JP7254688B2 - インク組成物及び消色方法 - Google Patents

Description

本開示は、インク組成物及び消色方法に関する。

近年、赤外線を吸収する画像（赤外線吸収画像）に関する検討がなされている。基材に記録された赤外線吸収画像を、所望の目的で使用した後に、消色させたいといった要求がある。

消色に関する技術として、例えば、特許文献１には、熱ラジカル発生剤又は光ラジカル発生剤のうち少なくとも一方と染料とを含有するインクジェット記録用インク組成物を被記録媒体上に付着して得られた記録物を、熱ラジカル発生剤が含有される場合は加熱して、又は光ラジカル発生剤が含有される場合は紫外線照射して、インクジェット記録用インク組成物を消色し、再利用可能な被記録媒体を製造する、再生被記録媒体の製造方法が記載されている。

また、赤外線吸収画像を記録可能なインクとして、例えば、特許文献２には、特定の式（Ｉ）で表される色素を含むインクが記載されている。

特開２０１２－２１９１８９号公報 特許第５２０２９１５号公報

しかしながら、特許文献１で用いられている染料は、着色を目的としたものであり、紫外線照射による消色性は不十分であった。また、特許文献２では、赤外線吸収画像の消色は着目されていない。

本開示はこのような事情に鑑みてなされたものであり、本発明の実施形態が解決しようとする課題は、吐出性に優れ、赤外線吸収画像を記録することができ、かつ、画像記録後に消色可能であるインク組成物及び消色方法を提供することにある。

上記課題を解決するための具体的手段は以下の態様を含む。
＜１＞極大吸収波長が８００ｎｍ～１２００ｎｍである赤外線吸収材料、ラジカル発生剤、及び水を含み、ラジカル発生剤の含有量が、インク組成物の全質量に対して０．３質量％～４質量％であるインク組成物。
＜２＞赤外線吸収材料の含有量に対するラジカル発生剤の含有量の比率は、質量基準で１～６である＜１＞に記載のインク組成物。
＜３＞水溶性有機溶剤をさらに含み、水溶性有機溶剤の含有量は、インク組成物の全質量に対して２０質量％～４５質量％である、＜１＞又は＜２＞に記載のインク組成物。
＜４＞ラジカル発生剤は、水に対する溶解度が１質量％以上の水溶性重合開始剤である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載のインク組成物。
＜５＞表面張力が２０ｍＮ／ｍ～３０ｍＮ／ｍである＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載のインク組成物。
＜６＞ラジカル発生剤は、下記式（Ｘ）で表される化合物を含む＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載のインク組成物。

式（Ｘ）中、Ｒ^Ｘ１、Ｒ^Ｘ２、Ｒ^Ｘ３、及びＲ^Ｘ４は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、ｎは、１以上４以下の整数を表す。
＜７＞式（Ｘ）で表される化合物の含有量は、インク組成物の全質量に対して０．５質量％～４質量％である＜６＞に記載のインク組成物。
＜８＞フッ素系界面活性剤をさらに含み、フッ素系界面活性剤の含有量は、インク組成物の全質量に対して０．００５質量％以上０．１質量％未満である＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載のインク組成物。
＜９＞赤外線吸収材料は、下記式（１）で表される赤外線吸収材料及び下記式（２）で表される赤外線吸収材料からなる群より選択される少なくとも１種である＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載のインク組成物。

式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基又はアリール基を表し、
Ｌ^１は、奇数個のメチン基からなるメチン鎖を表し、
Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環を形成するために必要な原子群又は芳香族ヘテロ環を形成するのに必要な原子群を表す。
Ｙ^１及びＹ^２は、それぞれ独立に、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＲ^Ｘ１－又はＣＲ^Ｘ２Ｒ^Ｘ３－を表し、Ｒ^Ｘ１、Ｒ^Ｘ２及びＲ^Ｘ３は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｖ^１及びＶ^２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、－ＯＲ^１０、－ＣＯＲ^１１、－ＣＯＯＲ^１２、－ＯＣＯＲ^１３、－ＮＲ^１４Ｒ^１５、－ＮＨＣＯＲ^１６、－ＣＯＮＲ^１７Ｒ^１８、－ＮＨＣＯＮＲ^１９Ｒ^２０、－ＮＨＣＯＯＲ^２１、－ＳＲ^２２、－ＳＯ_２Ｒ^２３、－ＳＯ_２ＯＲ^２４、－ＮＨＳＯ_２Ｒ^２５又はＳＯ_２ＮＲ^２６Ｒ^２７を表し、Ｒ^１０～Ｒ^２７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。－ＣＯＯＲ^１２のＲ^１２が水素原子である場合及びＳＯ_２ＯＲ^２４のＲ^２４が水素原子である場合、それぞれ、水素原子が解離していてもよいし、塩の状態であってもよい。
ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。
ｍ１が２～４の整数である場合、複数のＶ^１が、互いに結合して環を形成してもよく、ｍ２が２～４の整数である場合、複数のＶ^２が、互いに結合して環を形成してもよい。
式（１）中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ^１はアニオンを表し、ｃ１は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式（１）中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ^１はカチオンを表し、ｃ１は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式（１）中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ^１は存在しない。

式（２）中、Ｒ^１１～Ｒ^１８は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｖ^１１～Ｖ^１５は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基またはシアノ基を表し、Ｘ２はアニオンを表し、ｃ２は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、ｎ１～ｎ５は、それぞれ独立に、０～４である。
＜１０＞式（１）で表される赤外線吸収材料の少なくとも１種が、下記式（１Ａ）で表される赤外線吸収材料及び下記式（１Ｂ）で表される赤外線吸収材料からなる群より選択される少なくとも１種である＜９＞に記載のインク組成物。

式（１Ａ）及び式（１Ｂ）中、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^１Ｂ及びＲ^２Ｂは、それぞれ独立に、アルキル基を表し、
Ｌ^１Ａ及びＬ^１Ｂは、７個のメチン基からなるメチン鎖を表し、
Ｖ^１Ａ、Ｖ^２Ａ、Ｖ^１Ｂ及びＶ^２Ｂは、それぞれ独立に、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_３Ｈを表し、－ＣＯＯＨ及び－ＳＯ_３Ｈの水素原子はそれぞれ解離していてもよいし、塩の状態であってもよく、
ｍ１１、ｍ２１、ｍ１２及びｍ２２は、それぞれ独立に、０又は１を表し、
Ｘ^１Ａ及びＸ^１Ｂは、カチオンを表し、
ｃ１１及びｃ１２は、それぞれ独立に、電荷のバランスを取るために必要な数を表す。
＜１１＞＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載のインク組成物を、インクジェット記録方式を用いて基材上に付与して、赤外線吸収画像を記録する工程と、赤外線吸収画像に対して活性エネルギー線を照射して、赤外線吸収画像を消色させる工程と、を含む消色方法。
＜１２＞活性エネルギー線は、４００ｎｍ以下の波長領域に極大発光波長を有する紫外線である＜１１＞に記載の消色方法。

本開示によれば、吐出性に優れ、赤外線吸収画像を記録することができ、かつ、画像記録後に消色可能であるインク組成物及び消色方法を提供することができる。

以下、本開示のインク組成物、及び、消色方法について詳細に説明する。

本明細書において「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書において、「工程」という語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、「置換基を有してもよい」という語は、置換基を有しない無置換の場合と、置換基を有する場合の両方を包含する。

［インク組成物］
本開示のインク組成物は、極大吸収波長が８００ｎｍ～１２００ｎｍである赤外線吸収材料、ラジカル発生剤、及び水を含み、ラジカル発生剤の含有量が、インク組成物の全質量に対して０．５質量％～４質量％である。

本開示のインク組成物は、極大吸収波長が８００ｎｍ～１２００ｎｍである赤外線吸収材料を含むため、赤外線吸収画像を記録することができる。また、画像記録後に、例えば、活性エネルギー線を照射してラジカルを発生させることにより、ラジカルによって赤外線吸収材料を分解し、赤外線吸収画像を消色させることができる。

特許文献１に記載されているインクには、着色剤が含まれているため、画像記録後の消色性は不十分であった。また、従来、赤外線吸収画像を記録した後に消色させる方法は確立されておらず、本開示のインク組成物は、新たな用途への適用が期待できる。

以下、本開示のインク組成物に含まれる各成分について説明する。

＜赤外線吸収材料＞
本開示のインク組成物は、極大吸収波長が８００ｎｍ～１２００ｎｍである赤外線吸収材料を含む。

極大吸収波長は、以下の方法で測定される。赤外線吸収材料を水又はインク組成物中に含まれる有機溶剤に溶解させる。溶解度が低いものは、分散機を用いて分散させる。その後、イオン交換水又は純水で希釈し、分光光度計で測定し、極大吸収波長を求める。

本開示のインク組成物に用いられる赤外線吸収材料は、極大吸収波長が８００ｎｍ～１２００ｎｍであれば特に限定されないが、紫外線照射後の消色性の観点から、下記式（１）で表される赤外線吸収材料及び下記式（２）で表される赤外線吸収材料からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。

まず、式（１）で表される赤外線吸収材料について説明する。

式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基又はアリール基を表し、
Ｌ^１は、奇数個のメチン基からなるメチン鎖を表し、
Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環を形成するために必要な原子群又は芳香族ヘテロ環を形成するのに必要な原子群を表す。
Ｙ^１及びＹ^２は、それぞれ独立に、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＲ^Ｘ１－又はＣＲ^Ｘ２Ｒ^Ｘ３－を表し、Ｒ^Ｘ１、Ｒ^Ｘ２及びＲ^Ｘ３は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｖ^１及びＶ^２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、－ＯＲ^１０、－ＣＯＲ^１１、－ＣＯＯＲ^１２、－ＯＣＯＲ^１３、－ＮＲ^１４Ｒ^１５、－ＮＨＣＯＲ^１６、－ＣＯＮＲ^１７Ｒ^１８、－ＮＨＣＯＮＲ^１９Ｒ^２０、－ＮＨＣＯＯＲ^２１、－ＳＲ^２２、－ＳＯ_２Ｒ^２３、－ＳＯ_２ＯＲ^２４、－ＮＨＳＯ_２Ｒ^２５又はＳＯ_２ＮＲ^２６Ｒ^２７を表し、Ｒ^１０～Ｒ^２７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。－ＣＯＯＲ^１２のＲ^１２が水素原子である場合及びＳＯ_２ＯＲ^２４のＲ^２４が水素原子である場合、それぞれ、水素原子が解離していてもよいし、塩の状態であってもよい。
ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。
ｍ１が２～４の整数である場合、複数のＶ^１が、互いに結合して環を形成してもよく、ｍ２が２～４の整数である場合、複数のＶ^２が、互いに結合して環を形成してもよい。
式（１）中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ^１はアニオンを表し、ｃ１は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式（１）中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ^１はカチオンを表し、ｃ１は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式（１）中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ^１は存在しない。

Ｒ^１及びＲ^２のそれぞれで表される、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、及びヘテロ環基は、置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基及びアミノ基が挙げられる。中でも、置換基は、カルボキシ基又はスルホ基であることが好ましく、スルホ基であることがより好ましい。カルボキシ基（－ＣＯＯＨ基）及びスルホ基（－ＳＯ_３Ｈ基）は、水素原子が解離していてもよく（すなわち、カルボキシレート基（－ＣＯＯ^－基）及びスルホネート基（－ＳＯ_３ ^－基）の形態であってもよく）、塩の形態（例えば、－ＣＯＯＫ基、及び、－ＳＯ_３Ｋ基の形態）であってもよい。

赤外線吸収材料中のカルボキシ基が塩の形態である場合、塩の形態のカルボキシ基は、カルボキシレート基（－ＣＯＯ^－基）と、Ｘ^１で表されるカチオンとから形成されているものであってもよい。
赤外線吸収材料中のスルホ基が塩の形態である場合、塩の形態のスルホ基は、スルホネート基（－ＳＯ_３ ^－基）と、Ｘ^１で表されるカチオンとから形成されているものであってもよい。

Ｒ^１及びＲ^２のそれぞれで表されるアルキル基は、環状であっても鎖状であってもよい。鎖状アルキル基は、直鎖状アルキル基であってもよく、分岐鎖状アルキル基であってもよい。アルキル基の炭素数（置換基を有する場合には、置換基を除いた部分の炭素数）は、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８がさらに好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基及び２－エチルヘキシル基が挙げられる。置換基を有するアルキル基としては、２－ヒドロキシエチル基、２－カルボキシエチル基、２－メトキシエチル基、２－ジエチルアミノエチル基、２－スルホエチル基、３－スルホプロピル基、３－スルホブチル基及び４－スルホブチル基が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２のそれぞれで表されるアルケニル基は、環状であっても鎖状であってもよい。鎖状アルケニル基は、直鎖状アルケニル基であってもよく、分岐鎖状アルケニル基であってもよい。アルケニル基の炭素数（置換基を有する場合には、置換基を除いた部分の炭素数）は、２～２０が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましい。アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、１－プロペニル基、２－ブテニル基、２－ペンテニル基及び２－ヘキセニル基が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２のそれぞれで表されるアルキニル基は、環状であっても鎖状であってもよい。鎖状アルキニル基は、直鎖状アルキニル基であってもよく、分岐鎖状アルケニル基であってもよい。アルキニル基の炭素数（置換基を有する場合には、置換基を除いた部分の炭素数）は、２～２０が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましい。アルキニル基としては、エチニル基及び２－プロピニル基が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２のそれぞれで表されるアラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。置換基を有してもよいアラルキル基のアリール部分は、後述するアリール基と同様である。アラルキル基としては、ベンジル基及びフェネチル基が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２のそれぞれで表されるアリール基の炭素数（置換基を有する場合には、置換基を除いた部分の炭素数）は、６～２５が好ましく、６～１５がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。アリール基としては、フェニル基及びナフチル基が挙げられる。

置換基を有するアリール基としては、４－カルボキシフェニル基、４－アセトアミドフェニル基、３－メタンスルホンアミドフェニル基、４－メトキシフェニル基、３－カルボキシフェニル基、３，５－ジカルボキシフェニル基、４－メタンスルホンアミドフェニル基及び４－ブタンスルホンアミドフェニル基が挙げられる。

式（１）中、Ｌ^１は、奇数個のメチン基からなるメチン鎖を表す。
Ｌ^１は、３個、５個又は７個のメチン基からなるメチン鎖が好ましく、５個又は７個のメチン基からなるメチン鎖がより好ましく、７個のメチン基からなるメチン鎖がさらに好ましい。

メチン基は置換基を有してもよい。置換基を有するメチン基は、中央の（メソ位の）メチン基であることが好ましい。また、メチン鎖の二つの置換基が結合して５員環又は６員環を形成してもよい。

メチン基が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、－ＯＲ^１０、－ＣＯＲ^１１、－ＣＯＯＲ^１２、－ＯＣＯＲ^１３、－ＮＲ^１４Ｒ^１５、－ＮＨＣＯＲ^１６、－ＣＯＮＲ^１７Ｒ^１８、－ＮＨＣＯＮＲ^１９Ｒ^２０、－ＮＨＣＯＯＲ^２１、－ＳＲ^２２、－ＳＯ_２Ｒ^２３、－ＳＯ_２ＯＲ^２４、－ＮＨＳＯ_２Ｒ^２５及びＳＯ_２ＮＲ^２６Ｒ^２７が挙げられる。Ｒ^１０～Ｒ^２７は、それぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。なお、－ＣＯＯＲ^１２のＲ^１２が水素原子である場合（すなわち、カルボキシ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボキシレート基（－ＣＯＯ^－基）であってもよく）、塩（例えば、－ＣＯＯＫ基）の状態であってもよい。また、－ＳＯ_２ＯＲ^２４のＲ^２４が水素原子である場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。

メチン基が有してもよい置換基のうち、脂肪族基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基及びアラルキル基が挙げられる。脂肪族基の好ましい態様は、Ｒ^１及びＲ^２のそれぞれで表されるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、及びアラルキル基の好ましい態様と同様である。また、Ｒ^１０～Ｒ^２７のそれぞれで表される脂肪族基の好ましい態様も同様である。

メチン基が有してもよい置換基のうち、アリール基の好ましい態様は、Ｒ^１及びＲ^２のそれぞれで表されるアリール基の好ましい態様と同様である。また、Ｒ^１０～Ｒ^２７のそれぞれで表されるアリール基の好ましい態様も同様である。

メチン基が有してもよい置換基のうち、ヘテロ環基におけるヘテロ環は、５員環又は６員環であることが好ましい。ヘテロ環は、単環であってもよく縮合環であってもよい。ヘテロ環としては、ピリジン環、ピペリジン環、フラン環基、フルフラン環、チオフェン環、ピロール環、キノリン環、モルホリン環、インドール環、イミダゾール環、ピラゾール環、カルバゾール環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、インドリン環、チアゾール環、ピラジン環、チアジアジン環、ベンゾキノリン環及びチアジアゾール環が挙げられる。また、Ｒ^１０～Ｒ^２７のそれぞれで表される、ヘテロ環基の好ましい態様も同様である。

以下、Ｌ^１で表されるメチン鎖の具体例を示すが、Ｌ^１で表されるメチン鎖は、以下の具体例に限定されるものではない。以下の具体例において、＊は、結合位置を意味する。

Ｌ^１で表されるメチン鎖は、画像記録後の消色性の観点から、基Ｌ１－６～基Ｌ１－３０が好ましく、基Ｌ１－１２～基Ｌ１－３０がより好ましく、基Ｌ１－１２、基Ｌ１－１５又は基Ｌ１－２９がさらに好ましい。

式（１）中、Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環を形成するために必要な原子群又は芳香族ヘテロ環を形成するのに必要な原子群を表す。芳香族炭化水素環及び芳香族ヘテロ環は、置換基を有してもよい。

Ｂ^１及びＢ^２のそれぞれによって形成される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、及びナフタレン環が挙げられる。

Ｂ^１及びＢ^２のそれぞれにより形成される芳香族ヘテロ環としては、環を構成する原子に少なくとも１つの窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を有する芳香族ヘテロ環が好ましい。Ｂ^１及びＢ^２のそれぞれにより形成される芳香族ヘテロ環は、他の環（脂環、芳香環又はヘテロ環）で縮合していてもよい。Ｂ^１及びＢ^２のそれぞれにより形成される芳香族ヘテロ環としては、５員環～１０員環が好ましい。Ｂ^１及びＢ^２のそれぞれにより形成される芳香族ヘテロ環としては、ピリジン環、ジベンゾフラン環、及びカルバゾール環が挙げられる。

Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環（好ましくは、ベンゼン環）を形成するために必要な原子群を表すこと（例えば、後述の式（１Ａ）又は式（１Ｂ）の態様）が好ましい。

式（１）中、Ｙ^１及びＹ^２は、それぞれ独立に－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＲ^Ｘ１－又はＣＲ^Ｘ２Ｒ^Ｘ３－を表し、Ｒ^Ｘ１、Ｒ^Ｘ２及びＲ^Ｘ３は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。

Ｙ^１及びＹ^２は、－ＮＲ^Ｘ１－又は－ＣＲ^Ｘ２Ｒ^Ｘ３－であることが好ましく、－ＣＲ^Ｘ２Ｒ^Ｘ３－であることがより好ましい。
Ｒ^Ｘ１、Ｒ^Ｘ２及びＲ^Ｘ３は、アルキル基であることが好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましい。アルキル基は、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、及び環状アルキル基のいずれでもよい。中でも、直鎖状アルキル基又は分岐鎖状アルキル基が好ましく、直鎖状アルキル基がより好ましい。アルキル基としては、メチル基又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。

式（１）中、Ｖ^１及びＶ^２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、－ＯＲ^１０、－ＣＯＲ^１１、－ＣＯＯＲ^１２、－ＯＣＯＲ^１３、－ＮＲ^１４Ｒ^１５、－ＮＨＣＯＲ^１６、－ＣＯＮＲ^１７Ｒ^１８、－ＮＨＣＯＮＲ^１９Ｒ^２０、－ＮＨＣＯＯＲ^２１、－ＳＲ^２２、－ＳＯ_２Ｒ^２３、－ＳＯ_２ＯＲ^２４、－ＮＨＳＯ_２Ｒ^２５又はＳＯ_２ＮＲ^２６Ｒ^２７を表し、Ｒ^１０～Ｒ^２７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。－ＣＯＯＲ^１２のＲ^１２が水素原子である場合及びＳＯ_２ＯＲ^２４のＲ^２４が水素原子である場合、それぞれ、水素原子が解離していてもよいし（すなわち、それぞれ、－ＣＯＯ^－基及び－ＳＯ_３ ^－基であってもよいし）、塩の状態であってもよい（例えば、それぞれ、－ＣＯＯＫ及び－ＳＯ_３Ｋ基の状態であってもよい）。
ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。
ｍ１が２～４の整数である場合、複数のＶ^１が、互いに結合して環を形成してもよく、ｍ２が２～４の整数である場合、複数のＶ^２が、互いに結合して環を形成してもよい。

Ｖ^１及びＶ^２のそれぞれの好ましい態様は、メチン基が有していてもよい置換基の好ましい態様と同様である。

式（１）の好ましい一の態様は、ｍ１及びｍ２がそれぞれ２であり、２個のＶ^１が、互いに結合し、置換基を有してもよいベンゼン環を形成し、２個のＶ^２が、互いに結合し、置換基を有してもよいベンゼン環を形成している態様である。また、式（１）の好ましい他の態様は、ｍ１及びｍ２がそれぞれ１である態様である。

式（１）のより好ましい一の態様は、ｍ１及びｍ２が、それぞれ２であり、２個のＶ^１及び２個のＶ^２が、互いに結合し、置換基（好ましくは、カルボキシレート基、カルボキシ基の塩、スルホネート基、又はスルホ基の塩、特に好ましくは、スルホネート基、又はスルホ基の塩）を有するベンゼン環を形成している態様である。また、式（１）のより好ましい他の態様は、ｍ１及びｍ２がそれぞれ１であり、Ｖ^１及びＶ^２がカルボキシレート基、カルボキシ基の塩、スルホネート基、又はスルホ基の塩、特に好ましくは、スルホネート基、又はスルホ基の塩である態様である。

式（１）中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ^１はアニオンを表し、ｃ１は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式（１）中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ^１はカチオンを表し、ｃ１は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式（１）中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ^１は存在しない。

Ｘ^１で表されるアニオンとしては、ハライドイオン（例えば、Ｃｌ^－、Ｂｒ^－及びＩ^－）、ｐ－トルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＰＦ_６ ^－、ＢＦ_４ ^－又はＣｌＯ_４ ^－、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオン（例えば、（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ^－）、ジ（ハロゲノアルキルスルホニル）イミドアニオン（例えば、（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ^－）、及びテトラシアノボレートアニオンが挙げられる。

Ｘ^１で表されるカチオンとしては、アルカリ金属イオン（例えば、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋及びＫ^＋）、アルカリ土類金属イオン（例えば、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｂａ^２＋及びＳｒ^２＋）、遷移金属イオン（例えば、Ａｇ^＋、Ｆｅ^２＋、Ｃｏ^２＋、Ｎｉ^２＋、Ｃｕ^２＋及びＺｎ^２＋）、その他の金属イオン（例えば、Ａｌ^３＋）、アンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、トリブチルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、グアニジニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン、及びジアザビシクロウンデセニウムが挙げられる。Ｘ^１で表されるカチオンは、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｚｎ^２＋、Ｓｒ^２＋、Ａｌ^３＋又はトリエチルアンモニウムイオンであることが好ましい。

式（１）中、ｃ１は、電荷のバランスを取るために必要な数であれば特に限定はない。式（１）中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ^１は存在しない。

本開示において、「電荷のバランスを取るために必要な数」とは、化合物全体の電荷を中和するために必要な数を意味するｃ１としては、例えば、０、１／２、１、３／２及び３が挙げられる。

画像記録後の消色性の観点から、赤外線吸収材料の少なくとも１種は、下記式（１Ａ）で表される赤外線吸収材料及び下記式（１Ｂ）で表される赤外線吸収材料からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
この場合、式（１）で表される赤外線吸収材料中に占める式（１Ａ）で表される赤外線吸収材料及び式（１Ｂ）で表される赤外線吸収材料の割合は、好ましくは５０質量％～１００質量％であり、より好ましくは６０質量％～１００質量％であり、さらに好ましくは８０質量％～１００質量％である。

式（１Ａ）及び式（１Ｂ）中、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^１Ｂ及びＲ^２Ｂは、それぞれ独立に、アルキル基を表し、
Ｌ^１Ａ及びＬ^１Ｂは、７個のメチン基からなるメチン鎖を表し、
Ｖ^１Ａ、Ｖ^２Ａ、Ｖ^１Ｂ及びＶ^２Ｂは、それぞれ独立に、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_３Ｈを表し、－ＣＯＯＨ及び－ＳＯ_３Ｈの水素原子はそれぞれ解離していてもよいし、塩の状態であってもよく、
ｍ１１、ｍ２１、ｍ１２及びｍ２２は、それぞれ独立に、０又は１を表し、
Ｘ^１Ａ及びＸ^１Ｂは、カチオンを表し、
ｃ１１及びｃ１２は、それぞれ独立に、電荷のバランスを取るために必要な数を表す。

式（１Ａ）中、Ｒ^１Ａ及びＲ^２Ａのそれぞれで表されるアルキル基は、環状であっても鎖状であってもよい。鎖状アルキル基は、直鎖状アルキル基であってもよく、分岐鎖状アルキル基であってもよい。アルキル基の炭素数（置換基を有する場合には、置換基を除いた部分の炭素数）は、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８がさらに好ましく、１～４が特に好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基及び２－エチルヘキシル基が挙げられる。置換基を有するアルキル基としては、２－ヒドロキシエチル基、２－カルボキシエチル基、２－メトキシエチル基、２－ジエチルアミノエチル基、２－スルホエチル基、３－スルホプロピル基、３－スルホブチル基及び４－スルホブチル基が挙げられる。アルキル基は、置換基を有していてもよいが、置換基を有していないことが好ましく、すなわち、無置換のアルキル基であることが好ましい。

式（１Ａ）中のＬ^１Ａで表される、７個のメチン基からなるメチン鎖の好ましい態様は、メチン基の数が７個に限定されていることを除き、式（１）中のＬ^１で表されるメチン鎖と同様である。

Ｌ^１Ａとしては、前述した具体例における基Ｌ１－１２～基Ｌ１－３０がより好ましく、基Ｌ１－１６、基Ｌ１－１７、基Ｌ１－１８、基Ｌ１－２０、基Ｌ１－２１、基Ｌ１－２５又は基Ｌ１－２９がさらに好ましく、基Ｌ１－２１又は基Ｌ１－２９が特に好ましい。

式（１Ａ）中、Ｖ^１Ａ及びＶ^２Ａは、それぞれ独立に、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_３Ｈを表し、－ＣＯＯＨ及び－ＳＯ_３Ｈの水素原子はそれぞれ解離していてもよいし（すなわち、それぞれ、－ＣＯＯ^－基及び－ＳＯ_３ ^－基であってもよいし）、塩の状態であってもよい（例えば、それぞれ、－ＣＯＯＫ及び－ＳＯ_３Ｋ基の状態であってもよい）。画像記録後の消色性の観点から、Ｖ^１Ａ及びＶ^２Ａは、－ＳＯ_３Ｈを表すことが好ましく、－ＳＯ_３Ｈの水素原子は解離していてもよいし、塩の状態であってもよい。

式（１Ａ）中、ｍ１１及びｍ２１は、それぞれ独立に、０又は１を表す。ｍ１１及びｍ２１は、１であることが好ましい。

式（１Ａ）中、ｃ１１は電荷のバランスを取るために必要な数を表す。ｃ１１は、０、１／２、１、３／２、２又は３であることが好ましく、０又は１であることがより好ましい。

式（１Ａ）中、Ｘ^１Ａで表されるカチオンの好ましい態様は、式（１）中のＸ^１で表されるカチオンの好ましい態様と同様である。Ｘ^１Ａで表されるカチオンは、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋又はＺｎ^２＋であることが好ましく、より好ましくはＫ^＋である。

式（１Ｂ）中、Ｒ^１B及びＲ^２Bのそれぞれで表されるアルキル基は、環状であっても鎖状であってもよい。鎖状アルキル基は、直鎖状アルキル基であってもよく、分岐鎖状アルキル基であってもよい。アルキル基の炭素数（置換基を有する場合には、置換基を除いた部分の炭素数）は、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８がさらに好ましく、１～４が特に好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基及び２－エチルヘキシル基が挙げられる。置換基を有するアルキル基としては、２－ヒドロキシエチル基、２－カルボキシエチル基、２－メトキシエチル基、２－ジエチルアミノエチル基、２－スルホエチル基、３－スルホプロピル基、３－スルホブチル基及び４－スルホブチル基が挙げられる。アルキル基は、置換基を有していることが好ましく、置換基としてスルホ基を有していることがより好ましい。

式（１Ｂ）中のＬ^１Bで表される、７個のメチン基からなるメチン鎖の好ましい態様は、メチン基の数が７個に限定されていることを除き、式（１）中のＬ^１で表されるメチン鎖と同様である。

Ｌ^１Bとしては、前述した具体例における基Ｌ１－１２～基Ｌ１－３０がより好ましく、基Ｌ１－１２、基Ｌ１－１３、基Ｌ１－１５、基Ｌ１－２４、又は基Ｌ１－２９がさらに好ましく、基Ｌ１－１５が特に好ましい。

式（１Ｂ）中、Ｖ^１B及びＶ^２Bは、それぞれ独立に、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_３Ｈを表し、－ＣＯＯＨ及び－ＳＯ_３Ｈの水素原子はそれぞれ解離していてもよいし（すなわち、それぞれ、－ＣＯＯ^－基及び－ＳＯ_３ ^－基であってもよいし）、塩の状態であってもよい（例えば、それぞれ、－ＣＯＯＫ及び－ＳＯ_３Ｋ基の状態であってもよい）。画像記録後の消色性の観点から、Ｖ^１B及びＶ^２Bは、－ＳＯ_３Ｈを表すことが好ましく、－ＳＯ_３Ｈの水素原子は解離していてもよいし、塩の状態であってもよい。

式（１Ｂ）中、ｍ１２及びｍ２２は、それぞれ独立に、０又は１を表す。ｍ１２及びｍ２２は、０であることが好ましい。

式（１Ｂ）中、ｃ１２は電荷のバランスを取るために必要な数を表す。ｃ１２は、１／２、１、３／２、２又は３であることが好ましく、１であることがより好ましい。

式（１Ｂ）中、Ｘ^１Bで表されるカチオンの好ましい態様は、式（１）中のＸ^１で表されるカチオンの好ましい態様と同様である。Ｘ^１Bで表されるカチオンは、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｚｎ^２＋、Ｓｒ^２＋、Ａｌ^３＋又はトリエチルアンモニウムイオンであることが好ましく、より好ましくはＫ^＋又はトリエチルアンモニウムイオンであり、さらに好ましくはトリエチルアンモニウムイオンである。

以下、式（１）で表される赤外線吸収材料の具体例（化合物Ｃ－１～Ｃ－６９）を以下に示すが、赤外線吸収材料は、以下の具体例には限定されない。具体例中、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｈはそれぞれ、メチル基、エチル基、フェニル基を表す。

上記式（１）で表される赤外線吸収材料の具体例中、画像記録後の消色性の観点から、化合物Ｃ－４３、化合物Ｃ－４６又は化合物Ｃ－４９であることが好ましい。

次に、式（２）で表される赤外線吸収材料について説明する。

式（２）中、Ｒ^１１～Ｒ^１８は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｖ^１１～Ｖ^１５は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基またはシアノ基を表し、Ｘ２はアニオンを表し、ｃ２は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、ｎ１～ｎ５は、それぞれ独立に、０～４である。

式（２）中、Ｒ^１１～Ｒ^１８は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。アルキル基及びアリール基は、置換基を有してもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、及びアミノ基が挙げられる。

アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８がさらに好ましい。アルキル基は直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基のいずれでもよいが、直鎖状アルキル基又は分岐鎖状アルキル基であることが好ましく、直鎖状アルキル基であることがより好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基及び２－エチルヘキシル基が挙げられる。置換基を有するアルキル基としては、２－ヒドロキシエチル基、２－カルボキシエチル基、２－メトキシエチル基、２－ジエチルアミノエチル基、２－スルホエチル基、３－スルホプロピル基、３－スルホブチル基及び４－スルホブチル基が挙げられる。

アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１５がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。アリール基としては、フェニル基及びナフチル基が挙げられる。置換基を有するアリール基としては、４－カルボキシフェニル基、４－アセトアミドフェニル基、３－メタンスルホンアミドフェニル基、４－メトキシフェニル基、３－カルボキシフェニル基、３，５－ジカルボキシフェニル基、４－メタンスルホンアミドフェニル基及び４－ブタンスルホンアミドフェニル基が挙げられる。

式（２）中、Ｖ^１１～Ｖ^１５は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基又はシアノ基を表す。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。

アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８がさらに好ましい。アルキル基は直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基のいずれでもよいが、直鎖状アルキル基又は分岐鎖状アルキル基であることが好ましく、直鎖状アルキル基であることがより好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基及び２－エチルヘキシル基が挙げられる。

アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１５がより好ましく、６～１２がさらに好ましい。アリール基としては、フェニル基及びナフチル基が挙げられる。

アルコキシ基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８がさらに好ましい。アルコキシ基は直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルコキシ基、環状アルコキシ基のいずれでもよいが、直鎖状アルコキシ基又は分岐鎖状アルコキシ基であることが好ましく、直鎖状アルコキシ基であることがより好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、及びシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。

ｎ１～ｎ５は、それぞれ独立に、０～４である。ｎ１～ｎ４は、０～２が好ましく、０又は１がより好ましい。ｎ５は、０～３が好ましく、０～２がより好ましい。

Ｘ２はアニオンを表す。アニオンとしては、ハライドイオン（例えば、Ｃｌ^－、Ｂｒ^－及びＩ^－）、パラトルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＳｂＦ_６ ^－、ＰＦ_６ ^－、ＢＦ_４ ^－、ＣｌＯ_４ ^－、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオン（例えば、（ＣＦ_３ＳＯ_２）_３Ｃ^－）、ジ（ハロゲノアルキルスルホニル）イミドアニオン（例えば、（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ^－）、及びテトラシアノボレートアニオンが挙げられる。
ｃ２は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、２であることが好ましい。

式（２）で表される化合物の具体例としては、以下に示すジインモニウム系化合物が挙げられる。ジインモニウム系化合物の市販品としては、例えば、ＩＲＧ－０６８及びＩＲＧ－０２３（日本化薬（株）製）が挙げられる。

赤外線吸収材料の含有量は、インク組成物の全質量に対して０．０１質量％～５質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０５質量％～２質量％であり、さらに好ましくは０．１質量％～１質量％である。

＜ラジカル発生剤＞
本開示のインク組成物は、少なくとも１種のラジカル発生剤を含む。ラジカル発生剤はラジカルを発生する作用を有する化合物であれば特に限定されない。画像記録後の消色性の観点から、ラジカル発生剤は、水に対する溶解度が１質量％以上の水溶性重合開始剤であることが好ましい。水溶性重合開始剤の水に対する溶解度は３質量％以上であることが好ましく、より好ましくは５質量％以上である。ラジカル発生剤の水溶性が高いと、赤外線吸収画像中にラジカル発生剤が均一に存在し、赤外線吸収材料の近傍にラジカル発生剤が存在できると考えられる。そのため、ラジカルによる赤外線吸収材料の分解効率が高く、消色性が良いと考えられる。

ラジカル発生剤は、画像記録後の消色性の観点から、下記式（Ｘ）で表される化合物を含むことが好ましい。

式（Ｘ）中、Ｒ^Ｘ１、Ｒ^Ｘ２、Ｒ^Ｘ３、及びＲ^Ｘ４は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。式（Ｘ）中、ｎは、１～４の整数を表す。

Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４において、置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルキルチオ基、メルカプト基、アシル基、及びアミノ基が挙げられる。

Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、塩素原子又は臭素原子がより好ましく、塩素原子がさらに好ましい。

Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４において、アルキル基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
また、Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４において、アルキル基は、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、環状アルキル基のいずれでもよい。
Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基及びシクロヘキシル基が挙げられ、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基又はイソプロピル基が好ましい。

Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４において、アルコキシ基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
また、Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４において、アルコキシ基は、直鎖状アルコキシ基、分岐鎖状アルコキシ基、環状アルコキシ基のいずれでもよい。
Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、及びシクロヘキシルオキシ基が挙げられ、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基又はイソプロピルオキシ基が好ましい。

Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４において、アルキルチオ基の炭素数は、１～６が好ましく、１～４がより好ましい。
また、Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４において、アルキルチオ基は、直鎖状アルキルチオ基、分岐鎖状アルキルチオ基、環状アルキルチオ基のいずれでもよい。
Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４におけるアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基、ｎ－ペンチルチオ基、ｎ－ヘキシルチオ基及びシクロヘキシルチオ基が挙げられ、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基又はイソプロピルチオ基が好ましい。

Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４において、アシル基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
また、Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４において、アシル基は、直鎖状アシル基であってもよいし、分岐鎖状アシル基であってもよい。
Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４におけるアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、エチルアシル基、ｎ－プロピルアシル基及びイソプロピルアシル基が挙げられ、ホルミル基、アセチル基、又はエチルアシル基が好ましい。

Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４としては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基が好ましく、水素原子、アルコキシ基又はアルキルチオ基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。

また、式（Ｘ）で表される化合物の好ましい形態として、Ｒ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ４のうち、２つ以上（好ましくは３つ以上、より好ましくは４つ）が水素原子である形態が挙げられる。

以下、式（Ｘ）で表される化合物の具体例を示すが、式（Ｘ）で表される化合物はこれらに限定されるものではない。

式（Ｘ）で表される化合物は、例えば、特開２０００－１８６２４２号公報の段落００６７～００７１及び０１１２～０１１５に記載された方法に準じて合成できる。

式（Ｘ）で表される化合物の含有量は特に制限はないが、インク組成物の全質量に対して０．５質量％～４質量％であることが好ましく、０．８質量％～３質量％であることがより好ましく、１質量％～２質量％であることがさらに好ましい。上記含有量が０．５質量％以上であると、画像記録後の消色性に優れる。上記含有量が４質量％以下であると、吐出性に優れる。

本開示のインク組成物は、ラジカル発生剤として、式（Ｘ）で表される化合物、又は、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オンを含有することが好ましい。１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オンは、感度に優れた光重合開始剤である。

１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－ １－プロパン－１－オンは市販品として入手可能である。市販品としては、例えば、Ｏｍｎｉｒａｄ ２９５９（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）が挙げられる。

また、本開示のインク組成物は、ラジカル発生剤として、式（Ｘ）で表される化合物に加え、さらに、２－ヒドロキシ－ ２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オンを含んでいてもよい。２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オンは市販品として入手可能である。市販品としては、例えば、Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）が挙げられる。式（Ｘ）で表される化合物の含有量に対する２－ヒドロキシ－ ２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オンの含有量の比率は、質量基準で０ ．１～１０．０であることが好ましく、０．１～３．０であることがより好ましく、０．３～３．０であることがさらに好ましい。

また、本開示のインク組成物は、ラジカル発生剤として、式（Ｘ）で表される化合物に加え、１－［４－（２－ヒドロキシ エトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オンと、２ －ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オンとを含有していてもよい。

本開示のインク組成物は、上記以外の他のラジカル発生剤を含んでいてもよい。他のラジカル発生剤としては、例えば、放射線、光、又は電子線によりラジカルを発生する重合開始剤（例えば、光重合開始剤）が挙げられる。重合開始剤としては、ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤、アセトフェノン系重合開始剤、ベンゾフェノン系重合開始剤、ベンゾイン系重合開始剤、ベンゾインエーテル系重合開始剤、アミノアルキルフェノン系重合開始剤、キサントン系重合開始剤、オキシム系重合開始剤等が挙げられる。

ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤としては、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及び１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オンが挙げられる。

アセトフェノン系重合開始剤としては、アセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン及びｐ－ジメチルアミノアセトフェノンが挙げられる。

ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、 ｐ，ｐ’－ジクロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、及びミヒラーケトンが挙げられる。

ベンゾイン系重合開始剤及びベンゾインエーテル系重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ－プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル及びベンゾインｎ－ブチルエーテル等が挙げられる。

ラジカル発生剤の含有量（ラジカル発生剤を２種以上含む場合には、総含有量）は、インク組成物の全質量に対して０．５質量％～４質量％であり、０．８質量％～３質量％であることが好ましく、１質量％～２質量％であることがより好ましい。上記含有量が０．５質量％以上であると、画像記録後の消色性に優れる。上記含有量が４質量％以下であると、吐出性に優れる。

赤外線吸収材料の含有量に対するラジカル発生剤の含有量の比率は、画像記録後の消色性の観点から、質量基準で１～６であることが好ましく、１．２～３であることがより好ましい。

＜水＞
本開示のインク組成物は、水を含有する。水の含有量は、インク組成物の全質量に対して５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましい。また、水の含有量は、インク組成物の全質量に対して９９質量％以下であることが好ましく、９８質量％以下であることがより好ましく、９５質量％以下であることがさらに好ましい。

＜界面活性剤＞
本開示のインク組成物は、少なくとも１種の界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤は、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤又はノニオン性界面活性剤のいずれであってもよい。

本開示のインク組成物は、画像記録後の消色性の観点から、フッ素系界面活性剤を含むことが好ましい。フッ素系界面活性剤の含有量は、吐出性の観点から、インク組成物の全質量に対して０．００５質量％以上０．１質量％未満であることが好ましく、０．０１質量％～０．１質量％未満であることがより好ましい。

フッ素系界面活性剤は、市販品として入手可能である。市販品としては、Ｃａｐｓｔｏｎｅ ＦＳ－６３及びＣａｐｓｔｏｎｅ ＦＳ－６１（Ｃｈｅｍｏｕｒｓ社製）；フタージェント１００、フタージェント１１０及びフタージェント１５０（ネオス社製）；ＣＨＥＭＧＵＡＲＤ Ｓ－７６０Ｐ（Ｃｈｅｍｇｕａｒｄ Ｉｎｃ．社製）が挙げられる。

また、界面活性剤としては、インク組成物の打滴干渉を抑制する観点から、アニオン性界面活性剤又はノニオン性界面活性剤が好ましい。中でも、アセチレングリコール系界面活性剤がより好ましい。

アセチレングリコール系界面活性剤としては、例えば、２，４，７，９－テトラメチル－５－デシン－４，７－ジオール及び２，４，７，９－テトラメチル－５－デシン－４，７－ジオールのアルキレンオキシド付加物が挙げられる。

アセチレングリコール系界面活性剤は、市販品として入手可能である。市販品としては、サーフィノール１０４ＰＧ等のサーフィノールシリーズ（日信化学工業社製）、オルフィンＥ１０１０等のＥシリーズ（日信化学工業社製）が挙げられる。
＜有機溶剤＞
本開示のインク組成物は、少なくとも１種の有機溶剤を含んでいてもよい。有機溶剤は、水に対する溶解度が１質量％以上の水溶性有機溶剤であることが好ましい。また、水溶性有機溶剤の水に対する溶解度は５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがさらに好ましい。

水溶性有機溶剤の具体例は、以下のとおりである。
・アルコール（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等）、
・多価アルコール（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール、２－メチルプロパンジオール等）、
・多価アルコールエーテル（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等）、
・アミン（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ－メチルジエタノールアミン、Ｎ－エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ－エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等）、
・アミド類（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等）、
・複素環化合物（例えば、２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、２－オキサゾリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、γ－ブチロラクトン等）、
・スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、
・スルホン（例えば、スルホラン）、
・その他（例えば、尿素、アセトニトリル、アセトン等）

中でも、水溶性有機溶剤は、多価アルコールを含むことが好ましく、多価アルコールと多価アルコールエーテルとの組み合わせがより好ましい。

有機溶剤の含有量は、画像記録後の消色性の観点から、インク組成物の全質量に対して、２０質量％～４５質量％であることが好ましく、３０質量％～４２質量％であることがより好ましい。

＜その他の成分＞
本開示のインク組成物は、その他の成分として、褪色防止剤、乳化安定剤、浸透促進剤、紫外線吸収剤、防腐剤、防黴剤、ｐＨ調整剤、表面張力調整剤、消泡剤、粘度調整剤、分散剤、分散安定剤、防錆剤、キレート剤等の添加剤が挙げられる。上記各成分については、特開２００８－１４４００４号公報の段落００４４～００５０に記載の化合物を使用することが可能である。

＜インク組成物の物性＞
本開示において、インク組成物の粘度は特に限定されないが、インクジェット記録方式で吐出する場合には、吐出安定性の観点から３０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｍＰａ・ｓ～２０ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは１ｍＰａ・ｓ～１５ｍＰａ・ｓである。なお、インク組成物の粘度は回転式粘度計、例えば、東機産業社製の製品名「ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ－２２」を用いて２５℃の条件下で測定されるものである。

本開示において、インク組成物の表面張力は特に限定されないが、例えば、２０ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、より好ましくは２０ｍＮ／ｍ～６０ｍＮ／ｍであり、さらに好ましくは２０ｍＮ／ｍ～４５ｍＮ／ｍであり、特に好ましくは２０ｍＮ／ｍ～３０ｍＮ／ｍである。インク組成物の表面張力が２０ｍＮ／ｍ～３０ｍＮ／ｍであると、基材上でのインク組成物の濡れ広がりが良く、画像記録後の消色性がより向上する。インク組成物の表面張力は、例えば、インク組成物に含有させる界面活性剤の種類及び含有量によって調整することができる。なお、インク組成物の表面張力は表面張力計、例えば、協和界面科学社製の製品名「全自動表面張力計ＣＢＶＰ－Ｚ」を用い、プレート法により２５℃の条件下で測定されるものである。

＜消色方法＞
本開示の消色方法は、上記インク組成物を、インクジェット記録方式を用いて基材上に付与して、赤外線吸収画像を記録する工程と、赤外線吸収画像に対して活性エネルギー線を照射して、赤外線吸収画像を消色させる工程と、を含む。

（画像記録工程）
本開示の消色方法では、まず、上記インク組成物を、インクジェット記録方式を用いて基材上に付与して、赤外線吸収画像を記録する。

〔基材〕
基材は、赤外線吸収画像を記録することができれば特に限定されず、紙、布、木材、金属板、及びプラスチックフィルムが挙げられる。

紙としては、特に制限はないが、一般のオフセット印刷などに用いられる、いわゆる上質紙、コート紙、アート紙等の一般印刷用紙及びインクジェット記録用紙が挙げられる。

また、基材は、非浸透性基材であってもよい。「非浸透性」とは、インク組成物に含まれる水の吸収量が少ないか又は水を吸収しないことをいい、具体的には、水の吸収量が１０．０ｇ／ｍ^２以下である性質をいう。

非浸透性基材としては、例えば、金属（例えば、アルミニウム箔）、プラスチックフィルム（例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート及びポリビニルアセタール）、プラスチック及びガラスが挙げられる。中でも、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン等の熱可塑性樹脂を含む基材が好ましい。
非浸透性基材には、表面処理が施されていてもよい。
表面処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理、熱処理、摩耗処理、光照射処理（ＵＶ処理）及び火炎処理が挙げられる。例えば、インク組成物を非浸透性基材上に付与して赤外線吸収画像を記録する前に、あらかじめ非浸透性基材の表面にコロナ処理を施すと、非浸透性基材の表面エネルギーが増大し、非浸透性基材の表面の湿潤及び非浸透性基材へのインク組成物の接着が促進される。コロナ処理は、例えば、コロナマスター（信光電気計社製、ＰＳ－１０Ｓ）を用いて行なうことができる。コロナ処理の条件は、非浸透性基材の種類、インク組成物の組成等に応じて適宜選択すればよい。例えば、下記の処理条件が挙げられる。
・処理電圧：１０ｋＶ～１５．６ｋＶ
・処理速度：３０ｍｍ／ｓ～１００ｍｍ／ｓ

本工程で記録される赤外線吸収画像としては特に制限はないが、複数の要素パターン（例えば、ドットパターン及びラインパターン）からなる赤外線吸収画像、言い換えれば複数の要素パターンの集合である赤外線吸収画像が好ましい。ドットパターンの直径は、２５μｍ～７０μｍが好ましく、３０μｍ～６０μｍがより好ましい。

〔インクジェット記録方式〕
インクジェット記録方式には特に制限はなく、公知の方式、例えば、静電誘引力を利用してインク組成物を吐出させる電荷制御方式、ピエゾ素子の振動圧力を利用するドロップオンデマンド方式（圧力パルス方式）、電気信号を音響ビームに変えインク組成物に照射して放射圧を利用してインク組成物を吐出させる音響インクジェット方式、及びインク組成物を加熱して気泡を形成し、生じた圧力を利用するサーマルインクジェット（バブルジェット（登録商標））方式が挙げられる。

インクジェット記録方式に用いるインクジェットヘッドとしては、短尺のシリアルヘッドを基材の幅方向に走査させながら記録を行なうシャトル方式と、基材の１辺の全域に対応して記録素子が配列されているラインヘッドを用いたライン方式とが挙げられる。

ライン方式では、記録素子の配列方向と交差する方向に基材を走査させることで基材の全面に画像記録を行なうことができ、短尺のシリアルヘッドを走査するキャリッジ等の搬送系が不要となる。また、キャリッジの移動と基材との複雑な走査制御が不要になり、基材だけが移動するので、シャトル方式と比べて記録速度の高速化が実現できる。

インクジェットヘッドから吐出されるインク組成物の打滴量は、高精細なパターンを得る観点から、１ｐＬ（ピコリットル）～２０ｐＬが好ましく、５ｐＬ～１５ｐＬがより好ましい。

本工程において記録される赤外線吸収画像における、赤外線吸収材料の単位面積当たりの付与量は、０．０００１ｇ／ｍ^２～１．０ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．０００１ｇ／ｍ^２～０．５ｇ／ｍ^２であることがより好ましい。

（乾燥工程）
本開示の画像記録方法では、赤外線吸収画像を記録した後、赤外線吸収画像を乾燥させることが好ましい。
赤外線吸収画像を乾燥させる方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。乾燥手段としては、例えば、ヒータ等の公知の加熱手段、ドライヤ等の公知の送風手段、及び、これらを組み合わせた手段が挙げられる。

赤外線吸収画像を乾燥させる方法としては、例えば、基材の画像記録面とは反対側からヒータ等で熱を与える方法、基材の画像記録面に温風又は熱風をあてる方法、基材の画像記録面又は画像記録面とは反対側から、赤外線ヒータで熱を与える方法、及びこれらを組み合わせた方法が挙げられる。

加熱する場合の加熱温度は、６０℃以上が好ましく、６５℃以上がより好ましく、７０℃以上が特に好ましい。加熱温度の上限は特に制限はないが、例えば１５０℃以下が好ましい。

加熱する場合の加熱時間には特に制限はないが、１秒～３００秒が好ましく、１秒～１０００秒がより好ましい。

（活性エネルギー線照射工程）
本開示の消色方法では、赤外線吸収画像に対して活性エネルギー線を照射して、赤外線吸収画像を消色させる。活性エネルギー線を照射すると、赤外線吸収画像中のラジカル発生剤がラジカルを発生し、発生したラジカルによって、赤外線吸収画像中の赤外線吸収材料が分解して、消色する。活性エネルギー線としては、例えば、α線、γ線、紫外線、可視光線、赤外線及び電子線が挙げられる。中でも、活性エネルギー線は、４００ｎｍ以下の波長領域に極大発光波長を有する紫外線（以下、「ＵＶ」ともいう）であることが好ましい。

露光量は５０００ｍＪ／ｃｍ^２以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ^２～４０００ｍＪ／ｃｍ^２であり、さらに好ましくは２０ｍＪ／ｃｍ^２～３０００ｍＪ／ｃｍ^２である。照射時間は、好ましくは０．０１秒間～１２０秒間、より好ましくは０．１秒間～９０秒間である。照射条件及び基本的な照射方法は、特開昭６０－１３２７６７号公報に開示されている照射条件及び照射方法を適用することができる。具体的には、インク組成物の吐出装置を含むヘッドユニットの両側に光源を設け、いわゆるシャトル方式でヘッドユニットと光源を走査する方式、又は、駆動を伴わない別光源によって行われる方式が好ましい。

紫外線照射用の光源としては、水銀ランプ、ガスレーザー及び固体レーザーが主に利用されており、水銀ランプ、メタルハライドランプ及び紫外線蛍光灯が広く知られている。また、ＧａＮ（窒化ガリウム）系半導体紫外発光デバイスへの置き換えは産業的、環境的にも非常に有用であり、ＵＶ－ＬＥＤ（発光ダイオード）及びＵＶ－ＬＤ（レーザダイオード）は小型、高寿命、高効率、かつ、低コストであり、紫外線照射用の光源として期待されている。中でも、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ又はＵＶ－ＬＥＤが好ましい。

（その他の工程）
本開示の消色方法は、上記工程以外の他の工程を含んでいてもよい。他の工程としては、基材上にインク組成物を付与する前に、インク組成物を凝集させる成分を含む前処理液を付与する前処理液付与工程が挙げられる。

以下、本開示を実施例によりさらに具体的に説明するが、本開示はその主旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、インク組成物の表面張力は、表面張力計、協和界面科学社製の製品名「全自動表面張力計ＣＢＶＰ－Ｚ」を用いて、２５℃で測定した。赤外線吸収材料の極大吸収波長は、分光光度計（製品名「Ｖ５７０」、日本分光社製）を用いて、前述の条件で測定した。

＜実施例１～実施例１５及び比較例１～比較例３＞
[インク組成物の調製］
インク組成物中の各成分の含有量（質量％）が表１及び表２に記載の含有量となるように、各成分を混合した。水の含有量は、インク組成物の全質量を１００質量％としたときの残部である。インク組成物の具体的な調製方法は以下のとおりである。

赤外線吸収材料を水に添加し、３時間撹拌した。その後、有機溶剤、界面活性剤及びラジカル発生剤を添加し、６０分間撹拌した。孔径５μｍのフィルターを用いて濾過し、インク組成物を得た。得られたインク組成物の表面張力を測定し、表１及び表２に記載した。なお、実施例１～４、６、１１、比較例１～３については、赤外線吸収材料を水及び界面活性剤からなる溶液に添加した後、ビーズミルで２時間分散処理し、分散処理後にその他の成分を添加することにより、インク組成物を作製した。

実施例及び比較例で用いた赤外線吸収材料、有機溶剤、界面活性剤及びラジカル発生剤の詳細は以下のとおりである。

（赤外線吸収材料）
・Ｓ－１０
特許第３５９０６９４号公報に記載されている方法を参考にして、下記構造式で表される赤外線吸収材料（Ｓ－１０）を合成した。赤外線吸収材料（Ｓ－１０）の極大吸収波長は、８０９ｎｍであった。

・Ｃ－４３
赤外線吸収材料（Ｃ－４３）は、下記構造式で表されるシアニン系化合物である。赤外線吸収材料（Ｃ－４３）の極大吸収波長は、９７０ｎｍであった。

・Ｃ－４６
赤外線吸収材料（Ｃ－４６）は、下記構造式で表されるシアニン系化合物である。赤外線吸収材料（Ｃ－４６）の極大吸収波長は、９３０ｎｍであった。

・Ｃ－４９
赤外線吸収材料（Ｃ－４９）は、下記構造式で表されるシアニン系化合物である。赤外線吸収材料（Ｃ－４９）の極大吸収波長は、８４４ｎｍであった。

・Ｄ－１
赤外線吸収材料（Ｄ－１）は、下記構造式で表されるジインモニウム系化合物である。赤外線吸収材料（Ｄ－１）の極大吸収波長は、１１００ｎｍであった。

（有機溶剤）
・プロピレングリコール
・ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル

（界面活性剤）
・オルフィンＥ１０１０：アセチレングリコール系界面活性剤、日信化学工業社製
・Ｃａｐｓｔｏｎｅ ＦＳ－６３：フッ素系界面活性剤、Ｃｈｅｍｏｕｒｓ社製
・Ｃａｐｓｔｏｎｅ ＦＳ－３１：フッ素系界面活性剤、Ｃｈｅｍｏｕｒｓ社製

（ラジカル発生剤）
・Ｏｍｎｉｒａｄ ２９５９：１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－ １－プロパン－１－オン、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製
Ｏｍｎｉｒａｄ ２９５９の水に対する溶解度は、０．５質量％であった。

・化合物（Ｘ）－１
化合物（Ｘ）－１は、下記構造式で表される化合物である。化合物（Ｘ）－１の水に対する溶解度は、１質量％であった。

次に、実施例及び比較例で調製したインク組成物を用いて、赤外線吸収性、消色性及び吐出性の評価を行った。評価方法は以下のとおりである。表１及び表２に、評価結果を示す。

＜赤外線吸収性＞
調製したインク組成物を、インクジェット記録装置（製品名「ＦＵＪＩＦＩＬＭ ＤＭＰ－２８３１］）に付属のインクカートリッジに充填した。解像度６００ｄｐｉ（dot per inch）×６００ｄｐｉ、打滴量１０ｐＬの条件で、コート紙（製品名「ＯＫトップコート＋」、王子製紙社製）上に、網点率１００％のインク画像を記録した。インク画像に、１００℃の温風を１分間当てて、乾燥させ、画像記録物を得た。得られた画像記録物について、８５０ｎｍにおける相対反射率を、紫外可視近赤外分光光度計（製品名「Ｖ－５７０」、日本分光社製）と積分球ユニット（製品名「ＩＮＬ－４７１」、日本分光社製）を用いて測定した。評価基準は以下のとおりである。評価Ａ及び評価Ｂは、実用上問題ないレベルである。
Ａ：相対反射率が４０％未満である。
Ｂ：相対反射率が４０％以上８０％未満である。
Ｃ：相対反射率が８０％以上である。

＜消色性＞
赤外線吸収性の評価と同様に、画像記録物を得た。紫外線照射装置（製品名「ＣＳＯＴ－４０」、ＧＳユアサ社製）にメタルハライドランプを設置して、出力１２０Ｗの条件下、１０ｍ／分の速度で、画像記録物に対して紫外線を照射した。紫外線照射前と紫外線照射後に、光学濃度計（製品名「ＦＤ－７」、コニカミノルタ社製）を用いて、画像記録物の光学濃度（ＯＤ）を測定した。評価基準は以下のとおりである。評価Ａ～Ｃは、実用上問題ないレベルである。なお、紫外線照射前の画像記録物はいずれも、ＯＤが０．２より大きかった。
Ａ：紫外線照射後の画像記録物において、ＯＤが０．１以下である。
Ｂ：紫外線照射後の画像記録物において、ＯＤが０．１より大きく、０．１５以下である。
Ｃ：紫外線照射後の画像記録物において、ＯＤが０．１５より大きく、０．２以下である。
Ｄ：紫外線照射後の画像記録物において、ＯＤが０．２より大きい。

＜吐出性＞
調製したインク組成物を、インクジェット記録装置（製品名「ＦＵＪＩＦＩＬＭ ＤＭＰ－２８３１］）に付属のインクカートリッジに充填した。解像度６００ｄｐｉ×６００ｄｐｉ、打滴量１０ｐＬの条件で、１０分間連続的にインク組成物を吐出した。吐出停止後、ノズルを目視で観察した。全ノズル数に対する不吐出ノズル数の割合（％）を、「不吐出ノズル率」とした。評価基準は以下のとおりである。評価Ａ及び評価Ｂは、実用上問題ないレベルである。
Ａ：不吐出ノズル率が５％未満である。
Ｂ：不吐出ノズル率が５％以上１０％未満である。
Ｃ：不吐出ノズル率が１０％以上である。

表１及び表２に示すように、実施例１～実施例１５では、極大吸収波長が８００ｎｍ～１２００ｎｍである赤外線吸収材料、ラジカル発生剤、及び水を含み、ラジカル発生剤の含有量が、インク組成物の全質量に対して０．５質量％～４質量％であり、赤外線吸収画像を得ることができ、吐出性に優れ、かつ、赤外線吸収画像は紫外線照射による消色性が高いことが分かった。

実施例２と実施例３とを比較すると、実施例３では、ラジカル発生剤が式（Ｘ）で表される化合物を含み、実施例２より画像記録後の消色性に優れることが分かった。

実施例１２と実施例３とを比較すると、実施例３では、有機溶剤の含有量がインク組成物の全質量に対して２０質量％～４５質量％であり、実施例１２より画像記録後の消色性に優れることが分かった。

実施例１と、実施例３、実施例５、実施例６及び実施例１１とを比較すると、実施例３、実施例５、実施例６及び実施例１１では、式（１）で表される赤外線吸収材料又は式（２）で表される赤外線吸収材料を含み、実施例１より画像記録後の消色性に優れることが分かった。

実施例５と、実施例１４～実施例１６とを比較すると、実施例１４～実施例１６では、フッ素系界面活性剤を含み、実施例５より画像記録後の消色性に優れることが分かった。特に、実施例１５及び実施例１６では、フッ素系界面活性剤の含有量がインク組成物の全質量に対して０．００５質量％以上０．１質量％未満であり、実施例１４より吐出性に優れることが分かった。

一方、比較例１では、ラジカル発生剤を含まないため、画像記録後の消色性に劣ることが分かった。また、比較例２では、ラジカル発生剤の含有量が０．５質量％未満であるため、画像記録後の消色性に劣ることが分かった。また、比較例３では、ラジカル発生剤の含有量が４質量％を超えるため、吐出性に劣ることが分かった。

Claims (11)

1. 極大吸収波長が８００ｎｍ～１２００ｎｍである赤外線吸収材料、ラジカル発生剤、及び水を含み、
   前記ラジカル発生剤の含有量が、インク組成物の全質量に対して０．３質量％～４質量％であり、
   前記赤外線吸収材料は、下記式（１）で表される赤外線吸収材料及び下記式（２）で表される赤外線吸収材料からなる群より選択される少なくとも１種であるインク組成物。
   

   

   
   式（１）中、Ｒ ^１ 及びＲ ^２ は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基又はアリール基を表し、
   Ｌ ^１ は、奇数個のメチン基からなるメチン鎖を表し、
   Ｂ ^１ 及びＢ ^２ は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環を形成するために必要な原子群又は芳香族ヘテロ環を形成するのに必要な原子群を表す。
   Ｙ ^１ 及びＹ ^２ は、それぞれ独立に、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＲ ^Ｘ１ －又はＣＲ ^Ｘ２ Ｒ ^Ｘ３ －を表し、Ｒ ^Ｘ１ 、Ｒ ^Ｘ２ 及びＲ ^Ｘ３ は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
   Ｖ ^１ 及びＶ ^２ は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、－ＯＲ ^１０ 、－ＣＯＲ ^１１ 、－ＣＯＯＲ ^１２ 、－ＯＣＯＲ ^１３ 、－ＮＲ ^１４ Ｒ ^１５ 、－ＮＨＣＯＲ ^１６ 、－ＣＯＮＲ ^１７ Ｒ ^１８ 、－ＮＨＣＯＮＲ ^１９ Ｒ ^２０ 、－ＮＨＣＯＯＲ ^２１ 、－ＳＲ ^２２ 、－ＳＯ _２ Ｒ ^２３ 、－ＳＯ _２ ＯＲ ^２４ 、－ＮＨＳＯ _２ Ｒ ^２５ 又はＳＯ _２ ＮＲ ^２６ Ｒ ^２７ を表し、Ｒ ^１０ ～Ｒ ^２７ は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。－ＣＯＯＲ ^１２ のＲ ^１２ が水素原子である場合及びＳＯ _２ ＯＲ ^２４ のＲ ^２４ が水素原子である場合、それぞれ、水素原子が解離していてもよいし、塩の状態であってもよい。
   ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。
   ｍ１が２～４の整数である場合、複数のＶ ^１ が、互いに結合して環を形成してもよく、ｍ２が２～４の整数である場合、複数のＶ ^２ が、互いに結合して環を形成してもよい。
   式（１）中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ ^１ はアニオンを表し、ｃ１は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
   式（１）中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ ^１ はカチオンを表し、ｃ１は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
   式（１）中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ ^１ は存在しない。
   

   

   
   式（２）中、Ｒ ^１１ ～Ｒ ^１８ は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｖ ^１１ ～Ｖ ^１５ は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基またはシアノ基を表し、Ｘ２はアニオンを表し、ｃ２は電荷のバランスを取るために必要な数を表し、ｎ１～ｎ５は、それぞれ独立に、０～４である。
2. 前記赤外線吸収材料の含有量に対する前記ラジカル発生剤の含有量の比率は、質量基準で１～６である請求項１に記載のインク組成物。
3. 水溶性有機溶剤をさらに含み、
   前記水溶性有機溶剤の含有量は、インク組成物の全質量に対して２０質量％～４５質量％である、請求項１又は請求項２に記載のインク組成物。
4. 前記ラジカル発生剤は、水に対する溶解度が１質量％以上の水溶性重合開始剤である請求項１～請求項３のいずれか１項に記載のインク組成物。
5. 表面張力が２０ｍＮ／ｍ～３０ｍＮ／ｍである請求項１～請求項４のいずれか１項に記載のインク組成物。
6. 前記ラジカル発生剤は、下記式（Ｘ）で表される化合物を含む請求項１～請求項５のいずれか１項に記載のインク組成物。
   

   

   
   式（Ｘ）中、Ｒ^Ｘ１、Ｒ^Ｘ２、Ｒ^Ｘ３、及びＲ^Ｘ４は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、ｎは、１以上４以下の整数を表す。
7. 前記式（Ｘ）で表される化合物の含有量は、インク組成物の全質量に対して０．５質量％～４質量％である請求項６に記載のインク組成物。
8. フッ素系界面活性剤をさらに含み、
   前記フッ素系界面活性剤の含有量は、インク組成物の全質量に対して０．００５質量％以上０．１質量％未満である請求項１～請求項７のいずれか１項に記載のインク組成物。
9. 前記式（１）で表される赤外線吸収材料の少なくとも１種が、下記式（１Ａ）で表される赤外線吸収材料及び下記式（１Ｂ）で表される赤外線吸収材料からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１～請求項８のいずれか１項に記載のインク組成物。
   

   

   
   

   

   
   式（１Ａ）及び式（１Ｂ）中、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^１Ｂ及びＲ^２Ｂは、それぞれ独立に、アルキル基を表し、
   Ｌ^１Ａ及びＬ^１Ｂは、７個のメチン基からなるメチン鎖を表し、
   Ｖ^１Ａ、Ｖ^２Ａ、Ｖ^１Ｂ及びＶ^２Ｂは、それぞれ独立に、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_３Ｈを表し、－ＣＯＯＨ及び－ＳＯ_３Ｈの水素原子はそれぞれ解離していてもよいし、塩の状態であってもよく、
   ｍ１１、ｍ２１、ｍ１２及びｍ２２は、それぞれ独立に、０又は１を表し、
   Ｘ^１Ａ及びＸ^１Ｂは、カチオンを表し、
   ｃ１１及びｃ１２は、それぞれ独立に、電荷のバランスを取るために必要な数を表す。
10. 請求項１～請求項９のいずれか１項に記載のインク組成物を、インクジェット記録方式を用いて基材上に付与して、赤外線吸収画像を記録する工程と、
    前記赤外線吸収画像に対して活性エネルギー線を照射して、前記赤外線吸収画像を消色させる工程と、を含む消色方法。
11. 前記活性エネルギー線は、４００ｎｍ以下の波長領域に極大発光波長を有する紫外線である請求項１０に記載の消色方法。