JP7269472B2 - 金属箔製造用電着ドラム材または金属箔製造用電着ドラムの検査方法 - Google Patents
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Description
(1) 工業用純チタンまたはチタン合金からなる金属箔製造用電着ドラム材または当該金属箔製造用電着ドラム材を備える金属箔製造用電着ドラムの表面に、一対の通電電極探針を接触させて定電流を供給し、前記定電流が供給された前記表面の複数個所について、電位検出探針の対を一定の前記工業用純チタンまたは前記チタン合金の平均結晶粒径に応じて決定される探針間隔にて接触させることにより、前記表面の前記複数個所についての複数の電圧を検出する第1の工程と、
前記複数の電圧から選択されるいずれか2以上の前記電圧を比較する第2の工程と、を有する、金属箔製造用電着ドラム材または金属箔製造用電着ドラムの検査方法。
(2) 前記第1の工程において、前記複数の電圧を同時に検出する、(1)に記載の金属箔製造用電着ドラム材または金属箔製造用電着ドラムの検査方法。
(3) 前記第1の工程において、前記電位検出探針の対の探針間隔が、前記工業用純チタンまたは前記チタン合金の平均結晶粒径の200倍以上である、(1)または(2)に記載の金属箔製造用電着ドラム材または金属箔製造用電着ドラムの検査方法。
(4) 前記第2の工程において、前記複数の電圧から選択される2つの電圧の比を算出する、(1)~(3)のいずれか一項に記載の金属箔製造用電着ドラム材または金属箔製造用電着ドラムの検査方法。
上記複数の電圧から選択されるいずれか2以上の上記電圧を比較する第2の工程と、を有する。
まず、各工程の説明に先立ち、本実施形態に係る金属箔製造用電着ドラム材または金属箔製造用電着ドラムの検査方法の対象となり得る金属箔製造用電着ドラム1および金属箔製造用電着ドラム材10について説明する。
第1の工程では、図1、図2に示すように、まず、金属箔製造用電着ドラム1の表面11に、一対の通電電極探針20A、20Bを接触させて定電流Iを供給する。これにより、表面11の通電電極探針20A、20Bが接触したa-a’間において定電流Iが流れるとともに、所定の電位差が生じる。
本工程では、検出された複数の電圧V1~Vnから選択されるいずれか2以上の電圧を比較する。電圧同士の比較は、いかなる方法で行ってもよく、例えば、2つの電圧同士の差および/もしくは比、平均電圧との差および/もしくは比ならびに/または電圧の標準偏差等を算出することにより行ってもよい。
まず、母材として表1に示す組成を有する基準となるチタンの熱間圧延板(100mm厚)を複数用意した。
次いで、ベースとなる母材(熱間圧延板)の表面に、人工的に化学成分が異なる部位を作製した。具体的には、熱間圧延板の表面にφ30mm深さ30mmのドリル穴をあけて真空中電子ビーム溶接にてO濃度やFe濃度、さらにはCr,Ni濃度が異なるチタンを肉盛して穴を塞いだ。そして、この穴あけ肉盛部の位置を記録した。その後、10mm厚まで熱間熱延し、焼鈍、研磨を施した。この穴あけ肉盛部は母材と化学成分が異なる部位となる。Fe、Cr、Ni濃度が高い穴あけ肉盛部では、結晶粒径が母材部よりも小さい場合がある。その例を、表1の穴あけ肉盛部1~8に示す。
次に、部分的にひずみ量が異なる部位を模擬的に作製した。10mm厚の板形状まで鍛造、熱延、焼鈍、酸洗を施した母材を用いて、その母材表面に、グラインダを用いて部分的に研磨を施して、幅3~10mmの研磨痕を導入した。このグラインダによる研磨痕の部位は、他部に比べてひずみ量が大きい部位となる。研磨によってひずみが導入されているため、同時にある程度は結晶方位と結晶粒径も未研磨部からは変化している。その例を、表1の部分グラインダ1~3に示す。
母材を研磨したのち、目視観察によりマクロ模様を5か所確認した。これらを表1のマクロ模様1~5に示す。
次に、母材の表面に一対の通電電極探針を接触させて定電流を供給した。次いで、図1~3に示すような配列で、電位検出探針の対を5mmの探針間隔として母材表面に接触させ、電圧を測定した。なお、母材の表面における平均結晶粒径は、33μmである。そして、上述した穴あけ肉盛部1~8、部分グラインダ1~3およびマクロ模様1~5を含む部位における電圧を、母材の基準となる部位における電圧V0と対比した。結果を表1に合わせて示す。電流は1Aとした。
Claims (4)
- 工業用純チタンまたはチタン合金からなる金属箔製造用電着ドラム材または当該金属箔製造用電着ドラム材を備える金属箔製造用電着ドラムの表面に、一対の通電電極探針を接触させて定電流を供給し、前記定電流が供給された前記表面の複数個所について、電位検出探針の対を一定の前記工業用純チタンまたは前記チタン合金の平均結晶粒径に応じて決定される探針間隔にて接触させることにより、前記表面の前記複数個所についての複数の電圧を検出する第1の工程と、
前記複数の電圧から選択されるいずれか2以上の前記電圧を比較する第2の工程と、を有する、金属箔製造用電着ドラム材または金属箔製造用電着ドラムの検査方法。 - 前記第1の工程において、前記複数の電圧を同時に検出する、請求項1に記載の金属箔製造用電着ドラム材または金属箔製造用電着ドラムの検査方法。
- 前記第1の工程において、前記電位検出探針の対の探針間隔が、前記工業用純チタンまたは前記チタン合金の平均結晶粒径の200倍以上である、請求項1または2に記載の金属箔製造用電着ドラム材または金属箔製造用電着ドラムの検査方法。
- 前記第2の工程において、前記複数の電圧から選択される2つの電圧の比を算出する、請求項1~3のいずれか一項に記載の金属箔製造用電着ドラム材または金属箔製造用電着ドラムの検査方法。
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