添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。まず、図1を用いて、本実施形態に係るポーラスチャックテーブルが装着されて使用される切削装置について説明する。図1は、被加工物1を切削する切削装置2を模式的に示す斜視図である。該被加工物1は、例えば、シリコン、シリコンカーバイド(SiC)、若しくは、その他の半導体等の材料、または、サファイア、ガラス、石英等の材料からなる板状の基板である。さらに、複数のチップが樹脂で封止されたパッケージ基板でもよい。
図2には、被加工物1を模式的に示す斜視図が示されている。被加工物1の表面1aには互いに交差する複数の分割予定ライン1cが設定されており、分割予定ライン1cにより区画された各領域にはIC(Integrated Circuit)等のデバイス1dが形成されている。最終的に、被加工物1が分割予定ライン1cに沿って切削され分割されることで、個々のデバイスチップが形成される。
例えば、被加工物1の表面1aから裏面1bに至る領域を分割予定ライン1cに沿って切削すると、表面1aから裏面1bに至る分割溝が形成されて被加工物1が分割される。ただし、切削により被加工物1の表面1aから裏面1bに至る分割溝を形成しなくてもよく、切削により裏面1bに至らない溝が形成されてもよい。裏面1bに至らない溝が切削により形成される場合、さらに、切削または切削以外の方法で該溝の底部から被加工物1の裏面1bに至る分断溝等が形成されて被加工物1が分断される。
例えば、被加工物1は、環状のフレーム5に張られた粘着テープ3と一体化されてフレームユニット7が形成される。被加工物1は、フレームユニット7の状態で搬送され、切削される。フレームユニット7の状態で被加工物1が分割されると、形成された個々のチップは粘着テープ3により支持される。さらに、環状のフレーム5の開口中で粘着テープ3を径方向外側に拡張させると個々のチップの間隔が広がり、粘着テープ3からのチップの剥離が容易となる。
図1に示す通り、切削装置2は、各構成要素を支持する基台4を備えている。基台4の中央上部には、X軸移動テーブル6と、該X軸移動テーブル6をX軸方向(加工送り方向)に移動させるX軸方向移動機構と、X軸方向移動機構を覆う排水路20と、が設けられている。該X軸方向移動機構は、X軸方向に平行な一対のX軸ガイドレール12を備えており、X軸ガイドレール12には、X軸移動テーブル6がスライド可能に取り付けられている。
X軸移動テーブル6の下面側には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、X軸ガイドレール12に平行なX軸ボールねじ14が螺合されている。X軸ボールねじ14の一端部には、X軸パルスモータ16が連結されている。X軸パルスモータ16でX軸ボールねじ14を回転させると、X軸移動テーブル6はX軸ガイドレール12に沿ってX軸方向に移動する。
X軸移動テーブル6上には、テーブルベース6aが設けられている。テーブルベース6aの上には、被加工物1を吸引、保持するためのポーラスチャックテーブル8が装着される。ポーラスチャックテーブル8は、テーブルベース6aの内部に組み込まれたモータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、ポーラスチャックテーブル8の上面に垂直な回転軸の周りに回転可能である。また、ポーラスチャックテーブル8は、上述したX軸方向移動機構によりテーブルベース6aごとX軸方向に送られる。
ポーラスチャックテーブル8の表面(上面)は、被加工物1を吸引、保持する支持面8aとなる。この支持面8aは、ポーラスチャックテーブル8の内部に形成された吸引路48(図6等参照)を介して吸引源8b(図6参照)に接続されている。該支持面8aの周囲には、テープを介して被加工物1を保持する環状のフレーム5を固定するためのクランプ10が配設されている。
基台4の上面には、被加工物1を切削する2つの切削ユニット18を支持する支持構造22が、X軸方向移動機構を跨ぐように配置されている。支持構造22の前面上部には、2つの切削ユニット18をそれぞれY軸方向(割り出し送り方向)及びZ軸方向に移動させる切削ユニット移動機構が設けられている。
切削ユニット移動機構は、支持構造22の前面に配置されY軸方向に平行な一対のY軸ガイドレール24を備えている。Y軸ガイドレール24には、切削ユニット18のそれぞれに対応する2つのY軸移動プレート26がスライド可能に取り付けられている。それぞれのY軸移動プレート26の裏面側には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、Y軸ガイドレール24に平行なY軸ボールねじ28が螺合されている。
Y軸ボールねじ28の一端部には、Y軸パルスモータ28aが連結されている。Y軸パルスモータ28aでY軸ボールねじ28を回転させると、対応するY軸移動プレート26は、Y軸ガイドレール24に沿ってY軸方向に移動する。Y軸移動プレート26の表面(前面)には、それぞれ、Z軸方向に平行な一対のZ軸ガイドレール30が設けられている。それぞれのZ軸ガイドレール30には、Z軸移動プレート32がスライド可能に取り付けられている。
Z軸移動プレート32の裏面側(後面側)には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、Z軸ガイドレール30に平行なZ軸ボールねじ34が螺合されている。Z軸ボールねじ34の一端部には、Z軸パルスモータ36が連結されている。Z軸パルスモータ36でZ軸ボールねじ34を回転させれば、Z軸移動プレート32は、Z軸ガイドレール30に沿ってZ軸方向(切り込み送り方向)に移動する。
2つのZ軸移動プレート32のそれぞれの下部には、被加工物1を加工する切削ユニット18と、ポーラスチャックテーブル8に保持された被加工物1を撮像できる撮像ユニット(カメラ)38と、が固定されている。Y軸移動プレート26をY軸方向に移動させれば、切削ユニット18及び撮像ユニット38はY軸方向(割り出し送り方向)に移動し、Z軸移動プレート32をZ軸方向に移動させれば、切削ユニット18及び撮像ユニット38はZ軸方向(切り込み送り方向)に移動する。
図6には、切削ユニット18の一部の構成を模式的に示す側面図が含まれている。切削ユニット18は、Y軸方向に平行な回転軸を構成するスピンドル18aを備える。スピンドル18aの先端部にはブレードマウントが取り付けられており、スピンドル18aの先端には該ブレードマウントにより円環状の切削ブレード18bが装着される。
スピンドル18aの他端側にはスピンドルハウジング(不図示)に収容されたモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されている。該回転駆動源を使用してスピンドル18aを回転させると、スピンドル18aに装着された切削ブレード18bを回転できる。
切削ブレード18bは、例えば、円盤状の基台と、該基台の外周部に固定された円環状の砥石部と、を有している。該基台の中央部には、この基台を貫通する略円形の装着穴が設けられており、切削ブレード18bを切削ユニット18に装着する際には、該装着穴にスピンドル18aに装着されたブレードマウントのボス部が突き通される。
切削ブレード18bの砥石部は、金属または樹脂等で形成された結合材と、該結合材に固定されたダイヤモンド等で形成された複数の砥粒と、を含む。結合材からは砥粒が表出しており、切削ブレード18bを回転させながら被加工物1に切り込ませると、表出した該砥粒が被加工物1に接触して被加工物1が切削される。
被加工物1を切削して切断する場合、切削ブレード18bの砥石部の下端が被加工物1の下面よりも下方に達するように、切削ユニット18の高さが調整される。また、被加工物1に下面側に至らない溝を形成する場合、砥石部の下端が被加工物1の上面及び下面の間の高さに位置付けられるように切削ユニット18の高さが調整される。
切削ブレード18bで被加工物1を切削すると、砥粒に欠けや脱落が生じる。しかしながら、結合材が徐々に消耗して新たな砥粒が次々と表出するため、切削ブレード18bの切削能力は維持される。このとき、切削ブレード18bの径は徐々に小さくなっていく。そのため、切削ブレード18bの砥石部の下端の高さは変化する。
そこで、切削装置2では、切削ブレード18bの砥石部の下端の位置を検出して、該下端が所定の高さに到達するようにZ軸方向移動機構を調整するセットアップ工程が所定のタイミングで実施される。切削ユニット18の下方には、図1に示す通り、セットアップ工程に使用される刃先検出ユニット40が設けられている。
次に、本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8について説明する。図2は、ポーラスチャックテーブル8及び被加工物1を模式的に示す斜視図である。図5(B)には、ポーラスチャックテーブル8の断面図が含まれている。図2に示される通り、ポーラスチャックテーブル8の上面は、被加工物1が載せられる支持面8aとなる。被加工物1を切削する際、例えば、被加工物1はフレームユニット7の状態でポーラスチャックテーブル8の支持面8aの上に載せられ、ポーラスチャックテーブル8に吸引保持される。
ポーラスチャックテーブル8は、被加工物1の径に対応する径の円板状のポーラス板42と、ポーラス板42が嵌合する凹部46(図4(A)参照)を備える枠体44と、を備える。ポーラスチャックテーブル8では、ポーラス板42の上面と、枠体44の上面と、が面一とされている。また、ポーラスチャックテーブル8では、ポーラス板42が上方に露出しており、ポーラス板42の上面が被加工物1を支持できる支持面8aとなる。
図4(A)には、枠体44を模式的に示す断面図が示されている。枠体44は、例えば、ステンレス鋼により形成される。図4(A)に示される通り、枠体44の底部には、吸引路48が形成されている。該吸引路48は、一端が凹部46に連通している。そして、枠体44及びポーラス板42により形成されたポーラスチャックテーブル8を切削装置2のテーブルベース6aに装着したとき、吸引路48の他端側に吸引源8b(図6参照)が接続される。
吸引路48と、吸引源8bと、の間には、両者の接続と、切断と、を切り替える切り替え部8c(図6参照)が設けられる。そして、切り替え部8cを操作して吸引源8bを吸引路48に接続すると、次に説明するポーラス板42の気孔54を通してポーラスチャックテーブル8の支持面8aに載せられた被加工物1に負圧が作用して、ポーラスチャックテーブル8により被加工物1が吸引保持される。
図5(B)には、ポーラス板42の上面である支持面8a近傍を拡大して模式的に示す断面図が示されている。図5(B)に示される通り、ポーラス板42は、骨材50と、該骨材50を固定するボンド52と、気孔54と、を有する。ポーラス板42は、後に詳述する通り、粒子状の骨材50と、ボンド52と、が所定の割合で混ぜられ成形された状態で固化される。
ポーラスチャックテーブル8を形成する際には、例えば、枠体44の凹部46の深さよりも大きな厚さを有するポーラス板42を準備する。そして、凹部46にポーラス板42を収容する。この場合、ポーラス板42の上部が枠体44の上面よりも上方に突出する。
そして、ポーラス板42を上方から研削して薄化すると、ポーラス板42の上面42aの高さが枠体44の上面の高さと一致し、ポーラス板42の上面42aと、枠体44の上面と、が同時に研削されるようになる。その後、研削を停止すると、ポーラス板42の上面42aが支持面8aとなり、枠体44の上面と面一となったポーラスチャックテーブル8が形成される。
従来、ボンド52の原料には、珪素、ホウ素、ビスマス、亜鉛、アルミニウム、または鉛の各酸化物を複数組み合わせた混合物を主成分として含むガラスフリット等の材料が使用されていた。ガラスフリットを焼成して形成されたボンド52は、骨材50を保持する能力が高い。
ここで、ポーラス板42を上面42a側から研削すると、ボンド52に研削砥石が接触してボンド52が上方から削り取られ、一部の骨材50がボンド52から露出する。そして、露出した骨材50に砥石が接触するようになり、次第に砥石から骨材50に印加される力が大きくなる。そして、骨材50に印加される力がボンド52の保持力を超えたとき、ボンド52から骨材50が弾き出される。
そのため、ポーラス板42の上面42aには、該骨材50の形状に対応する凹部が形成された。また、ボンド52から露出した一部の骨材50について、ポーラス板42の研削が終了した時点で研削により印加される力がボンド52の保持力を超えていない場合に、該一部の骨材50はポーラス板42の上面に残った。
また、気孔54が形成される領域を確保するために、ボンド52は必要以上にはポーラス板42には導入されなかった。そのため、骨材50の保持に寄与しないボンド52が少なかったため、研削されて平坦となるボンド52も少ない。したがって、ボンド52の主要な上面は、凹部に占められていた。
このように、従来、研削された後のポーラス板42の上面42aは、ボンド52に凹部が無数に形成されるとともに一部の骨材50が露出しており、平坦ではなかった。そのため、支持面8aの上にフレームユニット7を載せ、ポーラスチャックテーブル8に粘着テープ3を介して被加工物1を吸引保持させたとき、被加工物1が裏面1bの全域で均一には支持されなかった。
被加工物1の支持面8aに適切に支持されていない領域では、被加工物1を表面1aから切削したときに被加工物1に加わる負荷により、該被加工物1の裏面1b側に欠けやチッピングと呼ばれる損傷が生じ易くなる。この傾向は、被加工物1から形成するチップのサイズが小さくなるほど顕著であった。すなわち、従来のポーラスチャックテーブルでは、被加工物1を切削して分割してチップを製造する際に、チップに損傷が生じ易かった。
これに対して、本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8では、ポーラス板42中のボンド52の骨材50に対する体積割合を増やして骨材50の保持に寄与しないボンド52を増やした。また、ボンド52の材料に、あえて骨材50を保持する能力の比較的低い材料を使用したり、骨材50の形状及び材質を変更したりして、研削砥石に接触した骨材50がボンド52から抜け落ちやすくした。
この場合、ポーラスチャックテーブル8を製造する過程でポーラス板42を上面から研削する際、砥石が骨材50に接触したときに骨材50が容易に脱落する。そのため、ポーラス板42の研削を終了したときには、ポーラス板42の上面には骨材50が残らず、研削されて平坦となったボンド52の被研削面が広く残る。本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8の支持面8aは、ボンド52の平坦面52aにより構成されており、平坦である。
図5(B)には、本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8のポーラス板42の上部を拡大して模式的に示す断面図が含まれている。図5(B)には、平坦面52aが上方に露出したボンド52が模式的に示されている。図5(B)に示される通り、ポーラスチャックテーブル8では、骨材50がボンド52から露出されておらず、ボンド52の上面が平坦である。
そして、被加工物1を該支持面8aに載せたとき、被加工物1の裏面1bのより広い面積が支持されるようになり、該裏面1bがより均一かつ確実に支持されるようになる。そのため、該ポーラスチャックテーブル8に被加工物1を保持させて該被加工物1を切削してチップを製造する際、チップのサイズが小さい場合も含めてチップの裏面に損傷が生じにくくなる。すなわち、本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8を使用して被加工物1を切削すると、形成されるチップの不良率を低減できる。
本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8のポーラス板42を構成する骨材50には、例えば、アルミナが使用される。または、チタンバリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、または石英等の透光性を有する融点が高い材料が使用される。
また、ポーラス板42を構成するボンド52には、例えば、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス等のガラス材料を使用できる。ボンド52には、従来使用されていたガラスフリットよりも骨材50の保持力の弱い材料が使用されるのが好ましく、または、骨材50を構成する材料よりも融点が低いガラス材料が使用されるのが好ましい。
さらに、ポーラス板42は、粘着テープ3を介して被加工物1をポーラスチャックテーブル8に吸引保持させる際の吸引路となる気孔54を備える。ポーラス板42を形成する際、骨材50と、ボンド52と、気孔形成材と、が所定の割合で配合され、高温で焼結される。このとき、気孔形成材が消失して気孔54が形成される。
ポーラス板42では、被加工物1に十分な吸引力を作用できる程度に気孔54が占める領域が確保される。そして、骨材50の外面にボンド52が接着して、該ボンド52により骨材50が分散保持される。
ここで、本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8のポーラス板42では、上方に露出されるボンド52の平坦面52aの面積を広く確保するために、骨材50に対するボンド52の含有割合が骨材50の保持に必要な量よりも高められるのが好ましい。骨材50の保持に寄与しないボンド52が増えると、支持面8aにボンド52の平坦面52aがより広い面積で提供される。
従来、ポーラス板42に含まれるボンド52の骨材50に対する体積割合は、すなわち、骨材50の体積と、ボンド52の体積と、の和に占めるボンド52の体積の割合は、20体積%程度とされていた。これに対して、本実施形態に係るポーラスチャックテーブルでは、ボンド52の該体積割合は好ましくは30体積%以上であり、より好ましくは40体積%以上である。
また、研削によるボンド52からの骨材50の脱離を容易にするために、表面積の小さな粒子を骨材50の材料に使用するとよい。例えば、骨材50の原料となる粒子には、平均粒径が50μm以下の粒子を使用することが好ましい。
ところで、ボンド52にソーダガラス等の透光性を有する部材を使用し、ポーラス板42における骨材50に対するボンド52の含有割合を従来よりも高めると、副次的な効果として、ポーラス板42が透光性を有するようになる。例えば、ポーラス板42が透光性を有すると、ポーラス板42を通して被加工物1の裏面1b側へUV等を照射できるようになる。または、ポーラス板42を通して被加工物1にバックライトとして可視光を照射できるようになる。
例えば、被加工物1を切削した後に該可視光を被加工物1に照射すると、切削により形成された切削痕では該可視光が透過する。そのため、可視光が透過するか否かを観察することで、切削痕が予定通り被加工物1に形成できているか否かを容易に判定できるようになる。また、例えば、被加工物1の外周縁に可視光を照射することにより、被加工物1の形状や外周縁の位置を特定することも可能である。特に、被加工物1の透光性が低い場合、切削痕が形成されたか否かの判定や、被加工物1の外周縁の位置の特定等が容易となる。ここで、骨材50にチタンバリウムガラスの粒子を使用すると、骨材50に光が反射されるため、ポーラス板42の内部で光が均一に散乱される。
したがって、本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8において、ポーラス板42を構成するボンド52にソーダガラスを使用し、骨材50にチタンバリウムガラスの粒子を使用すると、ポーラス板42に透光性を付与できる。特に、ボンド52の骨材50に対する体積比率を30%以上とし、骨材50を構成する粒子を球状とし、その平均粒径を50μm以下とすると、ポーラス板42は均一に光を透過できるようになる。
ここで、平均粒径50μm以下の粒子とは、例えば、累積高さ50%点の粒子径が50μm以下となる粒度の粒子である。粒子の粒度については、日本工業標準調査会(JISC:Japanese Industrial Standards Committee)により制定されるJIS規格が参考にされる。具体的には、JIS R 6001-1:2017(研削といし用研削材の粒度-第1部:粗粒)及びJIS R 6001-2:2017(研削といし用研削材の粒度-第2部:微粉)を参照されたい。
また、骨材50にチタンバリウムガラス、又はソーダ石灰ガラスを使用する場合、JIS規格であるJIS Z 8901(試験用粉体及び試験用粒子)の試験用粉体2に属する品質の粒子が使用されるとよい。例えば、粒子径分布(電気抵抗試験方法による)がGBM20、GBL30、GBM30、GBL40、GBM40、GBL60、GBL100のいずれかに属する粒子が骨材50に使用されるとよい。なお、骨材50がチタンバリウムガラスでない場合においても、粒子の品質が当該規格に準じて表現されてもよい。
次に、本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8の製造方法について説明する。図7(A)は、該ポーラスチャックテーブル8の製造方法の各ステップのフローを示すフローチャートである。該ポーラスチャックテーブル8の製造方法の説明においては、上述のポーラスチャックテーブル8についての説明を適宜参照できる。
該製造方法では、まず、ポーラス板42と、枠体44と、を準備する準備ステップS1を実施する。ここで、ポーラス板42は、上述の通り、骨材50と、ボンド52と、気孔54と、を有する。また、枠体44は、上述の通り、ポーラス板42が嵌合する凹部46を有し、一端が該凹部46に連通しており他端に吸引源8bを接続できる吸引路48を有する。ここで、該製造方法では、準備ステップS1においてポーラス板42を作成してもよい。
ここで、準備ステップS1においてポーラス板42を作成する場合について説明する。図7(B)は、準備ステップS1においてポーラス板42を作成する場合における、該準備ステップS1で実施される各ステップの流れを示すフローチャートである。まず、ポーラス板42の材料となる混合体を作成する混合ステップS11を実施し、次に該混合体を所定の形状に成形して成形体を作成する成形ステップS12を実施する。その後、該成形体を焼成する焼成ステップS13を実施する。
混合ステップS11では、骨材50の原料となる複数の骨材粒子と、ボンド52の材料となるボンドの原料部材と、最終的に除去されて気孔54となる空間をポーラス板42に現出させるための粒状の気孔形成材と、を混合して混合体を作成する。該骨材粒子と、該ボンドの原料部材と、気孔形成材と、の混合割合は、製造しようとするポーラス板42の性能に応じて適宜決定される。
従来、混合体中のボンドの原料部材の割合は、ポーラス板42が形成された際に骨材50を十分に保持できる量とされ、必要以上に高い割合とはされなかった。必要以上にボンドの原料部材の割合が大きくなると、気孔54が形成される領域をポーラス板42中に確保しにくくなるためである。これに対して、本実施形態に係るポーラスチャックテーブルの製造方法では、あえてボンドの原料部材の割合を増やすことで、最終的にポーラス板42の上面に露出するボンド52の平坦面52aを広く確保する。
複数の骨材粒子には、例えば、アルミナを使用できる。または、チタンバリウム、ホウケイ酸ガラス、または石英等の透光性を有する融点が高い材料が使用できる。また、ボンドの原料部材には、例えば、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス等のガラス材料を使用できる。好ましくは、該原料部材は、ビーズ状に加工されていることが望ましい。該原料部材がビーズ状の部材とされていると、ポーラス板42の透光性が良好となる。
該気孔形成材は、例えば、100μm以上150μm以下の平均粒子径のものを使用できる。気孔形成材は、後述する焼成ステップS13において燃焼して消失し、ポーラス板42中に気孔54となる空間を形成できる有機材料の粒子である。
混合ステップS11を実施した後、混合体を所定の形状に成形する成形ステップS12が実施される。図3(A)は、成形ステップS12を模式的に示す断面図である。該混合体42cの成形は、例えば、円板状の空間を内部に有する凹状の金型92と、金型92の内部の空間に対応する形状の板状押圧部材94と、板状押圧部材94を下方に押圧できる押圧軸96と、を備える加圧成形装置90が使用される。金型92の内部の空間は、例えば、ポーラス板42の形状に対応する略円板状とする。
成形ステップS12では、混合ステップS11で作成された該混合体42cを金型92の内部の空間に導入し、板状押圧部材94により該混合体42cを押圧し、圧縮成形する。そして、成形後に成形体を該金型92から取り出す。
成形ステップS12を実施した後、焼成ステップS13が実施される。図3(B)は、焼成ステップS13を示す断面図である。焼成ステップS13では、例えば、図3(B)に示す焼成炉98が使用される。
焼成ステップS13では、まず、1300℃以上の高温での焼成に耐えうる金属又はセラミックスで形成された容器100の凹部に成形体42dを入れる。そして、容器100と同様の材料で形成された蓋体102により、容器100の凹部内に成形体42dを閉じ込める。次に、容器100及び蓋体102で閉じ込められた成形体42dを焼成炉98に入れて、成形体42dを焼成する。焼成温度は、例えば800℃以上1000℃以下の所定の温度とする。これにより、円板状のポーラス板42を形成する。
焼成の過程で、気孔形成材は燃焼して気化し、大気に放出されるので、ポーラス板42には気孔形成材の大きさに対応した気孔54が形成される。焼成ステップS13の後、容器100からポーラス板42を取り出す。その後、ポーラス板42の上面42a、裏面42b、及ぶ側面を研削して、ポーラス板42の形状を整えてもよい。以上の各ステップにより作成されたポーラス板42を製造して、準備ステップS1を終了させる。
なお、準備ステップS1で準備されたポーラス板42は後述の通り上面から研削されて薄化される。そのため、準備ステップS1では、製造するポーラスチャックテーブル8に含まれた状態のポーラス板42よりも厚いポーラス板42を準備する。例えば、準備ステップS1では、枠体44の凹部46(図4(A)参照)の深さよりも大きい厚さのポーラス板42を準備する。そして、準備ステップS1にてポーラス板42を作成する場合には、混合体の量を調整することでポーラス板42の厚さを調整する。
本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8の製造方法では、準備ステップS1の後、ポーラス板42を枠体44の凹部46に嵌合させて固定する固定ステップS2を実施する。図4(A)は、固定ステップS2を模式的に示す断面図である。図4(A)に示す通り、固定ステップS2では、枠体44の凹部46にポーラス板42を嵌合させる。このとき、接着剤を使用してポーラス板42を枠体44に接着してもよい。
図4(B)は、枠体44の凹部46に嵌合されたポーラス板42を模式的に示す断面図である。上述の通り、ポーラス板42の厚さは凹部46の深さよりも大きいため、このときポーラス板42の上部が枠体44の上方に突出する。さらに、図4(B)には、ポーラス板42の上面42aを拡大して模式的に示す断面図が示されている。該拡大図に示される通り、ポーラス板42では、骨材50がボンド52により分散保持されており、骨材50及びボンド52の隙間に気孔54が形成されている。
本実施形態に係るポーラスチャックテーブルの製造方法では、固定ステップS2の後、該ポーラス板42の上面42aと、該枠体44の上面と、を研削して面一にする研削ステップS3を実施する。図5(A)は、研削ステップS3を模式的に示す断面図である。研削ステップS3は、例えば、図5(A)に示す横軸研削装置56で実施される。
横軸研削装置56は、研削対象物を支持する支持台56aと、支持台56aに載せられた研削対象物を研削する円環状の研削砥石60と、を備える。円環状の研削砥石60の中央部にはスピンドル58が突き通される貫通孔(不図示)が形成されており、該貫通孔に該スピンドル58が突き通されて横軸研削装置56に装着される。
研削ステップS3では、まず、横軸研削装置56の支持台56a上にポーラス板42が嵌合された枠体44を載せる。このとき、枠体44のポーラス板42側を上方に向ける。そして、スピンドル58を回転させて円環状の研削砥石60を回転させながら、該研削砥石60をポーラス板42の上面42aに接触させる。このとき、ポーラス板42の上面42aの全域において研削が実施されるように、研削を実施しながら研削砥石60をポーラス板42の上面42aに沿った方向に相対移動させる。
研削によるポーラス板42の薄化が進行すると、ポーラス板42の上面42aと、枠体44の上面44aが同一の高さとなる。さらに研削を進行させ、ポーラス板42の上面42a及び枠体44の上面44aに研削砥石60を接触させてポーラス板42の上面42aと、枠体44の上面44aと、を面一にする。ポーラス板42の上面42aが所定の高さ位置となるまで研削を実施すると、上面が被加工物1を支持する支持面8aとなるポーラスチャックテーブル8が製造される。
図5(B)は、本実施形態に係るポーラスチャックテーブルの製造方法により製造されたポーラスチャックテーブル8を模式的に示す断面図である。図5(B)には、ポーラス板42の上面42aを拡大して模式的に示す断面図が含まれている。本実施形態に係るポーラスチャックテーブルの製造方法では、ボンド52に骨材50の保持能力の比較的低い材料が使用されている。そのため、ポーラス板42の上面42aに研削砥石60を接触させたとき、骨材50がボンド52から積極的に弾き出される。
また、本実施形態に係るポーラスチャックテーブルの製造方法では、骨材50の保持に必要な量を超えてボンド52がポーラス板42に含まれている。そのため、研削ステップS3によりポーラス板42を上方から研削すると、ボンド52の上部が研削されて形成された平坦面52aが上方に広い面積で露出する。例えば、骨材50が抜け出して形成される凹部52bよりも平坦面52aの面積が大きくなる。すなわち、ポーラスチャックテーブル8の支持面8aが、平坦面52aで主に構成されるようになる。
ボンド52の平坦面52aは、ポーラス板42の全域において略同一の高さ位置となり、ポーラス板42の上面42aに概ね含まれる。また、研削ステップS3において、ボンド52から上面に露出した骨材50がボンド52から積極的に弾き出されて除去されているため、ポーラス板42の上面42aには、該粒子が露出していない。ただし、ボンド52の平坦面52aは、鏡面ほどに平坦である必要はない。
ここで、研削ステップS3では、ビトリファイドボンド砥石が環状に配された研削ホイールによりポーラス板42及び枠体44が研削されてもよい。この場合、該研削ホイールが備える砥石中に分散固定される砥粒の粒度は、♯320(JIS R 6001-2:2017参照)程度とするとよい。
例えば、砥石中に含まれる砥粒が小さく該砥粒の粒度が♯2000程度であると、枠体44を適切に研削できなくなるため、ポーラス板42の研削のみが進行して、枠体44の上面44aと、ポーラス板42の上面42aと、を面一にしにくくなる。
製造されたポーラスチャックテーブル8は、図1等に示す切削装置2のテーブルベース6aの上部に装着されて使用される。図6は、切削装置2を使用して被加工物1を切削する様子を模式的に示す断面図である。
被加工物1を切削装置2で切削する際には、まず、フレームユニット7をポーラスチャックテーブル8の上に搬入する。そして、切り替え部8cを操作して枠体44の吸引路48と、ポーラス板42の気孔54と、を通じて吸引源8bによる負圧を被加工物1の裏面1b側に貼着された粘着テープ3に作用させる。すると、被加工物1がポーラスチャックテーブル8に吸引保持される。
次に、被加工物1を切削ユニット18で切削する。切削ユニット18は、支持面8aに平行なY軸方向(図1参照)に沿ったスピンドル18aと、該スピンドル18aの先端に装着された切削ブレード18bと、を備える。スピンドル18aの基端側には、モータ等の回転駆動源が接続されている。該回転駆動源を作動させてスピンドル18aを回転させ、被加工物1の表面1a側から切削ブレード18bを切り込ませると、被加工物1が切削されて分断される。
図6には、切削ブレード18bで切削される被加工物1と、ポーラスチャックテーブル8の支持面8aと、を拡大して模式的に示す断面図が含まれている。図6に示す通り、被加工物1を切削する際には、被加工物1を確実に分割するために切削ブレード18bの下端を粘着テープ3に到達させる。
ここで、ポーラスチャックテーブル8の支持面8aでは、ボンド52の平坦面52aに粘着テープ3が接触しており、被加工物1がポーラスチャックテーブル8に十分に支持される。そのため、被加工物1を分割して形成されるチップにチッピング等の損傷が生じにくくなる。
本実施例では、本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8として、骨材50にチタンバリウムガラスを使用し、ボンド52にソーダガラスを使用したポーラスチャックテーブル8を製造し、支持面8aを光学顕微鏡で観察した。ここで、製造したポーラスチャックテーブル8を実施例ポーラスチャックテーブルAとする。また、比較のために、骨材50にアルミナを使用し、ボンド52にガラスフリットを使用した比較例ポーラスチャックテーブルAを作成し、同様に光学顕微鏡で支持面8aを撮像した。
実施例ポーラスチャックテーブルAのポーラス板42では、ポーラス板42に占める気孔54の体積割合(気孔率)を40%とし、骨材50及びボンド52の総体積に占める骨材の体積割合を約60%とした。すなわち、ポーラス板42を製造する際、これらの条件のポーラス板42が形成されるように骨材50の原料となる複数の骨材粒子と、ボンド52の材料となるボンドの原料部材と、気孔形成材と、の割合を調整した。
そして、混合した材料を成形した後、約800℃の温度で5時間焼結してポーラス板42を製造した。その後、ポーラス板42を枠体44に嵌合させ、ポーラス板42の上面を研削して支持面8aを形成した。
図8(A)に示す写真は、実施例ポーラスチャックテーブルAの支持面8aを光学顕微鏡によって比較的低倍率で撮像して形成された顕微鏡写真62である。また、図8(B)に示す写真は、実施例ポーラスチャックテーブルAの支持面8aを光学顕微鏡によって比較的高倍率で撮像して形成された顕微鏡写真64である。顕微鏡写真62,64には、上部が研削されたボンド52の平坦面52aと、該平坦面52aを囲う気孔54と、が写る。
顕微鏡写真62,64は、ボンド52の平坦面52aにピントが合わされた状態で撮像された写真である。そして、気孔54の底部に存在する構造物にはピントが合っていない。そのため、該構造物は、平坦面52aとは高さが異なることが理解される。その一方で、顕微鏡写真62,64の全域において平坦面52aにはピントが合っている。したがって、平坦面52aの高さは各所で概略一致しており、平坦面52aが実施例ポーラスチャックテーブルAの支持面8aを構成することが理解される。
特に、顕微鏡写真64を注意深く観察すると、研削により形成されたときに形成されたと考えられる筋状の痕が平坦面52aに認められる。そのため、研削によりボンド52の上部が除去され平坦面52aが形成されたことが確認された。なお、平坦面52aには、さらに、骨材50の粒子が弾き出されて形成された凹部52bが確認されるが、凹部52bは平坦面52aの面積と比較して小さい。すなわち、実施例ポーラスチャックテーブルAの支持面8aの主要な部分は、平坦面52aにより構成されることが確認された。
比較例ポーラスチャックテーブルAは、実施例ポーラスチャックテーブルAと同様に作成された。ただし、ポーラス板42の骨材50にアルミナを使用し、ボンド52にガラスフリットを使用した。図9(A)に示す写真は、比較例ポーラスチャックテーブルAの支持面8aを光学顕微鏡によって比較的低倍率で撮像して形成された顕微鏡写真78である。また、図9(B)に示す写真は、比較例ポーラスチャックテーブルAの支持面8aを光学顕微鏡によって比較的高倍率で撮像して形成された顕微鏡写真80である。
顕微鏡写真78,80から理解される通り、比較例ポーラスチャックテーブルAを上面から観察すると、ボンド52の上面に骨材50が研削により弾きだされて形成されたと考えられる凹部82が無数に観察される。そして、支持面8aにはボンド52の平坦面52aが露出してないことが理解される。したがって、実施例ポーラスチャックテーブルAは、比較例ポーラスチャックテーブルAと比較して、被加工物1等をより適切に支持できることが示唆される。
本実施例では、本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8として、骨材50にチタンバリウムガラスを使用し、ボンド52にソーダガラスを使用した実施例ポーラスチャックテーブルBを製造した。そして、該実施例ポーラスチャックテーブルBを切削装置2に装着して、該実施例ポーラスチャックテーブルB上でホウケイ酸ガラスを被加工物1として切削ブレード18bで切削した。その後、ホウケイ酸ガラスから形成されたチップを個々に観察し、欠けやチッピングの発生状況について評価した。
また、比較のために、アルミナを骨材50に使用し、ガラスフリットをボンド52に使用した比較例ポーラスチャックテーブルBを作成し、同様に切削装置2に使用してホウケイ酸ガラスを切削した。そして、ホウケイ酸ガラスから形成されたチップを個々に観察し、欠けやチッピングの発生状況について評価した。
切削された被加工物1は、50mm角、厚さ0.2mmの矩形のホウケイ酸ガラスであった。被加工物1の裏面1b側には、粘着テープ3としてデンカ株式会社製のテープ“UDT-1005M3”を貼着してフレームユニット7を形成し、該フレームユニット7を切削装置2に搬入してポーラスチャックテーブルに吸引保持させた。その後、それぞれのポーラスチャックテーブル上で該被加工物1を切削して、平面サイズが5.0mm×0.8mmのチップに切り出した。
切削ブレード18bには、株式会社ディスコ社製“R07-SD600-BB200-75”を使用した。スピンドル18aの回転数を毎分20,000回転とし、加工送り速度を毎秒10mmとし、切削ブレード18bの粘着テープ3への切り込み量を20μmに設定して被加工物1を切削した。このとき、切削ブレード18bに向けて毎分1.5Lの切削水を噴射し、被加工物1に毎分1.0Lの切削水を噴射した。
切削された被加工物1を光学顕微鏡で広範囲に観察し、角部に欠けが生じたチップの数、辺の一部にチッピングが生じたチップの数、及び少なくとも1辺の全体に渡って欠けが生じたチップの数をカウントした。ここでは、切削溝からの距離が20μmを超えるような大きさのチッピングや欠け等の損傷が発生したチップを不良品として、不良品となったチップの数を数えた。
その結果、実施例ポーラスチャックテーブルB上で形成されたチップのうち、角部に欠けが生じたチップの数は32、辺の一部にチッピングが生じたチップの数は60、少なくとも1辺の全体に渡って欠けが生じたチップの数は0であった。その一方で、比較例ポーラスチャックテーブルB上で形成されたチップのうち、角部に欠けが生じたチップの数は205、辺の一部にチッピングが生じたチップの数は27、少なくとも1辺の全体に渡って欠けが生じたチップの数は68であった。
実施例ポーラスチャックテーブルB上では、比較例ポーラスチャックテーブルB上と比較して、被加工物1を切削して形成されたチップに総じて欠けやチッピング等の損傷が生じにくいことが確認された。以上の結果により本実施形態に係るポーラスチャックテーブル8はより適切に被加工物1を支持でき、より高品位な被加工物1の切削を実現できることが確認された。
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。