JP7240401B2 - 表面活性高分子の構造化 - Google Patents
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Description
本発明は、表面化学の分野、より具体的には表面活性高分子の成形ポリマーの製造に関する。本発明は、表面活性高分子、例えばシルクタンパク質の成形ポリマーを製造するための方法を提供する。
人間は、何世紀にもわたって、広い用途のためにカイコにより生産されたシルクを使用してきた。近年、スパイダーシルクが、主としてその優れた機械的強度(ケブラー(Kevlar)に匹敵)、高い弾性、及びカイコシルクと同様の生体適合性のために、注目が高まっている。クモの捕食性の性質のために、クモを飼育することは現実的ではないことから、スパイダーシルク生産は、シルク模倣タンパク質を生産する組換えシステムが利用可能になった後にのみ実行可能となった。自然収穫よりも組換えシステムを使用することは、収量と再現性の点において有利であるだけでなく、シルクの機能化、すなわちシルク部分に生理活性ドメインを共有結合することも可能である。
本発明の目的は、定義された再現可能な微細構造の表面活性高分子、例えばシルクタンパク質を製造するための方法を提供することである。
本発明は、様々なシルク形成が、可溶性シルクタンパク質と疎水性のマイクロパターン化表面との間の相互作用によって生成され得るという洞察に基づいている。疎水性のマイクロパターン化表面は、幾何学的にパターン化されている疎水性表面である。機能化シルクタンパク質の構造化は、機能化シルクの生物活性を保持する条件下でマイクロパターン化された疎水性表面を用いることによって達成される。生物活性の保持は、多くの用途において有利であり、過酷な化学物質及び/又は条件が方法に含まれないために可能である。微細構造を用いてパターン化シルクシートを生成する本明細書に提示される方法において、液体はパターンに浸透しない。
a)表面上に表面活性高分子の水溶液を堆積させること;及び
b)表面上で表面活性高分子の成形ポリマーを形成すること;及び任意により
c)表面から表面活性高分子の成形ポリマーを除去すること、
を含んでいる。
REPは、70~300アミノ酸残基の反復フラグメントであって、L(AG)nL、L(AG)nAL、L(GA)nL、及びL(GA)nGLかからなる群から選択され、ここで、nは2~10の整数であり;個々のAセグメントはそれぞれ、8~18アミノ酸残基のアミノ酸配列であり、ここで、0~3のアミノ酸残基はAlaではなく、かつ残りのアミノ酸残基はAlaであり;個々のGセグメントはそれぞれ、12~30アミノ酸残基のアミノ酸配列であり、ここで、少なくとも40%のアミノ酸残基はGlyであり;個々のLセグメントの各々は、0~30アミノ酸残基のリンカーアミノ酸配列であり;そして、CTは、配列番号4~5のいずれかと少なくとも70%の同一性を有する70~120アミノ酸残基のフラグメントである。任意により、機能性部分は、スパイダーシルクタンパク質の末端に、又は部分の間に、又は部分のいずれかの中に配置され、好ましくはスパイダーシルクタンパク質の末端に配置される。
L(AG)nL、例えばLA1G1A2G2A3G3A4G4A5G5L;
L(AG)nAL、例えばLA1G1A2G2A3G3A4G4A5G5A6L;
L(GA)nL、例えばLG1A1G2A2G3A3G4A4G5A5L;又は
L(GA)nGL、例えばLG1A1G2A2G3A3G4A4G5A5G6L。
b)シルクナノワイヤ形成をもたらす、突出要素上のシルク溶液の液滴の側方回転;及び
c)シルクシート形成をもたらす、突出要素へのシルク溶液の液滴の垂直付着、それに続く蒸発。
(i)疎水性のマイクロパターン化表面の突出要素に付着した1~100μmの側方延長を有するコーティング。好ましくは、疎水性のマイクロパターン化表面は、90°以上の水の接触角を有する超疎水性のマイクロパターン化表面である。好ましくは、コーティングは、5~30μm、例えば5~20μmの側方延長を有する。
(ii)1~100μmの長さ及び10~372.5nmの厚さ、例えば10~300nm、10~200nm、好ましくは10~100nmの厚さを有するナノワイヤ。好ましくは、ナノワイヤは、5~30μmの長さ、例えば5~20μmの長さ、及び/又は36~88nmの厚さを有する。好ましくは、ナノワイヤは自立型である。疑いを避けるために、ナノワイヤは秩序だったタンパク質、例えばシルクタンパク質の単一フィラメントである。
(iii)1~10μmの厚さを有するシルクシート。好ましくは、シルクシートは、2~8μmの厚さ、例えば3~5μmの厚さを有する。好ましくは、シルクシートは自立型である。
1.表面活性高分子の成形ポリマーを製造するための方法であって、以下のステップ:
a)表面上に表面活性高分子の水溶液を堆積させること、ここで、前記表面活性高分子の水溶液は、液滴の形態で堆積され、かつ、前記表面は、疎水性のマイクロパターン化表面であって、水溶液がパターンに浸透することを防ぎ、かつ表面活性高分子の水溶液の液滴を受けて、その液滴状態を保持するように適合されている疎水性のマイクロパターン化表面である;並びに
b)表面上で表面活性高分子の成形ポリマーを形成すること、
を含む、方法。
c)前記表面から前記表面活性高分子の成形ポリマーを除去すること、
を含む、先の実施形態のいずれかに記載の方法。
(i)疎水性のマイクロパターン化表面の突出要素に付着した1~100μmの側方延長を有するコーティング;
(ii)1~100μmの長さ及び10~100nmの厚さを有するナノワイヤ;及び
(iii)1~10μmの厚さを有するシルクシート、
からなる群から選択される、スパイダーシルク構造。
直径(d)及び間隙(i)を変化させて円形のシリコンピラーとして成形した突出要素のマイクロアレイ(d、i=5、10、15、又は20μmを含む)を、標準的なマイクロ加工プロセスを用いて調製し、プラズマ堆積を用いて疎水性層でコーティングした。
i)小さな直径及び広い間隙を有する突出要素のアレイ上にシルク溶液の液滴を接触させ、そして即時垂直除去することにより、ワイヤの無いコーティングをもたらす;
ii)大きな直径及び狭い間隙を有する突出要素のアレイに沿って適切な速度でシルク溶液の液滴を横方向に移動させることにより、大量の整列したワイヤを生成する;並びに
iii)突出要素のアレイの頂部に高濃度のシルクタンパク質の液滴を蒸発させることにより、表面から解放することができるシルクシートを生成する。
表面の製造:
5、10、15、及び20μmの頂部直径d、及び間隙i、並びにパターン化されていない表面を有するリエントラントシリコンマイクロピラーのアレイを有するチップを、標準的なマイクロ加工技術を用いて作製した。二酸化シリコン(SiO2)の1μm層を、4インチのシリコン(Si)ウェハの表面上に熱成長させた。HDMSレジストSPR 700-1.2(Microfabrication Materials Technologies、USA)を4000RPMで回転させ、次いでウェハを、100℃で1分間、ホットプレート(Maximus 804、SSE、ドイツ)上でベーク(baked)した。真空接触、140mJ cm-2(Karl Suss mask aligner、Karl Suss、ドイツ)を用いてウェハを露光した。現像をCD46で40秒間行い、110℃で1分間のハードベーク(hard-bake)に続く(Maximus)。酸化物をRIE(Applied Materials Precision 5000 mark II、Applied Materials、USA)を用いてエッチングし、10秒間の等方性Siエッチング及び20サイクルの異方性Siエッチングに続く(Centura II(DPS & MxP)Applied Materials、USA)。ウェハは不動態化され、誘導結合プラズマ装置ICP(ICP、STS、UK)で30秒間C4F8からのプラズマ蒸着によって、疎水性コーティングを生成した。ウェハを、ダイシング前にダイシングテープ(SPS、ドイツ)で覆った。チップはテープからはがされ、使用時まで保存され、使用時にアセトン、イソプロパノール、水、及びエタノールを順次使用して洗浄された。全ての化学薬品はSigma-Aldrich、スウェーデンから購入した。
20mMのTris(pH8)中の3mg mL-1の最終濃度で大腸菌(Escherichia coli)での組換え発現から精製した、可溶性シルクタンパク質、非機能化スパイダーシルク(「4RepCT」;配列番号1)、Z-機能化スパイダーシルク(配列番号2)及びFNcc-機能化スパイダーシルク(配列番号3)は、Spider Technologies ABによって提供され、-20℃でさらなる使用まで保存した。20mMのNH4HCO3(pH8)及び20mMのNaHCO3(pH8)中のシルクタンパク質での実験のために、シルクタンパク質緩衝液を透析によってTrisから交換した。
0.4mmの注射針から20mMのTris緩衝液中の0.1mg mL-1のZ-シルクの5~10μLの懸垂液滴を放出し、次いでピラーアレイ表面に対して液滴を移動させることによって、コーティング及びワイヤを生成した。2つの液滴移動を図1に示すように調査した:ピラーの頂部にのみシルクコーティングを形成することを目的としたタッチ・アンド・リリース、ここでは、液滴は、表面と接触して垂直に移動し、すぐに除去された;並びに、ナノワイヤを形成することを目的とした側方液滴移動、ここでは、液滴はピラーアレイ上を水平に回転した。横方向の液滴移動(図1b)は、電動リニアステージ(NEMA 17 Stepper Motor MOX-02-30、Manufacturer、中国)上に水平に表面を配置し;表面の上に注射器を配置し;注射針から液滴を放出し;並びに0.1、0.5、1、5又は10mm s-1の速度でステージを移動させることによって行われた。垂直タッチ・アンド・リリース液滴移動(図1a)は手動で行った。
20mMのTris、NH4HCO3又はNaHCO3緩衝液のいずれか中の0.3mg mL-1及び3.0mg mL-1のFNcc-シルク又は非機能化シルクの溶液のドロップ・キャスティングを用いて、シルクのシートを生成した。周囲条件(22℃で35%の相対湿度)又は高湿度条件(22℃で90%の相対湿度)のいずれかの下で24時間、フラットな又は超疎水性の表面上で、20μLの液滴を蒸発させた。その後、表面を水で洗浄した。シートを、PBSで3回洗浄する前に30分間、水で希釈した0.1%のRhodamine B中でインキュベートした。
表面の接触角及びロールオフ角(roll-off angle)を、ゴニオメーター(ThetaLite、Biolin Scientific、スウェーデン)を用いて測定した。コーティング及びワイヤを、蛍光顕微鏡(Nikon Microphot-FXA、Nikon、USA)を用いて評価した。横方向の移動実験では、画像は経路の中央で撮影された。ドロップ・アンド・リムーブ(drop-and-remove)実験では、画像は液滴アレイの接触領域を中心とした。異なる倍率が異なるピラーサイズについて使用された:ピラー直径d=15及び20μmについては10X;d=10μmについては20X;及びd=5μmについては40X。全ての画像をMATLAB(R2016a)で分析した。ワイヤが存在しない画像については、ピラーの間及びピラーを横切る強度分布を測定し比較した。ワイヤが存在する画像については、ワイヤは画像処理アルゴリズムを用いてカウントされた。
Claims (15)
- シルクタンパク質の成形ポリマー(shaped polymers)を製造するための方法であって、以下のステップ:
a)表面上にシルクタンパク質の水溶液を堆積させること、ここで、前記シルクタンパク質の水溶液は、液滴の形態で堆積され、かつ、前記表面は、疎水性のマイクロパターン化表面であって、水溶液がパターンに浸透することを防ぎ、かつシルクタンパク質の水溶液の液滴を受けて、その液滴状態を保持するように適合されている疎水性のマイクロパターン化表面であり、ここで、前記疎水性のマイクロパターン化表面は、90°以上の水の接触角を有する超疎水性のマイクロパターン化表面である;並びに
b)表面上でシルクタンパク質の成形ポリマーを形成すること、
を含む、方法。 - 前記シルクタンパク質が、スパイダーシルクタンパク質である;及び/又は
前記シルクタンパク質がさらに、機能性部分を含んでいる、
請求項1に記載の方法。 - ステップa)の堆積が、表面の平面と交差する方向に沿った表面に向かう液滴の運動によって達成される、請求項1又は2に記載の方法。
- ステップb)の形成が、表面の平面と交差する方向に沿った表面から離れる液滴の運動によって、表面から堆積した液滴を除去することを含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- ステップb)の形成が、表面上でインタクトな状態の堆積した液滴を蒸発させること、を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- さらに、以下のステップ:
c)前記表面から前記シルクタンパク質の成形ポリマーを除去すること、
を含む、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。 - シルクタンパク質から成る成形ポリマーの製造のための、シルクタンパク質の水溶液の液滴を受けるのに適した表面を有する構造の使用であって、前記表面は、疎水性でありかつマイクロパターン化され、かつ微細構造のパターンを含み;ここで、前記疎水性表面は、90°以上の水の接触角を有する超疎水性のマイクロパターン化された表面である、使用。
- 前記超疎水性のマイクロパターン化表面が、100°以上の水の接触角を有する、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法又は使用。
- 前記疎水性のマイクロパターン化表面が、1~100μmの距離iで間隔をあけた突出要素を含み、かつ前記突出要素が、1~100μmの最大側方延長dを有し、
前記突出要素が、ピラー状(pillar-shaped)であり、かつ前記最大側方延長dが、ピラーの最大直径である、
請求項1から8のいずれか一項に記載の方法又は使用。 - 前記疎水性のマイクロパターン化表面が、シリコンを含む、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法又は使用。
- 前記疎水性のマイクロパターン化表面が、疎水性コーティング材料の外層を含む、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法又は使用。
- 以下:
(i)1~100μmの長さ及び10~372.5nmの厚さを有する自立シルクナノワイヤ;及び
(ii)2~8μmの厚さを有する自立シルクシート、
からなる群から選択される、水不溶性スパイダーシルク構造。 - 請求項12に記載のスパイダーシルク構造であって、(i)5~30μmの長さ、及び/又は10~372.5nmの厚さを有する自立シルクナノワイヤである、水不溶性スパイダーシルク構造。
- 請求項12に記載のスパイダーシルク構造であって、(ii)3~5μmの厚さを有する自立シルクシートである、水不溶性スパイダーシルク構造。
- 前記水不溶性スパイダーシルク構造が、機能性部分を含む、請求項12から14のいずれか一項に記載の水不溶性スパイダーシルク構造。
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