JP7197119B2 - 高分子化合物の除去方法及び高分子化合物の除去装置 - Google Patents
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
等)、残存する油分(サポート材等)が塗装不良の原因となってしまう。
浸漬工程210では、洗浄液CLに三次元造形物Xを浸漬する。洗浄液CLに三次元造形物Xを浸漬する間、洗浄液CLに対して、超音波を印可してもよい。これにより、三次元造形物Xにおいてモデル材MDとサポート材SPの境界部分に洗浄液CLが入り込みやすくなる。
サポート材融解工程220では、ヒータ20が、洗浄液CLを所定の温度に調節する。これにより、洗浄槽10にある洗浄液CLの温度は、サポート材SPは融解する一方モデル材MDは融解しない範囲となるように調節される。これにより、洗浄液CLの中において三次元造形物Xのサポート材が融解する。さらに、洗浄液CLの温度は、洗浄液CLの曇点よりも高い温度にすることが好ましい。これにより、洗浄液CLに含まれる有効成分(界面活性剤等)によって、三次元造形物Xにおけるサポート材SPの除去が促進される。また、洗浄液CLの曇点はできるだけ低い方が良い。これにより、洗浄液CLに含まれる有効成分(界面活性剤等)による除去作用が低温でも得られる。
洗浄槽分離工程230では、ヒータ20は、引き続き、洗浄液CLを所定の温度に調節する。融解したサポート材は、洗浄液CLに対して不溶であるとともに、洗浄液CLよりも密度が低い。洗浄槽分離工程230では、洗浄槽10における洗浄液CLを静置する。このため、洗浄槽10においては、密度差によって、サポート材SPと洗浄液CLが分離する。その結果、洗浄槽10においては、上部に液状のサポート材SPが、下部に洗浄液CLが、それぞれ分離して存在することとなる。
オーバーフロー工程240では、回収槽50から洗浄槽10への洗浄液CLの供給等により、洗浄槽10における液面が連通部50BXに到達すると、液状のサポート材SPが優先的に回収槽50へ溢れ出る(図3)。
回収工程250では、洗浄槽10から出た液体を回収槽50に回収する。回収槽50に設けられたヒータは、引き続き、液体を所定の温度に調節する。
回収槽分離工程260では、回収槽50に設けられたヒータは、引き続き、液体を所定の温度に調節する。さらに、回収槽50では、回収した液体を静置する。サポート材SPと洗浄液CLとの密度差により、回収槽50では、サポート材SPと洗浄液CLとに分離する。すなわち、回収槽50においては、上部に液状のサポート材SPが、下部に洗浄液CLが存在することとなる。回収槽50における液面が上昇すると、送り配管80を介して、液状のサポート材SPが優先的に回収槽50から溢れ出る。
サポート材回収工程270では、回収槽50から溢れ出たサポート材SPは、送り配管80を介して、カードリッジ71に供給される。サポート材SPが十分に充填されたカードリッジ71は、ホルダ72から取り外され、別途の三次元造形装置(図示省略)に装着される。また、ホルダ72には、空のカードリッジ71が装着される。
実験A1~A2を行った。
3Dプリンタを用いて、モデル材MD及びサポート材SPから三次元造形物X(カーテンレール。図10参照)をつくった。
モデル材MDの成分:
ウレタンアクリラートオリゴマー 20~40%
エトキシル化ビスフェノールAジアクリラート(CAS番号 64401-02-01) 15~35%
トリプロプレングリコールアクリラート(CAS番号 42978-66-5) 1.5~3%
サポート材SPの成分:ヒドロキシ化ワックス(CAS番号 112-95-5)
サポート材SPの融点:55~65℃
サポート材SPの密度:0.85~0.91(g/cm3)
ジエチレングリコールアルキルエーテル(CAS番号 112-34-5)
ポリオキシアルキレンモノアルキルエーテル(CAS番号 77029-64-2)
キシレンスルホン酸ナトリウム(CAS番号 1300-72-7)
ケイ酸ナトリウム(CAS番号 6834-92-0)
水
洗浄剤の曇点:50 ℃
洗浄剤の密度:1.082(g/cm3)
超音波条件 周波数42Hz 出力100W
洗浄時間 3分
洗浄液の温度 65℃
超音波条件 周波数42Hz 出力100W
洗浄時間 3分
水の温度 65℃
表1に記載した条件以外は、実験A1と同様にして、三次元造形物Xに対するサポート材の除去、すすぎ、及び乾燥を行った。
評価基準は以下の通りである。
◎:モデル材にサポート材が全く残っていない。
○:モデル材の左右両側にある細溝HM(溝幅1mm)にサポート材が少し残っていた。
△:モデル材の左右両側にある細溝HM(溝幅1mm)のサポート材が除去されていない。
×:モデル材のサポート材がほとんど残っている。
水 70~80%
添加剤 20~30%
トリエタノールアミン 3~7%
2-アミノエタノール 1~5%
その他 8~16%
水 80%
トリエタノールアミン 10~20%
その他 0~10%
実験A1において出た廃液(サポート材と洗浄液の混合液)に対し、洗浄槽分離工程230と、オーバーフロー工程240と、回収工程250と、回収槽分離工程260と、サポート材回収工程270と、を行った。サポート材回収工程270で得られたサポート材及び未使用のサポート材について、赤外分光分析(KBr法)を行った。未使用のサポート材の分析結果は表2に、そして、サポート材の分析結果を表3にそれぞれ示す。
実験A1と同様にして、3Dプリンタを用いて、モデル材MD及びサポート材SPから三次元造形物Xをつくった。
評価基準は以下の通りである。
◎:モデル材にサポート材が全く残っていない。
○:モデル材のうち左右両側にある細溝HM(溝幅1mm)にサポート材が少し残っていた。
△:モデル材の左右両側にある細溝HM(溝幅1mm)のサポート材が除去されていない。
×:モデル材のサポート材がほとんど残っている。
3Dプリンタを用いて、モデル材MD及びサポート材SPから実験A1と同様の三次元造形物Xをつくった。モデル材MD及びサポート材SPを変えたこと以外は、実験C1と同様にして、サポート材除去方法800(図9)を行った。
シリコーン 65%
アクリル系モノマー 30~35%
有機リン化合物 1~5%
フェノン化合物 1~5%
アクリル系モノマー 10~25%
ポリプロピレングリコール 70~90%
光重合開始剤 1~5%
サポート材SPの密度:1.03(g/cm3)
実験D1の後、三次元造形物Xを引き上げた浸漬槽の混合液300ccに対し、石膏を3cc加えた。その後、24時間静置した結果、浸漬槽において、混合液が、洗浄液とサポート材とに分離した。
アクリル系モノマー 75%
ウレタンアクリレートモノマー 20%
光重合開始剤 5%
シリコーン 60%
アクリル系モノマー 35~40%
有機リン化合物 1~5%
フェノン化合物 1~5%
10 洗浄槽
20 ヒータ
30 温度センサ
40 超音波ユニット
50 回収槽
60 配管
60X 入口
60Y 出口
70 サポート材回収ユニット
71 カードリッジ
71X 供給口
72 ホルダ
78 サポート材回収槽
80 送り配管
80X 入口
80Y 出口
100 コントローラ
200 サポート材除去方法
210 浸漬工程
220 サポート材融解工程
230 洗浄槽分離工程
240 オーバーフロー工程
250 回収工程
260 回収槽分離工程
Claims (4)
- 高分子化合物が付着したワークから前記高分子化合物を除去する高分子化合物の除去方法であって、
浸漬槽に貯留する液に対して前記高分子化合物が付着した前記ワークを浸漬する浸漬工程と、
前記液の中において前記ワークの前記高分子化合物を融解させる高分子化合物融解工程と、
前記浸漬槽において密度差を利用して前記高分子化合物と前記液とを分離する浸漬分離工程と、
前記浸漬槽のうち第1エリアにおける液面近傍の液を冷却する液面冷却工程と、
前記第1エリアにおける液を、前記浸漬槽のうち前記第1エリアから退避した第2エリアへ送る液送り工程と、を備え、
前記高分子化合物融解工程における液の温度は、前記高分子化合物は融解する一方前記ワークは融解しない範囲であり、
前記高分子化合物の密度は前記液の密度よりも小さく、
前記高分子化合物は前記液に対して不溶であり、
前記液面の冷却は、前記高分子化合物の温度が融点を下回るようにして行われるものであることを特徴とする高分子化合物の除去方法。 - 高分子化合物が付着したワークから前記高分子化合物を除去する高分子化合物の除去装置であって、
前記高分子化合物が付着した前記ワークを液に浸漬するための浸漬槽と、
前記高分子化合物は融解する一方前記ワークは融解しない範囲となるように、前記浸漬槽における前記液の温度を設定する液温調節装置と、
前記浸漬槽のうち第1エリアにおける液面を冷却する液面冷却機構と、
前記第1エリアにおける液面を、前記浸漬槽のうち前記第1エリアから退避した第2エリアへ送る液送り機構と、を備え、
前記高分子化合物の密度は前記液の密度よりも小さく、
前記高分子化合物は前記液に対して不溶であり、
前記液面の冷却は、前記高分子化合物の温度が融点を下回るようにして行われるものであることを特徴とする高分子化合物の除去装置。 - 前記第1エリアは、前記浸漬槽のうち前記液に浸漬した前記ワークを取り出す取出エリアであって、
前記第2エリアは、前記取出エリアにおける液面を、前記浸漬槽のうち前記取出エリアから退避した退避エリアであることを特徴とする請求項2記載の高分子化合物の除去装置。 - 前記液面冷却機構は、前記液面に向けて気体を送るファンを備え、
前記ファンは、前記液送り機構を兼ねることを特徴とする請求項2または3記載の高分子化合物の除去装置。
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