JP7244989B2 - Cylindrical sputtering target and manufacturing method thereof - Google Patents

Cylindrical sputtering target and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP7244989B2
JP7244989B2 JP2017179069A JP2017179069A JP7244989B2 JP 7244989 B2 JP7244989 B2 JP 7244989B2 JP 2017179069 A JP2017179069 A JP 2017179069A JP 2017179069 A JP2017179069 A JP 2017179069A JP 7244989 B2 JP7244989 B2 JP 7244989B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cylindrical
sintered body
cylinder
oxygen
sintering
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017179069A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018009251A5 (en
JP2018009251A (en
Inventor
諭 館野
幸三 長田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JX Nippon Mining and Metals Corp
Original Assignee
JX Nippon Mining and Metals Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JX Nippon Mining and Metals Corp filed Critical JX Nippon Mining and Metals Corp
Publication of JP2018009251A publication Critical patent/JP2018009251A/en
Publication of JP2018009251A5 publication Critical patent/JP2018009251A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7244989B2 publication Critical patent/JP7244989B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/64Burning or sintering processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/453Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates
    • C04B35/457Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates based on tin oxides or stannates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3293Tin oxides, stannates or oxide forming salts thereof, e.g. indium tin oxide [ITO]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/658Atmosphere during thermal treatment
    • C04B2235/6583Oxygen containing atmosphere, e.g. with changing oxygen pressures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/658Atmosphere during thermal treatment
    • C04B2235/6586Processes characterised by the flow of gas

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明は、円筒型スパッタリングターゲット及びその製造方法に関する。特に、円筒型スパッタリングターゲットを構成する円筒型焼結体の製造方法に関する。 The present invention relates to a cylindrical sputtering target and a manufacturing method thereof. In particular, it relates to a method for manufacturing a cylindrical sintered body that constitutes a cylindrical sputtering target.

近年、フラットパネルディスプレイ(FPD:Flat Panel Display)や太陽電池の製造技術が急速に発展し、大型化が進んでいる。またこれらの市場の拡大に伴い、大型ガラス基板の需要が増えている。 In recent years, the technology for manufacturing flat panel displays (FPDs) and solar cells has rapidly developed, and they are becoming larger in size. In addition, with the expansion of these markets, the demand for large glass substrates is increasing.

特に、大型のガラス基板に金属薄膜や酸化金属薄膜を形成するスパッタリング装置では、従来の平板型スパッタリングターゲットに替えて円筒型(ロータリー型又は回転型ともいう)スパッタリングターゲットが使用されてきている。円筒型スパッタリングターゲットは平板型スパッタリングターゲットに比べて、ターゲットの使用効率が高い、エロージョンの発生が少ない、堆積物の剥離によるパーティクルの発生が少ないという利点がある。 In particular, in a sputtering apparatus for forming a metal thin film or a metal oxide thin film on a large glass substrate, a cylindrical (also referred to as a rotary or rotating) sputtering target has been used in place of a conventional planar sputtering target. Cylindrical sputtering targets have advantages over flat sputtering targets, such as high target utilization efficiency, little occurrence of erosion, and little generation of particles due to exfoliation of deposits.

上記のように大型のガラス基板に薄膜を形成するスパッタリング装置に使用する円筒型スパッタリングターゲットは、3000mm以上の長さが必要である。このような長さの円筒型スパッタリングターゲットを一体形成で製造し、研削加工することは技術的に現実的ではない。したがって、通常は数10mmから数100mmの複数の円筒型焼結体が連結された分割スパッタリングターゲットが構成される。 A cylindrical sputtering target used in a sputtering apparatus for forming a thin film on a large glass substrate as described above requires a length of 3000 mm or more. It is technically not realistic to manufacture a cylindrical sputtering target of such length by integral formation and grind it. Therefore, a divided sputtering target is usually constructed by connecting a plurality of cylindrical sintered bodies of several tens of millimeters to several hundreds of millimeters.

ここで、上記の円筒型の焼結体に限らず、一般的な焼結体の連結には機械的な強度向上及びその焼結体を使用した薄膜の膜質向上が要求される。複数の焼結体を基材に接合させる場合、焼結体同士の間は一定の間隔をあけて配置する。焼結体を隙間なく配置して基材に接合すると、スパッタ中の熱により焼結体が伸縮し、焼結体同士がぶつかるなどして割れや欠けが生じてしまうおそれがあるためである。一方、焼結体間の隙間は、本来スパッタされるべき焼結体が存在しない。したがって、基材の構成材料がスパッタされるなどの問題を発生させ、所望の組成の薄膜が成膜できないという問題が存在する。さらには、複数の焼結体が連結した分割スパッタリングターゲットでは、隣接する焼結体間の相対密度の差(つまり焼結体密度の「固体間ばらつき」)はその分割スパッタリングターゲットを使用した薄膜の質に影響を及ぼす。このように、連結する焼結体が短いほどスパッタリングターゲットは多分割されることになり、スパッタリング特性に影響を及ぼすリスクが高まる。 Here, not only the cylindrical sintered body but also general sintered body connection requires improvement in mechanical strength and improvement in film quality of the thin film using the sintered body. When joining a plurality of sintered bodies to a base material, the sintered bodies are arranged at regular intervals. This is because if the sintered bodies are arranged without gaps and joined to the base material, the sintered bodies may expand and contract due to the heat during sputtering, and the sintered bodies may collide with each other, resulting in cracks or chipping. On the other hand, the sintered bodies to be originally sputtered do not exist in the gaps between the sintered bodies. Therefore, there is a problem that the constituent material of the base material is sputtered, and a thin film having a desired composition cannot be formed. Furthermore, in a divided sputtering target in which a plurality of sintered bodies are connected, the difference in relative density between adjacent sintered bodies (that is, "variation between solid bodies" in the density of sintered bodies) affects the thin film using the divided sputtering target. affect quality. Thus, the shorter the connected sintered body, the more the sputtering target is divided, and the risk of affecting the sputtering characteristics increases.

少しでも前記問題を回避するため、スパッタリングターゲットの少分割化に対応できるより長い円筒型焼結体の製造技術が要求される。長尺円筒型焼結体の製造における問題点は、焼結体内の相対密度の差(つまり焼結体密度の「固体内ばらつき」)および機械的な強度である。例えば、特許文献1には、ITOターゲットの焼結では雰囲気の酸素濃度が品質安定化(密度および強度)に大きく影響することが開示されている。通常、ITOに使用される焼結炉は炉壁側から酸素が供給されている。 In order to avoid the above problem as much as possible, a technique for manufacturing a longer cylindrical sintered body capable of coping with a smaller division of the sputtering target is required. Problems in the production of long cylindrical sintered bodies are the difference in relative density within the sintered body (that is, the "intra-solid variation" of the sintered body density) and the mechanical strength. For example, Patent Literature 1 discloses that the oxygen concentration in the atmosphere greatly affects quality stabilization (density and strength) in sintering an ITO target. A sintering furnace used for ITO is usually supplied with oxygen from the furnace wall side.

特開平8-144056Japanese Patent Laid-Open No. 8-144056

しかしながら長尺円筒型焼結体の場合、焼結時の円筒内のガス対流が十分でないことから円筒内に酸素不足が生じる。本発明の課題は、複数の焼結体を基材に接合して得られる分割スパッタリングターゲットにおいて少分割化に対応するため、円筒軸方向の長さが470mm以上の円筒型焼結体、円筒型スパッタリングターゲット及びそれらの製造方法を提供することを目的とする。または、本発明は、固体内および個体間における均質性の高い円筒型焼結体、円筒型スパッタリングターゲット、及びそれらの製造方法を提供することを目的とする。 However, in the case of a long cylindrical sintered body, insufficient gas convection in the cylinder during sintering causes oxygen deficiency in the cylinder. An object of the present invention is to cope with small divisions in a split sputtering target obtained by joining a plurality of sintered bodies to a base material, so that a cylindrical sintered body having a length of 470 mm or more in the cylindrical axis direction, a cylindrical It is an object of the present invention to provide sputtering targets and methods of making them. Another object of the present invention is to provide a cylindrical sintered body with high homogeneity within and between solids, a cylindrical sputtering target, and a method for producing them.

本発明の一実施形態による円筒型スパッタリングターゲットの製造方法は、円筒型焼結体を有する円筒型スパッタリングターゲットの製造方法において、酸素を供給するための配管と接続する酸素供給口を設けたステージ上に円筒軸方向の長さが600mm以上の円筒型成形体を配置し、円筒型成形体の円筒内側に設けられた円筒内周より小さい酸素供給口から円筒軸方向に酸素を供給しながら焼結する。 A method for manufacturing a cylindrical sputtering target according to an embodiment of the present invention is a method for manufacturing a cylindrical sputtering target having a cylindrical sintered body, wherein the stage is provided with an oxygen supply port connected to a pipe for supplying oxygen. A cylindrical molded body having a length of 600 mm or more in the axial direction of the cylinder is placed in the cylinder, and sintered while supplying oxygen in the direction of the cylindrical axis from an oxygen supply port smaller than the inner circumference of the cylinder provided inside the cylinder. do.

また、別の態様において、ステージはチャンバーの中に配置され、酸素を供給するための配管はチャンバーの外から酸素供給口に接続されてもよい。 In another aspect, the stage may be arranged inside the chamber, and a pipe for supplying oxygen may be connected to the oxygen supply port from outside the chamber.

また、別の態様において、酸素は円筒型成形体の円筒内側中空部に向けて供給しながら焼結してもよい。 In another aspect, sintering may be performed while oxygen is supplied toward the inner hollow portion of the cylindrical compact.

また、別の態様において、酸素は円筒型成形体の円筒軸方向の下方から上方に向けて供給しながら焼結してもよい。 In another embodiment, oxygen may be sintered while supplying oxygen upward in the axial direction of the cylindrical compact.

本発明の一実施形態による円筒型スパッタリングターゲットに用いる円筒型焼結体は、円筒軸方向の長さが470mm以上の円筒型焼結体であって、円筒軸方向における相対密度差が0.1%以内である。 The cylindrical sintered body used for the cylindrical sputtering target according to one embodiment of the present invention is a cylindrical sintered body having a length of 470 mm or more in the cylindrical axis direction, and a relative density difference in the cylindrical axis direction of 0.1. %.

本発明の一実施形態による円筒型スパッタリングターゲットに用いる円筒型焼結体は、円筒軸方向の長さが470mm以上の円筒型焼結体であって、円筒内側面に観察される孔における面積の円相当径が平均1μm以下である。 The cylindrical sintered body used for the cylindrical sputtering target according to one embodiment of the present invention is a cylindrical sintered body having a length of 470 mm or more in the axial direction of the cylinder, and the area of the holes observed on the inner side surface of the cylinder is The equivalent circle diameter is 1 μm or less on average.

本発明の一実施形態による円筒型スパッタリングターゲットに用いる円筒型焼結体は、円筒軸方向の長さが470mm以上の円筒型焼結体であって、円筒内側面に観察される孔の数が平均4.25×10-5個/μm2以下である。 The cylindrical sintered body used for the cylindrical sputtering target according to one embodiment of the present invention is a cylindrical sintered body having a length of 470 mm or more in the axial direction, and the number of holes observed on the inner surface of the cylinder is The average is 4.25×10 −5 pieces/μm 2 or less.

また、別の態様において、円筒内側面に観察される孔は、円筒軸方向の中央部において少なくとも独立した5か所の視野1.176mm2当たりに観察される孔であってもよい。 In another aspect, the holes observed on the inner side surface of the cylinder may be holes observed per visual field of 1.176 mm 2 in at least five independent locations in the central portion in the axial direction of the cylinder.

本発明によれば、円筒軸方向の長さが470mm以上の円筒型焼結体、円筒型スパッタリングターゲット及びそれらの製造方法を提供することができる。または、固体内および個体間における均質性の高い円筒型焼結体、円筒型スパッタリングターゲット、及びそれらの製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a cylindrical sintered body having a length of 470 mm or more in the cylindrical axis direction, a cylindrical sputtering target, and a method for producing them. Alternatively, it is possible to provide a cylindrical sintered body with high homogeneity within and between solids, a cylindrical sputtering target, and methods for producing them.

本発明の一実施形態に係る円筒型スパッタリングターゲットを構成する円筒型焼結体の一例を示す斜視図である。1 is a perspective view showing an example of a cylindrical sintered body that constitutes a cylindrical sputtering target according to an embodiment of the present invention; FIG. 本発明の一実施形態に係る組み立て後の円筒型スパッタリングターゲットの構成の一例を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of an assembled cylindrical sputtering target according to an embodiment of the present invention; FIG. 本発明の一実施形態に係る円筒型焼結体の製造方法を示すプロセスフローである。1 is a process flow showing a method for manufacturing a cylindrical sintered body according to one embodiment of the present invention; 本発明の一実施形態に係る円筒型焼結体の製造方法において、円筒型成形体を焼結する工程を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a step of sintering a cylindrical compact in a method for manufacturing a cylindrical sintered compact according to one embodiment of the present invention; FIG. 本発明の一実施形態に係る円筒型焼結体の製造方法において、円筒型成形体を焼結する工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step of sintering a cylindrical molded body in the method for manufacturing a cylindrical sintered body according to one embodiment of the present invention; 本発明の一実施形態に係る円筒型焼結体の製造方法において、円筒型成形体を焼結する工程を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a step of sintering a cylindrical molded body in the method for manufacturing a cylindrical sintered body according to one embodiment of the present invention; 本発明の一実施形態の変形例1に係る円筒型焼結体の製造方法において、円筒型成形体を焼結する工程を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a step of sintering a cylindrical molded body in a method for manufacturing a cylindrical sintered body according to Modification 1 of one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態の変形例2に係る円筒型焼結体の製造方法において、円筒型成形体を焼結する工程を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a step of sintering a cylindrical molded body in a method for manufacturing a cylindrical sintered body according to Modification 2 of one embodiment of the present invention. 本発明の実施例および比較例に係る円筒型焼結体において、円筒軸方向における測定サンプルの採取位置を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the positions of measuring samples taken in the direction of the cylinder axis in cylindrical sintered bodies according to examples and comparative examples of the present invention. 本発明の実施例および比較例に係る円筒型焼結体の密度、固体内密度差、相対密度、及び固体内の最大相対密度差を示す表である。1 is a table showing densities, density differences in solids, relative densities, and maximum relative density differences in solids of cylindrical sintered bodies according to Examples and Comparative Examples of the present invention. 本発明の実施例および比較例に係る円筒型焼結体の長さと最小酸素供給量の関係を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the length of cylindrical sintered bodies and the minimum oxygen supply amount according to Examples and Comparative Examples of the present invention. 本発明の実施例および比較例に係る円筒型焼結体のバルク抵抗、及び固体内バルク抵抗値差を示す表である。4 is a table showing the bulk resistance of cylindrical sintered bodies according to examples of the present invention and comparative examples, and bulk resistance value differences in solids. 本発明の実施例および比較例に係る円筒型焼結体において、円筒内側面、および外側面における測定サンプルの採取位置を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the positions at which measurement samples are taken on the inner side surface and the outer side surface of the cylindrical sintered bodies according to Examples and Comparative Examples of the present invention. 本発明の実施例および比較例に係る円筒型焼結体の円筒内側面における電子顕微鏡(SEM、1000倍)写真である。1 is electron microscope (SEM, 1000x) photographs of cylindrical inner surfaces of cylindrical sintered bodies according to Examples and Comparative Examples of the present invention. 本発明の実施例および比較例に係る円筒型焼結体の円筒外側面における電子顕微鏡(SEM、1000倍)写真である。FIG. 2 is an electron microscope (SEM, 1000×) photograph of the cylindrical outer surface of cylindrical sintered bodies according to Examples and Comparative Examples of the present invention. FIG. 本発明の実施例および比較例に係る円筒型焼結体の円筒内側面における電子顕微鏡(SEM、5000倍または2000倍)写真である。Fig. 2 is an electron microscope (SEM, 5000x or 2000x) photographs of cylindrical inner surfaces of cylindrical sintered bodies according to Examples and Comparative Examples of the present invention. 本発明の実施例および比較例に係る円筒型焼結体の円筒外側面における電子顕微鏡(SEM、5000倍)写真である。FIG. 2 is electron microscope (SEM, 5000×) photographs of cylindrical outer surfaces of cylindrical sintered bodies according to Examples and Comparative Examples of the present invention. FIG. 本発明の実施例および比較例に係る円筒型焼結体の円筒内側面における孔における面積の円相当径、および数の平均を示す表である。FIG. 4 is a table showing the equivalent circle diameter of the areas of the holes on the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered bodies according to the examples and comparative examples of the present invention , and the average number thereof. FIG.

以下、図面を参照して本発明に係る円筒型スパッタリングターゲット及びその製造方法について説明する。但し、本発明の円筒型スパッタリングターゲット及びその製造方法は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、本実施の形態で参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。 A cylindrical sputtering target and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the cylindrical sputtering target and the manufacturing method thereof of the present invention can be implemented in many different aspects, and should not be construed as being limited to the description of the embodiments shown below. In the drawings referred to in this embodiment, the same parts or parts having similar functions are denoted by the same reference numerals, and repeated description thereof will be omitted.

〈実施形態〉
図1及び図2を用いて、本発明の実施形態に係る円筒型スパッタリングターゲット及び円筒型焼結体の構成及び構造の概要を説明する。
<Embodiment>
The configuration and structure of a cylindrical sputtering target and a cylindrical sintered body according to an embodiment of the present invention will be outlined with reference to FIGS. 1 and 2. FIG.

[円筒型スパッタリングターゲットの概要]
図1は、本発明の実施形態に係る円筒型スパッタリングターゲットを構成する円筒型焼結体の一例を示す斜視図である。図1に示すように、円筒型スパッタリングターゲット100は、中空構造の複数の円筒型焼結体110を有する。上記複数の円筒型焼結体110は一定のスペースを介して互いに隣接して配置される。ここで、図1においては、説明の便宜上、隣接する円筒型焼結体110のスペースを大きくして図示した。円筒型焼結体110の円筒内側中空部には、詳細を図2に示すように、円筒型焼結体110を保持するための円筒基材130が導入される。
[Overview of Cylindrical Sputtering Target]
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a cylindrical sintered body that constitutes a cylindrical sputtering target according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a cylindrical sputtering target 100 has a plurality of hollow cylindrical sintered bodies 110 . The plurality of cylindrical sintered bodies 110 are arranged adjacent to each other with a certain space therebetween. Here, in FIG. 1, for convenience of explanation, the space between adjacent cylindrical sintered bodies 110 is shown enlarged. As shown in detail in FIG. 2, a cylindrical substrate 130 for holding the cylindrical sintered body 110 is introduced into the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical sintered body 110 .

また、円筒型焼結体110の厚さは6.0mm以上20.0mm以下とすることができる。また、円筒型焼結体110の円筒軸方向の長さは470mm以上1500mm以下とすることができる。また、円筒型焼結体110の外径は147mm以上175mm以下とすることができる。また、円筒型焼結体110の内径は135mm以下とすることができる。また、隣接する円筒型焼結体110間の円筒軸方向のスペースは0.1mm以上0.4mm以下とすることができる。 Also, the thickness of the cylindrical sintered body 110 can be 6.0 mm or more and 20.0 mm or less. Also, the length of the cylindrical sintered body 110 in the direction of the cylindrical axis can be 470 mm or more and 1500 mm or less. Further, the outer diameter of the cylindrical sintered body 110 can be 147 mm or more and 175 mm or less. Also, the inner diameter of the cylindrical sintered body 110 can be set to 135 mm or less. Also, the space between adjacent cylindrical sintered bodies 110 in the axial direction of the cylinder can be 0.1 mm or more and 0.4 mm or less.

円筒型焼結体110の材料は、例えば、インジウム、スズ及び酸素からなるITO焼結体(Indium Tin Oxide)、インジウム、亜鉛及び酸素からなるIZO焼結体(Indium Zinc Oxide)、インジウム、ガリウム、亜鉛、及び酸素からなるIGZO焼結体(Indium Gallium Zinc Oxide)、亜鉛、アルミニウム及び酸素からなるAZO焼結体(Aluminium Zinc Oxide)、酸化亜鉛(ZnO)、TiO2等の焼結体である。ただし、本発明にかかる円筒形スパッタリングターゲットの円筒型焼結体は酸素を含むセラミック焼結体であれば、上記組成に限定されない。 The material of the cylindrical sintered body 110 is, for example, an ITO sintered body (Indium Tin Oxide) made of indium, tin and oxygen, an IZO sintered body (Indium Zinc Oxide) made of indium, zinc and oxygen, indium, gallium, IGZO sintered bodies (Indium Gallium Zinc Oxide) made of zinc and oxygen, AZO sintered bodies (Aluminum Zinc Oxide) made of zinc, aluminum and oxygen, zinc oxide (ZnO), sintered bodies such as TiO 2 . However, the cylindrical sintered body of the cylindrical sputtering target according to the present invention is not limited to the above composition as long as it is a ceramic sintered body containing oxygen.

ここで、本実施形態における円筒型焼結体110の密度は、99.5%以上であるとよい。円筒型焼結体110の密度は、より好ましくは99.6%以上であるとよい。また、円筒型焼結体110の固体内の円筒軸方向における相対密度の差は、0.1%以下であるとよい。円筒型焼結体110の円筒軸方向における相対密度の差は、より好ましくは0.05%以下であるとよく、さらに好ましくは0.03%以下であるとよい。また、隣接する円筒型焼結体110aと110bとの間の相対密度の差、つまり円筒型焼結体の固体間の相対密度の差は、好ましくは0.1%以下であるとよい。 Here, the density of the cylindrical sintered body 110 in this embodiment is preferably 99.5% or more. The density of the cylindrical sintered body 110 is more preferably 99.6% or more. Further, the difference in relative density in the solid of the cylindrical sintered body 110 in the direction of the cylinder axis is preferably 0.1% or less. The difference in relative density in the cylindrical axis direction of the cylindrical sintered body 110 is more preferably 0.05% or less, more preferably 0.03% or less. Also, the difference in relative density between the adjacent cylindrical sintered bodies 110a and 110b, that is, the difference in relative density between solid cylindrical sintered bodies is preferably 0.1% or less.

尚、焼結体の密度は相対密度で示す。相対密度は、測定された密度及び理論密度によって、相対密度=(測定密度/理論密度)×100(%)で表される。相対密度差は、各測定された密度の差及び理論密度によって、相対密度差=(測定密度差/理論密度)×100(%)で表される。理論密度とは、焼結体の各構成元素において、酸素を除いた元素の酸化物の理論密度から算出される密度の値である。例えば、ITOターゲットであれば、各構成元素であるインジウム、スズ、酸素のうち、酸素を除いたインジウム、スズの酸化物として、酸化インジウム(In23)と酸化スズ(SnO2)を理論密度の算出に用いる。ここで、焼結体中のインジウムとスズの元素分析値(at%、又は質量%)から、酸化インジウム(In23)と酸化スズ(SnO2)の質量比に換算する。例えば、換算の結果、酸化インジウムが90質量%、酸化スズが10質量%のITOターゲットの場合、理論密度は、(In23の密度(g/cm3)×90+SnO2の密度(g/cm3)×10)/100(g/cm3)として算出する。In23の理論密度は7.18g/cm3、SnO2の理論密度は6.95g/cm3として計算し、理論密度は7.157(g/cm3)と算出される。また、各構成元素がZnであればZnO、GaであればGa23の酸化物として算出することができる。ZnOの理論密度は5.67g/cm3、Ga23の理論密度は5.95g/cm3として計算する。一方、測定密度とは、重量を体積で割った値である。焼結体の場合は、アルキメデス法により体積を求めて算出する。円筒型焼結体110の固体内の円筒軸方向における相対密度の差は、円筒型焼結体110の円筒軸方向において150mmおきに40~50mm幅の円筒型測定サンプルを切り出し、それぞれのサンプルの相対密度を算出することで評価することができる。 Incidentally, the density of the sintered body is indicated by relative density. The relative density is expressed by relative density = (measured density/theoretical density) x 100 (%), based on the measured density and theoretical density. The relative density difference is expressed by relative density difference=(measured density difference/theoretical density)×100 (%) by each measured density difference and theoretical density. The theoretical density is a density value calculated from the theoretical density of oxides of elements other than oxygen in each constituent element of the sintered body. For example, in the case of an ITO target, indium oxide (In 2 O 3 ) and tin oxide (SnO 2 ) are theoretically used as oxides of indium and tin excluding oxygen among the constituent elements of indium, tin, and oxygen. Used for density calculation. Here, the elemental analysis values (at % or mass %) of indium and tin in the sintered body are converted into mass ratios of indium oxide (In 2 O 3 ) and tin oxide (SnO 2 ). For example, as a result of conversion, in the case of an ITO target containing 90% by mass of indium oxide and 10% by mass of tin oxide, the theoretical density is (density of In 2 O 3 (g/cm 3 ) × 90 + density of SnO 2 (g/ cm 3 )×10)/100 (g/cm 3 ). The theoretical density of In 2 O 3 is 7.18 g/cm 3 and the theoretical density of SnO 2 is 6.95 g/cm 3 , and the theoretical density is calculated to be 7.157 (g/cm 3 ). Also, if each constituent element is Zn, it can be calculated as an oxide of ZnO, and if it is Ga, it can be calculated as an oxide of Ga 2 O 3 . The theoretical density of ZnO is 5.67 g/cm 3 and the theoretical density of Ga 2 O 3 is 5.95 g/cm 3 . Measured density, on the other hand, is weight divided by volume. In the case of a sintered body, the volume is calculated by the Archimedes method. The difference in the relative density in the solid of the cylindrical sintered body 110 in the cylindrical axis direction is obtained by cutting cylindrical measurement samples with a width of 40 to 50 mm at intervals of 150 mm in the cylindrical axis direction of the cylindrical sintered body 110, and measuring each sample. It can be evaluated by calculating the relative density.

以上のように、円筒形焼結体の長さ、および相対密度を上記の範囲にすることで、円筒型焼結体の機械的強度の向上及びその円筒型焼結体を使用するときノジュールの発生やアーキングに伴うパーティクルの発生を抑制することができ、薄膜の不純物の低減や膜密度の向上の効果を得ることができる。また、円筒型焼結体の固体内及び固体間の相対密度の差をそれぞれ上記の範囲にすることで、複数の円筒型焼結体を有する分割スパッタリングターゲットにおいて電界の歪みを抑制することができる。その結果、スパッタリング時に安定した放電特性を得ることができ、膜質の面内均一性が非常に高い薄膜を1つの円筒型焼結体のサイズを超すような大型の基板に形成することができる。 As described above, by setting the length of the cylindrical sintered body and the relative density within the above range, the mechanical strength of the cylindrical sintered body can be improved and the nodule formation when using the cylindrical sintered body can be improved. It is possible to suppress the generation of particles accompanying generation and arcing, and obtain the effects of reducing impurities in the thin film and improving the film density. In addition, by setting the difference in the relative density in the solid of the cylindrical sintered body and between the solids in the above ranges, the distortion of the electric field can be suppressed in the split sputtering target having a plurality of cylindrical sintered bodies. . As a result, stable discharge characteristics can be obtained during sputtering, and a thin film with extremely high in-plane uniformity of film quality can be formed on a large substrate exceeding the size of one cylindrical sintered body.

円筒型焼結体110の固体内の差とは、円筒型焼結体110の円筒内側面および外側面の差も含まれる。円筒型焼結体110の円筒内側面および外側面の状態は電子顕微鏡(SEM)観察によって評価することができる。本実施形態における円筒型焼結体110の円筒軸方向中央部における円筒内側面および外側面に観察される孔に大きな差は見られない。本実施形態における円筒型焼結体110の円筒内側面および外側面に観察される孔の形は不規則な粒形であり、結晶粒界および結晶内の何れにも観察される。別言すると、本実施形態における円筒型焼結体110の円筒内側面および外側面には、不規則な気泡状の孔が、結晶粒界および結晶内の何れにも観察される。一方で、円筒軸方向の長さが470mm以上である比較例における円筒型焼結体の円筒内側面には、比較例における円筒外側面や、本実施形態における円筒型焼結体110の円筒内側面および外側面と比べて、より大きい不規則な粒形の孔が観察される。別言すると、円筒軸方向の長さが470mm以上である比較例における円筒型焼結体の円筒内側面には、不規則な結晶粒状の孔が観察される。このような比較例における円筒型焼結体の円筒内側面に観察される孔は、主に結晶粒界に観察される。比較例における円筒型焼結体の円筒外側面は、本実施形態における円筒型焼結体110の円筒内側面および外側面と大きな差が見られない。比較例における円筒型焼結体の円筒外側面に観察される孔の形は、円筒内側面の孔と比べて小さく不規則な粒形であり、結晶粒界および結晶内の何れにも観察される。 The difference in the solid of the cylindrical sintered body 110 also includes the difference between the cylindrical inner surface and the outer surface of the cylindrical sintered body 110 . The state of the cylindrical inner side surface and the outer side surface of the cylindrical sintered body 110 can be evaluated by observation with an electron microscope (SEM). There is no significant difference in the holes observed on the inner side surface and the outer side surface of the cylindrical sintered body 110 in this embodiment at the central portion in the axial direction of the cylinder. The shape of the pores observed on the cylindrical inner and outer surfaces of the cylindrical sintered body 110 in this embodiment is an irregular grain shape, and is observed both at grain boundaries and within crystals. In other words, on the inner and outer surfaces of the cylindrical sintered body 110 of this embodiment, irregular bubble-like pores are observed both at the grain boundaries and within the crystals. On the other hand, the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered body in the comparative example whose length in the cylindrical axial direction is 470 mm or more includes the cylindrical outer side surface in the comparative example and the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered body 110 in the present embodiment. Larger, irregular grain-shaped pores are observed compared to the lateral and lateral surfaces. In other words, irregular crystal grain-like pores are observed on the inner side surface of the cylindrical sintered body of the comparative example having a length of 470 mm or more in the axial direction of the cylinder. The pores observed on the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered body in such a comparative example are mainly observed at grain boundaries. The cylindrical outer side surface of the cylindrical sintered body in the comparative example is not significantly different from the cylindrical inner side surface and the outer side surface of the cylindrical sintered body 110 in the present embodiment. The shape of the pores observed on the cylindrical outer surface of the cylindrical sintered body in the comparative example is smaller and irregular than the pores on the cylindrical inner surface, and is observed both at the grain boundary and within the crystal. be.

本実施形態および比較例における円筒型焼結体の円筒内側面および円筒外側面に観察される各々の孔の形は不規則である。このため、孔の大きさは、連続する1つの孔を平面視したときの面積を算出し、相当する面積を有する円の直径(以降、孔における面積の円相当径という)で評価してもよい。孔の数は、観察する面において連続する1つの孔を1として算出してもよい。本実施形態における円筒型焼結体110の円筒内側面に観察される孔における面積の円相当径の平均は1μm以下であるとよい。円筒型焼結体110の円筒内側面に観察される孔における面積の円相当径の平均は、より好ましくは0.5μm以下であるとよい。また、本実施形態における円筒型焼結体110の円筒内側面に観察される孔の数の平均は、4.25×10-5個/μm2以下であるとよい。円筒型焼結体110の円筒内側面に観察される孔の数の平均は、より好ましくは2.125×10-5個/μm2以下であるとよい。なお本実施形態における円筒型焼結体110の円筒外側面に観察される孔における面積の円相当径の平均は1μm以下であるとよい。円筒型焼結体110の円筒外側面に観察される孔における面積の円相当径の平均は、より好ましくは0.5μm以下であるとよい。また、本実施形態における円筒型焼結体110の円筒外側面に観察される孔の数の平均は、4.25×10-5個/μm2以下であるとよい。円筒型焼結体110の円筒外側面に観察される孔の数の平均は、より好ましくは2.125×10-5個/μm2以下であるとよい。 The shape of each hole observed on the cylindrical inner side surface and the cylindrical outer side surface of the cylindrical sintered bodies in this embodiment and the comparative example is irregular. For this reason, the size of a hole can be evaluated by calculating the area of one continuous hole in plan view and evaluating it by the diameter of a circle having the corresponding area (hereinafter referred to as the equivalent circle diameter of the area of the hole). good. The number of holes may be calculated assuming that one continuous hole on the surface to be observed is one. The average equivalent circle diameter of the area of the holes observed on the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered body 110 in this embodiment is preferably 1 μm or less. More preferably, the average equivalent circle diameter of the area of the pores observed on the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered body 110 is 0.5 μm or less. Further, the average number of holes observed on the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered body 110 in this embodiment is preferably 4.25×10 −5 holes/μm 2 or less. The average number of holes observed on the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered body 110 is more preferably 2.125×10 −5 /μm 2 or less. In this embodiment, the average equivalent circle diameter of the area of the holes observed on the cylindrical outer surface of the cylindrical sintered body 110 is preferably 1 μm or less. The average equivalent circle diameter of the area of the pores observed on the cylindrical outer surface of the cylindrical sintered body 110 is more preferably 0.5 μm or less. Further, the average number of holes observed on the cylindrical outer surface of the cylindrical sintered body 110 in this embodiment is preferably 4.25×10 −5 holes/μm 2 or less. The average number of holes observed on the cylindrical outer surface of the cylindrical sintered body 110 is more preferably 2.125×10 −5 /μm 2 or less.

尚、円筒型焼結体110の円筒内側面および外側面の状態の評価は、各サンプルの円筒軸方向の中央部において980μm×1200μmの視野を5つ観察し、孔の数および孔における面積の円相当径の平均値を評価する。孔における面積Sの円相当径Lは、まず連続する1つの孔の投影面積Sを算出し、相当する面積を有する円の直径Lを以下の式で算出することで得ることができる。

Figure 0007244989000001
The state of the inner and outer surfaces of the cylindrical sintered body 110 was evaluated by observing five fields of view of 980 μm×1200 μm in the central portion of each sample in the axial direction of the cylinder, and the number of holes and the area of the holes. Evaluate the average equivalent circle diameter. The equivalent circle diameter L of the area S of the hole can be obtained by first calculating the projected area S of one continuous hole and then calculating the diameter L of a circle having the corresponding area using the following formula.
Figure 0007244989000001

本実施形態における円筒型焼結体110の円筒軸方向中央部における円筒内側面および外側面に観察される結晶粒子に大きな差は見られない。本実施形態における円筒型焼結体110の円筒内側面および外側面に観察される結晶粒子は、大きく成長している。一方で、円筒軸方向の長さが957mm以上である比較例における円筒型焼結体の円筒内側面には、外側面と比べて、結晶粒子がより小さく、成長初期段階の結晶粒子が観察される。このような比較例における円筒型焼結体の円筒内側面の結晶粒子は成長初期段階であることから、小さく、不均一であり、平滑性に欠ける。 There is no significant difference in the crystal grains observed on the inner side surface and the outer side surface of the cylindrical sintered body 110 in this embodiment at the central portion in the axial direction of the cylinder. The crystal grains observed on the cylindrical inner side surface and the outer side surface of the cylindrical sintered body 110 in this embodiment grow large. On the other hand, on the cylindrical inner surface of the cylindrical sintered body in the comparative example having a length of 957 mm or more in the cylindrical axial direction, the crystal grains are smaller than the outer surface, and crystal grains in the initial stage of growth are observed. be. The crystal grains on the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered body in such a comparative example are in the initial stage of growth, so they are small, non-uniform, and lack smoothness.

詳細は製造方法で説明するが、円筒型成形体を円筒軸方向に酸素を供給しながら焼結することにより、上記の円筒型焼結体を得ることができる。 Although the details will be described in the manufacturing method, the cylindrical sintered body can be obtained by sintering the cylindrical molded body while supplying oxygen in the axial direction of the cylinder.

図2は、本発明の実施形態に係る組み立て後の円筒型スパッタリングターゲットの構成の一例を示す断面図である。図2に示すように、組み立て後の円筒型スパッタリングターゲット100は、図1に示した円筒型焼結体110の円筒内側中空部に円筒基材130が配置されている。円筒基材130と円筒型焼結体110とは、ろう材140によってろう付けされており、隣接する円筒型焼結体110はスペース120を介して配置されている。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the assembled cylindrical sputtering target according to the embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, in the assembled cylindrical sputtering target 100, a cylindrical base material 130 is arranged in the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical sintered body 110 shown in FIG. Cylindrical base material 130 and cylindrical sintered body 110 are brazed with brazing material 140 , and adjacent cylindrical sintered bodies 110 are arranged with space 120 interposed therebetween.

円筒基材130の材料は、ターゲットをスパッタリングする際に電子やイオンがターゲットに衝突することで発生する熱を効率的に放出できるように熱伝導率が高く、ターゲットにバイアス電圧を印加できる程度の導電性を有する金属材料を使用することができる。具体的に、銅(Cu)、チタン(Ti)これらを含む合金、及びステンレス(SUS)を使用することができる。 The material of the cylindrical substrate 130 has high thermal conductivity so that heat generated by collision of electrons and ions with the target during sputtering can be efficiently released, and is high enough to apply a bias voltage to the target. A metal material having electrical conductivity can be used. Specifically, copper (Cu), titanium (Ti) alloys containing these, and stainless steel (SUS) can be used.

ろう材140の材料は、円筒基材130と同様に熱伝導率が高く、導電性を有し、円筒基材130が円筒型焼結体110を保持するのに十分な密着力と強度を有する材料を使用することができる。ただし、ろう材140の熱伝導率は円筒基材130の熱伝導率よりも低い材料であってもよい。また、ろう材140の導電性は円筒基材130の導電性よりも低い材料であってもよい。ろう材140としては、例えばインジウム(In)、スズ(Sn)、及びこれらを含む合金を使用することができる。 The material of the brazing filler metal 140 has high thermal conductivity and electrical conductivity like the cylindrical base material 130, and has sufficient adhesion and strength for the cylindrical base material 130 to hold the cylindrical sintered body 110. material can be used. However, the thermal conductivity of the brazing material 140 may be lower than that of the cylindrical substrate 130 . Also, the brazing material 140 may be a material with a lower conductivity than the cylindrical substrate 130 . As the brazing material 140, for example, indium (In), tin (Sn), and alloys containing these can be used.

以上のように、本実施形態に係るスパッタリングターゲットによると、円筒形焼結体の長さ、および相対密度を上記の範囲にすることで、円筒型焼結体の機械的強度の向上及びその円筒型焼結体を使用した薄膜の不純物の低減や膜密度の向上の効果を得ることができる。また、円筒型焼結体の固体内及び固体間の相対密度の差をそれぞれ上記の範囲にすることで、複数の円筒型焼結体を有する分割スパッタリングターゲットにおいて電界の歪みを抑制することができる。その結果、スパッタリング時に安定した放電特性を得ることができ、膜質の面内均一性が非常に高い薄膜を1つの円筒型焼結体のサイズを超すような大型の基板に形成することができる。さらに、円筒型焼結体の円筒内側面および円筒外側面の状態をそれぞれ上記の範囲にすることで、円筒型焼結体を有する分割スパッタリングターゲットにおいてターゲットライフを通じて安定した品質を維持することができる。すなわちターゲットを継続使用している途中で特性変化が生じず、密度不良によるノジュールやパーティクルの発生を抑制することができる。 As described above, according to the sputtering target according to the present embodiment, the length of the cylindrical sintered body and the relative density are within the above ranges, thereby improving the mechanical strength of the cylindrical sintered body and improving the cylindrical sintered body. It is possible to obtain the effects of reducing impurities in the thin film using the mold sintered body and improving the film density. In addition, by setting the difference in the relative density in the solid of the cylindrical sintered body and between the solids in the above ranges, the distortion of the electric field can be suppressed in the split sputtering target having a plurality of cylindrical sintered bodies. . As a result, stable discharge characteristics can be obtained during sputtering, and a thin film with extremely high in-plane uniformity of film quality can be formed on a large substrate exceeding the size of one cylindrical sintered body. Furthermore, by setting the states of the cylindrical inner side surface and the cylindrical outer side surface of the cylindrical sintered body to the ranges described above, it is possible to maintain stable quality throughout the target life in the divided sputtering target having the cylindrical sintered body. . That is, the characteristics do not change during continuous use of the target, and the generation of nodules and particles due to poor density can be suppressed.

[円筒型焼結体の製造方法]
次に、本発明に係る円筒型スパッタリングターゲットの円筒型焼結体の製造方法について、図3を用いて詳細に説明する。図3は、本発明の実施形態に係る円筒型焼結体の製造方法を示すプロセスフローである。図3では、ITO焼結体の製造方法を例示するが、焼結体の材料はITOに限定されず、IGZOなどのその他の酸化金属焼結体にも使用することができる。
[Manufacturing method of cylindrical sintered body]
Next, a method for manufacturing a cylindrical sintered body of a cylindrical sputtering target according to the present invention will be described in detail with reference to FIG. FIG. 3 is a process flow showing a method for manufacturing a cylindrical sintered body according to an embodiment of the invention. FIG. 3 illustrates a method of manufacturing an ITO sintered body, but the material of the sintered body is not limited to ITO, and other metal oxide sintered bodies such as IGZO can also be used.

まず始めに、原料を準備する。混合に用いる原料は、例えば酸化物や合金などに含有される金属元素を使用する。原料は粉末状のものを使用することができ、目的とするスパッタリングターゲットの組成によって適宜選択することができる。例えばITOの場合は、酸化インジウムの粉末及び酸化スズの粉末を準備する(ステップS301及びS302)。これらの原料の純度は、通常2N(99質量%)以上、好ましくは3N(99.9質量%)以上、さらに好ましくは4N(99.99質量%)以上であるとよい。純度が2Nより低いと円筒型焼結体に不純物が多く含まれてしまうため、所望の物性を得られなくなる(例えば、透過率の減少、膜の抵抗値の増加、局所的に異物が含まれるとアーキングに伴うパーティクルの発生)という問題がある。 First, prepare the raw materials. The raw materials used for mixing are, for example, metal elements contained in oxides, alloys, and the like. A powdery raw material can be used as the raw material, and the raw material can be appropriately selected according to the composition of the intended sputtering target. For example, in the case of ITO, indium oxide powder and tin oxide powder are prepared (steps S301 and S302). The purity of these raw materials is generally 2N (99% by mass) or higher, preferably 3N (99.9% by mass) or higher, and more preferably 4N (99.99% by mass) or higher. If the purity is lower than 2N, many impurities are contained in the cylindrical sintered body, making it impossible to obtain the desired physical properties (for example, decrease in transmittance, increase in film resistance, local inclusion of foreign matter and generation of particles due to arcing).

次に、これらの原料粉末を粉砕し混合する(ステップS303)。原料粉末の粉砕混合処理は、ジルコニア、アルミナ、ナイロン樹脂等のボールやビーズを用いた乾式法や、上記のボールやビーズを用いたメディア撹拌型ミル、メディアレスの容器回転式、機械撹拌式、気流式の湿式法を使用することができる。ここで、一般的に湿式法は乾式法に比べて粉砕及び混合能力に優れているため、湿式法を用いて混合を行うことが好ましい。 Next, these raw material powders are pulverized and mixed (step S303). The raw material powder is pulverized and mixed by a dry method using balls or beads of zirconia, alumina, nylon resin, etc., a media agitating mill using the above balls or beads, a medialess container rotating type, a mechanical agitating type, An air flow wet method can be used. Here, since the wet method is generally superior to the dry method in pulverization and mixing ability, it is preferable to use the wet method for mixing.

原料組成については特に制限はないが、目的とするスパッタリングターゲットの組成比に応じて適宜調整することが望ましい。 The raw material composition is not particularly limited, but it is desirable to adjust it appropriately according to the composition ratio of the target sputtering target.

ここで、細かい粒子径の原料粉末を使用すると焼結体の高密度化は可能となる。また、粉砕条件を強化して細かい原料粉末を得ることは可能だが、粉砕時に使用するメディア(ジルコニアなど)の混入量も増加し、製品内の不純物濃度は上昇してしまう。このように焼結体の高密度化と製品内の不純物濃度のバランスを見ながら、粉砕時の条件は適正な範囲を設ける必要がある。 Here, if raw material powder with a small particle size is used, it becomes possible to increase the density of the sintered body. In addition, although it is possible to obtain a fine raw material powder by strengthening the grinding conditions, the amount of media (such as zirconia) used during grinding increases, increasing the concentration of impurities in the product. In this way, it is necessary to set an appropriate range for the grinding conditions while observing the balance between the densification of the sintered body and the concentration of impurities in the product.

次に、原料粉末のスラリーを乾燥・造粒する(ステップS304)。ここで、スラリーを急速乾燥する急速乾燥造粒を行ってもよい。急速乾燥造粒は、スプレードライヤを使用し、熱風温度、風量を調整することで行われてもよい。急速乾燥造粒をすることで、原料粉末の比重差による沈降速度の違いによって酸化インジウム粉末と酸化スズ粉末とが分離することを抑制することができる。このように造粒することで、配合成分の比率が均一化され、原料粉末のハンドリング性が向上する。また、造粒する前後に仮焼成を行ってもよい。 Next, the raw material powder slurry is dried and granulated (step S304). Here, rapid dry granulation for rapid drying of the slurry may be performed. Rapid drying granulation may be performed by using a spray dryer and adjusting hot air temperature and air volume. By performing rapid dry granulation, it is possible to suppress separation of the indium oxide powder and the tin oxide powder due to the difference in sedimentation speed due to the difference in the specific gravity of the raw material powder. By granulating in this way, the ratio of the compounding ingredients is made uniform, and the handleability of the raw material powder is improved. In addition, calcination may be performed before and after granulation.

次に、上述した混合及び造粒の工程によって得られた混合物(仮焼成工程を設けた場合には仮焼成されたもの)を加圧成形して円筒型成形体を形成する(S305)。この工程によって、目的とするスパッタリングターゲットに好適な形状に成形する。円筒型成形体の円筒軸方向の長さは600mm以上とすることができる。成形処理としては、例えば、金型成形、鋳込み成形、射出成形等が挙げられるが、円筒型のように複雑な形状を得るためには、冷間静水圧(CIP)等で成形することが好ましい。CIPによる成形は、まず所定の重量に秤量した原料粉をゴム型に充填する。この際、ゴム型を揺動もしくタッピングしながら充填することで、型内の原料粉の充填ムラや空隙を無くすことができる。CIPによる成形の圧力は、好ましくは100MPa以上200MPa以下であるとよい。上記のように成形の圧力を調整することによって、本実施形態では54.5%以上58.0%以下の相対密度を有する円筒型成形体を形成することができる。より好ましくは、CIPの成形圧力を150MPa以上180MPa以下に調整することで、55.0%以上57.5%以下の相対密度の円筒型成形体を得るとよい。 Next, the mixture obtained by the above-described mixing and granulation steps (which is calcined if a calcining step is provided) is pressure-molded to form a cylindrical compact (S305). Through this process, the target sputtering target is formed into a suitable shape. The length of the cylindrical molded body in the direction of the cylindrical axis can be 600 mm or more. Examples of the molding process include mold molding, cast molding, injection molding, etc. In order to obtain a complicated shape such as a cylindrical shape, molding by cold isostatic pressure (CIP) or the like is preferable. . In molding by CIP, raw material powder weighed to a predetermined weight is first filled into a rubber mold. At this time, by filling the rubber mold with rocking or tapping, it is possible to eliminate filling unevenness and gaps of the raw material powder in the mold. CIP molding pressure is preferably 100 MPa or more and 200 MPa or less. By adjusting the molding pressure as described above, in this embodiment, a cylindrical molded body having a relative density of 54.5% or more and 58.0% or less can be formed. More preferably, the CIP molding pressure is adjusted to 150 MPa or more and 180 MPa or less to obtain a cylindrical compact having a relative density of 55.0% or more and 57.5% or less.

次に、成形工程で得られた円筒型成形体を焼結する(ステップS306)。ここで、円筒型成形体を焼結する方法について、図4から図6を用いて詳しく説明する。図4は、本発明の実施形態に係る円筒型焼結体の製造方法において、円筒型成形体を焼結する工程を示す斜視図である。図5は、本発明の実施形態に係る円筒型焼結体の製造方法において、円筒型成形体を焼結する工程を示す断面図である。また、図6は、本発明の実施形態に係る円筒型焼結体の製造方法において、円筒型成形体を焼結する工程を示す平面図である。 Next, the cylindrical molded body obtained in the molding step is sintered (step S306). Here, a method for sintering the cylindrical compact will be described in detail with reference to FIGS. 4 to 6. FIG. FIG. 4 is a perspective view showing a step of sintering a cylindrical molded body in the method for manufacturing a cylindrical sintered body according to the embodiment of the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view showing a step of sintering a cylindrical molded body in a method for manufacturing a cylindrical sintered body according to an embodiment of the present invention. FIG. 6 is a plan view showing a step of sintering a cylindrical molded body in the method for manufacturing a cylindrical sintered body according to the embodiment of the present invention.

まず、図4に示すように、ステップS305の成形工程で得られた円筒型成形体111は、平板状の焼結ステージ200上に円筒軸方向が焼結ステージ200に対して略垂直になるよう立てた状態で配置される。ただし円筒型成形体111が焼結ステージ200上に安定して配置することができるかぎり、これに限定されない。例えば、焼結ステージ200に対して円筒型成形体111が傾いた状態で配置されてもよい。また、図4では省略したが、円筒型成形体111を焼結する際に、円筒型成形体111と焼結ステージ200との間にスペーサを配置してもよい。この場合、スペーサは、円筒型成形体111の底面150よりも小さい面積で底面150と接するように配置するとよい。スペーサを配置することによって、焼結工程に円筒型成形体111の体積が縮小しても、移動で生じる摩擦係数を抑制することができる。したがって、焼結後の円筒型焼結体に発生する内部応力の発生を抑制することができる。 First, as shown in FIG. 4, the cylindrical molded body 111 obtained in the molding step of step S305 is placed on a flat plate-like sintering stage 200 such that the cylinder axis direction is substantially perpendicular to the sintering stage 200. placed in an upright position. However, as long as the cylindrical molded body 111 can be stably arranged on the sintering stage 200, it is not limited to this. For example, the cylindrical molded body 111 may be arranged in an inclined state with respect to the sintering stage 200 . Although omitted in FIG. 4, a spacer may be arranged between the cylindrical molded body 111 and the sintering stage 200 when the cylindrical molded body 111 is sintered. In this case, the spacer should be placed in contact with the bottom surface 150 of the cylindrical molded body 111 with an area smaller than that of the bottom surface 150 . By arranging the spacers, even if the volume of the cylindrical molded body 111 is reduced during the sintering process, it is possible to suppress the coefficient of friction caused by movement. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of internal stress in the cylindrical sintered body after sintering.

図5および図6に示すように、ステップS305の成形工程で得られた円筒型成形体111は、チャンバー300に備えられる焼結ステージ200上に配置される。円筒型成形体111は、板状の焼結ステージ200に設けられた酸素供給口230を円筒中心に配置された状態で焼結される。酸素供給口230は、焼結工程による縮小を考慮して円筒型成形体111の内周より小さく、円筒内側面に酸素を供給することを可能とする。また、酸素供給口230は、円筒型成形体111の円筒軸方向の下方から上方に向かって配置している。焼結ステージ200に設けられた開口部は、酸素供給口230だけであってもよい。1つの酸素供給口230は、酸素を供給する1つの配管240と直接接続される。配管240は、例えば、コントローラー、バルブなどを介してチャンバー300の外から酸素供給口230に接続される。すなわち、配管240から供給される酸素は、焼結ステージ200のその他の領域から漏れることなく、酸素供給口230から円筒内側面に選択的に酸素を供給する。このような構成をとることによって、酸素供給口230から供給する酸素量は、円筒型成形体111の円筒軸方向における長さ、厚さ、および円筒内部空間の大きさに応じて適宜調節することができる。例えば、円筒軸方向の長さが長いほど、酸素供給口230から供給する酸素の量は多くてもよい。しかしながらこれに限定されず、例えば、円筒型成形体111の厚さが厚い場合、酸素供給口230から供給する酸素量はさらに多くてもよい。また例えば、円筒型焼結体の内径が大きく、円筒内部空間が大きい場合、酸素供給口230から供給する酸素量はさらに多くてもよい。 As shown in FIGS. 5 and 6, the cylindrical molded body 111 obtained in the molding process of step S305 is placed on the sintering stage 200 provided in the chamber 300. As shown in FIGS. The cylindrical molded body 111 is sintered in a state in which the oxygen supply port 230 provided on the plate-like sintering stage 200 is arranged at the center of the cylinder. The oxygen supply port 230 is smaller than the inner circumference of the cylindrical compact 111 in consideration of shrinkage due to the sintering process, and enables oxygen to be supplied to the inner surface of the cylinder. In addition, the oxygen supply port 230 is arranged from the bottom to the top in the axial direction of the cylindrical molded body 111 . The oxygen supply port 230 may be the only opening provided in the sintering stage 200 . One oxygen supply port 230 is directly connected to one pipe 240 for supplying oxygen. The pipe 240 is connected to the oxygen supply port 230 from outside the chamber 300 via, for example, a controller, a valve, and the like. That is, the oxygen supplied from the pipe 240 selectively supplies oxygen to the inner side surface of the cylinder from the oxygen supply port 230 without leaking from other regions of the sintering stage 200 . By adopting such a configuration, the amount of oxygen supplied from the oxygen supply port 230 can be appropriately adjusted according to the length and thickness of the cylindrical compact 111 in the direction of the cylinder axis and the size of the inner space of the cylinder. can be done. For example, the longer the length in the axial direction of the cylinder, the larger the amount of oxygen supplied from the oxygen supply port 230 may be. However, the present invention is not limited to this. For example, when the thickness of the cylindrical compact 111 is large, the amount of oxygen supplied from the oxygen supply port 230 may be larger. Further, for example, when the inner diameter of the cylindrical sintered body is large and the internal space of the cylinder is large, the amount of oxygen supplied from the oxygen supply port 230 may be even greater.

酸素供給口230から供給する酸素量の上限は、特に限定しないが150L/min以下であってもよい。1つの酸素供給口230から多量の酸素を供給することで、酸素による冷却効果から、焼結中の円筒型焼結体の変形、割れや、焼結後の円筒型焼結体の密度の低下などの問題が生じることがある。このため、酸素供給口230からの酸素の進行方向には、邪魔板などを配置してもよい。酸素供給口230から供給される酸素は、邪魔板などに衝突させて、円筒内部空間において拡散させてもよい。さらに酸素供給口230から供給する酸素は、配管などを循環中に予備加熱してから供給してもよい。 The upper limit of the amount of oxygen supplied from the oxygen supply port 230 is not particularly limited, but may be 150 L/min or less. By supplying a large amount of oxygen from one oxygen supply port 230, the cooling effect of oxygen causes deformation and cracking of the cylindrical sintered body during sintering and a decrease in the density of the cylindrical sintered body after sintering. problems may occur. Therefore, a baffle plate or the like may be arranged in the direction in which oxygen flows from the oxygen supply port 230 . The oxygen supplied from the oxygen supply port 230 may collide with a baffle plate or the like to diffuse in the cylindrical inner space. Furthermore, the oxygen supplied from the oxygen supply port 230 may be supplied after preheating the piping or the like during circulation.

空気雰囲気下で円筒内側中空部に酸素を供給する場合、窒素より重い酸素は円筒軸方向の下方から徐々に充満される。したがって、焼結中の円筒型成形体の円筒内側面にむらなく酸素を供給することができる。円筒型成形体の円筒内側中空部が酸素で充満されると、さらに供給される酸素は円筒内側中空部を介して円筒成形体の上方から円筒外側に流出する。流出した酸素は、チャンバー300の天井部分で下方に流れ、チャンバー300内を循環する酸素の流れが生じる。このためチャンバー300内の酸素濃度が均一化されていてもよい。なお別途、チャンバー300の壁部から円筒外側への酸素の供給があってもよい。この場合、円筒内側中空部への酸素の供給量と、円筒外側への酸素の供給量とをそれぞれ調節することによって、焼結中の円筒型成形体の円筒内側面、および外側面の酸素濃度を均一にすることもできる。 When oxygen is supplied to the inner hollow portion of the cylinder in an air atmosphere, the oxygen, which is heavier than nitrogen, is gradually filled from below in the axial direction of the cylinder. Therefore, oxygen can be evenly supplied to the inner surface of the cylinder during sintering. When the inner hollow portion of the cylindrical molded body is filled with oxygen, oxygen that is further supplied flows out from above the cylindrical molded body to the outer side of the cylinder through the inner hollow portion of the cylinder. The outflowing oxygen flows downward at the ceiling of the chamber 300 , creating a circulating oxygen flow within the chamber 300 . Therefore, the oxygen concentration in the chamber 300 may be made uniform. Separately, oxygen may be supplied from the wall of the chamber 300 to the outside of the cylinder. In this case, by adjusting the amount of oxygen supplied to the inner hollow portion of the cylinder and the amount of oxygen supplied to the outer side of the cylinder, the oxygen concentration of the inner surface and the outer surface of the cylindrical compact during sintering can also be made uniform.

ここで図4では円筒型成形体111の円筒内側中空部に下方から酸素を供給する方法を例示したが、この方法に限定されない。例えば、円筒軸方向の下方または上方から酸素を供給してもよい。円筒型成形体111の円筒軸方向に酸素を供給することによって、焼中の円筒軸方向における酸素濃度を均一に保つことができる。 Here, FIG. 4 exemplifies a method of supplying oxygen from below to the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical molded body 111, but the method is not limited to this method. For example, oxygen may be supplied from below or above in the axial direction of the cylinder. By supplying oxygen in the cylindrical axial direction of the cylindrical compact 111, the oxygen concentration in the cylindrical axial direction during sintering can be kept uniform.

また図4では円筒型成形体111の円筒中心に1つ配置した酸素供給口230から酸素を供給する方法を例示したが、この方法に限定されない。円筒内側中空部において均一に酸素が供給されるかぎり、酸素供給口230は円筒中心に限定されない。酸素供給口230は複数であってもよい。また、酸素が円筒内側だけではなく、円筒外側に供給されてもよい。このとき、それぞれの酸素供給口230は独立して酸素供給量を制御できるよう、酸素を供給する配管240とそれぞれ直接接続される。これによって、それぞれの酸素供給口230から供給される酸素の量は、円筒型成形体111の円筒軸方向における長さ、厚さ、円筒内部空間の大きさ、および酸素供給口230に対する円筒型成形体111の位置などに応じて適宜調節することができる。 In addition, FIG. 4 exemplifies a method of supplying oxygen from one oxygen supply port 230 arranged at the center of the cylinder of the cylindrical compact 111, but the method is not limited to this method. The oxygen supply port 230 is not limited to the center of the cylinder as long as oxygen is uniformly supplied to the inner hollow portion of the cylinder. A plurality of oxygen supply ports 230 may be provided. Also, oxygen may be supplied not only to the inside of the cylinder but also to the outside of the cylinder. At this time, each oxygen supply port 230 is directly connected to a pipe 240 for supplying oxygen so that the oxygen supply amount can be independently controlled. As a result, the amount of oxygen supplied from each oxygen supply port 230 depends on the length and thickness of the cylindrical molded body 111 in the direction of the cylindrical axis, the size of the inner space of the cylinder, and the cylindrical molding with respect to the oxygen supply port 230. It can be appropriately adjusted according to the position of the body 111 and the like.

一般的なITO焼結においては、酸素雰囲気下での焼結が焼結体の高密度化には必須である。酸素雰囲気下での焼結においても、長さが600mm以上である円筒型成形体111を焼結する工程においては、円筒内側中空部のガス対流が十分でないことから円筒内側中空部に酸素不足が生じる。円筒内側中空部の酸素不足によって、焼結中の円筒型焼結体の変形、割れや、焼結後の円筒型焼結体の密度の低下、円筒型焼結体の円筒軸方向における相対密度差、円筒型焼結体の円筒内側面において観察される孔の大きさ、若しくは孔の数の増大が生じる。内側中空部の酸素不足による影響を阻止するため、本実施形態においては、上記構成のように、円筒型成形体111を焼結する際に、円筒型成形体111の円筒内側中空部に酸素供給口230から酸素を供給することで、600mm以上の円筒型成形体111の円筒内側中空部を酸素で均一に満たすことができる。さらに円筒内側中空部への酸素の供給と、円筒外側への酸素の供給とを組み合わせることで、焼結中の円筒型成形体111の円筒内側面、および外側面の酸素濃度を均一にすることもできる。その結果、焼結中の円筒型焼結体の変形、割れを防ぐことができる。また、焼結後の円筒型焼結体の密度を向上することができる。さらに、円筒型焼結体の固体内の円筒軸方向における相対密度差を低減することができる。円筒内側面における孔の大きさと数を低減することができる。 In general ITO sintering, sintering in an oxygen atmosphere is essential for increasing the density of the sintered body. Even in the sintering in an oxygen atmosphere, in the step of sintering the cylindrical molded body 111 having a length of 600 mm or more, the gas convection in the inner hollow part of the cylinder is insufficient, so oxygen is insufficient in the hollow inner part of the cylinder. occur. Deformation and cracking of the cylindrical sintered body during sintering, decrease in density of the cylindrical sintered body after sintering, and relative density of the cylindrical sintered body in the direction of the cylinder axis due to lack of oxygen in the inner hollow part of the cylinder A difference, an increase in the size of the pores or the number of pores observed on the inner cylindrical surface of the cylindrical sintered body, occurs. In order to prevent the influence of oxygen deficiency in the inner hollow portion, in the present embodiment, oxygen is supplied to the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical molded body 111 when sintering the cylindrical molded body 111 as in the above configuration. By supplying oxygen from the port 230, it is possible to uniformly fill the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical molded body 111 of 600 mm or more with oxygen. Furthermore, by combining the supply of oxygen to the inner hollow part of the cylinder and the supply of oxygen to the outer part of the cylinder, the oxygen concentration on the inner surface and the outer surface of the cylindrical compact 111 during sintering can be made uniform. can also As a result, deformation and cracking of the cylindrical sintered body during sintering can be prevented. Also, the density of the cylindrical sintered body after sintering can be improved. Furthermore, the relative density difference in the solid of the cylindrical sintered body in the direction of the cylindrical axis can be reduced. The size and number of holes on the inner surface of the cylinder can be reduced.

図3に戻って、円筒型焼結体の製造方法の説明を続ける。上記に詳細を説明したステップS306の焼結は電気炉、熱間静水圧(HIP)、又はマイクロ波焼成を使用することができる。焼結条件は焼結体の組成によって適宜選択することができるが、例えばSnO2を10wt.%含有するITOであれば、酸素ガス雰囲気、1500℃以上1600℃以下、10時間以上20時間以下の条件で焼結することができる。焼結温度が1500℃未満の場合、ターゲットの密度が低下してしまう。一方、1600℃を超えると電気炉や炉材へのダメージが大きく適時メンテナンスが必要となるため、作業効率が著しく低下する。また、焼結時間が10時間未満であるとターゲットの密度が低下してしまい、20時間より長いと焼結工程における保持時間が長くなり、電気炉の稼働率が悪化してしまう。また、焼結工程において使用する酸素ガスの消費量及び電気炉を稼働するための電力が増加してしまう。また、焼結時の圧力は大気圧であってもよく、減圧又は加圧雰囲気であってもよい。 Returning to FIG. 3, the description of the manufacturing method of the cylindrical sintered body is continued. The sintering of step S306, detailed above, can use an electric furnace, hot isostatic pressure (HIP), or microwave firing. The sintering conditions can be appropriately selected according to the composition of the sintered body. % of ITO can be sintered in an oxygen gas atmosphere at 1500° C. or higher and 1600° C. or lower for 10 hours or longer and 20 hours or shorter. If the sintering temperature is less than 1500°C, the density of the target will decrease. On the other hand, if the temperature exceeds 1600° C., damage to the electric furnace and the furnace materials is great, and timely maintenance is required, resulting in a significant decrease in work efficiency. Further, if the sintering time is less than 10 hours, the density of the target will be lowered, and if it is longer than 20 hours, the holding time in the sintering process will be long, resulting in deterioration of the operating rate of the electric furnace. Moreover, the consumption of oxygen gas used in the sintering process and the electric power for operating the electric furnace are increased. Moreover, the pressure during sintering may be atmospheric pressure, or may be a reduced or pressurized atmosphere.

ここで、電気炉で焼結する場合、焼結の昇温速度及び降温速度を調整することでクラックの発生を抑制することができる。具体的には、焼結時の電気炉の昇温速度は300℃/時間以下が好ましく、180℃/時間以下であることがより好ましい。また、焼結時の電気炉の降温速度は、600℃/時間以下が好ましい。なお、昇温速度又は降温速度は段階的に変化するように調整されてもよい。 Here, when sintering in an electric furnace, the occurrence of cracks can be suppressed by adjusting the temperature increase rate and temperature decrease rate during sintering. Specifically, the heating rate of the electric furnace during sintering is preferably 300° C./hour or less, more preferably 180° C./hour or less. Also, the temperature drop rate of the electric furnace during sintering is preferably 600° C./hour or less. Note that the temperature increase rate or temperature decrease rate may be adjusted so as to change stepwise.

焼結工程によって円筒型成形体は収縮するが、全ての材料に共通して熱収縮の始まる温度域に入る前に、炉内の温度を均一にするため、昇温の途中で温度保持を行う。これによって炉内の温度ムラが解消され、炉内に設置したすべての焼結体が均一に収縮する。また到達温度や保持時間は各材料ごとに適正な条件を設定することで、安定な焼結体密度を得ることができる。円筒軸方向の長さが600mm以上である円筒型成形体を焼結することで、円筒軸方向の長さがおおよそ470mm以上の円筒型焼結体となる。 Cylindrical compacts shrink during the sintering process, but before entering the temperature range where thermal contraction begins common to all materials, in order to equalize the temperature in the furnace, the temperature is maintained during the temperature rise. . As a result, temperature unevenness in the furnace is eliminated, and all the sintered bodies placed in the furnace shrink uniformly. In addition, by setting appropriate conditions for the attained temperature and holding time for each material, a stable sintered body density can be obtained. By sintering a cylindrical molded body having a length of 600 mm or more in the cylindrical axial direction, a cylindrical sintered body having a length of approximately 470 mm or more in the cylindrical axial direction is obtained.

次に、形成された円筒型焼結体を、平面研削盤、円筒研削盤、旋盤、切断機、マシニングセンター等の機械加工機を用いて、円筒型の所望の形状に機械加工する(ステップS307)。機械加工は、上記の円筒型焼結体をスパッタリング装置への装着に適した形状にするように行われ、また、所望の表面粗さとなるよう行われる。ここで、スパッタリング中に電界が集中して異常放電が発生しない程度の平坦性を得るために、円筒型焼結体の平均面粗さ(Ra)は0.5μm以下とすることが好ましい。以上の工程によって、高密度で均質性の高い円筒型焼結体を得ることができる。 Next, the formed cylindrical sintered body is machined into a desired cylindrical shape using a machining machine such as a surface grinder, cylindrical grinder, lathe, cutting machine, or machining center (step S307). . Machining is performed so as to form the cylindrical sintered body into a shape suitable for attachment to a sputtering apparatus, and to obtain a desired surface roughness. Here, the average surface roughness (Ra) of the cylindrical sintered body is preferably 0.5 μm or less in order to obtain flatness to the extent that abnormal discharge does not occur due to concentration of an electric field during sputtering. Through the above steps, a cylindrical sintered body with high density and high homogeneity can be obtained.

次に、機械加工された円筒型焼結体を基材にボンディングする(ステップS308)。特に円筒型スパッタリングターゲットの場合は、バッキングチューブと呼ばれる円筒型基材にろう材を接着剤として円筒型焼結体がボンディングされる。以上の工程によって、上記の円筒型焼結体を使用した円筒型スパッタリングターゲットを得ることができる。 Next, the machined cylindrical sintered body is bonded to the substrate (step S308). Particularly in the case of a cylindrical sputtering target, a cylindrical sintered body is bonded to a cylindrical substrate called a backing tube using a brazing material as an adhesive. Through the steps described above, a cylindrical sputtering target using the cylindrical sintered body can be obtained.

以上のように、実施形態に係る円筒型スパッタリングターゲットの製造方法によると、焼結工程において円筒型成形体の円筒内側中空部に酸素を供給することで、焼結中の円筒型焼結体の変形、割れを防ぐことができる。また、焼結後の円筒型焼結体の密度を向上することができる。さらに、焼結後の円筒型焼結体の円筒軸方向における相対密度差を低減することができる。焼結後の円筒型焼結体の円筒内側面において観察される孔の大きさを低減することができる。さらに、焼結後の円筒型焼結体の円筒内側面において観察される孔の数を低減することができる。これによって、固体内および個体間における均質性の高い円筒型焼結体および円筒型スパッタリングターゲットを提供することができる。 As described above, according to the method for manufacturing a cylindrical sputtering target according to the embodiment, in the sintering step, oxygen is supplied to the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical molded body, so that the cylindrical sintered body is being sintered. It can prevent deformation and cracking. Also, the density of the cylindrical sintered body after sintering can be improved. Furthermore, the relative density difference in the cylinder axis direction of the cylindrical sintered body after sintering can be reduced. It is possible to reduce the size of pores observed on the cylindrical inner surface of the cylindrical sintered body after sintering. Furthermore, the number of holes observed on the cylindrical inner surface of the cylindrical sintered body after sintering can be reduced. This makes it possible to provide a cylindrical sintered body and a cylindrical sputtering target with high homogeneity within and between solids.

〈変形例1〉
図7を用いて、本発明の実施形態の変形例1に係る円筒型焼結体の焼結方法について説明する。
<Modification 1>
A method for sintering a cylindrical sintered body according to Modification 1 of the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図7は、本発明の実施形態の変形例1に係る円筒型焼結体の製造方法において、円筒型成形体を焼結する工程を示す平面図である。図7では、円筒型成形体111を焼結する工程において、16個の酸素供給口230が配置されている。このとき、それぞれの酸素供給口230は独立して酸素供給量を制御できるよう、酸素を供給する配管240とそれぞれ直接接続される。これによって、それぞれの酸素供給口230から供給される酸素量は、円筒型成形体111の円筒軸方向における長さ、厚さ、円筒内部空間の大きさ、および円筒型成形体111に対する酸素供給口230の位置などに応じて適宜調節することができる。 FIG. 7 is a plan view showing a step of sintering a cylindrical molded body in a method for manufacturing a cylindrical sintered body according to Modification 1 of the embodiment of the present invention. In FIG. 7, 16 oxygen supply ports 230 are arranged in the step of sintering the cylindrical compact 111 . At this time, each oxygen supply port 230 is directly connected to a pipe 240 for supplying oxygen so that the oxygen supply amount can be independently controlled. As a result, the amount of oxygen supplied from each oxygen supply port 230 depends on the length and thickness of the cylindrical molded body 111 in the direction of the cylinder axis, the size of the inner space of the cylinder, and the oxygen supply port for the cylindrical molded body 111. It can be appropriately adjusted according to the position of 230 or the like.

図7において、8対の酸素供給口230は、円筒型成形体111の壁を介して均等に配置されている。言い換えると、円筒型成形体111の円筒内側面および外側面に沿って8個の酸素供給口230がそれぞれ配置されている。図7において、8個の酸素供給口230aが円筒型成形体111の円筒内側に位置し、8個の酸素供給口230bが円筒型成形体111の円筒外側に位置するように円筒型成形体111を配置した(以降、酸素供給口230aおよび酸素供給口230bを区別しない場合は酸素供給口230という。)。しかしながらこれに限定されず、酸素供給口230の数、サイズ、および配置は、円筒型成形体111を焼結ステージ200上に安定して配置することができるかぎり限定されない。また酸素供給口230は、円筒型成形体111の円筒内側だけではなく、円筒外側に配置されてもよい。言い換えると、酸素が円筒内側面だけではなく、円筒外側面に供給されてもよい。 In FIG. 7, the eight pairs of oxygen supply ports 230 are evenly arranged through the wall of the cylindrical compact 111 . In other words, eight oxygen supply ports 230 are arranged along the cylindrical inner side surface and the outer side surface of the cylindrical molded body 111, respectively. In FIG. 7, the cylindrical molded body 111 is arranged so that the eight oxygen supply ports 230a are positioned inside the cylindrical molded body 111 and the eight oxygen supply ports 230b are positioned outside the cylindrical molded body 111. (hereinafter, the oxygen supply port 230a and the oxygen supply port 230b will be referred to as the oxygen supply port 230 when not distinguished). However, it is not limited to this, and the number, size, and arrangement of the oxygen supply ports 230 are not limited as long as the cylindrical compact 111 can be stably arranged on the sintering stage 200 . Further, the oxygen supply port 230 may be arranged not only inside the cylinder of the cylindrical molded body 111 but also outside the cylinder. In other words, oxygen may be supplied not only to the inner surface of the cylinder, but also to the outer surface of the cylinder.

例えば、円筒型成形体111の長さが長い場合、対流の悪い円筒内側に位置する酸素供給口230aからの酸素供給量を、円筒外側の酸素供給口230bからの酸素供給量より多くすることで、最終的に円筒内側面および外側面の酸素濃度が均一になるよう調整してもよい。また、円筒内側に位置する酸素供給口230aからのみ酸素を供給してもよい。それぞれの酸素供給口230aが供給する酸素量は、例えば、本発明の実施形態における1つの酸素供給口230から酸素を供給するときの供給量の1/8ずつであってもよい。また、それぞれの酸素供給口230aが供給する酸素量は、均等でなくてもよく、それぞれ異なってもよい。すなわち、複数の酸素供給口230aからの酸素の供給量の総和は、本発明の実施形態における1つの酸素供給口230から酸素を供給するときの供給量であってもよい。また、円筒軸方向の長さが長いほど、酸素供給口230から供給する酸素の量の総和は多くてもよい。しかしながらこれに限定されず、例えば、円筒型成形体111の厚さが厚い場合、酸素供給口230aから供給する酸素量の総和はさらに多くてもよい。また例えば、円筒型焼結体の内径が大きく、円筒内部空間が大きい場合、酸素供給口230aから供給する酸素量の総和はさらに多くてもよい。 For example, when the length of the cylindrical molded body 111 is long, the amount of oxygen supplied from the oxygen supply port 230a located inside the cylinder where convection is poor is made larger than the oxygen supply amount from the oxygen supply port 230b located outside the cylinder. , and finally, the oxygen concentration on the inner and outer surfaces of the cylinder may be adjusted to be uniform. Alternatively, oxygen may be supplied only from the oxygen supply port 230a located inside the cylinder. The amount of oxygen supplied by each oxygen supply port 230a may be, for example, ⅛ of the supply amount when oxygen is supplied from one oxygen supply port 230 in the embodiment of the present invention. Also, the amounts of oxygen supplied by the respective oxygen supply ports 230a may not be equal, and may differ. That is, the total amount of oxygen supplied from the plurality of oxygen supply ports 230a may be the supply amount when oxygen is supplied from one oxygen supply port 230 in the embodiment of the present invention. Also, the longer the length in the axial direction of the cylinder, the larger the total amount of oxygen supplied from the oxygen supply port 230a . However, the present invention is not limited to this. For example, when the thickness of the cylindrical molded body 111 is large, the total amount of oxygen supplied from the oxygen supply port 230a may be larger. Further, for example, when the inner diameter of the cylindrical sintered body is large and the inner space of the cylinder is large, the total amount of oxygen supplied from the oxygen supply port 230a may be larger.

酸素供給口230から供給する酸素量の上限は、特に限定しないが150L/min以下であってもよい。複数の酸素供給口230aから酸素を供給することで、酸素の供給量を分散することができ、円筒内側中空部のガス対流を制御することができる。また酸素による冷却効果による焼結中の円筒型焼結体の変形、割れや、焼結後の円筒型焼結体の密度の低下などの問題を抑制することができる。しかしながら複数の酸素供給口230aから供給した酸素は、さらに邪魔板などを介して、円筒内部空間において拡散させてもよい。さらに酸素供給口230から供給する酸素は、配管などを循環中に予備加熱してから供給してもよい。 The upper limit of the amount of oxygen supplied from the oxygen supply port 230 is not particularly limited, but may be 150 L/min or less. By supplying oxygen from the plurality of oxygen supply ports 230a, the supply amount of oxygen can be dispersed, and the gas convection in the cylindrical inner hollow portion can be controlled. In addition, problems such as deformation and cracking of the cylindrical sintered body during sintering due to the cooling effect of oxygen and reduction in density of the cylindrical sintered body after sintering can be suppressed. However, the oxygen supplied from the plurality of oxygen supply ports 230a may be further diffused in the cylindrical inner space via a baffle plate or the like. Furthermore, the oxygen supplied from the oxygen supply port 230 may be supplied after preheating the piping or the like during circulation.

一般的なITO焼結においては、酸素雰囲気下での焼結が焼結体の高密度化には必須である。酸素雰囲気下での焼結においても、長さが600mm以上である円筒型成形体111を焼結する工程においては、円筒内側中空部のガス対流が十分でないことから円筒内に酸素不足が生じる。円筒内の酸素不足によって、焼結中の円筒型焼結体の変形、割れや、焼結後の円筒型焼結体の密度の低下、円筒型焼結体の円筒軸方向における相対密度差、円筒型焼結体の円筒内側面において観察される孔の大きさ、若しくは孔の数の増大が生じる。円筒内の酸素不足による影響を阻止するため、本実施形態においては、円筒内側に位置する酸素供給口230aからの酸素供給量を、円筒外側の酸素供給口230bからの酸素供給量より多くすることで、最終的に円筒内側面および外側面の酸素濃度が均一になるよう調整してもよい。円筒内側に位置する酸素供給口230aからの酸素供給量をさらに多くすることで、最終的に円筒内側面の酸素濃度が円筒外側面の酸素濃度より高くなるよう調整してもよい。さらに、円筒内側に位置する酸素供給口230aからのみ酸素を供給し、円筒外側の酸素供給口230bからの酸素の供給はないよう調整してもよい。それぞれの酸素供給口230は独立して酸素供給量を制御できるよう、酸素を供給する配管240とそれぞれ直接接続される。複数の酸素供給口230aから酸素を供給することで、円筒内側面においてより均一に酸素を供給することができる。この結果、焼結中の円筒型成形体の円筒内側面、および外側面の酸素濃度を調節することができ、焼結中の円筒型焼結体の変形、割れを防ぐことができる。また、焼結後の円筒型焼結体の密度を向上することができる。さらに、焼結後の円筒型焼結体の円筒軸方向における相対密度差を低減することができる。焼結後の円筒型焼結体の円筒内側面において観察される孔における面積の円相当径を低減することができる。さらに、焼結後の円筒型焼結体の円筒内側面において観察される孔の数を低減することができる。 In general ITO sintering, sintering in an oxygen atmosphere is essential for increasing the density of the sintered body. Even in sintering in an oxygen atmosphere, in the step of sintering the cylindrical molded body 111 having a length of 600 mm or more, insufficient gas convection in the inner hollow portion of the cylinder causes oxygen deficiency in the cylinder. Due to lack of oxygen in the cylinder, deformation and cracking of the cylindrical sintered body during sintering, decrease in density of the cylindrical sintered body after sintering, relative density difference in the cylinder axis direction of the cylindrical sintered body, An increase in the size or number of pores observed on the cylindrical inner surface of the cylindrical sintered body occurs. In order to prevent the influence of oxygen shortage in the cylinder, in this embodiment, the oxygen supply amount from the oxygen supply port 230a located inside the cylinder is made larger than the oxygen supply amount from the oxygen supply port 230b located outside the cylinder. Finally, the oxygen concentrations on the inner and outer surfaces of the cylinder may be adjusted to be uniform. By further increasing the amount of oxygen supplied from the oxygen supply port 230a located inside the cylinder, the oxygen concentration on the inner side surface of the cylinder may be finally adjusted to be higher than the oxygen concentration on the outer side surface of the cylinder. Furthermore, oxygen may be supplied only from the oxygen supply port 230a located inside the cylinder, and oxygen may not be supplied from the oxygen supply port 230b located outside the cylinder. Each oxygen supply port 230 is directly connected to a pipe 240 for supplying oxygen so that the oxygen supply amount can be independently controlled. By supplying oxygen from the plurality of oxygen supply ports 230a, oxygen can be supplied more uniformly on the inner surface of the cylinder. As a result, it is possible to adjust the oxygen concentration on the inner surface and the outer surface of the cylindrical compact during sintering, thereby preventing deformation and cracking of the cylindrical sintered compact during sintering. Also, the density of the cylindrical sintered body after sintering can be improved. Furthermore, the relative density difference in the cylinder axis direction of the cylindrical sintered body after sintering can be reduced. It is possible to reduce the equivalent circle diameter of the area of the pores observed on the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered body after sintering. Furthermore, the number of holes observed on the cylindrical inner surface of the cylindrical sintered body after sintering can be reduced.

〈変形例2〉
図8を用いて、本発明の実施形態の変形例2に係る円筒型焼結体の焼結方法について説明する。本変形例において、邪魔板260以外は本発明の実施形態と同様であることから、その詳しい説明は省略する。
<Modification 2>
A method for sintering a cylindrical sintered body according to Modification 2 of the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Since this modification is the same as the embodiment of the present invention except for the baffle plate 260, detailed description thereof will be omitted.

図8は、本発明の実施形態の変形例2に係る円筒型焼結体の製造方法において、円筒型成形体を焼結する工程を示す断面図である。図8では、円筒型成形体111を焼結する工程において、1個の酸素供給口230が配置されている。酸素供給口230は独立して酸素供給量を制御できるよう、酸素を供給する配管240と直接接続される。酸素供給口230からの酸素の進行方向には、邪魔板260が配置されている。本変形例において、邪魔板260は、酸素供給口230を囲うようにキャップ状の形状を有する。邪魔板260は、キャップ形状の側壁部に複数の開口部280を有する。このため酸素供給口230から供給された酸素は、邪魔板260の内側天井部に当たり、散らされた状態で邪魔板260の複数の開口部280から流出する。邪魔板260の複数の開口部280から流出する酸素は、円筒成形体内側中空部において、円筒軸方向の下方から徐々に充満し、円筒軸方向に上昇する。しかしながら邪魔板260の形状はこれに限定されず、邪魔板260は酸素供給口230から供給される酸素を、円筒内部空間において拡散させる形状であればよい。邪魔板260は、例えば、酸素の進行方向側から見て、少なくとも一部酸素供給口230と重畳していればよい。これによって、1つの酸素供給口230から多量の酸素を供給することで生じる、冷却効果による焼結中の円筒型焼結体の変形、割れや、焼結後の円筒型焼結体の密度の低下などを抑制することができる。 FIG. 8 is a cross-sectional view showing a step of sintering a cylindrical molded body in a method for manufacturing a cylindrical sintered body according to Modification 2 of the embodiment of the present invention. In FIG. 8, one oxygen supply port 230 is arranged in the step of sintering the cylindrical compact 111 . The oxygen supply port 230 is directly connected to the oxygen supply pipe 240 so that the oxygen supply amount can be independently controlled. A baffle plate 260 is arranged in the direction in which oxygen flows from the oxygen supply port 230 . In this modification, baffle plate 260 has a cap-like shape to surround oxygen supply port 230 . The baffle plate 260 has a plurality of openings 280 in its cap-shaped side wall. Therefore, the oxygen supplied from the oxygen supply port 230 hits the inner ceiling portion of the baffle plate 260 and flows out from the plurality of openings 280 of the baffle plate 260 in a scattered state. Oxygen flowing out from the plurality of openings 280 of the baffle plate 260 gradually fills the inner hollow portion of the cylindrical compact from below in the axial direction of the cylinder and rises in the axial direction of the cylinder. However, the shape of the baffle plate 260 is not limited to this, and the baffle plate 260 may have any shape as long as it diffuses the oxygen supplied from the oxygen supply port 230 in the inner space of the cylinder. The baffle plate 260 may at least partially overlap the oxygen supply port 230, for example, when viewed from the direction in which oxygen travels. As a result, deformation and cracking of the cylindrical sintered body during sintering and reduction in the density of the cylindrical sintered body after sintering due to the cooling effect caused by supplying a large amount of oxygen from one oxygen supply port 230 are prevented. A decrease can be suppressed.

なお本発明は上記の実施形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。 It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be modified as appropriate without departing from the scope of the invention.

[円筒型焼結体の製造]
[実施例1]
実施例1では、円筒型ITOターゲット材(円筒型焼結体)を製造する方法について説明する。まず、原料粉末としてBET(Brunauer, Emmet and Teller’s equation)比表面積が4.0~6.0m2/gの4Nの酸化インジウムと、BET比表面積が4.0~5.7m2gの4Nの酸化スズとを準備した。ここで、BET比表面積とは、BET法で求めた表面積を表すものである。BET法とは、窒素、アルゴン、クリプトン、酸化炭素などの気体分子を固体粒子に吸着させ、吸着した気体分子の量から固体粒子の比表面積を測定する気体吸着法である。ここでは、酸化インジウムが90質量%、酸化スズが10質量%となるように原料を秤量した。次にこれらの原料粉末を湿式のボールミルで粉砕し混合した。ここで粉砕メディアとしてジルコニアボールを使用した。混合されたスラリーはスプレードライヤによって急速乾燥造粒した。
[Production of Cylindrical Sintered Body]
[Example 1]
In Example 1, a method for producing a cylindrical ITO target material (cylindrical sintered body) will be described. First, as raw material powders, 4N indium oxide having a BET (Brunauer, Emmet and Teller's equation) specific surface area of 4.0 to 6.0 m 2 /g and BET specific surface area of 4.0 to 5.7 m 2 / g. of 4N tin oxide were prepared. Here, the BET specific surface area represents the surface area determined by the BET method. The BET method is a gas adsorption method in which gas molecules such as nitrogen, argon, krypton, and carbon oxide are adsorbed onto solid particles, and the specific surface area of the solid particles is measured from the amount of adsorbed gas molecules. Here, raw materials were weighed so that indium oxide was 90% by mass and tin oxide was 10% by mass. Next, these raw material powders were pulverized and mixed with a wet ball mill. Here, zirconia balls were used as grinding media. The mixed slurry was rapidly dried and granulated by a spray dryer.

次に、上記の造粒工程によって得られた混合物をCIPによる成形によって円筒型に成形した。CIPによる成形時の圧力は176MPaであった。 Next, the mixture obtained by the above granulation process was formed into a cylindrical shape by CIP. The pressure during CIP molding was 176 MPa.

上記の成形工程によって得た実施例1の円筒型成形体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=194.0mm
・円筒内径(直径)=158.7mm
・円筒の厚さ=17.65mm
・円筒軸方向の長さ=600mm
Each parameter of the cylindrical compact of Example 1 obtained by the above molding process is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 194.0mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 158.7mm
・Cylinder thickness = 17.65 mm
・Cylinder axial length = 600 mm

次に、CIPによって得られた円筒型成形体を、電気炉を使用して焼結した。焼結の条件は以下の通りである。
・昇温速度=300℃/時間
・高温保持温度=1560℃
・高温保持時間=20hr
・焼結時雰囲気=酸素雰囲気
・焼結時圧力=大気圧
・円筒内側中空部への酸素導入=50L/min
・円筒外側への酸素導入=0L/min
Next, the cylindrical compact obtained by CIP was sintered using an electric furnace. The sintering conditions are as follows.
・Temperature increase rate = 300°C/hour ・High temperature holding temperature = 1560°C
・High temperature holding time = 20 hr
・Atmosphere during sintering = oxygen atmosphere ・Pressure during sintering = atmospheric pressure ・Introduction of oxygen into hollow part inside cylinder = 50 L/min
・Introduction of oxygen to the outside of the cylinder = 0 L/min

上記の焼結工程によって得た円筒型焼結体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=155.2mm
・円筒内径(直径)=127.0mm
・円筒の厚さ=14.1mm
・円筒軸方向の長さ=478mm
・焼結体密度=7.134g/cm3
・焼結体の相対密度=99.68%
・焼結体のバルク抵抗値=0.11mΩ・cm
Each parameter of the cylindrical sintered body obtained by the above sintering process is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 155.2mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 127.0 mm
・Cylinder thickness = 14.1mm
・Cylinder axial length = 478 mm
・Sintered body density = 7.134 g/cm 3
・ Relative density of sintered body = 99.68%
・Bulk resistance value of sintered body = 0.11 mΩ cm

[実施例2]
実施例2では、実施例1より円筒軸方向に長い円筒型成形体を焼結した円筒型焼結体について説明する。円筒型成形体の成形工程は実施例1と同様であるので、説明を省略する。
[Example 2]
In Example 2, a cylindrical sintered body obtained by sintering a cylindrical shaped body longer in the cylindrical axis direction than in Example 1 will be described. Since the molding process of the cylindrical molded body is the same as that of Example 1, the explanation is omitted.

実施例1と同様の成形工程によって得た実施例2の円筒型成形体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=193.8mm
・円筒内径(直径)=158.2mm
・円筒の厚さ=17.8mm
・円筒軸方向の長さ=1200mm
Each parameter of the cylindrical compact of Example 2 obtained by the same molding process as in Example 1 is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 193.8mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 158.2mm
・Cylinder thickness = 17.8mm
・Cylinder axial length = 1200mm

次に、円筒型成形体を電気炉を使用して焼結した。実施例2の焼結条件は、円筒型成形体内側中空部への酸素導入のパラメータ以外は実施例1と同様であるので、説明を省略する。
・円筒内側中空部への酸素導入=100L/min
・円筒外側への酸素導入=0L/min
Next, the cylindrical compact was sintered using an electric furnace. The sintering conditions of Example 2 are the same as those of Example 1 except for the parameters for introducing oxygen into the inner hollow portion of the cylindrical molded body, so the description is omitted.
・Introduction of oxygen into the inner hollow portion of the cylinder = 100 L/min
・Introduction of oxygen to the outside of the cylinder = 0 L/min

上記の焼結工程によって得た円筒型焼結体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=155.0mm
・円筒内径(直径)=126.6mm
・円筒の厚さ=14.2mm
・円筒軸方向の長さ=948mm
・焼結体密度=7.132g/cm3
・焼結体の相対密度=99.65%
・焼結体のバルク抵抗値=0.12mΩ・cm
Each parameter of the cylindrical sintered body obtained by the above sintering process is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 155.0mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 126.6 mm
・Cylinder thickness = 14.2 mm
・Cylinder axial length = 948 mm
・Sintered body density = 7.132 g/cm 3
・ Relative density of sintered body = 99.65%
・Bulk resistance value of sintered body = 0.12 mΩ cm

[実施例3]
実施例3では、実施例1および実施例2より円筒軸方向にさらに長い円筒型成形体を焼結した円筒型焼結体について説明する。円筒型成形体の成形工程は実施例1と同様であるので、説明を省略する。
[Example 3]
In Example 3, a cylindrical sintered body obtained by sintering a cylindrical compact longer in the cylindrical axis direction than in Examples 1 and 2 will be described. Since the molding process of the cylindrical molded body is the same as that of Example 1, the explanation is omitted.

実施例1と同様の成形工程によって得た実施例3の円筒型成形体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=194.2mm
・円筒内径(直径)=158.5mm
・円筒の厚さ=17.85mm
・円筒軸方向の長さ=1755mm
Each parameter of the cylindrical compact of Example 3 obtained by the same molding process as in Example 1 is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 194.2 mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 158.5mm
・Cylinder thickness = 17.85 mm
・Cylinder axial length = 1755 mm

次に、円筒型成形体を電気炉を使用して焼結した。実施例3の焼結条件は、円筒型成形体内側中空部への酸素導入のパラメータ以外は実施例1と同様であるので、説明を省略する。
・円筒内側中空部への酸素導入=150L/min
・円筒外側への酸素導入=0L/min
Next, the cylindrical compact was sintered using an electric furnace. The sintering conditions of Example 3 are the same as those of Example 1, except for the parameters for introducing oxygen into the inner hollow portion of the cylindrical molded body, so the description is omitted.
・Introduction of oxygen into the inner hollow portion of the cylinder = 150 L/min
・Introduction of oxygen to the outside of the cylinder = 0 L/min

上記の焼結工程によって得た円筒型焼結体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=155.4mm
・円筒内径(直径)=126.8mm
・円筒の厚さ=14.3mm
・円筒軸方向の長さ=1386mm
・焼結体密度=7.130g/cm3
・焼結体の相対密度=99.62%
・焼結体のバルク抵抗値=0.12mΩ・cm
Each parameter of the cylindrical sintered body obtained by the above sintering process is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 155.4mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 126.8mm
・Cylinder thickness = 14.3mm
・Cylinder axial length = 1386 mm
・Sintered compact density = 7.130 g/cm 3
・ Relative density of sintered body = 99.62%
・Bulk resistance value of sintered body = 0.12 mΩ cm

次に上記、実施例1乃至3に示した円筒型成形体及び円筒型焼結体に対する比較例について、以下に説明する。以下の比較例では、実施例とは異なり、円筒型成形体内側中空部への酸素導入が無い条件で焼結した円筒型焼結体について説明する。なお比較例においては、円筒型成形体内側中空部への酸素導入の代わりに、チャンバー壁部から円筒型成形体外側への酸素導入条件下で焼結した。円筒型成形体の成形工程は実施例1と同様であるので、説明を省略する。 Next, comparative examples for the cylindrical compacts and cylindrical sintered bodies shown in Examples 1 to 3 will be described below. In the following comparative example, unlike the example, a cylindrical sintered body sintered under conditions in which oxygen is not introduced into the inner hollow portion of the cylindrical compact will be described. In the comparative example, sintering was performed under the condition that oxygen was introduced from the chamber wall portion to the outside of the cylindrical molded body instead of introducing oxygen into the inner hollow portion of the cylindrical molded body. Since the molding process of the cylindrical molded body is the same as that of Example 1, the explanation is omitted.

[比較例1]
実施例1と同様の成形工程によって得た比較例1の円筒型成形体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=194.9mm
・円筒内径(直径)=159.0mm
・円筒の厚さ=17.95mm
・円筒軸方向の長さ=480mm
[Comparative Example 1]
Each parameter of the cylindrical compact of Comparative Example 1 obtained by the same molding process as in Example 1 is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 194.9mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 159.0mm
・Cylinder thickness = 17.95mm
・Cylinder axial length = 480mm

次に、円筒型成形体を電気炉を使用して焼結した。比較例1の焼結条件は、円筒型成形体への酸素導入のパラメータ以外は実施例1と同様であるので、説明を省略する。
・円筒内側中空部への酸素導入=0L/min
・円筒外側への酸素導入=100L/min
Next, the cylindrical compact was sintered using an electric furnace. The sintering conditions of Comparative Example 1 are the same as those of Example 1, except for the parameters for introducing oxygen into the cylindrical molded body, so the description is omitted.
・Introduction of oxygen into the inner hollow portion of the cylinder = 0 L/min
・Introduction of oxygen to the outside of the cylinder = 100 L/min

上記の焼結工程によって得た円筒型焼結体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=155.9mm
・円筒内径(直径)=127.2mm
・円筒の厚さ=14.35mm
・円筒軸方向の長さ=385mm
・焼結体密度=7.133g/cm3
・焼結体の相対密度=99.66%
・焼結体のバルク抵抗値=0.11mΩ・cm
Each parameter of the cylindrical sintered body obtained by the above sintering process is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 155.9mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 127.2 mm
・Cylinder thickness = 14.35mm
・Cylinder axial length = 385mm
・Sintered body density = 7.133 g/cm 3
・ Relative density of sintered body = 99.66%
・Bulk resistance value of sintered body = 0.11 mΩ cm

[比較例2]
実施例1と同様の成形工程によって得た比較例2の円筒型成形体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=193.5mm
・円筒内径(直径)=158.2mm
・円筒の厚さ=17.65mm
・円筒軸方向の長さ=600mm
[Comparative Example 2]
Each parameter of the cylindrical compact of Comparative Example 2 obtained by the same molding process as in Example 1 is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 193.5mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 158.2mm
・Cylinder thickness = 17.65mm
・Cylinder axial length = 600 mm

次に、円筒型成形体を電気炉を使用して焼結した。比較例2の焼結条件は、円筒型成形体への酸素導入のパラメータ以外は実施例1と同様であるので、説明を省略する。
・円筒内側中空部への酸素導入=0L/min
・円筒外側への酸素導入=100L/min
Next, the cylindrical compact was sintered using an electric furnace. The sintering conditions of Comparative Example 2 are the same as those of Example 1 except for the parameter of introducing oxygen into the cylindrical molded body, so the description is omitted.
・Introduction of oxygen into the inner hollow portion of the cylinder = 0 L/min
・Introduction of oxygen to the outside of the cylinder = 100 L/min

上記の焼結工程によって得た円筒型焼結体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=156.7mm
・円筒内径(直径)=128.1mm
・円筒の厚さ=14.3mm
・円筒軸方向の長さ=485mm
・焼結体密度=7.041g/cm3
・焼結体の相対密度=98.38%
・焼結体のバルク抵抗値=0.12mΩ・cm
Each parameter of the cylindrical sintered body obtained by the above sintering process is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 156.7 mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 128.1 mm
・Cylinder thickness = 14.3mm
・Cylinder axial length = 485mm
・Sintered body density = 7.041 g/cm 3
・ Relative density of sintered body = 98.38%
・Bulk resistance value of sintered body = 0.12 mΩ cm

[比較例3]
実施例1と同様の成形工程によって得た比較例3の円筒型成形体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=194.1mm
・円筒内径(直径)=158.2mm
・円筒の厚さ=17.95mm
・円筒軸方向の長さ=1200mm
[Comparative Example 3]
Each parameter of the cylindrical compact of Comparative Example 3 obtained by the same molding process as in Example 1 is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 194.1mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 158.2mm
・Cylinder thickness = 17.95mm
・Cylinder axial length = 1200mm

次に、円筒型成形体を電気炉を使用して焼結した。比較例3の焼結条件は、円筒型成形体への酸素導入のパラメータ以外は実施例1と同様であるので、説明を省略する。
・円筒内側中空部への酸素導入=0L/min
・円筒外側への酸素導入=100L/min
Next, the cylindrical compact was sintered using an electric furnace. The sintering conditions of Comparative Example 3 are the same as those of Example 1 except for the parameters for introducing oxygen into the cylindrical molded body, so the description is omitted.
・Introduction of oxygen into the inner hollow portion of the cylinder = 0 L/min
・Introduction of oxygen to the outside of the cylinder = 100 L/min

上記の焼結工程によって得た円筒型焼結体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=157.2mm
・円筒内径(直径)=128.1mm
・円筒の厚さ=14.55mm
・円筒軸方向の長さ=957mm
・焼結体密度=7.038g/cm3
・焼結体の相対密度=98.34%
・焼結体のバルク抵抗値=0.12mΩ・cm
なお比較例3は、焼結による変形が確認された。
Each parameter of the cylindrical sintered body obtained by the above sintering process is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 157.2 mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 128.1mm
・Cylinder thickness = 14.55 mm
・Cylinder axial length = 957mm
・Sintered compact density = 7.038 g/cm 3
・ Relative density of sintered body = 98.34%
・Bulk resistance value of sintered body = 0.12 mΩ cm
In Comparative Example 3, deformation due to sintering was confirmed.

[比較例4]
実施例1と同様の成形工程によって得た比較例4の円筒型成形体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=194.2mm
・円筒内径(直径)=158.4mm
・円筒の厚さ=17.9mm
・円筒軸方向の長さ=1410mm
[Comparative Example 4]
Each parameter of the cylindrical compact of Comparative Example 4 obtained by the same molding process as in Example 1 is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 194.2 mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 158.4 mm
・Cylinder thickness = 17.9mm
・Cylinder axial length = 1410 mm

次に、円筒型成形体を電気炉を使用して焼結した。比較例4の焼結条件は、円筒型成形体への酸素導入のパラメータ以外は実施例1と同様であるので、説明を省略する。
・円筒内側中空部への酸素導入=0L/min
・円筒外側への酸素導入=100L/min
Next, the cylindrical compact was sintered using an electric furnace. The sintering conditions of Comparative Example 4 are the same as those of Example 1 except for the parameters for introducing oxygen into the cylindrical molded body, so the description is omitted.
・Introduction of oxygen into the inner hollow portion of the cylinder = 0 L/min
・Introduction of oxygen to the outside of the cylinder = 100 L/min

上記の焼結工程によって得た円筒型焼結体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=155.3mm
・円筒内径(直径)=127.8mm
・円筒の厚さ=13.75mm
・円筒軸方向の長さ=1145mm
・焼結体密度=7.042g/cm3
・焼結体の相対密度=98.39%
・焼結体のバルク抵抗値=0.12mΩ・cm
Each parameter of the cylindrical sintered body obtained by the above sintering process is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 155.3 mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 127.8mm
・Cylinder thickness = 13.75mm
・Cylinder axial length = 1145mm
・Sintered body density = 7.042 g/cm 3
・ Relative density of sintered body = 98.39%
・Bulk resistance value of sintered body = 0.12 mΩ cm

[比較例5]
実施例1と同様の成形工程によって得た比較例5の円筒型成形体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=193.6mm
・円筒内径(直径)=158.3mm
・円筒の厚さ=17.65mm
・円筒軸方向の長さ=1754mm
[Comparative Example 5]
Each parameter of the cylindrical compact of Comparative Example 5 obtained by the same molding process as in Example 1 is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 193.6mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 158.3 mm
・Cylinder thickness = 17.65mm
・Cylinder axial length = 1754mm

次に、円筒型成形体を電気炉を使用して焼結した。比較例5の焼結条件は、円筒型成形体への酸素導入のパラメータ以外は実施例1と同様であるので、説明を省略する。
・円筒内側中空部への酸素導入=0L/min
・円筒外側への酸素導入=100L/min
Next, the cylindrical compact was sintered using an electric furnace. The sintering conditions of Comparative Example 5 are the same as those of Example 1 except for the parameters for introducing oxygen into the cylindrical molded body, so the description is omitted.
・Introduction of oxygen into the inner hollow portion of the cylinder = 0 L/min
・Introduction of oxygen to the outside of the cylinder = 100 L/min

上記の焼結工程によって得た円筒型焼結体の各パラメータは以下の通りである。
・円筒外径(直径)=157.8mm
・円筒内径(直径)=128.5mm
・円筒の厚さ=14.65mm
・円筒軸方向の長さ=1394mm
・焼結体密度=7.044g/cm3
・焼結体の相対密度=98.42%
・焼結体のバルク抵抗値=0.12mΩ・cm
Each parameter of the cylindrical sintered body obtained by the above sintering process is as follows.
・Cylinder outer diameter (diameter) = 157.8 mm
・Cylindrical inner diameter (diameter) = 128.5 mm
・Cylinder thickness = 14.65mm
・Cylinder axial length = 1394 mm
・Sintered body density = 7.044 g/cm 3
・ Relative density of sintered body = 98.42%
・Bulk resistance value of sintered body = 0.12 mΩ cm

[測定サンプルの準備]
上述した実施例1~実施例3及び比較例1~比較例5の円筒型焼結体について、密度およびバルク抵抗の固体内ばらつきを評価するための測定サンプルを準備した。図9に示すように、円筒型焼結体110は、焼結時における円筒軸方向の下方から上方にむかって150mmずつ分断する。さらにそれぞれの円筒軸方向中央部40~50mm幅の円筒型測定サンプルを切り出し、円筒軸方向の下方より測定サンプル110-1(150mm)、110-2(300mm)、110-3(450mm)とする(後述の表における名称)。
[Preparation of measurement sample]
For the cylindrical sintered bodies of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 described above, measurement samples were prepared for evaluating intra-solid variations in density and bulk resistance. As shown in FIG. 9, the cylindrical sintered body 110 is divided by 150 mm from the bottom to the top in the axial direction of the cylinder during sintering. Furthermore, cylindrical measurement samples with a width of 40 to 50 mm are cut out from the central part in the axial direction of each cylinder, and measurement samples 110-1 (150 mm), 110-2 (300 mm), and 110-3 (450 mm) are obtained from the lower part in the axial direction of the cylinder. (Name in the table below).

[相対密度の評価]
上述した実施例1~実施例3及び比較例1~比較例5の円筒型焼結体および各測定サンプルについて、相対密度を評価した。円筒型焼結体および各測定サンプルの密度は、アルキメデス法を用いて測定した。円筒型焼結体および各測定サンプルの相対密度および相対密度差は、理論密度に基づいて算出した。実施例1~実施例3及び比較例1~比較例5の円筒型焼結体および各測定サンプルにおいて、密度、相対密度、及び円筒型焼結体内の最大相対密度差を図10に示す。
[Evaluation of relative density]
The relative densities of the cylindrical sintered bodies and the measurement samples of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 were evaluated. The densities of the cylindrical sintered body and each measurement sample were measured using the Archimedes method. The relative density and relative density difference of the cylindrical sintered body and each measurement sample were calculated based on the theoretical density. FIG. 10 shows the densities, relative densities, and maximum relative density differences in the cylindrical sintered bodies of the cylindrical sintered bodies of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 and the measurement samples.

図10の結果から、焼結時に円筒型成形体の内側中空部への酸素導入を行った実施例1~実施例3の円筒型焼結体では、円筒型成形体の内側中空部への酸素導入が無い比較例2~比較例5の円筒型焼結体より相対密度が向上した。円筒軸方向の長さが470mm以下である比較例1は、円筒型成形体の内側中空部への酸素導入が無くても相対密度が向上した。実施例1~実施例3の各測定サンプルでは、比較例2~比較例5の各測定サンプルより相対密度差を低減することができた。円筒軸方向の長さが470mm以下である比較例1は、円筒型成形体の内側中空部への酸素導入が無くても相対密度差を低減することができた。また、焼結工程において円筒型成形体の円筒内側面に酸素を供給することで、円筒軸方向の長さが1200mm以上の円筒型成形体も、焼結中の変形、割れなどを防ぐことができた。 From the results of FIG. 10, in the cylindrical sintered bodies of Examples 1 to 3 in which oxygen was introduced into the inner hollow portion of the cylindrical molded body during sintering, oxygen The relative density was improved as compared with the cylindrical sintered bodies of Comparative Examples 2 to 5, which had no introduction. Comparative Example 1, in which the length in the axial direction of the cylinder is 470 mm or less, improved the relative density without introducing oxygen into the inner hollow portion of the cylindrical compact. In each of the measurement samples of Examples 1 to 3, the relative density difference was able to be reduced more than in each of the measurement samples of Comparative Examples 2 to 5. Comparative Example 1, in which the length in the axial direction of the cylinder is 470 mm or less, was able to reduce the relative density difference without introducing oxygen into the inner hollow portion of the cylindrical compact. In addition, by supplying oxygen to the inner surface of the cylindrical compact during the sintering process, it is possible to prevent deformation and cracking during sintering even for cylindrical compacts with a length of 1200 mm or more in the axial direction. did it.

[最小酸素供給量の評価]
上述した実施例および比較例における円筒型成形体の焼結方法によって、密度7.130g/cm3以上の円筒型焼結体が得られる最小酸素供給量を求めた。具体的には、焼結時における円筒内側中空部への酸素導入の量を段階的に変化させ、円筒軸方向の長さが390、480、950、1200、または1400mmの円筒型焼結体を得た。それぞれの円筒型焼結体の密度は、アルキメデス法を用いて測定した。密度7.130g/cm3以上である円筒型焼結体のうち、それぞれの円筒軸方向の長さ別に、焼結時の酸素導入の量が最も小さい値を最小酸素供給量とする。円筒型焼結体の円筒軸方向の長さに対する最小酸素供給量の関係を図11に示す。
[Evaluation of minimum oxygen supply]
The minimum oxygen supply amount for obtaining a cylindrical sintered body having a density of 7.130 g/cm 3 or more was determined by the method of sintering the cylindrical shaped body in the above-described Examples and Comparative Examples. Specifically, the amount of oxygen introduced into the inner hollow portion of the cylinder during sintering is changed stepwise, and a cylindrical sintered body having a length of 390, 480, 950, 1200 or 1400 mm in the axial direction of the cylinder is produced. Obtained. The density of each cylindrical sintered body was measured using the Archimedes method. Among cylindrical sintered bodies having a density of 7.130 g/cm 3 or more, the minimum amount of oxygen introduced during sintering is defined as the minimum oxygen supply amount for each length in the cylinder axis direction. FIG. 11 shows the relationship between the length of the cylindrical sintered body in the direction of the cylindrical axis and the minimum oxygen supply amount.

図11に示すように、円筒型焼結体の円筒軸方向の長さが390mmまでは、酸素導入がなくても、密度7.130g/cm3以上である円筒型焼結体が得られた。480mmの円筒型焼結体を形成する場合、最小酸素供給量は5L/min以上であった。950mmの円筒型焼結体を形成する場合、最小酸素供給量は20L/min以上であった。1200mmの円筒型焼結体を形成する場合、最小酸素供給量は30L/min以上であった。1400mmの円筒型焼結体を形成する場合、最小酸素供給量は35L/min以上であった。図11の結果から、円筒軸方向の長さが長いほど、密度7.130g/cm3以上の円筒型焼結体を得るのに必要な酸素の量は増加することがわかる。密度7.130g/cm3以上の円筒型焼結体の軸方向の長さX(mm)と、酸素供給口230から供給する最小酸素供給量Y(L/min)は比例関係にあり、以下の式で示すことができる。
Y=0.0345X-12.508
As shown in FIG. 11, a cylindrical sintered body with a density of 7.130 g/cm 3 or more was obtained up to a length of 390 mm in the cylindrical axial direction without oxygen introduction. . When forming a cylindrical sintered body of 480 mm, the minimum oxygen supply rate was 5 L/min or more. When forming a cylindrical sintered body of 950 mm, the minimum oxygen supply rate was 20 L/min or more. When forming a cylindrical sintered body of 1200 mm, the minimum oxygen supply rate was 30 L/min or more. When forming a cylindrical sintered body of 1400 mm, the minimum oxygen supply rate was 35 L/min or more. It can be seen from the results of FIG. 11 that the amount of oxygen required to obtain a cylindrical sintered body having a density of 7.130 g/cm 3 or more increases as the length in the axial direction of the cylinder increases. The axial length X (mm) of the cylindrical sintered body having a density of 7.130 g/cm 3 or more and the minimum oxygen supply amount Y (L/min) supplied from the oxygen supply port 230 are in a proportional relationship. can be expressed by the following formula.
Y=0.0345X-12.508

[バルク抵抗の評価]
上述した実施例1~実施例3及び比較例1~比較例5の円筒型焼結体および各測定サンプルについて、バルク抵抗を評価した。円筒型焼結体および各測定サンプルのバルク抵抗値は、円筒外側面を四探針法を用いて測定した。実施例1~実施例3及び比較例1~比較例5の円筒型焼結体および各測定サンプルにおける、バルク抵抗値を図12に示す。
[Evaluation of bulk resistance]
Bulk resistance was evaluated for the cylindrical sintered bodies and the measurement samples of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 described above. The bulk resistance value of the cylindrical sintered body and each measurement sample was measured using the four-probe method on the outer surface of the cylinder. FIG. 12 shows the bulk resistance values of the cylindrical sintered bodies of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 and the measurement samples.

図12の結果から、実施例1~実施例3及び比較例1~比較例5の円筒型焼結体および各測定サンプルにおいて、円筒外側面におけるバルク抵抗値は殆ど変らなかった。円筒外側面においては十分に酸素が供給されることから、円筒型成形体の円筒内側中空部への酸素導入を行った実施例でも、円筒内側中空部への酸素導入が無い比較例でも円筒外側面におけるバルク抵抗値には殆ど影響しないことが考えられる。 From the results of FIG. 12, the cylindrical sintered bodies of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 and the respective measurement samples showed almost no change in the bulk resistance value on the cylindrical outer surface. Oxygen is sufficiently supplied to the outer surface of the cylinder. It is conceivable that the bulk resistance value on the side surface is hardly affected.

[電子顕微鏡観察用サンプルの準備]
上述した実施例1、2及び比較例2、3の円筒型焼結体について、電子顕微鏡による観察をするためのサンプルを準備した。図13に示すように、円筒型焼結体110は、円筒軸方向中央部10mm幅の円筒型サンプル110-4を切り出し、円筒内側面110-4aおよび円筒外側面110-4bから電子顕微鏡観察用サンプルを切り出し、0.5mm研削した状態で鏡面研磨を行った。
[Preparation of sample for electron microscope observation]
For the cylindrical sintered bodies of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 2 and 3 described above, samples were prepared for observation with an electron microscope. As shown in FIG. 13, from the cylindrical sintered body 110, a cylindrical sample 110-4 with a width of 10 mm is cut out from the central part in the axial direction of the cylinder, and the inner surface 110-4a and the outer surface 110-4b of the cylinder are used for electron microscope observation. A sample was cut out, ground to 0.5 mm, and mirror-polished.

[電子顕微鏡による観察]
上述した実施例1、2及び比較例2、3の円筒型焼結体について、円筒焼結体の円筒内側面および外側面の電子顕微鏡観察用サンプルを電子顕微鏡(SEM)で観察した。各サンプルにおいて、電子顕微鏡(SEM)を用いて1000倍の視野で観察した写真を図14(円筒内側)および図15(円筒外側)に示す。また各サンプルにおいて、電子顕微鏡(SEM)を用いて2000倍または5000倍の視野で観察した写真を図16(円筒内側)および図17(円筒外側)に示す。図14から図17において(a)実施例1、(b)実施例2、(c)比較例2、(d)比較例3の円筒焼結体の円筒内側面および外側面の電子顕微鏡観察用サンプルを電子顕微鏡(SEM)で観察した。
[Observation with an electron microscope]
Regarding the cylindrical sintered bodies of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 2 and 3 described above, samples for electron microscopic observation of the cylindrical inner and outer surfaces of the cylindrical sintered bodies were observed with an electron microscope (SEM). Photographs of each sample observed with an electron microscope (SEM) at a magnification of 1000 are shown in FIG. 14 (inner cylinder) and FIG. 15 (outer cylinder). Photographs of each sample observed with an electron microscope (SEM) at a magnification of 2000 or 5000 are shown in FIG. 16 (inner cylinder) and FIG. 17 (outer cylinder). 14 to 17, electron microscope observation of the cylindrical inner and outer surfaces of the cylindrical sintered bodies of (a) Example 1, (b) Example 2, (c) Comparative Example 2, and (d) Comparative Example 3 The samples were observed with an electron microscope (SEM).

図14(a)および(b)は、実施例1および実施例2における円筒型焼結体内側面の電子顕微鏡写真である。図15(a)および(b)は、実施例1および実施例2における円筒型焼結体外側面の電子顕微鏡写真である。図14(c)および(d)は、比較例2および比較例3における円筒型焼結体内側面の電子顕微鏡写真である。図15(c)および(d)は、比較例2および比較例3における円筒型焼結体外側面の電子顕微鏡写真である。図14および図15に示すように、焼結時に円筒型成形体の円筒内側中空部への酸素導入を行った実施例1および実施例2では、円筒型焼結体内側面(図14(a)および(b))および外側面(図15(a)および(b))の電子顕微鏡写真に大きな差は観られなかった。一方で、焼結時に円筒型成形体の円筒内側中空部への酸素導入が無い比較例2および比較例3では、円筒型焼結体外側面(図15(c)および(d))と比較して円筒型焼結体内側面(図14(c)および(d))の電子顕微鏡写真において大きな孔(写真、黒の不規則な形態)が数多く観察された。比較例2および比較例3における円筒型焼結体の円筒内側面には、不規則な粒形(結晶粒状)の孔が数多く観察された。比較例2および比較例3における円筒型焼結体の円筒内側面に観察される孔は、主に結晶粒界に観察された。 14(a) and (b) are electron micrographs of the side surfaces of the cylindrical sintered bodies in Examples 1 and 2. FIG. 15(a) and (b) are electron micrographs of the outer surface of the cylindrical sintered bodies in Examples 1 and 2. FIG. 14(c) and (d) are electron micrographs of side surfaces of cylindrical sintered bodies in Comparative Examples 2 and 3. FIG. 15(c) and (d) are electron micrographs of the outer surface of the cylindrical sintered bodies in Comparative Examples 2 and 3. FIG. As shown in FIGS. 14 and 15, in Examples 1 and 2 in which oxygen was introduced into the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical molded body during sintering, the side surface of the cylindrical sintered body (FIG. 14(a) and (b)) and the lateral surface (FIGS. 15(a) and (b)) showed no significant difference in the electron micrographs. On the other hand, in Comparative Examples 2 and 3, in which oxygen was not introduced into the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical compact during sintering, the outer surface of the cylindrical sintered compact (FIGS. 15(c) and (d)) was compared. Many large pores (black irregular morphology) were observed in electron micrographs of the side surface of the cylindrical sintered body (FIGS. 14(c) and (d)). On the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered bodies in Comparative Examples 2 and 3, many irregular grain-shaped (crystal grain-shaped) holes were observed. The pores observed on the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered bodies in Comparative Examples 2 and 3 were mainly observed at grain boundaries.

次に、結晶粒子の状態を観察するため、比較例においては、特に、図14(c)および(d)で観察された大きな孔がない領域を2000倍または5000倍の視野で観察した。図16(a)および(b)は、実施例1および実施例2における円筒型焼結体内側面の電子顕微鏡写真である。図17(a)および(b)は、実施例1および実施例2における円筒型焼結体外側面の電子顕微鏡写真である。図16(c)および(d)は、比較例2および比較例3における円筒型焼結体内側面の電子顕微鏡写真である。図17(c)および(d)は、比較例2および比較例3における円筒型焼結体外側面の電子顕微鏡写真である。図16および図17に示すように、焼結時に円筒型成形体の円筒内側中空部への酸素導入を行った実施例1および実施例2では、円筒型焼結体内側面(図16(a)および(b))および外側面(図17(a)および(b))の電子顕微鏡写真に大きな差は観られず、結晶粒子が大きく成長していた。焼結時に円筒型成形体の円筒内側中空部への酸素導入がなく、比較例3と比べて円筒軸方向の長さが短い比較例2では、円筒型焼結体内側面(図16(c))および外側面(図17(c))の電子顕微鏡写真に大きな差は観られず、結晶粒子が大きく成長していた。一方で、焼結時に円筒型成形体の円筒内側中空部への酸素導入が無く、比較例2と比べて円筒軸方向の長さが長い比較例3では、円筒型焼結体外側面(図17(d))と比較して円筒型焼結体内側面(図16(d))の電子顕微鏡写真において、小さく、成長初期段階の結晶粒子が観察された。比較例3における円筒型焼結体内側面の結晶粒子は成長初期段階であることから、小さく、不均一であり、平滑性に欠けていた。 Next, in order to observe the state of the crystal grains, in the comparative example, in particular, the region without large holes observed in FIGS. 16(a) and (b) are electron micrographs of the side surfaces of the cylindrical sintered bodies in Examples 1 and 2. FIG. 17(a) and (b) are electron micrographs of the outer surface of the cylindrical sintered bodies in Examples 1 and 2. FIG. 16(c) and (d) are electron micrographs of the side surfaces of the cylindrical sintered bodies in Comparative Examples 2 and 3. FIG. 17(c) and (d) are electron micrographs of the outer surface of the cylindrical sintered bodies in Comparative Examples 2 and 3. FIG. As shown in FIGS. 16 and 17, in Examples 1 and 2 in which oxygen was introduced into the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical molded body during sintering, the side surface of the cylindrical sintered body (FIG. 16(a) and (b)) and the outer surface (FIGS. 17(a) and (b)), no significant difference was observed, and the crystal grains had grown large. In Comparative Example 2, in which oxygen was not introduced into the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical molded body during sintering and the length in the cylindrical axial direction was shorter than that of Comparative Example 3, the side surface of the cylindrical sintered body (Fig. 16(c) ) and the outer surface (FIG. 17(c)), no significant difference was observed, and the crystal grains were greatly grown. On the other hand, in Comparative Example 3 in which oxygen was not introduced into the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical molded body during sintering and the length in the cylindrical axial direction was longer than in Comparative Example 2, the outer surface of the cylindrical sintered body (Fig. 17 In the electron micrograph of the side surface of the cylindrical sintered body (FIG. 16(d)) compared to (d)), small crystal grains in the initial stage of growth were observed. Since the crystal grains on the side surface of the cylindrical sintered body in Comparative Example 3 were in the initial stage of growth, they were small, uneven, and lacked smoothness.

実施例1および実施例2における円筒型焼結体の円筒内側面および外側面においては、小さく不規則な粒形(気泡状)の孔が観察された(例えば、図17(b)の左上の孔)。比較例2および比較例3における円筒型焼結体の円筒外側面にも、同様の小さく不規則な粒形(気泡状)の孔が観察された。実施例1および実施例2における円筒型焼結体の円筒内側面、並びに実施例1、実施例2、比較例2、および比較例3における円筒型焼結体の円筒外側面に観察される孔は、結晶粒界および結晶内の何れにも観察された。 On the cylindrical inner and outer surfaces of the cylindrical sintered bodies in Examples 1 and 2, small and irregular grain-shaped (bubble-like) holes were observed (for example, the upper left in FIG. 17(b) hole). Similar small, irregular grain-shaped (bubble-like) pores were observed on the cylindrical outer surface of the cylindrical sintered bodies in Comparative Examples 2 and 3 as well. Holes observed on the inner cylindrical surface of the cylindrical sintered bodies in Examples 1 and 2 and on the outer cylindrical surfaces of the cylindrical sintered bodies in Examples 1, 2, Comparative Examples 2 and 3 was observed both at grain boundaries and within crystals.

[円筒焼結体内側面の孔の評価]
実施例1~3及び比較例1~5の円筒型焼結体について、上述した方法を用いて円筒焼結体の円筒軸方向中央部における円筒内側面および外側面の組織を電子顕微鏡(SEM)で観察し、孔の数および孔における面積の円相当径を測定した。各サンプルは円筒型サンプル110-4の円筒内側面110-4aにおいて、円周方向に電子顕微鏡観察用サンプルを5つ切り出した。それぞれの電子顕微鏡観察用サンプルから、980μm×1200μmの視野を観察し、孔の数および孔における面積の円相当径の平均値を算出した。円筒型焼結体の孔における面積Sの円相当径Lは、以下の式より算出される。

Figure 0007244989000002
実施例1~実施例3及び比較例1~比較例5の円筒型焼結体の円筒内側面における、孔の数および孔における面積の円相当径の平均値を図18に示す。 [Evaluation of holes on the side surface of a cylindrical sintered body]
Regarding the cylindrical sintered bodies of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5, the structures of the inner and outer surfaces of the cylindrical sintered bodies at the center in the axial direction of the cylinder were examined with an electron microscope (SEM) using the method described above. ), and the number of holes and the equivalent circle diameter of the area of the holes were measured. For each sample, five samples for electron microscope observation were cut out in the circumferential direction from the cylindrical inner surface 110-4a of the cylindrical sample 110-4. A field of view of 980 μm×1200 μm was observed from each sample for electron microscopic observation, and the average value of the number of holes and the equivalent circle diameter of the area of the holes was calculated. The equivalent circle diameter L of the area S in the hole of the cylindrical sintered body is calculated by the following formula.
Figure 0007244989000002
FIG. 18 shows the average values of the number of holes and the average equivalent circle diameter of the area of the holes on the cylindrical inner surface of the cylindrical sintered bodies of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5.

図18の結果から、焼結時に円筒型成形体の円筒内側中空部への酸素導入を行った実施例1~実施例3の円筒型焼結体では、円筒内側中空部への酸素導入が無い比較例2~比較例5の円筒型焼結体より円筒内側面における孔の数が少なかった。円筒軸方向の長さが470mm以下である比較例1は、円筒型成形体の内側中空部への酸素導入が無くても円筒内側面における孔の数が少なかった。実施例1~3の円筒型焼結体の円筒内側面では、孔における面積の円相当径の平均が1μm以下であった。一方、比較例2~5の円筒型焼結体の円筒内側面では、孔における面積の円相当径の平均が4μm以上であった。円筒軸方向の長さが470mm以下である比較例1は、円筒型成形体の内側中空部への酸素導入が無くても円筒内側面の孔における面積の円相当径の平均が1μm以下であった。なお図18に示すように、実施例1~3及び比較例1~5の円筒型焼結体の円筒外側面における孔の数は何れも4.25×10-5個/μm2以下であり、孔における面積の円相当径の平均は1μm以下であった。 From the results of FIG. 18, in the cylindrical sintered bodies of Examples 1 to 3 in which oxygen was introduced into the cylindrical inner hollow portion of the cylindrical molded body during sintering, oxygen was not introduced into the cylindrical inner hollow portion. The number of holes on the inner side surface of the cylinder was smaller than that of the cylindrical sintered bodies of Comparative Examples 2 to 5. Comparative Example 1, in which the length in the axial direction of the cylinder was 470 mm or less, had a small number of holes on the inner side surface of the cylinder even when oxygen was not introduced into the inner hollow portion of the cylindrical molded body. On the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered bodies of Examples 1 to 3, the average equivalent circle diameter of the area of the pores was 1 μm or less. On the other hand, on the cylindrical inner side surfaces of the cylindrical sintered bodies of Comparative Examples 2 to 5, the average equivalent circle diameter of the area of the pores was 4 μm or more. In Comparative Example 1, in which the length in the axial direction of the cylinder is 470 mm or less, the average equivalent circle diameter of the area of the holes on the inner side surface of the cylinder is 1 μm or less even if oxygen is not introduced into the inner hollow portion of the cylindrical molded body. rice field. As shown in FIG. 18, the number of holes on the cylindrical outer surface of the cylindrical sintered bodies of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 was 4.25×10 −5 /μm 2 or less. , the average equivalent circle diameter of the area of the pores was 1 μm or less.

実施例1~3では、ITOの結果を示したが、IZO、IGZO、AZOの各組成で構成される円筒軸方向の長さが600mm以上の円筒型成形体においても同様に、本発明の製造方法を用いて焼結した。なお、組成毎に本発明の範囲内で製造条件を適宜変更することができる。この結果、焼結中の円筒型焼結体の変形、割れを防ぐことができた。また、焼結後の円筒型焼結体の密度を向上することができ、さらに、焼結後の円筒型焼結体の円筒軸方向における相対密度差を低減することができた。焼結後の円筒型焼結体の円筒内側面において観察される孔における面積の円相当径を低減することができ、さらに、焼結後の円筒型焼結体の円筒内側面において観察される孔の数を低減することができた。 In Examples 1 to 3, the results for ITO were shown. sintered using the method. In addition, the manufacturing conditions can be appropriately changed within the scope of the present invention for each composition. As a result, it was possible to prevent deformation and cracking of the cylindrical sintered body during sintering. In addition, the density of the cylindrical sintered body after sintering could be improved, and the relative density difference in the cylindrical axis direction of the cylindrical sintered body after sintering could be reduced. It is possible to reduce the equivalent circle diameter of the area of the holes observed on the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered body after sintering, and furthermore, it is observed on the cylindrical inner side surface of the cylindrical sintered body after sintering. It was possible to reduce the number of holes.

なお、本発明は上記の実施形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。 It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiments, and can be modified as appropriate without departing from the scope of the invention.

100:円筒型スパッタリングターゲット
110:円筒型焼結体
111:円筒型成形体
120:スペース
130:円筒基材
140:ろう材
150:底面
200:焼結ステージ
230:酸素供給口
240:配管
260:邪魔板
280:開口部
300:チャンバー
100: Cylindrical sputtering target 110: Cylindrical sintered body 111: Cylindrical molded body 120: Space 130: Cylindrical base material 140: Brazing material 150: Bottom surface 200: Sintering stage 230: Oxygen supply port 240: Piping 260: Obstruction Plate 280: Opening 300: Chamber

Claims (2)

円筒軸方向の長さが948mm以上の円筒型IGZO焼結体であって、
前記円筒軸方向における相対密度差が0.1%以内であり、
前記円筒軸方向の円筒内側面中央部および円筒外側面中央部において1.176mm 2 の視野を少なくとも5つ観察し、観察される孔における面積の円相当径が平均1μm以下であることを特徴とする円筒型IGZO焼結体。
A cylindrical IGZO sintered body having a length in the axial direction of the cylinder of 948 mm or more,
The relative density difference in the axial direction of the cylinder is within 0.1%,
At least five fields of view of 1.176 mm 2 are observed at the central portion of the inner side surface of the cylinder and the central portion of the outer side surface of the cylinder in the axial direction of the cylinder, and the average circle equivalent diameter of the observed hole area is 1 μm or less. Cylindrical IGZO sintered body.
請求項1に記載された円筒型IGZO焼結体と、円筒内側中空部に配置された基材と、を有するスパッタリングターゲット。 A sputtering target comprising the cylindrical IGZO sintered body according to claim 1 and a base material arranged in the inner hollow portion of the cylinder.
JP2017179069A 2016-03-28 2017-09-19 Cylindrical sputtering target and manufacturing method thereof Active JP7244989B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016064132 2016-03-28
JP2016064132 2016-03-28

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016214323A Division JP6397869B2 (en) 2016-03-28 2016-11-01 Cylindrical sputtering target and manufacturing method thereof

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018009251A JP2018009251A (en) 2018-01-18
JP2018009251A5 JP2018009251A5 (en) 2019-10-10
JP7244989B2 true JP7244989B2 (en) 2023-03-23

Family

ID=60004925

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016214323A Active JP6397869B2 (en) 2016-03-28 2016-11-01 Cylindrical sputtering target and manufacturing method thereof
JP2017104785A Active JP6967372B2 (en) 2016-03-28 2017-05-26 Cylindrical sputtering target and its manufacturing method
JP2017179069A Active JP7244989B2 (en) 2016-03-28 2017-09-19 Cylindrical sputtering target and manufacturing method thereof

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016214323A Active JP6397869B2 (en) 2016-03-28 2016-11-01 Cylindrical sputtering target and manufacturing method thereof
JP2017104785A Active JP6967372B2 (en) 2016-03-28 2017-05-26 Cylindrical sputtering target and its manufacturing method

Country Status (3)

Country Link
JP (3) JP6397869B2 (en)
KR (1) KR102001363B1 (en)
TW (4) TWI699444B (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6523510B1 (en) * 2018-03-30 2019-06-05 Jx金属株式会社 Sputtering target
BE1028481B1 (en) 2020-07-14 2022-02-14 Soleras Advanced Coatings Bv High Density Sputtering Target
BE1028482B1 (en) 2020-07-14 2022-02-14 Soleras Advanced Coatings Bv Manufacture and refill of sputtering targets

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012126587A (en) 2010-12-13 2012-07-05 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Oxide sintered body for cylindrical sputtering target and method for producing the same
JP5887625B1 (en) 2015-03-27 2016-03-16 Jx金属株式会社 Cylindrical sputtering target, cylindrical sintered body, cylindrical molded body, and manufacturing method thereof
JP5887391B1 (en) 2014-08-22 2016-03-16 三井金属鉱業株式会社 Method for producing target material for sputtering target and claw member
JP2016117950A (en) 2014-12-22 2016-06-30 住友化学株式会社 Production method of cylindrical target material, and cylindrical target material

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0776672B2 (en) * 1986-08-26 1995-08-16 川崎重工業株式会社 Dispersion plate nozzle for fluidized bed furnace
JPH08144056A (en) * 1994-11-22 1996-06-04 Mitsubishi Materials Corp Production of sputtering target material for forming thin ito film having high strength
JP4227227B2 (en) * 1998-10-30 2009-02-18 Dowaホールディングス株式会社 Manufacturing method of ITO sputtering target
JP2005069668A (en) * 2003-08-01 2005-03-17 Asahi Glass Co Ltd Baking container for silicon nitride-based ceramic
KR20060043427A (en) * 2004-03-05 2006-05-15 토소가부시키가이샤 Cylindrical sputtering target, ceramic sintered body, and process for producing sintered body
JP5750060B2 (en) * 2012-01-18 2015-07-15 三井金属鉱業株式会社 Ceramic cylindrical sputtering target material and manufacturing method thereof
WO2014021334A1 (en) * 2012-07-30 2014-02-06 東ソー株式会社 Sintered oxide body and sputtering target
JP6186649B2 (en) * 2013-07-09 2017-08-30 株式会社大一商会 Game machine
JP5799154B2 (en) * 2013-12-13 2015-10-21 Jx日鉱日石金属株式会社 Sputtering target and manufacturing method thereof
JP6464776B2 (en) * 2014-10-29 2019-02-06 住友金属鉱山株式会社 Cylindrical ceramic sintered body and manufacturing method thereof
JP6532287B2 (en) * 2015-05-14 2019-06-19 キヤノン株式会社 Medical diagnostic support apparatus, information processing method and program
JP2016014191A (en) * 2015-07-21 2016-01-28 三井金属鉱業株式会社 Ceramic cylindrical type sputtering target material, and method of manufacturing the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012126587A (en) 2010-12-13 2012-07-05 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Oxide sintered body for cylindrical sputtering target and method for producing the same
JP5887391B1 (en) 2014-08-22 2016-03-16 三井金属鉱業株式会社 Method for producing target material for sputtering target and claw member
JP2016117950A (en) 2014-12-22 2016-06-30 住友化学株式会社 Production method of cylindrical target material, and cylindrical target material
JP5887625B1 (en) 2015-03-27 2016-03-16 Jx金属株式会社 Cylindrical sputtering target, cylindrical sintered body, cylindrical molded body, and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR102001363B1 (en) 2019-07-17
TW201734240A (en) 2017-10-01
TWI635194B (en) 2018-09-11
TWI699444B (en) 2020-07-21
TW202035740A (en) 2020-10-01
TWI698542B (en) 2020-07-11
JP2017178784A (en) 2017-10-05
JP6967372B2 (en) 2021-11-17
TW202014543A (en) 2020-04-16
TWI704243B (en) 2020-09-11
TW201819660A (en) 2018-06-01
JP2018009251A (en) 2018-01-18
KR20190071656A (en) 2019-06-24
JP6397869B2 (en) 2018-09-26
JP2017197425A (en) 2017-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102493208B1 (en) Cylindrical sputtering target, cylindrical compact, manufacturing method of cylindrical sputtering target, manufacturing method of cylindrical sintered compact and manufacturing method of cylindrical compact
JP7244989B2 (en) Cylindrical sputtering target and manufacturing method thereof
KR102030892B1 (en) Ito sputtering target and method for manufacturing same, ito transparent electroconductive film, and method for manufacturing ito transparent electroconductive film
KR102524402B1 (en) Cylindrical sputtering target and manufacturing method of cylindrical sputtering target
EP2767610A1 (en) ZnO-Al2O3-MgO sputtering target and method for the production thereof
JP7158102B2 (en) ITO sputtering target, manufacturing method thereof, ITO transparent conductive film, and manufacturing method of ITO transparent conductive film
JP5969146B1 (en) Manufacturing method of cylindrical sputtering target and manufacturing method of cylindrical molded body
JP6884126B2 (en) Cylindrical ceramics-based sputtering target Consists of joining one or more cylindrical ceramics-based sputtering target materials and cylindrical ceramics-based sputtering target materials to a backing tube.
JP5497479B2 (en) Sputtering target
TW201605735A (en) Oxide sintered body, method for producing the same, sputtering target and film
TW202041484A (en) Oxide sintered body, sputtering target, and method for producing sputtering target
TWI697458B (en) Sputtering target
CN108455976B (en) Sintered tabular corundum with low zirconium content and preparation method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190902

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190902

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200917

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200929

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20201127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20210127

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210622

C60 Trial request (containing other claim documents, opposition documents)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60

Effective date: 20210921

C116 Written invitation by the chief administrative judge to file amendments

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C116

Effective date: 20211005

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20211005

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20220510

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20220719

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20220906

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20221004

C13 Notice of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13

Effective date: 20221101

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221223

C23 Notice of termination of proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23

Effective date: 20230207

C03 Trial/appeal decision taken

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03

Effective date: 20230307

C30A Notification sent

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012

Effective date: 20230307

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230310

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7244989

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151