JP7300297B2 - 積層メンブレン、積層メンブレンを備える基板保持装置および基板処理装置 - Google Patents
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Description
を独立して形成することで、各ユニットの数を任意に組み合わせることで異なる構成の基板処理装置1000を簡易に形成することができる。また、基板処理装置1000は、制御装置900を備え、基板処理装置1000の各構成要素は制御装置900により制御される。一実施形態において、制御装置900は、入出力装置、演算装置、記憶装置などを備える一般的なコンピュータから構成することができる。
ロードユニット100は、研磨および洗浄などの処理が行われる前の基板WFを基板処理装置1000内へ導入するためのユニットである。図2は、一実施形態によるロードユニット100を模式的に示す側面図である。一実施形態において、ロードユニット100は筐体102を備える。筐体102は基板WFを受け入れる側に入口開口104を備える。図2に示される実施形態においては、右側が入口側である。ロードユニット100は、入口開口104から処理対象である基板WFを受け入れる。ロードユニット100の上流(図2では右側)には、本開示による基板処理装置1000による基板WFの処理より前の処理工程が実施される処理装置が配置される。図2に示される実施形態において、ロードユニット100は、IDリーダー106を備える。IDリーダー106は、入口開口104から受け入れられた基板のIDを読み取る。基板処理装置1000は、読み取ったIDに応じて、基板WFに対して各種処理を行う。一実施形態において、IDリーダー106はなくてもよい。一実施形態において、ロードユニット100は、SMEMA(Surface Mount Equipment Manufacturers Association)の機械装置インタフェース規格(IPC-SMEMA-9851)に準拠するように構成される。
などを介して電気的に接地される。これは、基板WFが帯電して基板WFを損傷することを防止するためである。また、一実施形態において、ロードユニット100に、基板WFの帯電を防止するためにイオナイザー(図示せず)を設けてもよい。
図3は一実施形態による、搬送ユニット200を模式的に示す側面図である。図1に示される基板処理装置1000は、2つの搬送ユニット200A、200Bを備えている。2つの搬送ユニット200A、200Bは同一の構成とすることができるので、以下において、一括して搬送ユニット200として説明する。
図4は、一実施形態による研磨ユニット300の構成を概略的に示す斜視図である。図1に示される基板処理装置1000は、2つの研磨ユニット300A、300Bを備えている。2つの研磨ユニット300A、300Bは同一の構成とすることができるので、以下において、一括して研磨ユニット300として説明する。
ャフト51と、ドレッサシャフト51を回転自在に支持する揺動アーム55とを備えている。ドレッサ50の下部はドレッシング部材50aにより構成され、このドレッシング部材50aの下面には針状のダイヤモンド粒子が付着している。
料は、エチレンプロピレンゴム(EPDM)、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム等の強度および耐久性に優れたゴム材によって形成される。
例として第1シート材料320aおよび第2シート材料320bとして、シリコーンゴムを使用することができる。なお、第2シート材料320bは第1シート材料320aと同一の材料でもよく、異なる材料でもよい。
bの上にPTFEシートを配置し、その上に未加硫のゴム材料からなるシート材料を配置し、加硫処理を施し、PTFEシートを取り除くことを繰り返すことで、任意の数のシート材料の任意の領域を接着することができる。上記の実施形態による方法では、複雑な三次元構造を持たない二次元構造のシート材料のみを使用するので、単純な形状の金型を使用するだけで、複雑な形状を備える金型を使用せずに複数の圧力室322を備える積層メンブレン320を形成することができる。
内部には、円筒形のシリンダ406が画定されている。シリンダ406内には、ダイアフラム408が配置されている。一実施形態において、ダイアフラム408はゴム材から形成される。ダイアフラム408は、上部ハウジング402と下部ハウジング404とにより挟むことで固定される。シリンダ406の内部空間は、ダイアフラム408により上部空間と下部空間とに仕切られている。下部ハウジング404のダイアフラム408内には、ピストン410が配置されている。ピストン410の一端は、ダイアフラム408の下面に接触している。また、ピストン410の他端は、下部ハウジング404の下側から出て、リテーナ支持ガイド412に接触している。一実施形態において、ピストン410は、PPS樹脂から形成することができる。
よびピストン410が配置されている。同一の形状のシリンダ406、ダイアフラム408、ピストン410を用いることで、これらを製造するコストを低減することが可能になる。たとえば、寸法の異なるトップリング本体2を製造する場合でも、同一の部品であるダイアフラム408、ピストン410を使用することができ、トップリング本体2の大きさに応じて使用する数を変更するように設計することができる。
0cの上表面に接着されている。なお、図15Aには、基板WFを真空吸着させるための真空吸着孔328は示されてないが、真空吸着孔を備えてもよいし、備えなくてもよい。図15Aに示される実施形態においては、第1シート材料320aと第2シート材料320bとの間に第1圧力室322aが画定され、第2シート材料320bと第3シート材料320cとの間に第2圧力室322bが画定され、第3シート材料320cと第4シート材料320dとの間に第3圧力室322cが画定され、第4シート材料320dと下部材306との間に第4圧力室322dが画定される。図14Aに示される実施形態においては、外側から中央に向かって第1圧力室322a、第2圧力室322b、第3圧力室322c、および第4圧力室322dが画定されている。そのため、各圧力室322a、322b、322c、322dの圧力を制御することで、積層メンブレン320の下に保持された基板WFの研磨パッド352への押圧力を領域ごとに制御することができる。
圧力を制御することができる。一方、基板WFの研磨が終了して、基板WFを研磨パッド352から引き離す際には、第2圧力室322bを含む全ての圧力室に負圧を与えることで、真空吸着により基板WFを第1シート材料320aの下に保持して、研磨パッド352から基板WFを引き離すことができる。なお、基板WFを研磨パッド352から引き離す際には、第2圧力室322bに負圧を与えれば、第1圧力室322a、第3圧力室322c、および第4圧力室322dは大気圧でもよい。
4シート材料320dと第5シート材料320eとは接着されていない。図16Aに示されるように、第2圧力室322bを画定している第1シート部材320aの一部に真空吸着孔328が設けられている。
[形態1]形態1によれば、基板処理装置の基板保持部に使用される積層メンブレンが提供され、かかる積層メンブレンは、第1シート材料と、前記第1シート材料の上に配置されている第2シート材料と、を有し、前記第1シート材料の一部は前記第2シート材料の一部に固定されている。
は、形態1から形態3のいずれか1つの形態の積層メンブレンを有し、前記積層メンブレンの基板保持面に基板が保持されるように構成されている。
前記フッ素樹脂シートを取り除くステップと、を有する。
前記未加硫ゴムが配置された前記第1シート材料の上に前記第2シート材料を配置するステップと、前記未加硫ゴムに加硫処理を施すステップと、を有する。
3…リテーナ部材
50…ドレッサ
100…ロードユニット
200…搬送ユニット
300…研磨ユニット
302…トップリング
303…上部材
304…中間部材
306…下部材
316b…ホルダ
316c…ホルダ
316d…ホルダ
320…積層メンブレン
320a…第1シート材料
320b…第2シート材料
320c…第3シート材料
320d…第4シート材料
320e…第5シート材料
322…圧力室
322a…第1圧力室
322b…第2圧力室
322c…第3圧力室
322d…第4圧力室
322e…第5圧力室
325…第1メンブレンホルダ
327…第2メンブレンホルダ
328…真空吸着孔
350…研磨テーブル
352…研磨パッド
356…ドレッシングユニット
360…揺動アーム
362…支軸
380…リテーナ部
500…乾燥ユニット
600…アンロードユニット
900…制御装置
1000…基板処理装置
WF…基板
Claims (10)
- 基板処理装置の基板保持部であって、
積層メンブレンを有し、前記積層メンブレンは、
第1シート材料と、
前記第1シート材料の上に配置されている第2シート材料と、を有し、
前記第1シート材料の一部は前記第2シート材料の一部に固定され、
前記第1シート材料と前記第2シート材料との間に第1圧力室が画定され、
前記第1圧力室に第1流路が接続されており、
前記基板保持部は、保持された基板が基板保持部から飛び出すのを防止するためのリテーナ部材と、
前記第1シート材料を位置決めするための第1ホルダと、
前記第2シート材料を位置決めするための第2ホルダと、を有し、
前記第1シート材料は、前記リテーナ部材と前記第1ホルダとにより端部が保持されており、
前記第2シート材料は、前記第1ホルダと前記第2ホルダとにより端部が保持されている、
基板保持部。 - 請求項1に記載の基板保持部であって、
前記第1シート材料の一部は前記第2シート材料の一部に接着剤により固定されている、
基板保持部。 - 請求項1に記載の基板保持部であって、
前記第1シート材料の一部は前記第2シート材料の一部に加硫接着により固定されている、
基板保持部。 - 請求項1から3のいずれか一項に記載の基板保持部であって、
前記積層メンブレンはさらに、前記第2シート材料の上に配置されている第3シート材料を有し、
前記第2シート材料の一部は前記第3シート材料の一部に固定されている、
基板保持部。 - 請求項4に記載の基板保持部であって、
前記第2シート材料と第3シート材料との間に第2圧力室が画定されており、
前記第2圧力室は、前記第1圧力室の上に配置されている、
基板保持部。 - 請求項4に記載の基板保持部であって、
前記第2シート材料と第3シート材料との間に第2圧力室が画定されており、
前記第2圧力室に第2流路が接続されている、
基板保持部。 - 請求項6に記載の基板保持部であって、
前記積層メンブレンの基板保持面に基板が保持されるように構成され、
前記第1圧力室の圧力および前記第2圧力室の圧力をそれぞれ独立して制御できるように構成されており、前記第1圧力室および前記第2圧力室により、前記基板保持面に保持された基板の領域ごとに基板を押圧する圧力を制御できるように構成されている、
基板保持部。 - 基板処理装置の基板保持部であって、
請求項1から7のいずれか一項に記載の基板保持部であって、
前記積層メンブレンの基板保持面に基板が保持されるように構成されている、
基板保持部。 - 基板処理装置であって、
回転可能なテーブルと、
請求項8に記載の基板保持部と、を有し、
前記テーブル上に配置される研磨パッドと前記基板保持部に保持される基板とを接触させた状態で前記テーブルを回転させることで基板を研磨するように構成されている、
基板処理装置。 - 基板処理装置の基板保持部であって、
積層メンブレンを有し、前記積層メンブレンは、
第1シート材料と、
前記第1シート材料の上に配置されている第2シート材料と、を有し、
前記第1シート材料の一部は前記第2シート材料の一部に固定され、
前記第1シート材料と前記第2シート材料との間に第1圧力室が画定され、
前記第1圧力室に第1流路が接続されており、
前記積層メンブレンはさらに、前記第2シート材料の上に配置されている第3シート材料を有し、
前記第2シート材料の一部は前記第3シート材料の一部に固定されている、
基板保持部。
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