JP7316228B2

JP7316228B2 - 化合物および化合物の製造方法

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Description

本発明は、化合物およびその製造方法に関する。より詳しくは、Ｎ，Ｎ’－ジホルミル－Ｎ，Ｎ’－ジアルキルヒドラジン化合物およびその製造方法に関する。

ヒドラジン誘導体は、色素、医薬、農薬、工業材料などの機能性材料またはこれらの中間体など、種々の用途に用いられている。また、ヒドラジン誘導体の一種としてＮ，Ｎ’－ジホルミル－Ｎ，Ｎ’－ジアルキルヒドラジン化合物などがある。例えば、非特許文献１には下記構造の化合物が記載されている。

Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅｂｅｒｉｃｈｔｅ，２７，２２７７（１８９４）

Ｎ，Ｎ’－ジホルミル－Ｎ，Ｎ’－ジアルキルヒドラジン化合物に関し、近年、色素、医薬、農薬、工業材料またはこれらの中間体などに有用な新規な化合物についての開発が望まれている。

よって、本発明の目的は、色素、医薬、農薬、工業材料などの機能性材料またはこれらの中間体などに有用な新規な化合物およびその製造方法を提供することにある。

本発明は、以下を提供する。
＜１＞式（Ｉ）で表される化合物；

式（Ｉ）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は各々独立に炭素数３以上の無置換の直鎖アルキル基を表す。
＜２＞Ｒ^１１とＲ^１２が同一の基である、＜１＞に記載の化合物。
＜３＞式（ＩＩ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ）で表される化合物の１種又は２種以上とを反応させることを含む、式（Ｉ）で表される化合物の製造方法；

式（Ｉ）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は各々独立に炭素数３以上の無置換の直鎖アルキル基を表す；
式（ＩＩＩ）中、Ｒ^３１は炭素数３以上の無置換の直鎖アルキル基を表し、Ｘ^３１は脱離基を表す。
＜４＞式（ＩＩ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ）で表される化合物の１種又は２種以上とを、無機塩基の存在下で反応させる、＜３＞に記載の化合物の製造方法。

本発明によれば、色素、医薬、農薬、工業材料などの機能性材料またはこれらの中間体などに有用な新規な化合物およびその製造方法を提供することができる。

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基と共に置換基を有する基を包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程を意味するだけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。

本発明の化合物は、式（Ｉ）で表される化合物である。また、本発明の化合物の製造方法は、式（ＩＩ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ）で表される化合物の１種又は２種以上とを反応させることを含む、式（Ｉ）で表される化合物の製造方法である。

式（Ｉ）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は各々独立に炭素数３以上の無置換の直鎖アルキル基を表す。式（ＩＩＩ）中、Ｒ^３１は炭素数３以上の無置換の直鎖アルキル基を表し、Ｘ^３１は脱離基を表す。

まず、式（Ｉ）で表される化合物について説明する。式（Ｉ）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は各々独立に炭素数３以上の無置換の直鎖アルキル基を表す。Ｒ^１１およびＲ^１２は、炭素数３～２０の無置換の直鎖アルキル基であることが好ましく、炭素数３～１８の無置換の直鎖アルキル基であることがより好ましく、炭素数３～１４の無置換の直鎖アルキル基であることが更に好ましく、炭素数３～８の無置換の直鎖アルキル基であることがより一層好ましく、炭素数３～６の無置換の直鎖アルキル基であることが更に一層好ましく、炭素数４の無置換の直鎖アルキル基であることが特に好ましい。Ｒ^１１およびＲ^１２は同じでも異なっていてもよいが、同一であることが製造時の収率の観点で好ましい。

式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、下記構造の化合物が挙げられる。

式（Ｉ）で表される化合物は、各種機能性材料およびその中間体として好ましく用いることができる。具体的には、色素（染料、顔料など）、医薬、農薬、工業材料（分散剤、褪色防止剤、変色防止剤、界面活性剤、樹脂添加剤など）、食品添加剤、化粧品添加剤、土壌改良剤、水質改良剤またはこれらの中間体などに好ましく用いることができる。例えば、この化合物を各種機能性材料およびその中間体として用いることで、従来公知のＮ，Ｎ’－ジホルミル－Ｎ，Ｎ’－ジアルキルヒドラジン化合物では得られない物性や、生理活性などが期待できる。また、式（Ｉ）で表される化合物を原料として用いて各種反応を行った場合においては、各種反応生成物を従来よりも高い収率で製造することができる。例えば、Ｎ，Ｎ’－ジホルミル－Ｎ，Ｎ’－ジアルキルヒドラジン化合物の脱ホルミル体を製造する場合においては、式（Ｉ）で表される化合物を原料として用いることで、脱ホルミル体を従来よりも高い収率で製造することができる。その他、式（Ｉ）で表される化合物を原料として用いることで、種々のヒドラジン誘導体を従来よりも高い収率で製造することができる。

次に、式（Ｉ）で表される化合物の製造に用いられる原料である式（ＩＩＩ）で表される化合物について説明する。

式（ＩＩＩ）中、Ｒ^３１は炭素数３以上の無置換の直鎖アルキル基を表す。Ｒ^３１は、炭素数３～２０の無置換の直鎖アルキル基であることが好ましく、炭素数３～１８の無置換の直鎖アルキル基であることがより好ましく、炭素数３～１４の無置換の直鎖アルキル基であることが更に好ましく、炭素数３～８の無置換の直鎖アルキル基であることがより一層好ましく、炭素数３～６の無置換の直鎖アルキル基であることが更に一層好ましく、炭素数４の無置換の直鎖アルキル基であることが特に好ましい。

式（ＩＩＩ）中、Ｘ^３１は脱離基を表す。脱離基としては、式（ＩＩＩ）で表される化合物が式（ＩＩ）で表される化合物と反応して、式（ＩＩＩ）で表される化合物のＲ^３１が式（ＩＩ）で表される化合物の窒素原子と結合を形成する際に脱離しうる基であればよく、特に限定はない。脱離基としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、３－ニトロベンゾイルオキシ基）、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ－トルエンスルホニルオキシ基）が挙げられ、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基およびアリールスルホニルオキシ基が好ましく、ハロゲン原子、炭素数４以下のアルキルスルホニルオキシ基および炭素数８以下のアリールスルホニルオキシ基がより好ましく、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ－トルエンスルホニルオキシ基およびベンゼンスルホニルオキシ基が更に好ましく、臭素原子、ｐ－トルエンスルホニルオキシ基およびベンゼンスルホニルオキシ基が特に好ましい。

式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、下記構造の化合物が挙げられる。

次に、式（Ｉ）で表される化合物の製造方法について説明する。式（Ｉ）で表される化合物の製造方法において、式（ＩＩ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ）で表される化合物との反応は、溶媒の存在下で行ってもよいし、溶媒を用いることなく反応を行ってもよい。また、前述の反応は、他の有機化合物（例えばトリブチルアンモニウムブロミドなどの４級アンモニウム塩、ポリエチレングリコールなどのエーテル系化合物）や無機化合物（ヨウ化ナトリウムなどの塩類など）を添加して行ってもよい。溶媒としては、アミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチルー２－ピロリドン）、スルホン系溶媒（例えばスルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えばジメチルスルホキシド）、ウレイド系溶媒（例えばテトラメチルウレア）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、オクタノール、ベンジルアルコール）、エーテル系溶媒（例えばジオキサン、アニソール、テトラヒドロフラン）、ケトン系溶媒（例えばアセトン、シクロヘキサノン）、炭化水素系溶媒（例えばトルエン、キシレン、メシチレン、ｎ－オクタン、ｎ－ドデカン）、ハロゲン系溶媒（例えばクロロベンゼン、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼン）、ピリジン系溶媒（例えばピリジン、γ－ピコリン、２，６－ルチジン）、ニトリル系溶媒（例えばアセトニトリル）、エステル系溶媒（例えば酢酸エチル）および水溶媒が挙げられ、これらの溶媒を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。これらの溶媒のうち好ましくは、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、ハロゲン系溶媒、ピリジン系溶媒、ニトリル系溶媒およびエステル系溶媒であり、より好ましくはアミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、ニトリル系溶媒およびエステル系溶媒であり、更に好ましくはアミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、およびニトリル系溶媒であり、特に好ましくはアミド系溶媒、スルホン系溶媒、ウレイド系溶媒およびニトリル系溶媒である。

式（Ｉ）で表される化合物の製造方法において、式（ＩＩ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ）で表される化合物との反応温度は、０～２００℃が好ましい。下限は１０℃以上が好ましく、２０℃以上がより好ましく、２５℃以上が更に好ましく、５０℃以上が特に好ましい。上限は、１８０℃以下が好ましく、１５０℃以下がより好ましく、１３０℃以下が更に好ましく、１１０℃以下が特に好ましい。

式（Ｉ）で表される化合物の製造方法において、式（ＩＩ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ）で表される化合物は、収率の観点から、式（ＩＩ）で表される化合物のモル数に対する、式（ＩＩＩ）で表される化合物のモル数の比率が１．０以上となる割合で反応させることが好ましく、２．０以上となる割合で反応させることがより好ましく、２．１以上となる割合で反応させることが更に好ましく、２．２以上となる割合で反応させることがより一層好ましく、２．３以上となる割合で反応させることが特に好ましい。前述の比の上限は、製造コストの観点から１０．０以下であることが好ましく、６．０以下であることがより好ましく、５．０以下であることが更に好ましく、４．０以下であることがより一層好ましく、３．０以下であることが特に好ましく、２．５以下であることが最も好ましい。式（ＩＩＩ）で表される化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。

式（Ｉ）で表される化合物の製造方法において、式（ＩＩ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ）で表される化合物を有機又は無機の塩基の存在下で反応させることが収率等の観点から好ましい。塩基としては、収率および製造コストの観点から無機塩基であることが好ましい。

無機塩基としては、水酸化物（例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、炭酸塩（例えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、酢酸塩（例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム）、金属水素化物（例えば水素化ナトリウム、水素化リチウム）などが挙げられる。有機塩基としては、アミン類（例えばトリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ－メチルピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデ－７－エン（略称ＤＢＵ）、ピリジン、α－ピコリン、γ－ピコリン、α、α’－ルチジン）、ヘテロ環化合物（例えばピラゾール、イミダゾール）などが挙げられる。

塩基は、水酸化物、炭酸塩、アミン類、ピリジン類が好ましく、炭酸塩、アミン類、ピリジン類がより好ましく、炭酸塩が更に好ましい。具体的には、塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミン、ピリジン、α－ピコリン、γ－ピコリン、α，α’－ルチジンが好ましく、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミン、ピリジン、γ－ピコリンがより好ましく、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、ピリジンが更に好ましく、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムが特に好ましい。

塩基の使用量としては、式（ＩＩ）で表される化合物のモル数に対する塩基のモル数の比率が０．３以上となる割合で反応させることが好ましく、０．５以上となる割合で反応させることがより好ましく、０．８以上となる割合で反応させることが更に好ましく、１．０以上となる割合で反応させることがより一層好ましく、１．５以上となる割合で反応させることが更に一層好ましく、２．０以上となる割合で反応させることが特に好ましく、２．８以上となる割合で反応させることが最も好ましい。前述の比の上限は、２０．０以下であることが好ましく、１５．０以下であることがより好ましく、１０．０以下であることが更に好ましく、８．０以下であることがより一層好ましく、７．０以下であることが更に一層好ましく、６．０以下であることが特に好ましく、５．０以下であることが最も好ましい。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は、質量基準である。また、ＮＭＲは核磁気共鳴の略語である。

（実施例１）
下記のスキームに従って化合物（Ｉ－１）を合成した。

３口フラスコに化合物（１）の６２．６ｇ、イソプロピルアルコールの１０９ｍＬ、ギ酸の１２５．４ｇを入れ、加熱還流下にて３時間攪拌した。その後、フラスコを水冷し、１５℃にて１時間攪拌した後、析出した結晶を濾過して、化合物（ＩＩ）の８４．７ｇを得た（収率９６％）。
３口フラスコに化合物（ＩＩ）の６９．９ｇ、炭酸カリウムの３３２．０ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドの１０５ｍＬおよびアセトニトリルの２５３ｍＬを入れ、加熱還流下にて、式（ＩＩＩ）で表される化合物として化合物（ＩＩＩ－４）の２６０．６ｇを滴下した。滴下後、そのまま３時間加熱還流した後、冷却し、酢酸エチルの７７６ｍＬと水の７７７ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を食塩の１１．６ｇと水の８１７ｍＬから調製した食塩水にて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮し、残渣物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物（Ｉ－１）を１４６．３ｇ得た（収率９２％）。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ＝８．１（２Ｈ，ｂｒＳ），３．０－４．３（４Ｈ，ｍ），１．２－１．８（８Ｈ，ｍ），０．９５（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）

（実施例２～９）
原料および反応条件を下記表に変更した以外は実施例１と同様にして下記表の生成物の欄に記載の化合物を製造した。

上記表中、式（ＩＩＩ）で表される化合物の欄に記載の化合物（ＩＩＩ－１）、（ＩＩＩ－３）、（ＩＩＩ－５）、（ＩＩＩ－６）、（ＩＩＩ－８）、（ＩＩＩ－９）は、式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例で挙げた構造の化合物である。また、生成物の欄に記載の化合物（Ｉ－１）、（Ｉ－５）、（Ｉ－９）、（Ｉ－７）、（Ｉ－１７）は、式（Ｉ）で表される化合物の具体例で挙げた構造の化合物である。また、溶媒の欄に記載のＤＭＡｃはジメチルアセトアミドの略称であり、ＤＭＦはＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドの略称である。

（実施例１０）
下記のスキームに従って化合物（Ｉ－１８）を合成した。

３口フラスコに化合物（ＩＩ）の４４．０ｇ、炭酸カリウムの１０３．７ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドの８８ｍＬ、アセトニトリルの１７６ｍＬを入れ、加熱還流下にて化合物（ＩＩＩ－４）の８２．２ｇを滴下した。滴下後、そのまま３時間加熱還流した後、さらにここへ炭酸カリウムの１３８．２１ｇを追加し、化合物（ＩＩＩ－８）の２０８．３ｇを滴下した。そのまま３時間加熱攪拌した後、冷却し、酢酸エチルの１１００ｍＬと水の１１００ｍＬを添加して攪拌し、抽出を行った。得られた酢酸エチル相を食塩の２０ｇと水の１０００ｍＬから調製した食塩水にて３回洗浄した後、ロータリーエバポレーターで濃縮して、残渣物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物（Ｉ－１８）を４８．７ｇ得た（収率３８％）。

［製造例１］
下記のスキームに従って化合物（Ｖ－１）を合成した。

３口フラスコに化合物（Ｉ－１）の１００．１ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸・１水和物の１９０．２ｇ、メタノールの２３０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。次いで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチルの５００ｍＬを添加して結晶を分散させた。次いで、濾過、乾燥を行い化合物（Ｖ－１）の２４４．３ｇを得た（収率１００％）。

［製造例２］
下記のスキームに従って化合物（Ｖ－２）を合成した。

３口フラスコに化合物（Ｉ－７）の１５６．３ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸・１水和物の１９０．２ｇ、メタノールの５００ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。次いで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリルの６００ｍＬを添加して結晶を分散させた。次いで、濾過、乾燥して、化合物（Ｖ－２）の２９７．５ｇを得た（収率９９％）。

［製造例３］
下記のスキームに従って化合物（Ｖ－３）を合成した。

３口フラスコに化合物（Ｉ－４）の１１４．２ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸・１水和物の１９０．２ｇ、メタノールの２５０ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。次いで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチルの６００ｍＬを添加して結晶を分散させた。次いで、濾過、乾燥して、化合物（Ｖ－３）の２５５．８ｇを得た（収率９９％）。

［製造例Ｒ１］
下記のスキームに従って化合物（２１）を合成した。

３口フラスコに化合物（１１）の１００．１ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸・１水和物の１９０．２ｇ、メタノールの２３０ｍＬを入れて４０℃にて２時間、加熱攪拌した。次いで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチルの５００ｍＬを添加して結晶を分散させた。次いで、濾過、乾燥して、化合物（２１）の２１５．０ｇを得た（収率８８％）。

［製造例Ｒ２］
下記のスキームに従って化合物（２２）を合成した。

３口フラスコに化合物（１２）の１５６．３ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸・１水和物の１９０．２ｇ、メタノールの５００ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。次いで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリルの６００ｍＬを添加して結晶を分散させた。次いで、濾過、乾燥して、化合物（２２）の２２２．５ｇを得た（収率７４％）。

［製造例Ｒ３］
下記のスキームに従って化合物（２３）を合成した。

３口フラスコに化合物（１３）の１１４．２ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸・１水和物の１９０．２ｇ、メタノールの２５０ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。次いで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、酢酸エチルの６００ｍＬを添加して結晶を分散させた。次いで、濾過、乾燥して、化合物（２３）の１４２．２ｇを得た（収率５５％）。

［製造例Ｒ４］
下記のスキームに従って化合物（２４）を合成した。

３口フラスコに化合物（１４）の９７．１ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸・１水和物の１９０．２ｇ、メタノールの５００ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。次いで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリルの５００ｍＬを添加して結晶を分散させた。次いで、濾過、乾燥して、化合物（２４）の１９０．６ｇを得た（収率７９％）。

［製造例Ｒ５］
下記のスキームに従って化合物（２５）を合成した。

３口フラスコに化合物（１５）の１５７．２ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸・１水和物の３８０．４ｇ、メタノールの１０００ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。次いで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリルの５００ｍＬを添加して結晶を分散させた。次いで、濾過、乾燥して、化合物（２５）の３１７．３ｇを得た（収率６７％）。

［製造例Ｒ６］
下記のスキームに従って化合物（２６）を合成した。

３口フラスコに化合物（１６）の７２．１ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸・１水和物の１９０．２ｇ、メタノールの２５０ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。次いで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリルの５００ｍＬを添加して結晶を分散させた。次いで、濾過、乾燥して、化合物（２６）の１７０．９ｇを得た（収率７９％）。

［製造例Ｒ７］
下記のスキームに従って化合物（２７）を合成した。

３口フラスコに化合物（１７）の７２．１ｇ、ｐ－トルエンスルホン酸・１水和物の１９０．２ｇ、メタノールの２５０ｍＬを入れて５０℃で３時間加熱攪拌した。次いで、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、アセトニトリル５００ｍＬを添加して結晶を分散させようとしたたが、岩状の塊のため、十分洗えなかった。アセトニトリルの代わりに酢酸エチル５００ｍＬでも試みたが、同様の結果となった。

製造例１～３と製造例Ｒ１～Ｒ３の結果より、Ｎ，Ｎ’－ジホルミル－Ｎ，Ｎ’－ジアルキルヒドラジン化合物の脱ホルミル体を製造する際において、Ｎ，Ｎ’－ジホルミル－Ｎ，Ｎ’－ジアルキルヒドラジン化合物として、Ｎ，Ｎ’－ジホルミル－Ｎ，Ｎ’－ジアルキルヒドラジン化合物の窒素原子に直結するアルキル基が同じ炭素数のアルキル基であっても、無置換の直鎖アルキル基である化合物（Ｉ－１）、（Ｉ－７）、（Ｉ－４）を用いた場合は、分岐アルキル基である化合物（１１）、（１２）、（１３）を用いた場合に比べて大幅に収率がよかった。これは直鎖アルキル型の構造の化合物を原料として用いた場合、得られる生成物である結晶の溶媒への溶解性が低く、濾液への消失が殆どないためであると推測される。
また、製造例Ｒ４、Ｒ５の結果より、Ｎ，Ｎ’－ジホルミル－Ｎ，Ｎ’－ジアルキルヒドラジン化合物として窒素原子に直結するアルキル基が置換基を有するアルキル基である化合物を用いた場合においては、脱ホルミル体の収率が低かった。この理由は、得られる結晶の溶解性が高く、濾液への消失が多かったためであると推測される。

また、製造例Ｒ６の結果より、Ｎ，Ｎ’－ジホルミル－Ｎ，Ｎ’－ジアルキルヒドラジン化合物として窒素原子に直結するアルキル基が分岐アルキル基である化合物を用いた場合においては、脱ホルミル体の収率が低かった。この理由は、得られる結晶の溶解性が高く、濾液への消失が多かったためであると推測される。

また、製造例Ｒ７の結果より、Ｎ，Ｎ’－ジホルミル－Ｎ，Ｎ’－ジアルキルヒドラジン化合物として窒素原子に直結するアルキル基がエチル基である化合物を用いた場合においては、脱ホルミル体を十分に洗浄できなかった。この理由は、結晶と共存する不純物が低溶解性であることから、結晶がまったくほぐれなかったためと推測される。

Claims

式（Ｉ）で表される化合物；
式（Ｉ）中、Ｒ¹¹およびＲ¹²は各々独立に炭素数３以上の無置換の直鎖アルキル基を表す。
Ｒ¹¹とＲ¹²が同一の基である、請求項１に記載の化合物。
式（ＩＩ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ）で表される化合物の１種又は２種以上とを反応させることを含む、式（Ｉ）で表される化合物の製造方法；
式（Ｉ）中、Ｒ¹¹およびＲ¹²は各々独立に炭素数３以上の無置換の直鎖アルキル基を表す；
式（ＩＩＩ）中、Ｒ³¹は炭素数３以上の無置換の直鎖アルキル基を表し、Ｘ³¹は脱離基を表す。
前記式（ＩＩ）で表される化合物と前記式（ＩＩＩ）で表される化合物とを、前記式（ＩＩ）で表される化合物のモル数に対する、前記式（ＩＩＩ）で表される化合物のモル数の比率が１．０以上となる割合で反応させる、請求項３に記載の化合物の製造方法。
式（ＩＩ）で表される化合物と、式（ＩＩＩ）で表される化合物の１種又は２種以上とを、無機塩基の存在下で反応させる、請求項３または４に記載の化合物の製造方法。
前記無機塩基が、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、水素化ナトリウムおよび水素化リチウムから選ばれる少なくとも１種である、請求項５に記載の化合物の製造方法。
前記式（ＩＩ）で表される化合物のモル数に対する前記無機塩基のモル数の比率が０．３以上である、請求項５または６に記載の化合物の製造方法。