JP7295027B2 - 水素支援型の統合された排ガス調整システム - Google Patents

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Description

本発明は、一般に、選択触媒還元触媒及び酸化触媒の分野、及びそのような触媒を用いる排ガス調整システムに関する。
内燃機関の排出に関する環境規制は、世界中でますます厳しくなっている。希薄燃焼エンジン、例えばディーゼルエンジンの運転は、燃料希薄条件下において高い空燃比で運転するので、ユーザーに優れた燃費を提供する。しかしながら、ディーゼルエンジンはまた、粒子状物質(PM)、未燃炭化水素(HC)、一酸化炭素(CO)、及び窒素酸化物(NO)を含有する排ガスも排出し、このNOは、とりわけ一酸化窒素及び二酸化窒素を含む、窒素酸化物の様々な化学種を表す。排気粒子状物質の2つの主要な成分は、可溶性有機画分(SOF)及び煤画分である。SOFは層状で煤上に凝縮し、一般に未燃のディーゼル燃料及び潤滑油から誘導される。SOFは、排ガスの温度に依存して、蒸気又はエアロゾル(すなわち、液状凝縮物の微細な液滴)としてディーゼル排気中に存在する。煤は、主に炭素の粒子から構成される。
アルミナなどの耐火金属酸化物基材上に分散した、白金族金属(PGM)を含む酸化触媒が既知であり、ディーゼルエンジンの排気を処理する際に、炭化水素及び一酸化炭素の両方のガス状汚染物質を、これら汚染物質の酸化を触媒することによって二酸化炭素及び水に転化するために、使用される。そのような触媒は、ディーゼル酸化触媒(DOC)と呼ばれるユニットに一般に含有されており、このユニットは、ディーゼル発電システムからの排気流路に配置され、排気を処理してから大気に放出する。通常、ディーゼル酸化触媒は、その上に1つ以上の触媒塗工組成物が堆積される、セラミック又は金属基体上に形成される。ガス状のHC及びCO排出及び粒子状物質(SOF画分)の転化に加えて、PGMを含有する酸化触媒は、NOのNOへの酸化を促進する。触媒は通常、そのライトオフ(light-off)温度又は50%の転化が達成される温度(T50とも呼ばれる)によって規定される。
内燃機関の排気を処理するために使用される触媒は、エンジン運転初期の再稼動期間(cold-start period)など、比較的低温の運転期間中は、効果が低い。なぜなら、エンジン排気が、排気中の有害成分を効率的に触媒転化するのに十分高い温度ではないからである。この目的のために、当該技術分野では、吸着剤(ゼオライトであり得る)を触媒処理システムの一部として含ませ、ガス状の汚染物質(通常は炭化水素)を吸着及び/又は吸収させて、それらを初期の再稼動期間中に保持することが、既知である。排ガス温度が上昇すると、貯蔵された炭化水素が吸着剤から追い出され、より高い温度での触媒処理に供される。
希薄燃焼エンジン、例えばガソリン直噴エンジン及び部分希薄燃焼エンジンの排気からの、及びディーゼルエンジンからの、NOを還元するための1つの効果的な方法では、希薄燃焼エンジンの運転条件下でNOを捕捉して貯蔵し、捕捉したNOを、化学量論的又はリッチなエンジン運転条件下、又は外部燃料を排気に噴射してリッチ条件を引き起こす希薄エンジン運転下で、低減することが必要である。希薄運転サイクルは通常、1分から20分の間であり、リッチ運転サイクルは、燃料をできるだけ多く維持するために通常は短い(1から10秒)。NO転化効率を高めるために、短く頻繁な再生は、長いが頻繁ではない再生よりも好まれる。よって、希薄NO捕捉触媒は一般に、NO捕捉機能及び三元触媒機能を提供しなければならない。
いくつかの希薄NO捕捉(LNT)システムは、アルカリ土類元素を含有する。例えば、NO吸着剤成分には、Mg、Ca、Sr又はBaの酸化物などのアルカリ土類金属酸化物が含まれる。他のLNTシステムは、Ce、La、Pr、又はNdの酸化物などの希土類金属酸化物を含有することができる。NO吸着剤は、触媒性のNO酸化及び還元のためにアルミナ基材上に分散した白金などの白金族金属触媒と組み合わせて使用することができる。LNT触媒は、エンジン出力NOがNに転化される循環式の希薄(捕捉モード)及びリッチ(再生モード)排気条件下で運転する。
希薄燃焼エンジンの排気からのNOを還元する別の効果的な方法は、希薄燃焼エンジンの運転条件下において、NOをアンモニア又は炭化水素などの適した還元剤と選択触媒還元(SCR)触媒の存在下で反応させることを必要とする。適したSCR触媒には、金属含有ゼオライトなどの金属含有分子篩が含まれる。有用なSCR触媒成分は、600℃未満の温度でNO排気成分の還元を効果的に触媒することができるため、より低い排気温度に通常は関連する低装填の条件下でさえ、NOレベルの低減を達成することができる。
ますます厳しくなる排出規制により、改善されたCO、HC及びNOの酸化能力を有し、低いエンジン排気温度でCO、HC及びNOの排出を成し遂げるための排出ガス処理システムの開発が必要とされている。更に、NO(NO及びNO)排出物を窒素に還元するための排出ガス処理システムの開発がますます重要になってきており、その結果、運転サイクルのあらゆる側面を扱うシステムがより複雑となっている。一例として、DOC+CSF+SCR+AMOxシステムを有するディーゼル排気処理システムがあり、これはDOC(ディーゼル酸化触媒)がCO/HC排出物を還元し、CSF(触媒煤フィルター)が粒子状物を最小限に抑え、CO/HCの同伴物を更に還元する。SCR(選択触媒還元部材)は、アンモニア又はアンモニア前駆体の注入によりNO排出物を還元する。ただし、SCR運転中のアンモニアの漏出を最小限に抑えるには、AMOx(アンモニア酸化)触媒部材が必要である。
CSFは、煤フィルター上に堆積された酸化触媒を一般に含む部材である。煤フィルターは、任意の適した耐火材料、例えばコージエライト、コージエライト-αアルミナ、シリコンニトライド、シリコンカーバイド、アルミニウムチタネート、アルミニウムカーバイド、ジルコニウムムライト、リシア輝石、アルミナ-シリカ-マグネシア、ジルコニウムシリケート、シリマナイト、マグネシウムシリケート、ジルコニア、ペタライト、α-アルミナ、アルミノシリケートなど、又はこれらの任意の2つ以上の組み合わせから作製され得る。煤フィルターは、アルミニウム、鉄、ステンレス鋼、炭素鋼などの金属から作製されてもよい。壁流フィルターは、基体の異なる部分の排ガスが通路の壁を介して連通するフロースルー基体として規定される。一例としてEmitec LS/PE基体があるが、これに限定されない。
4つ又は5つの異なる触媒/機能性部材を必要とする上記のような排ガス処理システムは、所定の構成で、CO、HC、NO及びPMの必要な削減を達成するのに有用である。しかしながら、そのようなシステムは高価で複雑であり、排ガスの背圧耐性を上昇させ、実行のため車両中にかなりの量の空間を要する。よって、当該技術分野では、必要な触媒/機能性部材の数がより少ない、簡素化された排ガス処理システムに対する必要性がある。
本発明は、排ガス流(エンジンから生成されるなど)の処理のための排ガス調整システムであって、排ガス源(例えばエンジン)から下流の基体上に設けられ排ガス流と流体連通している酸化触媒組成物と、酸化触媒の下流の少なくとも1種の選択触媒還元(SCR)組成物、例えば軸方向長さを画定する前部上流端と後部下流端とを含むモノリス状の壁流フィルター部材(このモノリス状の壁流フィルター部材はその上に設けられた選択触媒還元(SCR)塗工組成物を有し、そのSCR塗工組成物は第一のSCR触媒及び第二のSCR触媒を含み、その第二のSCR触媒は卑金属含有(例えば銅及び/又は鉄)分子篩を含む)とを含む、排ガス調整システムを提供する。別の実施形態では、少なくとも1種のSCR成分は、フロースルーモノリス上に設けられたSCR触媒組成物を含む。
本発明の排ガス調整システムは、酸化触媒組成物の上流又は酸化触媒組成物の下流及びSCR成分の上流に、水素を導入するように構成された水素噴射部と併せて、特に有用である。一部の実施形態では、そのシステムは、再稼動期間中に貯蔵された水素を導入するように構成されたシステムなど、貯蔵された水素を断続的に導入(間欠導入)するように構成される。そのシステムは、水素貯蔵部/部材を更に含み得る。
所定の実施形態では、第一のSCR触媒は、<250℃の温度で効果があり、第二のSCR触媒は、約250℃から約550℃の温度で効果がある。例えば、第一のSCR触媒は、耐火金属酸化物基材上に分散したPGM成分(例えばロジウム)、例えばモノリス状の壁流フィルター部材又はフロースルーモノリス部材の容量に対して、約5g/ftから約250g/ftのPGM成分を含むことができる。
例示的な分子篩には、8環小細孔の分子篩が含まれる。一実施形態では、分子篩は、AEI、AFT、AFX、CHA、EAB、ERI、KFI、LEV、SAS、SAT及びSAVからなる群から選択される構造を有するゼオライトである。特定の一実施形態では、分子篩は、CHA結晶構造及び約1から約1000のシリカ対アルミナ比(SAR)を有するアルミノシリケートゼオライトである。卑金属は通常分子篩中に、卑金属含有分子篩の総質量に対して、約0.1から約10wt.%存在する。
2つのSCR触媒組成物は、壁流基体上の別個の層に存在することができる。例えば、第一のSCR触媒を含む第一のSCR塗工層、及び卑金属含有分子篩を含む第二のSCR塗工層を区分け塗布(zone coated)することができ、第一のSCR塗工層は前部上流端に近接し、第二のSCR塗工層は、後部下流端に近接している。
酸化触媒組成物がその上に設けられた基体及びモノリス状の壁流フィルター部材はそれぞれ、例えば、コージェライト、アルミニウムチタネート、シリコンカーバイド、シリコンチタネート、複合材料、金属又は金属発泡体から独立して選択される材料を含むことができる。
モノリス状の壁流フィルター部材は、約50%から約85%の範囲の多孔度、及び/又は平均孔径が約5ミクロンから約100ミクロンの細孔を有するなどの、様々な多孔度特性を有することができる。
例示的な酸化触媒組成物は、耐火金属酸化物基材上に分散した白金族金属(PGM)成分を含み、例えば基体の容量に対して、約5g/ftから約250g/ftの範囲のPGM成分を含む酸化触媒組成物などを含む。
所定の実施形態では、システムは、排ガス調整システム中に、基体上に設けられた酸化触媒組成物及びモノリス状の壁流フィルター部材のみからなり、更なる排ガス処理ユニットを含まない。
別の態様では、本発明は、排ガス流(例えば、エンジンによって生成される排ガス)を処理する方法を提供し、この方法は、排ガス流と流体連通している基体上に設けられた酸化触媒組成物と、酸化触媒の下流にあり、軸方向長さを画定する前部上流端と後部下流端とを含むモノリス状の壁流フィルター部材(このモノリス状の壁流フィルター部材はその上に設けられた選択触媒還元(SCR)塗工組成物を有し、そのSCR塗工組成物は第一のSCR触媒及び第二のSCR触媒を含み、その第二のSCR触媒は卑金属含有分子篩を含む)とを含む、排ガス調整システムに排ガス流を受け入れることを含む。この方法は、再稼動期間中などに、酸化触媒組成物の上流への断続的な水素の導入を更に含むことができる。
本開示は、以下の実施形態を含むがこれらに限定されない:
実施形態1:排ガス流処理用の排ガス調整システムであって、排ガス流と流体連結するように基体上に設けられた酸化触媒組成物と、酸化触媒組成物の下流の基体上に設けられた少なくとも1種の選択触媒還元(SCR)組成物と、酸化触媒組成物の上流又は酸化触媒組成物の下流であり、少なくとも1種のSCR組成物の上流で、排ガス流に水素を導入するための水素噴射部と、を含む、排ガス調整システム。
実施形態2:少なくとも1種のSCR組成物を支持する基体が、フロースルーモノリス、又はモノリス状の壁流フィルターである、先行する実施形態の排ガス調整システム。
実施形態3:少なくとも1種のSCR組成物が、卑金属含有分子篩、耐火金属酸化物基材上に分散した白金族金属成分及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態4:少なくとも1種のSCR組成物が、耐火金属酸化物基材上に分散した白金族金属成分を含有する第一のSCR触媒と、卑金属含有分子篩を含有する第二のSCR触媒と、を含む、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態5:第一のSCR触媒がロジウムを含む、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態6:卑金属が銅及び/又は鉄を含む、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態7:分子篩が8環小細孔の分子篩である、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態8:分子篩が、AEI、AFT、AFX、CHA、EAB、ERI、KFI、LEV、SAS、SAT及びSAVからなる群から選択される構造を有するゼオライトである、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態9:分子篩が、CHA結晶構造を有するアルミノシリケートゼオライトであり、シリカ/アルミナ比が約1から約1000である、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態10:分子篩中に存在する卑金属が、卑金属含有分子篩の総質量に対して、約0.1wt.%から約10wt.%である、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態11:第二のSCR触媒が、SCR触媒組成物を支持する基体の容量に対して、約5g/ftから約250g/ftの白金族金属成分を含む、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態12:第一のSCR触媒が更にアンモニア吸着剤成分を含む、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態13:アンモニア吸着剤成分が、クリノプチロライト、モルデナイト、及びベータゼオライトからなる群から選択されるゼオライトである、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態14:システムが、基体上に設けられた酸化触媒組成物及び基体上に設けられた少なくとも1種の選択触媒還元(SCR)組成物のみからなり、排ガス調整システム中に、更なる排ガス処理ユニットを含まない、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態15:酸化触媒組成物が、耐火金属酸化物基材上に分散した白金族金属成分を含む、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態16:酸化触媒組成物が、基体の容量に対して、約5g/ftから約250g/ftの範囲の白金族金属成分を含む、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態17:貯蔵された水素が断続的に導入されるようにシステムが構成されている、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態18:貯蔵された水素が再稼動期間に導入されるようにシステムが構成されている、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態19:更に水素貯蔵部を含む、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態20:少なくとも1種のSCR触媒組成物を支持する基体が、軸方向長さを画定する前部上流端と後部下流端とを含むモノリス状の壁流フィルター部材であり、少なくとも1種のSCR触媒組成物が、耐火金属酸化物基材上に分散した白金族金属成分を含む第一のSCR触媒と、及び卑金属含有分子篩を含む第二のSCR触媒とを含む、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態21:少なくとも1種のSCR触媒組成物が、第一のSCR触媒を含む第一のSCR塗工層と、第二のSCR触媒を含む第二のSCR塗工層とを含む、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態22:第一のSCR塗工層と第二のSCR塗工層とが、区分け塗布され、第一のSCR塗工層が前部上流端に近接し、第二のSCR塗工層が後部下流端に近接している、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態23:モノリス状の壁流フィルター部材が、約50%から約85%の範囲の多孔度を有する、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態24:モノリス状の壁流フィルター部材が、平均孔径が約5ミクロンから約100ミクロンの細孔を有する、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態25:少なくとも1種の選択触媒還元(SCR)組成物の上流に、これと流体連通した噴出器を更に含み、且つ少なくとも1種の選択触媒還元(SCR)組成物の上流でアンモニア又はアンモニア前駆体を導入するように構成されている、先行する実施形態のいずれかの排ガス調整システム。
実施形態26:排ガス流を処理する方法であって、排ガス流を、その排ガス流と流体連通するように基体上に設けられた酸化触媒組成物を含む酸化触媒部に受け入れて、第一の流出流を得、その第一の流出流を、酸化触媒部から、下流の基体上に設けられた少なくとも1種のSCR組成物を含む選択触媒還元(SCR)部に受け入れ、更に酸化触媒部の上流又は酸化触媒部の下流であって、SCR部の上流で、水素を断続的に導入する、排ガス流の処理方法。
実施形態27:前述の水素の断続的な導入が再稼動期間の水素の噴出を含む、先行する実施形態のいずれかの方法。
実施形態28:少なくとも1種のSCR組成物を支持する基体が、フロースルーモノリス又はモノリス状の壁流フィルターである、先行する実施形態のいずれかの方法。
実施形態29:少なくとも1種のSCR組成物は、卑金属含有分子篩、耐火金属酸化物基材上に分散した白金族金属成分、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、先行する実施形態のいずれかの方法。
本開示におけるこれら及び他の特徴、態様、及び優位性は、以下の詳細な記述を、以下に簡単に記述する添付図面と併せて読むことから明らかとなる。本開示は、上記の実施形態の2、3、4又はより多い任意の組み合わせ、及び本開示に説明する2、3、4又はより多い特徴又は要素の任意の組み合わせを含み、そのような特徴又は要素が本開示の具体的な実施形態の記述で明示的に組み合わされているか否かを問わない。本開示は、開示する発明の任意の区別可能な特徴又は要素を、その様々な態様及び実施形態のいずれにおいても、文脈が明らかに別段の意味を示す場合を除き、組み合わせ可能であることを意図していると見なされるように、全体論的に読まれることを意図している。
本発明の実施形態に関する理解を提供するため、添付図面が参照されるが、これらは必ずしも等尺で描かれておらず、またこれらの図面において参照番号は本発明の例示的実施形態の構成要素を指す。これらの図面は単に模範例であり、本発明を限定するものと解釈してはならない。
図1aは、壁流フィルター基体の斜視図を示す。図1bは、壁流フィルター基体の断面の断面図を示す。 図2a、2b、及び2cは、いくつかの様々な塗工構成を示す。 図3は、内燃機関の下流にあってこれと流体連通している排気処理システムを示す。 図4は、内燃機関の下流にあってこれと流体連通している排気処理システムを示す。 図5は、車両及びシミュレーター間のエンジン出力温度トレースの比較を示す。 図6は、車両トレース及びシミュレーター間のエンジン出力CO排出量の比較を示す。
これより本発明を以下により完全に説明する。しかし、本発明は、多くの様々な形態で具体化することができ、本明細書に記載の実施形態に限定して解釈されるべきではなく、むしろ、それらの実施形態は、本開示を徹底的ならびに完全なものとするよう提供され、本発明の範囲を当業者に完全に伝えるものである。本明細書及び特許請求の範囲で使用する場合、単数形「1つの(a)」、「1つの(an)」、及び「その(the)」は、文脈が明瞭に指示しない限り、複数の指示対象を含む。
本発明の部材、システム、及び方法は、トラック及び自動車などの移動排出源からの排ガス流の処理に適している。部材、システム、及び方法は、発電所などの固定源からの排気流の処理にも適している。
本発明の排ガス処理方法では、排ガス流は、上流端に入り、下流端から出ることによって、部材又は処理システムを通過する。基体の入口端は、「上流」端又は「前部」端と同義である。出口端は「下流」端又は「後部」端と同義である。基体は長さと容量を有する。
「車両」という用語は、例えば、内燃機関を有する任意の車両を意味し、例えば、乗用車、スポーツ用多目的車、ミニバン、バン、トラック、バス、ごみ運搬車、貨物トラック、建設車両、重機、軍用車両、農業用車両が含まれる。
一般に、「効果がある」という用語は、例えば、規定の触媒活性又は貯蔵/放出活性に関して、質量又はモルで約35%から100%効果がある、例えば約40%効果がある、約45%効果がある、約50%効果がある又は約55%効果がある、から約60%効果がある、約65%効果がある、約70%効果がある、約75%効果がある、約80%効果がある、約85%効果がある、約90%効果がある又は約95%効果があることを意味する。
本明細書で使用する「排気流」又は「排ガス流」という用語は、固体又は液体の微粒子物質を含有し得る流動気体の任意の組合せを指す。流れはガス状成分を含み、例えば、液体小滴、固体微粒子等の所定の非ガス状成分を含有し得る、希薄燃焼エンジンの排気である。希薄燃焼エンジンの排気流は通常、燃焼生成物、不完全燃焼の生成物、窒素の酸化物、可燃性の及び/又は炭素質の微粒子物質(煤煙)、及び未反応の酸素及び窒素を更に含む。
「基体」という用語は、触媒組成物、通常は触媒塗工がその上に設けられるモノリス状材料を指す。基体は通常、フロースルーモノリス又はモノリス状の壁流フィルターである。
「触媒」という用語は、化学反応を促進する材料を指す。触媒には、「触媒活性種」、及び活性種を持つ又は支持する「キャリア」が含まれる。例えば、ゼオライトを含む分子篩は、銅活性触媒種のキャリア/基材である。同様に、耐火金属酸化物粒子は、白金族金属触媒種のキャリアであり得る。
「吸着剤」という用語は、所望の物質、本発明ではNO及び/又はCO及び/又はHC及び/又はNHを吸着及び/又は吸収する材料を指す。吸着剤は、有利には、所定の温度で物質を吸着及び/又は吸収(貯蔵)し、より高い温度で物質を脱着(放出)し得る。
本発明における「機能性部材」という用語は、その上に設けられた機能性塗工組成物、特に触媒及び/又は吸着剤塗工組成物を有する基体を含む部材を意味する。
触媒活性種はまた、化学反応を促進するので「促進剤」とも定義される。例えば、本発明の銅含有分子篩は、銅促進分子篩とも定義され得る。「促進分子篩」とは、触媒活性種が意図的に添加される分子篩を指す。
「白金族金属成分」とは、白金族金属又はその酸化物の1つを指す。「希土類金属成分」とは、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジムを含む、元素周期表で規定されるランタン系列の1つ以上の酸化物を指す。
本明細書に記載されるいずれの範囲も、包括的である。全体を通して使用される用語「約」とは、小規模な変動を記載及び説明するために使用される。例えば、「約」とは、±5%、±4%、±3%、±2%、±1%、±0.5%、±0.4%、±0.3%、±0.2%、±0.1%又は±0.05%だけ修飾し得る数値を意味し得る。あらゆる数値が用語「約」によって、明示的に示されているか否かに関わらず、修飾される。用語「約」によって修飾されている数値は、特定の指示された値を含む。例えば、「約5.0」は5.0を含む。
特に明記しない限り、すべての部及びパーセンテージは質量による。質量パーセント(wt.%)は、特に明記しない限り、任意の揮発性物質を含まない組成物全体、つまり乾燥固形分に基づく。
本明細書で言及されるすべての米国特許出願、公開された特許出願及び特許は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本発明は、排ガス処理システム、及びエンジンなどの排ガス源の下流にあって排ガス流と流体連通している酸化触媒と、酸化触媒の下流の選択触媒還元(SCR)触媒との両方を含む、関連する排ガス処理の方法を提供する。排ガス処理システムは、有利には、更なる排ガス調整ユニット(すなわち、機能性部材又はユニット)を含まず、よって、多くの従来の排ガス調整システムと比較して、複雑さ、コスト、及びサイズが低減される。所定の有利な実施形態では、排ガス調整システムの性能は、本明細書でより十分に説明するように、酸化触媒の上流又は酸化触媒の下流でありSCR触媒の上流で水素を注入することにより、改善される。
SCR触媒(通常、フロースルーモノリス又は壁流フィルターに塗工されたSCR触媒の形態)及び酸化触媒(通常、フロースルーモノリスに塗工された酸化触媒の形態)は、それぞれ機能性部材であり、共に排ガス処理システムを含む。処理システムは一般に、内燃機関又は他の排ガス源の下流にあってこれらと流体連通している。SCR触媒は、酸化触媒の下流にあってこれと流体連通している。本発明での使用に適した処理システム303は、図3に示すものであり、内燃機関300の下流にあってこれと流体連通する酸化触媒ユニット301、及びSCR触媒ユニット302を含む。酸化触媒ユニット301及びSCR触媒ユニット302は標示されている。有利なことに、上記のように、本発明の処理システムは、2つの機能性部材のみを含有する。つまり、SCR触媒(任意に2つのSCR触媒組成物を含む)及び酸化触媒である。
酸化触媒ユニット及びSCR触媒ユニットのそれぞれは、機能性塗工組成物がその上に設けられた基体を含有する機能性部材の例である。機能性塗工組成物は、吸着剤及び/又は触媒組成物を含有する。一般に、基体は、ハニカム構造を有するセラミック又は金属である。
セラミック基体は、任意の適した耐火材料、例えばコージエライト、コージエライト-α-アルミナ、アルミニウムチタネート、シリコンチタネート、シリコンカーバイド、シリコンニトライド、ジルコンムライト、リシア輝石、アルミナ-シリカ-マグネシア、ジルコンシリケート、シリマナイト、マグネシウムシリケート、ジルコン、ペタライト、α-アルミナ、アルミノシリケート等で作製されてよい。
本発明の基体は1つ以上の金属又は金属合金を含む金属であってもよい。金属基体は様々な形状で、例えばペレット、波形シート又はモノリス状発泡体などの形状で用いてよい。金属基体の具体的な例には、耐熱性の卑金属合金、特に鉄が実質的な又は主要な成分であるものが含まれる。そのような合金は、ニッケル、クロム及びアルミニウムの1つ以上を含有し得、これら金属の合計は、有利には、少なくとも約15wt.%(質量パーセント)の合金、例えば、約10から25wt.%のクロム、約1から約8wt.%のアルミニウム、及び0から約20wt.%のニッケルを含み得る。
金属基体の例には、まっすぐなチャネルを有するもの、ガス流を中断し、チャネル間のガス流を開放連通する軸方向のチャネルに沿った突出するブレードを有するもの、及びチャネル間のガス輸送を高めて放射状のガスをモノリス全体に輸送するためのブレード及び穴を有するものが含まれる。
本発明の基体は、円柱に類似した長さ、直径、及び容量を有する三次元である。形状は、必ずしも円柱に一致する必要はない。長さは、入口端及び出口端で規定される軸方向の長さである。直径は、最大の断面長さであり、例えば、形状が円柱に正確には一致していない場合、最大の断面である。
本明細書に記載の触媒及び/又は吸着剤組成物は、1つ以上の基材又は「キャリア」、例えば機能的な活性種を更に含む耐火無機固体酸化物多孔質粉末などを含み得る。触媒組成物は、通常、その上に触媒活性種を有する基材を含有するウォッシュコートの形態で施与され得る。吸着剤組成物は、通常、収着活性種を含有するウォッシュコートの形態で施与され得る。触媒及び吸着剤成分を組み合わせて、単一のウォッシュコートにしてもよい。ウォッシュコートは、基材の特定の固形分(例えば、約10から約60質量%)を液体溶媒中に含有するスラリーを調製することにより形成され、これは次いで基体に施与され、乾燥及び焼成されて、塗工層をもたらす。複数の塗工層が施与される場合、各層が施与された後、及び/又は所望の複数の層が施与された後に、基体が乾燥及び焼成される。
触媒及び/又は吸着剤組成物は、結合剤、例えば、ジルコニルアセテートのような適した前駆体、又はジルコニルニトレートのような任意の他の適したジルコニウム前駆体から誘導されるZrO結合剤を使用して調製し得る。ジルコニルアセテート結合剤は、熱老化後、例えば、触媒が少なくとも約600℃の高温、例えば約800℃以上及び約5%以上の高水蒸気環境にさらされた場合でも、均質且つ無傷のままの塗工を提供する。他の潜在的に適した結合剤には、アルミナ及びシリカが含まれるが、これらに限定されない。アルミナ結合剤には、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、及びオキシ水酸化アルミニウムが含まれる。アルミニウム塩及びアルミナのコロイド状の形態も使用され得る。シリカ結合剤には、シリケートやコロイド状のシリカを含む様々な形態のSiOが含まれる。結合剤組成物は、ジルコニア、アルミナ、及びシリカの任意の組み合わせを含み得る。
図4は、内燃機関300の下流にあってこれと流体連通する、特に有利な排気処理システムの実施形態303を示す。処理システム303は、酸化触媒ユニット(例えば、フロースルーハニカムモノリス上の酸化触媒組成物)301、及び任意に2つの触媒組成物を含むフロースルーモノリス又は壁流フィルターモノリス上のSCR触媒ユニット302を含む。本実施形態303の処理システムは、任意にバルブ400及び混合ボックス401を更に含む。尿素水(又はアンモニア又は他のアンモニア前駆体などの他の適切な還元剤)は、混合ボックス401で空気と混合され、それぞれライン402及び403を介して混合ボックスに導かれる。バルブ400は、正確な量の尿素水を排気流に計量するのに適している。尿素はアンモニアに転化され、SCR触媒ユニット302で還元剤として役立つ。図示されていない他の部材には、貯蔵器、ポンプ、スプレーノズル等が含まれる。
上記のように、本発明の処理システムは、上記の尿素噴射システムの全部又は一部を使用するなどして、SCR触媒ユニット302の上流でアンモニアを導入するのに適した部材を含有し得る。尿素又はアンモニア注入部材は、処理システムと流体連通し、貯蔵器、ポンプ、スプレーノズル、バルブ、混合ボックス等を含み得る。
排ガス処理システムは、図4に示すように、酸化触媒ユニットの上流、あるいは酸化触媒ユニットの下流及びSCR触媒の上流(図示せず)に水素を導入するように構成された水素噴射部404を含み得る。例えば、水素噴射部は、貯蔵された水素を断続的に導入するように構成されることができる。システムは、例えば、再稼動期間中に貯蔵された水素を導入するように構成されてもよい。水素は、水素貯蔵部(例えば、図4の水素貯蔵部406)に搭載されてもよく、又は水分解(water-splitting)又はアンモニア分解から生成され搭載されてもよい。いくつかの実施形態では、水素噴射部は逆止弁を含む。
水素は例えば、ガス貯蔵タンク又は貯蔵器に貯蔵され得る。水素は、例えば、シリコン又は水素貯蔵合金などの固体状態で貯蔵され得る。固体状態水素の貯蔵は、例えば、米国付与前公開第2004/0241507号、第2008/0003470号、第2008/0274873号、第2010/0024542号、及び第2011/0236790号に教示されており、これらは参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。水素貯蔵合金は水素を可逆的に貯蔵し、例えば米国特許第5,407,761号及び第6,193,929号、及び米国付与前公開第2016/0230255号に開示されており、これらは参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。水素貯蔵合金は、例えば、一般に、Aが水素化物形成元素であり、Bが弱い又は非水素化物形成元素である、修飾されたAB型金属水素化物(MH)合金である。Aは一般に、4以下の価電子を持つより大きな金属原子であり、Bは一般に、5以上の価電子を持つより小さな金属原子である。適したAB合金には、xが約0.5から約5であるものが含まれる。本発明の合金は、水素を可逆的に吸収(充電)及び脱着(放電)することができる。AB型の合金は、例えば(簡単な例で)AB(HfNi、TiFe、TiNi)、AB(ZrMn、TiFe)、AB(HfFe、MgNi)、AB(NdCo、GdFe)、A(PrNi、CeCo)及びAB(LaNi、CeNi)の種類のものである。
水素は、有利には、内燃機関の排ガス流中に注入され得、そこで所定の触媒プロセス及び/又は触媒再生プロセスで還元剤として適切に機能する。触媒プロセスには、CO及び/又はHC及び/又はNO汚染物質の酸化が含まれる。具体的な運転理論に束縛されるものではないが、水素の(例えば、排ガス処理システムの上流への)注入は、処理システムの性能を強化し、特にNO及び/又はCO及び/又はHC排出に関して政府の排出規制を満たすために必要な構成要素が少なくなると考えられる。
本発明の別の主題は、NO及び/又はCO及び/又はHC及び/又は煤を含有する排ガス流を処理する方法であり、排気流を本発明の排ガス処理システムに受け入れることを含む。この方法では、排ガス流は、上流端から部材又はシステムに受け入れられ、下流端を出る。水素注入を使用して好ましい実施形態の性能を強化することにより、本明細書で提案する2成分システム(すなわち、上流の酸化触媒ユニット及び下流のSCR触媒ユニット)は、多くの従来のシステムに関連する複雑さ、サイズ、及びコストなしで、十分な排ガス調整性能を提供できる。特に、再稼動期間中の水素注入は、排ガス処理システム全体の性能を強化すると考えられる。
水素注入の調整方法は様々であることが可能である。所定の実施形態において、搭載コントローラは、最初の200秒又は最初の300秒などのエンジン始動時の規定された期間(すなわち、再稼動期間)に水素を単に注入してもよい。あるいは、コントローラは水素注入のタイミングを決定するために使用される処理システムから所定のデータを受け取る。例えば、調整システムの一実施形態は、酸化触媒ユニットの入口及び出口温度データを受け取り、温度データに基づいて水素注入を調整することができる。一実施形態では、酸化触媒ユニットの入口温度が約75℃未満、例えば約50℃から約70℃のときに水素注入が起こり、酸化触媒ユニットの出口温度が約100℃、例えば約100℃から約120℃を超えると水素注入が停止する。
本発明の利点には、従来のシステムよりも少ない構成要素及びより低いコスト、統合されたシステムのためのより低いスペース要件、及び良好な背圧性能が含まれる。
圧力降下は、例えば、SUPERFLOW SF 1020 PROBENCHなどの市販の機器を使用して、空気流の関数としての圧力を測定することによって測定される。圧力降下は、例えば、毎分100立方フィート(cfm)から375cfmの任意の点、例えば125、150、175、200、225、250、275、300、325又は350cfmの空気流で測定し得る。圧力降下は、標準の室温、およそ25℃で測定し得る。
酸化触媒組成物
酸化触媒組成物は、排ガスのNO及び/又はCO及び/又はHC成分を、例えば<250℃の比較的低い温度で酸化するのに適している。適した酸化触媒は、有利には、耐火金属酸化物基材上に分散した白金族金属(PGM)を含む。
触媒活性PGMがその上に堆積される基材材料は、例えばガソリン又はディーゼルエンジン排気に関連する温度などの高温で、化学的及び物理的安定性を示す耐火金属酸化物を含む。例示的な金属酸化物には、アルミナ、シリカ、ジルコニア、チタニア、セリア、プラセオジミア、酸化スズ等、及びそれらの物理的混合物又は化学的組み合わせが含まれ、これには、原子的にドープされた組み合わせが含まれ、活性アルミナなどの高表面積化合物又は活性化合物が含まれる。
シリカ-アルミナ、セリア-ジルコニア、プラセオジミア-セリア、アルミナ-ジルコニア、アルミナ-セリア-ジルコニア、ランタナ-アルミナ、ランタナ-ジルコニア-アルミナ、バリア-アルミナ、バリア-ランタナ-アルミナ、バリア-ランタナ-ネオジミア-アルミナ及びアルミナ-セリアなどの金属酸化物の組み合わせが含まれる。例示的なアルミナには、大細孔ベーマイト、ガンマ-アルミナ、及びデルタ/シータアルミナが含まれる。例示的な方法で出発材料として使用される有用な市販のアルミナには、活性アルミナ、例えば高嵩密度のガンマ-アルミナ、低嵩密度又は中嵩密度の大細孔ガンマ-アルミナ、及び低嵩密度の大細孔ベーマイト及びガンマ-アルミナなどが含まれる。
「ガンマアルミナ」又は「活性アルミナ」とも呼ばれるアルミナ基材材料などの高表面積の金属酸化物基材は、通常、60m/gを超える、多くの場合、最大約200m/gの又はこれより高いBET表面積を呈する。例示的な耐火金属酸化物は、約50から約300m/gの比表面積を有する高表面積のγ-アルミナを含む。このような活性アルミナは通常は、アルミナのガンマ相及びデルタ相の混合物であるが、実質量のイータ、カッパ及びシータのアルミナ相も含有し得る。「BET表面積」は、N吸着によって表面積を決定するブルナウアー-エメット-テラー法を指すその通常の意味を有する。望ましくは、活性アルミナは、約60から約350m/g、例えば約90から約250m/gの比表面積を有する。
所定の実施形態では、本明細書に開示の触媒組成物において有用な金属酸化物基材は、ドープされたアルミナ材料、例えば、Si-ドープのアルミナ材料(限定するものではないが1~10%のSiO-Alを含む)、ドープされたチタニア材料、例えば、Si-ドープのチタニア材料(限定するものではないが1~10%のSiO-TiOを含む)、又は、ドープされたジルコニア材料、例えば、Si-ドープのZrO(限定するものではないが5~30%のSiO-ZrOを含む)である。
有利には、耐火金属酸化物は、ランタンオキシド、バリウムオキシド、ストロンチウムオキシド、カルシウムオキシド、マグネシウムオキシド、又はそれらの組み合わせなどの1つ以上の更なる塩基性金属酸化物材料でドープされてもよい。金属酸化物ドーパントは通常、触媒組成物の質量に対して、約1から約20質量%の量で存在する。ドーパント酸化物材料は、耐火金属酸化物基材の高温安定性又はNO、SO又はSOなどの酸性ガスのための吸着剤としての機能を改善するのに役立ち得る。
ドーパント金属酸化物は、初期湿潤含浸技術を使用して、又はコロイド状の混合酸化物粒子の添加によって導入することができる。ドープされた金属酸化物には、バリア-アルミナ、バリア-ジルコニア、バリア-チタニア、バリア-ジルコニア-アルミナ、ランタナ-ジルコニア等が含まれる。
よって、触媒組成物中の耐火金属酸化物又は耐火混合金属酸化物は通常は、アルミナ、ジルコニア、シリカ、チタニア、セリア、例えばバルクセリア、酸化マンガン、ジルコニア-アルミナ、セリア-ジルコニア、セリア-アルミナ、ランタナ-アルミナ、バリア-アルミナ、シリカ、シリカ-アルミナ、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される。卑金属酸化物で更にドープすることにより、バリア-アルミナ、バリア-ジルコニア、バリア-チタニア、バリア-ジルコニア-アルミナ、ランタナ-ジルコニア等を含む(しかしこれらに限定されない)有用な耐火酸化物基材が更に提供される。
酸化触媒組成物は、上記で称した任意の耐火金属酸化物を任意の量で含み得る。例えば、触媒組成物中の耐火金属酸化物は、少なくとも約15、少なくとも約20、少なくとも約25、少なくとも約30又は少なくとも約35wt.%(質量パーセント)のアルミナを含み得、ここでwt.%は、触媒組成物の総乾燥質量に基づく。触媒組成物は、例えば、約10から約99wt.%のアルミナを、約15から約95wt.%のアルミナを、又は約20から約85wt.%のアルミナを、含み得る。
酸化触媒組成物は、例えば、触媒組成物の質量に対して、約15wt.%、約20wt.%、約25wt.%、約30wt.%又は約35wt.%から約50wt.%、約55wt.%、約60wt.%、約65wt.%、又は約70wt.%のアルミナを含む。
有利には、酸化触媒組成物は、セリア、アルミナ及びジルコニア又はそれらのドープされた組成物を含み得る。
基体上に塗工された酸化触媒組成物は、乾燥組成物の質量に対して、約0.1wt.%(質量パーセント)、約0.5wt.%、約1.0wt.%、約1.5wt.%又は約2.0wt.%から約3wt.%、約5wt.%、約7wt.%、約9wt.%、約10wt.%、約12wt.%、約15wt.%、約16wt.%、約17wt.%、約18wt.%、約19wt.%又は約20wt.%の、PGM成分を含み得る。
酸化触媒組成物のPGM成分は、例えば、基体の容量に対して、約5g/ft、約10g/ft、約15g/ft、約20g/ft、約40g/ft又は約50g/ftから約70g/ft、約90g/ft、約100g/ft、約120g/ft、約130g/ft、約140g/ft、約150g/ft、約160g/ft、約170g/ft、約180g/ft、約190g/ft、約200g/ft、約210g/ft、約220g/ft、約230g/ft、約240g/ft又は約250g/ft存在する。
酸化触媒組成物は、耐火金属酸化物基材及び触媒活性金属に加えて、ランタン、バリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ストロンチウム、カルシウム、マグネシウム、ニオブ、ハフニウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、エルビウム、イッテルビウム、マンガン、鉄、クロム、スズ、亜鉛、ニッケル、コバルト、又は銅の酸化物の任意の1つ又は組み合わせを更に含み得る。
任意に、酸化触媒ユニットは、別個の組成物層として、又は酸化触媒組成物との均質な混合物の一部として、所定の条件下でアンモニアを吸着及び/又は吸収し、貯蔵されたアンモニアを放出するのに効果があるアンモニア吸着剤組成物を、更に含むことができる。放出されたアンモニアは、下流のSCR反応で用いられ得る。例えば、貯蔵されたアンモニアは、エンジンの加速中に放出され得る。
アンモニア吸着剤は、本明細書に記載の任意の分子篩などの分子篩を含み得る。有利には、アンモニア吸着剤は、小細孔、中間細孔の分子篩を含む。
任意に、酸化触媒ユニットは、別個の組成物層として、又は酸化触媒組成物との均質な混合物の一部として、排ガスのNO及び/又はCO及び/又はHC成分を吸着及び/又は吸収するのに適した第二の吸着剤組成物を、更に含むことができる。第二の吸着剤組成物は、有利にはアンモニア吸着剤組成物とは異なる。適した吸着剤には、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ土類金属炭酸塩、希土類酸化物及び分子篩などの材料が含まれるが、これらに限定されない。Mg、Ca、Sr又はBaの酸化物又は炭酸塩、及び/又はCe、La、Pr又はNdの酸化物が含まれる。吸着剤分子篩には、ゼオライトが含まれる。
有利には、第二の吸着剤は分子篩を含む。本発明の分子篩には、小細孔、中間細孔及び大細孔の分子篩又はそれらの組み合わせが含まれる。小細孔分子篩は、最大8個の四面体原子によって画定されるチャネルを含有する。中間細孔分子篩は、10員環によって規定されるチャネルを含有する。大細孔分子篩は、12員環によって規定されるチャネルを含有する。一部の実施形態では、これらの分子篩は、ベータゼオライト又はクリノプチロライトなどの大細孔分子篩のH形態から選択される。また、FeBeta及びCuCHAを含む卑金属含有分子篩も適している。他の大細孔分子篩は上に列記のもの、及びZSM-12、SAPO-37等である。
小細孔分子篩は、アルミノシリケート分子篩、金属含有アルミノシリケート分子篩、アルミノホスフェート(AlPO)分子篩、金属含有アルミノホスフェート(MeAlPO)分子篩、シリコアルミノホスフェート(SAPO)分子篩、及び金属含有シリコアルミノホスフェート(MeSAPO)分子篩及びそれらの混合物からなる群から選択される。例えば、小細孔分子篩は、骨格型、ACO、AEI、AEN、AFN、AFT、AFX、ANA、APC、APD、ATT、CDO、CHA、DDR、DFT、EAB、EDI、EPI、ERI、GIS、GOO、IHW、ITE、ITW、LEV、KFI、MER、MON、NSI、OWE、PAU、PHI、RHO、RTH、SAT、SAV、SIV、THO、TSC、UEI、UFI、VNI、YUG、ZON、及びそれらの混合物又は連晶からなる群から選択される。例えば、小細孔分子篩は、骨格型、CHA、LEV、AEI、AFX、ERI、SFW、KFI、DDR及びITEの群から選択される。
中間細孔分子篩は、骨格型、AEL、AFO、AHT、BOF、BOZ、CGF、CGS、CHI、DAC、EUO、FER、HEU、IMF、ITH、ITR、JRY、JSR、JST、LAU、LOV、MEL、MFI、MFS、MRE、MTT、MVY、MWW、NAB、NAT、NES、OBW、PAR、PCR、PON、PUN、RRO、RSN、SFF、SFG、STF、STI、STT、STW、SVR、SZR、TER、TON、TUN、UOS、VSV、WEI、WEN及びそれらの混合物又は連晶からなる群から選択される。例えば、中間細孔分子篩は、骨格型、FER、MEL、MFI及びSTTからなる群から選択される。
大細孔分子篩は、骨格型、AFI、AFR、AFS、AFY、ASV、ATO、ATS、BEA、BEC、BOG、BPH、BSV、CAN、CON、CZP、DFO、EMT、EON、EZT、FAU、GME、GON、IFR、ISV、ITG、IWR、IWS、IWV、IWW、JSR、LTF、LTL、MAZ、MEI、MOR、MOZ、MSE、MTW、NPO、OFF、OKO、OSI、RON、RWY、SAF、SAO、SBE、SBS、SBT、SEW、SFE、SFO、SFS、SFV、SOF、SOS、STO、SSF、SSY、USI、UWY、VET及びそれらの混合物又は連晶からなる群から選択される。例えば、大細孔分子篩は、骨格型、AFI、BEA、MAZ、MOR及びOFFからなる群から選択される。
例えば、分子篩は、AEI、BEA(ベータゼオライト)、CHA(チャバザイト)、FAU(ゼオライトY)、FER(フェリエライト)、MFI(ZSM-5)及びMOR(モルデナイト)からなる群から選択される骨格型を含み得る。これらの構造を有するゼオライトの非限定的な例としては、チャバザイト、フォージャサイト、ゼオライトY、超安定ゼオライトY、ベータゼオライト、モルデナイト、シリカライト、ゼオライトX、及びZSM-5が挙げられる。
有用な分子篩は、8環の開孔及び二重-6環の二次構築ユニットを有し、例えば、これらは、構造型AEI、AFT、AFX、CHA、EAB、ERI、KFI、LEV、SAS、SAT又はSAVを有する。同じ構造型を有するSAPO、AlPO及びMeAlPO材料などの任意の及びあらゆる同位体骨格材料が含まれる。
8環小細孔の分子篩には、アルミノシリケート、ボロシリケート、ガロシリケート、MeAPSO及びMeAlPOが含まれる。これらには、例えば、SSZ-13、SSZ-62、天然チャバザイト、ゼオライトK-G、リンデD、リンデR、LZ-218、LZ-235、LZ-236、ZK-14、SAPO-34、SAPO-44、SAPO-47、ZYT-6、CuSAPO-34、CuSAPO-44及びCuSAPO-47が含まれる。一部の実施形態では、8環小細孔の分子篩は、SSZ-13及びSSZ-62などのアルミノシリケート組成物を有するであろう。
1つ以上の実施形態では、8環小細孔の分子篩は、CHA結晶構造を有し、CHA結晶構造を有するアルミノシリケートゼオライト、SAPO、AlPO、及びMeAlPOからなる群から選択される。例えば、CHA結晶構造を有する8環小細孔の分子篩は、CHA結晶構造を有するアルミノシリケートゼオライトである。一実施形態では、CHA結晶構造を有する8環小細孔の分子篩は、SSZ-13又はSSZ-62などのアルミノシリケート組成物を有するであろう。
分子篩は、ゼオライト系(ゼオライト)とすることができ、又は非ゼオライト系であってもよい。ゼオライト系分子篩及び非ゼオライト系分子篩の両方とも、国際ゼオライト学会(International Zeolite Association)によってCHA構造とも呼ばれるチャバザイト結晶構造を有することができる。ゼオライト系チャバザイトは、近似公式(Ca、Na、K、Mg)AlSi12O(すなわち、水和ケイ酸カルシウムアルミニウム)を有するゼオライト群の天然に存在するテクトケイ酸塩鉱物を含む。ゼオライト系チャバザイトの3種の合成形態は、参照により本明細書に組み込まれる、1973年にJohn Wiley&Sonsによって公開されたD.W.Breckによる「Zeolite Molecular Sieves」に記載されている。Breckによって報告された3種の合成形態は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、J.Chem.Soc.、2822頁(1956年)、Barrerらに記載されているZeolite K-G;英国特許第868,846号(1961年)に記載されているZeolite D;及び米国特許第3,030,181号に記載されているZeolite Rである。ゼオライト系チャバザイト、SSZ-13の別の合成形態の合成は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、米国特許第4,544,538号に記載されている。チャバザイト結晶構造を有する非ゼオライト系分子篩、シリコアルミノホスフェート34(SAPO-34)の合成形態の合成は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、米国特許第4,440,871号及び米国特許第7,264,789号に記載されている。チャバザイト構造を有する更に別の合成非ゼオライト系分子篩、SAPO-44を作製する方法は、例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、米国特許第6,162,415号に記載されている。
合成8環小細孔の分子篩(例えばCHA構造を有する)は、アルカリ性水性条件下でシリカ源、アルミナ源及び構造指向剤を混合することによって調製することができる。通常のシリカ源には、様々な種類のヒュームドシリカ、沈降シリカ及びコロイド状シリカ、及びシリコンアルコキシドが含まれる。通常のアルミナ源には、ベーマイト、擬ベーマイト、水酸化アルミニウム、亜硫酸アルミニウム又はアルミン酸ナトリウムなどのアルミニウム塩、及びアルミニウムアルコキシドが含まれる。水酸化ナトリウムが反応混合物に通常添加される。この合成向けの通常の構造指向剤はアダマンチルトリメチルアンモニウムヒドロキシドであるが、他のアミン及び/又は四級アンモニウム塩で置き換えてもよく、それらを添加してもよい。反応混合物を圧力容器中で攪拌しながら加熱して結晶性生成物を得る。通常の反応温度は約100℃から約200℃、例えば、約135℃から約170℃の範囲である。通常の反応時間は1時間から30日の間であり、一部の実施形態では、10時間から3日である。反応終了時に、pHを任意に6から10の間、例えば7から7.5の間に調整し、生成物を濾過し、水で洗浄する。任意の酸、例えば硝酸をpH調整に使用することができる。任意に、生成物を遠心分離してもよい。有機添加物を使用して、固体生成物の取扱い及び単離に役立ててもよい。噴霧乾燥は生成物の処理における任意の工程である。固体生成物は空気中又は窒素中で熱処理される。あるいは、各ガス処理を様々な順序で施与する、又はガスの混合物を施与することができる。通常の焼成温度は、約400℃から約850℃である。
CHA構造を有する分子篩は、例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、米国特許第4,544,538号及び第6,709,644号に開示の方法に従って調製し得る。
分子篩は、約1、約2、約5、約8、約10、約15、約20又は約25から、約30、約35、約40、約45、約50、約60、約70、約80、約90、約100、約150、約200、約260、約300、約400、約500、約750又は約1000のシリカ対アルミナ比(SAR)を有し得る。
例えば、本発明の分子篩は、約5から約250、約10から約200、約2から約300、約5から約250、約10から約200、約10から約100、約10から約75、約10から約60、約10から約50、約15から約100、約15から約75、約15から約60、約15から約50、約20から約100、約20から約75、約20から約60又は約20から約50のSARを有し得る。
分子篩は、例えば、多孔質分子篩粒子であり、90%を超える分子篩粒子が1μmを超える粒径を有する。一部の実施形態では、分子篩の粒径は80ミクロン未満のd50を有する。1つ以上の実施形態では、分子篩粒子は、80、70、60、55、50、45、40、35、30、25、20、15、又は10ミクロン未満のd50を有する。一部の実施形態では、分子篩の粒径は、50ミクロン未満のd50を有する。一部の実施形態では、95%を超える分子篩粒子が1μmを超える粒径を有し、より具体的な実施形態では、96%を超える分子篩粒子が1μmを超える粒径を有し、更により具体的な実施形態では、分子篩粒子成分は、1μmを超える粒子約96%及び2μmを超える粒子約85%を含み、非常に具体的な実施形態では、分子篩粒子成分は、平均粒径の5μm以内の粒子約96%を含み、平均粒径は約5μmを超える。1つ以上の実施形態では、分子篩粒子成分は、約1μmから10μmの範囲に粒子96%を含む。吸着に適した分子篩については、例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、米国付与前公開第2016/0136626号及び米国特許第9,321,042号に開示されている。
本発明の分子篩は、高表面積を、例えば、DIN66131に準拠して決定されるBET表面積を、少なくとも約400m/g、少なくとも約550m/g又は少なくとも約650m/g、例えば、約400から約750m/g又は約500から約750m/gで呈し得る。本発明の分子篩は、SEMにより決定して、約10ナノメートルから約10ミクロン、約50ナノメートルから約5ミクロン又は約0.1ミクロンから約0.5ミクロンの平均結晶サイズを有し得る。例えば、分子篩の結晶は、0.1ミクロン又は1ミクロンを超え、5ミクロン未満の結晶サイズを有し得る。
第二の吸着剤は、有利にはゼオライトである。ゼオライトは、フォージャサイト、チャバザイト、クリノプチロライト、モルデナイト、シリカライト、ゼオライトX、ゼオライトY、超安定ゼオライトY、ZSM-5ゼオライト、オフレタイト、又はベータゼオライトなどの天然の又は合成ゼオライトであることが可能である。ゼオライト吸着剤材料は、高いシリカ対アルミナ(SAR)比を有し得る。ゼオライトは、少なくとも約5:1、好ましくは少なくとも約50:1のシリカ/アルミナモル比を有し得、約5:1から1000:1、50:1から500:1、及び約25:1から300:1が有用な範囲である。適したゼオライトには、ZSM、Y及びベータゼオライトが含まれる。HC吸着剤は、米国特許第6,171,556号に開示されている種類のベータゼオライトを含み得る。
アルミノシリケートゼオライト構造は、リン又は骨格内で同形置換される他の金属を含まない。つまり、「アルミノシリケートゼオライト」は、SAPO、AlPO及びMeAlPO材料などのアルミノホスフェート材料を除外するが、より広い用語「ゼオライト」はアルミノシリケート及びアルミノホスフェートを含む。本開示の目的のため、SAPO、AlPO及びMeAlPO材料は非ゼオライト系分子篩とみなされる。
機能性塗工は、基体に接着して設けられる1つの薄い接着層を含み得る。塗工層は、個々の機能性成分、つまり、第一の吸着剤組成物、酸化触媒組成物及びアンモニア吸着剤組成物を含み得る。
一実施形態では、酸化触媒組成物はフロースルーモノリス基体上に塗工され、基体は通常、基体の入口端又は出口端から基体を通って延びる微細で平行なガス流通路を有し、通路は流体の流動が通過できるように開放されている。通路は、その流体入口から流体出口に向かう本質的にまっすぐな道であり、通路を通過するガスが触媒材料と接触するように触媒塗工がその上に設けられた壁によって規定される。モノリス状基体の流動通路は薄壁のチャネルであり、台形、長方形、正方形、正弦波形、六角形、楕円形、円形等の任意の適した断面形状及びサイズであることが可能である。フロースルーモノリスは、上記のようにセラミック又は金属である。
フロースルーモノリス基体は、例えば約50inから約1200inの容量、1平方インチ当たり約60セル(cpsi)から約500cpsi又は最大で約900cpsi、例えば約200から約400cpsiのセル密度(入口開口)、及び約50から約200ミクロン又は約400ミクロンの壁厚を有する。
酸化触媒組成物を提供する機能性塗工は、1つ以上の薄い接着層、互いに接着する層、及び基体に接着する塗工を含み得る。塗工全体は、個々の「塗工層」を含む。機能性塗工は、有利には「区分け」されており、区分けされた機能性層を含む。これはまた、「横方向に区分けされた」とも記載され得る。例えば、層は、入口端から出口端に向かって、基体の長さの約10%、約20%、約30%、約40%、約50%、約60%、約70%、約80%又は約90%に延びてよい。別の層は、出口端から入口端に向かって、基体の長さの約10%、約20%、約30%、約40%、約50%、約60%、約70%、約80%又は約90%に延びてよい。異なる塗工層は互いに隣接し、互いに上になくてよい。あるいは、異なる層は、互いの一部の上にあり、第3の「中間」区分けを提供してもよい。中間区分けは、例えば、基体の長さの約5%から約80%、例えば基体の長さの約5%、約10%、約20%、約30%、約40%、約50%、約60%、又は約70%に延びてよい。
異なる層は、それぞれ基体の全長に延びてよく、又はそれぞれ基体の長さの一部に延びてよく、部分的に又は全体的に互いに上にある又は下にあってもよい。異なる層のそれぞれは、入口端又は出口端のいずれかから延びてよい。
異なる機能性組成物は、それぞれ別個の塗工層に存在し得る。例えば、1つの塗工層は任意の吸着剤組成物を含まずに酸化触媒組成物を含み、第二の層は1つ以上の任意の吸着剤組成物を含む(又は完全にそれらからなる)であろう。よって、異なる層に関連する議論は、これらの層の任意に対応し得る。塗工組成物は、1、2又は3つ以上の塗工層を含み得る。1つ以上の塗工層は共に、3つの機能性組成物を含む。本発明の機能性組成物を含む任意の塗工層は「機能性層」である。
本発明の区分けは、塗工層の関係によって規定される。異なる塗工層に関して、いくつかの可能な区分け構成がある。例えば、上流区分け及び下流区分けがあり得、上流区分け、中間区分け及び下流区分けがあり得、4つの異なる区分け等があり得る。2つの層が隣接し且つ重ならない場合、上流区分け及び下流区分けがある。2つの層がある程度重なり合う場合、上流、下流、及び中間区分けがある。例えば、塗工層が基体の全長に延び、異なる塗工層が出口端から所定の長さで延び、第一の塗工層の一部の上にある場合、上流及び下流区分けがある。
異なる塗工層は、基体と直接接触していてもよい。あるいは、1つ以上の「アンダーコート」が存在してもよく、それにより、機能性塗工層又は塗工層の少なくとも一部は、基体と直接接触しない(むしろアンダーコートと接触する)。1つ以上の「オーバーコート」もまた存在してよく、それにより、機能性塗工層又は層の少なくとも一部は、ガス流又は大気に直接さらされない(むしろオーバーコートと接触する)。
異なる塗工層は、「中間」の重なり合う区分けなしで、互いに直接接触していてもよい。あるいは、異なる塗工層は、2つの区分け間に「ギャップ」を伴って、直接接触していなくてもよい。「アンダーコート」又は「オーバーコート」の場合、異なる層の間のギャップは「層間層」と定義される。
アンダーコートは塗工層の「下(under)」の層であり、オーバーコートは塗工層の「上(over)」の層であり、層間層は2つの塗工層の「間(between)」の層である。
層間層、アンダーコート、及びオーバーコートは、1つ以上の機能性組成物を含有しても、機能性組成物を含まなくてもよい。
本発明の機能性塗工は、1つを超える同一の層を含んでもよい。
酸化触媒ユニットは、有利には、密結合位置にある。密結合位置は、例えば、個々のシリンダー排気パイプが共に結合する場所(すなわち、排気マニホルド)から約12インチ(in)以内、例えば約0.5in、約1in、約2in、約3in、約4in又は約5inから、約6in、約7in、約8in、約9in、約10in、約11in又は約12inである。
SCR組成物
SCR部に使用されるSCR組成物は、本明細書に記載の1つ以上のSCR触媒組成物を含むことができる。所定の実施形態では、SCR塗工組成物は、例えば、2つの異なる温度範囲、特に<250℃の低温及び約250℃から約550℃の高温で運転するのに効果がある。例えば、所定の実施形態では、SCR塗工組成物は、第一のSCR触媒及び卑金属含有分子篩SCR触媒を含む。選択触媒還元(SCR)触媒は、NO汚染物を窒素及び水に転化する。
第一のSCR触媒組成物
有利には、第一のSCR組成物は、高表面積の耐火金属酸化物基材、例えば高表面積アルミナ基材上に設けられた1つ以上の白金族金属を含む。SCR組成物に適したPGMは、例えばロジウムである。PGMベースのSCR触媒は、有利には、≦250℃の温度で効果があり得る。
第一のSCR触媒は、乾燥した第一の触媒の質量に対して、約0.1wt.%(質量パーセント)、約0.5wt.%、約1.0wt.%、約1.5wt.%又は約2.0wt.%から約3wt.%、約5wt.%、約7wt.%、約9wt.%、約10wt.%、約12wt.%、約15wt.%、約16wt.%、約17wt.%、約18wt.%、約19wt.%又は約20wt.%のPGM成分を含み得る。
第一の触媒のPGM成分は、例えば、基体の容量に対して、約5g/ft、10g/ft、約15g/ft、約20g/ft、約40g/ft又は約50g/ftから約70g/ft、約90g/ft、約100g/ft、約120g/ft、約130g/ft、約140g/ft、約150g/ft、約160g/ft、約170g/ft、約180g/ft、約190g/ft、約200g/ft、約210g/ft、約220g/ft、約230g/ft、約240g/ft又は約250g/ftで存在する。
第一のSCR触媒は、任意に、アンモニアを吸着及び貯蔵することができるアンモニア吸着成分を更に含む。例示的なアンモニア吸着成分には、クリノプチロライト、モルデナイト、及びベータゼオライトなどのゼオライトが含まれる。
卑金属含有分子篩SCR触媒組成物
SCR組成物は、約250℃から約550℃のより高い温度で効果がある、卑金属含有分子篩触媒組成物も含むことができる。この触媒は一般に、アンモニア前駆体として尿素を用いるが、ここでアンモニアは活性還元剤である。運転中、尿素がSCR部の上流の位置から排気流に定期的に計量供給される。注入器は、SCR部と流体連通し且つその上流にある。注入器は一般に還元剤(又は還元剤前駆体)貯蔵器及びポンプとも関連する。貯蔵器、ポンプ等は機能性部材とはみなされない。
適した分子篩は、酸化触媒組成物に関して本明細書に記載の通りである。分子篩の例は、例えば、8環の開孔及び二重-6環の二次構築ユニットを有し、例えば、次の構造型を有するものである:AEI、AFT、AFX、CHA、EAB、ERI、KFI、LEV、SAS、SAT又はSAV。同じ構造型を有するSAPO、AlPO、MeAlPO材料など、任意の及びあらゆる同位体骨格材料が含まれる。例えば、本発明の分子篩はそれぞれ、約5から約50、例えば約10から約30のSARを有し得る。
1つ以上の実施形態では、8環小細孔の分子篩は、CHA結晶構造を有し、CHA結晶構造を有するアルミノシリケートゼオライト、SAPO、AlPO、及びMeAlPOからなる群から選択される。特に、CHA結晶構造を有する8環小細孔の分子篩は、CHA結晶構造を有するアルミノシリケートゼオライトである。1つの具体的な実施形態では、CHA結晶構造を有する8環小細孔の分子篩は、SSZ-13又はSSZ-62などのアルミノシリケート組成物を有するであろう。
本発明の卑金属含有分子篩触媒組成物中に含有される卑金属は、例えば銅又は鉄又はそれらの混合物である。銅含有及び鉄含有チャバザイトは、CuCHA及びFeCHAと定義される。
銅又は鉄は、分子篩のイオン交換部位(細孔)に存在し、分子篩と関連しているが、分子篩の細孔「中」に存在していなくてもよい。例えば、焼成時に、交換されていない銅塩はCuOに分解され、本明細書で「遊離銅」又は「可溶性銅」とも称する。遊離銅は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、米国特許第8,404,203号に開示されているように有利であり得る。遊離銅の量は、イオン交換銅の量より少なくても、等しくても、又は多くてもよい。
銅含有の又は鉄含有の分子篩は、例えば、イオン交換を介して、例えばNa含有分子篩(Na形態)から調製する。Na形態とは一般には、いかなるイオン交換も伴わない焼成形態を指す。この形態では、分子篩は一般に、交換部位中にNaカチオンとHカチオンとの混合物を含有する。Naカチオンによって占められる部位の割合は、特定のゼオライトバッチ及びレシピに応じて異なる。任意に、アルカリ金属分子篩はNH 交換型であり、NH 形態が銅又は鉄とのイオン交換に用いられる。任意に、NH 交換型分子篩をH交換形態に焼成し、このH形態を銅又は鉄カチオンとのイオン交換に用いてもよい。
銅又は鉄は、アルカリ金属、NH 又はH形態の分子篩に、酢酸銅、硫酸銅、塩化鉄、酢酸鉄、硝酸鉄、硫酸鉄などの銅又は鉄塩でイオン交換され、これは例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、米国特許第9,242,238号に開示されている。例えば、Na、NH 又はH形態の分子篩を塩水溶液と混合し、高くした温度で適した時間撹拌する。スラリーをろ過し、フィルターケーキを洗浄して乾燥させる。
鉄の添加には、例えば、イオン交換プロセス、鉄塩の含浸、又は分子篩の酸化鉄との混合が含まれる。適した鉄含有分子篩は、例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、米国特許第9,011,807号に開示されている。
分子篩中の卑金属の量は、金属含有分子篩の総質量に対して、例えば約0.1、約0.3、約0.5、約0.7、約1.0又は約1.5から約3.0、約4.0wt.%、約5.0、約6.0、約7.0、約8.0、約9.0又は約10wt.%(質量パーセント)である。卑金属の量は、酸化物として測定され、報告される。
卑金属含有分子篩は、基体に対して、例えば約0.3g/inから約4.5g/in、又は約0.4g/in、約0.5g/in、約0.6g/in、約0.7g/in、約0.8g/in、約0.9g/in又は約1.0g/inから約1.5g/in、約2.0g/in、約2.5g/in、約3.0g/in、約3.5g/in又は約4.0g/inの装填量(濃度)で基体上に存在する。これは、基体の容量あたりの、例えばハニカムモノリスの容量あたりの乾燥固体質量を指す。容量あたりの卑金属の量は、例えば、上記値の約0.2%から約10%となろう。容量あたりの卑金属の量は、卑金属の濃度である。容量あたりの卑金属含有分子篩の量は、分子篩濃度である。濃度は、基体の断面又は基体全体に基づく。
鉄含有分子篩を活性化する方法は、鉄を分子篩に添加し、その後、得られた鉄含有分子篩粉末を、約500℃から約800℃で約20分から約12時間の期間、水蒸気の存在下で、又は約650℃から約750℃で約20分から約2時間の期間、水蒸気の存在下で、蒸気焼成することを含む。蒸気焼成の期間は、例えば、約20分から約1時間又は1.5時間である。得られた蒸気活性化鉄含有分子篩粉末は、噴霧乾燥又は風乾し得る。
SCR塗工組成物は区分けされ、任意のアンダーコート及び/又はオーバーコートを有し得る。SCR塗工組成物は、1つを超える塗工層を含有し得、例えば第一のSCR触媒及び卑金属含有分子篩触媒は、別個の塗工層又は単一の塗工層にあり得る。
塗工層の構成は限定されない。例えば、第一のSCR触媒及び卑金属含有分子篩触媒はそれぞれ別個の塗工層にあってもよく、ここで塗工層は前から後ろまで区分けされた構成であるか、又は基体の近位から基体の遠位まで又はそれらのいくつかの組み合わせの構成である。あるいは、機能性組成物が1つの塗工層に共にある又は2つの塗工層にわたっていくつかの組み合わせで広がっていてもよい。
上記のように、SCR機能性塗工は、有利には「区分け」されており、区分けされた機能性層を含む。これはまた、「横方向に区分けされた」とも記載され得る。例えば、層は、入口端から出口端に向かって、基体の長さの約10%、約20%、約30%、約40%、約50%、約60%、約70%、約80%又は約90%に延びてよい。別の層は、出口端から入口端に向かって、基体の長さの約10%、約20%、約30%、約40%、約50%、約60%、約70%、約80%又は約90%に延びてよい。異なる塗工層は互いに隣接し、互いに上になくてよい。あるいは、異なる層は、互いの一部の上にあり、第3の「中間」区分けを提供してもよい。中間区分けは、例えば、基体の長さの約5%から約80%、例えば基体の長さの約5%、約10%、約20%、約30%、約40%、約50%、約60%、又は約70%に延びてよい。一実施形態では、第一のSCR組成物は、入口端の近位で横方向に区分けされ、卑金属含有分子篩触媒組成物は、出口端の近位で横方向に区分けされる。
上記のように、異なる層は、それぞれ基体の全長に延びてよく、又はそれぞれ基体の長さの一部に延びてよく、部分的に又は全体的に互いに上にある又は下にあってもよい。異なる層のそれぞれは、入口端又は出口端のいずれかから延びてよい。
上記のように、異なる機能性SCR組成物は、別個の塗工層に存在し得る。塗工組成物は、1、2又は3つ以上の塗工層を含み得る。本発明の機能性組成物を含む任意の塗工層は「機能性層」である。
異なる塗工層が、基体と直接接触していてもよい。あるいは、1つ以上の「アンダーコート」が存在してもよく、それにより、機能性塗工層又は塗工層の少なくとも一部は、基体と直接接触しない(むしろアンダーコートと接触する)。1つ以上の「オーバーコート」もまた存在してよく、それにより、機能性塗工層又は層の少なくとも一部は、ガス流又は大気に直接さらされない(むしろオーバーコートと接触する)。
異なる塗工層は、「中間」の重なり合う区分けなしで、互いに直接接触していてもよい。あるいは、異なる塗工層は、2つの区分け間に「ギャップ」を伴って、直接接触していなくてもよい。「アンダーコート」又は「オーバーコート」の場合、異なる層の間のギャップは「層間層」と定義される。
アンダーコートは塗工層の「下に(under)」ある層であり、オーバーコートは塗工層の「上に(over)」ある層であり、層間層は2つの塗工層の「間に」ある層である。
層間層、アンダーコート、及びオーバーコートは、1つ以上の機能性組成物を含有し得、又は機能性組成物を含まなくてもよい。
本発明の機能性塗工は、1つを超える同一の層を含み得る。
SCR組成物のためのモノリス状の壁流フィルター
SCR触媒部材は、上記のフロースルーモノリス又は壁流フィルターモノリスのいずれかを利用し得る。SCR触媒組成物に使用される壁流フィルター基体は、コージェライト、アルミニウムチタネート、シリコンカーバイド、シリコンチタネート、金属又は金属発泡体などの材料から作製することができる。
壁流フィルター基体は、基体の長手方向軸に沿って延びる複数の微細で実質的に平行なガス流通路を有するSCR機能性塗工を支持するのに有用である。通常、各通路は基体本体の一端でブロックされ、互い違いになっている通路は反対側の端面ブロックされる。このようなモノリスキャリアは、1平方インチの断面あたり約900以上の流動通路(又は「セル」)を含有し得るが、はるかに少ないものを用いてもよい。例えば、通常のキャリアは1平方インチあたり(「cpsi」)、約100から約300のセルを通常有する。セルは、長方形、正方形、円形、楕円形、三角形、六角形、又はその他の多角形形状の断面を有することができる。壁流基体は、約50ミクロンから約500ミクロン、例えば約100ミクロンから約450ミクロン、又は約150ミクロンから約400ミクロンの壁厚を有し得る。壁流フィルターの壁は多孔質であり、機能性塗工を設ける前に、少なくとも約50%又は少なくとも約60%の壁多孔度を一般に有し、少なくとも約5ミクロンの平均孔径を有する。例えば、壁流フィルターは、≧50%、≧60%、≧65%又は≧70%の壁多孔度を有する。例えば、壁流フィルターは、触媒塗工を設ける前に、約50%、約60%、約65%又は約70%から約75%、約80%又は約85%の壁多孔度、及び約5ミクロン、約10、約20、約30、約40又は約50ミクロンから約60ミクロン、約70、約80、約90又は約100ミクロンの平均孔径を有する。「壁多孔度」及び「基体多孔度」という用語は、同じことを意味し、置き換え可能である。
多孔度とは、空隙容量を基体の総容量で割った比率である。孔径は、窒素孔径分析のためのISO15901-2(静的容量)手順に従って決定し得る。窒素孔径は、Micromeritics TRISTAR 3000シリーズの機器で決定し得る。窒素孔径は、BJH(Barrett-Joyner-Halenda)計算及び33の脱着点を使用して決定し得る。
本発明の壁流フィルターは、通常、約1から約20、例えば約1.0、約2.0、約3.0、約3.5、約4.0、約4.5、約5.0又は約5.5から約6.0、約6.5、約7.0、約7.5、約8.0、約8.5、約9.0、約9.5、約10.0、約11.0、約12.0、約13.0、約14.0、約15.0、約16.0、約17.0、約18.0、約19.0又は約20.0のアスペクト比(長さ/直径又はL/D)を有する。例えば、壁流フィルターは、約3から約10のアスペクト比を有し得る。
壁流フィルター及び壁流フィルターセクションをそれぞれ図1a及び1bに示す。図1aに示す壁流フィルターは、軸方向長さL及び直径Dを有する。互い違いにブロックされた(「塞がれた」)通路は、図1aにおいて市松模様の面パターンで見られる。互い違いになっている塞がれた通路及び開いた通路(セル)は、図1bにおいて壁流フィルターの断面の断面図として見られる。ブロックされた又は塞がれた端部100は、開いた通路101と互い違いになり、各反対側の端部はそれぞれ開いているかブロックされている。フィルターは入口端102及び出口端103を有する。多孔質セル壁104を横切る矢印は、開放セル端に入り、多孔質セル壁104を通って拡散し、開放出口セル端を出る排ガス排ガス流を表す。塞がれた端部100は、ガス流を防げ、セル壁を通る拡散を促す。各セル壁は、入口側104a及び出口側104bを有する。通路はセル壁に囲まれる。図1aにおいて、暗色の正方形は塞がれた端部100、及び白色の正方形は開放端101である。
触媒化壁流フィルターは、例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、米国特許第7,229,597号に開示されている。この文献には、塗工が多孔質壁に浸透するように、すなわち壁全体にわたって分散されるように触媒塗工を施与する方法が教示されている。フロースルー基体及び壁流基体はまた、例えば、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、国際公開第2016/070090号として公開された米国特許出願第62/072,687号にも教示されている。
SCR機能性塗工は、基体壁表面上及び/又はフィルター壁の細孔内、つまりフィルター壁の「中」及び/又は「上」にあってもよい。よって、「基体上に設けられた触媒塗工」という語句は、任意の表面、例えば壁面及び/又は細孔表面上を意味する。機能性塗工は、セル壁の片側のみの上及び/又は中、つまり入口側又は出口側の上及び/又は中のみにあってもよい。あるいは、機能性塗工は、壁の入口側及び出口側の両方に設けられてもよい。
本発明の壁流フィルターは、高い多孔度を有し、運転中に過剰な背圧なしで触媒組成物の高い装填量を可能とする。壁流フィルターは任意に高いアスペクト比を有し、それによりエンジンに近い密結合位置に取り付けることができる。これにより、触媒の高速加熱が可能になり、排ガスは、床下位置にある場合よりも速く、触媒を運転(触媒)温度まで加熱する。金属基体は密結合位置で高速加熱を可能とし、有利に用いられる。
壁流フィルターは、例えば、約50cm、約100cm、約200cm、約300cm、約400cm、約500cm、約600cm、約700cm、約800cm、約900cm又は約1000cmから約1500cm、約2000cm、約2500cm、約3000cm、約3500cm、約4000cm、約4500cm又は約5000cmの容量を有し得る。
図2a、2b及び2cは、2つのSCR塗工層を有するいくつかの可能な塗工層構成を示す。図示は基体壁200であり、この上に塗工層201及び202が配置される。これは簡素化した図であり、多孔質壁流基体の場合、細孔及び細孔壁に接着する塗工は示されておらず、塞がれている端部は示されていない。図2aでは、塗工層201(例えば第一のSCR触媒)は、基体の長さの約50%で入口から出口まで延びる。塗工層202(例えば卑金属含有分子篩SCR触媒)は、基体の長さの約50%で出口から入口まで延び、塗工層は互いに隣接し、入口上流区分け203及び出口下流区分け204を提供する。図2bでは、塗工層202(例えば卑金属含有分子篩SCR触媒)は、基体の長さの約50%で入口から延び、及び層201(例えば第一のSCR触媒)は、長さの50%を超えて出口から延びて層202の一部の上にあり、上流区分け203、中間区分け205及び下流区分け204を提供する。図2cでは、塗工層201及び202はそれぞれ、層201を層202の上にして基体の全長に延びる。図2cの基体は、区分けされた塗工構成を含有しない。図2a、2b及び2cは、本明細書に記載のウォールスルー基体又はフロースルー基体上の塗工組成物を例示するのに有用であり得る。
機能性塗工、及び機能性塗工の各区分け又は塗工の任意のセクションは、壁流基体に対して、例えば約3.0g/inから約6.0g/in、又は約3.2g/in、約3.4g/in、約3.6g/in、約3.8g/in、約4.0g/in、約4.2g/in、又は約4.4g/inから約4.6g/in、約4.8g/in、約5.0g/in、約5.2g/in、約5.4g/in、約5.6g/in、約5.8g/in、又は約6.0g/inの装填量(濃度)で壁流フィルター基体上に存在する。これは、壁流基体の容量あたりの乾燥固体質量を指す。濃度は、基体の断面又は基体全体に基づく。
第一のSCR触媒及び卑金属含有分子篩SCR触媒は、塗工組成物中に質量レベルで、例えば、約1:10、約1:9、約1:8、約1:7、約1:6、約1:5、約1:4、約1:3、約1:2又は約1:1から約2:1、約3:1、約4:1、約5:1、約6:1、約7:1、約8:1、約9:1又は約10:1の質量比で存在する。
本発明の機能化された壁流フィルター部材は、その上に機能性塗工組成物が設けられていない同じ部材と比較して、例えば、≦25%、≦20%、≦15%、≦10%、≦9%、≦8%又は≦7%の背圧の増加(又は圧力降下)を呈する。
実施例1. DOC部材
Pd(0.5wt.%)、Ba(0.8wt.%)及びPt(0.3wt.%)を含浸させた粉砕アルミナ粉末を含有する底部コート触媒スラリーを調製し、硝酸でpH4.5から5.0に調整した。底部コートスラリーの固形分は38wt.%であった。アルミナ/5wt.%Mn及びPt-アミン(3.3wt.%)を含有するトップコートスラリーを調製し、粉砕して、硝酸でpH4.5から5.0に調整した。トップコートスラリーの固形分濃度は37wt.%であった。ゼオライトベータ(0.35g/in)をトップコートスラリーに添加した。
底部コートスラリーを、1”×3”、400cpsi(セル/平方インチ)のハニカム基体フィルターのコア全長にウォッシュコート技術により施与した。塗工された基体を120℃で風乾し、500℃で1時間焼成して、1.6g/inの塗工装填量を得た。トップコートスラリーを、底部コート全体にわたって施与し、底部コートとして乾燥させ焼成して、2.5g/inの総塗工装填量及び3/1のPt/Pd質量比を得た。
実施例2.SCRoF部材
粉砕したCuCHA(3.7wt.%のCu)及び5wt.%のジルコニウムアセテート結合剤を含有する触媒スラリーを調製し、ウォッシュコート技術により70.8cmの容量を有する互い違いのチャネル開口部を備えた300/12、直径1”×長さ5.5” のハニカム基体に施与した。塗工したコアを130℃で乾燥し、550℃で1時間焼成して、1.75g/inの塗工装填量を得た。
実施例3. 汚染削減
実施例1の塗工されたDOC部材を、800℃の管状炉で16時間、10%のHO、10%のO、残りNの供給ガス組成で、水熱老化させた。SCRoF部材は新しいものであった。DOCの直前に、Hパルスの源としての役目を果たすH/Nの個別の供給ラインを備えたシミュレートされたNEDC(新欧州運転サイクル)を実施するため装備された実験室反応器内で、試料を評価した。SCRoFの前に、NH/NO比=1でNHを秒ユニットで注入した。車両とシミュレーター間のエンジン出力温度トレースを図5に示し、車両トレースとシミュレーター間のエンジン出力CO排出量を図6に示す。水素注入の影響は、DOCのみについて、及びDOC+SCRoFシステムについて評価し、試料採取ラインはDOC及びSCRoFの間に、第二の試料採取ラインは組み合わされたシステムの後に設けられた。SCRoF部材はDOC部材の下流にあった。
供給ガス中の水素濃度を1%にして、最初の200秒又は300秒の間、水素を排気流中にパルスで送った。水素注入は、H/N供給ガス内の別の(予熱されていない)ラインを介して実行した。最初の200秒又は300秒は、再稼動期間を表していた。
DOC部材のみについて、CO、HC及びNOの転化率%並びにNO/NO値の結果を、以下の表1に示す。
Figure 0007295027000001
DOC+SCRoFシステムにおけるCO、HC及びNOの転化率%の結果を、以下の表2に示す。
Figure 0007295027000002
少量の水素が、DOC部材又はDOC+SCRoFシステムのCO/HC/NO転化率の大幅な改善をもたらしたことが明白である。
実施例4.第二のSCR部
粉砕したCuCHA(3.3wt.%のCu)及び5wt.%のジルコニウムアセテート結合剤を含有する触媒スラリーを調製し、ウォッシュコート技術により、64.4cmの容量を有する400cpsi、1”×5”のフロースルーハニカム基体に施与した。塗工されたコアを130℃で乾燥し、550℃で1時間焼成して、2.85g/inの装填量を得た。
実施例5.第二のSCRによる汚染削減
実施例1からの同じ塗工されたDOC部材を、800℃の管状炉で16時間、10%のHO、10%のO、残りNの供給ガス組成で、水熱老化させた。第二のSCR部は新しいものであった。実施例3で記載の通り、DOCの直前に、Hパルスの源としての役目を果たすH/Nの個別の供給ラインを備えたシミュレートされたNEDC(新欧州運転サイクル)を実施するため装備された実験室反応器内で、試料を評価した。水素注入の影響は、DOCのみについて、及びDOC+SCRシステムについて評価し、試料採取ラインはDOC及びSCRの間に、第二の試料採取ラインは組み合わされたシステムの後に設けられた。第二のSCR部はDOC部材の下流にあった。
供給ガス中の水素濃度を1%にして、最初の200秒又は300秒の間、水素を排気流中にパルスで送った。水素注入は、H/N供給ガス内の別の(予熱されていない)ラインを介して実行した。最初の200秒又は300秒は、再稼動期間を表していた。
DOC部材のみについて、CO、HC及びNO/NOの転化率%の結果を、以下の表3に示す。
Figure 0007295027000003
DOC+SCRシステムにおけるCO、HC及びNOの転化率%の結果を、以下の表4に示す。
Figure 0007295027000004
DOC+SCRシステムからのCO及びHC転化率がDOC単独の測定と同様であったが、Hパルスを200秒間注入すると、NO転化率は新しいSCRの86%から91%に増加した。SCR転化率は既に90%を超える範囲に達しているため、次の実施例に示すように、老化させたSCRを試験することが有用であった。
実施例6.第二の老化させたSCR部による汚染削減
実施例1からの同じ塗工されたDOC部材を、800℃の管状炉で16時間、10%のHO、10%のO、残りNの供給ガス組成で、水熱老化させた。第二のSCR部は、750℃で16時間、空気中10%の蒸気で老化させた。DOCの直前に、Hパルスの源としての役目を果たすH/Nの個別の供給ラインを備えたシミュレートされたNEDC(新欧州運転サイクル)を実施するため装備された実験室反応器内で、試料を評価した。水素注入の影響は、DOCのみについて、及びDOC+SCRシステムについて評価し、試料採取ラインはDOC及びSCRの間に、第二の試料採取ラインは組み合わされたシステムの後に設けられた。
供給ガス中の水素濃度を1%にして、最初の200秒又は300秒の間、水素を排気流中にパルスで送った。水素注入は、H/N供給ガス内の別の(予熱されていない)ラインを介して実行した。最初の200秒又は300秒は、再稼動期間を表す。
DOC+SCRシステムにおけるCO、HC及びNOの転化率%の結果を、以下の表5に示す。
Figure 0007295027000005
やはり、DOC部材の前でHを注入すると、CO/HC性能が向上するだけでなく、老化させたSCR部のNO転化率も高まることが明らかである。
実施例7.第二のSCR部の前での水素注入
上記の実施例6からの同じ老化させたSCR部を使用して、第二のSCR部の前での水素パルスが、DOC部材の前で水素を注入した上記の実施例6で観察される効果を有するかどうかを試験した。供給ガス中の水素濃度を1%にして、最初の200秒又は300秒の間、水素を排気流中にパルスで送った。水素注入は、H/N供給ガス内の別の(予熱されていない)ラインを介して実行した。最初の200秒又は300秒は、再稼動期間を表していた。
老化させたSCR部の前でHを注入した、DOC+SCRシステムにおけるCO、HC及びNOの転化率%の結果を、以下の表6に示す。
Figure 0007295027000006
老化させたSCRの前で水素を注入すると、CO、HC、又はNO性能に何ら向上性のある効果はなく、DOC性能が下流のSCR性能に対し最も大きな影響を有することを示していた。
上記の観察結果を確認するために、同じSCR部について、その前で水素を注入し、SCRの前のDOCなしで、単独で試験した。同じ老化させたSCR部の前でHを注入したSCRのみの設定でのNO転化率の結果を、以下の表7に示す。
Figure 0007295027000007
新しいSCR部(実施例5から)について、SCR単独の設定に対するH注入の影響を、以下の表8に示す。
Figure 0007295027000008
有害な排出ガスの削減における最大の利点は、DOCの前のHパルスから得られたものであり、DOCの前のHパルスから観察されたDOC+SCRシステム全体のNO性能の改善は、より高いDOC出力温度、又はDOC後の上昇したNO濃度、又はDOC後の低下したCO/HC濃度、又は温度及び濃度の両方の組み合わせであることが明白である。

Claims (24)

  1. 排ガス流処理用の排ガス調整システムであって、
    排ガス流と流体連結するように基体上に設けられた酸化触媒組成物と、
    前記酸化触媒組成物の下流の基体上に設けられた少なくとも1種の選択触媒還元(SCR)組成物と、
    前記酸化触媒組成物の上流又は前記酸化触媒組成物の下流であり、前記少なくとも1種のSCR組成物の上流で、前記排ガス流に水素を導入するための水素噴射部と、
    を含み、
    前記少なくとも1種のSCR組成物が、耐火金属酸化物基材上に分散した白金族金属成分を含有する第一のSCR触媒と、卑金属含有分子篩を含有する第二のSCR触媒とを含み、
    前記少なくとも1種のSCR組成物が、前記第一のSCR触媒を含む第一のSCR塗工層と、前記第二のSCR触媒を含む第二のSCR塗工層とを含み、そして
    前記第一のSCR塗工層と前記第二のSCR塗工層とが、区分け塗布され、前記第一のSCR塗工層が前記前部上流端に近接し、前記第二のSCR塗工層が前記後部下流端に近接していることを特徴とする排ガス流処理用の排ガス調整システム。
  2. 前記少なくとも1種のSCR組成物を支持する基体が、フロースルーモノリス、又はモノリス状の壁流フィルターである、請求項1に記載の排ガス調整システム。
  3. 前記第一のSCR触媒が、ロジウムを含む、請求項1に記載の排ガス調整システム。
  4. 前記卑金属が、銅及び/又は鉄を含む、請求項1に記載の排ガス調整システム。
  5. 前記分子篩が8環小細孔の分子篩である請求項1に記載の排ガス調整システム。
  6. 前記分子篩が、AEI、AFT、AFX、CHA、EAB、ERI、KFI、LEV、SAS、SAT、及びSAVからなる群から選択される構造を有するゼオライトである、請求項1に記載の排ガス調整システム。
  7. 前記分子篩が、CHA結晶構造を有するアルミノシリケートゼオライトであり、シリカ/アルミナ比が1~1000である、請求項1に記載の排ガス調整システム。
  8. 前記分子篩中に存在する前記卑金属が、前記卑金属含有分子篩の総質量に対して、0.1質量%~10質量%である、請求項1に記載の排ガス調整システム。
  9. 前記第一のSCR触媒が、前記SCR触媒組成物を支持する基体の容量に対して、5g/ft3~250g/ft3の白金族金属成分を含む、請求項1に記載の排ガス調整システム。
  10. 前記第一のSCR触媒が、更にアンモニア吸着成分を含む、請求項1に記載の排ガス調整システム。
  11. 前記アンモニア吸着成分が、クリノプチロライト、モルデナイト、及びベータゼオライトからなる群から選択されるゼオライトである、請求項10に記載の排ガス調整システム。
  12. 排ガス調整システム中に、基体上に設けられた前記酸化触媒組成物及び基体上に設けられた前記少なくとも1種の選択触媒還元(SCR)組成物以外には、他の排ガス処理ユニットを含まない、請求項1又は2に記載の排ガス調整システム。
  13. 前記酸化触媒組成物が、耐火金属酸化物基材上に分散した白金族金属成分を含む、請求項1又は2に記載の排ガス調整システム。
  14. 前記酸化触媒組成物が、前記基体の容量に対して、5g/ft3~250g/ft3の範囲の白金族金属成分を含む、請求項13に記載の排ガス調整システム。
  15. 貯蔵された水素が断続的に導入されるようにシステムが構成されている、請求項1又は2に記載の排ガス調整システム。
  16. 貯蔵された水素が再稼動期間に導入されるようにシステムが構成されている、請求項1又は2に記載の排ガス調整システム。
  17. 更に水素貯蔵部を含む、請求項1又は2に記載の排ガス調整システム。
  18. 前記少なくとも1種のSCR組成物を支持する前記基体が、軸方向長さを画定する前部上流端と後部下流端とを含むモノリス状の壁流フィルター部材であり、
    前記少なくとも1種のSCR組成物が、
    耐火金属酸化物基材上に分散した白金族金属成分を含有する第一のSCR触媒と、
    卑金属含有分子篩を含む第二のSCR触媒と、
    を含む、請求項1又は2に記載の排ガス調整システム。
  19. 前記モノリス状の壁流フィルター部材が、50%~85%の範囲の多孔度を有する、請求項18に記載の排ガス調整システム。
  20. 前記モノリス状の壁流フィルター部材が、平均孔径が5μm~100μmの細孔を有する、請求項18に記載の排ガス調整システム。
  21. 前記少なくとも1種の選択触媒還元(SCR)組成物の上流に、これと流体連結した噴出器を更に含み、かつ
    前記少なくとも1種の選択触媒還元(SCR)組成物の上流で、アンモニア又はアンモニア前駆体を導入するように構成されている、請求項1又は2に記載の排ガス調整システム。
  22. 排ガス流を処理する方法であって、
    前記排ガス流を、該排ガス流と流体連結するように基体上に設けられた酸化触媒組成物を含む酸化触媒部に受け入れて、第一の流出流を得、
    前記第一の流出流を、前記酸化触媒部から、下流の基体上に設けられた少なくとも1種の選択触媒還元(SCR)組成物を含む選択触媒還元(SCR)部に受け入れ、更に
    前記酸化触媒部の上流又は前記酸化触媒部の下流であって、前記SCR部の上流で、水素を断続的に導入すること、
    前記少なくとも1種のSCR組成物が、耐火金属酸化物基材上に分散した白金族金属成分を含有する第一のSCR触媒と、卑金属含有分子篩を含有する第二のSCR触媒とを含み、
    前記少なくとも1種のSCR組成物が、前記第一のSCR触媒を含む第一のSCR塗工層と、前記第二のSCR触媒を含む第二のSCR塗工層とを含み、そして
    前記第一のSCR塗工層と前記第二のSCR塗工層とが、区分け塗布され、前記第一のSCR塗工層が前記前部上流端に近接し、前記第二のSCR塗工層が前記後部下流端に近接していること
    を特徴とする、排ガス流の処理方法。
  23. 前記水素の断続的な導入は、再稼動期間の水素の噴出を含む、請求項2に記載の処理方法。
  24. 前記少なくとも1種のSCR組成物を支持する基体が、フロースルーモノリス、又はモノリス状の壁流フィルターである、請求項2に記載の処理方法。
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