JP7318868B2 - 試料の測定装置、測定方法およびプログラム - Google Patents
試料の測定装置、測定方法およびプログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7318868B2 JP7318868B2 JP2019217786A JP2019217786A JP7318868B2 JP 7318868 B2 JP7318868 B2 JP 7318868B2 JP 2019217786 A JP2019217786 A JP 2019217786A JP 2019217786 A JP2019217786 A JP 2019217786A JP 7318868 B2 JP7318868 B2 JP 7318868B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- image
- wavelength
- optical system
- fourier
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Description
このようなものでは、フォトニックバンド構造を有する試料にプリズムを介してビームを入射し、試料からの反射光を測定する。
そして、測定した反射スペクトルの入射角度依存性からフォトニックバンド構造を示すフォトニックバンドギャップ画像を作成している。
なお、他のフォトニックバンド構造を有する試料を測定する方法としては、エリプソメータを用いて、様々な方向から散乱してきた光を受光側のプローブの位置を移動させて変更するものが知られている。このようなものでは、測定された角度と強度とをプロットして、フォトニックバンドギャップ画像を作成している。
このため、フォトニックバンドギャップ画像から、バンドギャップ等の必要な情報を得るために手間がかかり、効率的に測定結果を利用することが困難であった。
図1に示すように、本実施形態の測定装置1は、平坦な上面を有する基台2と、被測定物である試料Fを載置する載置台3と、載置台3に載置された試料Fにブロードバンド光を照射する照射光学系4と、を備えている。
そして、コリメートレンズ17からの照射光は、第1ビームスプリッタ18を透過して対物レンズ9から載置台3の上に載置された試料Fに照射される。
本実施形態の第1ビームスプリッタ18および対物レンズ9は、筐体13に設けられている。そして、第1ビームスプリッタ18および対物レンズ9は、照射光学系4と後述する撮像光学系5および観察光学系15とによって共用されている。
そして、試料Fの反射光は、第1ビームスプリッタ18からの分光となり、第1フローライトレンズ22、反射鏡23、可変アパーチャ24、第2フローライトレンズ25から、第2ビームスプリッタ19を透過して、撮像部20に入光する。
本実施形態の波長可変フィルタ30は、制御部7に接続されている。制御部7には、画像生成部8、波長可変フィルタ制御部40および解析部50が設けられている。
撮像レンズ26は、分光された光をCMOSカメラ27に結像させる。
また、CMOSカメラ27は、制御部7と接続されている。制御部7は、CMOSカメラ27を通じて可視光域で観察される試料Fの様子を試料の実像としてモニタ28に表示させることができる。
このため、赤外線カメラ6で撮像されるハイパースペクトルフーリエ画像λは、それぞれの波長ごと(λ1,…)に生成される。ハイパースペクトルフーリエ画像(λ1,…)は、赤外領域における任意波長の回析パターンを示すことが知られている。
波長可変フィルタ30から赤外線カメラ6の撮像面6aまでは、テンセントリック光学系である。
図3は、撮像面6aで捉えられたハイパースペクトルフーリエ画像の一例λを示している。ハイパースペクトルフーリエ画像λでは、逆格子空間(K-Γ-M)におけるパワー分布に偏りが生じていることがわかる。
赤外領域における任意の回析パターンを得た後、それを基に分析可能な全ての波長に対し、ハイパースペクトルフーリエ画像(λ1,…)が撮像される。
このように、本実施形態の試料の測定装置1では、撮像光学系5で赤外光によって撮像している同じ試料Fを、観察光学系15を用いて可視光域で観察することができる。このため、XYステージ10および焦点調整機構12を用いて、試料Fと対物レンズ9との位置関係を容易に調整して、正確な測定を行うことができる。
本実施形態の試料の測定装置1では、まず試料Fを載置台3の上に載置する(図1参照)。
そして、ハロゲンランプ光源14による照光を開始すると、屈折レンズ16により屈折されて、コリメートレンズ17および第1ビームスプリッタ18を通過した照射光は、対物レンズ9を介して水平に配置される載置台3へ垂直で、かつ平行なブロードバンド光として照射される。
本実施形態の測定装置1では、実像表示部としてのモニタ28に、赤外線カメラ6で捉えたフーリエ面の画像とともに実像の試料Fを映し出すことができる。このため、XYステージ10および焦点調整機構12を用いた試料Fと対物レンズ9との位置関係の調整は、測定者の手動による調整の他、画像生成部8にプログラムされたサンプル位置制御ソフトウエア8fを用いて容易に行うことができる。
そこで、このようにして得られた複数のハイパースペクトルフーリエ画像(λ1,…)45を、解析部50のプログラムであるフォトニックバンドギャップ解析ソフトウエア50fによって解析する。
本実施形態の試料の測定装置1では、ハイパースペクトルフーリエ画像(λ1,…)を撮像しながら、直接、フォトニックバンドギャップ解析ソフトウエア50fによって解析を行える。このため、撮影と個別に解析する場合に比して高速で処理を行える。
したがって、一度の撮影で複数の異なる波長のハイパースペクトルフーリエ画像45が充分なサンプル量(例えば、図4に示すフーリエ画像(λ1,…)45等)となるように、多数撮影することが可能となる。そして、撮影とほぼ同時に制御部7(図1参照)では、解析部50によって解析の演算処理が可能となり、さらに高速でフォトニックバンドギャップ画像100を生成することができる。
本実施形態のフォトニックバンドギャップ画像100では、横軸に波数がまた縦軸に周波数がそれぞれ設定されている。本実施形態のフォトニックバンドギャップ画像100では、ある周波数で3本のバンド線E1,E2,E3が顕在化している。
本実施形態のフォトニックバンドギャップ画像100では、プロットされたバンド線E1,E2と、バンド線E3との中間部に空白部が存在する。測定者は、この空白部の存在によって、この部分にバンドギャップが生じていることを容易に判別できる。
このため、従来のように試料Fや試料Fが置かれる基板を徐々に傾けて複数の測定を行う必要がなくなり、光路の角度の調整等も簡便化されて、フォトニックバンドの測定が容易にしかも高速で行えるようになった。
そして、制御部7に設けられた画像生成部8、波長可変フィルタ制御部40、および解析部50は、試料Fの位置合わせから、波長可変フィルタ30の透過波長を変更させて、赤外領域における任意波長の回析パターンを示すハイパースペクトルフーリエ画像λをそれぞれの波長ごとに生成(λ1,…)し、複数のハイパースペクトルフーリエ画像を方向および波長にて解析してプロットしたフォトニックバンドギャップ画像100に変換するまで、一連の処理を同時に行う。
このように、制御部7にて、撮影から生成されたハイパースペクトルフーリエ画像(λ1,…)の解析まで行える。したがって、フォトニックバンドギャップ画像100に変換して表示するまでの時間を短縮することができる。
このため、さらにフォトニックバンドギャップ画像100に変換されるまでの時間を短縮することができる。
しかも、第1ビームスプリッタ18および第2ビームスプリッタ19の光軸は、XYステージ10の駆動により、照射光の光軸と一致するように容易に調整できる。このため、図3に示すように、観察するフーリエ面の画像は、中心から六角形の各頂点に向けて広がる放射状の各線にて区切られた領域は、ほぼ均等となる。
したがって、図1に示す解析部50では、バンドギャップの解析を行う際に、この領域の一つをさらに二等分(K-Γ-M)した範囲でフォトニックバンドギャップ解析ソフトウエア50fを用いて高速で解析する。
このため、基台2の上方に大半の光学機器が集約されて、測定装置1を小型化することができる。また、本実施形態の試料の測定装置1では、制御部7、モニタ28及びハロゲンランプ光源14が筐体13の外に設けられている。このため、プログラムの変更等、メンテナンスが容易におこなえる。
このため、外乱光の影響が減少して、サンプルの測定精度が向上し、さらに高速でかつ、正確にフォトニックバンドギャップ解析ソフトウエア50fによって解析することができる。
このため、試料Fの直上で、側方の撮像光学系5へ反射された測定光を用いて、正確なハイパースペクトルフーリエ画像λ(図3参照)を生成できる。
第2ビームスプリッタ19は、撮像光学系5の光路に設けられて、波長可変フィルタ30の前段で反射光を分光している。
そして、CMOSカメラ27は、第2ビームスプリッタ19から分光された可視光を撮像する。制御部7には、CMOSカメラ27で撮像された試料Fの実像が実像表示部としてのモニタ28に表示される。
このため、測定者は、モニタ28の画面を用いて、試料Fの実像と、ハイパースペクトルフーリエ画像(λ1,…)(図3参照)とを見比べながら、画像の中心を合わせる等の位置調整やピント合わせの作業を行える。したがって、測定の作業効率を良好なものとすることができる。
このため、試料Fの撮像から、プロットによるフォトニックバンドギャップ画像100(図4参照)の描画まで円滑にかつ、迅速に処理を行える。
図4に示すフォトニックバンドギャップ画像100では、3本のバンド線E1,E2,E3が得られる。これにより、プロットされたバンド線E1,E2と、バンド線E3との中間部には、空白部が存在している。測定者は、この部分にバンドギャップが生じていることを容易に判別できる。
このため、従来のように、試料Fの角度を変えて入射ビームの入射角度を変更したり、異なる角度と強度とを多数測定する必要がなくなり、短時間でハイパースペクトルフーリエ画像(λ1,…)の収集を行える。
したがって、従来のように測定者が試料Fの角度等を変えながら、フォトニックバンドギャップ画像としてプロットしなければならないものと比べて、短時間でフォトニックバンドギャップ画像100の描画が終了する。
このため、二次元にプロットされたフォトニックバンドギャップ画像100を用いて、直ちにバンドギャップ等の必要な情報を得ることが可能となった。よって、効率的に測定を行い、測定結果を利用することができる。
すなわち、試料Fに十分な照射光を照射できる照射光学系4を有して、試料Fから撮像および観察に十分な反射光を得られる構成であればよく、さらに好ましくは、試料Fに照射光を垂直に照射した際の反射光を撮像できる撮像光学系5であればなおよい。
2 基台
3 載置台
4 照射光学系
5 撮像光学系
6 赤外線カメラ
7 制御部
8 画像生成部
30 波長可変フィルタ
40 波長可変フィルタ制御部
50 解析部
F 試料
Claims (8)
- 被測定物である試料にブロードバンド光を照射する照射光学系と、
前記試料から反射された反射光のフーリエ面を撮像する赤外線カメラを有する撮像光学系と、
前記赤外線カメラによって撮像されたフーリエ面の画像からフォトニックバンドギャップ画像を生成する画像生成部を有する制御部と、
を備え、
前記撮像光学系は、前記赤外線カメラで撮像される反射光の波長をスイープにより変更する波長可変フィルタを有することを特徴とする試料の測定装置。 - 前記画像生成部は、前記波長可変フィルタの透過波長を変更させて、赤外領域における任意波長の回析パターンを示すハイパースペクトルフーリエ画像をそれぞれの波長ごとに生成する波長可変フィルタ制御部と、
複数の前記ハイパースペクトルフーリエ画像を方向および波長にて解析してプロットしたフォトニックバンドギャップ画像に変換する解析部とを有することを特徴とする請求項1に記載の試料の測定装置。 - 前記画像生成部は、フォトニックバンドギャップ画像を生成する際、前記フーリエ面の画像を所定の波長間隔で連続して取込むことを特徴とする請求項1または2に記載の試料の測定装置。
- 記試料が載置される載置台に正対する対物レンズと、前記対物レンズを前記試料に対して、近接または離反させる焦点調整機構と、前記焦点調整機構によって、対物レンズとともに移動する筐体とをさらに備え、
前記筐体の内部には、前記照射光学系または、前記撮像光学系の少なくとも一部が収容されていることを特徴とする請求項1~3の何れか一項に記載の試料の測定装置。 - 前記照射光学系の光路に設けられて、前記試料から反射された反射光を、前記撮像光学系へ分光する第1ビームスプリッタが設けられていることを特徴とする請求項1~4の何れか一項に記載の試料の測定装置。
- 第2ビームスプリッタと、可視光カメラとを有する観察光学系をさらに備え、
前記第2ビームスプリッタは、前記撮像光学系の光路に設けられて、前記波長可変フィルタの前段の反射光を分光し、
前記可視光カメラは、前記第2ビームスプリッタから分光された可視光を撮像するとともに、
前記制御部には、前記可視光カメラで撮像された前記試料の実像を表示可能とする実像表示部が設けられていることを特徴とする請求項1~5の何れか一項に記載の試料の測定装置。 - 波長可変フィルタの透過波長を変更させて、赤外領域における任意波長の回析パターンを示すハイパースペクトルフーリエ画像をそれぞれの波長ごとに生成することを特徴とするプログラム。
- 試料から取得した複数のハイパースペクトルフーリエ画像を少なくとも方向および波長にて解析してプロットしたフォトニックバンドギャップ画像に変換することを特徴とするプログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019217786A JP7318868B2 (ja) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | 試料の測定装置、測定方法およびプログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019217786A JP7318868B2 (ja) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | 試料の測定装置、測定方法およびプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021089146A JP2021089146A (ja) | 2021-06-10 |
JP7318868B2 true JP7318868B2 (ja) | 2023-08-01 |
Family
ID=76220003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019217786A Active JP7318868B2 (ja) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | 試料の測定装置、測定方法およびプログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7318868B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2024000342A (ja) * | 2022-06-20 | 2024-01-05 | 国立大学法人東京工業大学 | フォトニックバンドイメージング装置、フォトニックバンドイメージング方法およびプログラム |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006275568A (ja) | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Institute Of Physical & Chemical Research | フォトニック結晶導波路のフォトニックバンド構造の測定方法およびその装置 |
JP2014236127A (ja) | 2013-06-03 | 2014-12-15 | ローム株式会社 | 2次元フォトニック結晶面発光レーザ |
US20160202414A1 (en) | 2011-12-12 | 2016-07-14 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Systems And Methods For Suspended Polymer Photonic Crystal Cavities And Waveguides |
WO2016148075A1 (ja) | 2015-03-13 | 2016-09-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | 半導体発光素子 |
-
2019
- 2019-12-02 JP JP2019217786A patent/JP7318868B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006275568A (ja) | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Institute Of Physical & Chemical Research | フォトニック結晶導波路のフォトニックバンド構造の測定方法およびその装置 |
US20160202414A1 (en) | 2011-12-12 | 2016-07-14 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Systems And Methods For Suspended Polymer Photonic Crystal Cavities And Waveguides |
JP2014236127A (ja) | 2013-06-03 | 2014-12-15 | ローム株式会社 | 2次元フォトニック結晶面発光レーザ |
WO2016148075A1 (ja) | 2015-03-13 | 2016-09-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | 半導体発光素子 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
J. M. van den Broek,Inverse-Woodpile Photonic Band Gap Crystals with a Cubic Diamond-like Structure Made from Single-Crystalline,Advanced Functional Materials,Vol.22,2012年,p.25-31 |
Siying Peng,Probing the Band Structure of Topologoical Silicon Photonic Lattices in the Visible Spectrum,PHYSICAL REVIEW LETTER,Amerircan Physical Society,2019年03月,117401-1~6 |
岡田祥,光トポロジーを利用したSi基板上における光渦スプリッタに関する研究,信学技報,Vol.119, No230,日本,電子情報通信学会,2019年10月,p.113-118 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021089146A (ja) | 2021-06-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102347059B1 (ko) | 다수의 파라미터 구성들을 사용한 오버레이 계측 | |
JP5092104B2 (ja) | 分光測定装置、及び分光測定方法 | |
JP5269879B2 (ja) | サンプル表面を検査する分光画像形成方法及びシステム | |
TWI714716B (zh) | 用於超光譜成像計量之系統及方法 | |
JP3404134B2 (ja) | 検査装置 | |
JP2008268387A (ja) | 共焦点顕微鏡 | |
JP2010127726A (ja) | 光学顕微鏡、及びスペクトル測定方法 | |
JP6762221B2 (ja) | 光学特性測定装置および光学特性測定方法 | |
TW202140995A (zh) | 表面輪廓測量系統 | |
JP2022165355A (ja) | 撮像装置 | |
JP5563405B2 (ja) | 分光画像取得装置及び方法 | |
JP7318868B2 (ja) | 試料の測定装置、測定方法およびプログラム | |
US20130250088A1 (en) | Multi-color confocal microscope and imaging methods | |
KR101794641B1 (ko) | 파장 분리를 이용한 높이 및 형상측정이 가능한 경사 분광시스템 | |
JP2008020332A (ja) | 薄膜測定方法及び薄膜測定装置 | |
WO2016174963A1 (ja) | 顕微鏡装置 | |
JP2008529091A (ja) | 可変視野照射のための方法および装置 | |
KR101239409B1 (ko) | 2d 형상 정보와 3d 형상 정보의 동시 획득이 가능하며 레이저와 백색광을 광원으로 한 위상천이기반 형상측정장치 및 형상측정방법 | |
JP2019045396A (ja) | ラマン分光測定装置及びラマン分光測定方法 | |
JP6511263B2 (ja) | 平面分光干渉計 | |
JP5190603B2 (ja) | 光学顕微鏡、及び観察方法 | |
JP3667397B2 (ja) | ラマン分光装置 | |
WO2023032352A1 (ja) | ラマン-赤外分光分析複合機、およびラマン分光と赤外分光による測定方法 | |
JP2022176530A (ja) | レーザラスタ走査型画像取得装置及びこれを用いた画像表示装置 | |
JP2023114288A (ja) | 赤外ラマン顕微鏡 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7426 Effective date: 20191220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20191220 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220928 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230605 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230620 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230710 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7318868 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |