JP7264888B2 - フッ素濃度測定方法、フッ素濃度測定装置、水処理方法および水処理装置 - Google Patents
フッ素濃度測定方法、フッ素濃度測定装置、水処理方法および水処理装置 Download PDFInfo
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Description
2,2A,2B: フッ素イオン電極計
4: 第1供給手段
5: フッ素除去部
6: 第2供給手段
7: フッ素化合物供給手段
9: 第3供給手段
10: 演算部
11,11A,11B: 排出液
12: 取水部
13: 混合部
14: 第2フッ素除去部
15: 第4供給手段
21: 第1吸着塔
22: 第2吸着塔
23: 被処理水流路
24: 直列接続流路
25: 処理水流路
31: フッ素イオン含有水
32: 中間処理水
33: 処理水
Claims (18)
- 試料水の電位をフッ素イオン電極計により計測し、電位値Pを得る工程と、
試料水をフッ素吸着剤と接触させてフッ素除去試料水を得る工程と、
前記フッ素除去試料水にフッ素化合物を加えてフッ素濃度C1の基準液を調製する工程と、
前記基準液の電位をフッ素イオン電極計により計測し、電位値P1を得る工程と、
前記電位値Pと前記電位値P1を比較して、前記試料水のフッ素濃度の前記フッ素濃度C1に対する大小関係を判定する工程とを有することを特徴とするフッ素濃度測定方法。 - 試料水の電位をフッ素イオン電極計により計測し、電位値Pを得る工程と、
試料水をフッ素吸着剤と接触させてフッ素除去試料水を得る工程と、
前記フッ素除去試料水にフッ素化合物を加えてフッ素濃度C1の第1基準液を調製する工程と、
前記フッ素除去試料水にフッ素化合物を加えてまたは加えないでフッ素濃度C2の第2基準液を調製する工程と、
前記第1基準液の電位をフッ素イオン電極計により計測し、電位値P1を得る工程と、
前記第2基準液の電位をフッ素イオン電極計により計測し、電位値P2を得る工程と、
前記フッ素濃度C1,C2と前記電位値P1,P2を用いて、フッ素濃度と電位値との相関を表す検量線を作成する工程と、
前記検量線に基づき、前記電位値Pに対応する前記試料水のフッ素濃度を算出する工程とを有することを特徴とするフッ素濃度測定方法。 - 前記基準液を調製する工程において、前記フッ素除去試料水に加えるフッ素化合物として、フッ素濃度が既知のフッ素標準液を用いる請求項1または2に記載のフッ素濃度測定方法。
- 前記電位値Pを得る工程において、前記試料水に、前記フッ素標準液をフッ素吸着剤と接触させた後のフッ素除去標準液を加え、得られた溶液の電位をフッ素イオン電極計により計測する請求項3に記載のフッ素濃度測定方法。
- 前記試料水のイオン強度が0.05mol/L~3.5mol/Lである請求項1~4のいずれか一項に記載のフッ素濃度測定方法。
- 前記試料水が、排煙脱硫設備から排出される排煙脱硫廃水である請求項1~5のいずれか一項に記載のフッ素濃度測定方法。
- フッ素イオン電極計を備えた計測部と、
前記計測部に試料水を供給する第1供給手段と、
フッ素吸着剤が配置されたフッ素除去部と、
前記フッ素除去部に試料水を供給する第2供給手段と、
前記フッ素除去部から排出されたフッ素除去試料水を前記計測部に供給する第3供給手段と、
前記計測部に移送された前記フッ素除去試料水にフッ素化合物を加え基準液を与えるフッ素化合物供給手段と、
前記計測部で計測した試料水と基準液の電位値から、前記試料水中のフッ素濃度の値または大小関係を算出する演算部とを有することを特徴とするフッ素濃度測定装置。 - フッ素イオン電極計を備えた計測部と、
前記計測部に試料水を供給する第1供給手段と、
フッ素吸着剤が配置されたフッ素除去部と、
前記フッ素除去部に試料水を供給する第2供給手段と、
前記フッ素除去部から排出されたフッ素除去試料水にフッ素化合物を加え基準液を与えるフッ素化合物供給手段と、
前記フッ素除去部から排出された前記フッ素除去試料水と前記フッ素化合物供給手段から供給された前記フッ素化合物とを混合して基準液を調製する混合部と、
前記基準液を前記計測部に供給する第3供給手段と、
前記計測部で計測した試料水と基準液の電位値から、前記試料水中のフッ素濃度の値または大小関係を算出する演算部とを有することを特徴とするフッ素濃度測定装置。 - 前記混合部は、前記フッ素除去部の出側に連通した流路に設けられている請求項8に記載のフッ素濃度測定装置。
- 前記計測部として、前記試料水を分析するための第1計測部と、前記基準液を分析するための第2計測部が設けられ、
前記第1供給手段は、前記第1計測部に前記試料水を供給するものであり、
前記第3供給手段は、前記第2計測部に前記フッ素除去試料水を供給するものである請求項7に記載のフッ素濃度測定装置。 - 前記計測部として、前記試料水を分析するための第1計測部と、前記基準液を分析するための第2計測部が設けられ、
前記第1供給手段は、前記第1計測部に前記試料水を供給するものであり、
前記第3供給手段は、前記第2計測部に前記基準液を供給するものである請求項8または9に記載のフッ素濃度測定装置。 - 前記フッ素濃度測定装置は、さらに、前記試料水を受け入れる取水部を有し、
前記第1供給手段として、前記取水部と前記計測部の入側とに連通した第1供給流路が設けられ、
前記第2供給手段として、前記取水部と前記フッ素除去部の入側とに連通した第2供給流路が設けられている請求項7~11のいずれか一項に記載のフッ素濃度測定装置。 - 前記フッ素化合物として、フッ素濃度が既知のフッ素標準液が用いられる請求項7~12のいずれか一項に記載のフッ素濃度測定装置。
- 前記フッ素濃度測定装置は、さらに、フッ素吸着剤が配置され、前記フッ素標準液が供給される第2フッ素除去部と、
前記第2フッ素除去部から排出されたフッ素除去標準液を前記計測部に供給する第4供給手段とを有する請求項13に記載のフッ素濃度測定装置。 - フッ素イオン含有水からフッ素イオンの少なくとも一部を除去し処理水を得る水処理方法であって、
請求項1~6のいずれか一項に記載のフッ素濃度測定方法により、処理水を前記試料水として、処理水中のフッ素濃度を測定することを特徴とする水処理方法。 - フッ素イオン含有水に薬剤を添加してフッ素イオンの少なくとも一部を除去する水処理方法であって、
請求項1~6のいずれか一項に記載のフッ素濃度測定方法により、フッ素イオン含有水を前記試料水として、フッ素イオン含有水中のフッ素濃度を測定し、この測定結果に基づき、前記フッ素イオン含有水への前記薬剤の添加量を決定することを特徴とする水処理方法。 - フッ素イオン含有水を、フッ素吸着剤が充填されたフッ素吸着塔に導入し、フッ素イオンの少なくとも一部を除去する水処理方法であって、
請求項1~6のいずれか一項に記載のフッ素濃度測定方法により、フッ素イオン含有水を前記試料水として、フッ素イオン含有水中のフッ素濃度を測定し、この測定結果に基づき、前記フッ素イオン含有水を希釈することを特徴とする水処理方法。 - フッ素イオン含有水からフッ素イオンの少なくとも一部を除去し処理水を得る水処理装置であって、
請求項7~14のいずれか一項に記載のフッ素濃度測定装置を備えることを特徴とする水処理装置。
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