JP7236481B2 - 計測モジュール、及び計測ターゲットの設計方法 - Google Patents
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Description
実際には、収差のない結像系は、完全なレンズを作るのが困難なため決して実現することができず、したがって、収差は、リソグラフィレンズにとって基本的な問題である。そのようなレンズ収差は、パターン配置誤差(PPE)と呼ばれる、名目上の中心位置からの印刷された機構の位置誤差を引き起こすことがある。レン収差の挙動は、36個のゼルニケ係数の数値によって特徴付けることができ、レンズの収差のすべての例(例えば、図1の下部参照)は、ゼルニケ多項式の項の混合として表わすことができる。具体的には、レンズ収差の影響下のPPEは、レンズ収差のない配置誤差を表わすPPE(Z=0)、およびi番目のゼルニケ係数値に対する配置誤差を表わすPPE(Zi)を用いて、式1で表わされるようにモデル化することができる。
特定の実施形態は、例えば、図3Aの線形近似条件が成り立たない場合の、より大きな収差の下でのゼルニケ感度解析を提供する。開示された方法によって、レンズ収差がある場合の、または正確なレンズ収差データがなく時間的および空間的なシグネチャしかない場合の、より大きなゼルニケドリフトに対するターゲットの最適化が可能になる。そのようなゼルニケドリフトは、例えば、特に高度の技術ノードにおいて深刻な問題である極端な軸外照明によるレンズ加熱によって引き起こされることがある。加えて、開示された方法は、堅牢な解析を提供し、レンズ収差がロット、ウェーハ、およびスリット間で変化する場合のターゲットの最適化を可能にする。
Claims (4)
- 計測モジュールであって、
少なくとも1つのコンピュータプロセッサを備え、
前記少なくとも1つのコンピュータプロセッサが、
計測方向に沿って分布した、試料の第1層における2つ以上の周期的機構の第1の組を有する、第1の組のセルと、
前記計測方向に沿って分布した、前記試料の第2層における前記2つ以上の周期的機構を有する、第2の組のセルと、
を含む計測ターゲットを設計し、
前記第1の組または第2の組のセルのいずれかにおける前記2つ以上の周期的機構のうちの特定の周期的機構が、前記計測方向に沿って境界部分によって境界を定められた傾斜分割領域を含み、前記傾斜分割領域が、傾斜分割ピッチで傾斜角に沿って分布した2つ以上の傾斜分割機構を含み、前記傾斜角が前記試料の各層における傾斜デバイス機構の傾斜角に対応し、
ゼルニケ多項式分析に従って、前記各層の前記2つ以上の周期的機構のパターン配置誤差が前記各層の前記傾斜デバイス機構のパターン配置誤差に一致するように、前記傾斜分割ピッチを選択し、
前記計測方向に沿った前記第1の組のセルの前記第2の組のセルに対する位置の測定値が、前記測定方向に沿ったオーバーレイを示す、
ように構成されている、計測モジュール。 - 請求項1に記載の計測モジュールであって、前記境界セグメントがさらに分割されて光学近接効果補正(OPC)機構を含む、計測モジュール。
- 請求項2に記載の計測モジュールであって、前記少なくとも1つのコンピュータプロセッサがさらに、前記SRAFのサイズ、分割、または傾斜角の少なくとも1つを、前記ゼルニケ多項式分析に従って、前記各層の前記2つ以上の周期的機構の前記パターン配置誤差が前記各層の前記傾斜デバイス機構の前記パターン配置誤差に一致するように選択するように構成されている、計測モジュール。
- 計測ターゲットの設計方法であって、
前記計測ターゲットを、
計測方向に沿って分布した、試料の第1層における2つ以上の周期的機構の第1の組を有する、第1の組のセルと、
前記計測方向に沿って分布した、前記試料の第2層における前記2つ以上の周期的機構を有する、第2の組のセルと、
を含むように設計するステップを含み、
前記第1の組または第2の組のセルのいずれかにおける前記2つ以上の周期的機構のうちの特定の周期的機構が、前記計測方向に沿って境界セグメントによって境界を定められた傾斜分割領域を含み、前記傾斜分割領域が、傾斜分割ピッチで傾斜角に沿って分布した2つ以上の傾斜分割機構を含み、前記傾斜角が前記試料の各層における傾斜デバイス機構の予め与えられた傾斜角に一致し、
前記方法がさらに、
ゼルニケ多項式分析に従って、前記各層の前記2つ以上の周期的機構のパターン配置誤差が前記各層の前記傾斜デバイス機構の予め与えられたパターン配置誤差に一致するように、前記傾斜分割ピッチを選択するステップを含み、
前記計測方向に沿った前記第1の組のセルの前記第2の組のセルに対する位置の測定値が、前記測定方向に沿ったオーバーレイを示す、
計測ターゲットの設計方法。
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