JP2021002588A - Semiconductor device, semiconductor element mounting substrate, and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

To provide a configuration that can heat a minute die pad by induction heating, can be improved in mounting density, and has a high degree of freedom in wiring design on a substrate.SOLUTION: A semiconductor device includes a semiconductor element, and a substrate on which the semiconductor element is mounted, and a metal pattern is arranged on the surface of the substrate. The metal pattern includes a die pad in which the semiconductor element is die-bonded by an adhesive layer, and an annular pattern, and the die pad and the annular pattern are connected to each other. As a result, the annular pattern can be heated by induction heating, and the heat can be conducted to the die pad for heating.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、半導体素子等の微小な電子回路部品を基板上に実装した半導体装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor device in which minute electronic circuit components such as semiconductor elements are mounted on a substrate.

チップ抵抗等の電子部品や、半導体ダイオードやLED等の半導体素子を基板上に実装する際には、基板の電極上に半田を挟んで、電子部品や半導体素子等の実装すべき部品を搭載した後、半田を加熱することにより溶融させ、半田によって電極と実装部品とを接合するという手順が用いられる。このとき、半田を加熱するために、基板をホットプレート等により加熱する方法が用いられる。 When mounting electronic components such as chip resistors and semiconductor elements such as semiconductor diodes and LEDs on a substrate, solder is sandwiched between the electrodes of the substrate and the components to be mounted such as electronic components and semiconductor elements are mounted. After that, a procedure is used in which the solder is melted by heating and the electrode and the mounted component are joined by the solder. At this time, in order to heat the solder, a method of heating the substrate with a hot plate or the like is used.

また、特許文献1には、非金属材からなる基板上に設けられた金属材上へ裏面にはんだを備えたダイを接合する際に、誘導加熱により金属材を加熱する方法が提案されている。誘導加熱によれば、金属材の加熱が集中的に加熱され、非金属材への加熱は金属材からの熱伝導のみとなり、非金属材への熱によるダメージを軽減することができる。 Further, Patent Document 1 proposes a method of heating a metal material by induction heating when joining a die having solder on the back surface onto a metal material provided on a substrate made of a non-metal material. .. According to the induction heating, the heating of the metal material is intensively heated, and the heating to the non-metal material is only heat conduction from the metal material, and the damage due to the heat to the non-metal material can be reduced.

特開2005−244228号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-244228

特許文献1のような誘導加熱を用いた半導体素子の接合においては、金属材の加熱効率を向上し、非金属材へのダメージを軽減して、半導体装置の信頼性を高めることが望まれている。特に、誘導加熱を用いて半導体素子の接合する際には、金属材の中でも半導体素子搭載領域(ダイパッド)の加熱効率を向上することが望まれている。 In joining semiconductor devices using induction heating as in Patent Document 1, it is desired to improve the heating efficiency of metal materials, reduce damage to non-metal materials, and improve the reliability of semiconductor devices. There is. In particular, when joining semiconductor elements using induction heating, it is desired to improve the heating efficiency of the semiconductor element mounting region (die pad) among the metal materials.

本発明の第1の目的は、誘導加熱により微小なダイパッドを効率よく加熱することができる半導体装置の構成を提供することにある。 A first object of the present invention is to provide a configuration of a semiconductor device capable of efficiently heating a minute die pad by induction heating.

また、本発明の第2の目的は、半導体素子を覆う封止樹脂の濡れ拡がりを規制する役割を有する略リング状の金属パターンを備えた半導体装置のように、配線以外の役割を有する金属材を備える半導体装置においても、誘導加熱によりダイパッドを効率よく加熱することができる半導体装置の構成を提供することにある。 A second object of the present invention is a metal material having a role other than wiring, such as a semiconductor device having a substantially ring-shaped metal pattern having a role of regulating wet spread of a sealing resin covering a semiconductor element. It is an object of the present invention to provide a configuration of a semiconductor device capable of efficiently heating a die pad by induction heating also in the semiconductor device provided with the above.

上記目的を達成するために、本発明の第1の態様の半導体装置は、半導体素子と、半導体素子が搭載された非金属基板とを有し、基板の表面には、金属パターンが配置されている。金属パターンは、半導体素子が接着層によってダイボンディングされたダイパッドと、環状パターンとを有し、ダイパッドと前記環状パターンは連結されている。 In order to achieve the above object, the semiconductor device of the first aspect of the present invention includes a semiconductor element and a non-metal substrate on which the semiconductor element is mounted, and a metal pattern is arranged on the surface of the substrate. There is. The metal pattern has a die pad in which a semiconductor element is die-bonded by an adhesive layer and an annular pattern, and the die pad and the annular pattern are connected to each other.

また、本発明の第2の態様の半導体装置は、半導体素子と、半導体素子が搭載された基板とを有し、基板の表面には、半導体素子が接着層によってダイボンディングされたダイパッドと、ダイパッドを取り囲むように配置された環状パターンとが備えられている。環状パターンには、スリットが形成され、周方向に不連続である。 Further, the semiconductor device according to the second aspect of the present invention has a semiconductor element and a substrate on which the semiconductor element is mounted, and on the surface of the substrate, a die pad in which the semiconductor element is die-bonded by an adhesive layer and a die pad. It is provided with an annular pattern arranged so as to surround the. Slits are formed in the annular pattern and are discontinuous in the circumferential direction.

本発明によれば、発明者らが見出した環状パターンに誘導加熱によって電流が流れやすいという現象を用いて、環状パターンを誘導加熱によって加熱して、熱をダイパッドまで導くか、もしくは、ダイパッドとは連続しない環状パターンには電流が流れない周方向に不連続な構成にすることにより、微小なダイパッドを効率よく加熱することができる。 According to the present invention, using the phenomenon that an electric current easily flows through an annular pattern found by the inventors by induction heating, the annular pattern is heated by induction heating to guide heat to a die pad, or what is a die pad? A minute die pad can be efficiently heated by forming a discontinuous configuration in the circumferential direction in which a current does not flow in a non-continuous annular pattern.

(a)〜(d)は、実施形態1の半導体装置の上面図、A−A’断面図、下面図、および斜視図である。(A) to (d) are a top view, a cross-sectional view, a bottom view, and a perspective view of the semiconductor device of the first embodiment. 実施形態1の誘導加熱を行っている状態を示す説明図。The explanatory view which shows the state which performs the induction heating of Embodiment 1. (a)〜(c)は、それぞれ、実施形態2の半導体装置の上面図、キャビティを搭載した上面図、および、キャビティを搭載した斜視図である。(A) to (c) are a top view of the semiconductor device of the second embodiment, a top view of the cavity mounted, and a perspective view of the cavity mounted, respectively. 実施形態3の半導体装置の上面図である。It is a top view of the semiconductor device of Embodiment 3. (a)および(b)は、実施形態4の半導体装置の上面図、および、キャビティを搭載した上面図である。(A) and (b) are a top view of the semiconductor device of the fourth embodiment and a top view of the cavity mounted. (a)〜(g)は、実施形態4の半導体装置の製造工程を示す図である。(A) to (g) are diagrams showing a manufacturing process of the semiconductor device of the fourth embodiment. (a)および(b)は、実施形態5の半導体装置の上面図、および、斜視図である。(A) and (b) are a top view and a perspective view of the semiconductor device of the fifth embodiment.

本発明の一実施形態の半導体装置について図面を用いて説明する。 A semiconductor device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

<<実施形態1>>
実施形態1の半導体装置について図1(a)〜(d)を用いて説明する。図1(a)〜(d)は、それぞれ半導体装置の上面図、A−A’断面図、下面図、および、斜視図である。
<< Embodiment 1 >>
The semiconductor device of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 (a) to 1 (d). 1A to 1D are a top view, a cross-sectional view of AA', a bottom view, and a perspective view of the semiconductor device, respectively.

図1の半導体装置は、半導体素子1と、半導体素子1が搭載された基板2とを備えて構成される。 The semiconductor device of FIG. 1 includes a semiconductor element 1 and a substrate 2 on which the semiconductor element 1 is mounted.

基板2の表面には、ダイパッド3aと、環状パターン3bとを含む金属パターン3が備えられている。ダイパッド3aには、半導体素子1が接着層4によってダイボンディングされている。ダイパッド3aと環状パターン3bは連結されている。具体的には、ダイパッド3aは、その全体が環状パターン3bの内側の領域に配置され、ダイパッド3aと環状パターン3bとは、同じく基板2表面上に形成された連結パターン3cによって連結されている。連結パターン3cは、2本以上であり、ダイパッド3aの2か所以上を環状パターン3bに接続している場合、ダイパッド3aのダイボンディング時の温度を均一にすることができるため好ましい。また、連結パターン3cは、環状パターン3bと周方向に等間隔位置に接続すること、ダイパッド3aの外周の等間隔位置に接続することが、環状パターン3bの熱をダイパッド3aへ均一に伝熱することができるため好ましい。 The surface of the substrate 2 is provided with a metal pattern 3 including a die pad 3a and an annular pattern 3b. The semiconductor element 1 is die-bonded to the die pad 3a by the adhesive layer 4. The die pad 3a and the annular pattern 3b are connected. Specifically, the entire die pad 3a is arranged in the inner region of the annular pattern 3b, and the die pad 3a and the annular pattern 3b are connected by a connection pattern 3c also formed on the surface of the substrate 2. There are two or more connection patterns 3c, and when two or more of the die pads 3a are connected to the annular pattern 3b, the temperature at the time of die bonding of the die pads 3a can be made uniform, which is preferable. Further, the connection pattern 3c is connected to the annular pattern 3b at equal intervals in the circumferential direction, and is connected to the outer peripheral edge of the die pad 3a at equal intervals, so that the heat of the annular pattern 3b is uniformly transferred to the die pad 3a. It is preferable because it can be used.

ここでは半導体素子1は発光素子であり、素子サイズは例えば1mm角であるため、ダイパッド3aのサイズも、発光素子1が搭載できる程度で発光素子1よりも若干大きいだけの微小な円形である。環状パターン3bは、ダイパッド3aを取り囲むように、ダイパッド3aから周方向に等距離のリング状である。 Here, since the semiconductor element 1 is a light emitting element and the element size is, for example, 1 mm square, the size of the die pad 3a is also a minute circle that is slightly larger than the light emitting element 1 to the extent that the light emitting element 1 can be mounted. The annular pattern 3b has a ring shape equidistant from the die pad 3a in the circumferential direction so as to surround the die pad 3a.

接着層4は、一例としては、AuSnである。金属パターン3は、金属めっき層により形成され、厚みは例えば70μm、表面層は例えばAu層である。 The adhesive layer 4 is AuSn as an example. The metal pattern 3 is formed by a metal plating layer, has a thickness of, for example, 70 μm, and has a surface layer, for example, an Au layer.

環状パターン3bに囲まれた領域には発光素子1を封止するドーム状の封止樹脂5が搭載されている。ドーム状の封止樹脂5の縁の形状は、環状パターン3bの外縁形状に一致している。具体的には、環状パターン3bの外側の縁と、ドーム状の封止樹脂5の縁とが一致している封止樹脂5は、発光素子1の発する光が透過する樹脂、例えば、シリコーン樹脂により構成されている。 A dome-shaped sealing resin 5 for sealing the light emitting element 1 is mounted on the region surrounded by the annular pattern 3b. The shape of the edge of the dome-shaped sealing resin 5 matches the shape of the outer edge of the annular pattern 3b. Specifically, the sealing resin 5 in which the outer edge of the annular pattern 3b and the edge of the dome-shaped sealing resin 5 coincide with each other is a resin through which the light emitted by the light emitting element 1 is transmitted, for example, a silicone resin. It is composed of.

基板2は、非金属材料、例えば、樹脂基板(例えば、ガラスエポキシ)で構成され、ダイパッド3aの下には、基板2を貫通する銅コア6が配置され、銅コア6の上面はダイパッド3aと電気的に接続されている。基板2の裏面側には、銅コア6の下面に電気的に接続された裏面電極7と、裏面電極7に給電するための配線パターン8が配置されている。 The substrate 2 is made of a non-metal material, for example, a resin substrate (for example, glass epoxy), a copper core 6 penetrating the substrate 2 is arranged under the die pad 3a, and the upper surface of the copper core 6 is formed with the die pad 3a. It is electrically connected. On the back surface side of the substrate 2, a back surface electrode 7 electrically connected to the lower surface of the copper core 6 and a wiring pattern 8 for supplying power to the back surface electrode 7 are arranged.

また、基板2の上面の環状パターン3bの内側には、電極パッド9が配置されている。電極パッド9の下には、電極パッド9と電気的に接続され、基板2を貫通する貫通電極10が配置されている。基板2の裏面側には、貫通電極10と電気的に接続された裏面電極11と、裏面電極11に給電するための配線12が配置されている。 Further, an electrode pad 9 is arranged inside the annular pattern 3b on the upper surface of the substrate 2. Under the electrode pad 9, a through electrode 10 that is electrically connected to the electrode pad 9 and penetrates the substrate 2 is arranged. On the back surface side of the substrate 2, a back surface electrode 11 electrically connected to the through electrode 10 and a wiring 12 for supplying power to the back surface electrode 11 are arranged.

発光素子1は、裏面電極と上面電極とを備え、裏面電極は、上述の接着層4によりダイパッド3aに接続され、上面電極は、ボンディングワイヤ13により電極パッド9に接続されている。 The light emitting element 1 includes a back surface electrode and a top surface electrode, the back surface electrode is connected to the die pad 3a by the above-mentioned adhesive layer 4, and the top surface electrode is connected to the electrode pad 9 by the bonding wire 13.

これにより、配線8,12から裏面電極7、11間に電流を供給することにより、発光素子1に電流を供給して発光させることができる。発光した光は、ドーム状の封止樹脂5を通過して出射される。 As a result, by supplying an electric current between the wirings 8 and 12 and the back surface electrodes 7 and 11, the electric current can be supplied to the light emitting element 1 to cause light emission. The emitted light passes through the dome-shaped sealing resin 5 and is emitted.

なお、環状パターン3bの一部には、ツェナーダイオード用のダイパッド15が重なるように配置され、ツェナーダイオード14の下面電極が不図示の接着層により接合されている。ツェナーダイオード14の上面電極は、ボンディングワイヤ16により電極パッド9に接続されている。 A die pad 15 for a Zener diode is arranged so as to overlap a part of the annular pattern 3b, and a bottom electrode of the Zener diode 14 is bonded by an adhesive layer (not shown). The top electrode of the Zener diode 14 is connected to the electrode pad 9 by a bonding wire 16.

環状パターン3bは、連結パターン3cによりダイパッド3aと接続されているため、ダイパッド3aと同電位である。よって、ツェナーダイオード14には、発光素子1と並列に接続された回路であり、発光素子1の保護素子として機能する。 Since the annular pattern 3b is connected to the die pad 3a by the connection pattern 3c, it has the same potential as the die pad 3a. Therefore, the Zener diode 14 is a circuit connected in parallel with the light emitting element 1 and functions as a protective element of the light emitting element 1.

<製造方法>
実施形態1の半導体装置の製造方法について説明する。
<Manufacturing method>
The method of manufacturing the semiconductor device of the first embodiment will be described.

ダイパッド3aと環状パターン3bと連結パターン3bとを含む金属パターン3が形成された基板2を用意し、ダイパッド3a上に接着層として例えばAuSnペーストを塗布し、半導体素子1を搭載する。このとき、環状パターン3b状のツェナーダイオード用ダイパッド15にも、接着層として例えばAuSnペーストを塗布し、ツェナーダイオード14を搭載する。 A substrate 2 on which a metal pattern 3 including a die pad 3a, an annular pattern 3b, and a connection pattern 3b is formed is prepared, for example, AuSn paste is applied as an adhesive layer on the die pad 3a, and the semiconductor element 1 is mounted. At this time, for example, AuSn paste is applied as an adhesive layer to the Zener diode die pad 15 having an annular pattern 3b, and the Zener diode 14 is mounted.

つぎに、図2のように基板2を、誘導加熱装置のスタンド22に指示された支持台21上に搭載し、銅コア6近傍に高周波収束ノズル24の先端を配置する。この状態で、コイル23に高周波電源25から高周波電流を供給すると、コイル23は高周波磁界を発生し、高周波磁界は、収束ノズル24により収束されて、銅コア6付近を中心に基板2に供給される。 Next, as shown in FIG. 2, the substrate 2 is mounted on the support 21 designated by the stand 22 of the induction heating device, and the tip of the high-frequency convergence nozzle 24 is arranged in the vicinity of the copper core 6. When a high-frequency current is supplied to the coil 23 from the high-frequency power supply 25 in this state, the coil 23 generates a high-frequency magnetic field, and the high-frequency magnetic field is converged by the convergence nozzle 24 and supplied to the substrate 2 centering on the vicinity of the copper core 6. To.

銅コア6の上部にはダイパッド3aが、ダイパッド3aの周りにはダイパッドを囲むように環状パターン3bが配置されているため、高周波磁界は、ダイパッド3aと環状パターン3bに供給される。ダイパッド3aは、微小サイズであることと、表皮効果とにより電流が流れにくく、加熱されにくい。これに対し、環状パターン3bは円環状であり、そのサイズもダイパッド3aよりも大きいため、円環に沿って周回する電流が容易に流れ、容易に加熱される。 Since the die pad 3a is arranged on the upper part of the copper core 6 and the annular pattern 3b is arranged around the die pad 3a so as to surround the die pad, a high frequency magnetic field is supplied to the die pad 3a and the annular pattern 3b. Due to the small size of the die pad 3a and the skin effect, it is difficult for an electric current to flow and it is difficult for the die pad 3a to be heated. On the other hand, since the annular pattern 3b is annular and its size is also larger than that of the die pad 3a, a current circulating along the annular pattern easily flows and is easily heated.

これにより、環状パターン3bの温度が上昇すると、環状パターン3bの熱は連結パターン3cを通ってダイパッド3aに伝導し、ダイパッド3aが加熱される。このとき、連結パターン3cは、2本配置され、ダイパッド3aへの接続位置は、対称(180度)であるのため、ダイパッド3aに対称な2か所から熱が伝導し、均一に加熱される。 As a result, when the temperature of the annular pattern 3b rises, the heat of the annular pattern 3b is conducted to the die pad 3a through the connecting pattern 3c, and the die pad 3a is heated. At this time, two connection patterns 3c are arranged, and since the connection position to the die pad 3a is symmetrical (180 degrees), heat is conducted from two places symmetrical to the die pad 3a and the heat is uniformly heated. ..

ダイパッド3aが加熱されることにより、接着層4であるAuSnペーストが加熱され、AuSn共晶が形成されて、ダイパッド3aと発光素子1の裏面電極とをAuSn共晶接合する。 By heating the die pad 3a, the AuSn paste which is the adhesive layer 4 is heated, AuSn eutectic is formed, and the die pad 3a and the back electrode of the light emitting element 1 are joined by AuSn eutectic.

このとき同時に、環状パターン3b上のツェナーダイオード用ダイパッド15も加熱されるため、ツェナーダイオード14とダイパッド15もAuSn共晶接合される。 At the same time, since the Zener diode die pad 15 on the annular pattern 3b is also heated, the Zener diode 14 and the die pad 15 are also EuSn eutectic bonded.

つぎに、発光素子13の上面電極と電極パッド9とをボンディングワイヤ13により接続する。また、ツェナーダイオード14の上面電極と電極パッド9とをボンディングワイヤ16により接続する。 Next, the upper surface electrode of the light emitting element 13 and the electrode pad 9 are connected by the bonding wire 13. Further, the upper surface electrode of the Zener diode 14 and the electrode pad 9 are connected by a bonding wire 16.

つぎに、環状パターンの内側(発光素子1の上)に未硬化の封止樹脂(シリコーン樹脂)を滴下すると、未硬化の封止樹脂は濡れ広がり、その縁が環状パターンの外周の縁に達すると、表面張力によりそれ以上は濡れ広がらず止まる。その後、封止樹脂を硬化させることにより、ドーム状に盛り上がった封止樹脂5を形成することができる。 Next, when the uncured sealing resin (silicone resin) is dropped inside the annular pattern (above the light emitting element 1), the uncured sealing resin wets and spreads, and the edge reaches the outer peripheral edge of the annular pattern. Then, due to the surface tension, it does not spread any more and stops. Then, by curing the sealing resin, the dome-shaped raised sealing resin 5 can be formed.

上述してきたように、本実施形態では、発明者らが見出した環状パターン3bには誘導加熱によって電流が流れやすいという現象を利用し、環状パターン3bを誘導加熱によって加熱して、熱をダイパッド3aまで導くことにより、微小なダイパッド3aを効率よく加熱することができる。これにより、発光素子1をダイパッド3aに実装することができる。 As described above, in the present embodiment, utilizing the phenomenon that an electric current easily flows through the annular pattern 3b found by the inventors by induction heating, the annular pattern 3b is heated by induction heating and the heat is transferred to the die pad 3a. By guiding to, the minute die pad 3a can be efficiently heated. As a result, the light emitting element 1 can be mounted on the die pad 3a.

実際に本実施形態の製造方法によって半導体装置を製造したところ、接合後の接着層には、ボイドは含まれておらず、接着強度が大きく、電気抵抗の低い良好な接合状態であった。 When the semiconductor device was actually manufactured by the manufacturing method of the present embodiment, the bonding layer after bonding did not contain voids, and was in a good bonding state with high bonding strength and low electrical resistance.

環状パターン3bは、内側領域が空いているため、内部にダイパッド3aを配置することができ、中心まで充填された平面上のパターンを用いる場合よりも、実装密度を向上させることができる。 Since the inner region of the annular pattern 3b is open, the die pad 3a can be arranged inside, and the mounting density can be improved as compared with the case of using a pattern on a plane filled to the center.

また、環状パターン3bの中央にダイパッド3aを配置し、銅コアや貫通電極を用いて裏面側に配線を配置することにより、配線の引き回しの制限を小さくすることができ、設計の自由度もたかい。 Further, by arranging the die pad 3a in the center of the annular pattern 3b and arranging the wiring on the back surface side using a copper core or a through electrode, the restriction on the wiring can be reduced and the degree of freedom in design is high. ..

また、環状パターン3bは、上述したように、封止樹脂を表面張力により止めるために用いられるパターンと兼用させることができるというメリットもある。 Further, as described above, the annular pattern 3b also has an advantage that it can be used in combination with the pattern used for stopping the sealing resin by surface tension.

なお、本実施形態では、半導体素子1として、発光素子を用いたが、発光しない半導体素子や、チップ抵抗やチップコンデンサ等の微小素子を素子1として用いることももちろん可能である。 In the present embodiment, a light emitting element is used as the semiconductor element 1, but it is of course possible to use a semiconductor element that does not emit light or a minute element such as a chip resistor or a chip capacitor as the element 1.

また、基板2としては、ガラスエポキシのようなガラス繊維にエポキシ樹脂などの樹脂を含浸させた樹脂基板に限定されず、ポリイミド等の樹脂のみの樹脂基板、あるいは、セラミック基板を用いることも可能である。 Further, the substrate 2 is not limited to a resin substrate in which glass fibers such as glass epoxy are impregnated with a resin such as epoxy resin, and a resin substrate containing only a resin such as polyimide or a ceramic substrate can be used. is there.

接着層4は、AuSn共晶材料のみならず、AuSn以外のはんだや、Auなどのナノ粒子を用いた焼結型接合材料から構成することができる。 The adhesive layer 4 can be composed of not only an AuSn eutectic material but also a solder other than AuSn and a sintered bonding material using nanoparticles such as Au.

<<実施形態2>>
実施形態2の半導体装置を図3(a)〜(c)を用いて説明する。
<< Embodiment 2 >>
The semiconductor device of the second embodiment will be described with reference to FIGS. 3A to 3C.

実施形態2の半導体装置は、実施形態1の装置と同様の構成であるが、環状パターン3bの形状を円形ではなく、矩形の環状とした点で実施形態1とは異なっている。 The semiconductor device of the second embodiment has the same configuration as the device of the first embodiment, but differs from the first embodiment in that the shape of the annular pattern 3b is not a circular shape but a rectangular circular shape.

実施形態2の半導体装置は、実施形態1の半導体装置と同様に、環状パターン3bには誘導加熱によって電流が流れやすいという現象を利用し、環状パターン3bを誘導加熱によって加熱して、熱をダイパッド3aまで導くことにより、微小なダイパッド3aを効率よく加熱することができる。これにより、発光素子1をダイパッド3aに実装することができる。 Similar to the semiconductor device of the first embodiment, the semiconductor device of the second embodiment utilizes the phenomenon that an electric current easily flows through the annular pattern 3b by induction heating, and heats the annular pattern 3b by induction heating to heat the die pad. By guiding to 3a, the minute die pad 3a can be efficiently heated. As a result, the light emitting element 1 can be mounted on the die pad 3a.

なお、図3(b)のように、環状パターン3bの上にキャビティ31を配置してもよい。さらに図3(c)のように、キャビティ31の内側を樹脂32で封止してもよい。 In addition, as shown in FIG. 3B, the cavity 31 may be arranged on the annular pattern 3b. Further, as shown in FIG. 3C, the inside of the cavity 31 may be sealed with the resin 32.

<<実施形態3>>
実施形態3の半導体装置を図4を用いて説明する。
<< Embodiment 3 >>
The semiconductor device of the third embodiment will be described with reference to FIG.

図4の半導体装置は、ダイパッド3aが複数あり、環状パターン3bに連結パターンを介することなく、直接連結されている点が実施形態1とは異なっている。電極パッド9は、環状パターン3bの中央に配置されている。 The semiconductor device of FIG. 4 is different from the first embodiment in that it has a plurality of die pads 3a and is directly connected to the annular pattern 3b without a connection pattern. The electrode pad 9 is arranged in the center of the annular pattern 3b.

本実施形態3の半導体装置は、複数のダイパッド3aを同時に加熱して、同時に複数の半導体素子1を接合することができる。 In the semiconductor device of the third embodiment, a plurality of die pads 3a can be heated at the same time, and a plurality of semiconductor elements 1 can be bonded at the same time.

他の構成、製造工程および効果は、実施形態1の半導体装置と同様である。 Other configurations, manufacturing processes, and effects are the same as those of the semiconductor device of the first embodiment.

<<実施形態4>>
実施形態4の半導体装置を図5(a)、(b)を用いて説明する。
<< Embodiment 4 >>
The semiconductor device of the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. 5A and 5B.

図5(a)の半導体装置は、ダイパッド3aの一部が、環状パターン3bと重なるように配置されている点と、環状パターン3bが、基板2とともに切断され、分割されている点が、実施形態1とは異なる。他の構成は、実施形態1と同様である。また、図5(b)のように基板2の周囲にキャビティ31を搭載し、キャビティ31内を樹脂32で封止した構造にすることも可能である。 In the semiconductor device of FIG. 5A, a part of the die pad 3a is arranged so as to overlap the annular pattern 3b, and the annular pattern 3b is cut and divided together with the substrate 2. It is different from the first form. Other configurations are the same as in the first embodiment. Further, as shown in FIG. 5B, it is also possible to mount the cavity 31 around the substrate 2 and to have a structure in which the inside of the cavity 31 is sealed with the resin 32.

図5(b)の半導体装置の製造工程を図6(a)〜(g)を用いて説明する。 The manufacturing process of the semiconductor device of FIG. 5 (b) will be described with reference to FIGS. 6 (a) to 6 (g).

まず図6(a)のように、環状パターン3bの一部にダイパッド3aが重なるように配置された金属パターン3が上下左右に複数配列された半導体素子搭載用基板を用意する。半導体素子搭載用基板は、複数の半導体装置を一括で製造するための集合基板として、構成されている。後工程において、複数の半導体装置に切断するための切断線がダイパッド3a間に予定されている。個々の環状パターン3bは、切断線上に重なるように、隣接する半導体装置用の基板上にわたって配置されている。 First, as shown in FIG. 6A, a semiconductor element mounting substrate is prepared in which a plurality of metal patterns 3 arranged so that the die pads 3a overlap a part of the annular pattern 3b are arranged vertically and horizontally. The substrate for mounting a semiconductor element is configured as an aggregate substrate for collectively manufacturing a plurality of semiconductor devices. In the post-process, a cutting line for cutting into a plurality of semiconductor devices is planned between the die pads 3a. The individual annular patterns 3b are arranged over the substrates for adjacent semiconductor devices so as to overlap on the cutting line.

つぎに、図6(b)のように、複数の開口が設けられたキャビティ31を基板2の上に搭載する。キャビティ31の開口の中央に、ダイパッド3aが位置する。 Next, as shown in FIG. 6B, a cavity 31 having a plurality of openings is mounted on the substrate 2. The die pad 3a is located at the center of the opening of the cavity 31.

図6(c)のように、ダイパッド3aの上にAuSnペースト等の塗布することにより接着層を配置し、半導体素子1を搭載する。誘導加熱により、環状パターン3bを加熱して、ダイパッド3aに熱を伝導させ、AuSnを溶融させて半導体素子1をダイパッド3aに接合する。この工程は、実施形態1で説明した通りである。複数の環状パターン3bには、一括して高周波磁界を供給して加熱してもよいし、ひとつずつ加熱してもよい。 As shown in FIG. 6C, an adhesive layer is arranged by applying AuSn paste or the like on the die pad 3a, and the semiconductor element 1 is mounted. The annular pattern 3b is heated by induction heating to conduct heat to the die pad 3a, melt AuSn, and bond the semiconductor element 1 to the die pad 3a. This step is as described in the first embodiment. The plurality of annular patterns 3b may be heated by supplying a high-frequency magnetic field all at once, or may be heated one by one.

図6(d)のように、半導体素子1の上面電極と、隣接する環状パターン3bとをボンディングワイヤ13で接続する。 As shown in FIG. 6D, the upper surface electrode of the semiconductor element 1 and the adjacent annular pattern 3b are connected by the bonding wire 13.

図6(e)のように、キャビティ31の開口を封止樹脂32で封止する。 As shown in FIG. 6E, the opening of the cavity 31 is sealed with the sealing resin 32.

最後に、図6(f)のように開口の周囲の4辺において、キャビティ31と基板2を切断して個片化する。これにより、基板2上の環状パターン3bは、図6(g)のように切断され、図5(b)の半導体装置を製造することができる。 Finally, as shown in FIG. 6 (f), the cavity 31 and the substrate 2 are cut and individualized at the four sides around the opening. As a result, the annular pattern 3b on the substrate 2 is cut as shown in FIG. 6 (g), and the semiconductor device shown in FIG. 5 (b) can be manufactured.

<<実施形態5>>
実施形態5の半導体装置を図7(a)、(b)を用いて説明する。
<< Embodiment 5 >>
The semiconductor device of the fifth embodiment will be described with reference to FIGS. 7 (a) and 7 (b).

実施形態5は、実施形態1〜4とは異なり、環状パターンに誘導加熱によって電流が流れやすいという現象に基づき、環状パターンには電流が流れない構成にすることにより、微小なダイパッドを効率よく加熱する。 The fifth embodiment is different from the first to fourth embodiments, and is based on the phenomenon that an electric current easily flows through the annular pattern by induction heating. By adopting a configuration in which an electric current does not flow through the annular pattern, a minute die pad is efficiently heated. To do.

すなわち、図7(a),(b)のように、半導体装置は、半導体素子1と、半導体素子1が搭載された基板2とを有する。基板2の表面には、ダイパッド3aと、ダイパッド3aを取り囲むように配置された環状パターン3bとが備えられている。ダイパッド3aには、半導体素子1が接着層によってダイボンディングされている。 That is, as shown in FIGS. 7A and 7B, the semiconductor device includes a semiconductor element 1 and a substrate 2 on which the semiconductor element 1 is mounted. The surface of the substrate 2 is provided with a die pad 3a and an annular pattern 3b arranged so as to surround the die pad 3a. The semiconductor element 1 is die-bonded to the die pad 3a by an adhesive layer.

ここで本実施形態では、環状パターン3bに、スリット71が形成され、周方向に不連続な形状になっている。 Here, in the present embodiment, the slit 71 is formed in the annular pattern 3b, and the shape is discontinuous in the circumferential direction.

これにより、ダイパッド3aを誘導加熱するために高周波磁界を図2のように照射した場合、環状パターン3bは、周方向に不連続であるため、周回電流は流れず、供給した高周波磁界をダイパッド3aにのみ集中して供給することができる。よって、ダイパッド3aを誘導加熱により加熱することができ、接着層を溶融させて半導体素子1をダイパッド3aに接合できる。 As a result, when a high-frequency magnetic field is applied to induce and heat the die pad 3a as shown in FIG. 2, the annular pattern 3b is discontinuous in the circumferential direction, so that no circumferential current flows and the supplied high-frequency magnetic field is used for the die pad 3a. Can be concentrated and supplied only to. Therefore, the die pad 3a can be heated by induction heating, and the adhesive layer can be melted to bond the semiconductor element 1 to the die pad 3a.

なお、スリット71の幅は、未硬化の樹脂5が流れ出ない幅に設定しておく。 The width of the slit 71 is set to a width at which the uncured resin 5 does not flow out.

これにより、実施形態1と同様の工程により、未硬化の封止樹脂5を滴下して濡れ広がらせた場合でも、スリット71の影響なく、環状パターン3bの外側の縁において表面張力で止め、封止樹脂5をドーム状に盛り上げることができる。 As a result, even when the uncured sealing resin 5 is dropped and spread by the same process as in the first embodiment, it is stopped by surface tension at the outer edge of the annular pattern 3b and sealed without being affected by the slit 71. The stop resin 5 can be raised in a dome shape.

他の構成、他の製造工程は、実施形態1と同様である。 Other configurations and other manufacturing processes are the same as those in the first embodiment.

実際に本実施形態5の製造方法によって半導体装置を製造したところ、接合後の接着層には、ボイドは含まれておらず、接着強度が大きく、熱抵抗の低い良好な接合状態であった。 When the semiconductor device was actually manufactured by the manufacturing method of the fifth embodiment, the bonded layer after bonding did not contain voids, and was in a good bonding state with high adhesive strength and low thermal resistance.

上述してきた各実施形態の半導体装置は、LED照明装置等として用いることができる。 The semiconductor device of each of the above-described embodiments can be used as an LED lighting device or the like.

金属パターン3を備えた基板2について、第1〜第3の3つのサンプルを作成し、基板2上のダイパッド3aの加熱状態について、評価を行った。 Three first to third samples were prepared for the substrate 2 provided with the metal pattern 3, and the heating state of the die pad 3a on the substrate 2 was evaluated.

第1サンプルは、実施形態1に対応し、第2サンプルは、実施形態5に対応する構成である。第3サンプルは、実施形態5の金属パターン3をスリット71なしに変更した構成である。 The first sample corresponds to the first embodiment, and the second sample corresponds to the fifth embodiment. The third sample has a configuration in which the metal pattern 3 of the fifth embodiment is modified without the slit 71.

加熱状態の評価は、金属パターン3上の温度上昇を確認するためのAuSnペーストを、金属パターン3上の適宜な箇所に塗布し、各サンプルに対して高周波コイルにて高周波磁界を印加し、AuSnペーストの溶融状態を確認した。 For the evaluation of the heated state, AuSn paste for confirming the temperature rise on the metal pattern 3 is applied to an appropriate place on the metal pattern 3, a high frequency magnetic field is applied to each sample with a high frequency coil, and AuSn The molten state of the paste was confirmed.

第1サンプルにおいては、ダイパッド3a、環状パターン3bと連結パターン3cとの交差箇所、電極パッド9、およびツェナーダイオード用ダイパッド15上にAuSnペーストを塗布した。 In the first sample, AuSn paste was applied on the die pad 3a, the intersection of the annular pattern 3b and the connection pattern 3c, the electrode pad 9, and the Zener diode die pad 15.

第2サンプルにおいては、ダイパッド3a、環状パターン3b上にAuSnペーストを塗布した。 In the second sample, AuSn paste was applied on the die pad 3a and the annular pattern 3b.

第3サンプルにおいては、ダイパッド3a、環状パターン3b上にAuSnペーストを塗布した。 In the third sample, AuSn paste was applied on the die pad 3a and the annular pattern 3b.

その結果、第1サンプルにおいては、高周波の電力量2kW・sの高周波磁界を印加したところ、ダイパッド3a、環状パターン3bと連結パターン3cとの交差箇所、およびツェナーダイオード用ダイパッド15上のAuSnペーストは溶融したが、電極パッド9上のAuSnペーストは溶融しなかった。 As a result, in the first sample, when a high-frequency magnetic field having a high-frequency electric energy of 2 kW · s was applied, the die pad 3a, the intersection of the annular pattern 3b and the connection pattern 3c, and the AuSn paste on the Zener diode die pad 15 were found. Although it melted, the AuSn paste on the electrode pad 9 did not melt.

また、第2サンプルにおいては、高周波の電力量4.05kW・sの高周波磁界を印加したところ、ダイパッド3a上のAuSnペーストは溶融したが、環状パターン3b上のAuSnペーストは溶融しなかった。 Further, in the second sample, when a high-frequency magnetic field having a high-frequency electric energy of 4.05 kW · s was applied, the AuSn paste on the die pad 3a melted, but the AuSn paste on the annular pattern 3b did not melt.

また、第3サンプルにおいては、高周波の電力量1.95kW・sの高周波磁界を印加したところ、ダイパッド3a上のAuSnペーストは溶融しなかったが、環状パターン3b上のAuSnペーストが溶融した。 Further, in the third sample, when a high-frequency magnetic field having a high-frequency electric energy of 1.95 kW · s was applied, the AuSn paste on the die pad 3a did not melt, but the AuSn paste on the annular pattern 3b melted.

さらに、高周波コイルの出力および印加時間を変化させて上記第1〜第3の3つのサンプルを確認した。 Further, the output of the high frequency coil and the application time were changed to confirm the first to third samples.

第1サンプルにおいては、まず環状パターン3b上のAuSnペーストが溶融した後、ダイパッド3a上のAuSnペーストの溶融することが確認できた。環状パターン3bが加熱され、ダイパッド3aに伝熱したと考える。 In the first sample, it was confirmed that the AuSn paste on the annular pattern 3b was first melted, and then the AuSn paste on the die pad 3a was melted. It is considered that the annular pattern 3b is heated and transferred to the die pad 3a.

第2サンプルにおいては、電力量2.49kW・sではフラックス成分の蒸発のみで、AuSnは未溶融であったが、電力量4.05kW・sで溶融を確認できた。環状パターン3bがスリット71を有するため二次コイルの役割を果たさなくなりダイパッド3aが優先的に加熱されたものと考える。
このように、第1サンプルにおけるダイパッド3a上のAuSnペーストは、電力量2kW・s、第2サンプルにおけるダイパッド3a上のAuSnペーストは、電力量4.05kW・sで溶融を確認できた。
In the second sample, AuSn was unmelted only by evaporation of the flux component at the electric energy of 2.49 kW · s, but melting could be confirmed at the electric energy of 4.05 kW · s. Since the annular pattern 3b has the slit 71, it does not play the role of the secondary coil, and it is considered that the die pad 3a is preferentially heated.
As described above, it was confirmed that the AuSn paste on the die pad 3a in the first sample had a power amount of 2 kW · s, and the AuSn paste on the die pad 3a in the second sample had a power amount of 4.05 kW · s.

一方、第3サンプルにおいては、環状パターン3b周辺の基板2が変色するまで、高周波の電力量を増加させて加熱を行ってもダイパッド3a上のAuSnペーストは溶融せず、ダイパッド3a上のAuSnペーストが溶融するまで出力を上げると環状パターン3bの剥がれが起きてしまった。 On the other hand, in the third sample, the AuSn paste on the die pad 3a did not melt even when the substrate 2 around the annular pattern 3b was discolored, and the AuSn paste on the die pad 3a was not melted even if the heating was performed by increasing the amount of high frequency power. When the output was increased until the paste was melted, the annular pattern 3b was peeled off.

これらのことから、第1サンプル、第2サンプルにおいては、ダイパッド3aを効率よく加熱する構成であることが確認できた。また、第1サンプルの方が第2サンプルより効率よくダイパッド3aを加熱することができる構成であることが確認できた。 From these facts, it was confirmed that the die pad 3a was efficiently heated in the first sample and the second sample. Further, it was confirmed that the first sample has a configuration capable of heating the die pad 3a more efficiently than the second sample.

1…半導体素子(発光素子)、2…基板、3…金属パターン、3a…ダイパッド、3b…環状パターン、3c…連結パターン、4…接着層、5…封止樹脂、6…銅コア、7…、裏面電極、8…配線パターン、9…電極パッド、10…貫通電極、11…裏面電極、12…配線パターン、13…ボンディングワイヤ、14…ツェナーダイオード、15…ツェナーダイオード用ダイパッド、16…ボンディングワイヤ

1 ... semiconductor element (light emitting element), 2 ... substrate, 3 ... metal pattern, 3a ... die pad, 3b ... annular pattern, 3c ... connection pattern, 4 ... adhesive layer, 5 ... sealing resin, 6 ... copper core, 7 ... , Backside electrode, 8 ... Wiring pattern, 9 ... Electrode pad, 10 ... Through electrode, 11 ... Backside electrode, 12 ... Wiring pattern, 13 ... Bonding wire, 14 ... Zener diode, 15 ... Zener diode die pad, 16 ... Bonding wire

Claims (13)

半導体素子と、前記半導体素子が搭載された非金属からなる基板とを有し、
前記基板の表面には、金属パターンが配置され、
前記金属パターンは、前記半導体素子が接着層によってダイボンディングされたダイパッドと、環状パターンとを有し、前記ダイパッドと前記環状パターンは連結されていることを特徴とする半導体装置。
It has a semiconductor element and a substrate made of a non-metal on which the semiconductor element is mounted.
A metal pattern is arranged on the surface of the substrate.
The metal pattern is a semiconductor device having a die pad in which the semiconductor element is die-bonded by an adhesive layer and an annular pattern, and the die pad and the annular pattern are connected to each other.
請求項1に記載の半導体装置であって、前記ダイパッドは、その全体が前記環状パターンの内側の領域に配置され、前記ダイパッドと前記環状パターンとの間には、両者を連結する連結パターンが配置されていることを特徴とする半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1, wherein the die pad as a whole is arranged in a region inside the annular pattern, and a connecting pattern for connecting the die pad and the annular pattern is arranged between the die pad and the annular pattern. A semiconductor device characterized by being 請求項1に記載の半導体装置であって、前記ダイパッドは、前記環状パターンに一部が重なるように配置されていることを特徴とする半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1, wherein the die pad is arranged so as to partially overlap the annular pattern. 請求項2に記載の半導体装置であって、前記半導体素子は、発光素子であり、前記環状パターンの内側には前記発光素子を封止するドーム状の樹脂が搭載され、前記ドーム状の樹脂の縁形状は、前記環状パターンの形状に一致していることを特徴とする半導体装置。 The semiconductor device according to claim 2, wherein the semiconductor element is a light emitting element, and a dome-shaped resin for sealing the light emitting element is mounted inside the annular pattern of the dome-shaped resin. A semiconductor device characterized in that the edge shape matches the shape of the annular pattern. 請求項2または4に記載の半導体装置であって、前記連結パターンは、前記ダイパッドの2か所以上を前記環状パターンに接続していることを特徴とする半導体装置。 The semiconductor device according to claim 2 or 4, wherein the connection pattern connects two or more places of the die pad to the annular pattern. 半導体素子と、前記半導体素子が搭載された基板とを有し、
前記基板の表面には、前記半導体素子が接着層によってダイボンディングされたダイパッドと、前記ダイパッドを取り囲むように配置された環状パターンとが備えられ、
前記環状パターンには、スリットが形成され、周方向に不連続であることを特徴とする半導体装置。
It has a semiconductor element and a substrate on which the semiconductor element is mounted.
The surface of the substrate is provided with a die pad in which the semiconductor element is die-bonded by an adhesive layer, and an annular pattern arranged so as to surround the die pad.
A semiconductor device characterized in that a slit is formed in the annular pattern and is discontinuous in the circumferential direction.
請求項6に記載の半導体装置であって、前記スリットの幅は、未硬化の樹脂が流れ出ない幅に設定され、
前記環状パターンの内側には前記半導体素子を封止するドーム状の樹脂が搭載され、前記ドーム状の樹脂の縁形状は、前記環状パターンの形状に一致していることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 6, wherein the width of the slit is set to a width at which the uncured resin does not flow out.
A semiconductor device characterized in that a dome-shaped resin that seals the semiconductor element is mounted inside the annular pattern, and the edge shape of the dome-shaped resin matches the shape of the annular pattern.
非金属からなる基板と、
前記基板表面に形成された金属パターンと、を備え、
前記金属パターンは、半導体素子搭載用ダイパッドと、環状パターンとを有し、前記ダイパッドと前記環状パターンは連結されていることを特徴とする半導体素子搭載用基板。
A substrate made of non-metal and
With a metal pattern formed on the surface of the substrate,
The metal pattern has a semiconductor element mounting die pad and an annular pattern, and the semiconductor element mounting substrate is characterized in that the die pad and the annular pattern are connected to each other.
前記基板は、前記半導体素子搭載用ダイパッドを複数備え、
前記基板は、複数の前記半導体素子搭載用ダイパッド間に切断線を備え、
前記環状パターンは、前記切断線上に重なるように配置されていることを特徴とする請求項8の半導体素子搭載用基板。
The substrate includes a plurality of die pads for mounting the semiconductor element.
The substrate is provided with a cutting line between a plurality of die pads for mounting the semiconductor element.
The substrate for mounting a semiconductor element according to claim 8, wherein the annular pattern is arranged so as to overlap the cutting line.
ダイパッドと、前記ダイパッドに連結された環状パターンとを含む金属パターンが形成された非金属からなる基板の、前記ダイパッド上に接着層をはさんで半導体素子を搭載する工程と、
高周波磁界を少なくとも前記環状パターンに照射して誘導加熱し、前記環状パターンで生じた熱を前記ダイパッドに伝導させて前記接着層を加熱して前記ダイパッドと前記半導体素子とを接合する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
A step of mounting a semiconductor element on a die pad of a substrate made of a non-metal having a metal pattern including a die pad and an annular pattern connected to the die pad with an adhesive layer sandwiched between the die pads.
The present invention includes a step of irradiating at least the annular pattern with a high-frequency magnetic field for induction heating, conducting the heat generated in the annular pattern to the die pad to heat the adhesive layer, and joining the die pad and the semiconductor element. A method for manufacturing a semiconductor device.
請求項10に記載された半導体装置の製造方法であって、前記半導体素子を接合する工程の後で、前記環状パターンの内側に未硬化の封止樹脂を滴下し、封止樹脂の縁が前記環状パターンに達するまで濡れ広がらせた後、硬化させる工程をさらに有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 10, wherein an uncured sealing resin is dropped inside the annular pattern after the step of joining the semiconductor elements, and the edge of the sealing resin is the said. A method for manufacturing a semiconductor device, which further comprises a step of wetting and spreading until an annular pattern is reached and then curing. ダイパッドと、ダイパッドを取り囲むように配置され、一部にスリットが形成されて周方向に不連続な環状パターンとを含む金属パターンが形成された基板の、前記ダイパッド上に接着層をはさんで半導体素子を搭載する工程と、
高周波磁界を前記ダイパッドに照射して誘導加熱することにより、前記ダイパッドに生じた熱で前記接着層を加熱して前記ダイパッドと前記半導体素子とを接合する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
A semiconductor of a substrate having a die pad and a metal pattern formed so as to surround the die pad and having a slit partially formed and a circular pattern discontinuous in the circumferential direction, with an adhesive layer sandwiched on the die pad. The process of mounting the element and
A semiconductor device comprising a step of heating the adhesive layer with heat generated in the die pad by irradiating the die pad with a high-frequency magnetic field and inducing heating to join the die pad and the semiconductor element. Manufacturing method.
請求項12に記載された半導体装置の製造方法であって、前記半導体素子を接合する工程の後で、前記環状パターンの内側に未硬化の封止樹脂を滴下し、封止樹脂の縁が前記環状パターンに達するまで濡れ広がらせた後、硬化させる工程をさらに有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 12, wherein after the step of joining the semiconductor elements, an uncured sealing resin is dropped inside the annular pattern, and the edge of the sealing resin is the said. A method for manufacturing a semiconductor device, which further comprises a step of wetting and spreading until an annular pattern is reached and then curing.
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