JP7256727B2 - 滑水性膜及びその製造方法 - Google Patents
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Description
1. 疎水性領域及び親水性領域を含む滑水性膜であって、
(1)疎水部としてシリコーン(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸メチルとの共重合体セグメントに親水部として下記一般式(A)
(2)前記疎水部が前記疎水性領域を形成し、前記親水部は前記親水性領域を形成している相分離構造を有する、
ことを特徴とする滑水性膜。
2. 疎水-親水ブロックコポリマー中において、疎水部が80~90体積%であり、親水部が10~20体積%である、前記項1に記載の滑水性膜。
3. 前記膜に対する水滴(20μl)の転落角が50度以下である、前記項1又は2に記載の滑水性膜。
4. シリコーン(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸メチルとのモル比が1:5~95である、前記項1~3のいずれかに記載の滑水性膜。
5. 前記項1~4のいずれかに記載の滑水性膜が物品の表面に形成されてなる滑水性物品。
6. 滑水性膜を製造する方法であって、
(1)シリコーン(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸メチルとの共重合物に下記一般式(A)
(2)前記疎水-親水ブロックコポリマーを溶媒に溶解させることによって、溶液を調製する工程、
(3)前記溶液の膜を形成した後、前記膜を相分離させることによって、疎水性領域及び親水性領域を含む滑水性膜を形成する工程
を含む、滑水性膜の製造方法。
7. シリコーン(メタ)アクリレートの数平均分子量が800~5000である、前記項6に記載の製造方法。
11a シリコーン(メタ)アクリレート
11b (メタ)アクリル酸メチル
12 (メタ)アクリルアミド化合物(本発明化合物)
20 滑水性膜
a 疎水部
b 親水部
A 疎水性領域
B 親水性領域
B’ 孤立した疎水性領域を含んだ親水性領域
S 自己組織化
本発明の滑水性膜は、疎水性領域及び親水性領域を含む滑水性膜であって、
(1)疎水部としてシリコーン(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸メチルとの共重合体セグメントに親水部として下記一般式(A)
(2)前記疎水部が前記疎水性領域を形成し、前記親水部は前記親水性領域を形成している相分離構造を有する、
ことを特徴とする。
なお、本発明では、以下において、特にことわりのない限り、アクリレート又はメタクリレートを「(メタ)アクリレート」と総称し、アクリル酸又はメタクリル酸を「(メタ)アクリル酸」と総称し、アクリルアミド又はメタクリルアミドを「(メタ)アクリルアミド」と総称する。
本発明の滑水性膜は、滑水性を施す対象の表面に設けることによって使用することができる。すなわち、本発明は、滑水性膜が物品の表面に形成されてなる滑水性物品も包含する。
本発明の滑水性膜は、例えば滑水性膜を製造する方法であって、
(1)シリコーン(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸メチルとの共重合物に下記一般式(A):
(2)前記疎水-親水ブロックコポリマーを溶媒に溶解させることによって、溶液を調製する工程(第2工程)、
(3)前記溶液の膜を形成した後、前記塗膜を相分離させることによって、疎水性領域及び親水性領域を含む滑水性膜を形成する工程(第3工程)
を含む、滑水性膜の製造方法によって好適に製造することができる。
第1工程では、シリコーン(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸メチルとの共重合物に下記一般式(A):
第2工程では、前記疎水-親水ブロックコポリマーを溶媒に溶解させることによって、溶液(滑水性膜形成用溶液)を調製する。
第3工程では、前記溶液の膜を形成した後、前記塗膜を相分離させることによって、疎水性領域及び親水性領域を含む滑水性膜を形成する。
(1)FM-0711:製品名「サイラプレーン(登録商標)FM-0711」(Mn=1000,JNC株式会社製)
(2)KF-2012:製品名「KF-2012」(Mn=4600,信越シリコーン社製)
疎水部モノマーとしてFM-0711(3g,3mmol)、メタクリル酸メチル(MMA)(3.004g,30mmol)、RAFT試薬として2-シアノ-2-プロピルドデシルトリチオカルボナート(0.1037g,0.30mmol)、重合開始剤として2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオン酸)ジメチル(0.0863g,0.375mmol)及び溶媒として酢酸エチル(2g)をそれぞれ2口フラスコに入れ、反応混合物を窒素バブリングさせながら30分攪拌した。
反応混合物を80℃まで昇温し、7時間加熱撹拌した。反応途中、増粘を抑えるため、加温2時間後に酢酸エチル1g、3時間後に酢酸エチル1g、4時間後に酢酸エチル2gをそれぞれ追加し、固化しないように注意しながら反応を行った。
反応生成物について1H-NMRで反応転換率が99%以上であることを確認した後、親水部モノマーとしてN,N-ジメチルアクリルアミド(DMAA)(0.980g,9.90mmol)、重合開始剤として2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオン酸)ジメチル(0.069g,0.3mmol)及び溶媒として酢酸エチル(1.049g)を追加し、反応混合物をさらに80℃で3時間撹拌した。撹拌終了後、減圧乾燥することにより溶媒を留去し、目的とするブロックコポリマーを得た。
次いで、得られたブロックコポリマーを用い、酢酸エチルに溶解させることで固形分濃度5重量%のキャスト溶液を調製した。一方、シャーレに離型剤を塗布し、室温で1日乾燥し、100℃で1時間乾燥させた。その後、このシャーレにスライドガラスを入れた。次いで、前記溶液を液高さが1cmとなるようにシャーレに注いだ。室温(約25℃)で24時間かけて緩やかに溶媒を留去した。このようにして、スライドガラス表面に膜厚500μmのブロックコポリマー膜(自己組織化膜)を形成した。得られた膜の構造を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察した結果、自己組織化による相分離構造を有することが確認された。その結果を図4に示す。図4より、数十nmサイズのドメインが形成されていることから、ミクロ相分離構造となっていることが理解できる。
疎水部モノマーとしてKF-2012(1.517g,0.33mmol)、メタクリル酸メチル(2.971g,29.67mmol)、RAFT試薬として2-シアノ-2-プロピルドデシルトリチオカルボナート(0.104g,0.30mmol)、重合開始剤として2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオン酸)ジメチル(0.086g,0.375mmol)及び溶媒として酢酸エチル(2g)を2口フラスコに入れ、反応混合物を窒素バブリングさせながら30分攪拌した。反応混合物を80℃まで昇温し、7時間加熱撹拌した。反応途中、増粘を抑えるため、加温2時間後に酢酸エチル1g、3時間後に酢酸エチル1g、4時間後に酢酸メチル2gを追加し、固化しないように注意しながら反応を行った。
反応生成物について、1H-NMRで反応転換率が99%以上であることを確認した後、親水部モノマーとしてN,N-ジメチルアクリルアミド(0.743g,7.5mmol)、重合開始剤として2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオン酸)ジメチル(0.069g,0.30mmol)及び溶媒として酢酸エチル(0.812g)を追加し、反応混合物をさらに80℃で3時間撹拌した。撹拌終了後、減圧乾燥することにより溶媒を留去し、目的とするブロックコポリマーを得た。
次いで、得られたブロックコポリマーを用い、酢酸エチルに溶解させることで固形分濃度5重量%のキャスト溶液を調製した。一方、シャーレに離型剤を塗布し、室温で1日乾燥し、100℃で1時間乾燥させた。その後、このシャーレにスライドガラスを入れた。次いで、前記溶液を液高さが1cmとなるようにシャーレに注いだ。室温(約25℃)で24時間かけて緩やかに溶媒を留去した。このようにして、スライドガラス表面に膜厚500μmの膜を形成した。得られた膜の構造を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察した結果、自己組織化による相分離構造を有することが確認された。
疎水部モノマーとしてFM-0711(3g,3mmol)、メタクリル酸メチル(3.004g,30mmol)、RAFT試薬として2-シアノ-2-プロピルドデシルトリチオカルボナート(0.1037g,0.30mmol)、重合開始剤として2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオン酸)ジメチル(0.0863g,0.375mmol)及び溶媒として酢酸エチル(2g)を2口フラスコに入れ、反応混合物を窒素バブリングさせながら30分攪拌した。反応混合物を80℃まで昇温し、7時間加熱撹拌した。反応途中、増粘を抑えるため、加温2時間後に酢酸エチル1g、3時間後に酢酸エチル1g、4時間後に酢酸エチル2gを追加し、固化しないように注意しながら反応を行った。
反応生成物について、1H-NMRで反応転換率が99%以上であることを確認し、減圧乾燥により溶媒を留去することによって、目的とする疎水部のみのポリマーを得た。
次いで、得られたポリマーを用い、酢酸エチルに溶解させることで固形分濃度5重量%のキャスト溶液を調製した。一方、シャーレに離型剤を塗布し、室温で1日乾燥し、100℃で1時間乾燥させた。その後、このシャーレにスライドガラスを入れた。次いで、前記溶液を液高さが1cmとなるようにシャーレに注いだ。室温(約25℃)で24時間かけて緩やかに溶媒を留去した。このようにして、スライドガラス表面に膜厚500μmの膜を形成した。
疎水部モノマーとしてFM-0711(3g,3mmol)、メタクリル酸メチル(3.004g,30mmol)、親水部モノマーとしてN,N-ジメチルアクリルアミド(0.980g,9.90mmol)、RAFT試薬として2-シアノ-2-プロピルドデシルトリチオカルボナート(0.104g,0.30mmol)、重合開始剤として2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオン酸)ジメチル(0.086g,0.375mmol)及び溶媒として酢酸エチル(2g)を2口フラスコに入れ、反応混合物を窒素バブリングさせながら30分攪拌した。反応混合物を80℃まで昇温し、7時間加熱撹拌した。反応途中、増粘を抑えるため、加温2時間後に酢酸エチル1g、3時間後に酢酸エチル1g、4時間後に酢酸エチル2gを追加し、固化しないように注意しながら反応を行った。撹拌終了後、減圧乾燥することで溶媒を留去し、目的とするランダムコポリマーを得た。
次いで、得られたランダムコポリマーを用い、酢酸エチルに溶解させることで固形分濃度5重量%のキャスト溶液を調製した。一方、シャーレに離型剤を塗布し、室温で1日乾燥し、100℃で1時間乾燥させた。その後、このシャーレにスライドガラスを入れた。次いで、前記溶液を液高さが1cmとなるようにシャーレに注いだ。室温(約25℃)で24時間かけて緩やかに溶媒を留去した。このようにして、スライドガラス表面に膜厚500μmの膜を形成した。得られた膜の構造を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察した結果、相分離構造は確認されなかった。その結果を図5に示す。図5より、実施例1のような数十nmサイズのドメインが確認されないことから、ミクロ相分離構造が形成されていないことが理解できる。
膜形成方法として、実施例1の方法(アズキャスト法)に代えてスピンコーターを用いて実施したほかは、実施例1と同様に実施した。より具体的には、得られたランダムポリマーを用い、酢酸エチルに溶解させることにより固形分濃度30重量%の溶液を調製した後、得られた溶液を全面が濡れるようにガラス基材の上に置いた状態で回転させ、塗工、乾燥させた。スピンコーターは市販の装置(製品名「MIKASA SPINCOATER 1H-D7」ミカサ株式会社製)を用い、塗工条件は回転速度2000rpm、回転時間30秒、温度25℃とした。このようにして得られた膜をマイクロスコープで測定した結果、膜厚6μmであった。
膜形成方法として、実施例1の方法(アズキャスト法)に代えてバーコーターを用いて実施したほかは、実施例1と同様に実施した。より具体的には、得られたランダムポリマーを用い、酢酸エチルに溶解させることで固形分濃度30重量%の溶液を調製した後、得られた溶液をアプリケーターを用いて、ウエット膜厚が200μmとなるようにガラス基材の上に塗工した後、50℃で15分乾燥させた。このようにして、スライドガラス表面に理論膜厚60μmの膜を形成した。
疎水部モノマーとしてKF-2012(1.517g,0.33mmol)、メタクリル酸メチル(2.971g,29.67mmol)、RAFT試薬として2-シアノ-2-プロピルドデシルトリチオカルボナート(0.104g,0.30mmol)、重合開始剤として2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオン酸)ジメチル(0.086g,0.375mmol)及び溶媒として酢酸エチル(2g)を2口フラスコに入れ、反応混合物を窒素バブリングさせながら30分攪拌した。反応混合物を80℃まで昇温し、7時間加熱撹拌した。反応途中、増粘を抑えるため、加温2時間後に酢酸エチル1g、3時間後に酢酸エチル1g、4時間後に酢酸エチル2gを追加し、固化しないように注意しながら反応を行った。
反応生成物について、1H-NMRで反応転換率が99%以上であることを確認した後、減圧乾燥により溶媒を留去することで目的とする疎水部のみのポリマーを得た。
次いで、得られたポリマーを用い、酢酸エチルに溶解させることで固形分濃度5重量%のキャスト溶液を調製した。一方、シャーレに離型剤を塗布し、室温で1日乾燥し、100℃で1時間乾燥させた。その後、このシャーレにスライドガラスを入れた。次いで、前記溶液を液高さが1cmとなるようにシャーレに注いだ。室温(約25℃)で24時間かけて緩やかに溶媒を留去した。このようにして、スライドガラス表面に膜厚500μmの膜を形成した。
疎水部モノマーとしてKF-2012(1.517g,0.33mmol)、メタクリル酸メチル(2.971g,29.67mmol)、親水部モノマーとしてN,N-ジメチルアクリルアミド(0.743g,7.5mmol)、RAFT試薬として2-シアノ-2-プロピルドデシルトリチオカルボナート(0.104g,0.30mmol)、重合開始剤として2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオン酸)ジメチル(0.086g,0.375mmol)及び溶媒として酢酸エチル(2g)を2口フラスコに入れ、反応混合物を窒素バブリングさせながら30分攪拌した。反応混合物を80℃まで昇温し、7時間加熱撹拌した。反応途中、増粘を抑えるため、加温2時間後に酢酸エチル1g、3時間後に酢酸エチル1g、4時間後に酢酸エチル2gを追加し、固化しないように注意しながら反応を行った。撹拌終了後、減圧乾燥することで溶媒を留去し、目的とするランダムコポリマーを得た。
次いで、得られたランダムコポリマーを用い、酢酸エチルに溶解させることで固形分濃度5重量%のキャスト溶液を調製した。一方、シャーレに離型剤を塗布し、室温で1日乾燥し、100℃で1時間乾燥させた。その後、このシャーレにスライドガラスを入れた。次いで、前記溶液を液高さが1cmとなるようにシャーレに注いだ。室温(約25℃)で24時間かけて緩やかに溶媒を留去した。このようにして、スライドガラス表面に膜厚500μmの膜を形成した。
膜形成方法として、実施例2の方法(アズキャスト法)に代えてスピンコーターを用いて実施したほかは、実施例2と同様に実施した。より具体的には、得られたランダムポリマーを用い、酢酸エチルに溶解させることにより固形分濃度30重量%の溶液を調製した後、得られた溶液を全面が濡れるようにガラス基材の上に置いた状態で回転させ、塗工、乾燥させた。スピンコーターは市販の装置(製品名「MIKASA SPINCOATER 1H-D7」ミカサ株式会社製)を用い、塗工条件は回転速度2000rpm、回転時間30秒、温度25℃とした。このようにして得られた膜をマイクロスコープで測定した結果、膜厚6μmであった。
膜形成方法として、実施例2の方法(アズキャスト法)に代えてバーコーターを用いて実施したほかは、実施例2と同様に実施した。より具体的には、得られたランダムポリマーを用い、酢酸エチルに溶解させることで固形分濃度30重量%の溶液を調製した後、得られた溶液をアプリケーターを用いて、ウエット膜厚が200μmとなるようにガラス基材の上に塗工した後、50℃で15分乾燥させた。
実施例及び比較例で得られた膜の滑水性を調べた。滑水性は、温度25℃及び湿度60%の雰囲気下において、膜上に20μLの水を滴下し、水平面に対して0度からゆっくり角度を上げた場合に水滴が転がり落ちる時の角度(転落角)を測定した。その結果を表1に示す。なお、表1には、膜の組成等についても併せて表記する。
実施例1のBcPと比較例2の転落角を比較すると、BcPの方が小さくなっており、同じ組成でも構造の違いで滑水性が異なることわかる。
実施例1のアズキャスト膜と比較例3のスピンコート膜を比較すると、アズキャスト膜は水が滑るがスピンコート膜では水は滑っておらず、その滑水性に違いがあることがわかる。 実施例1のアズキャスト膜と比較例4のバー塗工膜を比較すると、アズキャスト膜は水が滑るがバー塗工膜では水は滑っていないことがわかる。
実施例1と実施例2のBcPの転落角を比較すると、実施例2の方が小さくなっており、シリコーンの分子量が大きくなることで滑水性が高くなることがわかる。
実施例2のBcPと比較例5の疎水部のみの転落角を比較すると、BcPの方が小さくなっており、BcPの方が高い滑水性をもつことがわかる。
実施例2のBcPと比較例6の転落角を比較すると、BcPの方が小さくなっており、同じ組成でも構造の違いで滑水性が異なることがわかる。
実施例2のアズキャスト膜と比較例7のスピンコート膜を比較すると、アズキャスト膜の方が滑水性は高くなっていることがわかる。
実施例2のアズキャスト膜と比較例8のバー塗工膜を比較すると、アズキャスト膜の方が滑水性は高いことがわかる。
Claims (7)
- 疎水-親水ブロックコポリマー中において、疎水部が80~90体積%であり、親水部が10~20体積%である、請求項1に記載の滑水性膜。
- 膜に対する水滴(20μl)の転落角が50度以下である、請求項1又は2に記載の滑水性膜。
- シリコーン(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸メチルとのモル比が1:5~95である、請求項1~3のいずれかに記載の滑水性膜。
- 請求項1~4のいずれかに記載の滑水性膜が物品の表面に形成されてなる滑水性物品。
- シリコーン(メタ)アクリレートの数平均分子量が800~5000である、請求項6に記載の製造方法。
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