３）を含み、上記成形品は、比重が１．０ｇ／ｃｍ^３以上であることが好ましい。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、放射線照射時の試料温度がポリテトラフルオロエチレンの室温転移温度（β_１分散温度である１９℃）以上、３２０℃以下、線量率が０．１ｋＧｙ／ｓ以上の条件下に、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（Ｘ）を含むことを特徴とする低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法にも関する。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであるポリテトラフルオロエチレンに、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で放射線を照射することにより、上記ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程（Ｙ１）、及び、上記照射により生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルの少なくとも一部を失活させることにより、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（Ｙ２）を含むことを特徴とする低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法にも関する。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンと、遊離水素原子を生成し得る物質とを含み、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満である組成物にも関する。

上記組成物は、後述する加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が１００質量ｐｐｂ未満であることが好ましい。

上記組成物は、加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が５０質量ｐｐｂ未満であることも好ましい。

上記組成物は、加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満であることも好ましい。

上記組成物は、炭素数９～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が２５質量ｐｐｂ未満であることが好ましい。

上記組成物は、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が２５質量ｐｐｂ未満であることが好ましい。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであり、真空下での電子スピン共鳴測定により得られるピークが以下の関係式（Ｉ）を充足し、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満であり、かつ、後述する加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が１００質量ｐｐｂ未満である低分子量ポリテトラフルオロエチレンにも関する。
関係式（Ｉ）：３．０＞Ｐｅａｋ Ｍ／Ｐｅａｋ Ａ＞０．３
（式中、Ｐｅａｋ Ｍは低分子量ポリテトラフルオロエチレン中の末端ラジカルに対応するｔｒｉｐｌｅｔの中心のピーク高さを表し、Ｐｅａｋ Ａは低分子量ポリテトラフルオロエチレン中の主鎖ラジカルに対応するｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔのピーク高さを表す。）

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであり、大気下での電子スピン共鳴測定により得られるピークが以下の関係式（１）及び（２）を充足し、
パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満であり、かつ、後述する加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が１００質量ｐｐｂ未満である低分子量ポリテトラフルオロエチレンにも関する。
関係式（１）：Ｐｅａｋ Ｍ２／Ｐｅａｋ Ａ１≧１．０
（式中、Ｐｅａｋ Ｍ２は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルに対応する負のピーク強度の絶対値を表し、Ｐｅａｋ Ａ１は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの主鎖上に捕捉されたアルキル型過酸化ラジカルに対応する負のピーク強度の絶対値を表す。）
関係式（２）：Ｐｅａｋ Ｍ２／Ｐｅａｋ Ｍ３＜１．０
（式中、Ｐｅａｋ Ｍ２は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルに対応する負のピーク強度の絶対値を表し、Ｐｅａｋ Ｍ３は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルに対応する正のピーク強度の絶対値を表す。）

（加熱・測定条件Ａ）
５０ｃｃのステンレス製の筒型気密容器に大気下で２～２０ｇの試料を充填し、蓋をして１５０℃で１８時間加熱を行う。
液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，ＬＣ－ＭＳ ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用い、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量の測定を行う。上記加熱後の試料１ｇにアセトニトリル５ｍｌを加え、６０分間の超音波処理を行い、パーフルオロオクタン酸を抽出する。得られた液相について、ＭＲＭ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｒｅａｃｔｉｏｎ Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ）法を用いて測定する。移動相としてアセトニトリル（Ａ）と酢酸アンモニウム水溶液（２０ｍｍｏｌ／Ｌ）（Ｂ）を、濃度勾配（Ａ／Ｂ＝４０／６０－２ｍｉｎ－８０／２０－１ｍｉｎ）で送液する。分離カラム（ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ ＢＥＨ Ｃ１８ １．７μｍ）を使用し、カラム温度は４０℃、注入量は５μＬとする。イオン化法はＥＳＩ（Ｅｌｅｃｔｒｏｓｐｒａｙ ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ） Ｎｅｇａｔｉｖｅを使用し、コーン電圧は２５Ｖに設定し、プリカーサーイオン分子量／プロダクトイオン分子量は４１３／３６９を測定する。パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量は外部標準法を用い、算出する。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであり、以下の式（３）により求める規格値が１．１～１０．０であり、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満である低分子量ポリテトラフルオロエチレンにも関する。
式（３）：
規格値＝（上記低分子量ＰＴＦＥの、水素付加体由来の官能基の吸光度）／（遊離水素原子を生成し得る物質の非存在下で放射線照射を行って得られた低分子量ＰＴＦＥの、水素付加体由来の官能基の吸光度）

上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンは、炭素数９～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が２５質量ｐｐｂ未満であることが好ましい。

上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンは、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が２５質量ｐｐｂ未満であることが好ましい。

本開示によれば、パーフルオロオクタン酸及びその塩を生成させにくい低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法を提供することができる。
また、本開示によれば、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が少ない新規な低分子量ＰＴＦＥ組成物及び低分子量ＰＴＦＥを提供することもできる。

真空下での電子スピン共鳴（ＥＳＲ）測定で得られるピークの一例を示す図である。 大気下での電子スピン共鳴（ＥＳＲ）測定で得られるピークの一例を示す図である。

従来の条件で高分子量ＰＴＦＥに放射線を照射すると、低分子量ＰＴＦＥが生成すると同時に、副生成物として炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩が生成する可能性がある。これらの副生成物の化合物には、炭素数が８のパーフルオロオクタン酸又はその塩をはじめ、炭素数が４、５、６、７、９、１０、１１、１２、１３、１４の、それぞれのパーフルオロカルボン酸、又はそれぞれの塩、が含まれている。
また、実質的に酸素の不存在下での室温での放射線の照射によって生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルが、照射後に加熱により空気中の酸素と反応することによっても、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩、特に、パーフルオロオクタン酸又はその塩が生成する可能性がある。
本発明者らは、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で上記高分子量ＰＴＦＥに放射線を照射し、照射によって生成したラジカルを失活させることで、パーフルオロオクタン酸及びその塩、更には、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の生成が抑制されることを見出し、本開示の製造方法を完成するに至った。
以下、本開示を具体的に説明する。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、上記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程（１）、及び、上記照射により生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルの少なくとも一部を失活させることにより、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（２）を含む低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法に関する。

工程（１）では、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ＰＴＦＥに放射線を照射することにより、上記高分子量ＰＴＦＥを低分子量化する。
上記低分子量化は、上記放射線の照射により、上記高分子量ＰＴＦＥの主鎖が切断されることによって達成されると考えられる。

上記放射線としては、電離性放射線であれば特に限定されず、電子線、ガンマ線、Ｘ線、中性子線、高エネルギーイオン等が挙げられるが、電子線、ガンマ線、あるいは、Ｘ線が産業利用上好ましく、電子線又はガンマ線がより好ましい。
電子線は、例えば、電子加速器から発生させることができる。
ガンマ線は、例えば、ラジオアイソトープから発生させることができる。
Ｘ線は、例えば、粒子加速器からの粒子線を金属等のターゲットに照射することにより発生させることができる。また、高エネルギー電子線にレーザー光を衝突させ、逆コンプトン散乱（レーザーコンプトン散乱）により準単色性のＸ線を発生させることができる。更には、シンクロトロン放射によってＸ線を発生させることができるほか、粒子加速器の下段にアンジュレータやウィグラーを設置してＸ線を発生させてもよい。

上記放射線の吸収線量は、例えば、１０ｋＧｙ以上であることが好ましく、１００ｋＧｙ以上であることがより好ましく、１５０ｋＧｙ以上であることが更に好ましく、２００ｋＧｙ以上であることが更により好ましく、２５０ｋＧｙ以上であることが特に好ましく、３００ｋＧｙ以上であることが最も好ましい。また、上記吸収線量は、１０００ｋＧｙ以下であることが好ましく、７５０ｋＧｙ以下であることがより好ましく、５００ｋＧｙ以下であることが更に好ましい。
上記数値範囲は、例えば、室温（２５℃）での照射において好適に採用できる。
また、放射線照射は、所望の吸収線量に到達するまで連続で行ってもよいし、累計で所望の吸収線量に到達するまで断続的に繰り返し行ってもよい。
吸収線量を上記範囲内とすることにより、実質的に酸素不存在下であっても、上記高分子量ＰＴＦＥを低分子量化することができる。吸収線量は目標の分子量に応じて最適化することが好ましい。

上記放射線の照射の際の吸収線量率は、特に限定されないが、例えば、コバルト６０等から放出されるγ線においては、０．１ｋＧｙ／ｈ以上が好ましく、１ｋＧｙ／ｈ以上がより好ましく、２ｋＧｙ／ｈ以上が更に好ましい。
電子加速器からの電子線においては、０．１ｋＧｙ／ｓ以上が好ましく、１ｋＧｙ／ｓ以上がより好ましく、１０ｋＧｙ／ｓ以上が更に好ましい。あるいは、０．１ｋＧｙ／ｐａｓｓ以上が好ましく、１ｋＧｙ／ｐａｓｓ以上がより好ましく、１０ｋＧｙ／ｐａｓｓ以上が更に好ましい。
粒子加速器からの粒子線、特に電子加速器からの電子線をＸ線発生用のターゲットに照射して発生させたＸ線においては、０．１ｋＧｙ／ｓ以上が好ましく、１ｋＧｙ／ｓ以上がより好ましく、１０ｋＧｙ／ｓ以上が更に好ましい。あるいは、０．１ｋＧｙ／ｐａｓｓ以上が好ましく、１ｋＧｙ／ｐａｓｓ以上がより好ましく、１０ｋＧｙ／ｐａｓｓ以上が更に好ましい。

上記放射線照射にあたっては、ＰＴＦＥ試料全体に均一に反応が起きるように、また、均一な吸収線量分布になるように、照射を行うことが好ましい。例えば、コバルト６０からのγ線の場合、γ線の透過力は距離の２乗で減衰するため、試料の厚みがある場合、γ線が照射される表面と裏面で分布が生じる。このため、当該ＰＴＦＥ試料を定期的に反転させる、あるいは、回転させる等の措置を行うことが好ましい。ただし、特に試料に厚みがある場合、反転させても外周部と中央部で２０％～３０％程度の線量分布が生じることもあるため、線量分布を均一にするためには、照射試料の密度分布や照射形状を工夫することが好ましい。
また、電子加速器からの電子線の場合、電子の加速電圧／試料表面での電子の加速エネルギーにより、浸透する深さが変化するので、均一な吸収線量分布とするため、試料を電子の透過深度以下の厚みにする、定期的に試料を反転させる等の措置を行うことが好ましい。
更に、電子加速器からの電子線をＸ線発生用のターゲットに照射して発生させたＸ線の場合、Ｘ線の透過力は距離の２乗で減衰するため、試料の厚みがある場合、Ｘ線が照射される表面と裏面で分布が生じる。このため、当該ＰＴＦＥ試料を定期的に反転させる、あるいは、回転させる等の措置を行うことが好ましい。ただし、特に試料に厚みがある場合、反転させても外周部と中央部で２０％～３０％程度の線量分布が生じることもあるため、線量分布を均一にするためには、照射試料の密度分布や照射形状を工夫することが好ましい。

上記放射線の照射における試料の温度は、－８０℃近傍のγ分散温度以上、高分子量ＰＴＦＥの融点以下であれば特に限定されない。融点近傍付近では高分子量ＰＴＦＥの分子鎖が架橋することも知られており、低分子量ＰＴＦＥを得る上では、３２０℃以下が好ましく、３１０℃以下がより好ましく、３００℃以下が更に好ましい。経済的には常温から５０℃程度までの温度範囲で照射することが好ましいが、放射線による分解効率を上げるため、温度を昇温して照射してもよい。
また、放射線照射継続中に試料温度が－８０℃から３２０℃の間で変化してもよい。

以下に、照射時の試料温度及び吸収線量の組み合わせを例示するが、これらに限定されない。
上記放射線の吸収線量は、－８０℃での照射においては、１００ｋＧｙ以上であることが好ましく、２００ｋＧｙ以上であることがより好ましく、２５０ｋＧｙ以上であることが更に好ましく、３００ｋＧｙ以上であることが最も好ましい。また、上記吸収線量は、１２００ｋＧｙ以下であることが好ましく、１０００ｋＧｙ以下であることがより好ましく、８００ｋＧｙ以下であることが更に好ましい。
上記放射線の吸収線量は、５０℃での照射においては、６０ｋＧｙ以上であることが好ましく、１２０ｋＧｙ以上であることがより好ましく、１４０ｋＧｙ以上であることが更に好ましく、１６０ｋＧｙ以上であることが最も好ましい。また、上記吸収線量は、７００ｋＧｙ以下であることが好ましく、６００ｋＧｙ以下であることがより好ましく、５００ｋＧｙ以下であることが更に好ましい。
上記放射線の吸収線量は、１００℃での照射においては、５０ｋＧｙ以上であることが好ましく、１００ｋＧｙ以上であることがより好ましく、１２０ｋＧｙ以上であることが更に好ましく、１５０ｋＧｙ以上であることが最も好ましい。また、上記吸収線量は、６００ｋＧｙ以下であることが好ましく、５００ｋＧｙ以下であることがより好ましく、４００ｋＧｙ以下であることが更に好ましい。
上記放射線の吸収線量は、１５０℃での照射においては、４０ｋＧｙ以上であることが好ましく、８０ｋＧｙ以上であることがより好ましく、１００ｋＧｙ以上であることが更に好ましく、１２０ｋＧｙ以上であることが最も好ましい。また、上記吸収線量は、５５０ｋＧｙ以下であることが好ましく、４５０ｋＧｙ以下であることがより好ましく、３５０ｋＧｙ以下であることが更に好ましい。
上記放射線の吸収線量は、２００℃での照射においては、３０ｋＧｙ以上であることが好ましく、６０ｋＧｙ以上であることがより好ましく、８０ｋＧｙ以上であることが更に好ましく、１００ｋＧｙ以上であることが最も好ましい。また、上記吸収線量は、５００ｋＧｙ以下であることが好ましく、４００ｋＧｙ以下であることがより好ましく、３００ｋＧｙ以下であることが更に好ましい。
上記放射線照射時の温度は、工程を実施する雰囲気の温度を、熱電対、白金抵抗体等により計測する方法、試料表面又は試料内部の温度を熱電対、白金抵抗体等により接触式で計測する方法、あるいは試料表面からの赤外放射を赤外放射温度計により計測する方法等により簡便に測定できる。

工程（１）における照射は、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で実施する。放射線の照射時に上記物質から生成される遊離水素原子が、高分子量ＰＴＦＥへの照射によって生成する主鎖ラジカル及び末端ラジカルと反応し、当該ラジカルを捕捉する。このため、上記主鎖ラジカル及び末端ラジカルと酸素との反応を抑制することができ、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩、特に、パーフルオロオクタン酸及びその塩の生成を抑制することができると考えられる。

上記遊離水素原子を生成し得る物質は、放射線の照射により遊離水素原子を生成することが可能な物質であれば特に限定されない。上記物質は、遊離水素原子を生成し得る化合物であることが好ましい。上記物質は、固体、液体、気体のいずれであってもよいが、取り扱いや容器内の真空脱気が容易である点で、固体であることが好ましい。上記物質の状態は、２５℃、１気圧での状態である。
放射線の照射により生成する遊離水素は、ガスクロマトグラフィー法、例えば、Ｋ．Ｔａｋａｓｈｉｋａ，ｅｔ ａｌ．，Ｒａｄｉａｔ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．５５，ｐ．３９９－４０８（１９９９）や、Ｔ．Ｓｅｇｕｃｈｉ，ｅｔ ａｌ．，Ｒａｄｉａｔ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．８５，ｐ．１２４－１２９（２０１３）に記載されている方法により測定することができる。

上記遊離水素原子を生成し得る物質としては、例えば、炭化水素系有機化合物、アミン類、シラン系有機化合物、水、水素等が挙げられる。

上記炭化水素系有機化合物は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、ケイ素原子及びハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）からなる群より選択される少なくとも１種の原子を有していてもよい。

上記炭化水素系有機化合物としては、鎖式炭化水素化合物、環式炭化水素化合物、合成高分子、生分解性高分子、炭水化物等が挙げられる。
上記鎖式炭化水素化合物としては、アセチレン；パラフィン等が挙げられる。上記パラフィンの炭素数は、２０超であってよい。
上記環式炭化水素化合物としては、ベンゼン、クメン、トルエン、キシレン、アニリン、ナフタレン等の芳香族化合物；シクロプロパン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素化合物等が挙げられる。
上記合成高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリスチレン、ポリヒドロキシスチレン、ポリアニリン等の芳香族炭化水素ポリマー；シクロオレフィンポリマー等の脂環式炭化水素ポリマー等が挙げられる。
上記生分解性高分子としては、ポリ乳酸；ポリカプロラクトン；ポリグルタミン酸；ポリペプチド、コラーゲン、ケラチン等のタンパク質等が挙げられる。
上記炭水化物としては、グルコース等の単糖類；セルロース、デンプン等の多糖類等が挙げられる。
上記鎖式炭化水素化合物、環式炭化水素化合物及び単糖類の分子量は２０００未満であってよく、１０００未満であってもよい。
上記合成高分子、生分解性高分子及び多糖類の分子量は２０００以上であってよい。
本明細書において、遊離水素原子を生成し得る物質の分子量は、化学式からの計算又はゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求めることができる。また、マトリックス支援レーザー脱離イオン化法（Ｍａｔｒｉｘ Ａｓｓｉｓｔｅｄ Ｌａｓｅｒ Ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ Ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ）と飛行時間型質量分析計（Ｔｉｍｅ ｏｆ Ｆｌｉｇｈｔ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）の組み合わせであるＭＡＬＤＩ ＴｏＦ－ＭＳによって分子量及び分子量分布幅を直接測定することができる。

上記炭化水素系有機化合物としては、なかでもパラフィン、合成高分子、生分解性高分子、炭水化物が好ましく、パラフィン、ポリオレフィン、芳香族炭化水素ポリマー、生分解性高分子、炭水化物がより好ましく、ポリオレフィン、芳香族炭化水素ポリマー、生分解性高分子、多糖類が更に好ましく、ポリエチレン、ポリ乳酸、セルロースが更により好ましく、ポリエチレンが特に好ましい。

上記アミン類としては、アンモニア、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン等が挙げられ、なかでもアンモニアが好ましい。
上記アミン類の分子量は１０００未満であってよい。

上記シラン系有機化合物としては、シラン、アルコキシシラン、オルトケイ酸テトラエチル、ポリシロキサン等の他、それらの誘導体が挙げられ、なかでもポリシロキサンが好ましい。
上記ポリシロキサン及びその誘導体の分子量は１０００以上であってよく、上記ポリシロキサン及びその誘導体以外のシラン系有機化合物の分子量は１０００未満であってよい。

上記遊離水素原子を生成し得る物質は、１種又は２種以上を用いることができる。

上記遊離水素原子を生成し得る物質は、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩をより効率良く低減できる点で、炭化水素系有機化合物、アミン類、シラン系有機化合物、水及び水素からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、炭化水素系有機化合物、アミン類及び水からなる群より選択される少なくとも１種であることがより好ましく、鎖式炭化水素化合物、環式炭化水素化合物、合成高分子、生分解性高分子、炭水化物、アンモニア及び水からなる群より選択される少なくとも１種であることが更に好ましく、ポリオレフィン、芳香族炭化水素ポリマー、生分解性高分子、多糖類、アンモニア及び水からなる群より選択される少なくとも１種であることがより好ましく、ポリエチレン、ポリ乳酸及びセルロースからなる群より選択される少なくとも１種であることが更に好ましく、ポリエチレンであることが特に好ましい。
上記遊離水素原子を生成し得る物質は、ポリオレフィン、芳香族炭化水素ポリマー、生分解性高分子、多糖類、アンモニア、水及び水素からなる群より選択される少なくとも１種であることも好ましい。
上記遊離水素原子を生成し得る物質は、炭化水素系有機化合物であることも好ましい。なかでもポリエチレン等のポリオレフィンは、ポリマーペレットの形態で使用することができ、かつ主鎖に水素原子を多く含んでいることから、他の物質と比較して、実用上ハンドリングに優れる点で特に好ましい。

上記遊離水素原子を生成し得る物質の形態は、特に限定されず、ブロック、ペレット、粉末、シート、ストランド等であってよい。

上記遊離水素原子を生成し得る物質の量は、上記高分子量ＰＴＦＥに対し、０．０００１～１０００質量％であることが好ましい。上記物質の量は、上記高分子量ＰＴＦＥに対し、１質量％以上であることがより好ましく、２質量％以上であることが更に好ましく、１０質量％以上であることが特に好ましく、また、１５０質量％以下であることがより好ましく、１００質量％以下であることが更に好ましく、５０質量％以下であることが更により好ましく、２５質量％以下であることが特に好ましい。
上記物質の量が上記範囲内にあると、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩をより効率良く低減できる。

上記遊離水素原子を生成し得る物質が高分子化合物（分子量１０００以上）である場合、その量は、上記高分子量ＰＴＦＥに対し、０．１～１０００質量％であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることが更に好ましく、１０質量％以上であることが特に好ましく、また、１００質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以下であることが更に好ましく、２５質量％以下であることが特に好ましい。

上記遊離水素原子を生成し得る物質が低分子化合物（分子量１０００未満）である場合、その量は、上記高分子量ＰＴＦＥに対し、０．０００１～１００質量％であることが好ましく、０．００１質量％以上であることがより好ましく、０．０１質量％以上であることが更に好ましく、０．１質量％以上であることが特に好ましく、また、１００質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以下であることが更に好ましく、１０質量％以下であることが特に好ましい。

上述した遊離水素原子を生成し得る物質の量は、工程（１）を実施する空間（容器）内における存在量である。

工程（１）において、上記高分子量ＰＴＦＥと上記遊離水素原子を生成し得る物質とは、互いに直接接触していてもよく、直接接触していなくてもよい。

工程（１）は、実質的に酸素の不存在下で実施してもよく、後述するように、酸素の存在下で実施してもよいが、実質的に酸素の不存在下で実施することが好ましい。

本明細書において、実質的に酸素が不存在であるとは、工程を実施する雰囲気中の酸素濃度が２．０体積％未満であることを意味する。炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の生成を一層抑制することができる点で、上記酸素濃度は１．０体積％以下であることが好ましく、１．０体積％未満であることがより好ましく、０．５体積％以下であることが更に好ましく、０．１体積％以下であることが更により好ましく、０．０１体積％以下であることが特に好ましい。上記酸素濃度の下限は、検出限界未満の値であってよい。なお、この時の主成分ガスは、不活性ガスであってよい。上記不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス、これらの混合ガス等が挙げられる。産業利用上は窒素ガスが好ましい。
上記酸素濃度は、工程を実施する雰囲気、例えば上記高分子量ＰＴＦＥを配置する容器内の気相部分をガスクロマトグラフィーにて分析する方法や、酸素濃度測定機を用いる方法、上記容器内に設置した酸素検知剤の色調を調べる方法により簡便に測定できる。

また、工程（１）を実施する環境は、加圧下、大気圧下、減圧環境のいずれであってもよい。工程（１）における分解ガスの発生による作業環境の安全対策上は、減圧環境が好ましい。ここでいう、減圧環境とは、ダイヤフラムポンプや、油回転ポンプ、スクロールポンプ等の真空ポンプで真空度１００Ｐａ以下に脱気した環境を意味する。炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の生成を一層抑制することができる点で、真空度は、１０Ｐａ以下が好ましく、１Ｐａ以下がより好ましい。
上記工程（１）中の減圧環境を維持する方法として、減圧用密閉容器を用いてもよいし、真空ポンプにより容器内を常時真空排気しながら減圧環境を維持してもよく、断続的に真空ポンプのオン・オフを繰り返して容器内の減圧環境を維持してもよい。
環境内に存在する酸素を除去し、実質的な酸素不在の環境とするため、酸素吸着剤を使用してもよい。酸素吸収剤は、脱酸素剤とも呼ばれ、同義である。もちろん酸素吸着剤は上記の方法と併用して用いてもよい。併用の方法としては、上記密閉容器内に上記高分子量ＰＴＦＥと一緒に酸素吸着剤を入れておくほか、当該密封容器の内側に酸素吸着剤を均一、あるいは不均一にコートしておいてもよい。

工程（１）を実質的に酸素の不存在下で実施する方法としては、例えば、内部に実質的に酸素が存在しない空間内で工程（１）を実施する方法が挙げられる。

上記内部に実質的に酸素が存在しない空間とは、工程（１）及び工程（２）の実施中、当該空間内の酸素濃度を局所的に調整できるような空間を意味する。
例えば、内部空間の酸素濃度を調整できるように密閉が可能な容器（以下、密閉容器という）が挙げられる。
あるいは、工程（１）及び工程（２）を実施する空間を、局所的に、不活性ガスによるガスシャワーや真空ポンプシステムによる差動排気により、実質的に酸素が存在しない空間としてもよい。
また、上記工程（１）中の実質的に酸素が存在しない状態を、不活性ガスを用いて維持する方法として、密閉容器を用いてもよいし、不活性ガスを流通しながら維持してもよく、断続的に不活性ガスの流通のオン・オフを繰り返して維持してもよい。

上記密閉容器には、後述する不活性ガス等を吸排気したり、上記密閉容器内のガスを排気したりするための配管が接続されていてもよく、他の配管、蓋、バルブ、フランジ等が接続されていてもよい。また、その形状は特に限定されず、円柱状、角柱状、球状等であってよく、内容積可変な袋であってもよい。また、その素材も特に限定されず、金属、ガラス、ポリマー、それらを積層した複合材料等であってよい。上記密閉容器は、放射線を透過し、かつ放射線の照射によって劣化しない材質・構造のものが好ましいが、それに限定されるものではない。また、上記密閉容器は耐圧容器に限定されない。

上記密閉容器において、特に内容積可変な袋の素材としては、エチレン－プロピレンゴム、テトラフルオロエチレン－プロピレンゴム、クロロプレンゴム、ポリエステルエラストマー等の物理的な応力による密閉が可能なラバー素材の他、熱融着やエポキシ系等の接着剤による密閉が可能な素材が好ましい。その中でも熱融着による密閉が可能な熱可塑性有機材料が特に好ましい。工程（１）の放射線照射に耐えられる点で、上記熱可塑性有機材料のなかでも、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル類、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、熱可塑性ポリイミド（ＴＰＩ）、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）、ポリビニリデンフルオライド、エチレン－テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン－テトラフルオロエチレン共重合体（ＦＥＰ）、パーフルオロアルコキシアルカン（ＰＦＡ）等が好ましい。また、これらの材料は、２層、３層等の多層膜状材料であってもよく、更には、アルミホイル等と組み合わせた有機及び無機の複合多層膜状材料であってもよい。

上記密閉容器内に実質的に酸素が存在しない状態は、例えば、上記密閉容器内を実質的に真空にするか、又は不活性ガスで満たすことにより実現できる。ここで、実質的に真空であるとは、容器内の圧力が１００Ｐａ以下、好ましくは５０Ｐａ以下、より好ましくは１０Ｐａ以下であることを意味する。

上記不活性ガスは、放射線照射による高分子量ＰＴＦＥの低分子量化反応、及び、上記照射によって生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルに対して不活性なガスであることが必要である。上記不活性ガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等のガスが挙げられる。なかでも、窒素が好ましい。

上記不活性ガスは、酸素の含有量が２．０体積％未満であることが好ましく、１．０体積％以下であることがより好ましく、１．０体積％未満であることが更に好ましく、０．５体積％以下であることが更により好ましく、０．１体積％以下であることが更により好ましく、０．０１体積％以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されず、検出限界未満の量であってよい。上記不活性ガス中の酸素の含有量が上記範囲内にあると、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩が一層生成しにくくなる。
上記酸素の含有量は、ガスクロマトグラフィーでの分析の他、ガルバニ電池式の酸素濃度計、ジルコニア式酸素濃度計、酸素検知紙等により確認できる。

上記酸素吸着剤は、酸素を吸着する機能を有するものであれば特に限定されず、鉄系、亜鉛系、ハイドロサルファイト系等の無機系の酸素吸着剤、アスコルビン酸系、多価アルコール系、活性炭系等の有機系の酸素吸着剤等の、公知の酸素吸着効果を示す吸着剤を使用することができる。上記酸素吸着剤は、酸素との反応時に水分を必要とする水分依存型であっても、水分を必要としない自力反応型であってもよいが、自力反応型であることが好ましい。上記酸素吸着剤としては、鉄系の自力反応型酸素吸着剤、生石灰等が好ましく、なかでも、鉄系の自力反応型酸素吸着剤が好ましい。

工程（１）を実質的に酸素の不存在下で実施する場合、本開示の製造方法は、工程（１）の前に、上記高分子量ＰＴＦＥ及び上記遊離水素原子を生成し得る物質を、実質的に酸素の不存在下で密閉容器に投入する工程を含むことが好ましい。
上記高分子量ＰＴＦＥを実質的に酸素の不存在下で密閉容器に投入する方法としては、例えば、上記密閉容器内に上記高分子量ＰＴＦＥ及び上記遊離水素原子を生成し得る物質を設置した後、必要に応じて酸素吸着剤を上記密閉容器に投入の上、上記密閉容器内を真空脱気する方法、上記高分子量ＰＴＦＥ及び上記遊離水素原子を生成し得る物質と、不活性ガス及び酸素吸着剤からなる群より選択される少なくとも１種とを上記密閉容器に投入する方法、それらの方法の併用等が挙げられる。

より具体的には、上記密閉容器内に上記高分子量ＰＴＦＥ及び上記遊離水素原子を生成し得る物質を設置した後、上記密閉容器内を真空ポンプにより減圧環境下へと脱気し、上記密閉容器を密閉する減圧脱気方法、上記密閉容器内に上記高分子量ＰＴＦＥ及び上記遊離水素原子を生成し得る物質を設置し、必要に応じて上記密閉容器内を真空引きした後、上記密閉容器内を上記不活性ガスで満たすガス置換方法、更には、減圧脱気方法とガス置換方法等を繰り返すことで実質的な酸素不在にする方法、あるいは、上記密閉容器内に上記高分子量ＰＴＦＥ及び上記遊離水素原子を生成し得る物質を設置し、上記密閉容器内に上記不活性ガスを流通させ続けることで酸素濃度を徐々に低下させ所望する実質的に酸素の不存在の環境にするガス流通置換方法等が挙げられる。
また、上記酸素吸着剤を使用する場合は、空気中で上記密閉容器内に上記高分子量ＰＴＦＥ、上記遊離水素原子を生成し得る物質及び上記酸素吸着剤を設置した後、上記密閉容器を密閉する方法、上記密閉容器内に上記高分子量ＰＴＦＥ、上記遊離水素原子を生成し得る物質及び上記酸素吸着剤を設置した後、上記密閉容器内を真空脱気し、上記密閉容器を密閉する方法、上記密閉容器内に上記高分子量ＰＴＦＥ、上記遊離水素原子を生成し得る物質及び上記酸素吸着剤を設置し、必要に応じて上記密閉容器内を真空脱気した後、上記密閉容器内を上記不活性ガスで満たす方法等が挙げられる。

工程（１）は、閉鎖系の密閉容器内であれば、酸素の存在下、例えば大気下で実施してもよい。この場合、上記密閉容器内の酸素濃度は２．０体積％以上であってよい。酸素の存在下でも炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の生成を抑制することができる理由は明確ではないが、閉鎖系の密閉容器内では、放射線照射時に上記遊離水素原子を生成し得る物質の一部が酸素と反応することにより酸素が消費され、上記主鎖ラジカル又は末端ラジカルと酸素との反応が抑制されることによると推測される。
この態様における密閉容器としては、工程（１）を実質的に酸素の不存在下で実施する場合に使用することが可能な密閉容器と同様のものを使用することができる。上記遊離水素原子を生成し得る物質による酸素の消費量を考慮して上記密閉容器の大きさ及び内容物量を決定することが好ましい。

含ハロゲン材料を添加して工程（１）を実施してもよい。この場合の含ハロゲン材料は、固体、液体、気体を問わない。含ハロゲン材料としては、フッ素系オイルが好ましい。

工程（１）は、実質的に、炭素数が１～２０の飽和炭化水素、炭素数が１～１８の飽和炭化水素のクロロ化物、炭素数が１～１２の一価の飽和アルコール、及び、炭素数が１～１３の飽和モノカルボン酸の不存在下で実施することが好ましい。
工程（１）は、実質的に、ｎ－ヘキサン、３－メチルペンタン、及び、エタノールの不存在下で実施することも好ましい。
上記物質が実質的に不存在であるとは、上記物質の存在量（合計量）が、上記高分子量ＰＴＦＥに対し０．１質量％未満であることを意味する。上記存在量は、０．００１質量％未満であることが好ましく、０．０００５質量％以下であることが好ましく、０．０００１質量％以下であることがより好ましい。下限は特に限定されないが、検出限界未満の量であってよい。

工程（２）では、上記照射により生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルの少なくとも一部を失活させることにより、上記低分子量ＰＴＦＥを得る。
高分子量ＰＴＦＥに放射線を照射すると、ＰＴＦＥの主鎖ラジカル（アルキルラジカル）及び末端ラジカルが生成する。ここで、上記主鎖ラジカルとは、ＰＴＦＥの主鎖において、末端以外の部分に生成するラジカルをいい、上記末端ラジカルとは、ＰＴＦＥの主鎖の末端に生成するラジカルをいう。なお、上記主鎖ラジカル及び末端ラジカルは、上記遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で放射線を照射した直後に生じているラジカルであり、これらが酸素と反応することで生じる過酸化ラジカルとは異なる。
これらのラジカル、特に主鎖の末端に生成するラジカル（末端ラジカル）が酸素と反応すると、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩が生成することが、本発明者らにより見出された。
工程（２）では、生成捕捉される上記ラジカル、特に、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩の生成に寄与する末端ラジカルの少なくとも一部を失活させることにより、上記パーフルオロカルボン酸又はその塩をほとんど生成させることなく上記低分子量ＰＴＦＥを得ることができる。

工程（１）において、上記遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ＰＴＦＥに放射線を照射すると、上記高分子量ＰＴＦＥが低分子量化されて上記主鎖ラジカル及び末端ラジカルが生成するとともに、上記物質から遊離水素原子が生成する。そして、上記主鎖ラジカル及び末端ラジカルが上記遊離水素原子と反応し、上記遊離水素原子に捕捉されることにより、上記主鎖ラジカル及び末端ラジカルが失活する。したがって、本開示の製造方法においては、工程（１）の実施により、工程（２）も実施されることになる。このため、上記主鎖ラジカル及び末端ラジカルを失活させる工程を照射と別の設備で行う必要がなく、当該設備による製造コストを削減することができる。
ただし、上記主鎖ラジカル及び末端ラジカルの失活を一層促進するために、工程（２）において、後述する工程（２ａ）～（２ｃ）の少なくとも１の工程を実施してもよく、工程（２ａ）及び（２ｂ）の少なくとも１の工程を実施してもよく、工程（２ａ）を実施してもよい。これらの工程を実施する場合であっても、比較的穏やかな条件で実施すればよいので、製造コストを削減することができる。
また、工程（１）と工程（２）を繰り返して複数回実施してもよい。ただし、複数回実施する場合、特に末端ラジカルを失活させる工程である工程（２）で終了することが必須である。

工程（２）は、実質的に酸素の不存在下で実施することが好ましい。また、工程（１）の開始から工程（２）の終了までの期間中、実質的に酸素が不存在の状態を維持することが好ましい。
実質的に酸素が不存在である状態については上述したとおりであり、工程を実施する雰囲気中の酸素濃度が２．０体積％未満であることが必要であり、１．０体積％以下であることが好ましく、１．０体積％未満であることがより好ましく、０．５体積％以下であることが更に好ましく、０．１体積％以下であることが更により好ましく、０．０１体積％以下であることが特に好ましい。上記酸素濃度の下限は、検出限界未満の値であってもよい。

産業プロセス上は、工程（１）における環境を保持した状態で工程（２）を実行することが好ましい。

工程（２）は、実質的に酸素が存在しない空間内で実施することが好ましい。
工程（２）は、工程（１）と同じ空間内で実施してもよく、異なる空間内で実施してもよい。
上記低分子量化物と酸素との接触を確実に防止する点と、工程の簡便性の点から、上記低分子量化物を、工程（１）を実施した空間内に保持したまま工程（２）に供することがより好ましい。
また、工程（２）は、工程（１）と一連の工程として連続して実施してもよい。
工程（２）を工程（１）と異なる空間内で実施する場合は、工程（１）で得られた低分子量化物を実質的に酸素の不存在下で、工程（２）を実施する空間に移し替えてもよいし、後述するように、所定の条件下、大気中で移し替えてもよい。

工程（１）を密閉容器内で酸素の存在下に実施する場合は、得られた低分子量化物を、工程（１）を実施した密閉容器内に保持したまま工程（２）に供することが好ましい。

工程（２）においては、例えば、工程（１）で得られた低分子量化物を、ＰＴＦＥの室温転移温度（β_１分散温度である１９℃）以上の温度で加温又は加熱処理することにより、上記低分子量ＰＴＦＥを得る工程（２ａ）（以下、加速失活プロセスともいう。）を実施することが好ましい。この態様によれば、比較的短時間で上記ラジカルを失活させることができる。
上記低分子量化物は、工程（１）における上記放射線の照射による上記高分子量ＰＴＦＥの主鎖の切断によって生じる物質であり、上記照射により生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルを有している。
ＰＴＦＥに生成捕捉された主鎖上のアルキルラジカルと末端ラジカルの室温でのラジカル失活の半減時間は、１０００時間（文献Ｒａｄｉａｔ． Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ ５０ （１９９７） ｐｐ６０１－６０６）であり、加熱することによりラジカル失活は、促進される。

工程（２ａ）は、実質的に酸素の不存在下で実施することが好ましい。実質的に酸素が不存在である状態については、上述したとおりである。

工程（２ａ）における加温又は加熱処理は、ＰＴＦＥの室温転移温度（β_１分散温度）以上の温度で実施する。ＰＴＦＥの室温転移温度（β_１分散温度）は１９℃である。
上記加温又は加熱処理の温度としては、ＰＴＦＥの室温転移温度（β_２分散温度）（３０℃）以上が好ましく、７０℃以上がより好ましく、１００℃以上が更に好ましく、１４０℃以上が特に好ましく、また、３１０℃以下が好ましく、３００℃以下がより好ましく、２６０℃以下が更に好ましい。
ただし、上述のとおり比較的穏やかな条件を採用することも可能であるため、上記加温又は加熱処理の温度は、例えば１５０℃未満であってもよく、１００℃以下であってもよい。
上記加温又は加熱時の温度は、工程を実施する雰囲気の温度を、熱電対、白金抵抗体等により計測する方法、試料表面又は試料内部の温度を熱電対、白金抵抗体等により接触式で計測する方法、あるいは試料表面からの赤外放射を赤外放射温度計により計測する方法等により簡便に測定できる。
工程（２ａ）継続中に試料温度が－８０℃から３４０℃の間で変化してもよい。

上記加温又は加熱処理の時間は、加温又は加熱の温度にもよるが、例えば、１分以上であることが好ましく、１０分以上であることがより好ましく、１時間以上であることが更に好ましく、４時間以上であることが特に好ましく、また、１００時間未満であることが好ましく、５０時間以下であることがより好ましく、３０時間以下であることが更に好ましい。
上記加温又は加熱処理の時間は、試料全体が熱平衡状態となってからの時間である。
上記の時間範囲は、例えば、１５０℃での熱処理において、特に好適に採用できる。

上記加温又は加熱処理の方法は特に限定されないが、人工的に熱を加えることが可能な設備を用いる方法が好ましく、例えば、以下の熱処理装置を用いる方法が挙げられる。例えば、箱形乾燥器、バンド乾燥器、トンネル乾燥器、噴出流乾燥器、移動層乾燥器、回転乾燥器、流動層乾燥機、気流乾燥器、箱型乾燥器、円盤乾燥器、円筒型撹拌乾燥器、逆円錐型撹拌乾燥器、マイクロウェーブ装置、真空熱処理装置、箱型電気炉、熱風循環装置、フラッシュ乾燥機、振動乾燥機、ベルト乾燥機、押出乾燥機、スプレードライヤー、赤外線ヒータ等がある。

上記加温又は加熱処理は、例えば、所定の空間（例えば、工程（１）で使用した密閉容器、上記低分子量化物を移し替えた密閉容器）内に保持された上記低分子量化物を加熱炉内に設置して、加熱炉内を所望の温度まで上昇させた後、所望の時間放置することにより行うことができる。
工程（２ａ）を実施する場合は、密閉容器として、内外に熱の移動が可能な容器を使用することが好ましい。上記密閉容器は、上記加温又は加熱に耐える程度の耐熱性を有する容器であることが好ましいが、上述のとおり、工程（２ａ）を比較的穏やかな条件で実施してもよいので、高度な耐熱性は必須ではない。
上記密閉容器の素材としては、物理的な応力による密閉が可能なエチレン－プロピレンゴム、テトラフルオロエチレン－プロピレンゴム、クロロプレンゴム、ポリエステルエラストマー等のラバー素材の他、熱融着やエポキシ系等の接着剤による密閉シールが可能な素材が好ましい。その中でも熱融着による密閉が可能である熱可塑性有機材料が特に好ましい。なかでも、上記加温又は加熱処理に耐えられる点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル類、ポリアミド（ＰＡ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、熱可塑性ポリイミド（ＴＰＩ）、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）、ポリビニリデンフルオライド、エチレン－テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン－テトラフルオロエチレン共重合体（ＦＥＰ）、パーフルオロアルコキシアルカン（ＰＦＡ）等が好ましい。また、これらの材料は、２層、３層等の多層膜状材料であってもよく、更には、アルミホイル等と組み合わせた有機及び無機の複合多層膜状材料であってもよい。

工程（２ａ）を、水の存在下に実施することもできる。上記水は、水蒸気であることが好ましい。上記水は、上記高分子量ＰＴＦＥに対し、２０質量％未満であることが好ましく、１５質量％未満であることがより好ましく、１０質量％未満であることが更に好ましく、また、０．００００１質量％以上であることが好ましく、０．０００１質量％以上であることがより好ましい。

工程（２）においては、また、工程（１）で得られた低分子量化物を５分間以上保持することにより、低分子量ＰＴＦＥを得る工程（２ｂ）（以下、自然失活プロセスともいう。）を実施してもよい。この態様においては、上記低分子量化物を特定の時間保持することにより、上記ラジカル（特に末端ラジカル）を失活させるので、熱処理装置等の人工的に熱を加えることが可能な設備を使用することなく、上記ラジカルを失活させることができる。
上記低分子量化物については、上述したとおりである。
工程（２ｂ）は、人工的に温度を制御して保持してもよいが、人工的に熱を加えることが可能な設備を使用せずに実施することが好ましい。
工程（２ｂ）を実施した後、工程（２ａ）を実施してもよい。

工程（２ｂ）は、実質的に酸素の不存在下で実施する（上記低分子量化物を、実質的に酸素が不存在である環境下に特定時間保持する）ことが好ましい。実質的に酸素が不存在である状態については、上述したとおりである。

工程（２ｂ）において、上記低分子量化物を保持する環境の温度は、人工的に熱を加えることが可能な設備を使用することなく実現可能な温度であることが好ましい。ラジカルの失活にかかる時間を短縮できる点で、上記温度はＰＴＦＥの室温転移温度（β_１分散温度）（１９℃）以上であることが好ましく、ＰＴＦＥの室温転移温度（β_２分散温度）（３０℃）以上であることが好ましく、４０℃以上であることがより好ましい。
また、上記温度は、１００℃未満であってもよく、７０℃未満であってもよい。
工程（２ｂ）継続中に試料温度が－２０℃から１００℃の間で変化してもよい。

工程（２ｂ）において、上記低分子量化物を保持する時間は、５分間以上である。工程（１）と工程（２ｂ）とを連続で実施する場合、上記時間は、上記照射が終了した時点からの時間を表すものとする。
上記工程（２ｂ）における上記時間は、１０分間以上であることが好ましく、１時間以上であることがより好ましく、１０時間以上であることが更に好ましく、１日間以上であることが更により好ましく、５０時間以上であることが更により好ましく、１００時間以上であることが更により好ましく、２００時間以上であることが特に好ましい。

工程（２ｂ）を実施する方法としては、例えば、工程（１）で得られた上記低分子量化物を工程（１）で使用した空間内に保持したまま、上記の時間放置する方法が挙げられる。
上記放置は、例えば、倉庫、温室等において行うことができる。
ここで、上記温室とは、採光ガラスにより構築されたサンルーム等の建屋、農業用ビニールハウス等であって、積極的に加温・調温する設備が付帯していない建屋を含む。

工程（２）においては、また、工程（１）で得られた低分子量化物を、ラジカル捕捉能を有する物質と反応させる工程（２ｃ）を実施することもできる。この態様によれば、加温又は加熱処理を実施しなくとも、比較的短時間で上記ラジカルを失活させることができる。加温又は加熱処理を併せて実施することもできる。
ただし、工程（１）において使用する遊離水素原子を生成し得る物質から生成される遊離水素原子がラジカル捕捉能を有することから、本開示の製造方法においては、工程（２ｃ）を行わないことも好ましい。
なお、工程（２ｃ）を実施した後に工程（２ａ）を実施してもよく、工程（２ｃ）と工程（２ａ）を同時に実施してもよい。
上記低分子量化物については、上述したとおりである。

工程（２ｃ）は、実質的に酸素の不存在下で実施することが好ましい。実質的に酸素が不存在である状態については、上述したとおりである。

上記ラジカル捕捉能を有する物質は、工程（１）で生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルを失活させ得る物質である。上記ラジカル捕捉能を有する物質は、ラジカル捕捉能を有するガスであってもよい。上記ガスは、２５℃、１気圧で気体であることが必要である。
上記ラジカル捕捉能を有するガスとしては、水素ガス及びハロゲンガスが好ましい。
上記ハロゲンガスとしては、フッ素ガス、塩素ガス、臭素ガス、ヨウ素ガス等が挙げられる。
また、上記ラジカル捕捉能を有する物質として、他に、アルカンガス、アルケンガス、アルキンガス、フルオロアルカン、テトラフルオロエチレン、一酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、水、アミン類、アルコール類、ケトン類等も挙げられる。
上記ラジカル捕捉能を有する物質は、遊離水素原子を生成し得る物質であってもよい。上記遊離水素原子を生成し得る物質の具体例は、上述したとおりである。
上記ラジカル捕捉能を有する物質は、工程（１）で使用される遊離水素原子を生成し得る物質とは異なる物質であってもよい。

上記アルカンガスとしては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等が挙げられる。
上記アルケンガスとしては、エチレン、プロピレン、ブテン等が挙げられる。
上記アルキンガスとしては、アセチレン、モノビニルアセチレン、ジビニルアセチレン等が挙げられる。
上記フルオロアルカンとしては、ジフロロメタン、トリフロロメタン、１，１，１－トリフルオロエタン、１，１，１，２－テトラフルオロエタン等が挙げられる。
上記ラジカル補足能を有するガスとしての水は、水蒸気であってよい。例えば液体の水を加熱したり、超音波で処理したりすることにより発生する水蒸気であってもよいが、これに限定されない。
上記水としては、イオン交換水、蒸留水、硬水、軟水、水道水等が挙げられるが、低分子量ポリテトラフルオロエチレンに不純物が混入しにくい点から、イオン交換水、蒸留水が好ましい。
上記水は、酸素吸着剤から発生した水であってもよく、シリカゲルに吸着させた水分が熱により蒸発した際の水であってもよい。
上記アミン類としては、アンモニア等が挙げられる。
上記アルコール類としては、メタノール、エタノール、イソプロパノールやアルコール誘導体等が挙げられる。
上記ケトン類としては、アセトン、ベンゾフェノン等が挙げられる。上記ラジカル補足能を有するガスは、１種又は２種以上を用いることができる。
また、上記のガスを、窒素、二酸化炭素等の不活性ガスと混合して用いてもよい。

上記ラジカル補足能を有するガスは、水素ガス、ハロゲンガス、アルカンガス、アルケンガス、アルキンガス、フルオロアルカン、テトラフルオロエチレン、一酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、水、アミン類、アルコール類及びケトン類からなる群より選択される少なくとも１種であることも好ましく、水素ガス、フッ素ガス、塩素ガス、臭素ガス、ヨウ素ガス、アルカンガス、アルケンガス、アルキンガス、フルオロアルカン、テトラフルオロエチレン、一酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、水、アミン類、アルコール類及びケトン類からなる群より選択される少なくとも１種であることも好ましく、水素ガス及び水からなる群より選択される少なくとも１種であることも好ましく、水素ガスであることも好ましく、水であることも好ましい。

工程（２ｃ）における反応は、例えば、上記低分子量化物が保持された空間（例えば、工程（１）で使用した密閉容器）内に上記ラジカル捕捉能を有する物質を導入、あるいは、上記空間内を真空ポンプにより脱気後、上記ラジカル捕捉能を有する物質を導入し、上記低分子量化物と上記ラジカル捕捉能を有する物質とを接触させることにより、実施することができる。
上記ラジカル捕捉能を有する物質は、上記空間内で濃度平衡後、バルブ等により閉栓し導入をやめてもよいし、常時流通させてもよい。

また、工程（１）を実施する密閉容器として、水素原子を含む材料からなる密閉容器を用いた場合、放射線照射時に、当該密閉容器から、水素ガスを主成分とする放射線分解ガスが発生する。当該分解ガスを工程（２ｃ）のラジカル捕捉能を有する物質として用いてもよい。また、ハロゲン原子を含む材料からなる密閉容器を用いた場合、水素ガスの他に、ハロゲンガスも放射線分解ガスとして発生する。当該分解ガスを工程（２ｃ）のラジカル捕捉能を有する物質として用いてもよい。
上記水素原子を含む材料としては、水素原子を含む有機材料が好ましく、エチレン－プロピレンゴム、ポリエステルエラストマー等の水素原子を含むラバー素材；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル類、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、熱可塑性ポリイミド（ＴＰＩ）、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）等の水素原子を含む熱可塑性有機材料等が挙げられる。
上記ハロゲン原子を含む材料としては、ハロゲン原子を含む有機材料が好ましく、テトラフルオロエチレン－プロピレンゴム、クロロプレンゴムのハロゲン原子を含むラバー素材；ポリビニリデンフルオライド、エチレン－テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン－テトラフルオロエチレン共重体（ＦＥＰ）、パーフルオロアルコキシアルカン（ＰＦＡ）等のハロゲン原子を含む熱可塑性有機材料等が挙げられる。

上記ラジカル捕捉能を有する物質として水素ガスを使用する場合、得られる低分子量ＰＴＦＥの内部に水素原子を含む分子構造や二重結合を含む分子鎖が形成され、当該低分子量ＰＴＦＥと水素原子を含む異種の有機物質との相溶性が向上する。

導入する上記ラジカル捕捉能を有する物質の濃度は、０．１体積％以上あればよい。好ましくは、３体積％以上、より好ましくは１０体積％以上である。上記ラジカル捕捉能を有する物質の濃度が増加すると、ラジカル失活の時間が短くなる。
また実質的には、工程（１）において、照射直後に生成・捕捉される主鎖ラジカル（アルキルラジカル）及び末端ラジカルのグラム当たりの総数、あるいはそれらが大気に暴露され、酸素と反応して生成される過酸化ラジカルのグラム当たりの総数に対して、ラジカル捕捉能を有する原子又は分子の数が１％以上、好ましくは５％以上、より好ましくは１０％以上存在すればよい。

上記反応の温度としては、ＰＴＦＥのγ分散温度（－８０℃近傍）以上が好ましく、β_１分散温度（１９℃）以上がより好ましく、２５℃以上が更に好ましく、β_２分散温度（３０℃）以上が特に好ましい。
工程（２ｃ）継続中に試料温度が－８０℃から３８０℃の間で変化してもよい。

上記反応の時間としては、上記ラジカル捕捉能を有する物質が反応空間内で濃度平衡に到達してから３０分以上が好ましく、１時間以上がより好ましい。

工程（２ａ）、（２ｂ）及び（２ｃ）は、それぞれを単独で実施してもよいし、それらを任意に組み合わせて実施してもよい。
工程（２ａ）、（２ｂ）及び（２ｃ）のそれぞれは、工程（１）の後に実施することが好ましく、工程（１）の後に連続して実施することも好ましい。

工程（２）において、上記末端ラジカルが失活したことは、電子スピン共鳴装置（ＥＳＲ）による室温での測定によりｔｒｉｐｌｅｔの信号の有無により確認することができる。上記ｔｒｉｐｌｅｔの信号が室温（２５℃）測定で明瞭に検出できない場合、上記末端ラジカルが失活したと判断する。工程（２）においては、上記末端ラジカルの失活を、ＥＳＲによる室温（２５℃）での測定によりｔｒｉｐｌｅｔの信号が明瞭に検出できなくなる程度に実施することが好ましい。
同様に上記主鎖ラジカルの失活は、電子スピン共鳴装置（ＥＳＲ）による室温での測定によりｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔの信号強度の減少あるいは信号の有無により確認することができる。上記ｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔの信号が明瞭に検出できない場合、上記主鎖ラジカルが失活したと判断する。工程（２）においては、上記主鎖ラジカルの失活を、ＥＳＲによる室温（２５℃）での測定によりｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔの信号が明瞭に検出できなくなる程度に実施することが好ましい。
一方、残存ラジカルが大気中の酸素と反応して、主鎖上の過酸化ラジカル（アルキル型過酸化ラジカル）、末端の過酸化ラジカル（末端型過酸化ラジカル）が形成されている場合の失活の確認は、それらの過酸化ラジカルに対応する信号の強度の減少あるいは信号の有無により行うことができる。ＥＳＲ装置により測定されるスペクトルの対称（ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ）・非対称性（ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ）で、主鎖型（ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ）か末端型（ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ）の過酸化ラジカルかを判別できる。室温測定で判別しにくい場合、温度を下げて７７Ｋの液体窒素温度での測定を行うことにより明瞭に判別できる。
上記アルキル型過酸化ラジカル及び末端型過酸化ラジカルは、上述したＥＳＲ測定によりｔｒｉｐｌｅｔ及びｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔ信号に基づいて主鎖ラジカル及び末端ラジカルの失活を確認した後、低分子量ＰＴＦＥ試料を大気暴露した際に、ＥＳＲ装置の検出感度以下の試料中に僅かに残存する主鎖ラジカル及び末端ラジカルが大気中の酸素と反応することにより生成すると考えられる。また、従来のように、酸素の存在下で照射を行った場合にも、上記アルキル型過酸化ラジカル及び末端型過酸化ラジカルが生成するが、観察されるラジカルは末端型過酸化ラジカルが大部分である。
Ｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔやｔｒｉｐｌｅｔのＥＳＲ信号は、掃引幅が過酸化ラジカルに比べ広く、ベースラインとのＳ／Ｎ比が過酸化ラジカルよりも悪くなるため、ｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔやｔｒｉｐｌｅｔのＥＳＲ信号が明瞭に観察できない場合であっても、大気暴露により過酸化ラジカルに変化させた場合、ＥＳＲ信号が検出されることがある。

工程（２）において、工程（２ａ）～（２ｃ）の少なくとも１の工程（工程（２’）ともいう）を実施する場合は、工程（１）の終了から工程（２’）の開始までの期間中、工程（１）で得られた低分子量化物を酸素と実質的に反応させないことが好ましい。これにより、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩の発生量を一層低減することができる。ここでいう上記低分子量化物と酸素との反応は、上記低分子量化物中の主鎖ラジカル及び／又は末端ラジカルと酸素との反応、特に、上記末端ラジカルと酸素との反応を意味する。
上記低分子量化物を酸素と実質的に反応させないとは、以下に説明するように、上記低分子量化物と接触し得る酸素の存在量を極少量に制御するか、又は、上記低分子量化物と酸素との接触を、極めて限定された条件下で行うことを意味する。

本開示の製造方法においては、工程（１）の開始から工程（２’）の終了までの期間中、実質的に酸素が不存在の状態を維持すること、すなわち、工程（１）の開始から工程（２’）の終了までの期間中、雰囲気中の酸素濃度を２．０体積％未満に維持することが好ましく、１．０体積％以下に維持することがより好ましく、１．０体積％未満に維持することが更に好ましく、０．５体積％以下に維持することが更により好ましく、０．１体積％以下に維持することが更により好ましく、０．０１体積％以下に維持することが特に好ましい。上記酸素濃度の下限は、検出限界未満の値であってもよい。これにより、放射線の照射によって生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルと酸素との反応を一層抑制することができ、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩の発生量を一層低減することができる。

工程（１）の開始から工程（２’）の終了までの期間中、実質的に酸素が不存在の状態を維持する方法としては、例えば、工程（１）及び工程（２）を同じ密閉容器中で実施し、かつ、工程（１）の開始から工程（２’）の終了までの期間中、当該密閉容器を開封しない方法、定期的に空間内を真空ポンプ等により脱気することにより維持する方法、定期的に空間内に不活性ガスを流通させる方法、密閉容器内を定期的に真空ポンプ等により脱気し、不活性ガスを流通させることを繰り返す方法等が挙げられる。

また、工程（１）を実施した密閉容器を実質的に酸素が不存在の空間内で開封し、同空間内で、工程（２’）で使用する別の密閉容器に低分子量化物を移し替える方法も挙げられる。当該方法としては、例えば、工程（１）を実施した密閉容器を不活性ガス等が充填されたグローブボックス等の容器内で開封し、同空間内で、工程（２’）で使用する別の密閉容器に低分子量化物を移し替えて酸素不在の状態を維持する方法等が挙げられる。

本開示の製造方法においては、工程（１）及び工程（２’）を互いに異なる空間内（好ましくは、互いに異なる密閉容器内）で実施してもよい。
この態様によれば、工程（１）及び工程（２’）のそれぞれにおいて最適な空間（密閉容器）を採用することが可能となる。特に、工程（２’）において、加温、加熱、減圧等をより効果的に行うことができる耐熱密閉容器や耐圧密閉容器を採用することが可能となる。その結果、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩の発生量を一層容易に低減することができる。上記態様は、工程（２’）が工程（２ａ）である場合に、特に有用である。

本開示の製造方法は、工程（１）で得られた低分子量化物を、上記低分子量化物と酸素とが実質的に反応しない条件下で、工程（１）を実施した空間内から工程（２’）を実施する空間内に移し替える工程を含んでもよい。
上記低分子量化物の移し替えは、実質的に酸素の不存在下で実施することが好ましい。しかし、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩を誘起しやすい上記低分子量化物の末端ラジカルと酸素とが実質的に反応しない条件下であれば、大気中で実施することもできる。産業プロセス上は、大気中で実施する方が有利である。

上記低分子量化物中の末端ラジカルと酸素とが実質的に反応しない条件としては、例えば、上記低分子量化物と大気との接触時間を１８０分以下とすることが挙げられ、６０分以下とすることが好ましい。上記接触時間の下限は１秒であってよい。
また、上記低分子量化物と接触させる大気の温度を３０℃以下とすることも挙げられ、１９℃以下とすることが好ましい。上記温度の下限は－１９６℃であってもよい。

また、本開示の製造方法において、工程（２’）を複数回繰り返す場合や、工程（２’）として複数の工程（例えば、工程（２ａ）、（２ｂ）等）を実施する場合には、１の工程と次の工程との間に、上記低分子量化物を大気暴露（例えば、大気下での他の容器への移し替え）させてもよい。工程間に大気暴露（大気開放）を行うことができれば、産業プロセス上有利である。上記ラジカルをある程度失活させた後（特に、工程（１）のあと工程（２ｂ）を行うことで、上記ラジカルをある程度失活させた後）であれば、大気暴露しても、直ちに炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩が増加することにはならない。
上記態様においては、工程（２ｂ）を実施した後に、大気暴露を行い、次いで更に工程（２’）（好ましくは工程（２ａ））を行うことが特に好ましい。

本開示の製造方法は、工程（１）で得られた低分子量化物を、工程（２ｂ）として実質的に酸素不在の空間内において、５分間以上、１９℃以上の温度で保持することで、試料中の末端ラジカルの少なくとも一部を失活させた後、工程（１）及び（２ｂ）を実施した空間内から工程（２’）を実施する実質的に酸素不在の空間内に大気中で移し替える工程を含むことが好ましい。
本開示の製造方法は、工程（１）で得られた低分子量化物を、工程（２ｂ）として実質的に酸素不在の空間内において、上記低分子量化物を１時間以上、１９℃以上の温度で保持することで、試料中の末端ラジカルの少なくとも一部を失活させた後、工程（１）及び（２ｂ）を実施した空間内から工程（２’）を実施する実質的に酸素不在の空間内に大気中で移し替える工程を含むことがより好ましい。
本開示の製造方法は、工程（１）で得られた低分子量化物を、工程（２ｂ）として実質的に酸素不在の空間内において、１日間以上、１９℃以上の温度で保持することで、試料中の末端ラジカルの少なくとも一部を失活させた後、工程（１）及び（２ｂ）を実施した空間内から工程（２’）を実施する実質的に酸素不在の空間内に大気中で移し替える工程を含むことが更に好ましい。
上記低分子量化物を実質的に酸素不在の空間内において１９℃以上の温度で保持する時間（工程（２ｂ）の時間）が長いほど、失活する末端ラジカルの割合が多くなる。その結果、上記低分子量化物を大気暴露できる時間が長くなる。

上述した、工程（２’）を複数回繰り返す場合や、工程（２’）として複数の工程を実施する場合に工程間に行う大気暴露の時間は、例えば、１０日以下とすることができ、７日以下とすることが好ましく、３日以下とすることも好ましい。上記時間の下限は１秒であってもよく、５分であってもよい。
また、上記低分子量化物と接触させる大気の温度は４０℃以下とすることができ、３０℃以下とすることが好ましく、１９℃以下とすることがより好ましい。上記温度の下限は－１９６℃であってもよい。

本開示の製造方法においては、上述した工程（１）及び（２）を同時に実施してもよく、工程（１）及び（２’）を同時に実施してもよい。
例えば、上記工程（１）と工程（２ａ）とを同時に行ってもよい（複合工程（Ａ））。工程（１）と工程（２ａ）とを同時に実施する方法としては、例えば、高分子量ＰＴＦＥ及び上記遊離水素原子を生成し得る物質を、好ましくは実質的に酸素の不存在下で密閉容器に投入し、次いで、上記高分子量ＰＴＦＥを加温又は加熱した状態で、上記高分子量ＰＴＦＥに放射線を照射する方法が挙げられる。

複合工程（Ａ）の具体的な実施方法としては、高分子量ＰＴＦＥ及び上記遊離水素原子を生成し得る物質を、好ましくは実質的に酸素の不存在下で密閉容器に投入し、次いで、加温又は加熱機能を有する外部ユニットを用いて上記密閉容器を加温又は加熱しながら、上記密閉容器の外側から上記高分子量ＰＴＦＥにγ線、Ｘ線又は電子線を照射する方法等が挙げられる。
上記γ線としては、例えば、コバルト６０から発生させたγ線を用いることができる。
上記Ｘ線としては、例えば、電子加速器からの電子線をターゲットに照射して発生させたＸ線を用いることができる。あるいは、線形加速器からの高エネルギー電子線にレーザー光を衝突させ、逆コンプトン散乱（レーザーコンプトン散乱）により発生させた準単色性のＸ線を用いることができる。更には、シンクロトロン放射によってＸ線を発生させることができるほか、粒子加速器の下段にアンジュレータやウィグラーを設置してＸ線を発生させてもよい。
物質透過力に優れるγ線やＸ線を用いることで、上記密閉容器の全周部あるいは外周部、上下部、左右部、前後部等の任意の位置に上記外部ユニットを配置できる。γ線やＸ線の透過を容易にする観点からは、照射面側に上記外部ユニットを配置しないことが好ましい。
上記γ線又はＸ線に代えて、物質透過力がγ線やＸ線に劣る電子線を用いることもできる。この場合、電子線の照射される面側以外に上記外部ユニットを配置することが好ましい。
また、密閉容器自体に加温又は加熱機構を組み込んでもよい。

上記複合工程（Ａ）において、加温又は加熱の温度としては、７０℃以上がより好ましく、１００℃以上が更に好ましく、また、３１０℃以下が好ましい。
上記試料を加温又は加熱する方法は、特に限定されないが、放射線のエネルギーを熱エネルギーに変換する、ビームヒーティング法であってもよい。ビームヒーティング法を用いる場合、電子加速器からの電子線や、電子加速器からの電子線をターゲットに照射して発生させたＸ線を放射線として用いることが好ましい。密閉容器の全周部あるいは外周部、上下部、左右部前後部等に断熱材等を配置してもよい。放射線の透過を容易にする観点からは、照射面側に断熱材等を配置しないことが好ましい。

また、上記工程（１）と工程（２ｃ）とを同時に行ってもよい（複合工程（Ｃ））。
ただし、工程（１）において使用する遊離水素原子を生成し得る物質から生成される遊離水素原子がラジカル捕捉能を有することから、本開示の製造方法においては、複合工程（Ｃ）を行わないことも好ましい。
工程（１）と工程（２ｃ）とを同時に実施する方法としては、例えば、高分子量ＰＴＦＥ及び遊離水素原子を生成し得る物質を、好ましくは実質的に酸素の不存在下で密閉容器に投入し、次いで密封容器内に上記ラジカル捕捉能を有するガスを封入した状態で、上記高分子量ＰＴＦＥに放射線を照射する方法が挙げられる。

複合工程（Ｃ）の具体的な実施方法としては、高分子量ＰＴＦＥ及び遊離水素原子を生成し得る物質を実質的に酸素の不存在下で密閉容器に投入し、次いで、３％以上の濃度の上記ラジカル捕捉能を有するガスを上記密閉容器に封入あるいは流通させながら、上記密閉容器の外側から上記高分子量ＰＴＦＥにγ線、Ｘ線又は電子線を照射する方法等が挙げられる。
上記γ線としては、例えば、コバルト６０から発生させたγ線を用いることができる。
上記Ｘ線としては、例えば、電子加速器からの電子線をターゲットに照射して発生させたＸ線を用いることができる。あるいは、線形加速器からの高エネルギー電子線にレーザー光を衝突させ、逆コンプトン散乱（レーザーコンプトン散乱）により発生させた準単色性のＸ線を用いることができる。更には、シンクロトロン放射によってＸ線を発生させることができるほか、粒子加速器の下段にアンジュレータやウィグラーを設置してＸ線を発生させてもよい。
物質透過力に優れるγ線やＸ線を用いることで、上記密閉容器の全周部あるいは外周部、上下部、左右部、前後部等の任意の位置に上記外部ユニットを配置できる。γ線やＸ線の透過を容易にする観点からは、照射面側に上記外部ユニットを配置しないことが好ましい。
上記γ線又はＸ線に代えて、物質透過力がγ線やＸ線に劣る電子線を用いることもできる。この場合、電子線の照射される面側以外に上記外部ユニットを配置することが好ましい。
また、密閉容器自体に加温又は加熱機構を組み込んでもよい。

上記複合工程（Ｃ）において、加温又は加熱を行ってもよい。加温又は加熱温度としては、１９℃以上が好ましく、３０℃以上がより好ましく、７０℃以上が更に好ましく、また、３１０℃以下が好ましい。
上記試料を加温又は加熱する方法は、特に限定されないが、放射線のエネルギーを熱エネルギーに変換する、ビームヒーティング法であってもよい。ビームヒーティング法を用いる場合、電子加速器からの電子線や、電子加速器からの電子線をターゲットに照射して発生させたＸ線を放射線として用いることが好ましい。密閉容器の全周部あるいは外周部、上下部、左右部前後部等に断熱材等を配置してもよい。放射線の透過を容易にする観点からは、照射面側に断熱材等を配置しないことが好ましい。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、放射線照射時の試料温度がポリテトラフルオロエチレンの室温転移温度（β_１分散温度）以上、３２０℃以下、線量率が０．１ｋＧｙ／ｓ以上の条件下に、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（Ｘ）を含むことを特徴とする低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法にも関する。

上記工程（Ｘ）は、実質的に酸素が存在しない空間内で実施してもよいが、酸素を含む大気雰囲気中で実施することもできる。また、成分調整大気雰囲気中で実施してもよい。上記成分調整大気としては、例えば、酸素を含む大気中に、ラジカル捕捉能を有する水素ガスやハロゲンガス等を単独ガス又は複合ガスとして０．５体積％以上添加した大気が挙げられる。
ＰＴＦＥの結晶融点以下の温度に加熱した状態でＰＴＦＥを放射線照射すると分解効率が向上することが、文献（Ｒａｄｉａｔ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｖｏｌ．５０，ｐｐ．６１１－６１５，１９９７）で報告されている。
この状態では酸素２１体積％の大気雰囲気下であっても線量率の高い電子線等の放射線源を用いて、昇温した状態で照射を行うことで、生成した末端ラジカルが酸素と反応する以前に主鎖切断が進行し、分解反応が促進することが、本発明者らにより見出された。
従来の学術的な技術常識からは、酸素を含む雰囲気中（特に空気中）で高分子量ＰＴＦＥに放射線照射を行うと、酸化劣化が起こり、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩が多量に生成することが予想される。しかし、驚くべきことに、上記のように照射温度がβ_１分散温度以上であり、かつ線量率が極めて限定された条件下で、かつ遊離水素原子を生成し得る物質の存在下では、大気雰囲気中で照射を行っても、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩が生成しにくいことが、本発明者らにより見出された。

上記工程（Ｘ）における照射時の試料温度はＰＴＦＥの室温転移温度（β_１分散温度）以上（１９℃以上）であり、ＰＴＦＥの室温転移温度（β_２分散温度）以上（３０℃以上）が好ましく、５０℃以上がより好ましく、７０℃以上が更に好ましく、１００℃以上が更により好ましく、α分散温度以上（１３０℃以上）が特に好ましい。上記照射時の試料温度はまた、３２０℃以下である。
上記工程（Ｘ）における照射時の温度は、工程を実施する雰囲気の温度を、熱電対、白金抵抗体等により計測する方法、試料表面又は試料内部の温度を熱電対、白金抵抗体等により接触式で計測する方法、あるいは試料表面からの赤外放射を赤外放射温度計により計測する方法等により簡便に測定できる。
工程（Ｘ）の放射線照射時に試料温度が１９℃から３２０℃の間で変化してもよい。

工程（Ｘ）における放射線は、電子線又はＸ線であってよい。上記電子線は、電子加速器から発生させた電子線であってよい。上記Ｘ線は、粒子加速器からの粒子線をターゲットに照射して発生させたＸ線であってよく、線形加速器からの高エネルギー電子線にレーザーを衝突させ、逆コンプトン散乱により発生させた準単色性のＸ線であってもよい。更には、シンクロトロン放射によってＸ線を発生させることができるほか、粒子加速器の下段にアンジュレータやウィグラーを設置してＸ線を発生させてもよい。

工程（Ｘ）における遊離水素原子を生成し得る物質としては、工程（１）において使用することが可能な遊離水素原子を生成し得る物質と同様の物質が挙げられ、その使用量も同様である。

工程（Ｘ）の具体的な実施方法としては、加温又は加熱機構を有する容器に高分子量ＰＴＦＥを入れ、大気中で加温又は加熱した状態で、上記容器の外側から上記高分子量ＰＴＦＥに電子線又はＸ線を照射する方法等が挙げられる。
上記電子線としては、例えば、電子加速器から発生させた電子線を用いることができる。
上記Ｘ線としては、例えば、電子加速器からの電子線をターゲットに照射して発生させたＸ線を用いることができる。
物質透過力に優れるＸ線を用いる場合、上記容器の全周部あるいは外周部、上下部、左右部、前後部等の任意の位置に上記加熱機構を配置できる。Ｘ線の透過を容易にする観点からは、照射面側に上記加熱機構を配置しないことが好ましい。
物質透過力がＸ線に劣る電子線を用いる場合、電子線の照射される面側以外に上記加熱機構を配置することが好ましい。

上記工程（Ｘ）における線量率は、０．１ｋＧｙ／ｓ以上であり、１ｋＧｙ／ｓ以上が好ましく、１０ｋＧｙ／ｓ以上がより好ましい。あるいは、０．１ｋＧｙ／ｐａｓｓ以上が好ましく、１ｋＧｙ／ｐａｓｓ以上がより好ましく、１０ｋＧｙ／ｐａｓｓ以上が更に好ましい。

上記工程（Ｘ）における放射線照射は、所望の吸収線量に到達するまで連続で行ってもよいし、累計で所望の吸収線量に到達するまで断続的に繰り返し行ってもよい。断続的に繰り返し行う場合は、断続的な照射のインターバル時間中に、残存するラジカルが酸化し、過酸化ラジカルとなることでＰＴＦＥの主鎖の酸化分解による切断によって炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩が生成するのを防ぐため、断続的な照射のインターバル時間は、５分以内が好ましく、３分以内がより好ましく、１分以内が更に好ましい。

上記工程（Ｘ）は、ラジカル捕捉能を有する物質の存在下に実施することもできる。上記ラジカル捕捉能を有する物質としては、工程（２ｃ）に使用することが可能な物質を挙げることができる。上記物質の使用量や導入方法も、工程（２ｃ）に準じた量や方法を採用できる。
ただし、工程（Ｘ）において使用する遊離水素原子を生成し得る物質から生成される遊離水素原子がラジカル捕捉能を有することから、工程（Ｘ）においては、上記遊離水素原子を生成し得る物質以外に、ラジカル捕捉能を有する物質を使用しないことも好ましい。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであるポリテトラフルオロエチレンに、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で放射線を照射することにより、上記ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程（Ｙ１）、及び、上記照射により生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルの少なくとも一部を実質的に酸素の不存在下で失活させることにより、上記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（Ｙ２）を含むことを特徴とする低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法にも関する。
上記のように溶融粘度が低い（分子量が低い）ＰＴＦＥに放射線を照射する場合にも、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩、特にパーフルオロオクタン酸及びその塩の生成を抑制することができる。

上記工程（Ｙ１）において放射線を照射するＰＴＦＥは、直接重合によって得られたものであってもよく、高分子量ＰＴＦＥの熱分解によって得られたものであってもよく、高分子量ＰＴＦＥに放射線を照射することによって得られたものであってもよい。

工程（Ｙ１）における遊離水素原子を生成し得る物質としては、工程（１）において使用することが可能な遊離水素原子を生成し得る物質と同様の物質が挙げられ、その使用量も同様である。

上記工程（Ｙ１）の好適な態様や条件は、上述した工程（１）と同様であってよいが、放射線の線量、照射温度等の照射条件については、目的の低分子量ＰＴＦＥの分子量（溶融粘度）に応じて調整することが望ましい。
上記工程（Ｙ２）の好適な態様や条件は、上述した工程（２）と同様であってよい。

本開示の製造方法は、工程（１）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）又は工程（Ｘ）の前に、更に、上記高分子量ＰＴＦＥを、その一次融点以上に加熱することにより成形品を得る工程（３）を含むこともできる。この場合、工程（３）で得られた成形品を工程（１）における上記高分子量ＰＴＦＥとして使用することができる。
上記一次融点としては、３００℃以上が好ましく、３１０℃以上がより好ましく、３２０℃以上が更に好ましい。
上記一次融点は、未焼成の高分子量ＰＴＦＥを示差走査熱量計で測定した場合に、結晶融解曲線上に現れる吸熱カーブの最大ピーク温度を意味する。上記吸熱カーブは、示差走査熱量計を用いて、昇温速度１０℃／分の条件で昇温させて得られたものである。

工程（３）における上記成形品は、比重が１．０ｇ／ｃｍ^３以上であることが好ましく、１．５ｇ／ｃｍ^３以上であることがより好ましく、また、２．５ｇ／ｃｍ^３以下であることが好ましい。上記成形品の比重が上記範囲内にあると、表面の細孔や凸凹が小さくなり、結果的に比表面積の小さい低分子量ＰＴＦＥを得ることが出来る。
上記比重は、水中置換法により測定することができる。
本開示の製造方法は、工程（３）の後に、更に、上記成形品を粉砕して、上記高分子量ＰＴＦＥの粉末を得る工程を含むこともできる。上記成形品を粗く粉砕してから、更に小さく粉砕してもよい。

本開示の製造方法は、工程（２）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）、工程（Ｘ）又は工程（Ｙ２）の後に、更に、上記低分子量ＰＴＦＥを粉砕して、低分子量ＰＴＦＥの粉末を得る工程を含むこともできる。本開示の製造方法によって得られる低分子量ＰＴＦＥは、粉砕しても、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩の含有量が増加しない。

上記粉砕の方法としては特に限定されないが、粉砕機で粉砕する方法が挙げられる。上記粉砕機には、遊星ミル、ハンマーミル、ピンミル、ジェットミル等の衝撃式や、回転刃と外周ステーターが凹凸による剪断力で粉砕するカッターミル等の摩砕式等がある。

粉砕温度は－２００℃以上、５０℃未満であることが好ましい。冷凍粉砕では通常－２００～－１００℃であるが、室温付近の温度（１０～３０℃）で粉砕してもよい。冷凍粉砕では一般に液体窒素を使用するが、設備が膨大で粉砕コストも高くなる。工程が簡素となる点、粉砕コストを抑えることができる点で、１０℃以上、５０℃未満で粉砕することがより好ましく、１０～４０℃で粉砕することが更に好ましく、１０～３０℃で粉砕することが特に好ましい。

上記粉砕の後、微粒子や繊維状粒子を気流分級により除去した後に、更に分級により粗粒子を除去してもよい。

気流分級においては、粉砕された粒子が減圧空気により円柱状の分級室に送られ、室内の旋回気流により分散され、遠心力によって微粒子が分級される。微粒子は中央部からサイクロン及びバグフィルターへ回収される。分級室内には、粉砕粒子と空気が均一に旋回運動を行うために円錐状のコーン、ローター等の回転体が設置されている。

分級コーンを使用する場合には、分級点の調節は二次エアーの風量と分級コーン間の隙間を調節することにより行う。ローターを使用する場合には、ローターの回転数により分級室内の風量を調節する。

粗粒子の除去方法としては、メッシュによる気流分級、振動篩、超音波篩等が挙げられるが、気流分級が好ましい。

本開示の製造方法は、更に、工程（２）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）、工程（Ｘ）又は工程（Ｙ２）で得られた低分子量ＰＴＦＥを、紫外線、特に自然環境からの紫外線や蛍光灯からの紫外線が遮蔽された環境下で保管する工程（４）を含んでもよい。
工程（２）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）、工程（Ｘ）又は工程（Ｙ２）で得られた低分子量ＰＴＦＥが大気暴露されると、僅かに残存する主鎖ラジカル及び／又は末端ラジカルに由来する過酸化物が生じることがある。この過酸化物が紫外線に暴露されると、主鎖ラジカル及び／又は末端ラジカルが再生成することがあり、特に、末端ラジカルが再生成した場合には、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩が生成するおそれがある。
工程（４）を実施することにより、長期間にわたり、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩の発生を抑制することができる。

工程（４）において遮蔽する紫外線は、波長が４５０ｎｍ以下の、可視光を含む紫外線であってよい。好ましくは波長が４００ｎｍ以下の紫外線であり、より好ましくは波長が３８５ｎｍ以下の紫外線である。上記紫外線の波長の下限は、２００ｎｍであることが好ましい。

工程（４）における保管は、例えば、上記低分子量ＰＴＦＥを、上記紫外線を遮蔽することが可能な容器内に保持するか、又は、上記低分子量ＰＴＦＥを保持した容器を、上記紫外線を遮蔽することが可能な空間（倉庫等）に保持することにより、実施することができる。

工程（４）における保管環境の温度は、未架橋のＰＴＦＥのα分散温度以下であることが好ましく、－２７３～１３０℃であることがより好ましく、－１９６～１３０℃であることが更に好ましく、－８０～７０℃であることが更により好ましい。上記温度範囲にすることにより、保管中の炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸又はその塩の発生を一層抑制することができる。

本開示の製造方法において、工程（２）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）、工程（Ｘ）又は工程（Ｙ２）を実施した後に得られる生成物は、低分子量ＰＴＦＥとともに、上記遊離水素原子を生成し得る物質を含んでいる。上記生成物中の上記物質は、その少なくとも一部が分解又は架橋された状態となっている。
上記生成物をそのまま用途に供してもよいし、残留する上記遊離水素原子を生成し得る物質を除去してから用途に供してもよい。除去方法は特に限定されず、上記遊離水素原子を生成し得る物質の形態等に応じて公知の方法を採用することができる。
除去された上記遊離水素原子を生成し得る物質を、再度、工程（１）に使用することもできる。

次に、本開示の製造方法の工程（１）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）又は工程（Ｘ）において放射線を照射する高分子量ＰＴＦＥ、及び、工程（２）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）又は工程（Ｘ）を実施した後に得られる低分子量ＰＴＦＥについて説明する。
また、工程（Ｙ１）において放射線を照射するＰＴＦＥ、及び、工程（Ｙ２）を実施した後に得られる低分子量ＰＴＦＥについても説明する。

工程（２）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）又は工程（Ｘ）を実施した後に得られる低分子量ＰＴＦＥは、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである。本開示において、「低分子量」とは、上記溶融粘度が上記の範囲内にあることを意味する。
上記溶融粘度は、１．０×１０^３Ｐａ・ｓ以上であることが好ましく、１．５×１０^３Ｐａ・ｓ以上であることがより好ましく、また、３．０×１０^５Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、１．０×１０^５Ｐａ・ｓ以下であることがより好ましい。

工程（Ｙ２）を実施した後に得られる低分子量ＰＴＦＥは、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである。上記溶融粘度は、３．０×１０^５Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、１．０×１０^５Ｐａ・ｓ以下であることがより好ましい。

工程（Ｙ１）において放射線を照射するＰＴＦＥは、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである。上記溶融粘度は、５．０×１０^２以上であることが好ましく、１．０×１０^３Ｐａ・ｓ以上であることがより好ましく、１．５×１０^３Ｐａ・ｓ以上であることが更に好ましい。

上記溶融粘度は、ＡＳＴＭ Ｄ １２３８に準拠し、フローテスター（島津製作所社製）及び２φ－８Ｌのダイを用い、予め３８０℃で５分間加熱しておいた２ｇの試料を０．７ＭＰａの荷重にて上記温度に保って測定した値である。

上記放射線を照射する上記高分子量ＰＴＦＥは、標準比重（ＳＳＧ）が２．１３０～２．２３０であることが好ましい。上記標準比重（ＳＳＧ）はＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した値である。

上記高分子量ＰＴＦＥは、上記低分子量ＰＴＦＥよりも溶融粘度が極めて高く、その正確な溶融粘度を測定することは困難である。他方、低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は測定可能であるが、低分子量ＰＴＦＥからは、標準比重の測定に使用可能な成形品を得ることが難しく、その正確な標準比重を測定することが困難である。従って、本開示では、放射線を照射する上記高分子量ＰＴＦＥの分子量の指標として、標準比重を採用し、上記低分子量ＰＴＦＥの分子量の指標として、溶融粘度を採用する。なお、上記高分子量ＰＴＦＥ及び上記低分子量ＰＴＦＥのいずれについても、直接に分子量を特定できる測定方法は知られていない。

上記高分子量ＰＴＦＥは、パーフルオロオクタン酸及びその塩の量が２５質量ｐｐｂ未満であってよく、２０質量ｐｐｂ以下であってもよく、１５質量ｐｐｂ以下であってもよく、１０質量ｐｐｂ以下であってもよく、５質量ｐｐｂ以下であってもよく、５質量ｐｐｂ未満であってもよい。下限は特に限定されず、検出限界未満の量であってよい。
上記パーフルオロオクタン酸及びその塩の量は、液体クロマトグラフィーにより測定できる。

上記低分子量ＰＴＦＥは、融点が３２０～３４０℃であることが好ましく、３２４～３３６℃であることがより好ましい。

上記融点は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用い、事前に標準サンプルとして、インジウム、鉛を用いて温度校正した上で、低分子量ＰＴＦＥ約３ｍｇをアルミ製パン（クリンプ容器）に入れ、２００ｍｌ／分のエアー気流下で、２５０～３８０℃の温度領域を１０℃／分で昇温させて行い、上記領域における融解熱量の極小点を融点とする。

本開示の製造方法において、上記高分子量ＰＴＦＥの形状は特に限定されず、粉末（ファインパウダー、モールディングパウダー等）であってもよいし、上記高分子量ＰＴＦＥの成形品であってもよいし、上記高分子量ＰＴＦＥの成形品を切削加工した場合に生じる切削屑であってもよい。上記高分子量ＰＴＦＥが粉末であると、上記低分子量ＰＴＦＥの粉末を容易に得ることができる。
また、上記高分子量ＰＴＦＥは架橋されていてもよい。

また、本開示の製造方法によって得られる低分子量ＰＴＦＥの形状は、特に限定されないが、粉末であることが好ましい。

本開示の製造方法によって得られる低分子量ＰＴＦＥが粉末である場合、比表面積が０．５～２０ｍ^２／ｇであることが好ましい。
低分子量ＰＴＦＥ粉末としては、比表面積が０．５ｍ^２／ｇ以上、７．０ｍ^２／ｇ未満の比表面積の低いタイプと、比表面積が７．０ｍ^２／ｇ以上、２５ｍ^２／ｇ以下、好ましくは２０ｍ^２／ｇ以下の比表面積の高いタイプがそれぞれ求められている。
比表面積の低いタイプの低分子量ＰＴＦＥ粉末は、例えば塗料等のマトリクス材料に容易に分散する利点がある一方、マトリクス材料への分散粒径が大きく、微分散に劣る。
比表面積の低いタイプの低分子量ＰＴＦＥ粉末の比表面積は、１．０ｍ^２／ｇ以上が好ましく、５．０ｍ^２／ｇ以下が好ましく、３．０ｍ^２／ｇ以下がより好ましい。マトリクス材料としては、プラスチック、インクの他、塗料等も好適に用いられる。
比表面積の高いタイプの低分子量ＰＴＦＥ粉末は、例えば塗料等のマトリクス材料に分散させた場合、マトリクス材料への分散粒径が小さく、塗膜表面の質感を向上させる等、表面を改質する効果が高く、吸油量も多くなるが、マトリクス材料への分散に必要な時間が長い等容易に分散しないおそれがあり、また、塗料等の粘度が上昇するおそれもある。
比表面積の高いタイプの低分子量ＰＴＦＥ粉末の比表面積は、８．０ｍ^２／ｇ以上が好ましく、２５ｍ^２／ｇ以下が好ましく、２０ｍ^２／ｇ以下がより好ましい。マトリクス材料としては、オイル、グリース、塗料の他、プラスチック等も好適に用いられる。

上記比表面積は、表面分析計（商品名：ＢＥＬＳＯＲＰ－ｍｉｎｉＩＩ、マイクロトラック・ベル株式会社製）を用い、キャリアガスとして窒素３０％、ヘリウム７０％の混合ガスを用い、冷却に液体窒素を用いて、ＢＥＴ法により測定する。

本開示の製造方法によって得られる低分子量ＰＴＦＥが粉末である場合、平均粒子径が０．５～２００μｍであることが好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、２５μｍ以下が更に好ましく、１０μｍ以下が特に好ましい。このように、平均粒子径が比較的小さい粉末であることで、例えば、塗料の添加剤として用いた場合等に、より優れた表面平滑性を有する塗膜を形成することができる。

上記平均粒子径は、日本電子株式会社製レーザー回折式粒度分布測定装置（ＨＥＬＯＳ＆ＲＯＤＯＳ）を用いて、カスケードは使用せず、分散圧力３．０ｂａｒで測定を行い、粒度分布積算の５０％に対応する粒子径に等しいとする。

本開示の製造方法では、工程（２）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）、工程（Ｘ）又は工程（Ｙ２）を実施した後に、パーフルオロオクタン酸及びその塩を実質的に含まない低分子量ＰＴＦＥを得ることができる。本開示の製造方法により得られる低分子量ＰＴＦＥは、パーフルオロオクタン酸及びその塩の量が２５質量ｐｐｂ未満であってよく、２０質量ｐｐｂ以下であることが好ましく、１５質量ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１０質量ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、５質量ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、５質量ｐｐｂ未満であることが特に好ましい。下限は特に限定されず、例えば検出限界未満の量であってもよく、０．００１質量ｐｐｂであってもよく、１質量ｐｐｂであってもよい。
上記パーフルオロオクタン酸及びその塩の量は、液体クロマトグラフィーにより測定できる。

また、本開示の製造方法によれば、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩を実質的に含まない低分子量ＰＴＦＥを得ることもできる。本開示の製造方法により得られる低分子量ＰＴＦＥは、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が５０質量ｐｐｂ以下であってよく、２５質量ｐｐｂ未満であることが好ましく、２０質量ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１５質量ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１０質量ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、５質量ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、５質量ｐｐｂ未満であることが最も好ましい。下限は特に限定されず、例えば検出限界未満の量であってもよく、０．００１質量ｐｐｂであってもよく、１質量ｐｐｂであってもよい。
上記炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量は、工程（２）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）、工程（Ｘ）又は工程（Ｙ２）を実施した後の時点で、上記範囲内にあることが好ましく、更なる加熱（例えば、加工時の加熱）を実施した後の時点でも、上記範囲内にあることがより好ましい。
上記パーフルオロカルボン酸及びその塩の量は、液体クロマトグラフィーにより測定できる。
また、本開示の製造方法によれば、炭素数９～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が上記範囲内にある低分子量ＰＴＦＥを得ることもできる。

本開示の製造方法によれば、マトリクス樹脂に添加して加熱成形するような加工時の加熱によってもパーフルオロオクタン酸及びその塩、更には上記パーフルオロカルボン酸及びその塩を生成しにくく、信頼性が高い低分子量ＰＴＦＥを製造することもできる。
その理由は明確ではないが、以下のように推測される。放射線の照射時に、上記遊離水素原子を生成し得る物質から生成した遊離水素原子が、高分子量ＰＴＦＥへの照射によって生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルに付加することに加え、照射後に、上記遊離水素原子を生成し得る物質から生成した水素分子が上記主鎖ラジカル及び末端ラジカルと反応することにより、上記主鎖ラジカル及び末端ラジカルが充分に消滅すると考えられる。このため、用途に適用する段階で酸素存在下に加熱しても、上記主鎖ラジカル及び末端ラジカルが酸素と反応することを防止することができ、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩、特に、パーフルオロオクタン酸及びその塩の生成を抑制することができると考えられる。

本開示の製造方法により得られる低分子量ＰＴＦＥは、下記の加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の量が１００質量ｐｐｂ未満であってよく、５０質量ｐｐｂ未満であってもよく、２５質量ｐｐｂ未満であってもよく、２０質量ｐｐｂ以下であることが好ましく、１５質量ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１０質量ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、５質量ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、５質量ｐｐｂ未満であることが特に好ましい。下限は特に限定されず、例えば検出限界未満の量であってもよく、０．００１質量ｐｐｂであってもよく、１質量ｐｐｂであってもよい。
加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の量が上記範囲内にある低分子量ＰＴＦＥは、加工時等、各種の用途に適用する段階で酸素存在下に加熱した場合であっても、パーフルオロオクタン酸及びその塩を生成しにくい。
（加熱・測定条件Ａ）
５０ｃｃのステンレス製の筒型気密容器に大気下で２～２０ｇの試料を充填し、蓋をして１５０℃で１８時間加熱を行う。
液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，ＬＣ－ＭＳ ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用い、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量の測定を行う。上記加熱後の試料１ｇにアセトニトリル５ｍｌを加え、６０分間の超音波処理を行い、パーフルオロオクタン酸を抽出する。得られた液相について、ＭＲＭ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｒｅａｃｔｉｏｎ Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ）法を用いて測定する。移動相としてアセトニトリル（Ａ）と酢酸アンモニウム水溶液（２０ｍｍｏｌ／Ｌ）（Ｂ）を、濃度勾配（Ａ／Ｂ＝４０／６０－２ｍｉｎ－８０／２０－１ｍｉｎ）で送液する。分離カラム（ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ ＢＥＨ Ｃ１８ １．７μｍ）を使用し、カラム温度は４０℃、注入量は５μＬとする。イオン化法はＥＳＩ（Ｅｌｅｃｔｒｏｓｐｒａｙ ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ） Ｎｅｇａｔｉｖｅを使用し、コーン電圧は２５Ｖに設定し、プリカーサーイオン分子量／プロダクトイオン分子量は４１３／３６９を測定する。パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量は外部標準法を用い、算出する。
この測定における検出限界は５質量ｐｐｂである。

本開示の製造方法により得られる低分子量ＰＴＦＥは、下記の加熱・測定条件Ｂに従って求める炭素数９～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が１００質量ｐｐｂ未満であってよく、５０質量ｐｐｂ未満であってもよく、２５質量ｐｐｂ未満であることが好ましく、２０質量ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１５質量ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１０質量ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、５質量ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、５質量ｐｐｂ未満であることが最も好ましい。下限は特に限定されず、例えば検出限界未満の量であってもよく、０．００１質量ｐｐｂであってもよく、１質量ｐｐｂであってもよい。
加熱・測定条件Ｂに従って求める上記パーフルオロカルボン酸及びその塩の量が上記範囲内にある低分子量ＰＴＦＥは、加工時等、各種の用途に適用する段階で酸素存在下に加熱した場合であっても、上記パーフルオロカルボン酸及びその塩を生成しにくい。
（加熱・測定条件Ｂ）
５０ｃｃのステンレス製の筒型気密容器に大気下で２～２０ｇの試料を充填し、蓋をして１５０℃で１８時間加熱を行う。
液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，ＬＣ－ＭＳ ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用い、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の含有量の測定を行う。上記加熱後の試料１ｇを用いて、加熱・測定条件Ａと同様にしてパーフルオロオクタン酸及びその塩を抽出した液相を使用し、ＭＲＭ法を用いて測定する。測定条件はパーフルオロオクタン酸の測定条件から、濃度勾配を変更し（Ａ／Ｂ＝１０／９０－１．５ｍｉｎ－９０／１０－３．５ｍｉｎ）、プリカーサーイオン分子量／プロダクトイオン分子量は、パーフルオロノナン酸（炭素数９）は４６３／４１９、パーフルオロデカン酸（炭素数１０）は５１３／４６９、パーフルオロウンデカン酸（炭素数１１）は５６３／５１９、パーフルオロドデカン酸（炭素数１２）は６１３／５６９、パーフルオロトリデカン酸（炭素数１３）は６６３／６１９、パーフルオロテトラデカン酸（炭素数１４）は７１３／６６９を測定する。
炭素数９～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の合計量は、上記測定より得られたパーフルオロオクタン酸の含有量（Ｘ）から下記式を用いて算出した。この測定における検出限界は５質量ｐｐｂである。
（Ａ_Ｃ９＋Ａ_Ｃ１０＋Ａ_Ｃ１１＋Ａ_Ｃ１２＋Ａ_Ｃ１３＋Ａ_Ｃ１４）／Ａ_Ｃ８×Ｘ
Ａ_Ｃ８：パーフルオロオクタン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ９：パーフルオロノナン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ１０：パーフルオロデカン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ１１：パーフルオロウンデカン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ１２：パーフルオロドデカン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ１３：パーフルオロトリデカン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ１４：パーフルオロテトラデカン酸のピーク面積
Ｘ：ＭＲＭ法を用いた測定結果から外部標準法を用いて算出したパーフルオロオクタン酸の含有量

上記工程（２）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）、工程（Ｘ）又は工程（Ｙ２）を実施した後に得られる低分子量ＰＴＦＥは、主鎖上の側鎖の一部に酸素原子を有する低分子量ＰＴＦＥ、又は、炭素原子とフッ素原子とからなる低分子量ＰＴＦＥであることが好ましい。
上記主鎖上の側鎖の一部に酸素原子を有する低分子量ＰＴＦＥ、又は、炭素原子とフッ素原子とからなる低分子量ＰＴＦＥは、炭素－炭素結合を有し、かつ分子鎖末端に酸素原子を含まない化合物である。その分子構造は、以下の構造を示す。
（主鎖ラジカル／末端ラジカル失活処理プロセス）
Ｒ_１（―ＣＦ_２－ＣＦ_２―）_ｘ－Ｒ_２
Ｒ_１（―ＣＦ＝ＣＦ_２―ＣＦ_２）_ｘ－Ｒ_２
Ｒ_１（－ＣＦ_２－ＣＦ（Ｒ_３）―ＣＦ_２）_ｙ－Ｒ_２
Ｒ_１（－ＣＦ＝Ｃ（Ｒ_４）―ＣＦ_２）_ｙ－Ｒ_２
（末端ラジカルのみ失活処理プロセス）
Ｒ_１（－ＣＦ_２－ＣＦ（Ｒ_５）―ＣＦ_２）_ｙ－Ｒ_２
Ｒ_１（－ＣＦ＝Ｃ（Ｒ_６）―ＣＦ_２）_ｙ－Ｒ_２
上記式中、Ｒ_１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、－ＣＦ_３基、－ＣＦ＝ＣＦ_２基、－ＣＦ＝ＣＨＦ基、－ＣＨ_２Ｆ基、－ＣＨＦ_２基、又は、－ＣＨ_３基である。
上記式中、Ｒ_２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、－ＣＦ_３基、－ＣＦ＝ＣＦ_２基、－ＣＦ＝ＣＨＦ基、－ＣＨ_２Ｆ基、－ＣＨＦ_２基、又は、－ＣＨ_３基である。
上記式中、Ｒ_３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、－ＣＦ_３基、－ＣＦ_２－ＣＦ_３基、－ＣＦ＝ＣＦ_２基、－ＣＦ_２ＣＦ_２－基、又は、－Ｏ－Ｒ_ｆ基（Ｒ_ｆは、パーフルオロ有機基、好ましくは炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基）である。
上記式中、Ｒ_４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、－ＣＦ_３基、－ＣＦ_２－ＣＦ_３基、－ＣＦ＝ＣＦ_２基、－ＣＦ_２ＣＦ_２－基、又は、－Ｏ－Ｒ_ｆ基（Ｒ_ｆは、パーフルオロ有機基、好ましくは炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基）である。
上記式中、Ｒ_５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、－ＣＦ_３基、－ＣＦ_２－ＣＦ_３基、－ＣＦ＝ＣＦ_２基、－ＣＦ_２ＣＦ_２－基、－Ｏ－Ｒ_ｆ基（Ｒ_ｆは、パーフルオロ有機基、好ましくは炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基）、－ＯＨ基、－ＯＦ基、－ＯＣｌ基、－ＯＢｒ基、－ＯＩ基、－Ｏ－ＣＦ_３基、－Ｏ－ＣＦ_２－ＣＦ_３基、又は、－Ｏ－Ｏ・（過酸化ラジカル）である。
上記式中、Ｒ_６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、－ＣＦ_３基、－ＣＦ_２－ＣＦ_３基、－ＣＦ＝ＣＦ_２基、－ＣＦ_２ＣＦ_２－基、－Ｏ－Ｒ_ｆ基（Ｒ_ｆは、パーフルオロ有機基、好ましくは炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基）、－ＯＨ基、－ＯＦ基、－ＯＣｌ基、－ＯＢｒ基、－ＯＩ基、－Ｏ－ＣＦ_３基、又は、－Ｏ－ＣＦ_２－ＣＦ_３基である。
上記式中、ｘは１～１０００の整数であり、２～５００が好ましい。
上記式中、ｙは１～１０００の整数であり、２～５００が好ましい。
上記分子構造の特定は、^１９Ｆ核磁気共鳴装置（ＮＭＲ）による測定のほか、フーリエ変換赤外吸収分析装置（ＦＴ－ＩＲ）、フーリエ変換ラマン分光分析（ＦＴ－ラマン）、Ｘ線光電分光分析（ＸＰＳ）等の手段により行うことができる。

上記低分子量ＰＴＦＥは、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）測定により得られる上記主鎖ラジカルに対応する信号の強度と、上記末端ラジカルに対応する信号の強度との比（主鎖ラジカル／末端ラジカル）が１０／１以上であることが好ましく、１５／１以上であることがより好ましく、２０／１以上であることがより好ましく、３０／１以上であることが更に好ましい。
上記比は、真空中でのＥＳＲ測定で上記主鎖ラジカルに対応する信号（ｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔ）及び上記末端ラジカルに対応する信号（ｔｒｉｐｌｅｔ）が明瞭に検出される場合は、それらの信号の強度に基づいて算出し、真空中で明瞭に検出できない場合は、試料を大気暴露した後に実施するＥＳＲ測定で検出される主鎖型（ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ）及び末端型（ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ）の過酸化ラジカルに対応する信号の強度に基づいて算出するものとする。特に過酸化ラジカルの分離には、液体窒素温度での測定が有効である。
従来の、空気雰囲気下で高分子量ＰＴＦＥに放射線を照射する方法（工程（２）のラジカル失活を実施しない）で得られた低分子量ＰＴＦＥでは、末端ラジカルが多く残存することから、上記比が上記範囲内にならない。

上記低分子量ＰＴＦＥは、水素原子を含む分子構造、及び、二重結合を含む分子鎖からなる群より選択される少なくとも１種を分子内に有することが好ましい。
上記水素原子を含む分子構造としては、例えば、－ＣＨＦ－、＝ＣＨＦ、－ＣＦＨ_２、－ＣＨ_３基、－ＣＨＦ_２基等で表される構造が挙げられる。
上記二重結合を含む分子鎖としては、例えば、－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＦ＝ＣＦ_２、－ＣＦ＝ＣＦ－ＣＦ_３等の構造が挙げられる。
また、－ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＦ_３）_２等で表される分子構造を有することも好ましい。
工程（１）における照射を、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下に実施することにより、得られる低分子量ＰＴＦＥの内部に水素原子を含む分子構造や二重結合を含む分子鎖が形成される。
また、工程（１）を実施する密閉容器として、水素原子を含む材料からなる密閉容器を用いた場合、放射線照射時に、当該密閉容器から、水素ガスを主成分とする放射線分解ガスが発生する。当該分解ガスを工程（２ｃ）のラジカル捕捉能を有するガスとして用いることにより、得られる低分子量ＰＴＦＥの内部に水素原子を含む分子構造や二重結合を含む分子鎖が形成される。
上記水素原子を含む材料としては、水素原子を含む有機材料が好ましく、エチレン－プロピレンゴム、テトラフルオロエチレン－プロピレンゴム、ポリエステルエラストマー等の水素原子を含むラバー素材；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル類、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、熱可塑性ポリイミド（ＴＰＩ）、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）、ポリビニリデンフルオライド、エチレン－テトラフルオロエチレン共重合体等の水素原子を含む熱可塑性有機材料等が挙げられる。
また、工程（２ｃ）実施の際、ラジカル捕捉能を有するガスとして水素ガスを直接用いた場合も、得られる低分子量ＰＴＦＥの内部に水素原子を含む分子構造や二重結合を含む分子鎖が形成される。

上記低分子量ＰＴＦＥが、上述した構造を分子内に有することは、下記のいずれかの測定条件での^１９Ｆ ＭＡＳ ＮＭＲにより確認できる。
＜測定条件（１）＞
装置：Ｖａｒｉａｎ社製ＶＮＳ６００
共鳴周波数：５６４．４９１ＭＨｚ
観測核：^１９Ｆ
試料管径：１．２ｍｍφ
回転速度：５０ｋＨｚ
測定温度：ｒｔ（２３．３℃）
測定法：ｓｉｎｇｌｅ ｐｕｌｓｅ法
積算回数：５１２回以上
待ち時間：５ｓ以上
パルス幅：１．１５μｓ
＜測定条件（２）＞
装置：Ｂｒｕｋｅｒ社製ＡＶＡＮＣＥ ＩＩＩ ＨＤ４００
共鳴周波数：３７６．６４１２７７６ＭＨｚ
観測核：^１９Ｆ
試料管径：１．３ｍｍφ
回転速度：６０ｋＨｚ
測定温度：７０℃
測定法：ｓｉｎｇｌｅ ｐｕｌｓｅ法
積算回数：１万回以上
待ち時間：５ｓ以上
パルス幅：０．８μｓ
－ＣＨＦ_２に帰属される信号は－１４０ｐｐｍ付近に、＝ＣＨＦに帰属される信号は－１５０ｐｐｍ付近に、－ＣＨＦ－又は－ＣＦＨ_２に帰属される信号は－２１０ｐｐｍから－２１５ｐｐｍ付近に確認することができる。－ＣＦ＝ＣＦ－に帰属される信号は－１５６ｐｐｍ付近に確認することができる。－ＣＦ＝ＣＦ_２に帰属される信号は－９２ｐｐｍ付近及び－１９０ｐｐｍ付近に確認することができる。－ＣＦ＝ＣＦ－ＣＦ_３に帰属される信号は－７５ｐｐｍ付近及び－１２８ｐｐｍ付近に確認することができる。－ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２－に帰属される信号は－７１ｐｐｍ付近及び－１１４ｐｐｍ付近に確認することができる。－ＣＦ（ＣＦ_３）_２に帰属される信号は－５８ｐｐｍ付近に確認することができる。
また、上記低分子量ＰＴＦＥ内に水素原子を含む構造を有することは、下記の測定条件での^１Ｈ ＮＭＲ測定後、引き続き^１３Ｃ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲ測定することにより確認できる。
＜測定条件（３）＞
装置：Ｂｒｕｋｅｒ社製ＡＶＡＮＣＥＩＩＩ６００ ｗｉｄｅ－ｂｏｒｅ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ
共鳴周波数：水素６００．２３ＭＨｚ 炭素１５０．９ＭＨｚ
観測核：^１Ｈ及び^１３Ｃ
試料管径：２．５ｍｍφ又は４．０ｍｍφ
回転速度：６ｋＨｚ
測定温度：ｒｔ（２４．１℃）
デカップリング法：ＣＷ／ＴＰＰＭ法
時定数：３．０ｍｓ
積算回数：６５，５３６回以上
上記測定により、－ＣＨ_３に帰属される信号を１７ｐｐｍ付近に検出することができる。

工程（１）及び（２）を真空下で実施して得られた低分子量ＰＴＦＥを、一度も酸素と接触させることなく、真空下で電子スピン共鳴（ＥＳＲ）測定すると、末端ラジカルに対応するｔｒｉｐｌｅｔのピークと、主鎖ラジカル（アルキルラジカル）に対応するｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔのピークが観測される。
上記ｔｒｉｐｌｅｔの中心のピーク高さをＰｅａｋ Ｍ、上記ｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔのピーク高さをＰｅａｋ Ａとした場合に、比Ｐｅａｋ Ｍ／Ｐｅａｋ Ａが３．０未満であることが好ましく、２．５未満であることがより好ましく、２．０未満であることが更に好ましい。
また、比Ｐｅａｋ Ａ／Ｐｅａｋ Ｍが０．３よりも大きいことが好ましく、０．４よりも大きいことがより好ましく、０．４５よりも大きいことが更に好ましい。
図１に、上記ピークの一例を示す。

上記ＥＳＲ測定は、真空下で、以下の条件にて実施する。
装置：日本電子株式会社（ＪＥＯＬ）製、ＪＥＳ－Ｘ３３０
測定温度：２３±１℃
マイクロ波周波数：９．４２－９．４４ＧＨｚ
マイクロ波出力：０．１ｍＷ及び０．０４ｍＷ
中心磁場：３３７．０ｍＴ
掃引幅：±２５ｍＴ
掃引時間：２分
時定数：０．１秒
磁場変調幅：０．２ｍＴ
スキャン回数：１回
変調周波数：１００ｋＨｚ

本開示の製造方法によれば、分子中に水素原子を有する低分子量ＰＴＦＥを製造することができる。上記高分子量ＰＴＦＥに実質的に酸素不存在下、かつ遊離水素原子を生成し得る物質共存下で電離性放射線を照射した場合、遊離水素原子が、照射によって生成した分子中の炭素ラジカルをキャッピングすることで、水素原子を有する低分子量ＰＴＦＥ分子が生成する。低分子量ＰＴＦＥ分子中の水素原子は、水素付加体由来の官能基として吸収周波数３０００～４０００ｃｍ^－１付近で検出される。

本開示の製造方法によれば、例えば、以下の低分子量ＰＴＦＥを製造することができる。

低分子量ＰＴＦＥ（１）：
３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであり、
真空下での電子スピン共鳴測定により得られるピークが以下の関係式（Ｉ）を充足し、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満であり、かつ、上述した加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が１００質量ｐｐｂ未満である低分子量ポリテトラフルオロエチレン。
関係式（Ｉ）：３．０＞Ｐｅａｋ Ｍ／Ｐｅａｋ Ａ＞０．３
（式中、Ｐｅａｋ Ｍは低分子量ポリテトラフルオロエチレン中の末端ラジカルに対応するｔｒｉｐｌｅｔの中心のピーク高さを表し、Ｐｅａｋ Ａは低分子量ポリテトラフルオロエチレン中の主鎖ラジカルに対応するｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔのピーク高さを表す。）

低分子量ＰＴＦＥ（１）は、真空下でのＥＳＲ測定により得られるピークが上記関係式（Ｉ）を充足する。上記関係式（Ｉ）を充足することは、主鎖上のアルキル型過酸化ラジカル量及び分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルがほとんど存在しないことを示す。
真空下でのＥＳＲ測定の条件は、上述したとおりである。

低分子量ＰＴＦＥ（１）においては、比Ｐｅａｋ Ｍ／Ｐｅａｋ Ａが２．５未満であることがより好ましく、２．０未満であることが更に好ましい。
また、比Ｐｅａｋ Ａ／Ｐｅａｋ Ｍが０．４よりも大きいことがより好ましく、０．４５よりも大きいことが更に好ましい。

低分子量ＰＴＦＥ（１）は、全ての工程を、生成物を一度も酸素に暴露することなく実施することにより製造することができる。

低分子量ＰＴＦＥ（２）：
３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであり、大気下での電子スピン共鳴（ＥＳＲ）測定により得られるピークが以下の関係式（１）及び（２）を充足し、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満であり、かつ、上述した加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が１００質量ｐｐｂ未満である低分子量ポリテトラフルオロエチレン。
関係式（１）：Ｐｅａｋ Ｍ２／Ｐｅａｋ Ａ１≧１．０
（式中、Ｐｅａｋ Ｍ２は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルに対応する負のピーク強度の絶対値を表し、Ｐｅａｋ Ａ１は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの主鎖上に捕捉されたアルキル型過酸化ラジカルに対応する負のピーク強度の絶対値を表す。）
関係式（２）：Ｐｅａｋ Ｍ２／Ｐｅａｋ Ｍ３＜１．０
（式中、Ｐｅａｋ Ｍ２は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルに対応する負のピーク強度の絶対値を表し、Ｐｅａｋ Ｍ３は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルに対応する正のピーク強度の絶対値を表す。）

低分子量ＰＴＦＥ（２）は、大気下でのＥＳＲ測定により得られるピークが上記関係式（１）及び（２）を充足する。これにより、主鎖上のアルキル型過酸化ラジカル量が分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカル量に対して９０．９１％以上の割合で存在することになる。
上記ＥＳＲ測定は、大気下で、以下の条件にて実施する。
装置：日本電子株式会社（ＪＥＯＬ）製、ＪＥＳ－ＲＥ２Ｘ
測定温度：２４±２℃
マイクロ波周波数：９．４２－９．４４ＧＨｚ
マイクロ波出力：０．１ｍＷ及び０．０４ｍＷ
中心磁場：３３３．０ｍＴ
掃引幅：±１５ｍＴ又は±２５ｍＴ
掃引時間：２分
時定数：０．１秒
磁場変調幅：０．２ｍＴ
スキャン回数：１回
変調周波数：１００ｋＨｚ

上記ＥＳＲ測定（大気下）では、低分子量ＰＴＦＥの分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルに対応する負のピークＭ２、低分子量ＰＴＦＥの分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルに対応する正のピークＭ３、及び、低分子量ＰＴＦＥの主鎖上に捕捉されたアルキル型過酸化ラジカルに対応する負のピークＡ１が、主に観測される。
ピークＭ２は、磁場強度３３２．０～３３３．０ｍＴに観測される正ピークであってよい。
ピークＭ３は、磁場強度３３３．２～３３４．２ｍＴに観測される負ピークであってよい。
ピークＡ１は、磁場強度３３４．５～３３５．５ｍＴに観測される負ピークであってよい。
図２に、これらのピークの一例を示す。なお、ピークＭ２及びＭ３を合わせたものをピークＭ１と表記している。
なお、酸素存在下で照射を行って得られた低分子量ＰＴＦＥでは、ピークＡ１が小さくなる。

関係式（１）において、Ｐｅａｋ Ｍ２は、上述したピークＭ２の強度の絶対値を表し、Ｐｅａｋ Ａ１は、上述したピークＡ１の強度の絶対値を表す。
関係式（１）において、Ｐｅａｋ Ｍ２／Ｐｅａｋ Ａ１は１．０以上であり、１．２以上であることが好ましい。Ｐｅａｋ Ｍ２／Ｐｅａｋ Ａ１は、また、６．０以下であってよく、５．５以下であることが好ましい。

関係式（２）において、Ｐｅａｋ Ｍ２は、上述したピークＭ２の強度の絶対値を表し、Ｐｅａｋ Ｍ３は、上述したピークＭ３の強度の絶対値を表す。
関係式（２）において、Ｐｅａｋ Ｍ２／Ｐｅａｋ Ｍ３は１．０未満であり、０．９以下であることが好ましい。Ｐｅａｋ Ｍ２／Ｐｅａｋ Ｍ３は、また、０．１以上であってよく、０．２以上であることが好ましい。

低分子量ＰＴＦＥ（２）は、ＴＦＥホモポリマーであることも好ましい。

低分子量ＰＴＦＥ（３）：
３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであり、＝ＣＨＦ、－ＣＨＦ－、－ＣＨ_２Ｆ、－ＣＨＦ_２及び－ＣＨ_３からなる群より選択される少なくとも１種の水素原子を含む分子構造と、分子鎖末端のＣＦ_３－と、－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＦ＝ＣＦ_２及び－ＣＦ＝ＣＦ－ＣＦ_３からなる群より選択される少なくとも１種の二重結合を含む分子構造とを含み、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満であり、かつ、上述した加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が１００質量ｐｐｂ未満である低分子量ポリテトラフルオロエチレン。

低分子量ＰＴＦＥ（３）は、－ＣＨＦ－、＝ＣＨＦ、－ＣＨ_２Ｆ、－ＣＨＦ_２及び－ＣＨ_３からなる群より選択される少なくとも１種の水素原子を含む分子構造と、分子鎖末端のＣＦ_３－と、－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＦ＝ＣＦ_２及び－ＣＦ＝ＣＦ－ＣＦ_３からなる群より選択される少なくとも１種の二重結合を含む分子構造とを含む。これにより、低分子量ＰＴＦＥ（３）は、水素原子を含む異種の有機物質との相溶性に優れる。
低分子量ＰＴＦＥ（３）は、－ＣＨＦ－、＝ＣＨＦ、－ＣＨ_２Ｆ及び－ＣＨＦ_２からなる群より選択される少なくとも１種の水素原子を含む分子構造と、分子鎖末端のＣＦ_３－と、－ＣＦ＝ＣＦ－ＣＦ_３で表される分子構造とを含むことが好ましく、－ＣＨＦ－、＝ＣＨＦ、－ＣＨ_２Ｆ及び－ＣＨＦ_２で表される分子構造と、分子鎖末端のＣＦ_３－と、－ＣＦ＝ＣＦ－ＣＦ_３で表される分子構造とを含むことがより好ましい。
低分子量ＰＴＦＥが上述した構造を分子内に有することは、^１９Ｆ ＭＡＳ ＮＭＲにより確認できる。測定条件や、各構造に帰属される信号の位置については、上述したとおりである。

低分子量ＰＴＦＥ（４）：
３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであり、－ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２－及び－ＣＦ（ＣＦ_３）_２からなる群より選択される少なくとも１種の分子構造と、分子鎖末端のＣＦ_３－と、－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＦ＝ＣＦ_２及び－ＣＦ＝ＣＦ－ＣＦ_３からなる群より選択される少なくとも１種の二重結合を含む分子構造とを含み、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満であり、かつ、上述した加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が１００質量ｐｐｂ未満である低分子量ポリテトラフルオロエチレン。

低分子量ＰＴＦＥ（４）は、－ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２－及び－ＣＦ（ＣＦ_３）_２からなる群より選択される少なくとも１種の分子構造と、分子鎖末端のＣＦ_３－と、－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＦ＝ＣＦ_２及び－ＣＦ＝ＣＦ－ＣＦ_３からなる群より選択される少なくとも１種の二重結合を含む分子構造とを含む。
低分子量ＰＴＦＥ（４）は、ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２－及び－ＣＦ（ＣＦ_３）_２で表される分子構造と、分子鎖末端のＣＦ_３－と、－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＦ＝ＣＦ_２及び－ＣＦ＝ＣＦ－ＣＦ_３で表される分子構造とを含むことが好ましい。
低分子量ＰＴＦＥ（４）は、－ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２－で表される分子構造と、分子鎖末端のＣＦ_３－と、－ＣＦ＝ＣＦ－ＣＦ_３で表される分子構造とを含むことも好ましい。
低分子量ＰＴＦＥが上述した構造を分子内に有することは、^１９Ｆ ＭＡＳ ＮＭＲにより確認できる。測定条件や、各構造に帰属される信号の位置については、上述したとおりである。

低分子量ＰＴＦＥ（５）：
３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであり、以下の式（３）により求める規格値が１．１～１０．０であり、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満である低分子量ポリテトラフルオロエチレン。
式（３）：
規格値＝（上記低分子量ＰＴＦＥの、水素付加体由来の官能基の吸光度）／（遊離水素原子を生成し得る物質の非存在下で放射線照射を行って得られた低分子量ＰＴＦＥの、水素付加体由来の官能基の吸光度）

水素付加体由来の官能基に対応する吸光度（Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ）は、以下の方法により測定することができる。
（測定方法）
特開平４－２０５０７号公報記載の末端基の分析方法に準拠する。
低分子量ＰＴＦＥ粉末をハンドプレスにて予備成形し、０．１～１．０ｍｍ厚みのフィルムを作製する。作製したフィルムについて赤外吸収スペクトル分析する。ＰＴＦＥにフッ素ガスを接触させて作製した分子中に存在する官能基を完全にフッ素化除去したＰＴＦＥの赤外吸収スペクトル分析も行い、両者の差スペクトルから、ＰＴＦＥ分子中の水素付加体由来の官能基に対応する吸光度（Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ）の高さを計測することができる。
得られた差スペクトルの３０００ｃｍ^－１から４０００ｃｍ^－１の範囲で拡大し、３３００ｃｍ^－１から３９７０ｃｍ^－１の範囲でベースラインを引く。そのとき、３５５６ｃｍ^－１のピークトップの高さを計測することで、ＰＴＦＥ分子中の水素付加体由来の官能基に対応する吸光度（Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ）の絶対値を求めることができる。

上記規格値は、１．１～１０．０であるが、１．１～８．０であることが好ましく、１．１～６．０であることがより好ましい。

上記規格値が上述した範囲内にあることは、上記低分子量ＰＴＦＥが、遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で放射線照射を行って得られたものであることを示している。

式（３）における、上記遊離水素原子を生成し得る物質の非存在下で放射線照射を行って得られた低分子量ＰＴＦＥは、遊離水素原子を生成し得る物質の非存在下で放射線照射を行う点を除き、低分子量ＰＴＦＥ（５）と同じ条件で製造されたものであることが好ましい。

なお、遊離水素原子を生成し得る物質がない状態で電離性放射線を照射した場合、理論的にはＰＴＦＥ分子中の水素付加体由来の官能基に対応する吸光度（Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ）は０．０００となる。しかし実際には、電離放射線照射工程で用いる容器等から生じる極めて微量の遊離水素原子により、上記吸光度は通常、０．００１～０．００５となる。

低分子量ＰＴＦＥ（１）～（５）の好適な溶融粘度、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の含有量、並びに、炭素数９～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の含有量については、本開示の製造方法により得られる低分子量ＰＴＦＥについて上述したのと同様である。

低分子量ＰＴＦＥ（１）～（５）は、パーフルオロオクタン酸を含むパーフルオロカルボン酸及びそれらの塩の量が極めて少ないだけでなく、加工時等、各種の用途に適用する段階で酸素存在下に加熱した場合であっても、パーフルオロオクタン酸を含むパーフルオロカルボン酸及びそれらの塩を生成しにくい。低分子量ＰＴＦＥ（１）～（５）は、従来公知の低分子量ＰＴＦＥと比べても何ら劣ることのない優れた物性を有し、従来公知の低分子量ＰＴＦＥと同じ方法で使用でき、同じ用途に使用することができる。

上記低分子量ＰＴＦＥは、分子鎖末端に主鎖炭素数１０^６個あたり５個以下のカルボキシル基を有していることが好ましい。上記カルボキシル基は、主鎖炭素数１０^６個あたり４個以下がより好ましく、３個以下が更に好ましい。下限は特に限定されず、検出限界未満の量であってよい。上記カルボキシル基は、例えば、上記高分子量ＰＴＦＥに酸素存在下で上記放射線を照射することにより、上記低分子量ＰＴＦＥの分子鎖末端に生じる。
上記カルボキシル基の数は、下記方法により測定した値である。この測定方法による検出限界は０．５個である。
（測定方法）
特開平４－２０５０７号公報記載の末端基の分析方法に準拠し、以下の測定を行う。
低分子量ＰＴＦＥ粉末をハンドプレスにて予備成形し、０．１～１．０ｍｍ厚みのフィルムを作製する。作製したフィルムについて赤外吸収スペクトル分析する。ＰＴＦＥにフッ素ガスを接触させて作製した末端を完全フッ素化したＰＴＦＥの赤外吸収スペクトル分析も行い、両者の差スペクトルから次式により末端カルボキシル基の個数を算出する。
末端カルボキシル基の個数（炭素数１０^６個あたり）＝（ｌ×Ｋ）／ｔ
ｌ：吸光度
Ｋ：補正係数
ｔ：フィルムの厚み（ｍｍ）
カルボキシル基の吸収周波数は３５６０ｃｍ^－１前後、補正係数は４４０とする。

上記低分子量ＰＴＦＥは、酸素存在下での放射線照射、又は、照射によって生成したラジカルと酸素との反応によって生成し得る、カルボキシル基以外の官能基の含有量も低減されている。上記カルボキシル基以外の官能基としては、例えば、分子鎖末端の酸フルオライド基（－ＣＯＦ）、分子鎖中のカルボニル基（－ＣＯ－）が挙げられる。
上記低分子量ＰＴＦＥは、分子鎖末端の酸フルオライド基に対応する吸光度（Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ）が０．０２５以下であることが好ましく、０．０２０以下であることがより好ましい。下限は特に限定されず、検出限界未満の値であってよい。
また、分子鎖中のカルボニル基に対応する吸光度が０．０２０以下であることが好ましく、０．０１０以下であることがより好ましい。下限は特に限定されず、検出限界未満の値であってよい。
上記吸光度は、特開平４－２０５０７号公報記載の末端基の分析方法に準拠して測定する値である。
なお、酸フルオライド基の吸収周波数は１８８０ｃｍ^－１前後、カルボニル基の吸収周波数は１８１０ｃｍ^－１前後である。

上記低分子量ＰＴＦＥの分子鎖末端には、上記高分子量ＰＴＦＥの重合反応において使用された重合開始剤又は連鎖移動剤の化学構造に由来する不安定末端基が生じていてもよい。上記不安定末端基としては特に限定されず、例えば、－ＣＨ_２ＯＨ、－ＣＯＯＨ、－ＣＯＯＣＨ_３等が挙げられる。

上記低分子量ＰＴＦＥは、不安定末端基の安定化を行ったものであってもよい。上記不安定末端基の安定化の方法としては特に限定されず、例えば、フッ素含有ガスに曝露することにより末端をトリフルオロメチル基〔－ＣＦ_３〕に変化させる方法等が挙げられる。

上記低分子量ＰＴＦＥはまた、末端アミド化を行ったものであってもよい。上記末端アミド化の方法としては特に限定されず、例えば、特開平４－２０５０７号公報に開示されているように、フッ素含有ガスに曝露する等して得られたフルオロカルボニル基〔－ＣＯＦ〕をアンモニアガスと接触させる方法等が挙げられる。

上記低分子量ＰＴＦＥが上述の不安定末端基の安定化又は末端アミド化を行ったものであると、塗料、グリース、化粧品、メッキ液、トナー、プラスチックス等の相手材への添加剤として用いる場合に、相手材となじみやすく、分散性を向上させることができる。

放射線を照射するＰＴＦＥは、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）単位のみからなるホモＰＴＦＥであってもよいし、ＴＦＥ単位及びＴＦＥと共重合可能な変性モノマーに基づく変性モノマー単位を含む変性ＰＴＦＥであってもよい。本開示の製造方法において、ポリマーの組成は変化しないので、上記低分子量ＰＴＦＥは、上記放射線を照射するＰＴＦＥが有する組成をそのまま有する。

上記変性ＰＴＦＥにおいて、上記変性モノマー単位の含有量は、全単量体単位の０．００１～１質量％であることが好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、また、０．５質量％以下がより好ましく、０．１質量％以下が更に好ましい。本明細書において、上記変性モノマー単位とは、変性ＰＴＦＥの分子構造の一部分であって変性モノマーに由来する部分を意味し、全単量体単位とは、変性ＰＴＦＥの分子構造における全ての単量体に由来する部分を意味する。上記変性モノマー単位の含有量は、フーリエ変換型赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）等の公知の方法により求めることができる。

上記変性モノマーとしては、ＴＦＥとの共重合が可能なものであれば特に限定されず、例えば、ヘキサフルオロプロピレン〔ＨＦＰ〕等のパーフルオロオレフィン；クロロトリフルオロエチレン〔ＣＴＦＥ〕等のクロロフルオロオレフィン；トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン〔ＶＤＦ〕等の水素含有フルオロオレフィン；パーフルオロビニルエーテル；パーフルオロアルキルエチレン；エチレン等が挙げられる。また、用いる変性モノマーは１種であってもよいし、複数種であってもよい。

上記パーフルオロビニルエーテルとしては特に限定されず、例えば、下記一般式（１）
ＣＦ_２＝ＣＦ－ＯＲｆ （１）
（式中、Ｒｆは、パーフルオロ有機基を表す。）で表されるパーフルオロ不飽和化合物等が挙げられる。本明細書において、上記「パーフルオロ有機基」とは、炭素原子に結合する水素原子が全てフッ素原子に置換されてなる有機基を意味する。上記パーフルオロ有機基は、エーテル酸素を有していてもよい。

上記パーフルオロビニルエーテルとしては、例えば、上記一般式（１）において、Ｒｆが炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基を表すものであるパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）〔ＰＡＶＥ〕が挙げられる。上記パーフルオロアルキル基の炭素数は、好ましくは１～５である。

上記ＰＡＶＥにおけるパーフルオロアルキル基としては、例えば、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等が挙げられるが、パーフルオロアルキル基がパーフルオロプロピル基であるパープルオロ（プロピルビニルエーテル）〔ＰＰＶＥ〕が好ましい。

上記パーフルオロビニルエーテルとしては、更に、上記一般式（１）において、Ｒｆが炭素数４～９のパーフルオロ（アルコキシアルキル）基であるもの、Ｒｆが下記式：

（式中、ｍは、０又は１～４の整数を表す。）で表される基であるもの、Ｒｆが下記式：

（式中、ｎは、１～４の整数を表す。）で表される基であるもの等が挙げられる。

パーフルオロアルキルエチレンとしては特に限定されず、例えば、（パーフルオロブチル）エチレン（ＰＦＢＥ）、（パーフルオロヘキシル）エチレン、（パーフルオロオクチル）エチレン等が挙げられる。

上記変性ＰＴＦＥにおける変性モノマーとしては、ＨＦＰ、ＣＴＦＥ、ＶＤＦ、ＰＰＶＥ、ＰＦＢＥ及びエチレンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。より好ましくは、ＨＦＰ及びＣＴＦＥからなる群より選択される少なくとも１種である。

上記低分子量ＰＴＦＥは、成形材料、インク、化粧品、塗料、グリース、オフィスオートメーション機器用部材、トナーを改質する添加剤、複写機の有機感光体材料、めっき液への添加剤等として好適に使用することができる。上記成形材料としては、例えば、ポリオキシベンゾイルポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド等のエンジニアリングプラスチックが挙げられる。上記低分子量ＰＴＦＥは、特に、グリース用粘稠剤として好適である。

上記低分子量ＰＴＦＥは、成形材料の添加剤として、例えば、コピーロールの非粘着性・摺動特性の向上、家具の表層シート、自動車のダッシュボード、家電製品のカバー等のエンジニアリングプラスチック成形品の質感を向上させる用途、軽荷重軸受、歯車、カム、プッシュホンのボタン、映写機、カメラ部品、摺動材等の機械的摩擦を生じる機械部品の滑り性や耐摩耗性を向上させる用途、エンジニアリングプラスチックの加工助剤等として好適に用いることができる。

上記低分子量ＰＴＦＥは、塗料の添加剤として、ニスやペンキの滑り性向上の目的に用いることができる。上記低分子量ＰＴＦＥは、化粧品の添加剤として、ファンデーション等の化粧品の滑り性向上等の目的に用いることができる。

上記低分子量ＰＴＦＥは、更に、ワックス等の撥油性又は撥水性を向上させる用途や、グリースやトナーの滑り性を向上させる用途にも好適である。

上記低分子量ＰＴＦＥは、二次電池や燃料電池の電極バインダー、電極バインダーの硬度調整剤、電極表面の撥水処理剤等としても使用できる。

上記低分子量ＰＴＦＥと潤滑油とを使用してグリースを調製することもできる。上記グリースは、上記低分子量ＰＴＦＥと潤滑油とを含有することを特徴とすることから、潤滑油中に上記低分子量ＰＴＦＥが均一かつ安定に分散しており、耐荷重性、電気絶縁性、低吸湿性等の特性に優れている。

上記潤滑油（基油）は、鉱物油であっても、合成油であってもよい。上記潤滑油（基油）としては、例えば、パラフィン系やナフテン系の鉱物油、合成炭化水素油、エステル油、フッ素オイル、シリコーンオイルのような合成油等が挙げられる。耐熱性の観点からはフッ素オイルが好ましく、上記フッ素オイルとしては、パーフルオロポリエーテルオイル、三フッ化塩化エチレンの低重合物等が挙げられる。三フッ化塩化エチレンの低重合物は、重量平均分子量が５００～１２００であってよい。

上記グリースは、更に、増稠剤を含むものであってもよい。上記増稠剤としては、金属石けん、複合金属石けん、ベントナイト、フタロシアニン、シリカゲル、ウレア化合物、ウレア・ウレタン化合物、ウレタン化合物、イミド化合物等が挙げられる。上記金属石けんとしては、例えばナトリウム石けん、カルシウム石けん、アルミニウム石けん、リチウム石けん等が挙げられる。また上記ウレア化合物、ウレア・ウレタン化合物及びウレタン化合物としては、例えばジウレア化合物、トリウレア化合物、テトラウレア化合物、その他のポリウレア化合物、ウレア・ウレタン化合物、ジウレタン化合物又はこれらの混合物等が挙げられる。

上記グリースは、上記低分子量ＰＴＦＥを０．１～６０質量％含むことが好ましく、０．５質量％以上含むことがより好ましく、５質量％以上含むことが更に好ましく、５０質量％以下含むことがより好ましい。上記低分子量ＰＴＦＥの量が多すぎると、グリースが硬くなりすぎて、充分な潤滑性を発揮できないおそれがあり、上記低分子量ＰＴＦＥの量が少なすぎると、シール性が発揮できないおそれがある。

上記グリースは、固体潤滑剤、極圧剤、酸化防止剤、油性剤、さび止め剤、粘度指数向上剤、清浄分散剤等を含むこともできる。

本開示は、３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンと、遊離水素原子を生成し得る物質とを含み、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満である組成物にも関する。
本開示の組成物は、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が少ない新規な低分子量ＰＴＦＥ組成物である。

本開示の組成物における上記低分子量ＰＴＦＥのモノマー組成や、好適な溶融粘度については、本開示の製造方法により得られる低分子量ＰＴＦＥについて上述したのと同様である。

本開示の組成物における上記低分子量ＰＴＦＥは、水素原子を含む分子構造、及び、二重結合を含む分子鎖からなる群より選択される少なくとも１種を分子内に有するものであってよい。水素原子を含む分子構造、及び、二重結合を含む分子鎖については、上述したとおりである。

本開示の組成物における上記低分子量ＰＴＦＥは、また、上述した低分子量ＰＴＦＥ（１）～（５）と同様のＥＳＲ（真空下又は大気下）ピークや分子構造、規格値を有するものであってもよい。これらのピークや分子構造、規格値については、上述したとおりである。

本開示の組成物における上記遊離水素原子を生成し得る物質としては、本開示の製造方法における工程（１）において使用することが可能な遊離水素原子を生成し得る物質と同様のものを挙げることができる。

本開示の組成物における上記遊離水素原子を生成し得る物質は、少なくとも一部が分解又は架橋されたものであってよく、少なくとも一部が放射線により分解又は架橋されたものであってよい。

本開示の組成物における上記遊離水素原子を生成し得る物質の形態は限定されない。

本開示の組成物における上記遊離水素原子を生成し得る物質の含有量は、上記低分子量ＰＴＦＥに対し、０．０００１～１０００質量％であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましく、２質量％以上であることが更に好ましく、１０質量％以上であることが特に好ましく、また、１５０質量％以下であることがより好ましく、１００質量％以下であることが更に好ましく、５０質量％以下であることが更により好ましく、２５質量％以下であることが特に好ましい。

本開示の組成物において、上記遊離水素原子を生成し得る物質が高分子化合物（分子量１０００以上）である場合、その量は、上記低分子量ＰＴＦＥに対し、０．１～１０００質量％であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることが更に好ましく、１０質量％以上であることが特に好ましく、また、１００質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以下であることが更に好ましく、２５質量％以下であることが特に好ましい。

本開示の組成物において、上記遊離水素原子を生成し得る物質が低分子化合物（分子量１０００未満）である場合、その量は、上記低分子量ＰＴＦＥに対し、０．０００１～１００質量％であることが好ましく、０．００１質量％以上であることがより好ましく、０．０１質量％以上であることが更に好ましく、０．１質量％以上であることが特に好ましく、また、１００質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以下であることが更に好ましく、１０質量％以下であることが特に好ましい。

本開示の組成物は、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満である。上記パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量は２０質量ｐｐｂ以下であることが好ましく、１５質量ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１０質量ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、５質量ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、５質量ｐｐｂ未満であることが特に好ましい。下限は特に限定されず、例えば検出限界未満の量であってもよく、０．００１質量ｐｐｂであってもよく、１質量ｐｐｂであってもよい。
上記パーフルオロオクタン酸及びその塩の量は、液体クロマトグラフィーにより測定できる。

本開示の組成物は、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が５０質量ｐｐｂ以下であってよく、２５質量ｐｐｂ未満であることが好ましく、２０質量ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１５質量ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１０質量ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、５質量ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、５質量ｐｐｂ未満であることが最も好ましい。下限は特に限定されず、例えば検出限界未満の量であってもよく、０．００１質量ｐｐｂであってもよく、１質量ｐｐｂであってもよい。
本開示の組成物が、上述した工程（２）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）、工程（Ｘ）又は工程（Ｙ２）を経て得られたものである場合、上記炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量は、工程（２）、複合工程（Ａ）、複合工程（Ｃ）、工程（Ｘ）又は工程（Ｙ２）を実施した後の時点で、上記範囲内にあることが好ましく、更なる加熱（例えば、加工時の加熱）を実施した後の時点でも、上記範囲内にあることがより好ましい。
上記パーフルオロカルボン酸及びその塩の量は、液体クロマトグラフィーにより測定できる。
また、本開示の組成物は、炭素数９～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が上記範囲内にあることも好ましい。

本開示の組成物は、上述した加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の量が１００質量ｐｐｂ未満であってよく、５０質量ｐｐｂ未満であってもよく、２５質量ｐｐｂ未満であってよく、２０質量ｐｐｂ以下であることが好ましく、１５質量ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１０質量ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、５質量ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、５質量ｐｐｂ未満であることが特に好ましい。下限は特に限定されず、例えば検出限界未満の量であってもよく、０．００１質量ｐｐｂであってもよく、１質量ｐｐｂであってもよい。
加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の量が上記範囲内にある組成物は、加工時等、各種の用途に適用する段階で酸素存在下に加熱した場合であっても、パーフルオロオクタン酸及びその塩を生成しにくい。

本開示の組成物は、上述した加熱・測定条件Ｂに従って求める炭素数９～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が１００質量ｐｐｂ未満であってよく、５０質量ｐｐｂ未満であってもよく、２５質量ｐｐｂ未満であることが好ましく、２０質量ｐｐｂ以下であることがより好ましく、１５質量ｐｐｂ以下であることが更に好ましく、１０質量ｐｐｂ以下であることが更により好ましく、５質量ｐｐｂ以下であることが特に好ましく、５質量ｐｐｂ未満であることが最も好ましい。下限は特に限定されず、例えば検出限界未満の量であってもよく、０．００１質量ｐｐｂであってもよく、１質量ｐｐｂであってもよい。
加熱・測定条件Ｂに従って求める上記パーフルオロカルボン酸及びその塩の量が上記範囲内にある組成物は、加工時等、各種の用途に適用する段階で酸素存在下に加熱した場合であっても、上記パーフルオロカルボン酸及びその塩を生成しにくい。

本開示の組成物は、例えば、上述した本開示の製造方法により製造することができる。

本開示の組成物は、上述した本開示の製造方法により得られる低分子量ＰＴＦＥと同様の用途に適用することができる。なかでも、成形材料の添加剤として好適に適用できる。特に、上記成形材料が上記遊離水素原子を生成し得る物質と同種の物質である場合には、本開示の組成物をそのまま添加することができるので、好ましい。
必要に応じて、本開示の組成物から上記遊離水素原子を生成し得る物質を除去してから用途に供してもよい。
本開示の組成物に含まれる低分子量ＰＴＦＥは、従来公知の低分子量ＰＴＦＥと比べても何ら劣ることのない優れた物性を有し、従来公知の低分子量ＰＴＦＥと同じ方法で使用でき、同じ用途に使用することができる。

次に実施例を挙げて本開示を更に詳しく説明するが、本開示はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

実施例の各数値は以下の方法により測定した。

溶融粘度
ＡＳＴＭ Ｄ １２３８に準拠し、フローテスター（島津製作所社製）及び２φ－８Ｌのダイを用い、予め３８０℃で５分間加熱しておいた２ｇの試料を０．７ＭＰａの荷重にて上記温度に保って測定を行った。

パーフルオロオクタン酸及びその塩（ＰＦＯＡ）の含有量
液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，ＬＣ－ＭＳ ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用い、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量の測定を行った。測定粉末１ｇにアセトニトリル５ｍｌを加え、６０分間の超音波処理を行い、パーフルオロオクタン酸を抽出した。得られた液相について、ＭＲＭ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｒｅａｃｔｉｏｎ Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ）法を用いて測定した。移動相としてアセトニトリル（Ａ）と酢酸アンモニウム水溶液（２０ｍｍｏｌ／Ｌ）（Ｂ）を、濃度勾配（Ａ／Ｂ＝４０／６０－２ｍｉｎ－８０／２０－１ｍｉｎ）で送液した。分離カラム（ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ ＢＥＨ Ｃ１８ １．７μｍ）を使用し、カラム温度は４０℃、注入量は５μＬとした。イオン化法はＥＳＩ（Ｅｌｅｃｔｒｏｓｐｒａｙ ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ） Ｎｅｇａｔｉｖｅを使用し、コーン電圧は２５Ｖに設定し、プリカーサーイオン分子量／プロダクトイオン分子量は４１３／３６９を測定した。パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量は外部標準法を用い、算出した。この測定における検出限界は５質量ｐｐｂである。

大気中再加熱後のＰＦＯＡの含有量
５０ｃｃのステンレス製の筒型気密容器に大気下で２～２０ｇの試料を充填し、蓋をして１５０℃で１８時間加熱を行った。
上記加熱後の試料１ｇを用いて、上記と同様の方法により、ＰＦＯＡの含有量を測定した。

炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）の含有量
液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，ＬＣ－ＭＳ ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用い、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の含有量の測定を行った。測定粉末１ｇを用いて、上記と同様にしてパーフルオロオクタン酸及びその塩を抽出した液相を使用し、ＭＲＭ法を用いて測定した。測定条件はパーフルオロオクタン酸の測定条件から、濃度勾配を変更し（Ａ／Ｂ＝１０／９０－１．５ｍｉｎ－９０／１０－３．５ｍｉｎ）、プリカーサーイオン分子量／プロダクトイオン分子量は、パーフルオロブタン酸（炭素数４）は２１３／１６９、パーフルオロペンタン酸（炭素数５）は２６３／２１９、パーフルオロヘキサン酸（炭素数６）は３１３／２６９、パーフルオロヘプタン酸（炭素数７）は３６３／３１９、パーフルオロオクタン酸（炭素数８）は４１３／３６９、パーフルオロノナン酸（炭素数９）は４６３／４１９、パーフルオロデカン酸（炭素数１０）は５１３／４６９、パーフルオロウンデカン酸（炭素数１１）は５６３／５１９、パーフルオロドデカン酸（炭素数１２）は６１３／５６９、パーフルオロトリデカン酸（炭素数１３）は６６３／６１９、パーフルオロテトラデカン酸（炭素数１４）は７１３／６６９を測定した。
炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の合計量は、上記測定より得られたパーフルオロオクタン酸の含有量（Ｘ）から下記式を用いて算出した。この測定における検出限界は５質量ｐｐｂである。
（Ａ_Ｃ４＋Ａ_Ｃ５＋Ａ_Ｃ６＋Ａ_Ｃ７＋Ａ_Ｃ８＋Ａ_Ｃ９＋Ａ_Ｃ１０＋Ａ_Ｃ１１＋Ａ_Ｃ１２＋Ａ_Ｃ１３＋Ａ_Ｃ１４）／Ａ_Ｃ８×Ｘ
Ａ_Ｃ４：パーフルオロブタン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ５：パーフルオロペンタン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ６：パーフルオロヘキサン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ７：パーフルオロヘプタン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ８：パーフルオロオクタン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ９：パーフルオロノナン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ１０：パーフルオロデカン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ１１：パーフルオロウンデカン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ１２：パーフルオロドデカン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ１３：パーフルオロトリデカン酸のピーク面積
Ａ_Ｃ１４：パーフルオロテトラデカン酸のピーク面積
Ｘ：ＭＲＭ法を用いた測定結果から外部標準法を用いて算出したパーフルオロオクタン酸の含有量
炭素数９～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の含有量も、上記に準じて測定した。

大気中再加熱後のＰＦＣの含有量
５０ｃｃのステンレス製の筒型気密容器に大気下で２～２０ｇの試料を充填し、蓋をして１５０℃で１８時間加熱を行った。
上記加熱後の試料１ｇを用いて、上記と同様の方法により、ＰＦＣの含有量を測定した。

水素付加体由来の官能基に対応する吸光度の規格値
測定粉末と、遊離水素原子を生成し得る物質の非存在下で放射線照射を行う点以外は上記測定粉末と同様にして得られた粉末とについて、下記測定方法により吸光度を求め、下記式により規格値を算出した。
規格値＝（測定粉末の水素付加体由来の官能基の吸光度）／（遊離水素原子を生成し得る物質の非存在下で放射線照射を行って得られた粉末の水素付加体由来の官能基の吸光度）
（測定方法）
水素付加体由来の官能基に対応する吸光度（Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ）は、特開平４－２０５０７号公報記載の末端基の分析方法に準拠して測定した。
低分子量ＰＴＦＥ粉末をハンドプレスにて予備成形し、０．１～１．０ｍｍ厚みのフィルムを作製した。作製したフィルムについて赤外吸収スペクトル分析した。ＰＴＦＥにフッ素ガスを接触させて作製した分子中に存在する官能基を完全にフッ素化除去したＰＴＦＥの赤外吸収スペクトル分析も行い、両者の差スペクトルから、ＰＴＦＥ分子中の水素付加体由来の官能基に対応する吸光度（Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ）の高さを計測した。
得られた差スペクトルの３０００ｃｍ^－１から４０００ｃｍ^－１の範囲で拡大し、３３００ｃｍ^－１から３９７０ｃｍ^－１の範囲でベースラインを引いた。そのとき、３５５６ｃｍ^－１のピークトップの高さを計測することで、ＰＴＦＥ分子中の水素付加体由来の官能基に対応する吸光度（Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ）の絶対値を求めた。

密閉容器内の酸素濃度
密閉容器内の気層部分をガスクロマトグラフィーにて分析することにより測定した。更に、密閉容器内に同封した酸素インジケーターの色調が紫色から桃色に変化することで、酸素濃度が２．０体積％未満（酸素不在）であることを確認した。更に、酸素濃度計でも酸素濃度が２．０体積％未満であることを確認した。
酸素濃度が０．１体積％未満であることの確認も、同様に行った。

実施例１
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）２０ｇを重量天秤で計量して、バリアナイロン製の袋に入れた。次いで、同様に重量天秤にて２０ｇに計量したポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）をバリアナイロン製の袋に入れた。高分子量ＰＴＦＥとポリエチレンペレットは、バリアナイロン製の袋の真ん中付近に仕切りを設けることで、お互い接触しないようにし、ガスのみが流通できるようにした。更に脱酸素剤（Ａ－５００ＨＳ、アズワン（株）製）を高分子量ＰＴＦＥ側とポリエチレンペレット側にそれぞれ１個ずつ入れた。次いで、真空シーラー装置（富士インパルス（株）Ｖ－３００－１０Ｗ）を用いて袋内を減圧状態（２０ｔｏｒｒ）にした後、ヒートシールにより密封した。袋内に予め設置しておいた酸素インジケーターにより、袋内が酸素不在であることを確認した後、上記バリアナイロン製の袋に対して、４００ｋＧｙのγ線を照射した。この時の照射条件は、試料中心での平均線量率６．２５ｋＧｙ／ｈ、照射施設内の室温は２５℃であった。
続いて、袋を開封することなく、２０～２８℃の室温で１５日間保管（自然失活プロセス）した後、開封することなく袋の状態でそのままＦＯＲＣＥＤ ＣＯＮＶＥＣＴＩＯＮ ＯＶＥＮ（アドバンテック社製ＤＲＸ６２０ＤＡ）を用いて８０℃で１８時間加熱処理（加速失活プロセス）を行い、低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１に示す。

実施例２
実施例１と同様の方法でγ線を照射した。続いて、その袋を開封し、大気中で１日開放状態にした後、５０ｍＬのＳＵＳ製筒型オートクレーブにＰＴＦＥのみを入れ、更に新たな脱酸素剤（Ａ－５００ＨＳ、アズワン（株）製）を１個入れ、密閉した。次いで、オートクレーブ内で窒素ガスの流通と油回転ポンプによる排気を３回繰り返した後、オートクレーブ内を減圧状態（２．７ｔｏｒｒ）にした。ＦＯＲＣＥＤ ＣＯＮＶＥＣＴＩＯＮ ＯＶＥＮ（アドバンテック社製ＤＲＸ６２０ＤＡ）を用いて８０℃で１８時間加熱処理（加速失活プロセス）を行い、低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１に示す。

実施例３
オートクレーブに脱酸素剤を入れなかった以外、実施例２と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１に示す。

比較例１
ポリエチレンペレットをバリアナイロン製の袋に入れなかった以外は、実施例１と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１に示す。

比較例２
ポリエチレンペレットをバリアナイロン製の袋に入れなかった以外は、実施例２と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１に示す。

比較例３
ポリエチレンペレットをバリアナイロン製の袋に入れなかった以外は、実施例３と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１に示す。

実施例４
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇを重量天秤で計量して、バリアナイロン製の袋に入れた。次いで、同様に重量天秤にて１５ｇに計量したポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）をバリアナイロン製の袋に入れた。高分子量ＰＴＦＥとポリエチレンペレットは、バリアナイロン袋の中で混合するようにした。更に脱酸素剤（Ａ－５００ＨＳ、アズワン（株）製）を１袋その中に入れた。次いで、真空シーラー装置（富士インパルス（株）Ｖ－３００－１０Ｗ）を用いて袋内を減圧状態（２０ｔｏｒｒ）にした後、ヒートシールにより密封した。袋内に予め設置しておいた酸素インジケーターにより、袋内が酸素不在であることを確認した後、上記バリアナイロン製の袋に対して、４００ｋＧｙのγ線を照射した。この時の照射条件は、試料中心での平均線量率６．２５ｋＧｙ／ｈ、照射施設内の室温は２５℃であった。
続いて、袋を開封することなく、２０～２８℃の室温で２３日間保管（自然失活プロセス）した後、開封することなく袋の状態でそのままＦＯＲＣＥＤ ＣＯＮＶＥＣＴＩＯＮ ＯＶＥＮ（アドバンテック社製ＤＲＸ６２０ＤＡ）を用いて８０℃で１８時間、３６時間、７２時間、１６８時間の加熱処理（加速失活プロセス）を行い、低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表２に示す。

比較例４
ポリエチレンペレットをバリアナイロン製の袋に入れなかった以外は、実施例４と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表２に示す。

実施例５－１
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇを重量天秤で計量して、バリアナイロン製の袋に入れた。次いで、同様に重量天秤にて０．３ｇ、１．５ｇ、３．０ｇ、７．５ｇ、１５ｇに計量したポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）をそれぞれバリアナイロン製の袋に入れた。高分子量ＰＴＦＥとポリエチレンペレットは、バリア性ナイロン袋の中で混合するようにした。更に脱酸素剤（Ａ－５００ＨＳ、アズワン（株）製）を１袋その中に入れた。次いで、真空シーラー装置（富士インパルス（株）Ｖ－３００－１０Ｗ）を用いて袋内を減圧状態（２０ｔｏｒｒ）にした後、ヒートシールにより密封した。袋内に予め設置しておいた酸素インジケーターにより、袋内が酸素不在であることを確認した後、上記バリアナイロン製の袋に対して、４００ｋＧｙのγ線を照射した。この時の照射条件は、試料中心での平均線量率６．２５ｋＧｙ／ｈ、照射施設内の室温は２５℃であった。続いて、袋を開封することなく、２０～２８℃の室温で２３日間保管（自然失活プロセス）した後、開封することなく袋の状態でそのままＦＯＲＣＥＤ ＣＯＮＶＥＣＴＩＯＮ ＯＶＥＮ（アドバンテック社製ＤＲＸ６２０ＤＡ）を用いて８０℃で１８時間の加熱処理（加速失活プロセス）を行い、低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表３に示す。

実施例５－２
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（２）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７５、変性体１、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）を用いたこと以外は、実施例５－１と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表３に示す。

実施例５－３
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（３）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１６８、変性体２、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）を用いたこと以外は、実施例５－１と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表３に示す。

実施例５－４
高分子量ＰＴＦＥモールディングパウダー（４）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１６０、ホモ体、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）を用いたこと以外は、実施例５－１と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表３に示す。

比較例５－１
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対して、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかったこと以外は、実施例５－１と同様の操作を行った。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表３に示す。

比較例５－２
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（２）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７５、変性体１、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対して、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかったこと以外は、実施例５－２と同様の操作を行った。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表３に示す。

比較例５－３
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（３）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１６８、変性体２、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対して、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかったこと以外は、実施例５－３と同様の操作を行った。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表３に示す。

比較例５－４
高分子量ＰＴＦＥモールディングパウダー（４）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１６０、ホモ体、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対して、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかったこと以外は、実施例５－４と同様の操作を行った。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表３に示す。

実施例６－１
３０Ｌのアルミ製の袋（内袋ポリエチレン）を１８Ｌの一斗缶にセットし、重量天秤にて０．２ｋｇに計量したポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）と脱酸素剤（Ａ－５００ＨＳ、アズワン（株）製）１５袋を上記袋の底に入れた。そこに、高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）２ｋｇを重量天秤で計量して、上記アルミ製の袋に入れた。更にその上に上記ポリエチレンペレットを０．２ｋｇと脱酸素剤１０袋を入れ、また更にその上に上記ＰＴＦＥを２ｋ入れた。これを繰り返し、トータルで、ＰＴＦＥ８ｋｇ、ポリエチレン０．８ｋｇ、脱酸素剤５０袋になるように入れた後、袋内を油回転ポンプによる排気を行った後、袋内を減圧状態（２Ｅ－２ｔｏｒｒ）にした後、ヒートシールを用いて、袋を密封した。上記一斗缶に対して片面ずつにそれぞれ１７９ｋＧｙのγ線を照射し、トータル３５８ｋＧｙとした。この時の照射条件は、試料中心での平均線量率６．２５ｋＧｙ／ｈ、照射施設内の室温は２５℃であった。続いて、袋を開封することなく、２０～２８℃の室温で１８日間保管（自然失活プロセス）した後、開封することなく袋の状態でそのままＦＯＲＣＥＤ ＣＯＮＶＥＣＴＩＯＮ ＯＶＥＮ（アドバンテック社製ＤＲＸ６２０ＤＡ）を用いて８０℃で９６時間の加熱処理（加速失活プロセス）を行い、低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表４に示す。

実施例６－２
３０Ｌのアルミ製の袋（内袋ポリエチレン）を１８Ｌの一斗缶にセットし、重量天秤にて０．５ｋｇに計量したポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）と脱酸素剤（Ａ－５００ＨＳ、アズワン（株）製）１０袋を上記袋の底に入れた。そこに、高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（２）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７５、変性体１、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）１ｋｇを重量天秤にて計量し、上記アルミ製の袋に入れた。更にその上に上記ポリエチレンペレットを０．５ｋｇと脱酸素剤１０袋を入れ、また更にその上に上記ＰＴＦＥを１ｋ入れた。これを繰り返し、トータルで、ＰＴＦＥ６ｋｇ、ポリエチレン３ｋｇ、脱酸素剤５０袋になるように入れた後、袋内を油回転ポンプによる排気を行った後、袋内を減圧状態（２Ｅ－２ｔｏｒｒ）にした後、ヒートシールを用いて、袋を密封した。上記一斗缶に対して片面ずつにそれぞれ２００ｋＧｙのγ線を照射し、トータル４００ｋＧｙとした。この時の照射条件は、試料中心での平均線量率６．２５ｋＧｙ／ｈ、照射施設内の室温は２５℃であった。続いて、袋を開封することなく、２０～２８℃の室温で２日間保管（自然失活プロセス）した後、開封することなく袋の状態でそのままＦＯＲＣＥＤ ＣＯＮＶＥＣＴＩＯＮ ＯＶＥＮ（アドバンテック社製ＤＲＸ６２０ＤＡ）を用いて８０℃で３６時間の加熱処理（加速失活プロセス）を行い、低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表５に示す。

実施例７
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇを重量天秤で計量して、バリアナイロン製の袋に入れた。次いで、同様に重量天秤にて１５ｇ、３０ｇ、４５ｇ、６０ｇに計量したポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）をそれぞれバリアナイロン製の袋に入れた。高分子量ＰＴＦＥとポリエチレンペレットは、バリア性ナイロン袋の中で混合するようにした。更に脱酸素剤（Ａ－５００ＨＳ、アズワン（株）製）を１袋その中に入れた。次いで、真空シーラー装置（富士インパルス（株）Ｖ－３００－１０Ｗ）を用いて袋内を減圧状態（２０ｔｏｒｒ）にした後、ヒートシールにより密封した。袋内に予め設置しておいた酸素インジケーターは桃色であった。バリアナイロン製袋内のＰＴＦＥを、電子の透過深度以下になるように薄く均一に分散させ、２ＭＶの日新電機（株）製電子加速器（定格２ＭＶ、６０ｋＷ）を用いて、２ＭＶ，２ｍＡで、４００ｋＧｙの電子線照射を行った。このとき、移動照射を行い移動速度に対する吸収線量は、１パスあたり５ｋＧｙであり、室温で照射を開始し、照射終了時の温度は５０℃であった。続いて、袋を開封することなく、２０～２８℃の室温で１２日間保管（自然失活プロセス）した後、開封することなく袋の状態でそのままＦＯＲＣＥＤ ＣＯＮＶＥＣＴＩＯＮ ＯＶＥＮ（アドバンテック社製ＤＲＸ６２０ＤＡ）を用いて８０℃で１８時間の加熱処理（加速失活プロセス）を行い、低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表６に示す。

比較例７
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対し、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかった以外は、実施例７と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表６に示す。

実施例８
縦×横×高さが１００ｍｍ×１００ｍｍ×１０ｍｍの各アルミ製トレイに、脱酸素剤（Ａ－５００ＨＳ、アズワン（株）製）１袋を入れた後、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）をそれぞれ、２ｇ、４ｇ、８ｇ、１２ｇ、２０ｇを重量天秤で計量して入れた。その上に高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）を、トレイの上面擦切りまで入れた。全体の重量を重量天秤で計量して、高分子量ＰＴＦＥの仕込み量を計算し、ポリエチレンの添加率を求めた。これをバリアナイロン製の袋に入れ、真空シーラー装置（富士インパルス（株）Ｖ－３００－１０Ｗ）を用いて袋内を減圧状態（２０ｔｏｒｒ）にした後、ヒートシールにより密封した。袋内に予め設置しておいた酸素インジケーターは桃色であった。２ＭＶの日新電機（株）製電子加速器（定格２ＭＶ、６０ｋＷ）を用いて、２ＭＶ，２ｍＡで、４００ｋＧｙの電子線照射を行った。このとき、移動照射を行い移動速度に対する吸収線量は、１パスあたり５ｋＧｙであり、室温で照射を開始し、照射終了時の温度は５０℃であった。続いて、袋を開封することなく、２０～２８℃の室温で５日間保管（自然失活プロセス）した後、開封することなく袋の状態でそのままＦＯＲＣＥＤ ＣＯＮＶＥＣＴＩＯＮ ＯＶＥＮ（アドバンテック社製ＤＲＸ６２０ＤＡ）を用いて８０℃で２４時間の加熱処理（加速失活プロセス）を行い、低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表７に示す。

比較例８
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）に対し、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかった以外は、実施例８と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表７に示す。

実施例９
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇを重量天秤で計量して、バリアナイロン製の袋に入れた。次いで、同様に重量天秤にて３０ｇに計量したポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）をさきほどのバリアナイロン製の袋に入れた。高分子量ＰＴＦＥとポリエチレンペレットは、バリア性ナイロン袋の中で混合するようにした。更に脱酸素剤（Ａ－５００ＨＳ、アズワン（株）製）を１袋その中に入れた。次いで、真空シーラー装置（富士インパルス（株）Ｖ－３００－１０Ｗ）を用いて袋内を減圧状態（２０ｔｏｒｒ）にした後、ヒートシールにより密封した。袋内に予め設置しておいた酸素インジケーターは桃色であった。バリアナイロン製袋内のＰＴＦＥを、電子の透過深度以下になるように薄く均一に分散させ、２ＭＶの日新電機（株）製電子加速器（定格２ＭＶ、６０ｋＷ）を用いて、２ＭＶ，２ｍＡで、３５０ｋＧｙ、４００ｋＧｙ、４５０ｋＧｙの電子線照射を行った。このとき、移動照射を行い移動速度に対する吸収線量は、１パスあたり５ｋＧｙであり、室温で照射を開始し、照射終了時の温度は５０℃であった。続いて、袋を開封することなく、２０～２８℃の室温で１２日間保管（自然失活プロセス）した後、開封することなく袋の状態でそのままＦＯＲＣＥＤ ＣＯＮＶＥＣＴＩＯＮ ＯＶＥＮ（アドバンテック社製ＤＲＸ６２０ＤＡ）を用いて８０℃で１８時間の加熱処理（加速失活プロセス）を行い、低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表８に示す。

比較例９
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対し、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかった以外は、実施例９と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表８に示す。

実施例１０－１
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇを重量天秤で計量して、バリアナイロン製の袋に入れた。次いで、同様に重量天秤にて３ｇに計量したポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）をさきほどのバリアナイロン製の袋に入れた。高分子量ＰＴＦＥとポリエチレンペレットは、バリア性ナイロン袋の中で混合するようにした。更に脱酸素剤（Ａ－５００ＨＳ、アズワン（株）製）を１袋その中に入れた。次いで、真空シーラー装置（富士インパルス（株）Ｖ－３００－１０Ｗ）を用いて袋内を減圧状態（２０ｔｏｒｒ）にした後、ヒートシールにより密封した。袋内に予め設置しておいた酸素インジケーターは桃色であった。バリアナイロン製袋内のＰＴＦＥを、電子の透過深度以下になるように薄く均一に分散させ、２ＭＶの日新電機（株）製電子加速器（定格２ＭＶ、６０ｋＷ）を用いて、２ＭＶ，２ｍＡで、４００ｋＧｙの電子線照射を行った。このとき、移動照射を行い移動速度に対する吸収線量は、１パスあたり５ｋＧｙであり、室温で照射を開始し、照射終了時の温度は５０℃であった。続いて、袋を開封することなく、２０～２８℃の室温で２日間保管（自然失活プロセス）した後、開封することなく袋の状態でそのままＦＯＲＣＥＤ ＣＯＮＶＥＣＴＩＯＮ ＯＶＥＮ（アドバンテック社製ＤＲＸ６２０ＤＡ）を用いて８０℃で１８時間、７２時間、１６８時間の加熱処理（加速失活プロセス）を行い、低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表９に示す。

実施例１０－２
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対し、同様に重量天秤にて１５ｇに計量したポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）をさきほどのバリアナイロン製の袋に入れた以外は、実施例１０－１と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表９に示す。

比較例１０
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対し、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかった以外は、実施例１０－１と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表９に示す。

実施例１１－１
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇを重量天秤で計量して、バリアナイロン製の袋に入れた。次いで、同様に重量天秤にて１．５ｇ、３ｇ、７．５ｇ、１５ｇに計量したポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）をそれぞれさきほどのバリアナイロン製の袋に入れた。高分子量ＰＴＦＥとポリエチレンペレットは、バリア性ナイロン袋の中で混合するようにした。更に脱酸素剤（Ａ－５００ＨＳ、アズワン（株）製）を１袋その中に入れた。次いで、真空シーラー装置（富士インパルス（株）Ｖ－３００－１０Ｗ）を用いて袋内を減圧状態（２０ｔｏｒｒ）にした後、ヒートシールにより密封した。袋内に予め設置しておいた酸素インジケーターは桃色であった。バリアナイロン製袋内のＰＴＦＥを、電子の透過深度以下になるように薄く均一に分散させ、２ＭＶの日新電機（株）製電子加速器（定格２ＭＶ、６０ｋＷ）を用いて、２ＭＶ，２ｍＡで、４００ｋＧｙの電子線照射を行った。このとき、移動照射を行い移動速度に対する吸収線量は、１パスあたり５ｋＧｙであり、室温で照射を開始し、照射終了時の温度は５０℃であった。続いて、袋を開封することなく、２０～２８℃の室温で２日間保管（自然失活プロセス）した後、開封することなく袋の状態でそのままＦＯＲＣＥＤ ＣＯＮＶＥＣＴＩＯＮ ＯＶＥＮ（アドバンテック社製ＤＲＸ６２０ＤＡ）を用いて８０℃で１８時間の加熱処理（加速失活プロセス）を行い、低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１０に示す。

実施例１１－２
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（２）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７５、変性体１、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）を用いたこと以外は、実施例１１－１と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１０に示す。

実施例１１－３
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（３）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１６８、変性体２、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）を用いたこと以外は、実施例１１－１と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１０に示す。

実施例１１－４
高分子量ＰＴＦＥモールディングパウダー（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１６０、ホモ体、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）を用いたこと以外は、実施例１１－１と同様の方法で低分子量ＰＴＦＥ粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１０に示す。

比較例１１－１
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（１）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７１、ホモ体、炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩（ＰＦＣ）並びにＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対して、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかったこと以外は、実施例１１－１と同様の操作を行った。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１０に示す。

比較例１１－２
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（２）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１７５、変性体１、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対して、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかったこと以外は、実施例１１－２と同様の操作を行った。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１０に示す。

比較例１１－３
高分子量ＰＴＦＥファインパウダー（３）（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１６８、変性体２、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対して、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかったこと以外は、実施例１１－３と同様の操作を行った。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１０に示す。

比較例１１－４
高分子量ＰＴＦＥモールディングパウダー（ＡＳＴＭ Ｄ ４８９５に準拠し、測定した標準比重：２．１６０、ホモ体、ＰＦＣ及びＰＦＯＡの濃度は検出限界未満である）３０ｇに対して、ポリエチレンペレット（ハーモレックスＬＬＤＰＥ、日本ポリエチレン（株）製）を添加しなかったこと以外は、実施例１１－４と同様の操作を行った。得られた低分子量ＰＴＦＥ粉末の各種物性を測定した。結果を表１０に示す。

Claims (26)

1. ３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、
   遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程（１）、及び、
   前記照射により生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルの少なくとも一部を実質的に酸素の不存在下で失活させることにより、前記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（２）
   を含み、
   前記工程（１）を、実質的に真空若しくは不活性ガス雰囲気中、又は、閉鎖系の密閉容器内で実施し、
   前記遊離水素原子を生成し得る物質は、合成高分子、生分解性高分子及び多糖類からなる群より選択される少なくとも１種である低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
2. ３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、
   遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程（１）、及び、
   工程（１）で得られた低分子量化物を、実質的に酸素の不存在下、ポリテトラフルオロエチレンの室温転移温度（β_１分散温度である１９℃）以上の温度で加温又は加熱処理することにより、前記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（２ａ）
   を含み、
   前記工程（１）を、実質的に真空若しくは不活性ガス雰囲気中、又は、閉鎖系の密閉容器内で実施し、
   前記遊離水素原子を生成し得る物質は、合成高分子、生分解性高分子及び多糖類からなる群より選択される少なくとも１種である低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
3. 工程（２ａ）における加温又は加熱処理を、７０℃以上の温度で行う請求項２記載の製造方法。
4. ３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、
   遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程（１）、及び、
   工程（１）で得られた低分子量化物を、前記照射が終了した時点から１０分間以上、実質的に酸素が不存在である環境下に保持することにより、前記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（２ｂ）
   を含み、
   前記工程（１）を、実質的に真空若しくは不活性ガス雰囲気中、又は、閉鎖系の密閉容器内で実施し、
   前記遊離水素原子を生成し得る物質は、合成高分子、生分解性高分子及び多糖類からなる群より選択される少なくとも１種である低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
5. 工程（２ｂ）における保持を、１０時間以上行う請求項４記載の製造方法。
6. ３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、
   遊離水素原子を生成し得る物質の存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程（１）、及び、
   前記照射により生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルの少なくとも一部を失活させることにより、前記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程（２）
   を含み、工程（１）及び（２）を同時に実施し、
   前記工程（１）を、実質的に真空若しくは不活性ガス雰囲気中、又は、閉鎖系の密閉容器内で実施し、
   前記遊離水素原子を生成し得る物質は、合成高分子、生分解性高分子及び多糖類からなる群より選択される少なくとも１種である低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法。
7. 前記遊離水素原子を生成し得る物質の量は、前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンに対し、０．０００１～１０００質量％である請求項１～６のいずれかに記載の製造方法。
8. 工程（１）における放射線の線量が１０～１０００ｋＧｙである請求項１～７のいずれかに記載の製造方法。
9. 工程（１）における放射線の線量が１００～７５０ｋＧｙである請求項１～８のいずれかに記載の製造方法。
10. 工程（１）を、実質的に酸素の不存在下で実施する請求項１～９のいずれかに記載の製造方法。
11. 工程（２）を、実質的に酸素の不存在下で実施する請求項６～１０のいずれかに記載の製造方法。
12. 工程（１）の開始から工程（２）の終了までの期間中、実質的に酸素が不存在の状態を維持する請求項１～１１のいずれかに記載の製造方法。
13. 前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンは、標準比重が２．１３０～２．２３０である請求項１～１２のいずれかに記載の製造方法。
14. 前記高分子量ポリテトラフルオロエチレン及び前記低分子量ポリテトラフルオロエチレンがいずれも粉末である請求項１～１３のいずれかに記載の製造方法。
15. 工程（１）の前に、更に、前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを、その一次融点以上に加熱することにより成形品を得る工程（３）を含み、前記成形品は、比重が１．０ｇ／ｃｍ^３以上である請求項１～１４のいずれかに記載の製造方法。
16. ３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓである低分子量ポリテトラフルオロエチレンと、遊離水素原子を生成し得る物質とを含み、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満であり、
    前記遊離水素原子を生成し得る物質は、合成高分子、生分解性高分子及び多糖類からなる群より選択される少なくとも１種であり、
    前記低分子量ポリテトラフルオロエチレンは、分子鎖末端に主鎖炭素数１０^６個あたり５個以下のカルボキシル基を有する組成物。
17. 下記加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が１００質量ｐｐｂ未満である請求項１６記載の組成物。
    （加熱・測定条件Ａ）
    ５０ｃｃのステンレス製の筒型気密容器に大気下で２～２０ｇの試料を充填し、蓋をして１５０℃で１８時間加熱を行う。
    液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，ＬＣ－ＭＳ ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用い、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量の測定を行う。上記加熱後の試料１ｇにアセトニトリル５ｍｌを加え、６０分間の超音波処理を行い、パーフルオロオクタン酸を抽出する。得られた液相について、ＭＲＭ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｒｅａｃｔｉｏｎ Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ）法を用いて測定する。移動相としてアセトニトリル（Ａ）と酢酸アンモニウム水溶液（２０ｍｍｏｌ／Ｌ）（Ｂ）を、濃度勾配（Ａ／Ｂ＝４０／６０－２ｍｉｎ－８０／２０－１ｍｉｎ）で送液する。分離カラム（ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ ＢＥＨ Ｃ１８ １．７μｍ）を使用し、カラム温度は４０℃、注入量は５μＬとする。イオン化法はＥＳＩ（Ｅｌｅｃｔｒｏｓｐｒａｙ ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ） Ｎｅｇａｔｉｖｅを使用し、コーン電圧は２５Ｖに設定し、プリカーサーイオン分子量／プロダクトイオン分子量は４１３／３６９を測定する。パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量は外部標準法を用い、算出する。
18. 加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が５０質量ｐｐｂ未満である請求項１７記載の組成物。
19. 加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満である請求項１７又は１８記載の組成物。
20. 炭素数９～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が２５質量ｐｐｂ未満である請求項１６～１９のいずれかに記載の組成物。
21. 炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が２５質量ｐｐｂ未満である請求項１６～２０のいずれかに記載の組成物。
22. ３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであり、
    真空下での電子スピン共鳴測定により得られるピークが以下の関係式（Ｉ）を充足し、
    パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満であり、かつ、下記加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が１００質量ｐｐｂ未満である低分子量ポリテトラフルオロエチレン。
    関係式（Ｉ）：３．０＞Ｐｅａｋ Ｍ／Ｐｅａｋ Ａ＞０．３
    （式中、Ｐｅａｋ Ｍは低分子量ポリテトラフルオロエチレン中の末端ラジカルに対応するｔｒｉｐｌｅｔの中心のピーク高さを表し、Ｐｅａｋ Ａは低分子量ポリテトラフルオロエチレン中の主鎖ラジカルに対応するｄｏｕｂｌｅ ｑｕｉｎｔｅｔのピーク高さを表す。）
    （加熱・測定条件Ａ）
    ５０ｃｃのステンレス製の筒型気密容器に大気下で２～２０ｇの試料を充填し、蓋をして１５０℃で１８時間加熱を行う。
    液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，ＬＣ－ＭＳ ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用い、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量の測定を行う。上記加熱後の試料１ｇにアセトニトリル５ｍｌを加え、６０分間の超音波処理を行い、パーフルオロオクタン酸を抽出する。得られた液相について、ＭＲＭ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｒｅａｃｔｉｏｎ Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ）法を用いて測定する。移動相としてアセトニトリル（Ａ）と酢酸アンモニウム水溶液（２０ｍｍｏｌ／Ｌ）（Ｂ）を、濃度勾配（Ａ／Ｂ＝４０／６０－２ｍｉｎ－８０／２０－１ｍｉｎ）で送液する。分離カラム（ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ ＢＥＨ Ｃ１８ １．７μｍ）を使用し、カラム温度は４０℃、注入量は５μＬとする。イオン化法はＥＳＩ（Ｅｌｅｃｔｒｏｓｐｒａｙ ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ） Ｎｅｇａｔｉｖｅを使用し、コーン電圧は２５Ｖに設定し、プリカーサーイオン分子量／プロダクトイオン分子量は４１３／３６９を測定する。パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量は外部標準法を用い、算出する。
23. ３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであり、
    大気下での電子スピン共鳴測定により得られるピークが以下の関係式（１）及び（２）を充足し、
    パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満であり、かつ、下記加熱・測定条件Ａに従って求めるパーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が１００質量ｐｐｂ未満である低分子量ポリテトラフルオロエチレン。
    関係式（１）：Ｐｅａｋ Ｍ２／Ｐｅａｋ Ａ１≧１．０
    （式中、Ｐｅａｋ Ｍ２は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルに対応する負のピーク強度の絶対値を表し、Ｐｅａｋ Ａ１は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの主鎖上に捕捉されたアルキル型過酸化ラジカルに対応する負のピーク強度の絶対値を表す。）
    関係式（２）：Ｐｅａｋ Ｍ２／Ｐｅａｋ Ｍ３＜１．０
    （式中、Ｐｅａｋ Ｍ２は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルに対応する負のピーク強度の絶対値を表し、Ｐｅａｋ Ｍ３は低分子量ポリテトラフルオロエチレンの分子鎖末端に捕捉された過酸化ラジカルに対応する正のピーク強度の絶対値を表す。）
    （加熱・測定条件Ａ）
    ５０ｃｃのステンレス製の筒型気密容器に大気下で２～２０ｇの試料を充填し、蓋をして１５０℃で１８時間加熱を行う。
    液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，ＬＣ－ＭＳ ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用い、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量の測定を行う。上記加熱後の試料１ｇにアセトニトリル５ｍｌを加え、６０分間の超音波処理を行い、パーフルオロオクタン酸を抽出する。得られた液相について、ＭＲＭ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｒｅａｃｔｉｏｎ Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ）法を用いて測定する。移動相としてアセトニトリル（Ａ）と酢酸アンモニウム水溶液（２０ｍｍｏｌ／Ｌ）（Ｂ）を、濃度勾配（Ａ／Ｂ＝４０／６０－２ｍｉｎ－８０／２０－１ｍｉｎ）で送液する。分離カラム（ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ ＢＥＨ Ｃ１８ １．７μｍ）を使用し、カラム温度は４０℃、注入量は５μＬとする。イオン化法はＥＳＩ（Ｅｌｅｃｔｒｏｓｐｒａｙ ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ） Ｎｅｇａｔｉｖｅを使用し、コーン電圧は２５Ｖに設定し、プリカーサーイオン分子量／プロダクトイオン分子量は４１３／３６９を測定する。パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量は外部標準法を用い、算出する。
24. ３８０℃における溶融粘度が１．０×１０^２～７．０×１０^５Ｐａ・ｓであり、以下の式（３）により求める規格値が１．１～１０．０であり、パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が２５質量ｐｐｂ未満である低分子量ポリテトラフルオロエチレン。
    式（３）：
    規格値＝（前記低分子量ＰＴＦＥの、水素付加体由来の官能基の吸光度）／（遊離水素原子を生成し得る物質の非存在下で放射線照射を行って得られた低分子量ＰＴＦＥの、水素付加体由来の官能基の吸光度）
25. 炭素数９～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が２５質量ｐｐｂ未満である請求項２２～２４のいずれかに記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレン。
26. 炭素数４～１４のパーフルオロカルボン酸及びその塩の総量が２５質量ｐｐｂ未満である請求項２２～２５のいずれかに記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレン。

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