JP7299768B2 - Semiconductor device, substrate for mounting semiconductor element, and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、半導体素子等の微小な電子回路部品を基板上に実装した半導体装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor device in which minute electronic circuit components such as semiconductor elements are mounted on a substrate.
チップ抵抗等の電子部品や、半導体ダイオードやLED等の半導体素子を基板上に実装する際には、基板の電極上に半田を挟んで、電子部品や半導体素子等の実装すべき部品を搭載した後、半田を加熱することにより溶融させ、半田によって電極と実装部品とを接合するという手順が用いられる。このとき、半田を加熱するために、基板をホットプレート等により加熱する方法が用いられる。 When mounting electronic parts such as chip resistors and semiconductor elements such as semiconductor diodes and LEDs on a board, the parts to be mounted such as electronic parts and semiconductor elements are mounted on the electrodes of the board with solder sandwiched between them. After that, a procedure is used in which the solder is melted by heating, and the electrodes and the mounting component are joined with the solder. At this time, a method of heating the substrate with a hot plate or the like is used to heat the solder.
また、特許文献1には、非金属材からなる基板上に設けられた金属材上へ裏面にはんだを備えたダイを接合する際に、誘導加熱により金属材を加熱する方法が提案されている。誘導加熱によれば、金属材の加熱が集中的に加熱され、非金属材への加熱は金属材からの熱伝導のみとなり、非金属材への熱によるダメージを軽減することができる。
Further,
特許文献1のような誘導加熱を用いた半導体素子の接合においては、金属材の加熱効率を向上し、非金属材へのダメージを軽減して、半導体装置の信頼性を高めることが望まれている。特に、誘導加熱を用いて半導体素子の接合する際には、金属材の中でも半導体素子搭載領域(ダイパッド)の加熱効率を向上することが望まれている。
In the bonding of semiconductor elements using induction heating as in
本発明の第1の目的は、誘導加熱により微小なダイパッドを効率よく加熱することができる半導体装置の構成を提供することにある。 A first object of the present invention is to provide a configuration of a semiconductor device capable of efficiently heating a minute die pad by induction heating.
また、本発明の第2の目的は、半導体素子を覆う封止樹脂の濡れ拡がりを規制する役割を有する略リング状の金属パターンを備えた半導体装置のように、配線以外の役割を有する金属材を備える半導体装置においても、誘導加熱によりダイパッドを効率よく加熱することができる半導体装置の構成を提供することにある。 A second object of the present invention is to provide a metal material that has a role other than wiring, such as a semiconductor device having a substantially ring-shaped metal pattern that has a role of regulating wetting and spreading of a sealing resin that covers a semiconductor element. It is an object of the present invention to provide a configuration of a semiconductor device capable of efficiently heating a die pad by induction heating even in a semiconductor device having
上記目的を達成するために、本発明の第1の態様の半導体装置は、半導体素子と、半導体素子が搭載された非金属基板とを有し、基板の表面には、金属パターンが配置されている。金属パターンは、半導体素子が接着層によってダイボンディングされたダイパッドと、環状パターンとを有し、ダイパッドと前記環状パターンは連結されている。 To achieve the above object, a semiconductor device according to a first aspect of the present invention has a semiconductor element and a nonmetallic substrate on which the semiconductor element is mounted, and a metal pattern is arranged on the surface of the substrate. there is The metal pattern has a die pad to which a semiconductor element is die-bonded by an adhesive layer, and an annular pattern, and the die pad and the annular pattern are connected.
本発明によれば、発明者らが見出した環状パターンに誘導加熱によって電流が流れやすいという現象を用いて、環状パターンを誘導加熱によって加熱して、熱をダイパッドまで導くか、もしくは、ダイパッドとは連続しない環状パターンには電流が流れない周方向に不連続な構成にすることにより、微小なダイパッドを効率よく加熱することができる。 According to the present invention, by using the phenomenon that the inventors discovered that a current is likely to flow through an annular pattern due to induction heating, the annular pattern is heated by induction heating, and the heat is led to the die pad. A minute die pad can be efficiently heated by adopting a discontinuous configuration in the circumferential direction in which current does not flow in a discontinuous annular pattern.
本発明の一実施形態の半導体装置について図面を用いて説明する。 A semiconductor device according to one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
<<実施形態1>>
実施形態1の半導体装置について図1(a)~(d)を用いて説明する。図1(a)~(d)は、それぞれ半導体装置の上面図、A-A’断面図、下面図、および、斜視図である。
<<
The semiconductor device of
図1の半導体装置は、半導体素子1と、半導体素子1が搭載された基板2とを備えて構成される。
The semiconductor device shown in FIG. 1 includes a
基板2の表面には、ダイパッド3aと、環状パターン3bとを含む金属パターン3が備えられている。ダイパッド3aには、半導体素子1が接着層4によってダイボンディングされている。ダイパッド3aと環状パターン3bは連結されている。具体的には、ダイパッド3aは、その全体が環状パターン3bの内側の領域に配置され、ダイパッド3aと環状パターン3bとは、同じく基板2表面上に形成された連結パターン3cによって連結されている。連結パターン3cは、2本以上であり、ダイパッド3aの2か所以上を環状パターン3bに接続している場合、ダイパッド3aのダイボンディング時の温度を均一にすることができるため好ましい。また、連結パターン3cは、環状パターン3bと周方向に等間隔位置に接続すること、ダイパッド3aの外周の等間隔位置に接続することが、環状パターン3bの熱をダイパッド3aへ均一に伝熱することができるため好ましい。
A surface of the
ここでは半導体素子1は発光素子であり、素子サイズは例えば1mm角であるため、ダイパッド3aのサイズも、発光素子1が搭載できる程度で発光素子1よりも若干大きいだけの微小な円形である。環状パターン3bは、ダイパッド3aを取り囲むように、ダイパッド3aから周方向に等距離のリング状である。
Here, the
接着層4は、一例としては、AuSnである。金属パターン3は、金属めっき層により形成され、厚みは例えば70μm、表面層は例えばAu層である。
The
環状パターン3bに囲まれた領域には発光素子1を封止するドーム状の封止樹脂5が搭載されている。ドーム状の封止樹脂5の縁の形状は、環状パターン3bの外縁形状に一致している。具体的には、環状パターン3bの外側の縁と、ドーム状の封止樹脂5の縁とが一致している封止樹脂5は、発光素子1の発する光が透過する樹脂、例えば、シリコーン樹脂により構成されている。
A dome-
基板2は、非金属材料、例えば、樹脂基板(例えば、ガラスエポキシ)で構成され、ダイパッド3aの下には、基板2を貫通する銅コア6が配置され、銅コア6の上面はダイパッド3aと電気的に接続されている。基板2の裏面側には、銅コア6の下面に電気的に接続された裏面電極7と、裏面電極7に給電するための配線パターン8が配置されている。
The
また、基板2の上面の環状パターン3bの内側には、電極パッド9が配置されている。電極パッド9の下には、電極パッド9と電気的に接続され、基板2を貫通する貫通電極10が配置されている。基板2の裏面側には、貫通電極10と電気的に接続された裏面電極11と、裏面電極11に給電するための配線12が配置されている。
発光素子1は、裏面電極と上面電極とを備え、裏面電極は、上述の接着層4によりダイパッド3aに接続され、上面電極は、ボンディングワイヤ13により電極パッド9に接続されている。
The
これにより、配線8,12から裏面電極7、11間に電流を供給することにより、発光素子1に電流を供給して発光させることができる。発光した光は、ドーム状の封止樹脂5を通過して出射される。
Thus, by supplying a current from the
なお、環状パターン3bの一部には、ツェナーダイオード用のダイパッド15が重なるように配置され、ツェナーダイオード14の下面電極が不図示の接着層により接合されている。ツェナーダイオード14の上面電極は、ボンディングワイヤ16により電極パッド9に接続されている。
A
環状パターン3bは、連結パターン3cによりダイパッド3aと接続されているため、ダイパッド3aと同電位である。よって、ツェナーダイオード14には、発光素子1と並列に接続された回路であり、発光素子1の保護素子として機能する。
Since the
<製造方法>
実施形態1の半導体装置の製造方法について説明する。
<Manufacturing method>
A method for manufacturing the semiconductor device of
ダイパッド3aと環状パターン3bと連結パターン3bとを含む金属パターン3が形成された基板2を用意し、ダイパッド3a上に接着層として例えばAuSnペーストを塗布し、半導体素子1を搭載する。このとき、環状パターン3b状のツェナーダイオード用ダイパッド15にも、接着層として例えばAuSnペーストを塗布し、ツェナーダイオード14を搭載する。
A
つぎに、図2のように基板2を、誘導加熱装置のスタンド22に指示された支持台21上に搭載し、銅コア6近傍に高周波収束ノズル24の先端を配置する。この状態で、コイル23に高周波電源25から高周波電流を供給すると、コイル23は高周波磁界を発生し、高周波磁界は、収束ノズル24により収束されて、銅コア6付近を中心に基板2に供給される。
Next, as shown in FIG. 2, the
銅コア6の上部にはダイパッド3aが、ダイパッド3aの周りにはダイパッドを囲むように環状パターン3bが配置されているため、高周波磁界は、ダイパッド3aと環状パターン3bに供給される。ダイパッド3aは、微小サイズであることと、表皮効果とにより電流が流れにくく、加熱されにくい。これに対し、環状パターン3bは円環状であり、そのサイズもダイパッド3aよりも大きいため、円環に沿って周回する電流が容易に流れ、容易に加熱される。
Since the
これにより、環状パターン3bの温度が上昇すると、環状パターン3bの熱は連結パターン3cを通ってダイパッド3aに伝導し、ダイパッド3aが加熱される。このとき、連結パターン3cは、2本配置され、ダイパッド3aへの接続位置は、対称(180度)であるのため、ダイパッド3aに対称な2か所から熱が伝導し、均一に加熱される。
As a result, when the temperature of the
ダイパッド3aが加熱されることにより、接着層4であるAuSnペーストが加熱され、AuSn共晶が形成されて、ダイパッド3aと発光素子1の裏面電極とをAuSn共晶接合する。
By heating the
このとき同時に、環状パターン3b上のツェナーダイオード用ダイパッド15も加熱されるため、ツェナーダイオード14とダイパッド15もAuSn共晶接合される。
At this time, since the Zener diode die
つぎに、発光素子13の上面電極と電極パッド9とをボンディングワイヤ13により接続する。また、ツェナーダイオード14の上面電極と電極パッド9とをボンディングワイヤ16により接続する。
Next, the upper electrode of the
つぎに、環状パターンの内側(発光素子1の上)に未硬化の封止樹脂(シリコーン樹脂)を滴下すると、未硬化の封止樹脂は濡れ広がり、その縁が環状パターンの外周の縁に達すると、表面張力によりそれ以上は濡れ広がらず止まる。その後、封止樹脂を硬化させることにより、ドーム状に盛り上がった封止樹脂5を形成することができる。
Next, when uncured sealing resin (silicone resin) is dropped inside the annular pattern (on top of the light emitting element 1), the uncured sealing resin spreads out and reaches the edge of the outer periphery of the annular pattern. Then, due to the surface tension, it will not spread further and stop. After that, by curing the sealing resin, it is possible to form the sealing
上述してきたように、本実施形態では、発明者らが見出した環状パターン3bには誘導加熱によって電流が流れやすいという現象を利用し、環状パターン3bを誘導加熱によって加熱して、熱をダイパッド3aまで導くことにより、微小なダイパッド3aを効率よく加熱することができる。これにより、発光素子1をダイパッド3aに実装することができる。
As described above, in the present embodiment, by utilizing the phenomenon that the inventors discovered that a current easily flows through the
実際に本実施形態の製造方法によって半導体装置を製造したところ、接合後の接着層には、ボイドは含まれておらず、接着強度が大きく、電気抵抗の低い良好な接合状態であった。 When a semiconductor device was actually manufactured by the manufacturing method of this embodiment, the adhesive layer after bonding did not contain voids, had high bonding strength, and was in a good bonding state with low electrical resistance.
環状パターン3bは、内側領域が空いているため、内部にダイパッド3aを配置することができ、中心まで充填された平面上のパターンを用いる場合よりも、実装密度を向上させることができる。
Since the
また、環状パターン3bの中央にダイパッド3aを配置し、銅コアや貫通電極を用いて裏面側に配線を配置することにより、配線の引き回しの制限を小さくすることができ、設計の自由度もたかい。
In addition, by arranging the
また、環状パターン3bは、上述したように、封止樹脂を表面張力により止めるために用いられるパターンと兼用させることができるというメリットもある。
Moreover, as described above, the
なお、本実施形態では、半導体素子1として、発光素子を用いたが、発光しない半導体素子や、チップ抵抗やチップコンデンサ等の微小素子を素子1として用いることももちろん可能である。
In this embodiment, a light-emitting element is used as the
また、基板2としては、ガラスエポキシのようなガラス繊維にエポキシ樹脂などの樹脂を含浸させた樹脂基板に限定されず、ポリイミド等の樹脂のみの樹脂基板、あるいは、セラミック基板を用いることも可能である。
Further, the
接着層4は、AuSn共晶材料のみならず、AuSn以外のはんだや、Auなどのナノ粒子を用いた焼結型接合材料から構成することができる。
The
<<実施形態2>>
実施形態2の半導体装置を図3(a)~(c)を用いて説明する。
<<
The semiconductor device of
実施形態2の半導体装置は、実施形態1の装置と同様の構成であるが、環状パターン3bの形状を円形ではなく、矩形の環状とした点で実施形態1とは異なっている。
The semiconductor device of
実施形態2の半導体装置は、実施形態1の半導体装置と同様に、環状パターン3bには誘導加熱によって電流が流れやすいという現象を利用し、環状パターン3bを誘導加熱によって加熱して、熱をダイパッド3aまで導くことにより、微小なダイパッド3aを効率よく加熱することができる。これにより、発光素子1をダイパッド3aに実装することができる。
As in the semiconductor device of the first embodiment, the semiconductor device of the second embodiment utilizes the phenomenon that an electric current easily flows through the
なお、図3(b)のように、環状パターン3bの上にキャビティ31を配置してもよい。さらに図3(c)のように、キャビティ31の内側を樹脂32で封止してもよい。
In addition, as shown in FIG. 3B, the
<<実施形態3>>
実施形態3の半導体装置を図4を用いて説明する。
<<
A semiconductor device of
図4の半導体装置は、ダイパッド3aが複数あり、環状パターン3bに連結パターンを介することなく、直接連結されている点が実施形態1とは異なっている。電極パッド9は、環状パターン3bの中央に配置されている。
The semiconductor device of FIG. 4 has a plurality of
本実施形態3の半導体装置は、複数のダイパッド3aを同時に加熱して、同時に複数の半導体素子1を接合することができる。
The semiconductor device of
他の構成、製造工程および効果は、実施形態1の半導体装置と同様である。 Other configurations, manufacturing steps and effects are the same as those of the semiconductor device of the first embodiment.
<<実施形態4>>
実施形態4の半導体装置を図5(a)、(b)を用いて説明する。
<<
The semiconductor device of
図5(a)の半導体装置は、ダイパッド3aの一部が、環状パターン3bと重なるように配置されている点と、環状パターン3bが、基板2とともに切断され、分割されている点が、実施形態1とは異なる。他の構成は、実施形態1と同様である。また、図5(b)のように基板2の周囲にキャビティ31を搭載し、キャビティ31内を樹脂32で封止した構造にすることも可能である。
The semiconductor device of FIG. 5(a) is implemented in that a part of the
図5(b)の半導体装置の製造工程を図6(a)~(g)を用いて説明する。 The manufacturing process of the semiconductor device of FIG. 5(b) will be described with reference to FIGS. 6(a) to 6(g).
まず図6(a)のように、環状パターン3bの一部にダイパッド3aが重なるように配置された金属パターン3が上下左右に複数配列された半導体素子搭載用基板を用意する。半導体素子搭載用基板は、複数の半導体装置を一括で製造するための集合基板として、構成されている。後工程において、複数の半導体装置に切断するための切断線がダイパッド3a間に予定されている。個々の環状パターン3bは、切断線上に重なるように、隣接する半導体装置用の基板上にわたって配置されている。
First, as shown in FIG. 6A, a substrate for mounting a semiconductor element is prepared in which a plurality of
つぎに、図6(b)のように、複数の開口が設けられたキャビティ31を基板2の上に搭載する。キャビティ31の開口の中央に、ダイパッド3aが位置する。
Next, as shown in FIG. 6B, a
図6(c)のように、ダイパッド3aの上にAuSnペースト等の塗布することにより接着層を配置し、半導体素子1を搭載する。誘導加熱により、環状パターン3bを加熱して、ダイパッド3aに熱を伝導させ、AuSnを溶融させて半導体素子1をダイパッド3aに接合する。この工程は、実施形態1で説明した通りである。複数の環状パターン3bには、一括して高周波磁界を供給して加熱してもよいし、ひとつずつ加熱してもよい。
As shown in FIG. 6C, an adhesive layer is arranged by applying AuSn paste or the like on the
図6(d)のように、半導体素子1の上面電極と、隣接する環状パターン3bとをボンディングワイヤ13で接続する。
As shown in FIG. 6(d), the
図6(e)のように、キャビティ31の開口を封止樹脂32で封止する。
As shown in FIG. 6E, the opening of the
最後に、図6(f)のように開口の周囲の4辺において、キャビティ31と基板2を切断して個片化する。これにより、基板2上の環状パターン3bは、図6(g)のように切断され、図5(b)の半導体装置を製造することができる。
Finally, as shown in FIG. 6(f), the
<<参考例5>>
参考例5の半導体装置を図7(a)、(b)を用いて説明する。
<< Reference Example 5>>
A semiconductor device of Reference Example 5 will be described with reference to FIGS.
参考例5は、実施形態1~4とは異なり、環状パターンに誘導加熱によって電流が流れやすいという現象に基づき、環状パターンには電流が流れない構成にすることにより、微小なダイパッドを効率よく加熱する。
Unlike
すなわち、図7(a),(b)のように、半導体装置は、半導体素子1と、半導体素子1が搭載された基板2とを有する。基板2の表面には、ダイパッド3aと、ダイパッド3aを取り囲むように配置された環状パターン3bとが備えられている。ダイパッド3aには、半導体素子1が接着層によってダイボンディングされている。
That is, as shown in FIGS. 7A and 7B, the semiconductor device has a
ここで本参考例では、環状パターン3bに、スリット71が形成され、周方向に不連続な形状になっている。
Here, in this reference example , slits 71 are formed in the
これにより、ダイパッド3aを誘導加熱するために高周波磁界を図2のように照射した場合、環状パターン3bは、周方向に不連続であるため、周回電流は流れず、供給した高周波磁界をダイパッド3aにのみ集中して供給することができる。よって、ダイパッド3aを誘導加熱により加熱することができ、接着層を溶融させて半導体素子1をダイパッド3aに接合できる。
As a result, when a high-frequency magnetic field is applied as shown in FIG. 2 to induction-heat the
なお、スリット71の幅は、未硬化の樹脂5が流れ出ない幅に設定しておく。
The width of the
これにより、実施形態1と同様の工程により、未硬化の封止樹脂5を滴下して濡れ広がらせた場合でも、スリット71の影響なく、環状パターン3bの外側の縁において表面張力で止め、封止樹脂5をドーム状に盛り上げることができる。
As a result, even when the
他の構成、他の製造工程は、実施形態1と同様である。 Other configurations and other manufacturing processes are the same as those of the first embodiment.
実際に本参考例5の製造方法によって半導体装置を製造したところ、接合後の接着層には、ボイドは含まれておらず、接着強度が大きく、熱抵抗の低い良好な接合状態であった。 When a semiconductor device was actually manufactured by the manufacturing method of this reference example 5, the adhesive layer after bonding did not contain voids, had high bonding strength, and was in a good bonding state with low thermal resistance.
上述してきた各実施形態の半導体装置は、LED照明装置等として用いることができる。 The semiconductor device of each embodiment described above can be used as an LED lighting device or the like.
金属パターン3を備えた基板2について、第1~第3の3つのサンプルを作成し、基板2上のダイパッド3aの加熱状態について、評価を行った。
Three samples, first to third, were prepared for the
第1サンプルは、実施形態1に対応し、第2サンプルは、参考例5に対応する構成である。第3サンプルは、参考例5の金属パターン3をスリット71なしに変更した構成である。
The first sample corresponds to the first embodiment, and the second sample corresponds to the fifth reference example . The third sample has a configuration in which the
加熱状態の評価は、金属パターン3上の温度上昇を確認するためのAuSnペーストを、金属パターン3上の適宜な箇所に塗布し、各サンプルに対して高周波コイルにて高周波磁界を印加し、AuSnペーストの溶融状態を確認した。
For evaluation of the heating state, AuSn paste for confirming the temperature rise on the
第1サンプルにおいては、ダイパッド3a、環状パターン3bと連結パターン3cとの交差箇所、電極パッド9、およびツェナーダイオード用ダイパッド15上にAuSnペーストを塗布した。
In the first sample, the AuSn paste was applied to the
第2サンプルにおいては、ダイパッド3a、環状パターン3b上にAuSnペーストを塗布した。
In the second sample, AuSn paste was applied on the
第3サンプルにおいては、ダイパッド3a、環状パターン3b上にAuSnペーストを塗布した。
In the third sample, AuSn paste was applied on the
その結果、第1サンプルにおいては、高周波の電力量2kW・sの高周波磁界を印加したところ、ダイパッド3a、環状パターン3bと連結パターン3cとの交差箇所、およびツェナーダイオード用ダイパッド15上のAuSnペーストは溶融したが、電極パッド9上のAuSnペーストは溶融しなかった。
As a result, in the first sample, when a high-frequency magnetic field with a high-frequency electric power of 2 kW·s was applied, the AuSn paste on the
また、第2サンプルにおいては、高周波の電力量4.05kW・sの高周波磁界を印加したところ、ダイパッド3a上のAuSnペーストは溶融したが、環状パターン3b上のAuSnペーストは溶融しなかった。
In the second sample, when a high-frequency magnetic field with a high-frequency electric power of 4.05 kW·s was applied, the AuSn paste on the
また、第3サンプルにおいては、高周波の電力量1.95kW・sの高周波磁界を印加したところ、ダイパッド3a上のAuSnペーストは溶融しなかったが、環状パターン3b上のAuSnペーストが溶融した。
In the third sample, when a high-frequency magnetic field with a high-frequency electric power of 1.95 kW·s was applied, the AuSn paste on the
さらに、高周波コイルの出力および印加時間を変化させて上記第1~第3の3つのサンプルを確認した。 Further, the first to third samples were confirmed by changing the output of the high frequency coil and the application time.
第1サンプルにおいては、まず環状パターン3b上のAuSnペーストが溶融した後、ダイパッド3a上のAuSnペーストの溶融することが確認できた。環状パターン3bが加熱され、ダイパッド3aに伝熱したと考える。
In the first sample, it was confirmed that the AuSn paste on the
第2サンプルにおいては、電力量2.49kW・sではフラックス成分の蒸発のみで、AuSnは未溶融であったが、電力量4.05kW・sで溶融を確認できた。環状パターン3bがスリット71を有するため二次コイルの役割を果たさなくなりダイパッド3aが優先的に加熱されたものと考える。
このように、第1サンプルにおけるダイパッド3a上のAuSnペーストは、電力量2kW・s、第2サンプルにおけるダイパッド3a上のAuSnペーストは、電力量4.05kW・sで溶融を確認できた。
In the second sample, only the flux component was evaporated at a power of 2.49 kW·s, and AuSn was not melted, but melting was confirmed at a power of 4.05 kW·s. It is considered that since the
Thus, it was confirmed that the AuSn paste on the
一方、第3サンプルにおいては、環状パターン3b周辺の基板2が変色するまで、高周波の電力量を増加させて加熱を行ってもダイパッド3a上のAuSnペーストは溶融せず、ダイパッド3a上のAuSnペーストが溶融するまで出力を上げると環状パターン3bの剥がれが起きてしまった。
On the other hand, in the third sample, the AuSn paste on the
これらのことから、第1サンプル、第2サンプルにおいては、ダイパッド3aを効率よく加熱する構成であることが確認できた。また、第1サンプルの方が第2サンプルより効率よくダイパッド3aを加熱することができる構成であることが確認できた。
From these, it was confirmed that the first sample and the second sample were configured to efficiently heat the
1…半導体素子(発光素子)、2…基板、3…金属パターン、3a…ダイパッド、3b…環状パターン、3c…連結パターン、4…接着層、5…封止樹脂、6…銅コア、7…、裏面電極、8…配線パターン、9…電極パッド、10…貫通電極、11…裏面電極、12…配線パターン、13…ボンディングワイヤ、14…ツェナーダイオード、15…ツェナーダイオード用ダイパッド、16…ボンディングワイヤ
DESCRIPTION OF
Claims (13)
前記基板の表面には、金属パターンが配置され、
前記金属パターンは、前記半導体素子が接着層によってダイボンディングされたダイパッドと、環状パターンとを有し、前記ダイパッドと前記環状パターンは連結され、前記環状パターンは、周方向に連続していることを特徴とする半導体装置。 Having a semiconductor element and a substrate made of non-metal on which the semiconductor element is mounted,
A metal pattern is arranged on the surface of the substrate,
The metal pattern has a die pad to which the semiconductor element is die-bonded by an adhesive layer and an annular pattern, the die pad and the annular pattern are connected , and the annular pattern is continuous in the circumferential direction. A semiconductor device characterized by:
前記基板の表面には、金属パターンが配置され、
前記金属パターンは、前記半導体素子が接着層によってダイボンディングされたダイパッドと、環状パターンとを有し、前記ダイパッドと前記環状パターンは連結されており、
前記ダイパッドは、前記環状パターンに一部が重なるように配置されていることを特徴とする半導体装置。 Having a semiconductor element and a substrate made of non-metal on which the semiconductor element is mounted,
A metal pattern is arranged on the surface of the substrate,
the metal pattern has a die pad to which the semiconductor element is die-bonded by an adhesive layer and an annular pattern, wherein the die pad and the annular pattern are connected;
The semiconductor device according to claim 1, wherein the die pad is arranged so as to partially overlap the annular pattern.
前記基板表面に形成された金属パターンと、を備え、
前記金属パターンは、半導体素子搭載用ダイパッドと、環状パターンとを有し、前記ダイパッドと前記環状パターンは連結され、前記環状パターンは、周方向に連続していることを特徴とする半導体素子搭載用基板。 a substrate made of non-metal;
and a metal pattern formed on the substrate surface,
The metal pattern has a die pad for mounting a semiconductor element and an annular pattern, the die pad and the annular pattern are connected , and the annular pattern is continuous in a circumferential direction. substrate.
前記基板表面に形成された金属パターンと、を備え、
前記金属パターンは、半導体素子搭載用ダイパッドと、環状パターンとを有し、前記ダイパッドと前記環状パターンは連結されており、
前記基板は、前記半導体素子搭載用ダイパッドを複数備え、
前記基板は、複数の前記半導体素子搭載用ダイパッド間に切断線を備え、
前記環状パターンは、前記切断線上に重なるように配置されていることを特徴とする半導体素子搭載用基板。 a substrate made of non-metal;
and a metal pattern formed on the substrate surface,
The metal pattern has a die pad for mounting a semiconductor element and an annular pattern, the die pad and the annular pattern being connected,
The substrate includes a plurality of die pads for mounting the semiconductor element,
the substrate includes a cutting line between the plurality of semiconductor element mounting die pads;
A substrate for mounting a semiconductor element, wherein the annular pattern is arranged so as to overlap the cutting line.
高周波磁界を少なくとも前記環状パターンに照射して誘導加熱し、前記環状パターンで生じた熱を前記ダイパッドに伝導させて前記接着層を加熱して前記ダイパッドと前記半導体素子とを接合する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 a step of mounting a semiconductor element on the die pad of a substrate made of a non-metal on which a metal pattern including a die pad and a metal pattern connected to the die pad and including a circumferentially continuous annular pattern is formed, with an adhesive layer sandwiched therebetween;
a step of irradiating at least the annular pattern with a high-frequency magnetic field for induction heating, conducting the heat generated in the annular pattern to the die pad, heating the adhesive layer, and bonding the die pad and the semiconductor element. A method of manufacturing a semiconductor device, characterized by:
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