JP7300943B2 - Foreign matter detection method on holding surface - Google Patents

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Description

本発明は、保持テーブルの保持面の異物検出方法に関する。 The present invention relates to a foreign matter detection method for a holding surface of a holding table.

樹脂や金属、テープ等の靱性材を含む被加工物を、ダイヤモンドを先端に有するバイト装置で切削し高さを揃える技術が知られている(例えば、特許文献1参照)。 There is known a technique for cutting a workpiece containing a tough material such as resin, metal, tape, etc., with a cutting tool having a diamond tip to make the height uniform (see, for example, Patent Document 1).

特開2000-173954号公報JP-A-2000-173954 特開2005-197578号公報JP 2005-197578 A

しかし、バイト装置における保持テーブルの保持面に異物が存在すると、その部分の被加工物の厚みが薄くなってしまい、平坦に切削する事が出来ないという問題があった。このため、保持テーブルに異物が存在するか否かを検出するための技術として、鏡面が形成された被加工物の表面の干渉縞を読み取る技術が提案されている(例えば、特許文献2参照)。しかしながら、この表面の干渉縞を可視光で読み取るためには、レーザ干渉計などの特別な測定器が必要であり、困難であるという問題があった。 However, if foreign matter is present on the holding surface of the holding table of the cutting tool, the thickness of the workpiece at that portion becomes thin, and there is a problem that the workpiece cannot be cut flat. Therefore, as a technique for detecting whether or not a foreign object exists on a holding table, a technique for reading interference fringes on the surface of a workpiece on which a mirror surface is formed has been proposed (see, for example, Patent Document 2). . However, in order to read the interference fringes on the surface with visible light, there is a problem that a special measuring instrument such as a laser interferometer is required, which is difficult.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、保持テーブルの保持面の異物をより容易に検出することができる保持面の異物検出方法を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a method for detecting foreign matter on the holding surface of the holding table, which can more easily detect foreign matter on the holding surface of the holding table.

上記課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る保持面の異物検出方法は、被加工物を保持面で保持する保持テーブルと、スピンドルの先端に装着されたバイト工具を含むバイトホイールで該保持テーブルに保持された被加工物を切削加工する切削ユニットと、を備えたバイト切削装置における保持面の異物検出方法であって、被加工物の表面に樹脂を被覆する樹脂被覆ステップと、樹脂が被覆された被加工物の裏面側を保持テーブルに保持する保持ステップと、被加工物の表面側から該切削ユニットで該樹脂が完全に除去されない厚みまで被加工物を切削加工する加工ステップと、該加工ステップの実施後に該樹脂に形成される干渉縞の状態が所定の許容範囲を超えるか否かを判断する判断ステップと、該許容範囲を超えていた場合は該保持テーブルの保持面を洗浄する洗浄ステップと、を備えることを特徴とする。 In order to solve the above problems and achieve the object, a method for detecting foreign matter on a holding surface according to the present invention includes: a holding table for holding a workpiece on a holding surface; and a cutting unit for cutting a workpiece held on the holding table by a wheel. a holding step of holding the back side of the workpiece coated with resin on a holding table; and cutting the workpiece from the front side of the workpiece to a thickness at which the resin is not completely removed by the cutting unit. a processing step, a determination step of determining whether the state of interference fringes formed in the resin after the processing step exceeds a predetermined allowable range, and, if the allowable range is exceeded, the holding table. and a cleaning step of cleaning the holding surface.

また、上記課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る保持面の異物検出方法は、被加工物を保持面で保持する保持テーブルと、スピンドルの先端に装着された研削ホイールで該保持テーブルに保持された被加工物を研削加工する研削ユニットと、を備えた研削装置における保持面の異物検出方法であって、被加工物の表面に樹脂を被覆する樹脂被覆ステップと、樹脂が被覆された被加工物の裏面側を保持テーブルに保持する保持ステップと、被加工物の表面側から該研削ユニットで該樹脂が完全に除去されない厚みまで被加工物を研削加工する加工ステップと、該加工ステップの実施後に該樹脂に形成される干渉縞の状態が所定の許容範囲を超えるか否かを判断する判断ステップと、該許容範囲を超えていた場合は該保持テーブルの保持面を洗浄する洗浄ステップと、を備えることを特徴とする。 Further, in order to solve the above problems and achieve the object, a method for detecting a foreign matter on a holding surface according to the present invention includes a holding table for holding a workpiece on the holding surface and a grinding wheel attached to the tip of a spindle. a grinding unit for grinding a workpiece held on the holding table, a method for detecting foreign matter on a holding surface of a grinding apparatus comprising: a resin coating step of coating the surface of the workpiece with a resin; a holding step of holding the back side of the workpiece coated with the resin on a holding table; and a grinding step of grinding the workpiece from the front side of the workpiece to a thickness at which the resin is not completely removed by the grinding unit. a determination step of determining whether or not the state of the interference fringes formed in the resin after the processing step exceeds a predetermined allowable range; and a cleaning step of cleaning.

該加工ステップの実施後かつ判断ステップの実施前に、被加工物を該保持テーブルから外し、被加工物の表面側に異物により生じた厚みの凹凸を転写させる被加工物取り外しステップを更に備えてもよい。 After performing the processing step and before performing the determining step, the method further comprises a step of removing the workpiece from the holding table and transferring the thickness irregularities caused by the foreign matter to the surface side of the workpiece. good too.

該洗浄ステップは、該保持面に有機溶剤を供給する有機溶剤供給ステップと、該有機溶剤によって該保持面から浮かび上がった異物を洗浄する異物除去ステップと、を有していてもよい。 The cleaning step may include an organic solvent supplying step of supplying an organic solvent to the holding surface, and a foreign matter removing step of cleaning foreign matter floating up from the holding surface with the organic solvent.

本発明に係る保持面の異物検出方法によれば、保持テーブルの保持面の異物をより容易に検出することができる。 According to the method for detecting foreign matter on the holding surface of the present invention, foreign matter on the holding surface of the holding table can be detected more easily.

図1は、実施形態1に係る保持面の異物検出方法を実施するバイト切削装置の構成の概略を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing the outline of the configuration of a cutting tool that implements the method for detecting foreign matter on a holding surface according to Embodiment 1. FIG. 図2は、図1のバイト切削装置における保持テーブルの構成の概略を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing an outline of the configuration of a holding table in the cutting tool of FIG. 1. FIG. 図3は、図2のIII-III断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 図4は、実施形態1に係る保持面の異物検出方法の処理を示すフローチャートである。FIG. 4 is a flow chart showing the processing of the foreign matter detection method for the holding surface according to the first embodiment. 図5は、図4の樹脂被覆ステップを示す断面図である。5 is a cross-sectional view showing the resin coating step of FIG. 4. FIG. 図6は、図4の保持ステップ及び加工ステップを示す断面図である。6 is a cross-sectional view showing the holding step and processing step of FIG. 4. FIG. 図7は、図4の加工ステップを経て形成された干渉縞を模式的に示す上面図である。7 is a top view schematically showing interference fringes formed through the processing steps of FIG. 4. FIG. 図8は、図4の洗浄ステップの詳細の処理を示すフローチャートである。FIG. 8 is a flow chart showing detailed processing of the cleaning step of FIG. 図9は、図8の有機溶剤供給ステップを示す断面図である。9 is a cross-sectional view showing the organic solvent supplying step of FIG. 8. FIG. 図10は、図8の異物除去ステップを示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing the foreign matter removing step of FIG. 図11は、実施形態2に係る保持面の異物検出方法における保持ステップ及び加工ステップを示す断面図である。11A and 11B are cross-sectional views showing holding steps and processing steps in a method for detecting a foreign object on a holding surface according to the second embodiment.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 A form (embodiment) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. In addition, the components described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be combined as appropriate. In addition, various omissions, substitutions, or changes in configuration can be made without departing from the gist of the present invention.

〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係る保持面の異物検出方法を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係る保持面の異物検出方法を実施するバイト切削装置1の構成の概略を示す斜視図である。図2は、図1のバイト切削装置1における保持テーブル10の構成の概略を示す斜視図である。図3は、図2のIII-III断面図である。本発明の実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、図1に示すバイト切削装置1において実施される方法であり、バイト切削装置1の保持テーブル10の保持面11が平坦であるか否かを確認する方法である。
[Embodiment 1]
A foreign matter detection method on a holding surface according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a cutting tool 1 that implements a foreign matter detection method on a holding surface according to Embodiment 1. As shown in FIG. FIG. 2 is a perspective view showing the outline of the configuration of the holding table 10 in the cutting tool 1 of FIG. 1. As shown in FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. The foreign matter detection method on the holding surface according to the first embodiment of the present invention is a method implemented in the cutting tool 1 shown in FIG. It is a method to confirm whether

実施形態1に係る保持面の異物検出方法を実施するバイト切削装置1は、図1に示すように、保持テーブル10と、切削ユニット20と、加工送りユニット30と、切り込み送りユニット40と、制御ユニット50と、を備える。バイト切削装置1は、実際には、シリコン等の基板にバンプを設けた複数のデバイスが形成され、デバイスがモールド樹脂で封止された被加工物を旋回切削し、かつ、旋回切削後、洗浄するものである。 As shown in FIG. 1, the tool cutting device 1 that implements the foreign matter detection method on the holding surface according to the first embodiment includes a holding table 10, a cutting unit 20, a processing feed unit 30, a cutting feed unit 40, and a control unit. a unit 50; The cutting tool 1 actually turns and cuts a workpiece in which a plurality of devices having bumps provided on a substrate of silicon or the like is formed and the devices are sealed with a mold resin. It is something to do.

保持テーブル10は、被加工物を保持する保持面11を備え、Z軸方向の軸心周りに回転可能に設けられている。保持テーブル10は、ステンレス鋼等の金属材によって円盤状に形成されている。保持面11は、実施形態1では、円形状であり、水平面であるXY平面に概ね平行に設けられている。 The holding table 10 has a holding surface 11 for holding a workpiece, and is rotatable around an axis in the Z-axis direction. The holding table 10 is formed in a disc shape from a metal material such as stainless steel. In the first embodiment, the holding surface 11 has a circular shape and is provided substantially parallel to the horizontal XY plane.

保持テーブル10は、図1に示すように、装置本体2の上面に、加工送りユニット30によりX軸方向に移動可能に設けられている。保持テーブル10は、被加工物を搬出入する搬出入位置と、保持面11で保持した被加工物に対し切削ユニット20により切削加工を実行する加工位置との間で、X軸方向に移動可能に設けられている。 As shown in FIG. 1, the holding table 10 is provided on the upper surface of the apparatus main body 2 so as to be movable in the X-axis direction by the processing feed unit 30 . The holding table 10 is movable in the X-axis direction between a loading/unloading position for loading/unloading the workpiece and a machining position for cutting the workpiece held by the holding surface 11 by the cutting unit 20. is provided in

保持テーブル10は、図2及び図3に示すように、外周部に形成された外周環状保持部12と、外周環状保持部12の内側に形成された吸引凹部13と、吸引凹部13内に設けられた複数の支持ピン14と、を備える。保持テーブル10では、外周環状保持部12の上面及び複数の支持ピン14の上面が、保持面11を構成する。 As shown in FIGS. 2 and 3, the holding table 10 includes an outer peripheral annular holding portion 12 formed on the outer peripheral portion, a suction recess 13 formed inside the outer peripheral annular holding portion 12, and a suction recess 13 provided in the suction recess 13. and a plurality of support pins 14 mounted on the support pins 14 . In the holding table 10 , the upper surface of the outer peripheral annular holding portion 12 and the upper surfaces of the plurality of support pins 14 constitute the holding surface 11 .

保持テーブル10は、実施形態1では、外周環状保持部12の幅が1mm程度に形成され、支持ピン14の直径が1mmの円柱状に形成されている。また、保持テーブル10は、実施形態1では、図3に示すように、被加工物を保持する保持面11が、外周環状保持部12及び複数の支持ピン14の上面に形成された厚みが200μm程度のニッケル等により構成されたメッキ層で構成されている。なお、保持テーブル10は、本発明ではこれに限定されず、被加工物を保持面11で保持することが可能な形態であれば、どのような形態であってもよい。 In the first embodiment, the holding table 10 is formed in a cylindrical shape with an outer peripheral annular holding portion 12 having a width of approximately 1 mm and a support pin 14 having a diameter of 1 mm. Further, in the holding table 10, as shown in FIG. 3, the holding table 10 has a thickness of 200 μm formed on the upper surfaces of the outer peripheral annular holding portion 12 and the plurality of support pins 14 and the holding surface 11 for holding the workpiece. It is composed of a plated layer made of nickel or the like. Note that the holding table 10 is not limited to this in the present invention, and may have any form as long as it can hold the workpiece on the holding surface 11 .

保持テーブル10では、吸引凹部13が、吸引通路15を介して図示しない吸引手段に連通されている。保持テーブル10は、図示しない吸引手段を作動することにより、吸引通路15を介して吸引凹部13に負圧が作用し、保持面11上に載置された被加工物を吸引保持する。このとき、被加工物は、外周環状保持部12と複数の支持ピン14によって支持される。保持テーブル10は、鉛直方向であるZ軸方向と平行な軸心回りに回転自在な図示しない支持基台に支持されている。 In the holding table 10 , the suction recess 13 communicates with suction means (not shown) through a suction passage 15 . By operating a suction means (not shown), the holding table 10 applies a negative pressure to the suction concave portion 13 through the suction passage 15 and sucks and holds the workpiece placed on the holding surface 11 . At this time, the workpiece is supported by the outer peripheral annular holding portion 12 and the plurality of support pins 14 . The holding table 10 is supported by a support base (not shown) that is rotatable around an axis parallel to the vertical Z-axis direction.

切削ユニット20は、図1に示すように、スピンドル21と、バイト工具22を含むバイトホイール23と、モーター24と、を備える。スピンドル21は、保持面11に直交する方向である鉛直方向に沿って軸心方向が配されている。バイトホイール23は、バイト工具22を鉛直方向の下方に向けて、鉛直方向の上方側がスピンドル21の先端に装着されている。モーター24は、スピンドル21に設けられ、スピンドル21を軸心回りに回転させる。切削ユニット20は、スピンドル21の先端に装着されたバイト工具22を含むバイトホイール23をモーター24で回転させることで、保持テーブル10に保持された被加工物を旋回切削する。切削ユニット20の切削加工面及び切削ユニット20による被加工物の被切削加工面は、保持面11に平行、すなわち水平面であるXY平面に概ね平行となる。 The cutting unit 20 includes a spindle 21, a bite wheel 23 including a bite tool 22, and a motor 24, as shown in FIG. The axial direction of the spindle 21 is arranged along the vertical direction, which is the direction orthogonal to the holding surface 11 . The bite wheel 23 is attached to the distal end of the spindle 21 on the vertical upper side with the bite tool 22 directed downward in the vertical direction. The motor 24 is provided on the spindle 21 and rotates the spindle 21 around its axis. The cutting unit 20 turns and cuts the workpiece held on the holding table 10 by rotating a cutting tool wheel 23 including a cutting tool 22 attached to the tip of the spindle 21 with a motor 24 . The cutting surface of the cutting unit 20 and the surface of the workpiece being cut by the cutting unit 20 are parallel to the holding surface 11, that is, substantially parallel to the horizontal XY plane.

加工送りユニット30は、図1に示すように、装置本体2上に設置され、保持テーブル10を保持面11と平行な加工送り方向であるX軸方向に相対移動させるものである。加工送りユニット30は、保持テーブル10を支持した支持基台をX軸方向に移動させることで、保持テーブル10を搬出入位置と加工位置との間を移動させる。 As shown in FIG. 1, the processing feed unit 30 is installed on the apparatus main body 2 and relatively moves the holding table 10 in the X-axis direction, which is the processing feed direction parallel to the holding surface 11 . The processing feed unit 30 moves the holding table 10 between the loading/unloading position and the processing position by moving the support base supporting the holding table 10 in the X-axis direction.

切り込み送りユニット40は、図1に示すように、装置本体2の上面の+X方向の端部に立設した直立壁3に配設されている。切り込み送りユニット40は、保持テーブル10の保持面11に直交する方向であるZ軸方向に沿って設けられたネジロッド及びネジロッドを回転駆動するパルスモータにより、移動基台を介して装着された切削ユニット20をZ軸方向に沿って移動させる。切り込み送りユニット40は、切削ユニット20を鉛直方向下方である-Z方向に沿って移動させ、バイト工具22を保持テーブル10の保持面11で吸引保持した被加工物に向けて移動させる。 As shown in FIG. 1, the incision feeding unit 40 is arranged on the upright wall 3 erected at the +X direction end of the upper surface of the apparatus main body 2 . The cutting feed unit 40 is a cutting unit mounted via a moving base by a screw rod provided along the Z-axis direction, which is a direction orthogonal to the holding surface 11 of the holding table 10, and a pulse motor that rotationally drives the screw rod. 20 is moved along the Z-axis direction. The cutting feed unit 40 moves the cutting unit 20 along the −Z direction, which is the downward vertical direction, and moves the cutting tool 22 toward the workpiece sucked and held on the holding surface 11 of the holding table 10 .

制御ユニット50は、各部及び各ユニットを制御して、バイト切削装置1に実施形態1に係る保持面の異物検出方法に係る各動作を含む種々の動作を実施させるものである。制御ユニット50は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有するコンピュータである。制御ユニット50の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、バイト切削装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介してバイト切削装置1の各部及び各ユニットに出力する。 The control unit 50 controls each part and each unit to cause the cutting tool 1 to perform various operations including each operation related to the foreign matter detection method on the holding surface according to the first embodiment. The control unit 50 includes an arithmetic processing unit having a microprocessor such as a CPU (central processing unit), a storage device having a memory such as ROM (read only memory) or RAM (random access memory), and an input/output interface device. is a computer having The arithmetic processing device of the control unit 50 performs arithmetic processing according to a computer program stored in the storage device, and outputs a control signal for controlling the tool bit cutting device 1 to the tool bit cutting device 1 via the input/output interface device. Output to each part and each unit of

バイト切削装置1は、図1に示すように、さらに、カセット60-1,60-2と、搬出入ユニット61と、位置合わせユニット62と、搬入ユニット63と、搬出ユニット64と、洗浄ユニット65と、を備える。カセット60-1,60-2は、いずれも複数のスロットを有する被加工物用の収容器であり、それぞれ、装置本体2の上面の-X方向の端部側に配設されている。カセット60-1は、バイト切削装置1による切削加工前の被加工物を収容し、カセット60-2は、バイト切削装置1による切削加工後の被加工物を収容する。 As shown in FIG. 1, the cutting tool 1 further includes cassettes 60-1 and 60-2, a carry-in/carry-out unit 61, an alignment unit 62, a carry-in unit 63, a carry-out unit 64, and a cleaning unit 65. And prepare. The cassettes 60-1 and 60-2 are containers for workpieces having a plurality of slots, and are arranged on the upper surface of the apparatus main body 2 at the ends in the -X direction. The cassette 60-1 accommodates the workpiece before cutting by the cutting tool 1, and the cassette 60-2 accommodates the workpiece after cutting by the cutting tool 1. FIG.

搬出入ユニット61は、切削加工前の被加工物をカセット60-1から位置合わせユニット62へ搬出するとともに、切削加工後の被加工物を洗浄ユニット65からカセット60-2へ搬入する。 The carry-in/out unit 61 carries out the uncut workpiece from the cassette 60-1 to the positioning unit 62, and carries the cut workpiece from the cleaning unit 65 into the cassette 60-2.

位置合わせユニット62は、カセット60-1から搬出された切削加工前の被加工物の中心位置及びオリエンテーションフラット又はノッチの位置を検出して、中心位置合わせ及び方向位置合わせを行う。搬入ユニット63は、位置合わせユニット62で位置合わせされた切削加工前の被加工物を搬出入位置にある保持テーブル10の保持面11に搬入する。 The alignment unit 62 detects the center position and the position of the orientation flat or notch of the uncut work carried out from the cassette 60-1 to perform center alignment and direction alignment. The loading unit 63 loads the pre-cut workpiece aligned by the alignment unit 62 onto the holding surface 11 of the holding table 10 at the loading/unloading position.

搬出ユニット64は、切削加工後の被加工物を搬出入位置にある保持テーブル10の保持面11から洗浄ユニット65に搬出する。洗浄ユニット65は、切削加工後の被加工物を洗浄し、切削された被切削加工面に付着している切削屑等のコンタミネーションを除去する。 The unloading unit 64 unloads the cut workpiece from the holding surface 11 of the holding table 10 at the loading/unloading position to the cleaning unit 65 . The cleaning unit 65 cleans the workpiece that has been cut, and removes contamination such as cutting chips adhering to the cut surface that has been cut.

バイト切削装置1が保持面の異物検出方法を実施する際に切削加工する加工対象である被加工物100(図5等参照)は、バイト切削装置1が、実際に旋回切削しかつ旋回切削後、洗浄する上記の被加工物とは異なるものであり、保持面11に異物が付着しているか否かを確認するために、バイト切削装置1が旋回切削するものである。被加工物100は、実施形態1では、例えば、例えば、シリコン、サファイア、ガリウムヒ素などを母材とする円板状のウエーハ等である。被加工物100は、表面101及び表面101とは反対側の裏面102が平坦に形成されている。被加工物100は、実施形態1では、表面101がデバイス形成されていないものであり、例えば、ダミーウエーハである。被加工物100は、ダミーウエーハ等のデバイスが形成されていないものである場合、バイト切削装置1が実施する実施形態1に係る保持面の異物検出方法において、後述する干渉縞300(図7参照)のデバイスによる影響を抑制することができるとともに、バイト切削装置1が安価に実施形態1に係る保持面の異物検出方法を実施することを可能にする。なお、被加工物100は、本発明では、デバイス形成されていないものに限定されず、表面101にデバイスが形成された半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等であってもよい。 A work piece 100 (see FIG. 5 etc.), which is an object to be cut when the tool cutting device 1 performs the method for detecting a foreign object on a holding surface, is actually turned-cut by the tool cutting device 1 and after turning-cutting. , is different from the above-mentioned workpiece to be cleaned, and in order to confirm whether or not foreign matter adheres to the holding surface 11, the cutting tool 1 turns and cuts the workpiece. In the first embodiment, the workpiece 100 is, for example, a disk-shaped wafer or the like whose base material is silicon, sapphire, gallium arsenide, or the like. The workpiece 100 has a flat front surface 101 and a rear surface 102 opposite to the front surface 101 . In the first embodiment, the workpiece 100 does not have a device formed on the surface 101, and is, for example, a dummy wafer. If the workpiece 100 is a dummy wafer or other device on which no device is formed, interference fringes 300 (see FIG. 7 ) can be suppressed, and the cutting tool 1 can inexpensively implement the foreign matter detection method on the holding surface according to the first embodiment. In the present invention, the workpiece 100 is not limited to one on which no device is formed, and may be a semiconductor wafer, an optical device wafer, or the like having a device formed on the surface 101 thereof.

図4は、実施形態1に係る保持面の異物検出方法の処理を示すフローチャートである。実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、バイト切削装置1によって実施され、図4に示すように、樹脂被覆ステップST11と、保持ステップST12と、加工ステップST13と、被加工物取り外しステップST14と、判断ステップST15と、洗浄ステップST16と、を備える。実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、バイト切削装置1の保持テーブル10の保持面11に異物500(図9及び図10参照)があるか否かを検出する方法であり、バイト切削装置1の保持テーブル10の保持面11が平坦であるか否かを確認する方法である。 FIG. 4 is a flow chart showing the processing of the foreign matter detection method for the holding surface according to the first embodiment. The foreign matter detection method on the holding surface according to the first embodiment is carried out by the cutting tool 1, and as shown in FIG. , a determination step ST15, and a cleaning step ST16. The holding surface foreign matter detection method according to the first embodiment is a method for detecting whether or not there is a foreign matter 500 (see FIGS. 9 and 10) on the holding surface 11 of the holding table 10 of the cutting tool 1. This is a method for checking whether or not the holding surface 11 of the holding table 10 of the device 1 is flat.

図5は、図4の樹脂被覆ステップST11を示す断面図である。樹脂被覆ステップST11は、樹脂被覆ステップST11は、図5に示すように、被加工物100の表面101に樹脂201を被覆するステップである。 FIG. 5 is a cross-sectional view showing resin coating step ST11 in FIG. The resin coating step ST11 is a step of coating the surface 101 of the workpiece 100 with the resin 201, as shown in FIG.

樹脂被覆ステップST11では、具体的には、まず、図5に示すように、樹脂被覆ユニット70の保持テーブル71が被加工物100の裏面102側を保持面72で保持する。樹脂被覆ステップST11では、次に、樹脂被覆ユニット70の樹脂供給部73が、保持面72で保持した被加工物100の露出している面側である表面101に向けて、樹脂液200を滴下して供給する。ここで、樹脂液200は、樹脂201を含有し、揮発性を有する溶剤によって樹脂201が分散して塗布液となったものである。 Specifically, in the resin coating step ST11, first, as shown in FIG. In the resin coating step ST11, the resin supply part 73 of the resin coating unit 70 drops the resin liquid 200 toward the exposed surface 101 of the workpiece 100 held by the holding surface 72. and supply. Here, the resin liquid 200 contains the resin 201, and is obtained by dispersing the resin 201 with a volatile solvent to form a coating liquid.

樹脂被覆ステップST11では、樹脂液200の供給後、保持テーブル71を保持面72に直交する方向に沿った軸心周りに回転させることで、保持テーブル71及び被加工物100を介して、被加工物100の表面101上の樹脂液200に遠心力を付与し、この遠心力により、被加工物100の表面101の全体に樹脂液200を薄く拡散して塗布する。樹脂被覆ステップST11では、その後、薄く拡散して塗布された樹脂液200中の溶剤が揮発することで、被加工物100の表面101上に薄い膜状の樹脂201が形成される。 In the resin coating step ST11, after the resin liquid 200 is supplied, the holding table 71 is rotated around the axis along the direction orthogonal to the holding surface 72, so that the workpiece 100 is moved through the holding table 71 and the workpiece 100. A centrifugal force is applied to the resin liquid 200 on the surface 101 of the object 100, and the resin liquid 200 is thinly spread and applied to the entire surface 101 of the workpiece 100 by the centrifugal force. In the resin coating step ST11, a thin film of resin 201 is formed on the surface 101 of the workpiece 100 by evaporating the solvent in the resin liquid 200 that has been spread and applied thinly.

なお、樹脂被覆ステップST11では、薄い膜状の樹脂201を、被加工物100の表面101上に1層のみ形成してもよく、2層以上重ねて形成してもよい。樹脂被覆ステップST11では、薄い膜状の樹脂201を1層のみ形成した場合はもちろん、2層以上重ねて形成した場合でも、同じ樹脂液200を用いて形成するので、層方向に分離せず、一体となった薄い膜上の樹脂201を被加工物100の表面101上に形成することができる。 In addition, in the resin coating step ST11, the thin film-like resin 201 may be formed on the surface 101 of the workpiece 100 by forming only one layer, or by overlapping two or more layers. In the resin coating step ST11, the same resin liquid 200 is used not only when only one layer of the thin film-like resin 201 is formed, but also when two or more layers are stacked. An integral thin film of resin 201 can be formed on the surface 101 of the workpiece 100 .

樹脂被覆ステップST11では、さらに、樹脂201の種類に応じて、不図示の加熱装置を使用して、被加工物100の表面101上に形成した樹脂201を加熱硬化することが好ましい。樹脂被覆ステップST11では、樹脂201を2層以上重ねて形成した場合には、最後にまとめて2層以上の樹脂201を加熱硬化することが好ましい。 Further, in the resin coating step ST11, it is preferable to heat and cure the resin 201 formed on the surface 101 of the workpiece 100 using a heating device (not shown) according to the type of the resin 201 . In the resin coating step ST11, when two or more layers of the resin 201 are formed, it is preferable that the two or more layers of the resin 201 are heated and cured at the end.

樹脂被覆ステップST11で使用する樹脂液200に含有される樹脂201は、切削加工後の被切削加工面の表面粗さが被加工物100よりも小さくなる材料であれば、どのような材料でも好適に使用することができる。樹脂被覆ステップST11で使用する樹脂液200に含有される樹脂201は、実施形態1では、具体的には、ポジ型レジスト膜として利用される樹脂、水溶性レジスト膜として利用される樹脂、光重合型レジスト膜として利用される樹脂等を好適に使用することができる。樹脂被覆ステップST11の樹脂201に使用される、ポジ型レジスト膜として利用される樹脂は、例えば、感光剤のナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、有機アルカリ水溶液、可溶性のノボラック樹脂等が挙げられる。樹脂被覆ステップST11の樹脂201に使用される、水溶性レジスト膜として利用される樹脂は、例えば、カゼイン、水溶性樹脂に重クロム酸塩を加えたもの等が挙げられる。樹脂被覆ステップST11の樹脂201に使用される、光重合型レジスト膜として利用される樹脂は、例えば、所定のポリマ、モノマ等が挙げられる。 Any material is suitable for the resin 201 contained in the resin liquid 200 used in the resin coating step ST11 as long as the surface roughness of the surface to be cut after cutting is smaller than that of the workpiece 100. can be used for In the first embodiment, the resin 201 contained in the resin liquid 200 used in the resin coating step ST11 is specifically a resin used as a positive resist film, a resin used as a water-soluble resist film, or a photopolymerization resin. A resin or the like that is used as a mold resist film can be preferably used. Examples of the resin used as the positive resist film used for the resin 201 in the resin coating step ST11 include naphthoquinonediazide sulfonic acid ester of a photosensitizer, an organic alkaline aqueous solution, a soluble novolac resin, and the like. The resin used as the water-soluble resist film used for the resin 201 in the resin coating step ST11 includes, for example, casein, a water-soluble resin to which dichromate is added, and the like. As the resin 201 used in the resin coating step ST11 and used as a photopolymerization type resist film, for example, a predetermined polymer, monomer, or the like can be used.

樹脂被覆ステップST11の樹脂201として、上で挙げたポジ型レジスト膜として利用される樹脂、または、光重合型レジスト膜として利用される樹脂を使用する場合、樹脂201を加熱硬化することが好ましく、この場合、樹脂201の加熱硬化により、後述する加工ステップST13で、バイト工具22の刃先に樹脂201が付着したり引き伸ばされたりする等に起因して被切削加工面が荒れてしまうことを抑制することができ、これにより、バイト工具22の刃先状態の確認及び精度確認を好適に実施できる。また、樹脂被覆ステップST11の樹脂201として、上で挙げた水溶性レジスト膜として利用される樹脂を使用する場合、硬化すれば、後述する加工ステップST13で、バイト工具22の刃先に樹脂201が付着したり引き伸ばされたりする可能性が十分に低いため、樹脂201を加熱硬化しなくてもよい。 As the resin 201 in the resin coating step ST11, when using the above-mentioned resin used as a positive resist film or a resin used as a photopolymerization type resist film, the resin 201 is preferably cured by heating. In this case, heat curing of the resin 201 prevents the surface to be cut from being roughened due to adhesion of the resin 201 to the cutting edge of the cutting tool 22 or being stretched in the later-described processing step ST13. As a result, confirmation of the state of the cutting edge of the cutting tool 22 and confirmation of accuracy can be carried out favorably. Further, in the case where the resin used as the water-soluble resist film mentioned above is used as the resin 201 in the resin coating step ST11, the resin 201 adheres to the cutting edge of the cutting tool 22 in the later-described processing step ST13 after curing. The resin 201 does not need to be heat-cured because the possibility of it being stretched or stretched is sufficiently low.

図6は、図4の保持ステップST12及び加工ステップST13を示す断面図である。保持ステップST12は、図6に示すように、樹脂201が被覆された被加工物100の裏面102側を保持テーブル10に保持するステップである。 FIG. 6 is a sectional view showing holding step ST12 and processing step ST13 in FIG. The holding step ST12 is a step of holding the back surface 102 side of the workpiece 100 coated with the resin 201 on the holding table 10, as shown in FIG.

保持ステップST12は、具体的には、保持テーブル10が搬出入位置に位置付けられて実施される。保持ステップST12では、搬出入ユニット61によりカセット60-1から搬出され、位置合わせユニット62で位置合わせされた切削加工前の被加工物100を、搬入ユニット63が、被加工物100の裏面102側を保持面11に向けて、搬出入位置にある保持テーブル10の保持面11に搬入する。保持ステップST12では、保持テーブル10が、樹脂201が被覆された表面101とは反対側である裏面102側を保持面11で保持することで、樹脂201が被覆された表面101側を鉛直方向上側に向けて露出させ、実質的に切削ユニット20に向けて保持する状態となる。 Specifically, the holding step ST12 is performed with the holding table 10 positioned at the carry-in/out position. In the holding step ST12, the uncut workpiece 100 unloaded from the cassette 60-1 by the loading/unloading unit 61 and aligned by the positioning unit 62 is held by the loading unit 63 on the back surface 102 side of the workpiece 100. toward the holding surface 11, and loaded onto the holding surface 11 of the holding table 10 at the loading/unloading position. In the holding step ST12, the holding table 10 holds the back surface 102 opposite to the surface 101 coated with the resin 201 by the holding surface 11, so that the surface 101 coated with the resin 201 is vertically upward. , and substantially held toward the cutting unit 20 .

加工ステップST13は、図6に示すように、被加工物100の表面101側から切削ユニット20で樹脂201が完全に除去されない厚みまで被加工物100を切削加工するステップである。ここで、樹脂201が完全に除去されない厚みまで被加工物100を切削加工するとは、被加工物100自体を切削加工せず、被加工物100の表面101側に被覆した樹脂201のみを切削加工して薄肉化することで、被加工物100の表面101側の全面に、樹脂201より薄い切削加工後の樹脂202を残存させた状態にすることを指す。 The machining step ST13 is a step of cutting the workpiece 100 from the surface 101 side of the workpiece 100 to a thickness where the resin 201 is not completely removed by the cutting unit 20, as shown in FIG. Here, cutting the workpiece 100 to a thickness at which the resin 201 is not completely removed means that the workpiece 100 itself is not cut, and only the resin 201 coated on the surface 101 side of the workpiece 100 is cut. This means that the resin 202 after cutting, which is thinner than the resin 201, remains on the entire surface 101 side of the workpiece 100 by reducing the thickness.

加工ステップST13では、具体的には、まず、切り込み送りユニット40が、切削ユニット20を鉛直方向下方に移動させることで、バイト工具22の切削加工面を、保持テーブル10の保持面11で吸引保持した被加工物100の表面101と、樹脂被覆ステップST11で被加工物100の表面101上に形成した薄い膜状の樹脂201の上面との間の高さに移動させる。加工ステップST13では、例えば、切り込み送りユニット40が、バイト工具22の鉛直方向下側に向けられた先端の高さを樹脂201に切り込む位置に移動させる。 Specifically, in the processing step ST13, first, the cutting feed unit 40 moves the cutting unit 20 downward in the vertical direction so that the cutting surface of the cutting tool 22 is sucked and held by the holding surface 11 of the holding table 10. and the upper surface of the thin film-like resin 201 formed on the surface 101 of the workpiece 100 in the resin coating step ST11. In the processing step ST<b>13 , for example, the cutting feed unit 40 moves the height of the tip of the cutting tool 22 directed downward in the vertical direction to a position for cutting into the resin 201 .

加工ステップST13では、次に、モーター24が、スピンドル21の先端に装着されたバイト工具22を含むバイトホイール23を回転させる。加工ステップST13では、そして、加工送りユニット30が、バイト工具22を含むバイトホイール23を回転させた状態で、被加工物100を保持している保持テーブル10を搬出入位置から加工位置に向けて移動させる。これにより、加工ステップST13では、バイト工具22の先端が、保持テーブル10の保持面11で吸引保持した被加工物100の表面101上に形成された薄い膜状の樹脂201に対して、周方向から接触する。そして、加工ステップST13では、加工送りユニット30が、保持テーブル10を完全に加工位置まで移動させることで、バイト工具22が、被加工物100の表面101上に形成された薄い膜状の樹脂201を、全面に渡って、樹脂201が完全に除去されない厚みまで切削加工して、切削加工後の樹脂202とする。 Next, in the processing step ST13, the motor 24 rotates the bite wheel 23 including the bite tool 22 attached to the tip of the spindle 21 . In the processing step ST13, the processing feed unit 30 moves the holding table 10 holding the workpiece 100 from the loading/unloading position to the processing position while rotating the cutting tool wheel 23 including the cutting tool 22. move. As a result, in the processing step ST13, the tip of the cutting tool 22 is applied to the thin film-like resin 201 formed on the surface 101 of the workpiece 100 sucked and held by the holding surface 11 of the holding table 10 in the circumferential direction. contact from. Then, in the processing step ST13, the processing feed unit 30 moves the holding table 10 completely to the processing position, so that the cutting tool 22 moves the thin film-like resin 201 formed on the surface 101 of the workpiece 100. is cut over the entire surface to a thickness at which the resin 201 is not completely removed, and a resin 202 after cutting is obtained.

加工ステップST13では、切削ユニット20のバイト工具22で、被加工物100の表面101上の樹脂201を全面に渡って切削加工して樹脂202とした後、加工送りユニット30が、被加工物100を保持する保持テーブル10を加工位置から搬出入位置まで移動させる。 In the processing step ST13, the cutting tool 22 of the cutting unit 20 cuts the resin 201 on the surface 101 of the workpiece 100 over the entire surface to form the resin 202. is moved from the processing position to the loading/unloading position.

被加工物取り外しステップST14は、加工ステップST13の実施後かつ判断ステップST15の実施前に、被加工物100を保持テーブル10から外し、被加工物100の表面101側に異物500により生じた厚みの凹凸を転写させるステップである。ここで、被加工物100の表面101側に異物500により生じた厚みの凹凸は、異物500が付着した保持面11に被加工物100が吸引保持されて旋回切削されて、被加工物100の厚みがばらつくこと、即ち被加工物100の厚みが不均一になることをいう。 In the workpiece removal step ST14, the workpiece 100 is removed from the holding table 10 after the machining step ST13 and before the determination step ST15 is performed, and the thickness of the workpiece 100 caused by the foreign matter 500 is removed from the surface 101 side of the workpiece 100. This is the step of transferring the unevenness. Here, the irregularities in thickness caused by the foreign matter 500 on the surface 101 side of the workpiece 100 are removed by turning and holding the workpiece 100 on the holding surface 11 to which the foreign matter 500 adheres. It means that the thickness varies, that is, the thickness of the workpiece 100 becomes non-uniform.

被加工物取り外しステップST14では、具体的には、まず、搬出ユニット64が、加工ステップST13の実施後に、搬出入位置に位置付けられた保持テーブル10から、表面101上に切削加工後の樹脂202が形成された被加工物100を取り外す。 Specifically, in the work piece removal step ST14, first, after the processing step ST13 is performed, the carry-out unit 64 moves the resin 202 after cutting onto the surface 101 from the holding table 10 positioned at the carry-in/out position. The formed workpiece 100 is removed.

被加工物取り外しステップST14で取り出した被加工物100の表面101上に被覆された切削加工後の被加工物100の樹脂202の表面には、凹凸が形成される。切削加工後の樹脂202の表面は、具体的には、保持面11に異物500が付着していた箇所上の被加工物100の表面101の領域では凸となり、凹凸が形成される。このように、本発明では、被加工物が保持テーブル10に保持されている状態では、異物500により被加工物100の厚みにばらつきは生じているが、被加工物100の保持面11に接している面(本実施形態では裏面102)に凹凸があり、被加工物100の露出している反対側の面(本実施形態では表面101)は平坦になっているため可視光において干渉縞が確認しにくい。しかし、被加工物取り外しステップST14において被加工物100を保持テーブル10から取り外すことで、表面101側に異物による凹凸が転写されるため可視光でも干渉縞が見えやすい状態となる。異物500により被加工物100の面内に厚みばらつきがあった場合に被加工物100の表面101側に厚みの凹凸が転写される。 Concavities and convexities are formed on the surface of the resin 202 of the workpiece 100 after cutting, which is coated on the surface 101 of the workpiece 100 taken out in the workpiece removing step ST14. Specifically, the surface of the resin 202 after the cutting process becomes convex in the region of the surface 101 of the workpiece 100 on the portion where the foreign matter 500 adheres to the holding surface 11, and unevenness is formed. As described above, according to the present invention, while the workpiece 100 is held by the holding table 10 , the thickness of the workpiece 100 varies due to the foreign matter 500 . Since the surface (the back surface 102 in this embodiment) is uneven and the surface opposite to the exposed surface (the front surface 101 in this embodiment) of the workpiece 100 is flat, interference fringes are generated in visible light. Hard to confirm. However, by removing the workpiece 100 from the holding table 10 in the workpiece removing step ST14, the unevenness due to the foreign matter is transferred to the surface 101 side, so that the interference fringes are easily visible even with visible light. When the thickness of the workpiece 100 varies due to the foreign matter 500 , the unevenness of the thickness is transferred to the front surface 101 of the workpiece 100 .

図7は、図4の加工ステップST13を経て形成された干渉縞300を模式的に示す上面図である。干渉縞300は、切削加工後の樹脂202の厚みの凹凸に起因して、光学現象により生じているものである。このため、干渉縞300は、図7に示すように、切削加工後の樹脂202において厚みが等しい位置を結んだ曲線である等厚線の群として表される。干渉縞300、すなわち等厚線の密度は、切削加工後の樹脂202の厚みの変化量の傾斜を表している。 FIG. 7 is a top view schematically showing interference fringes 300 formed through processing step ST13 of FIG. The interference fringes 300 are caused by an optical phenomenon due to unevenness in the thickness of the resin 202 after cutting. Therefore, as shown in FIG. 7, the interference fringes 300 are expressed as a group of contour lines that are curves connecting positions of equal thickness in the resin 202 after cutting. The interference fringes 300, that is, the density of isobath lines, represent the slope of the amount of change in the thickness of the resin 202 after cutting.

判断ステップST15は、加工ステップST13の実施後に切削加工後の樹脂202に形成される干渉縞300の状態が所定の許容範囲を超えるか否かを判断するステップである。実施形態1に係る保持面の異物検出方法では、切削加工後の樹脂202に形成される干渉縞300の状態が所定の許容範囲を超える場合(判断ステップST15でYes)、処理を洗浄ステップST16に進め、切削加工後の樹脂202に形成される干渉縞300の状態が所定の許容範囲を超えない、すなわち許容範囲内である場合(判断ステップST15でNo)、洗浄ステップST16を実施せずに処理を終了させる。ここで、本実施形態では、干渉縞300の状態が所定の許容範囲を超えるとは、干渉縞300が可視光で認識できる場合であり、干渉縞300の状態が所定の許容範囲内であるとは、干渉縞300が可視光で認識できない場合である。 The judgment step ST15 is a step for judging whether or not the state of the interference fringes 300 formed in the resin 202 after cutting after the processing step ST13 is performed exceeds a predetermined allowable range. In the foreign matter detection method for the holding surface according to the first embodiment, when the state of the interference fringes 300 formed on the resin 202 after cutting exceeds the predetermined allowable range (Yes in determination step ST15), the process proceeds to cleaning step ST16. Proceeding, if the state of the interference fringes 300 formed in the resin 202 after cutting does not exceed the predetermined allowable range, that is, if it is within the allowable range (No in judgment step ST15), the process is performed without executing the cleaning step ST16. terminate. Here, in the present embodiment, the state of the interference fringes 300 exceeding the predetermined allowable range means that the interference fringes 300 can be recognized by visible light, and that the state of the interference fringes 300 is within the predetermined allowable range. is a case where the interference fringes 300 cannot be recognized with visible light.

判断ステップST15では、具体的には、干渉縞300が可視光で認識できた場合、干渉縞300の状態が所定の許容範囲を超えると判断し、保持テーブル10の保持面11は十分に平坦ではなく、異物500が保持テーブル10の保持面11に存在すると判断する(判断ステップST15でYes)。干渉縞300が可視光で認識できない場合、干渉縞300の状態が所定の許容範囲内であると判断する。保持テーブル10の保持面11は十分に平坦であり、異物500が保持テーブル10の保持面11に存在しないと判断する(判断ステップST15でNo)。 Specifically, in determination step ST15, when the interference fringes 300 can be recognized by visible light, it is determined that the state of the interference fringes 300 exceeds a predetermined allowable range, and the holding surface 11 of the holding table 10 is not sufficiently flat. It is determined that there is no foreign matter 500 on the holding surface 11 of the holding table 10 (Yes in judgment step ST15). If the interference fringes 300 cannot be recognized with visible light, it is determined that the state of the interference fringes 300 is within a predetermined allowable range. It is determined that the holding surface 11 of the holding table 10 is sufficiently flat and the foreign matter 500 does not exist on the holding surface 11 of the holding table 10 (No in judgment step ST15).

また、判断ステップST15では、干渉縞300が可視光で認識できた場合、干渉縞300が認識できた領域を、保持テーブル10の保持面11において異物500が存在している領域と対応しているとして認識することができる。 Further, in judgment step ST15, when the interference fringes 300 can be recognized by visible light, the area where the interference fringes 300 can be recognized corresponds to the area where the foreign matter 500 exists on the holding surface 11 of the holding table 10. can be recognized as

なお、判断ステップST15は、実施形態1では、制御ユニット50が、所定の撮像装置及び所定の画像解析装置等を使用して機械的に実施してもよく、オペレータが切削加工後の樹脂202が形成された被加工物100を視認して実施してもよく、また、干渉縞300の領域、例えば干渉縞300の中で厚みが一番薄くなる干渉縞300の中央と干渉縞300の外側の領域との厚みを測定し、しきい値以上の厚みの差があるかを確認するという厚み測定による判断を実施してもよい。 Note that, in the first embodiment, the determination step ST15 may be mechanically performed by the control unit 50 using a predetermined imaging device, a predetermined image analysis device, or the like. The formed workpiece 100 may be visually observed, and the area of the interference fringes 300, for example, the center of the interference fringes 300 where the thickness is the thinnest in the interference fringes 300 and the outer side of the interference fringes 300 A thickness measurement may be performed to determine whether there is a thickness difference equal to or greater than a threshold value.

洗浄ステップST16は、切削加工後の樹脂202に形成される干渉縞300の状態が所定の許容範囲を超えていた場合は保持テーブル10の保持面11を洗浄するステップである。すなわち、洗浄ステップST16は、判断ステップST15でYesと判断した場合にのみ実施する。 The cleaning step ST16 is a step of cleaning the holding surface 11 of the holding table 10 when the state of the interference fringes 300 formed on the resin 202 after cutting exceeds a predetermined allowable range. That is, the cleaning step ST16 is performed only when Yes is determined in the determination step ST15.

図8は、図4の洗浄ステップST16の詳細の処理を示すフローチャートである。洗浄ステップST16は、実施形態1では、図8に示すように、有機溶剤供給ステップST21と、異物除去ステップST22と、を有する。なお、洗浄ステップST16は、本発明ではこの形態に限定されず、保持テーブル10の保持面11に付着した異物500を除去可能であれば、どのような形態であってもよい。 FIG. 8 is a flow chart showing detailed processing of the cleaning step ST16 of FIG. In Embodiment 1, the cleaning step ST16 has an organic solvent supply step ST21 and a foreign matter removal step ST22, as shown in FIG. Note that the cleaning step ST16 is not limited to this form in the present invention, and may be of any form as long as the foreign matter 500 adhering to the holding surface 11 of the holding table 10 can be removed.

図9は、図8の有機溶剤供給ステップST21を示す断面図である。有機溶剤供給ステップST21は、図9に示すように、保持面11に有機溶剤400を供給するステップである。 FIG. 9 is a cross-sectional view showing the organic solvent supply step ST21 in FIG. The organic solvent supply step ST21 is a step of supplying the organic solvent 400 to the holding surface 11, as shown in FIG.

有機溶剤供給ステップST21では、具体的には、図9に示すように、保持テーブル洗浄ユニット80の有機溶剤供給部81が、保持面11、すなわち外周環状保持部12の上面及び複数の支持ピン14の上面に向けて、有機溶剤400を供給する。有機溶剤供給ステップST21では、滴下、噴射、散布、塗布等の方法により有機溶剤400を供給することができる。有機溶剤供給ステップST21では、前の判断ステップST15で保持テーブル10の保持面11において異物500が存在している領域を求めていた場合、異物500が存在している領域及びその周辺のみに有機溶剤400を供給してもよい。有機溶剤供給ステップST21では、異物500が存在している領域に有機溶剤400を供給することで、異物500が保持面11に固着しているような場合であっても、有機溶剤400が保持面11に好適に濡れて、保持面11と異物500との間に入り込み、異物500を保持面11から好適に浮かび上がらせることができる。 In the organic solvent supply step ST21, specifically, as shown in FIG. The organic solvent 400 is supplied toward the upper surface of the . In the organic solvent supply step ST21, the organic solvent 400 can be supplied by a method such as dropping, spraying, spraying, or coating. In the organic solvent supply step ST21, if the area where the foreign matter 500 exists on the holding surface 11 of the holding table 10 was obtained in the previous determination step ST15, the organic solvent is supplied only to the area where the foreign matter 500 exists and its surroundings. 400 may be supplied. In the organic solvent supply step ST21, by supplying the organic solvent 400 to the area where the foreign matter 500 exists, even if the foreign matter 500 adheres to the holding surface 11, the organic solvent 400 does not adhere to the holding surface 11. 11 can be suitably wetted and can enter between the holding surface 11 and the foreign object 500 , so that the foreign object 500 can be suitably floated from the holding surface 11 .

有機溶剤供給ステップST21で使用する有機溶剤400は、実施形態1では、例えば、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール(IsoPropyl Alcohol、IPA)、ノルマルプロピルアルコール(n-Propyl Alcohol、NPA)、アセトン等が挙げられる。 In Embodiment 1, the organic solvent 400 used in the organic solvent supply step ST21 includes, for example, ethanol, methanol, isopropyl alcohol (IPA), n-propyl alcohol (NPA), acetone, and the like. .

図10は、図8の異物除去ステップST22を示す断面図である。異物除去ステップST22は、図10に示すように、有機溶剤400によって保持面11から浮かび上がった異物500を洗浄するステップである。 FIG. 10 is a cross-sectional view showing the foreign matter removal step ST22 of FIG. The foreign matter removing step ST22 is a step of cleaning the foreign matter 500 floating up from the holding surface 11 with the organic solvent 400, as shown in FIG.

異物除去ステップST22では、具体的には、図10に示すように、保持テーブル洗浄ユニット80の洗浄ブラシ82を、保持面11に対して所定の圧力で押圧しながら相対的に水平方向に移動させて、保持面11にこすり付けることで、有機溶剤400によって保持面11から浮かび上がった異物500を保持面11から除去する。また、異物除去ステップST22では、エアと水を混ぜた二流体洗浄水を供給して有機溶剤400によって保持面11から浮かび上がった異物500を保持面11から除去しても良い。 Specifically, in the foreign matter removing step ST22, as shown in FIG. 10, the cleaning brush 82 of the holding table cleaning unit 80 is moved relatively horizontally while being pressed against the holding surface 11 with a predetermined pressure. The organic solvent 400 removes the foreign matter 500 floating up from the holding surface 11 from the holding surface 11 by rubbing against the holding surface 11 . Further, in the foreign matter removing step ST22, the foreign matter 500 floating up from the holding surface 11 may be removed from the holding surface 11 by supplying two-fluid cleaning water in which air and water are mixed.

このように、実施形態1に係る保持面の異物検出方法では、洗浄ステップST16を実施することで、保持テーブル10の保持面11から異物500を除去して、保持テーブル10の保持面11を十分に平坦な正常状態に戻すことができる。 As described above, in the holding surface foreign matter detection method according to the first embodiment, by performing the cleaning step ST16, the foreign matter 500 is removed from the holding surface 11 of the holding table 10, and the holding surface 11 of the holding table 10 is sufficiently cleaned. can be returned to a flat normal state.

実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、樹脂被覆ステップST11で表面101に樹脂201を被覆した被加工物100を、保持ステップST12で異物500の有無を検出したい保持面11に保持させて、加工ステップST13で樹脂201を完全に除去されない厚みまで切削加工する。このため、実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、靱性の高い樹脂201を被覆して加工するので、従来の靱性の低い被加工物100を加工する場合と比較して、被切削加工面の表面粗さが小さい状態を形成することができる。これにより、実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、切削加工により形成した樹脂202が、従来のようにレーザ干渉計などの特別な測定器を使用することなく、可視光でも樹脂202の厚みばらつきに起因する干渉縞300を十分に明瞭に観察することができる。 In the holding surface foreign matter detection method according to the first embodiment, the workpiece 100 whose surface 101 is coated with the resin 201 in the resin coating step ST11 is held by the holding surface 11 for detecting the presence or absence of the foreign matter 500 in the holding step ST12. Then, in the processing step ST13, the resin 201 is cut to a thickness that is not completely removed. For this reason, in the method for detecting foreign matter on the holding surface according to the first embodiment, the resin 201 with high toughness is coated and processed. A state in which the surface roughness of the surface is small can be formed. As a result, the foreign matter detection method for the holding surface according to the first embodiment can detect the resin 202 formed by cutting even with visible light without using a special measuring instrument such as a laser interferometer as in the conventional art. The interference fringes 300 caused by thickness variations can be observed clearly enough.

また、実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、加工ステップST13で、被加工物100に被覆した樹脂201の上面を平坦に加工する。このため、実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、加工ステップST13で、切削加工後の樹脂202を、保持テーブル10の保持面11に異物500がある場合に、異物500に起因する被加工物100の面内の厚みばらつきに基づく厚みの凹凸を有するものとすることができる。 In the holding surface foreign matter detection method according to the first embodiment, the upper surface of the resin 201 covering the workpiece 100 is flattened in the processing step ST13. For this reason, in the method for detecting foreign matter on the holding surface according to the first embodiment, in the processing step ST13, the resin 202 after the cutting process is treated with the foreign matter 500 caused by the foreign matter 500 on the holding surface 11 of the holding table 10. The thickness of the workpiece 100 may be uneven based on the in-plane thickness variations.

以上により、実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、判断ステップST15で、切削加工後の樹脂202に形成される干渉縞300の状態が所定の許容範囲を超えるか否かを判断することで、保持テーブル10の保持面11に異物500があるか否かを判断することができるので、保持テーブル10の保持面11の異物500をより容易に検出することができるという作用効果を奏するものとなる。 As described above, in the foreign matter detection method on the holding surface according to the first embodiment, it is determined in determination step ST15 whether or not the state of the interference fringes 300 formed in the resin 202 after cutting exceeds the predetermined allowable range. Therefore, it is possible to determine whether or not there is a foreign object 500 on the holding surface 11 of the holding table 10. Therefore, it is possible to more easily detect the foreign object 500 on the holding surface 11 of the holding table 10. becomes.

また、実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、さらに、加工ステップST13の実施後かつ判断ステップST15の実施前に、被加工物100を保持テーブル10から外し、被加工物100の表面101側に異物500により生じた厚みの凹凸を転写させる被加工物取り外しステップST14を実施する。このため、実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、表面101側に異物による凹凸が転写されるため可視光でも干渉縞がさらに見えやすい状態となるので、保持テーブル10の保持面11の異物500をさらに容易に検出することができるという作用効果を奏する。 Further, in the foreign matter detection method on the holding surface according to the first embodiment, the workpiece 100 is removed from the holding table 10 and the surface 101 of the workpiece 100 is removed after performing the processing step ST13 and before performing the determination step ST15. A workpiece removal step ST14 is performed to transfer the unevenness of the thickness caused by the foreign matter 500 to the side. For this reason, in the holding surface foreign matter detection method according to the first embodiment, since the unevenness due to the foreign matter is transferred to the surface 101 side, the interference fringes are more easily visible even with visible light. This has the effect of making it possible to detect the foreign object 500 more easily.

また、実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、洗浄ステップST16が、保持面11に有機溶剤400を供給する有機溶剤供給ステップST21と、有機溶剤400によって保持面11から浮かび上がった異物500を洗浄する異物除去ステップST22とを有する。このため、実施形態1に係る保持面の異物検出方法は、判断ステップST15を経て検出した異物500が保持テーブル10の保持面11に固着している場合でも、好適に異物500を保持面11から除去することができるという作用効果を奏する。 Further, in the foreign matter detection method for the holding surface according to the first embodiment, the cleaning step ST16 includes the organic solvent supplying step ST21 for supplying the organic solvent 400 to the holding surface 11, and the foreign matter 500 lifted up from the holding surface 11 by the organic solvent 400. and a foreign matter removing step ST22 for cleaning the . For this reason, the method for detecting a foreign object on the holding surface according to the first embodiment preferably removes the foreign object 500 from the holding surface 11 even when the foreign object 500 detected through the judgment step ST15 adheres to the holding surface 11 of the holding table 10. There is an effect that it can be removed.

〔実施形態2〕
本発明の実施形態2に係る保持面の異物検出方法を図面に基づいて説明する。図11は、実施形態2に係る保持面の異物検出方法における保持ステップST12及び加工ステップST13を示す断面図である。図11は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 2]
A foreign matter detection method on a holding surface according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 11 is a cross-sectional view showing the holding step ST12 and the processing step ST13 in the foreign matter detection method for the holding surface according to the second embodiment. In FIG. 11, the same reference numerals are assigned to the same parts as those of the first embodiment, and the description thereof is omitted.

本発明の実施形態2に係る保持面の異物検出方法は、図11に示す研削装置1-2において実施される方法である。実施形態2に係る保持面の異物検出方法を実施する研削装置1-2は、図11に示すように、実施形態1に係る保持面の異物検出方法を実施するバイト切削装置1において、切削ユニット20に代えて、研削ユニット90を備えたものである。 A foreign matter detection method for a holding surface according to a second embodiment of the present invention is a method implemented in a grinding apparatus 1-2 shown in FIG. As shown in FIG. 11, a grinding apparatus 1-2 that implements the method for detecting foreign matter on the holding surface according to the second embodiment is a cutting unit 1 that implements the method for detecting foreign matter on the holding surface according to the first embodiment. 20, a grinding unit 90 is provided.

研削装置1-2において、保持テーブル10は、被加工物100を搬出入する搬出入位置と、保持面11で保持した被加工物100に対し研削ユニット90により研削加工を実行する加工位置との間で、X軸方向に移動可能に設けられている。 In the grinding apparatus 1-2, the holding table 10 has a loading/unloading position for loading/unloading the workpiece 100 and a processing position for grinding the workpiece 100 held by the holding surface 11 by the grinding unit 90. Between, it is provided so as to be movable in the X-axis direction.

研削ユニット90は、図11に示すように、スピンドル91と、研削砥石92を含む研削ホイール93と、モーター94と、を備える。スピンドル91は、保持面11に直交する方向である鉛直方向に沿って軸心方向が配されている。研削ホイール93は、研削砥石92を鉛直方向の下方に向けて、鉛直方向の上方側がスピンドル91の先端に装着されている。モーター94は、スピンドル91に設けられ、スピンドル91を軸心回りに回転させる。研削ユニット90は、スピンドル91の先端に装着された研削砥石92を含む研削ホイール93をモーター94で回転させることで、保持テーブル10に保持された被加工物100を研削する。研削ユニット90の研削加工面及び研削ユニット90による被加工物100の被研削加工面は、保持面11に平行、すなわち水平面であるXY平面に概ね平行となる。 The grinding unit 90 includes a spindle 91, a grinding wheel 93 including a grinding wheel 92, and a motor 94, as shown in FIG. The axial direction of the spindle 91 is arranged along the vertical direction, which is the direction orthogonal to the holding surface 11 . The grinding wheel 93 is mounted on the leading end of the spindle 91 with the grinding wheel 92 directed downward in the vertical direction and the upper side in the vertical direction. A motor 94 is provided on the spindle 91 and rotates the spindle 91 around its axis. The grinding unit 90 grinds the workpiece 100 held on the holding table 10 by rotating a grinding wheel 93 including a grinding wheel 92 attached to the tip of the spindle 91 with a motor 94 . The grinding surface of the grinding unit 90 and the surface of the workpiece 100 to be ground by the grinding unit 90 are parallel to the holding surface 11, that is, substantially parallel to the horizontal XY plane.

研削装置1-2において、切り込み送りユニット40は、移動基台を介して装着された研削ユニット90をZ軸方向に沿って移動させる。研削装置1-2において、切り込み送りユニット40は、研削ユニット90を鉛直方向下方である-Z方向に沿って移動させ、研削砥石92を保持テーブル10の保持面11で吸引保持した被加工物100に向けて移動させる。 In the grinding apparatus 1-2, the cutting feed unit 40 moves the grinding unit 90 mounted via the movable base along the Z-axis direction. In the grinding apparatus 1-2, the cutting feed unit 40 moves the grinding unit 90 along the -Z direction, which is vertically downward, and holds the grinding wheel 92 on the holding surface 11 of the holding table 10 by suction. move toward

本発明の実施形態2に係る保持面の異物検出方法は、本発明の実施形態1に係る保持面の異物検出方法において、加工ステップST13を変更したものであり、その他の処理については実施形態1と同様である。 The method for detecting foreign matter on the holding surface according to the second embodiment of the present invention is obtained by changing the processing step ST13 in the method for detecting foreign matter on the holding surface according to the first embodiment of the present invention. is similar to

実施形態2に係る加工ステップST13は、図11に示すように、被加工物100の表面101側から研削ユニット90で樹脂201が完全に除去されない厚みまで被加工物100を研削加工するステップである。 The processing step ST13 according to the second embodiment, as shown in FIG. 11, is a step of grinding the workpiece 100 from the surface 101 side of the workpiece 100 to a thickness at which the resin 201 is not completely removed by the grinding unit 90. .

実施形態2に係る加工ステップST13では、具体的には、まず、加工送りユニット30が、被加工物100を保持する保持テーブル10を搬出入位置から加工位置まで移動させる。加工ステップST13では、次に、モーター94が、スピンドル91の先端に装着された研削砥石92を含む研削ホイール93を回転させる。実施形態2に係る加工ステップST13では、そして、切り込み送りユニット40が、研削砥石92を含む研削ホイール93を回転させた状態で、研削ユニット90を鉛直方向下方に移動させることで、研削砥石92の研削加工面を、加工位置にある保持テーブル10の保持面11に向けて接近させる。これにより、実施形態2に係る加工ステップST13では、研削砥石92の先端が、保持テーブル10の保持面11で吸引保持した被加工物100の表面101上に形成された薄い膜状の樹脂201に対して、上面側から接触する。 Specifically, in the processing step ST13 according to the second embodiment, first, the processing feed unit 30 moves the holding table 10 that holds the workpiece 100 from the loading/unloading position to the processing position. In the processing step ST13, the motor 94 then rotates the grinding wheel 93 including the grinding wheel 92 attached to the tip of the spindle 91 . In the processing step ST13 according to the second embodiment, the cutting feed unit 40 moves the grinding unit 90 downward in the vertical direction while rotating the grinding wheel 93 including the grinding wheel 92. The grinding surface is approached toward the holding surface 11 of the holding table 10 at the machining position. As a result, in the processing step ST13 according to the second embodiment, the tip of the grinding wheel 92 adheres to the thin film resin 201 formed on the surface 101 of the workpiece 100 sucked and held by the holding surface 11 of the holding table 10. On the other hand, contact is made from the upper surface side.

そして、実施形態2に係る加工ステップST13では、研削砥石92の研削加工面を、保持テーブル10の保持面11で吸引保持した被加工物100の表面101と、樹脂被覆ステップST11で被加工物100の表面101上に形成した薄い膜状の樹脂201の上面との間の高さまで移動させることで、研削砥石92が、被加工物100の表面101上に形成された薄い膜状の樹脂201を、全面に渡って、樹脂201が完全に除去されない厚みまで研削加工して、研削加工後の樹脂202とする。加工ステップST13では、例えば、切り込み送りユニット40が、研削砥石92の鉛直方向下側に向けられた先端の高さを、被加工物100の表面101上に形成された薄い膜状の樹脂201の厚み方向の中央付近まで移動させて、研削加工をする。 Then, in the processing step ST13 according to the second embodiment, the surface 101 of the workpiece 100 suction-held by the holding surface 11 of the holding table 10 is held by the grinding surface of the grinding wheel 92, and the surface 101 of the workpiece 100 is held by the holding surface 11 of the holding table 10. By moving to a height between the thin film resin 201 formed on the surface 101 of the workpiece 100 and the upper surface of the thin film resin 201, the grinding wheel 92 moves the thin film resin 201 formed on the surface 101 of the workpiece 100. , the resin 201 is ground over the entire surface to a thickness at which the resin 201 is not completely removed, and the ground resin 202 is formed. In the processing step ST13, for example, the cutting feed unit 40 moves the height of the tip of the grinding wheel 92 directed downward in the vertical direction to the thickness of the thin film-like resin 201 formed on the surface 101 of the workpiece 100. Grinding is performed by moving to the vicinity of the center in the thickness direction.

実施形態2に係る保持面の異物検出方法は、実施形態1に係る保持面の異物検出方法と同様に、樹脂被覆ステップST11で表面101に樹脂201を被覆した被加工物100を、保持ステップST12で異物500の有無を検出したい保持面11に保持させて、加工ステップST13で樹脂201を完全に除去されない厚みまで研削加工する。そして、実施形態2に係る保持面の異物検出方法は、実施形態1に係る保持面の異物検出方法と同様に、加工ステップST13で、研削加工後の樹脂202を、保持テーブル10の保持面11に異物500がある場合に、異物500に起因する被加工物100の面内の厚みばらつきに基づく厚みの凹凸を有するものとすることができる。このため、実施形態2に係る保持面の異物検出方法は、実施形態1に係る保持面の異物検出方法と同様の作用効果を奏するものとなる。 In the holding surface foreign matter detection method according to the second embodiment, similarly to the holding surface foreign matter detection method according to the first embodiment, the workpiece 100 whose surface 101 is coated with the resin 201 in the resin coating step ST11 is coated with the resin 201 in the holding step ST12. is held on the holding surface 11 where the presence or absence of the foreign matter 500 is to be detected, and in the processing step ST13, the resin 201 is ground to a thickness that is not completely removed. In the holding surface foreign matter detection method according to the second embodiment, similarly to the holding surface foreign matter detection method according to the first embodiment, the resin 202 after grinding is applied to the holding surface 11 of the holding table 10 in the processing step ST13. When there is a foreign substance 500 in the surface of the workpiece 100 , the workpiece 100 may have unevenness in thickness based on the in-plane thickness variation of the workpiece 100 caused by the foreign substance 500 . Therefore, the method for detecting foreign matter on the holding surface according to the second embodiment has the same effects as the method for detecting foreign matter on the holding surface according to the first embodiment.

次に、本発明の発明者は、本発明の保持面の異物検出方法の効果を確認した。結果を以下の表1に示す。表1は、表面を切削加工後に、可視光で干渉縞300が認識できたものを丸で示し、可視光で干渉縞300が認識できなかったものをバツで示している。 Next, the inventors of the present invention confirmed the effect of the foreign matter detection method for the holding surface of the present invention. The results are shown in Table 1 below. In Table 1, circles indicate the interference fringes 300 that could be recognized with visible light after cutting the surface, and crosses indicate the cases where the interference fringes 300 could not be recognized with visible light.

Figure 0007300943000001
Figure 0007300943000001

表1中の本発明方法1は、実施形態1に係る保持面の異物検出方法において、樹脂被覆ステップST11でポジ型レジスト膜として利用される樹脂の一例である感光剤のナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを樹脂201として含有する樹脂液200を使用して被加工物100の表面101に被覆し、被覆した樹脂201を加熱硬化して、樹脂201を被覆した被加工物100の裏面102側を異物500を有する保持テーブル10の保持面11で保持し、樹脂201を完全に除去されない厚みまでバイト工具22で切削加工して切削加工後の樹脂202を形成したものである。表1中の本発明方法2は、樹脂201を水溶性レジスト膜として利用される樹脂の一例であるカゼインに変更し、被覆した樹脂201の加熱硬化をしないこと以外、表1中の本発明方法1と同じ処理を実行したものである。表1中の本発明方法3は、樹脂201を光重合型レジスト膜として利用される樹脂の一例である所定のポリマに変更したこと以外、表1中の本発明方法1と同じ処理を実行したものである。表1中の本発明方法4は、バイト工具22での切削加工を研削砥石92での研削加工に変更したこと以外、表1中の本発明方法1と同じ処理を実行したものである。表1中の比較例は、被加工物100の表面101に樹脂201を被覆しないで、樹脂201の代わりに被加工物100の表面101を切削加工したこと以外、表1中の本発明方法1と同じ処理を実行したものである。 In Method 1 of the present invention in Table 1, in the method for detecting foreign matter on the holding surface according to Embodiment 1, a naphthoquinonediazide sulfonate ester of a photosensitive agent, which is an example of a resin used as a positive resist film in the resin coating step ST11, is used. The resin liquid 200 contained as the resin 201 is used to coat the front surface 101 of the workpiece 100 , and the coated resin 201 is cured by heating to remove the foreign matter 500 from the back surface 102 side of the workpiece 100 coated with the resin 201 . The resin 201 is held by the holding surface 11 of the holding table 10, and cut with a cutting tool 22 to a thickness that does not completely remove the resin 201, thereby forming the resin 202 after cutting. In the method 2 of the present invention in Table 1, the resin 201 is changed to casein, which is an example of a resin used as a water-soluble resist film, and the coated resin 201 is not heat-cured. The same processing as 1 is executed. In the method 3 of the present invention in Table 1, the same processing as the method 1 of the present invention in Table 1 was performed except that the resin 201 was changed to a predetermined polymer, which is an example of a resin used as a photopolymerization resist film. It is. In the method 4 of the present invention in Table 1, the same processing as the method 1 of the present invention in Table 1 was performed except that the cutting with the cutting tool 22 was changed to the grinding with the grinding wheel 92 . In the comparative example in Table 1, the surface 101 of the workpiece 100 was not coated with the resin 201, and instead of the resin 201, the surface 101 of the workpiece 100 was cut. performed the same processing as

表1によれば、比較例は、可視光で干渉縞300が認識できなかったのに対し、本発明方法1、本発明方法2、本発明方法3及び本発明方法4は、可視光で干渉縞300が認識できた。よって、表1によれば、樹脂被覆ステップST11で樹脂201を被覆して、樹脂201を完全に除去されない厚みまで加工して、加工後の樹脂202を形成することで、可視光で干渉縞300が認識可能とすることができることが明らかとなった。 According to Table 1, in the comparative example, the interference fringes 300 could not be recognized with visible light, whereas the present invention method 1, the present method 2, the present method 3, and the present method 4 interfered with visible light. A stripe 300 was recognized. Therefore, according to Table 1, by coating the resin 201 in the resin coating step ST11, processing the resin 201 to a thickness that does not completely remove the resin 201, and forming the resin 202 after processing, interference fringes 300 can be made recognizable.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。 In addition, this invention is not limited to the said embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

1 バイト切削装置
1-2 研削装置
10,71 保持テーブル
11,72 保持面
20 切削ユニット
21,91 スピンドル
22 バイト工具
23 バイトホイール
90 研削ユニット
92 研削砥石
93 研削ホイール
100 被加工物
101 表面
102 裏面
201,202 樹脂
300 干渉縞
400 有機溶剤
500 異物
1 Bite Cutting Device 1-2 Grinding Device 10, 71 Holding Table 11, 72 Holding Surface 20 Cutting Unit 21, 91 Spindle 22 Bite Tool 23 Bite Wheel 90 Grinding Unit 92 Grinding Whetstone 93 Grinding Wheel 100 Workpiece 101 Front Side 102 Back Side 201 , 202 resin 300 interference fringes 400 organic solvent 500 foreign matter

Claims (4)

被加工物を保持面で保持する保持テーブルと、スピンドルの先端に装着されたバイト工具を含むバイトホイールで該保持テーブルに保持された被加工物を切削加工する切削ユニットと、を備えたバイト切削装置における保持面の異物検出方法であって、
被加工物の表面に樹脂を被覆する樹脂被覆ステップと、
樹脂が被覆された被加工物の裏面側を保持テーブルに保持する保持ステップと、
被加工物の表面側から該切削ユニットで該樹脂が完全に除去されない厚みまで被加工物を切削加工する加工ステップと、
該加工ステップの実施後に該樹脂に形成される干渉縞の状態が所定の許容範囲を超えるか否かを判断する判断ステップと、
該許容範囲を超えていた場合は該保持テーブルの保持面を洗浄する洗浄ステップと、
を備えることを特徴とする、保持面の異物検出方法。
A cutting tool comprising a holding table for holding a workpiece on a holding surface, and a cutting unit for cutting the workpiece held on the holding table with a cutting wheel including a cutting tool attached to the tip of a spindle. A method for detecting a foreign object on a holding surface of an apparatus, comprising:
a resin coating step of coating the surface of the workpiece with a resin;
a holding step of holding the back side of the resin-coated workpiece on a holding table;
A processing step of cutting the workpiece from the surface side of the workpiece to a thickness at which the resin is not completely removed by the cutting unit;
a determination step of determining whether the state of the interference fringes formed in the resin after the processing step exceeds a predetermined allowable range;
a cleaning step of cleaning the holding surface of the holding table when the allowable range is exceeded;
A foreign matter detection method for a holding surface, comprising:
被加工物を保持面で保持する保持テーブルと、スピンドルの先端に装着された研削ホイールで該保持テーブルに保持された被加工物を研削加工する研削ユニットと、を備えた研削装置における保持面の異物検出方法であって、
被加工物の表面に樹脂を被覆する樹脂被覆ステップと、
樹脂が被覆された被加工物の裏面側を保持テーブルに保持する保持ステップと、
被加工物の表面側から該研削ユニットで該樹脂が完全に除去されない厚みまで被加工物を研削加工する加工ステップと、
該加工ステップの実施後に該樹脂に形成される干渉縞の状態が所定の許容範囲を超えるか否かを判断する判断ステップと、
該許容範囲を超えていた場合は該保持テーブルの保持面を洗浄する洗浄ステップと、
を備えることを特徴とする、保持面の異物検出方法。
A holding surface of a grinding apparatus comprising a holding table for holding a workpiece on a holding surface, and a grinding unit for grinding the workpiece held on the holding table with a grinding wheel attached to the tip of a spindle. A foreign object detection method comprising:
a resin coating step of coating the surface of the workpiece with a resin;
a holding step of holding the back side of the resin-coated workpiece on a holding table;
A processing step of grinding the workpiece from the surface side of the workpiece to a thickness at which the resin is not completely removed by the grinding unit;
a determination step of determining whether the state of the interference fringes formed in the resin after the processing step exceeds a predetermined allowable range;
a cleaning step of cleaning the holding surface of the holding table when the allowable range is exceeded;
A foreign matter detection method for a holding surface, comprising:
該加工ステップの実施後かつ判断ステップの実施前に、被加工物を該保持テーブルから外し、被加工物の表面側に異物により生じた厚みの凹凸を転写させる被加工物取り外しステップを更に備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の保持面の異物検出方法。 After performing the processing step and before performing the determining step, the method further includes a step of removing the workpiece from the holding table and transferring the thickness unevenness caused by the foreign matter to the surface side of the workpiece. 3. The foreign matter detection method for a holding surface according to claim 1 or 2, characterized in that: 該洗浄ステップは、
該保持面に有機溶剤を供給する有機溶剤供給ステップと、
該有機溶剤によって該保持面から浮かび上がった異物を洗浄する異物除去ステップと、
を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の保持面の異物検出方法。
The washing step comprises
an organic solvent supplying step of supplying an organic solvent to the holding surface;
a foreign matter removing step of cleaning foreign matter floating up from the holding surface with the organic solvent;
4. The foreign matter detection method for a holding surface according to any one of claims 1 to 3, characterized by comprising:
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