JP7310830B2 - ガラス、化学強化ガラスおよびそれを含む電子機器 - Google Patents
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Description
また、高い強度を有しながら、激しい破砕が生じにくい化学強化ガラスの提供を目的とする。
ただしXはLi2O、Na2O、K2OおよびP2O5から選ばれる酸化物の含有量の合計をM1(%)MgO、CaO、SrO、ZnOおよびBaOの含有量の合計をM2(%)、Y2O3、La2O3およびGa2O3の含有量の合計をM3(%)、TiO2の含有量をM4(%)、V2O5、Ta2O5およびNb2O5の含有量の合計をM5(%)、WO3の含有量をM6(%)として、次の式で表される。
X=2×M1+2×M2+6×M3+4×M4+10×M5+6×M6
酸化物基準のモル百分率表示で、
SiO2を40~60%、Al2O3を20~45%、Li2Oを5~15%、Y2O3、La2O3およびGa2O3から選ばれる1種以上を合計で1~6%含有する化学強化ガラスを提供する。
また、前記のカバーガラスを含む電子機器を提供する。
まず、化学強化前のガラス(化学強化用ガラス)について説明する。
本ガラスは、破壊靱性値が0.85MPa・m1/2以上であって、
酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を40%以上、Al2O3を20%以上、Li2Oを5%以上含有し、Y2O3、La2O3およびGa2O3から選ばれる1種以上を合計で1~6%含有するガラス(第一のガラス)であってもよい。
本ガラスは、酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を40~60%、Al2O3を20~45%、Li2Oを5~15%含有し、後述の(2×[Al2O3]-X)/[SiO2]が0以上1以下であるガラス(第二のガラス)であってもよい。
X=2×M1+2×M2+6×M3+4×M4+10×M5+6×M6
アルミニウムイオンは、アルミノシリケートガラス中では通常、主として4配位構造となることが知られている。しかし、SiO2-Al2O3の2成分ガラス中では、アルミニウムイオンは5配位構造となり、また、5配位構造のアルミニウムイオンが多量に存在するガラスは、高い破壊靱性値が得られるとされている(Scientific Reports Vol.6 23620,2016)。5配位構造のアルミニウムイオンは、他のイオン等から電荷の供与を受けると、4配位構造をとると考えられる。
5配位構造のアルミニウムイオンが多量に存在するSiO2-Al2O3の2成分ガラスに、他の成分を添加する場合、例えばリチウム、ナトリウム、カリウムなどの1価カチオンは各々1個の電荷を供与して1個のアルミニウムイオンを5配位構造から4配位構造に変えるであろう。Li2O、Na2O、K2Oの含有量の合計がM1であれば、2×M1個分の1価カチオンによって、2×M1個分のアルミニウムイオンが4配位になるであろう。
SiO2を40~60%、
Al2O3を20~45%、
Li2Oを5~15%、
Y2O3、La2O3およびGa2O3から選ばれる1種以上を合計で1~6%、
含有することが好ましい。
以下、好ましいガラス組成について説明する。
Y2O3の含有量は、ガラスの強度を高くするために6%以下が好ましく、5.5%以下がより好ましく、5%以下がさらに好ましい。
本発明の化学強化ガラスが板状である場合、その板厚(t)は、例えば2mm以下であり、好ましくは1.5mm以下であり、より好ましくは1mm以下であり、さらに好ましくは0.9mm以下であり、特に好ましくは0.8mm以下であり、最も好ましくは0.7mm以下である。また、充分な強度を得るために、板厚は、例えば0.1mm以上であり、好ましくは0.2mm以上であり、より好ましくは0.4mm以上であり、さらに好ましくは0.5mm以上である。
本化学強化ガラスは、本発明のガラス(化学強化用ガラス)を化学強化(イオン交換処理)して得られる。
本化学強化ガラスは、携帯電話、スマートフォン、携帯情報端末(PDA)、タブレット端末等のモバイル電子機器に用いられるカバーガラスとして、特に有用である。さらに、携帯を目的としない、テレビ(TV)、パーソナルコンピュータ(PC)、タッチパネル等の電子機器のカバーガラスにも有用である。また、窓ガラス等の建築用資材、テーブルトップ、自動車や飛行機等の内装等やそれらのカバーガラスとしても有用である。
表2~3に酸化物基準のモル百分率表示で記載したガラス組成となるように、ガラス原料を調合し、溶解、研磨加工ガラス板を作製した。例2は、前述のガラスAであり、例6はガラスBである。
ガラス原料としては、酸化物、水酸化物、炭酸塩等の一般的なガラス原料を適宜選択し、ガラスとして900gとなるように秤量した。
混合したガラス原料を白金坩堝に入れ、1700℃で溶融し、脱泡した。そのガラスをカーボンボード上に流して、ガラスブロックを得、研磨加工し、板厚0.8mm板状ガラスを得た。
ガラスを砕いて白金容器に入れ、1000℃~1700℃の電気炉で17時間保持後に取出し、光学顕微鏡で結晶が存在するか観察した。
ヤング率とポアソン比は、超音波法で測定した。
ガラス中のアルミニウム原子の配位数の割合をNMRで解析した。
NMR測定条件を以下に示す。
測定装置:日本電子社製核磁気共鳴装置ECZ900
共鳴周波数:156.38MHz
回転数:20kHz
プローブ:3.2mm固体用
フリップ角:30°
パルス繰り返しの待ち時間:1.5 sec
Single pulse法での測定を行い、ケミカルシフトの2次基準にはα-Al2O3を用い、16.6ppmとした。測定結果は、日本電子社製NMRソフトウェアDeltaを用いて位相補正、ベースライン補正を実施後、ガウス関数を用いてfittingを実施し、4配位、5配位、6配位の割合を算出した。位相補正、ベースライン補正は任意性が高くなるが、試料を含まない空セルのスペクトルを差し引くことで適切に処理した。ピークフィッティングも任意性が高いが、4配位は80~45ppmにピークトップ、5配位は45~15ppmにピークトップ、6配位は15~-5ppmの各範囲内にピークトップを設定し、ピーク幅を適切に設定(各配位数間で最大でも1.5倍以下の比率になるように)することで良好なfittingを得た。なお、27Al MAS NMRスペクトルよりAlの配位数を定量的に評価する場合は、高磁場(22.3T以上で)測定することが重要である。
破壊靱性値は、6.5mm×6.5mm×65mmのサンプルを作製し、DCDC法で測定した。その際、サンプルの65mm×6.5mmの面に、2mmΦの貫通穴を開けて評価した。
得られた板状ガラスについて、前述の方法でCTリミットを測定した。すなわち、板状ガラスを、NaNO3塩やKNO3塩を用いて種々の条件で化学強化し、得られた化学強化ガラスについて散乱光光弾性応力計(折原製作所製 SLP-1000)を用いてCTを測定した後、CT値の異なる化学強化ガラス板にビッカース圧子を打ち込んで破砕数を測定することによりCTリミットを評価した。
Xは、酸化物基準のモル百分率表示で、Li2O、Na2O、K2OおよびP2O5から選ばれる酸化物の含有量の合計をM1(%)MgO、CaO、SrO、ZnOおよびBaOの含有量の合計をM2(%)、Y2O3、La2O3およびGa2O3の含有量の合計をM3(%)、TiO2の含有量をM4(%)、V2O5、Ta2O5およびNb2O5の含有量の合計をM5(%)、WO3の含有量をM6(%)として、次の式により算出した。
X=2×M1+2×M2+6×M3+4×M4+10×M5+6×M6
破壊表面エネルギーγは、以下の式から評価した。ここで、KICは破壊靭性値[単位:MPa・m1/2]、Eはヤング率[単位:GPa]、νはポアソン比である。
例1、6、7、8のガラスからなるガラス板を化学強化して、化学強化ガラス(例31~37)を得た。化学強化は表3の溶融塩1欄に示した塩を用いて処理条件1欄に示した条件でイオン交換した後、溶融塩2欄の塩を用いて処理条件2欄に示した条件でイオン交換した。
20 カバーガラス
30 筐体
31 側面
32 底面
Claims (15)
- 破壊靱性値が0.85MPa・m1/2以上のガラスであって、
酸化物基準のモル百分率表示で、
SiO2を40%以上、Al2O3を20%以上、Li2Oを5%以上含有し、
Y2O3、La2O3およびGa2O3から選ばれる1種以上を合計で1~6%
含有するガラス。 - 酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を40~60%、Al2O3を20~45%、Li2Oを5~15%含有する、請求項1に記載のガラス。
- 酸化物基準のモル百分率表示で、
SiO2を40%~60%、Al2O3を20~45%、Li2Oを5~15%含有し、SiO2の含有量を[SiO2]、Al2O3の含有量を[Al2O3]とする場合、(2×[Al2O3]-X)/[SiO2]が0以上1以下であり、
Y 2 O 3 、La 2 O 3 およびGa 2 O 3 から選ばれる1種以上を合計で1~6%含有するガラス。
ただしXはLi2O、Na2O、K2OおよびP2O5から選ばれる酸化物の含有量の合計をM1(%)MgO、CaO、SrO、ZnOおよびBaOの含有量の合計をM2(%)、Y2O3、La2O3およびGa2O3の含有量の合計をM3(%)、TiO2の含有量をM4(%)、V2O5、Ta2O5およびNb2O5の含有量の合計をM5(%)、WO3の含有量をM6(%)として、次の式で表される。
X=2×M1+2×M2+6×M3+4×M4+10×M5+6×M6 - ガラス中の全アルミニウム数に対する5配位アルミニウム数の割合が9%以上である、請求項1~3のいずれか1項に記載のガラス。
- 液相温度が1670℃以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載のガラス。
- 酸化物基準のモル百分率表示によるLi2Oの含有量を[Li2O]、アルカリ金属酸化物の総含有量を[R2O]として、[Li2O]/[R2O]が0.8~1である、請求項1~5のいずれか1項に記載のガラス。
- 破砕数が10以下となる最大のCT値であるCTリミットが75MPa以上である、請求項1~6のいずれか1項に記載のガラス。
- ガラス表面からの深さ50μmにおける圧縮応力値であるCS50が150MPa以上であり、酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を40~60%、Al2O3を20~45%、Li2Oを5~15%、Y2O3、La2O3およびGa2O3から選ばれる1種以上を合計で1~6%含有する、化学強化ガラス。
- 前記CS50が200MPa以上であり、圧縮応力値が0となる深さであるDOLが100μm以上である、請求項8に記載の化学強化ガラス。
- ガラス表面から前記圧縮応力値が0となる深さまで、深さ方向に前記圧縮応力値を積分した値が75MPa以上である、請求項8または9に記載の化学強化ガラス。
- 請求項8~10のいずれか1項に記載の化学強化ガラスを含むカバーガラス。
- 請求項11に記載のカバーガラスを含む電子機器。
- 酸化物基準のモル百分率表示で、
SiO2を40~60%、Al2O3を20~45%、Li2Oを5~15%、Y2O3、La2O3およびGa2O3から選ばれる1種以上を合計で1~6%含有する化学強化用ガラスを化学強化して、
ガラス表面からの深さ50μmにおける圧縮応力値であるCS50が150MPa以上である化学強化ガラスを得る、化学強化ガラスの製造方法。 - 前記化学強化用ガラスは、
酸化物基準のモル百分率表示によるSiO2の含有量を[SiO2]、Al2O3の含有量を[Al2O3]、として
(2×[Al2O3]-X)/[SiO2]が0以上1以下である請求項13に記載の化学強化ガラスの製造方法。
ただしXはLi2O、Na2O、K2OおよびP2O5から選ばれる酸化物の含有量の合計をM1(%)MgO、CaO、SrO、ZnOおよびBaOの含有量の合計をM2(%)、Y2O3、La2O3およびGa2O3の含有量の合計をM3(%)、TiO2の含有量をM4(%)、V2O5、Ta2O5およびNb2O5の含有量の合計をM5(%)、WO3の含有量をM6(%)として、次の式で表される。
X=2×M1+2×M2+6×M3+4×M4+10×M5+6×M6 - 前記化学強化用ガラスは、
酸化物基準のモル百分率表示によるLi2Oの含有量を[Li2O]、アルカリ金属酸化物の総含有量を[R2O]として、[Li2O]/[R2O]が0.8~1である、請求項13または14に記載の化学強化ガラスの製造方法。
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