JP7267868B2 - 含ホウ素縮合環化合物の製造方法 - Google Patents
含ホウ素縮合環化合物の製造方法 Download PDFInfo
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本発明は、含ホウ素縮合環化合物の製造方法に関する。
有機電界発光素子などの有機エレクトロニクス素子に用いるための多環芳香族化合物として、例えば、特許文献１に記載されているホウ素原子を含有する縮合環化合物が検討されている。
この縮合環化合物の合成方法として、例えば、特許文献１には、１，３－ビス（ジフェニルアミノ）－２－クロロベンゼンの塩素原子をリチオ化した後、ＢＢｒ３と反応させる製造方法（下記式（ｉ））、１，３－ビス（メチルフェニルアミノ）ベンゼンをリチオ化した後、ＢＢｒ３と反応させる製造方法（下記式（ｉｉ））、１，３，５－トリ（ジフェニルアミノ）ベンゼンとＢＢｒ３とを反応させる製造方法（下記式（ｉｉｉ））等が記載されている。
近年、多環芳香族化合物の需要増加に伴い、基質選択性、収率改善等の観点から、新たな製造方法の開発が望まれている。
すなわち、本発明は、以下の［１］～［１２］に関する。
［１］
下記式（１）：
［式中、
環Ａ、環Ｂ及び環Ｃは、それぞれ独立に芳香環を表す。
ＨＡ、ＨＢ及びＨＣは、水素原子を表す。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基を表す。
Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよく、Ｒは環Ａ、環Ｂ又は環Ｃと結合して環を形成していてもよい。Ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
で表される部分構造を有する多環芳香族化合物の、前記環Ａ上の水素原子、前記環Ｂ上の水素原子及び前記環Ｃ上の水素原子からなる群より選択される少なくとも一つの水素原子（但し、ＨＡを除く）をハロゲン化して、ハロゲン化物を得るハロゲン化工程と、
前記ハロゲン化物、又は、前記ハロゲン化物のハロゲン－金属交換反応により得られる有機金属化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物（Ｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＸは、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。）と、を反応させて、下記式（２）：
［式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］
で表される部分構造を有する含ホウ素縮合環化合物を得る環化工程と、
を含む、含ホウ素縮合環化合物の製造方法。
［２］
前記ハロゲン化工程が、前記環Ｂ上の水素原子及び前記環Ｃ上の水素原子からなる群より選択される少なくとも一つの水素原子がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記ハロゲン化物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、［１］に記載の製造方法。
［３］
前記環Ｂが前記Ｘ１と結合するベンゼン環を有し、
前記ハロゲン化工程が、前記ベンゼン環の前記Ｘ１に対するパラ位の水素原子がハロゲン化される工程である、［２］に記載の製造方法。
［４］
前記ハロゲン化工程が、前記環Ａ上の水素原子のうち少なくとも一つの水素原子（但し、ＨＡを除く）がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記有機金属化合物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、［１］に記載の製造方法。
［５］
前記環Ａが前記ＨＡと結合するベンゼン環を有し、
前記ハロゲン化工程が、前記ベンゼン環の前記ＨＡに対するメタ位の水素原子がハロゲン化される工程である、［４］に記載の製造方法。
［６］
前記多環芳香族化合物が、下記式（１Ａ）で表される化合物であり、
前記含ホウ素縮合環化合物が、下記式（２Ａ）で表される化合物である、［１］に記載の製造方法。
［式中、
ＨＡ、ＨＢ、ＨＣ、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、１価の複素環基、アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、隣接する炭素原子に結合する基同士で結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のうち少なくとも一つは水素原子である。］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］
［７］
前記式（１Ａ）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のうち少なくとも一つが水素原子であり、
前記ハロゲン化工程が、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のうち少なくとも一つの水素原子がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記ハロゲン化物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、［６］に記載の製造方法。
［８］
前記式（１Ａ）におけるＲ２が水素原子であり、
前記ハロゲン化物が、下記式（３Ｂ）で表される化合物である、［７］に記載の製造方法。
［式中、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｙ１は、ハロゲン原子を表す。］
［９］
前記式（１Ａ）におけるＲ５、Ｒ６及びＲ７のうち少なくとも一つが水素原子であり、
前記ハロゲン化工程が、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７のうち少なくとも一つの水素原子がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記有機金属化合物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、［６］に記載の製造方法。
［１０］
前記式（１Ａ）におけるＲ５が水素原子であり、
前記ハロゲン化物が、下記式（３Ｃ）で表される化合物である、［９］に記載の製造方法。
［式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｙ２は、ハロゲン原子を表す。］
［１１］
下記式（３Ｂ）で表される化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物（Ｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＸは、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。）と、を反応させて、下記式（２Ｂ）で表される含ホウ素縮合環化合物を得る環化工程を含む、含ホウ素縮合環化合物の製造方法。
［式中、
ＨＡ、ＨＢ及びＨＣは、水素原子を表す。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基を表す。
Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよく、Ｒは、式（３Ｂ）中のベンゼン環と結合して環を形成していてもよい。Ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、１価の複素環基、アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、隣接する炭素原子に結合する基同士で結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
Ｙ１は、ハロゲン原子を表す。］
［式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］
［１２］
下記式（３Ｃ）で表される化合物のハロゲン－金属交換反応により得られる有機金属化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物（Ｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＸは、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。）と、を反応させて、下記式（２Ｃ）で表される含ホウ素縮合環化合物を得る環化工程を含む、含ホウ素縮合環化合物の製造方法。
［式中、
ＨＡ、ＨＢ及びＨＣは、水素原子を表す。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基を表す。
Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよく、Ｒは、式（３Ｃ）中のベンゼン環と結合して環を形成していてもよい。Ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、１価の複素環基、アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、隣接する炭素原子に結合する基同士で結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
Ｙ２は、ハロゲン原子を表す。］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］
下記式（１）：
［式中、
環Ａ、環Ｂ及び環Ｃは、それぞれ独立に芳香環を表す。
ＨＡ、ＨＢ及びＨＣは、水素原子を表す。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基を表す。
Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよく、Ｒは環Ａ、環Ｂ又は環Ｃと結合して環を形成していてもよい。Ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
で表される部分構造を有する多環芳香族化合物の、前記環Ａ上の水素原子、前記環Ｂ上の水素原子及び前記環Ｃ上の水素原子からなる群より選択される少なくとも一つの水素原子（但し、ＨＡを除く）をハロゲン化して、ハロゲン化物を得るハロゲン化工程と、
前記ハロゲン化物、又は、前記ハロゲン化物のハロゲン－金属交換反応により得られる有機金属化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物（Ｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＸは、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。）と、を反応させて、下記式（２）：
［式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］
で表される部分構造を有する含ホウ素縮合環化合物を得る環化工程と、
を含む、含ホウ素縮合環化合物の製造方法。
［２］
前記ハロゲン化工程が、前記環Ｂ上の水素原子及び前記環Ｃ上の水素原子からなる群より選択される少なくとも一つの水素原子がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記ハロゲン化物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、［１］に記載の製造方法。
［３］
前記環Ｂが前記Ｘ１と結合するベンゼン環を有し、
前記ハロゲン化工程が、前記ベンゼン環の前記Ｘ１に対するパラ位の水素原子がハロゲン化される工程である、［２］に記載の製造方法。
［４］
前記ハロゲン化工程が、前記環Ａ上の水素原子のうち少なくとも一つの水素原子（但し、ＨＡを除く）がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記有機金属化合物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、［１］に記載の製造方法。
［５］
前記環Ａが前記ＨＡと結合するベンゼン環を有し、
前記ハロゲン化工程が、前記ベンゼン環の前記ＨＡに対するメタ位の水素原子がハロゲン化される工程である、［４］に記載の製造方法。
［６］
前記多環芳香族化合物が、下記式（１Ａ）で表される化合物であり、
前記含ホウ素縮合環化合物が、下記式（２Ａ）で表される化合物である、［１］に記載の製造方法。
［式中、
ＨＡ、ＨＢ、ＨＣ、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、１価の複素環基、アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、隣接する炭素原子に結合する基同士で結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のうち少なくとも一つは水素原子である。］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］
［７］
前記式（１Ａ）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のうち少なくとも一つが水素原子であり、
前記ハロゲン化工程が、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のうち少なくとも一つの水素原子がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記ハロゲン化物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、［６］に記載の製造方法。
［８］
前記式（１Ａ）におけるＲ２が水素原子であり、
前記ハロゲン化物が、下記式（３Ｂ）で表される化合物である、［７］に記載の製造方法。
［式中、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｙ１は、ハロゲン原子を表す。］
［９］
前記式（１Ａ）におけるＲ５、Ｒ６及びＲ７のうち少なくとも一つが水素原子であり、
前記ハロゲン化工程が、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７のうち少なくとも一つの水素原子がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記有機金属化合物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、［６］に記載の製造方法。
［１０］
前記式（１Ａ）におけるＲ５が水素原子であり、
前記ハロゲン化物が、下記式（３Ｃ）で表される化合物である、［９］に記載の製造方法。
［式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｙ２は、ハロゲン原子を表す。］
［１１］
下記式（３Ｂ）で表される化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物（Ｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＸは、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。）と、を反応させて、下記式（２Ｂ）で表される含ホウ素縮合環化合物を得る環化工程を含む、含ホウ素縮合環化合物の製造方法。
［式中、
ＨＡ、ＨＢ及びＨＣは、水素原子を表す。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基を表す。
Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよく、Ｒは、式（３Ｂ）中のベンゼン環と結合して環を形成していてもよい。Ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、１価の複素環基、アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、隣接する炭素原子に結合する基同士で結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
Ｙ１は、ハロゲン原子を表す。］
［式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］
［１２］
下記式（３Ｃ）で表される化合物のハロゲン－金属交換反応により得られる有機金属化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物（Ｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＸは、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。）と、を反応させて、下記式（２Ｃ）で表される含ホウ素縮合環化合物を得る環化工程を含む、含ホウ素縮合環化合物の製造方法。
［式中、
ＨＡ、ＨＢ及びＨＣは、水素原子を表す。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基を表す。
Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよく、Ｒは、式（３Ｃ）中のベンゼン環と結合して環を形成していてもよい。Ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、１価の複素環基、アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、隣接する炭素原子に結合する基同士で結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
Ｙ２は、ハロゲン原子を表す。］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］
本発明によれば、含ホウ素縮合環化合物の新規な製造方法が提供される。
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
＜共通する用語の説明＞
本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
「室温」とは、２５℃を意味する。
Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、ｉ－Ｐｒはイソプロピル基、ｔ－Ｂｕはｔｅｒｔ－ブチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。
Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、ｉ－Ｐｒはイソプロピル基、ｔ－Ｂｕはｔｅｒｔ－ブチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。
水素原子は、重水素原子であっても、軽水素原子であってもよい。
「アルキル基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１～５０であり、好ましくは１～１０であり、より好ましくは１～５である。分岐のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～５０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～２０であり、更に好ましくは５～１０である。
アルキル基は、置換基を有していてもよい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、２－エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、３－プロピルヘプチル基、デシル基、３，７－ジメチルオクチル基、２－エチルオクチル基、２－ヘキシルデシル基、ドデシル基等が挙げられる。また、アルキル基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。このようなアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、３－フェニルプロピル基、３－（４－メチルフェニル）プロピル基、３－（３，５－ジ－ヘキシルフェニル）プロピル基、６－エチルオキシヘキシル基が挙げられる。
アルキル基は、置換基を有していてもよい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、２－エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、３－プロピルヘプチル基、デシル基、３，７－ジメチルオクチル基、２－エチルオクチル基、２－ヘキシルデシル基、ドデシル基等が挙げられる。また、アルキル基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。このようなアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、３－フェニルプロピル基、３－（４－メチルフェニル）プロピル基、３－（３，５－ジ－ヘキシルフェニル）プロピル基、６－エチルオキシヘキシル基が挙げられる。
「シクロアルキル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～５０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～２０である。シクロアルキル基は、置換基を有していてもよい。
シクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基が挙げられる。また、シクロアルキル基は、このような基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい（例えば、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等）。
シクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基が挙げられる。また、シクロアルキル基は、このような基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい（例えば、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等）。
「アリール基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた残りの原子団を意味する。アリール基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６～６０であり、好ましくは６～２０であり、より好ましくは６～１０である。
アリール基としては、例えば、単環式の芳香族炭化水素（例えば、ベンゼンが挙げられる。）、又は、多環式の芳香族炭化水素（例えば、ナフタレン及びインデン等の２環式の芳香族炭化水素；アントラセン、フェナントレン、ジヒドロフェナントレン及びフルオレン等の３環式の芳香族炭化水素；ベンゾアントラセン、ベンゾフェナントレン、ベンゾフルオレン、ピレン及びフルオランテン等の４環式の芳香族炭化水素；ジベンゾアントラセン、ジベンゾフェナントレン、ジベンゾフルオレン、ペリレン及びベンゾフルオランテン等の５環式の芳香族炭化水素；スピロビフルオレン等の６環式の芳香族炭化水素；並びに、ベンゾスピロビフルオレン及びアセナフトフルオランテン等の７環式の芳香族炭化水素が挙げられる。）から、環を構成する原子に直接結合する水素原子１個を除いた基が挙げられる。また、アリール基は、これらの基が複数結合した基を含む。
アリール基は、置換基を有していてもよい。アリール基としては、例えば、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アントラセニル基、２－アントラセニル基、９－アントラセニル基、１－ピレニル基、２－ピレニル基、４－ピレニル基、２－フルオレニル基、３－フルオレニル基、４－フルオレニル基、２－フェニルフェニル基、３－フェニルフェニル基、４－フェニルフェニル基等が挙げられる。また、アリール基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
アリール基としては、例えば、単環式の芳香族炭化水素（例えば、ベンゼンが挙げられる。）、又は、多環式の芳香族炭化水素（例えば、ナフタレン及びインデン等の２環式の芳香族炭化水素；アントラセン、フェナントレン、ジヒドロフェナントレン及びフルオレン等の３環式の芳香族炭化水素；ベンゾアントラセン、ベンゾフェナントレン、ベンゾフルオレン、ピレン及びフルオランテン等の４環式の芳香族炭化水素；ジベンゾアントラセン、ジベンゾフェナントレン、ジベンゾフルオレン、ペリレン及びベンゾフルオランテン等の５環式の芳香族炭化水素；スピロビフルオレン等の６環式の芳香族炭化水素；並びに、ベンゾスピロビフルオレン及びアセナフトフルオランテン等の７環式の芳香族炭化水素が挙げられる。）から、環を構成する原子に直接結合する水素原子１個を除いた基が挙げられる。また、アリール基は、これらの基が複数結合した基を含む。
アリール基は、置換基を有していてもよい。アリール基としては、例えば、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アントラセニル基、２－アントラセニル基、９－アントラセニル基、１－ピレニル基、２－ピレニル基、４－ピレニル基、２－フルオレニル基、３－フルオレニル基、４－フルオレニル基、２－フェニルフェニル基、３－フェニルフェニル基、４－フェニルフェニル基等が挙げられる。また、アリール基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
「アルコキシ基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１～４０であり、好ましくは４～１０である。分岐のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～４０であり、好ましくは４～１０である。
アルコキシ基は、置換基を有していてもよい。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７－ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。また、アルコキシ基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
アルコキシ基は、置換基を有していてもよい。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７－ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。また、アルコキシ基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
「シクロアルコキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～４０であり、好ましくは４～１０である。シクロアルコキシ基は、置換基を有していてもよい。
シクロアルコキシ基としては、例えば、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。また、シクロアルコキシ基は、このような基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
シクロアルコキシ基としては、例えば、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。また、シクロアルコキシ基は、このような基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
「アリールオキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６～６０であり、好ましくは６～４８である。
アリールオキシ基は、置換基を有していてもよい。アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、１－ナフチルオキシ基、２－ナフチルオキシ基、１－アントラセニルオキシ基、９－アントラセニルオキシ基、１－ピレニルオキシ基等が挙げられる。また、アリールオキシ基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
アリールオキシ基は、置換基を有していてもよい。アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、１－ナフチルオキシ基、２－ナフチルオキシ基、１－アントラセニルオキシ基、９－アントラセニルオキシ基、１－ピレニルオキシ基等が挙げられる。また、アリールオキシ基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
「アルキルスルフェニル基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルキルスルフェニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１～４０であり、好ましくは４～１０である。分岐のアルキルスルフェニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～４０であり、好ましくは４～１０である。
アルキルスルフェニル基は、置換基を有していてもよい。アルキルスルフェニル基としては、例えば、メチルスルフェニル基、エチルスルフェニル基、プロピルスルフェニル基、イソプロピルスルフェニル基、ブチルスルフェニル基、イソブチルスルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルスルフェニル基、ペンチルスルフェニル基、ヘキシルスルフェニル基、ヘプチルスルフェニル基、オクチルスルフェニル基、２－エチルヘキシルスルフェニル基、ノニルスルフェニル基、デシルスルフェニル基、３，７－ジメチルオクチルスルフェニル基、ラウリルスルフェニル基等が挙げられる。また、アルキルスルフェニル基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
アルキルスルフェニル基は、置換基を有していてもよい。アルキルスルフェニル基としては、例えば、メチルスルフェニル基、エチルスルフェニル基、プロピルスルフェニル基、イソプロピルスルフェニル基、ブチルスルフェニル基、イソブチルスルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルスルフェニル基、ペンチルスルフェニル基、ヘキシルスルフェニル基、ヘプチルスルフェニル基、オクチルスルフェニル基、２－エチルヘキシルスルフェニル基、ノニルスルフェニル基、デシルスルフェニル基、３，７－ジメチルオクチルスルフェニル基、ラウリルスルフェニル基等が挙げられる。また、アルキルスルフェニル基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
「シクロアルキルスルフェニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～４０であり、好ましくは４～１０である。
シクロアルキルスルフェニル基は、置換基を有していてもよい。シクロアルキルスルフェニル基としては、例えば、シクロヘキシルスルフェニル基が挙げられる。また、シクロアルキルスルフェニル基は、このような基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
シクロアルキルスルフェニル基は、置換基を有していてもよい。シクロアルキルスルフェニル基としては、例えば、シクロヘキシルスルフェニル基が挙げられる。また、シクロアルキルスルフェニル基は、このような基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
「アリールスルフェニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６～６０であり、好ましくは６～４８である。
アリールスルフェニル基は、置換基を有していてもよい。アリールスルフェニル基としては、例えば、フェニルスルフェニル基、１－ナフチルスルフェニル基、２－ナフチルスルフェニル基、１－アントラセニルスルフェニル基、９－アントラセニルスルフェニル基、１－ピレニルスルフェニル基等が挙げられる。また、アリールスルフェニル基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
アリールスルフェニル基は、置換基を有していてもよい。アリールスルフェニル基としては、例えば、フェニルスルフェニル基、１－ナフチルスルフェニル基、２－ナフチルスルフェニル基、１－アントラセニルスルフェニル基、９－アントラセニルスルフェニル基、１－ピレニルスルフェニル基等が挙げられる。また、アリールスルフェニル基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
「１価の複素環基」とは、複素環式化合物から、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち１個の水素原子を除いた残りの原子団を意味する。１価の複素環基の中でも、芳香族複素環式化合物から、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち１個の水素原子を除いた残りの原子団である「１価の芳香族複素環基」が好ましい。
「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、及び、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。
１価の複素環基としては、例えば、単環式の複素環式化合物（例えば、フラン、チオフェン、オキサジアゾール、ピロール、ジアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピリジン、ジアザベンゼン及びトリアジンが挙げられる。）、又は、多環式の複素環式化合物（例えば、アザナフタレン、ジアザナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、ベンゾジアゾール及びベンゾチアジアゾール等の２環式の複素環式化合物；ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ジベンゾホスホール、ジベンゾセレノフェン、カルバゾール、アザカルバゾール、ジアザカルバゾール、フェノキサジン、フェノチアジン、９，１０－ジヒドロアクリジン、５，１０－ジヒドロフェナジン、フェナザボリン、フェノホスファジン、フェノセレナジン、フェナザシリン、アザアントラセン、ジアザアントラセン、アザフェナントレン及びジアザフェナントレン等の３環式の複素環式化合物；ヘキサアザトリフェニレン、ベンゾカルバゾール、ベンゾナフトフラン及びベンゾナフトチオフェン等の４環式の複素環式化合物；ジベンゾカルバゾール、インドロカルバゾール及びインデノカルバゾール等の５環式の複素環式化合物；カルバゾロカルバゾール、ベンゾインドロカルバゾール及びベンゾインデノカルバゾール等の６環式の複素環式化合物；並びに、ジベンゾインドロカルバゾール等の７環式の複素環式化合物が挙げられる。）から、環を構成する原子に直接結合する水素原子１個を除いた基が挙げられる。また、１価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。
１価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２～６０であり、好ましくは３～２０であり、より好ましくは４～２０である。
１価の複素環基は、置換基を有していてもよい。１価の複素環基としては、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジニル基、ピペリジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基等が挙げられる。また、１価の複素環基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、及び、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。
１価の複素環基としては、例えば、単環式の複素環式化合物（例えば、フラン、チオフェン、オキサジアゾール、ピロール、ジアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピリジン、ジアザベンゼン及びトリアジンが挙げられる。）、又は、多環式の複素環式化合物（例えば、アザナフタレン、ジアザナフタレン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、ベンゾジアゾール及びベンゾチアジアゾール等の２環式の複素環式化合物；ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ジベンゾホスホール、ジベンゾセレノフェン、カルバゾール、アザカルバゾール、ジアザカルバゾール、フェノキサジン、フェノチアジン、９，１０－ジヒドロアクリジン、５，１０－ジヒドロフェナジン、フェナザボリン、フェノホスファジン、フェノセレナジン、フェナザシリン、アザアントラセン、ジアザアントラセン、アザフェナントレン及びジアザフェナントレン等の３環式の複素環式化合物；ヘキサアザトリフェニレン、ベンゾカルバゾール、ベンゾナフトフラン及びベンゾナフトチオフェン等の４環式の複素環式化合物；ジベンゾカルバゾール、インドロカルバゾール及びインデノカルバゾール等の５環式の複素環式化合物；カルバゾロカルバゾール、ベンゾインドロカルバゾール及びベンゾインデノカルバゾール等の６環式の複素環式化合物；並びに、ジベンゾインドロカルバゾール等の７環式の複素環式化合物が挙げられる。）から、環を構成する原子に直接結合する水素原子１個を除いた基が挙げられる。また、１価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。
１価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２～６０であり、好ましくは３～２０であり、より好ましくは４～２０である。
１価の複素環基は、置換基を有していてもよい。１価の複素環基としては、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジニル基、ピペリジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基等が挙げられる。また、１価の複素環基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。
「アミノ基」は、置換基を有していてもよく、置換アミノ基が好ましい。アミノ基が有する置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基が好ましい。アミノ基が有する置換基が複数存在する場合、それらは同一で異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する窒素原子とともに環を形成していてもよい。
置換アミノ基としては、二置換アミノ基が好ましい。二置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基及びジアリールアミノ基が挙げられる。
二置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス（４－メチルフェニル）アミノ基、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）アミノ基、ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）アミノ基が挙げられる。また、二置換アミノ基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
置換アミノ基としては、二置換アミノ基が好ましい。二置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基及びジアリールアミノ基が挙げられる。
二置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス（４－メチルフェニル）アミノ基、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）アミノ基、ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）アミノ基が挙げられる。また、二置換アミノ基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子、塩素原子等で置換された基であってもよい。
「置換基」とは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、アミノ基を表す。
＜含ホウ素縮合環化合物の製造方法＞
本実施形態に係る製造方法は、ハロゲン化工程と環化工程とを含む。ハロゲン化工程は、式（１）で表される部分構造を有する多環芳香族化合物の、環Ａ上の水素原子、環Ｂ上の水素原子及び環Ｃ上の水素原子からなる群より選択される少なくとも一つの水素原子（但し、ＨＡを除く）をハロゲン化して、ハロゲン化物を得る工程である。また、環化工程は、当該ハロゲン化物、又は、当該ハロゲン化物のハロゲン－金属交換反応により得られる有機金属化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物（Ｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＸは、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。）と、を反応させて、下記式（２）で表される部分構造を有する含ホウ素縮合環化合物を得る工程である。各工程において、原料、試薬などは、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
本実施形態に係る製造方法は、ハロゲン化工程と環化工程とを含む。ハロゲン化工程は、式（１）で表される部分構造を有する多環芳香族化合物の、環Ａ上の水素原子、環Ｂ上の水素原子及び環Ｃ上の水素原子からなる群より選択される少なくとも一つの水素原子（但し、ＨＡを除く）をハロゲン化して、ハロゲン化物を得る工程である。また、環化工程は、当該ハロゲン化物、又は、当該ハロゲン化物のハロゲン－金属交換反応により得られる有機金属化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物（Ｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＸは、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。）と、を反応させて、下記式（２）で表される部分構造を有する含ホウ素縮合環化合物を得る工程である。各工程において、原料、試薬などは、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
式中、環Ａ、環Ｂ及び環Ｃは、それぞれ独立に芳香環を表す。
ＨＡ、ＨＢ及びＨＣは、水素原子を表す。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基を表す。
Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよく、Ｒは環Ａ、環Ｂ又は環Ｃと結合して環を形成していてもよい。Ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ＨＡ、ＨＢ及びＨＣは、水素原子を表す。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基を表す。
Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよく、Ｒは環Ａ、環Ｂ又は環Ｃと結合して環を形成していてもよい。Ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
芳香環は、芳香族性を示す環であればよく、例えば、芳香族性を示す単環、芳香族性を示す縮合環等であってよい。
環Ａ、環Ｂ及び環Ｃは、好ましくは芳香族炭化水素環（例えば、上述の単環式の芳香族炭化水素又は縮合した芳香族炭化水素）であり、より好ましくはベンゼン環である。
Ｘ１及びＸ２は、含ホウ素縮合環化合物の安定性の観点から、好ましくは酸素原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基であり、より好ましくは－Ｎ（Ｒ）－で表される基である。
Ｒは、化合物の安定性の観点から、好ましくはアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアルキル基又はアリール基である。
Ｒが有していてよい置換基は、好ましくはハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基又はアミノ基であり、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアミノ基である。
多環芳香族化合物がハロゲン原子を有する場合、当該ハロゲン原子はフッ素原子又は塩素原子が好ましい。例えば、Ｒが有していてよい置換基におけるハロゲン原子は、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。
多環芳香族化合物は、式（１）で表される部分構造を１つ有する化合物であってよく、式（１）で表される部分構造を複数有する化合物であってもよい。多環芳香族化合物が複数の部分構造を有する場合、複数の部分構造は、その一部が互いに重複していてもよい。
式（１）で表される芳香族化合物の分子量は、好ましくは１０，０００以下であり、より好ましくは３，０００以下である。また、式（１）で表される芳香族化合物は分子量分布を有さない低分子化合物であることが好ましい。
式（１）で表される芳香族化合物の分子量は、好ましくは１０，０００以下であり、より好ましくは３，０００以下である。また、式（１）で表される芳香族化合物は分子量分布を有さない低分子化合物であることが好ましい。
含ホウ素縮合環化合物は、式（２）で表される部分構造を１つ有する化合物であってよく、式（２）で表される部分構造を複数有する化合物であってもよい。含ホウ素縮合環化合物が複数の部分構造を有する場合、複数の部分構造は、その一部が互いに重複していてもよい。
式（２）で表される含ホウ素縮合環化合物の分子量は、好ましくは１０，０００以下であり、より好ましくは３，０００以下である。また、式（２）で表される含ホウ素縮合環化合物は分子量分布を有さない低分子化合物であることが好ましい。
式（２）で表される含ホウ素縮合環化合物の分子量は、好ましくは１０，０００以下であり、より好ましくは３，０００以下である。また、式（２）で表される含ホウ素縮合環化合物は分子量分布を有さない低分子化合物であることが好ましい。
多環芳香族化合物としては、得られる含ホウ素縮合環化合物の安定性、合成のし易さの観点から、下記式（１Ａ）で表される化合物が好ましい。式（１Ａ）で表される化合物を用いることで、含ホウ素縮合環化合物として、下記式（２Ａ）で表される化合物が合成される。
式中、ＨＡ、ＨＢ、ＨＣ、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、１価の複素環基、アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、隣接する炭素原子に結合する基同士で結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のうち少なくとも一つは水素原子である。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、１価の複素環基、アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、隣接する炭素原子に結合する基同士で結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のうち少なくとも一つは水素原子である。
式（１Ａ）で表される化合物がハロゲン原子を有する場合、当該ハロゲン原子は、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。例えば、Ｒ１～Ｒ１１におけるハロゲン原子は、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。また、Ｒ１～Ｒ１１が有していてもよい置換基としてのハロゲン原子は、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。
式（１Ａ）で表される化合物は、Ｒ２及びＲ５のうち少なくとも一つが水素原子であることがより好ましい。
ハロゲン化工程は、多環芳香族化合物における、環Ａ上の水素原子（但し、ＨＡを除く）、環Ｂ上の水素原子（好ましくはＨＢ以外の水素原子）及び環Ｃ上の水素原子（好ましくはＨＣ以外の水素原子）からなる群より選択される少なくとも一つの水素原子をハロゲン化する工程である。ハロゲン化工程は、多環芳香族化合物中の一つ又は複数の水素原子をハロゲン化する工程であってよく、好ましくは多環芳香族化合物中の１～３個の水素原子をハロゲン化する工程であり、より好ましくは多環芳香族化合物中の一つの水素原子をハロゲン化する工程である。
ハロゲン化工程におけるハロゲン化は、好ましくは塩素化、臭素化又はヨウ素化であり、より好ましくは臭素化又はヨウ素化である。
好適な一態様において、ハロゲン化工程は、環Ｂ上の水素原子（好ましくはＨＢ以外の水素原子）及び環Ｃ上の水素原子（好ましくはＨＣ以外の水素原子）からなる群より選択される少なくとも一つの水素原子をハロゲン化する工程であってよく、環Ｂ上の水素原子（好ましくはＨＢ以外の水素原子）のうち少なくとも一つの水素原子をハロゲン化する工程であってもよい。
環ＢがＸ１と結合するベンゼン環を有する場合、ハロゲン化工程は、環ＢのＸ１に対するパラ位の水素原子（例えば、式（１Ａ）におけるＲ２）をハロゲン化する工程であることが好ましい。
好適な他の一態様において、ハロゲン化工程は、環Ａ上の水素原子（但し、ＨＡを除く）のうち少なくとも一つの水素原子をハロゲン化する工程であってよい。
環ＡがＨＡと結合するベンゼン環を有する場合、ハロゲン化工程は、環ＡのＨＡに対するメタ位の水素原子（例えば、式（１Ａ）におけるＲ５又はＲ７）をハロゲン化する工程であることが好ましい。
ハロゲン化工程では、多環芳香族化合物を出発原料とする多段階反応によってハロゲン化物を得てもよいが、多環芳香族化合物を出発原料とする一段階のハロゲン化反応によってハロゲン化物を得ることが好ましい。
ハロゲン化反応は、通常、溶媒中で行われる。ハロゲン化反応に用いられる溶媒としては、例えば、アルコール類、ニトリル類、エーテル類、芳香族炭化水素類、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン化炭化水素類、水、及びこれらの混合物等が挙げられる。また、ハロゲン化は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行われることが好ましい。
ハロゲン化反応は、例えば、多環芳香族化合物とハロゲン化剤との反応により実施できる。ハロゲン化剤としては、公知のハロゲン化剤を特に制限なく使用できる。ハロゲン化剤としては、例えば、塩素、臭素、ヨウ素、Ｎ－クロロスクシンイミド、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ヨードスクシンイミド等が挙げられる。
ハロゲン化剤の量は、多環芳香族化合物１モルに対して、通常０．１～１０モルであり、好ましくは０．３～３モルである。
ハロゲン化反応の反応温度は、通常－４０℃～２００℃、好ましくは－２０℃～５０℃である。ハロゲン化反応の反応時間は、通常０．１～１００時間、好ましくは０．５～４８時間である。
ハロゲン化反応の反応終了後は、公知の精製方法等を行うことで、ハロゲン化物を単離することができる。例えば、ハロゲン化反応の反応終了後、反応混合物に水を加え、有機溶媒で抽出して、有機層を乾燥させ又は濃縮し、必要に応じて昇華、抽出、晶析、クロマトグラフィー、吸着剤処理等の精製を行うことで、ハロゲン化物を得ることができる。
ハロゲン化工程で得られるハロゲン化物は、多環芳香族化合物における環Ａ上の水素原子（但し、ＨＡを除く）、環Ｂ上の水素原子（好ましくはＨＢ以外の水素原子）及び環Ｃ上の水素原子（好ましくはＨＣ以外の水素原子）からなる群より選択される少なくとも一つの水素原子が、ハロゲン原子に置換された化合物である。
ハロゲン化物の好適な一態様として、例えば、下記式（３Ｂ）で表される化合物が挙げられる。
式（３Ｂ）中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。Ｙ１は、ハロゲン原子を表す。
ハロゲン化物が式（３Ｂ）で表される化合物であると、後述の環化工程により、含ホウ素縮合環化合物として、下記式（２Ｂ）で表される化合物を得ることができる。
式（２Ｂ）中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
ハロゲン化物の好適な他の一態様として、例えば、下記式（３Ｃ）で表される化合物が挙げられる。
式（３Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。Ｙ２は、ハロゲン原子を表す。
ハロゲン化物が式（３Ｃ）で表される化合物であると、後述の環化工程により、含ホウ素縮合環化合物として、下記式（２Ｃ）で表される化合物を得ることができる。
式（２Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
環化工程は、ハロゲン化工程で得られたハロゲン化物、又は、ハロゲン化物のハロゲン－金属交換反応により得られる有機金属化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物とを反応させる工程である。
ホウ素化合物におけるＸは、好ましくはハロゲン原子であり、より好ましくは臭素原子又はヨウ素原子であり、更に好ましくはヨウ素原子である。
好適な一態様において、環化工程は、ハロゲン化物とホウ素化合物とを反応させる工程であってよい。ハロゲン化物が、多環芳香族化合物における、環Ｂ上の水素原子及び環Ｃ上の水素原子からなる群より選択される一つ又は複数の水素原子がハロゲン原子に置換された化合物である場合、本態様の環化工程を行うことが好ましい。
本態様において、ハロゲン化物とホウ素化合物との反応（環化反応）は、通常、溶媒中で行われる。環化反応に用いられる溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、及びこれらの混合物等が挙げられる。また、環化反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行われることが好ましい。
ホウ素化合物の量は、ハロゲン化物１モルに対して、通常０．１～２０モルであり、好ましくは０．３～１０モルである。
環化反応は、塩基の存在下で実施してもよい。塩基としては、例えば、ジイソプロピルエチルアミン等の３級アミンを好適に用いることができる。
塩基の量は、ハロゲン化物１モルに対して、通常０．１～３０モルであり、好ましくは０．３～１０モルである。
環化反応の反応温度は、通常０℃～２００℃、好ましくは室温～溶媒の沸点温度である。環化反応の反応時間は、通常０．１～１００時間、好ましくは０．５～４８時間である。
環化反応の反応終了後は、公知の精製方法等を行うことで、含ホウ素縮合環化合物を得ることができる。例えば、環化反応の反応終了後、反応混合物に水を加え、有機溶媒で抽出して、有機層を乾燥させ又は濃縮し、必要に応じて昇華、抽出、晶析、クロマトグラフィー、吸着剤処理等の精製を行うことで、含ホウ素縮合環化合物を得ることができる。
好適な他の一態様において、環化工程は、ハロゲン化物のハロゲン－金属交換反応により得られる有機金属化合物と、ホウ素化合物と、を反応させる工程であってよい。ハロゲン化物が、多環芳香族化合物における環Ａ上の一つ又は複数の水素原子（但し、ＨＡを除く）がハロゲン原子に置換された化合物である場合、本態様の環化工程を行うことが好ましい。
ハロゲン化物のハロゲン－金属交換反応は、ハロゲン化物中のハロゲン原子（ハロゲン化工程で導入されたハロゲン原子）の一つ又は複数を金属含有基に置換する反応ということができる。金属含有基としては、例えば、－Ｌｉ、－Ｎａ、－Ｋ、－ＭｇＸ３（Ｘ３はハロゲン原子（好ましくは、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子）を表す。）、－ＺｎＸ３（Ｘ３はハロゲン原子（好ましくは、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子）を表す。）等が挙げられ、好ましくは－Ｌｉ、－Ｎａ、－ＭｇＸ３であり、より好ましくは－Ｌｉである。
ハロゲン－金属交換反応は、通常、溶媒中で行われる。ハロゲン－金属交換反応に用いられる溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素類、エーテル類、非プロトン性極性溶媒、及びこれらの混合物等が挙げられ、後述の溶媒置換が不要となる観点からは、芳香族炭化水素類が好ましい。また、ハロゲン－金属交換反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行われることが好ましい。
ハロゲン－金属交換反応は、例えば、ハロゲン化物と金属化剤とを反応させて行うことができる。金属化剤としては、例えば、金属リチウム、アルキルリチウム、金属ナトリウム、金属カリウム、金属マグネシウム、アルキルマグネシウムクロリド、アルキルマグネシウムブロミド等が挙げられ、アルキルリチウムを特に好適に用いることができる。
金属化剤の量は、ハロゲン化物１モルに対して、通常０．１～１０モルであり、好ましくは０．３～３モルである。
ハロゲン－金属交換反応の反応温度は、通常－１００℃～１００℃である。ハロゲン－金属交換反応の反応時間は、通常０．１～１００時間、好ましくは０．５～４８時間である。
ハロゲン－金属交換反応の反応終了後は、必要に応じて溶媒置換を行った後、反応混合液にホウ素化合物を添加して、有機金属化合物とホウ素化合物との反応（環化反応）を行うことができる。
有機金属化合物とホウ素化合物との反応（環化反応）は、通常、溶媒中で行われる。環化反応に用いられる溶媒としては、芳香族炭化水素類が好ましい。また、環化反応は、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行われることが好ましい。
ホウ素化合物の量は、有機金属化合物（又は、ハロゲン－金属交換反応に用いたハロゲン化物）１モルに対して、通常０．１～３０モルであり、好ましくは０．３～１０モルである。
環化反応の反応温度は、通常０～２５０℃、好ましくは室温～２００℃である。環化反応の反応時間は、通常０．１～１００時間、好ましくは０．５～５０時間である。
環化反応の反応終了後は、公知の精製方法等を行うことで、含ホウ素縮合環化合物を得ることができる。例えば、環化反応の反応終了後、反応混合物に水を加え、有機溶媒で抽出して、有機層を乾燥させ又は濃縮し、必要に応じて昇華、抽出、晶析、クロマトグラフィー、吸着剤処理等の精製を行うことで、含ホウ素縮合環化合物を得ることができる。
本実施形態の製造方法として、例えば、下記の合成ルートによる製造方法が例示できる。
本実施形態の製造方法により製造される含ホウ素縮合環化合物として、例えば、下記の化合物が例示できる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。
上記実施形態は、ハロゲン化工程と環化工程とを含む製造方法として記載したが、本発明はこのような製造方法に限定されない。
例えば、本発明は、上述のハロゲン化物と上述のホウ素化合物とを反応させる環化工程を含む、含ホウ素縮合環化合物の製造方法であってもよい。このような本発明の一形態としては、上述の式（３Ｂ）で表される化合物と上述のホウ素化合物とを反応させて、上述の式（２Ｂ）で表される含ホウ素縮合環化合物を得る環化工程を含む、製造方法が挙げられる。
また、本発明は、上述の有機金属化合物と上述のホウ素化合物とを反応させる環化工程を含む、含ホウ素縮合環化合物の製造方法であってもよい。このような本発明の一形態としては、上述の式（３Ｃ）で表される化合物のハロゲン－金属交換反応により得られる有機金属化合物と上述のホウ素化合物とを反応させて、上述の式（２Ｃ）で表される含ホウ素縮合環化合物を得る環化工程を含む、製造方法が挙げられる。
また、本発明は、上述した各化合物（例えば、含ホウ素縮合環化合物、ハロゲン化物、有機金属化合物）に関するものであってもよい。
以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
ＬＣ－ＭＳは、下記の方法で測定した。
測定試料を約２ｍｇ／ｍＬの濃度になるようにクロロホルム又はテトラヒドロフランに溶解させ、ＬＣ－ＭＳ（Ａｇｉｌｅｎｔ製、商品名：１２９０ Ｉｎｆｉｎｉｔｙ ＬＣ及び６２３０ ＴＯＦ ＬＣ／ＭＳ）に約１μＬ注入した。ＬＣ－ＭＳの移動相には、アセトニトリル及びテトラヒドロフランの比率を変化させながら用い、１．０ｍＬ／分の流量で流した。カラムは、ＳＵＭＩＰＡＸ ＯＤＳ Ｚ－ＣＬＵＥ（住化分析センター製、内径：４．６ｍｍ、長さ：２５０ｍｍ、粒径３μｍ）を用いた。
測定試料を約２ｍｇ／ｍＬの濃度になるようにクロロホルム又はテトラヒドロフランに溶解させ、ＬＣ－ＭＳ（Ａｇｉｌｅｎｔ製、商品名：１２９０ Ｉｎｆｉｎｉｔｙ ＬＣ及び６２３０ ＴＯＦ ＬＣ／ＭＳ）に約１μＬ注入した。ＬＣ－ＭＳの移動相には、アセトニトリル及びテトラヒドロフランの比率を変化させながら用い、１．０ｍＬ／分の流量で流した。カラムは、ＳＵＭＩＰＡＸ ＯＤＳ Ｚ－ＣＬＵＥ（住化分析センター製、内径：４．６ｍｍ、長さ：２５０ｍｍ、粒径３μｍ）を用いた。
ＴＬＣ－ＭＳは、下記の方法で測定した。
測定試料をトルエン、テトラヒドロフラン又はクロロホルムのいずれかの溶媒に任意の濃度で溶解させ、ＤＡＲＴ用ＴＬＣプレート（テクノアプリケーションズ社製、商品名：ＹＳＫ５－１００）上に塗布し、ＴＬＣ－ＭＳ（日本電子製、商品名：ＪＭＳ－Ｔ１００ＴＤ（Ｔｈｅ ＡｃｃｕＴＯＦ ＴＬＣ））を用いて測定した。測定時のヘリウムガス温度は、２００℃～４００℃の範囲で調節した。
測定試料をトルエン、テトラヒドロフラン又はクロロホルムのいずれかの溶媒に任意の濃度で溶解させ、ＤＡＲＴ用ＴＬＣプレート（テクノアプリケーションズ社製、商品名：ＹＳＫ５－１００）上に塗布し、ＴＬＣ－ＭＳ（日本電子製、商品名：ＪＭＳ－Ｔ１００ＴＤ（Ｔｈｅ ＡｃｃｕＴＯＦ ＴＬＣ））を用いて測定した。測定時のヘリウムガス温度は、２００℃～４００℃の範囲で調節した。
ＮＭＲは、特に記載がない限り、下記の方法で測定した。
５～１０ｍｇの測定試料を約０．５ｍＬの重クロロホルム（ＣＤＣｌ３）、重テトラヒドロフラン、重ジメチルスルホキシド、重アセトン、重Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、重トルエン、重メタノール、重エタノール、重２－プロパノール又は重塩化メチレンに溶解させ、ＮＭＲ装置（Ａｇｉｌｅｎｔ製、商品名：ＩＮＯＶＡ３００、又は、ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製、商品名：ＪＮＭ－ＥＣＺ４００Ｓ／Ｌ１）を用いて測定した。
５～１０ｍｇの測定試料を約０．５ｍＬの重クロロホルム（ＣＤＣｌ３）、重テトラヒドロフラン、重ジメチルスルホキシド、重アセトン、重Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、重トルエン、重メタノール、重エタノール、重２－プロパノール又は重塩化メチレンに溶解させ、ＮＭＲ装置（Ａｇｉｌｅｎｔ製、商品名：ＩＮＯＶＡ３００、又は、ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製、商品名：ＪＮＭ－ＥＣＺ４００Ｓ／Ｌ１）を用いて測定した。
化合物の純度の指標として、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）面積百分率の値を用いた。この値は、特に記載がない限り、ＨＰＬＣ（島津製作所製、商品名：ＬＣ－２０Ａ）でのＵＶ＝２５４ｎｍにおける値とする。この際、測定する化合物は、０．０１～０．２重量％の濃度になるようにテトラヒドロフラン又はクロロホルムに溶解させ、濃度に応じてＨＰＬＣに１～１０μＬ注入した。ＨＰＬＣの移動相には、アセトニトリル／テトラヒドロフランの比率を１００／０～０／１００（容積比）まで変化させながら用い、１．０ｍＬ／分の流量で流した。カラムは、ＳＵＭＩＰＡＸ ＯＤＳ Ｚ－ＣＬＵＥ（住化分析センター製、内径：４．６ｍｍ、長さ：２５０ｍｍ、粒径３μｍ）又は同等の性能を有するＯＤＳカラムを用いた。検出器には、フォトダイオードアレイ検出器（島津製作所製、商品名：ＳＰＤ－Ｍ２０Ａ）を用いた。
＜実施例１＞
以下の方法で化合物（Ａ）を合成した。詳細を以下に示す。
以下の方法で化合物（Ａ）を合成した。詳細を以下に示す。
（化合物Ａ－１の合成）
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、１，３－ジブロモ－５－ｔｅｒｔ－ブチルベンゼン ２２．５５ｇ、ジフェニルアミン ２５．５７ｇ、ナトリウム－ｔｅｒｔ－ブトキシド １７．６５ｇ、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０） ０．８４ｇ、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィン ０．３４ｇ、トルエン ６８０ｍｌを加え５０℃で３時間撹拌した。反応液を冷却後、イオン交換水を滴下し、分液した。有機相をイオン交換水で分液洗浄した後、有機相に硫酸マグネシウムと活性炭を加えて１晩静置した。シリカゲルを敷いたフィルターを通して濾過し、得られた溶液を減圧濃縮し粗生成物を得た。酢酸エチル及びアセトニトリルの混合溶媒から再結晶し、２９．４３ｇの化合物Ａ－１を得た。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝４６９．２［Ｍ＋Ｈ］＋
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、１，３－ジブロモ－５－ｔｅｒｔ－ブチルベンゼン ２２．５５ｇ、ジフェニルアミン ２５．５７ｇ、ナトリウム－ｔｅｒｔ－ブトキシド １７．６５ｇ、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０） ０．８４ｇ、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルホスフィン ０．３４ｇ、トルエン ６８０ｍｌを加え５０℃で３時間撹拌した。反応液を冷却後、イオン交換水を滴下し、分液した。有機相をイオン交換水で分液洗浄した後、有機相に硫酸マグネシウムと活性炭を加えて１晩静置した。シリカゲルを敷いたフィルターを通して濾過し、得られた溶液を減圧濃縮し粗生成物を得た。酢酸エチル及びアセトニトリルの混合溶媒から再結晶し、２９．４３ｇの化合物Ａ－１を得た。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝４６９．２［Ｍ＋Ｈ］＋
（化合物Ａ－２の合成）
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物Ａ－１ ２０．８０ｇ、クロロホルム４２０ｍｌを加え、－２０℃に冷却した。Ｎ－ブロモスクシンイミド ７．５１ｇを加え、遮光下で５時間撹拌した。反応液に１質量％亜硫酸ナトリウム水溶液１１２ｇ滴下し、分液した。有機相をイオン交換水で分液洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）、次にトルエン及び２－プロパノールの混合溶媒から再結晶し、１２．３１ｇの化合物Ａ－２を得た。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝５４７［Ｍ＋Ｈ］＋
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物Ａ－１ ２０．８０ｇ、クロロホルム４２０ｍｌを加え、－２０℃に冷却した。Ｎ－ブロモスクシンイミド ７．５１ｇを加え、遮光下で５時間撹拌した。反応液に１質量％亜硫酸ナトリウム水溶液１１２ｇ滴下し、分液した。有機相をイオン交換水で分液洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過し、濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）、次にトルエン及び２－プロパノールの混合溶媒から再結晶し、１２．３１ｇの化合物Ａ－２を得た。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝５４７［Ｍ＋Ｈ］＋
（化合物Ａ－２のＮＭＲ測定）
化合物Ａ－２ １０ｍｇを、０．７５ｍｌの重クロロホルムに溶解させ、ＮＭＲ用測定試料を作製した。
４００ＭＨｚ溶液ＮＭＲ装置（装置名：ＪＮＭ－ＥＣＳ／Ｌ１、日本電子製）を用い、ＮＭＲ用測定試料を１Ｈ－ＮＭＲ法、ＨＭＱＣ法及びＨＭＢＣ法により測定した。
１Ｈ－ＮＭＲ法による測定は、観測周波数が３９９．７８ＭＨｚ、取り込み時間が２．１９秒、待ち時間が５秒、積算回数が８回となる条件で行った。
ＨＭＱＣ法による測定は、待ち時間が１．５秒、積算回数が４回、Ｆ１展開数が２５６となる条件で行った。
ＨＭＢＣ法による測定は、待ち時間が１．５秒、積算回数が４回、Ｆ１方向展開数が２５６となる条件で行った。
１Ｈ－ＮＭＲ法による測定結果を以下に示す。ＨＭＱＣ法により測定して得られたＮＭＲスペクトルを図１に示す。ＨＭＢＣ法により測定して得られたＮＭＲスペクトルを図２に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ） １．１２（９Ｈ、ｓ）、６．５９（１Ｈ、ｔ）、６．７０（１Ｈ、ｔ）、６．７６（１Ｈ、ｔ）、６．９２～６．９６（５Ｈ、ｍ）、７．０２～７．０７（６Ｈ、ｍ）、７．１７～７．２３（６Ｈ、ｍ）、７．２６（２Ｈ、ｄ）
化合物Ａ－２ １０ｍｇを、０．７５ｍｌの重クロロホルムに溶解させ、ＮＭＲ用測定試料を作製した。
４００ＭＨｚ溶液ＮＭＲ装置（装置名：ＪＮＭ－ＥＣＳ／Ｌ１、日本電子製）を用い、ＮＭＲ用測定試料を１Ｈ－ＮＭＲ法、ＨＭＱＣ法及びＨＭＢＣ法により測定した。
１Ｈ－ＮＭＲ法による測定は、観測周波数が３９９．７８ＭＨｚ、取り込み時間が２．１９秒、待ち時間が５秒、積算回数が８回となる条件で行った。
ＨＭＱＣ法による測定は、待ち時間が１．５秒、積算回数が４回、Ｆ１展開数が２５６となる条件で行った。
ＨＭＢＣ法による測定は、待ち時間が１．５秒、積算回数が４回、Ｆ１方向展開数が２５６となる条件で行った。
１Ｈ－ＮＭＲ法による測定結果を以下に示す。ＨＭＱＣ法により測定して得られたＮＭＲスペクトルを図１に示す。ＨＭＢＣ法により測定して得られたＮＭＲスペクトルを図２に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ） １．１２（９Ｈ、ｓ）、６．５９（１Ｈ、ｔ）、６．７０（１Ｈ、ｔ）、６．７６（１Ｈ、ｔ）、６．９２～６．９６（５Ｈ、ｍ）、７．０２～７．０７（６Ｈ、ｍ）、７．１７～７．２３（６Ｈ、ｍ）、７．２６（２Ｈ、ｄ）
各ＮＭＲスペクトルの解析結果から、化合物Ａ－２の構造が確認された。以下に、化合物Ａ－２の構造及び化学シフトを示す。
（化合物（Ａ）の合成）
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物Ａ－２ ８．５０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン ２．０１ｇ、三ヨウ化ホウ素（ＢＩ３） １２．１６ｇ、ｏ－ジクロロベンゼン １７０ｍｌを加え、１２０℃で２時間、１７０℃で５時間撹拌した。反応液を冷却後、トルエン１７０ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン １２．０ｇ、シリカゲル １７ｇを加え、３０分撹拌した。濾過後、減圧濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）、次にトルエン及びアセトニトリルの混合溶媒から再結晶し、２．１３ｇの化合物（Ａ）を得た。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝４７７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ） ６．１７（２Ｈ、ｓ）、６．７６（２Ｈ、ｄ）、７．２２～７．２７（２Ｈ、ｍ）、７．３７～７．４４（６Ｈ、ｍ）、７．５７～７．６２（２Ｈ、ｍ）、７．６８～７．７３（４Ｈ、ｍ）、８，９３（２Ｈ、ｄｄ）
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物Ａ－２ ８．５０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン ２．０１ｇ、三ヨウ化ホウ素（ＢＩ３） １２．１６ｇ、ｏ－ジクロロベンゼン １７０ｍｌを加え、１２０℃で２時間、１７０℃で５時間撹拌した。反応液を冷却後、トルエン１７０ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン １２．０ｇ、シリカゲル １７ｇを加え、３０分撹拌した。濾過後、減圧濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）、次にトルエン及びアセトニトリルの混合溶媒から再結晶し、２．１３ｇの化合物（Ａ）を得た。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝４７７［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ） ６．１７（２Ｈ、ｓ）、６．７６（２Ｈ、ｄ）、７．２２～７．２７（２Ｈ、ｍ）、７．３７～７．４４（６Ｈ、ｍ）、７．５７～７．６２（２Ｈ、ｍ）、７．６８～７．７３（４Ｈ、ｍ）、８，９３（２Ｈ、ｄｄ）
＜実施例２＞
以下の方法で化合物（Ｂ）を合成した。詳細を以下に示す。
以下の方法で化合物（Ｂ）を合成した。詳細を以下に示す。
（化合物Ｂ－１の合成）
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、２－ブロモ－５－クロロ－１，３－ジメチルベンゼン １０．０ｇ、４－ｔｅｒｔ－ブチルアニリン ８．１６ｇ、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０） ０．７５ｇ、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート ０．４２ｇ、ナトリウム ｔｅｒｔ－ブトキシド ６．５７ｇ、トルエン ３００ｍｌを加え、３５℃で１時間、５５℃で１時間撹拌した。反応液を冷却後、シリカゲル１３．１ｇとヘプタン３００ｍｌを加えた。シリカゲル２６．２ｇを敷いたフィルターを通して濾過後、ヘプタン及びトルエンの混合溶媒で洗浄した。得られたろ洗液を減圧濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）により精製し、１３．１６ｇの化合物Ｂ－１を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ） １．２８（９Ｈ、ｓ）、２．１８（６Ｈ、ｓ）、５．０３（１Ｈ、ｓ）、６．４５（２Ｈ、ｄ）、７．１０（２Ｈ、ｓ）、７．１７（２Ｈ、ｄ）
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、２－ブロモ－５－クロロ－１，３－ジメチルベンゼン １０．０ｇ、４－ｔｅｒｔ－ブチルアニリン ８．１６ｇ、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０） ０．７５ｇ、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート ０．４２ｇ、ナトリウム ｔｅｒｔ－ブトキシド ６．５７ｇ、トルエン ３００ｍｌを加え、３５℃で１時間、５５℃で１時間撹拌した。反応液を冷却後、シリカゲル１３．１ｇとヘプタン３００ｍｌを加えた。シリカゲル２６．２ｇを敷いたフィルターを通して濾過後、ヘプタン及びトルエンの混合溶媒で洗浄した。得られたろ洗液を減圧濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）により精製し、１３．１６ｇの化合物Ｂ－１を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ） １．２８（９Ｈ、ｓ）、２．１８（６Ｈ、ｓ）、５．０３（１Ｈ、ｓ）、６．４５（２Ｈ、ｄ）、７．１０（２Ｈ、ｓ）、７．１７（２Ｈ、ｄ）
（化合物Ｂ－２の合成）
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、１，３－ジブロモ－５－ｔｅｒｔ－ブチルベンゼン ２．８０ｇ、化合物Ｂ－１ ６．０７ｇ、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０） ０．３３ｇ、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート ０．１８ｇ、ナトリウム ｔｅｒｔ－ブトキシド ２．３０ｇ、トルエン ８４ｍｌを加え、５５℃で１時間、７０℃で２時間撹拌した。反応液を冷却後、セライト６．８ｇとヘキサン８４ｍｌを加えた。シリカゲル１３．５ｇを敷いたフィルターを通して濾過後、ヘキサン及びトルエンの混合溶媒で洗浄した。得られたろ洗液を減圧濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）により精製し、６．８５ｇの化合物Ｂ－２を得た。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝７０５．３［Ｍ＋Ｈ］＋
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、１，３－ジブロモ－５－ｔｅｒｔ－ブチルベンゼン ２．８０ｇ、化合物Ｂ－１ ６．０７ｇ、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０） ０．３３ｇ、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート ０．１８ｇ、ナトリウム ｔｅｒｔ－ブトキシド ２．３０ｇ、トルエン ８４ｍｌを加え、５５℃で１時間、７０℃で２時間撹拌した。反応液を冷却後、セライト６．８ｇとヘキサン８４ｍｌを加えた。シリカゲル１３．５ｇを敷いたフィルターを通して濾過後、ヘキサン及びトルエンの混合溶媒で洗浄した。得られたろ洗液を減圧濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）により精製し、６．８５ｇの化合物Ｂ－２を得た。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝７０５．３［Ｍ＋Ｈ］＋
（化合物Ｂ－３の合成）
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物Ｂ－２ ０．２０ｇ、クロロホルム １０ｍｌを加え、０℃に冷却した。Ｎ－ブロモスクシンイミド ５１ｍｇを加え、４．５時間撹拌した。反応液を１０質量％亜硫酸ナトリウム水溶液を加え３０分撹拌後、分液した。有機相を水洗後、減圧濃縮し、粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）により精製し、０．１６ｇの化合物Ｂ－３を得た。必要量の化合物Ｂ－３が得られるまで、上記操作を繰り返した。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝７８３．２［Ｍ＋Ｈ］＋
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物Ｂ－２ ０．２０ｇ、クロロホルム １０ｍｌを加え、０℃に冷却した。Ｎ－ブロモスクシンイミド ５１ｍｇを加え、４．５時間撹拌した。反応液を１０質量％亜硫酸ナトリウム水溶液を加え３０分撹拌後、分液した。有機相を水洗後、減圧濃縮し、粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）により精製し、０．１６ｇの化合物Ｂ－３を得た。必要量の化合物Ｂ－３が得られるまで、上記操作を繰り返した。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝７８３．２［Ｍ＋Ｈ］＋
（化合物Ｂ－３のＮＭＲ測定）
合成した化合物Ｂ－３ １０ｍｇを、０．７ｍｌの重クロロホルムに溶解させ、ＮＭＲ用測定試料を作製した。
６００ＭＨｚ溶液ＮＭＲ装置（装置名：ＡＶ－６００、Ｂｒｕｋｅｒ製）を用い、ＮＭＲ用測定試料を１Ｈ－ＮＭＲ法、ＴＯＣＳＹ法により測定した。
１Ｈ－ＮＭＲ法による測定は、観測周波数が６００．１３ＭＨｚ、取り込み時間が２．６６秒、待ち時間が１．０秒、積算回数が１６回、測定温度が４０℃となる条件で行った。
ＴＯＣＳＹ法による測定は、待ち時間が１．０秒、積算回数が８回、Ｆ１方向展開数が１２８、測定温度が４０℃となる条件で行った。
１Ｈ－ＮＭＲ法による測定結果を以下に示す。ＴＯＣＳＹ法により測定して得られたＮＭＲスペクトルを図３に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ） １．２６（９Ｈ、ｓ）、１．２７（９Ｈ、ｓ）、１．４２（９Ｈ、ｓ）、１．８４（６Ｈ、ｓ）、１．８７（６Ｈ、ｓ）、６．２５（１Ｈ、ｄ）、６．５１（２Ｈ、ｄ）、６．７１（２Ｈ、ｄ）、６．７８（１Ｈ、ｄ）、６．９４（２Ｈ、ｓ）、７．０２（２Ｈ、ｓ）、７．１０（２Ｈ、ｄ）、７．１４（２Ｈ、ｄ）
合成した化合物Ｂ－３ １０ｍｇを、０．７ｍｌの重クロロホルムに溶解させ、ＮＭＲ用測定試料を作製した。
６００ＭＨｚ溶液ＮＭＲ装置（装置名：ＡＶ－６００、Ｂｒｕｋｅｒ製）を用い、ＮＭＲ用測定試料を１Ｈ－ＮＭＲ法、ＴＯＣＳＹ法により測定した。
１Ｈ－ＮＭＲ法による測定は、観測周波数が６００．１３ＭＨｚ、取り込み時間が２．６６秒、待ち時間が１．０秒、積算回数が１６回、測定温度が４０℃となる条件で行った。
ＴＯＣＳＹ法による測定は、待ち時間が１．０秒、積算回数が８回、Ｆ１方向展開数が１２８、測定温度が４０℃となる条件で行った。
１Ｈ－ＮＭＲ法による測定結果を以下に示す。ＴＯＣＳＹ法により測定して得られたＮＭＲスペクトルを図３に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ） １．２６（９Ｈ、ｓ）、１．２７（９Ｈ、ｓ）、１．４２（９Ｈ、ｓ）、１．８４（６Ｈ、ｓ）、１．８７（６Ｈ、ｓ）、６．２５（１Ｈ、ｄ）、６．５１（２Ｈ、ｄ）、６．７１（２Ｈ、ｄ）、６．７８（１Ｈ、ｄ）、６．９４（２Ｈ、ｓ）、７．０２（２Ｈ、ｓ）、７．１０（２Ｈ、ｄ）、７．１４（２Ｈ、ｄ）
各ＮＭＲスペクトルの解析結果から、化合物Ｂ－３の構造が確認された。以下に、化合物Ｂ－３の構造及び化学シフトを示す。
（化合物（Ｂ）の合成）
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物Ｂ－３ １．０８ｇとキシレン３２ｍｌを加え、－４０℃に冷却しｓｅｃ－ブチルリチウム ２．５ｍｌ（１．０Ｍシクロヘキサン溶液）を滴下し、２時間撹拌した。ＢＢｒ３ ０．６９ｇを加え１時間撹拌した後、５０℃まで昇温し、１．５時間撹拌した。反応液を冷却後、トルエン３２ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン、１０質量％亜硫酸ナトリウム水溶液を加え３０分撹拌した。分液後、有機相を水洗し、減圧濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）にて精製後、トルエン及びアセトニトリルの混合溶媒から再結晶し０．２０ｇの化合物（Ｂ）を得た。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝７１３．３［Ｍ＋Ｈ］＋
反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物Ｂ－３ １．０８ｇとキシレン３２ｍｌを加え、－４０℃に冷却しｓｅｃ－ブチルリチウム ２．５ｍｌ（１．０Ｍシクロヘキサン溶液）を滴下し、２時間撹拌した。ＢＢｒ３ ０．６９ｇを加え１時間撹拌した後、５０℃まで昇温し、１．５時間撹拌した。反応液を冷却後、トルエン３２ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン、１０質量％亜硫酸ナトリウム水溶液を加え３０分撹拌した。分液後、有機相を水洗し、減圧濃縮し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相はヘキサン及びトルエンの混合溶媒）にて精製後、トルエン及びアセトニトリルの混合溶媒から再結晶し０．２０ｇの化合物（Ｂ）を得た。
ＴＬＣ－ＭＳ（ＤＡＲＴ ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝７１３．３［Ｍ＋Ｈ］＋
＜比較例１＞
以下の方法で、化合物（Ｂ）の合成を行った。
以下の方法で、化合物（Ｂ）の合成を行った。
具体的には、反応容器内を不活性ガス雰囲気とした後、化合物Ｂ－２ １．００ｇとｏ－ジクロロベンゼン １１ｍｌを加え、次いでＢＢｒ３ １．０６ｇを加え、１４０℃に昇温した。ＨＰＬＣ分析の結果、反応開始から６時間後に化合物（Ｂ）の面積百分率が２３％となったが、それ以上加熱を継続すると面積百分率が減少した。
Claims (12)
- 下記式（１）：
［式中、
環Ａは、Ｈ Ａ に対するパラ位にアルキル基又はシクロアルキル基を有するベンゼン環を表し、環Ｂ及び環Ｃは、それぞれ独立に芳香族炭化水素環を表す。
ＨＡ、ＨＢ及びＨＣは、水素原子を表す。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基を表す。
Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよく、Ｒは環Ａ、環Ｂ又は環Ｃと結合して環を形成していてもよい。Ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
で表される部分構造を有する多環芳香族化合物の、前記環Ａ上の水素原子、前記環Ｂ上の水素原子及び前記環Ｃ上の水素原子からなる群より選択される少なくとも一つの水素原子（但し、ＨＡを除く）を、Ｎ－ブロモスクシンイミド及び臭素からなる群より選択される少なくとも一種のハロゲン化剤でハロゲン化して、ハロゲン化物を得るハロゲン化工程と、
前記ハロゲン化物、又は、前記ハロゲン化物のハロゲン－金属交換反応により得られる有機金属化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物（Ｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＸは、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。）と、を反応させて、下記式（２）：
［式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］
で表される部分構造を有する含ホウ素縮合環化合物を得る環化工程と、
を含む、含ホウ素縮合環化合物の製造方法。 - 前記ハロゲン化工程が、前記環Ｂ上の水素原子及び前記環Ｃ上の水素原子からなる群より選択される少なくとも一つの水素原子がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記ハロゲン化物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、請求項１に記載の製造方法。 - 前記環Ｂが前記Ｘ１と結合するベンゼン環を有し、
前記ハロゲン化工程が、前記ベンゼン環の前記Ｘ１に対するパラ位の水素原子がハロゲン化される工程である、請求項２に記載の製造方法。 - 前記ハロゲン化工程が、前記環Ａ上の水素原子のうち少なくとも一つの水素原子（但し、ＨＡを除く）がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記有機金属化合物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、請求項１に記載の製造方法。 - 前記環Ａが前記ＨＡと結合するベンゼン環を有し、
前記ハロゲン化工程が、前記ベンゼン環の前記ＨＡに対するメタ位の水素原子がハロゲン化される工程である、請求項４に記載の製造方法。 - 前記多環芳香族化合物が、下記式（１Ａ）で表される化合物であり、
前記含ホウ素縮合環化合物が、下記式（２Ａ）で表される化合物である、請求項１に記載の製造方法。
［式中、
ＨＡ、ＨＢ、ＨＣ、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ ６ は、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５ 、Ｒ ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、１価の複素環基、アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５ 、Ｒ ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、隣接する炭素原子に結合する基同士で結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５ 、Ｒ ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のうち少なくとも一つは水素原子である。］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］ - 前記式（１Ａ）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のうち少なくとも一つが水素原子であり、
前記ハロゲン化工程が、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１のうち少なくとも一つの水素原子がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記ハロゲン化物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、請求項６に記載の製造方法。 - 前記式（１Ａ）におけるＲ２が水素原子であり、
前記ハロゲン化物が、下記式（３Ｂ）で表される化合物である、請求項７に記載の製造方法。
［式中、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｙ１は、ハロゲン原子を表す。］ - 前記式（１Ａ）におけるＲ ５ 及びＲ７のうち少なくとも一つが水素原子であり、
前記ハロゲン化工程が、Ｒ ５ 及びＲ７のうち少なくとも一つの水素原子がハロゲン化される工程であり、
前記環化工程が、前記有機金属化合物と前記ホウ素化合物とを反応させる工程である、請求項６に記載の製造方法。 - 前記式（１Ａ）におけるＲ５が水素原子であり、
前記ハロゲン化物が、下記式（３Ｃ）で表される化合物である、請求項９に記載の製造方法。
［式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｙ２は、ハロゲン原子を表す。］ - 下記式（３Ｂ）で表される化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物（Ｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＸは、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。）と、を反応させて、下記式（２Ｂ）で表される含ホウ素縮合環化合物を得る環化工程を含む、含ホウ素縮合環化合物の製造方法。
［式中、
ＨＡ、ＨＢ及びＨＣは、水素原子を表す。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基を表す。
Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよく、Ｒは、式（３Ｂ）中のベンゼン環と結合して環を形成していてもよい。Ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ ６ は、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５ 、Ｒ ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、１価の複素環基、アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５ 、Ｒ ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、隣接する炭素原子に結合する基同士で結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
Ｙ１は、ハロゲン原子を表す。］
［式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］ - 下記式（３Ｃ）で表される化合物のハロゲン－金属交換反応により得られる有機金属化合物と、ＢＸ３で表されるホウ素化合物（Ｘは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＸは、同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。）と、を反応させて、下記式（２Ｃ）で表される含ホウ素縮合環化合物を得る環化工程を含む、含ホウ素縮合環化合物の製造方法。
［式中、
ＨＡ、ＨＢ及びＨＣは、水素原子を表す。
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は－Ｎ（Ｒ）－で表される基を表す。
Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよく、Ｒは、式（３Ｃ）中のベンゼン環と結合して環を形成していてもよい。Ｒが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ ６ は、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４ 、Ｒ ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、１価の複素環基、アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４ 、Ｒ ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、隣接する炭素原子に結合する基同士で結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。
Ｙ２は、ハロゲン原子を表す。］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｘ１及びＸ２は、前記と同じ意味を表す。］
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2019139507A JP7267868B2 (ja) | 2019-07-30 | 2019-07-30 | 含ホウ素縮合環化合物の製造方法 |
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| JP2021020877A JP2021020877A (ja) | 2021-02-18 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7267868B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014103105A (ja) | 2012-10-24 | 2014-06-05 | Konica Minolta Inc | 透明電極、透明電極の製造方法、電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| WO2015102118A1 (ja) | 2014-02-18 | 2015-07-09 | 学校法人関西学院 | 多環芳香族化合物 |
| WO2017188111A1 (ja) | 2016-04-26 | 2017-11-02 | 学校法人関西学院 | 有機電界発光素子 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102390378B1 (ko) * | 2017-03-03 | 2022-04-26 | 삼성전자주식회사 | 유기금속 화합물, 이를 포함한 유기 발광 소자 및 이를 포함한 진단용 조성물 |
-
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2014103105A (ja) | 2012-10-24 | 2014-06-05 | Konica Minolta Inc | 透明電極、透明電極の製造方法、電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| WO2015102118A1 (ja) | 2014-02-18 | 2015-07-09 | 学校法人関西学院 | 多環芳香族化合物 |
| WO2017188111A1 (ja) | 2016-04-26 | 2017-11-02 | 学校法人関西学院 | 有機電界発光素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2021020877A (ja) | 2021-02-18 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A977 | Report on retrieval |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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