JP7265848B2 - 研磨パッド高さを決定する方法、および研磨システム - Google Patents
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Description
一態様では、前記第1ドレッサ高さを測定しているときから、前記第2ドレッサ高さを測定しているときまでの前記研磨パッドの減耗量の変化は、実質的に0である。
一態様では、前記第1ドレッサ高さは、前記基準ドレッサ高さである。
一態様では、前記ドレッサ高さの補正量を算出する工程は、前記第2ドレッサ高さの測定後であって、かつ前記研磨パッドによる基板の研磨後に、前記ドレッサが、前記第1ドレッシング荷重で前記研磨パッドを押圧しているときに、前記変位センサによって第3ドレッサ高さを測定し、前記ドレッサが、前記第1ドレッシング荷重とは異なる第2ドレッシング荷重で前記研磨パッドを押圧しているときに、前記変位センサによって第4ドレッサ高さを測定し、前記研磨パッド高さ監視部により、前記第4ドレッサ高さと前記第3ドレッサ高さの差に基づいて前記補正量を更新する工程をさらに含む。
一態様では、前記第3ドレッサ高さを測定しているときから、前記第4ドレッサ高さを測定しているときまでの前記研磨パッドの減耗量の変化は、実質的に0である。
一態様では、前記ドレッサ高さの補正量を算出する工程は、前記研磨パッド高さ監視部により、ドレッシング荷重の変化量と、ドレッサ高さの変化量との関係を表す関係式を用いて前記ドレッサ高さの補正量を算出する工程である。
一態様では、前記研磨パッド高さ監視部により、前記基準ドレッサ高さから、前記補正された現在のドレッサ高さを減算することで、前記研磨パッドの減耗量を算出する工程をさらに含む。
一態様では、前記補正量算出部は、ドレッシング荷重の変化量と、ドレッサ高さの変化量との関係を表す関係式を格納している。
(i)kが1の場合
kが1の場合は、1枚目の基板が研磨された後、基準ドレッシング荷重とは異なる第1ドレッシング荷重で、研磨パッド22の研磨面22aをドレッサ50でドレッシングし、第Nドレッサ高さを変位センサ60によって測定する。補正量算出部83は、第Nドレッサ高さと基準ドレッサ高さとの差であるドレッサ高さの補正量を算出する。より具体的には、補正量算出部83は、第Nドレッサ高さから基準ドレッサ高さを減算することによって、ドレッサ高さの補正量を算出する。一実施形態では、補正量算出部83は、基準ドレッサ高さから第Nドレッサ高さを減算することによって、ドレッサ高さの補正量を算出してもよい。
kが1以外の自然数である場合は、k枚目の基板が研磨される前は、基準ドレッシング荷重で研磨パッド22のドレッシングを行い、k枚目の基板が研磨された後は、基準ドレッシング荷重とは異なる第1ドレッシング荷重で研磨パッド22のドレッシングを行う。より具体的には、k-1枚目の基板が研磨された後、基準ドレッシング荷重で、研磨パッド22の研磨面22aをドレッサ50でドレッシングし、第N-1ドレッサ高さを変位センサ60によって測定する。k枚目の基板が研磨された後、第1ドレッシング荷重で、研磨パッド22の研磨面22aをドレッサ50でドレッシングし、第Nドレッサ高さを変位センサ60によって測定する。
ステップ10では、m枚目の基板研磨後に、第1ドレッシング荷重と異なる第2ドレッシング荷重で、研磨パッド22の研磨面22aをドレッサ50でドレッシングし、第N+2ドレッサ高さを変位センサ60によって測定する。
ステップ14では、パッド減耗量算出部86は、ステップ13で得られた補正された現在のドレッサ高さを基準ドレッサ高さから減算することで、研磨パッド22の減耗量を算出する。
12 研磨テーブル
12a テーブル軸
14 支軸
16 研磨ヘッド揺動アーム
18 研磨ヘッドシャフト
20 研磨ヘッド
22 研磨パッド
22a 研磨面
24 昇降機構
25 ロータリージョイント
26 軸受
28 ブリッジ
29 支持台
30 支柱
32 ボールねじ機構
32a ねじ軸
32b ナット
38 サーボモータ
40 ドレッシングユニット
47 動作制御部
48 モータドライバ
50 ドレッサ
50a ドレッシング面
51 ドレッサシャフト
53 エアシリンダ
55 ドレッサ揺動アーム
56 支柱
57 支持台
58 支軸
60 変位センサ
61 ターゲットプレート
63 センサホルダ
70 テーブル回転モータ
80 研磨パッド高さ監視部
83 補正量算出部
85 ドレッサ高さ補正部
86 パッド減耗量算出部
87 データ蓄積部
91 関係式決定部
Claims (11)
- 研磨パッドを支持する研磨テーブルと、
基板を前記研磨パッドの研磨面に押圧する研磨ヘッドと、
前記研磨パッドの研磨面をドレッシングするドレッサと、
ドレッサ高さを測定する変位センサとを備えた研磨装置における研磨パッド高さを決定する方法であって、
前記変位センサにより、基板の研磨に未だ使用されていない状態の前記研磨パッドの研磨面を基準ドレッシング荷重で押し付けているときの前記ドレッサのドレッシング面の高さである、基準ドレッサ高さを測定し、
前記研磨装置に接続された研磨パッド高さ監視部により、前記基準ドレッシング荷重からのドレッシング荷重の変化量に対応したドレッサ高さの補正量を算出し、
前記変位センサにより、前記研磨パッドの研磨面を押し付けているときの前記ドレッサのドレッシング面の現在の高さである、現在のドレッサ高さを測定し、
前記研磨パッド高さ監視部により、前記補正量を用いて前記現在のドレッサ高さの測定値を補正する方法。 - 前記ドレッサ高さの補正量を算出する工程は、
前記ドレッサが、前記基準ドレッシング荷重とは異なる第1ドレッシング荷重で前記研磨パッドを押圧しているときに、前記変位センサによって第2ドレッサ高さを測定し、
前記研磨パッド高さ監視部により、前記第2ドレッサ高さと第1ドレッサ高さとの差である前記補正量を算出する工程を含み、
前記第1ドレッサ高さは、前記研磨パッドの研磨面を前記基準ドレッシング荷重で押し付けているときの前記ドレッサのドレッシング面の高さであり、前記第2ドレッサ高さよりも前に、前記変位センサによって測定される、請求項1に記載の方法。 - 前記第1ドレッサ高さを測定しているときから、前記第2ドレッサ高さを測定しているときまでの前記研磨パッドの減耗量の変化は、実質的に0である、請求項2に記載の方法。
- 前記第1ドレッサ高さは、前記基準ドレッサ高さである、請求項2または3に記載の方法。
- 前記ドレッサ高さの補正量を算出する工程は、
前記第2ドレッサ高さの測定後であって、かつ前記研磨パッドによる基板の研磨後に、前記ドレッサが、前記第1ドレッシング荷重で前記研磨パッドを押圧しているときに、前記変位センサによって第3ドレッサ高さを測定し、
前記ドレッサが、前記第1ドレッシング荷重とは異なる第2ドレッシング荷重で前記研磨パッドを押圧しているときに、前記変位センサによって第4ドレッサ高さを測定し、
前記研磨パッド高さ監視部により、前記第4ドレッサ高さと前記第3ドレッサ高さの差に基づいて前記補正量を更新する工程をさらに含む、請求項2乃至4のいずれか一項に記載の方法。 - 前記第3ドレッサ高さを測定しているときから、前記第4ドレッサ高さを測定しているときまでの前記研磨パッドの減耗量の変化は、実質的に0である、請求項5に記載の方法。
- 前記ドレッサ高さの補正量を算出する工程は、
前記研磨パッド高さ監視部により、ドレッシング荷重の変化量と、ドレッサ高さの変化量との関係を表す関係式を用いて前記ドレッサ高さの補正量を算出する工程である、請求項1に記載の方法。 - 前記研磨パッド高さ監視部により、前記基準ドレッサ高さから、前記補正された現在のドレッサ高さを減算することで、前記研磨パッドの減耗量を算出する工程をさらに含む、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の方法。
- 基板を研磨する少なくとも1つの研磨装置と、
前記研磨装置に接続された研磨パッド高さ監視部とを備え、
前記研磨装置は、
研磨パッドを支持する研磨テーブルと、
基板を前記研磨パッドの研磨面に押圧する研磨ヘッドと、
前記研磨パッドの研磨面をドレッシングするドレッサと、
ドレッサ高さを測定する変位センサを備え、
前記研磨パッド高さ監視部は、
基準ドレッシング荷重からのドレッシング荷重の変化量に対応したドレッサ高さの補正量を算出する補正量算出部と、
前記変位センサによって測定された、前記研磨パッドの研磨面を押し付けているときの前記ドレッサのドレッシング面の現在の高さである、現在のドレッサ高さの測定値を、前記補正量を用いて補正するドレッサ高さ補正部を備えている研磨システム。 - 前記補正量算出部は、第2ドレッサ高さと第1ドレッサ高さとの差である前記補正量を算出するように構成されており、
前記第1ドレッサ高さは、前記研磨パッドの研磨面を前記基準ドレッシング荷重で押し付けているときの前記ドレッサのドレッシング面の高さであり、
前記第2ドレッサ高さは、前記基準ドレッシング荷重とは異なる第1ドレッシング荷重で前記研磨パッドの研磨面を押圧しているときの前記ドレッサのドレッシング面の高さである、請求項9に記載の研磨システム。 - 前記補正量算出部は、ドレッシング荷重の変化量と、ドレッサ高さの変化量との関係を表す関係式を格納している、請求項9に記載の研磨システム。
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Citations (4)
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---|---|---|---|---|
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010046756A (ja) | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Ebara Corp | 研磨方法および装置 |
JP2012056029A (ja) | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Ebara Corp | 研磨装置 |
US20140349552A1 (en) | 2013-05-15 | 2014-11-27 | Ebara Corporation | Dressing apparatus, polishing apparatus having the dressing apparatus, and polishing method |
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