JP7185454B2 - HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD, LIQUID JET RECORDING APPARATUS, AND HEAD CHIP MANUFACTURING METHOD - Google Patents

HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD, LIQUID JET RECORDING APPARATUS, AND HEAD CHIP MANUFACTURING METHOD Download PDF

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Description

本開示は、液体を噴射するヘッドチップおよびその製造方法、並びに、そのヘッドチップを備えた液体噴射ヘッドおよび液体噴射記録装置に関する。 The present disclosure relates to a head chip that ejects liquid, a manufacturing method thereof, and a liquid ejection head and a liquid ejection recording apparatus that include the head chip.

被記録媒体に画像を記録する記録装置として、液体噴射ヘッドを備えた液体噴射記録装置が知られており、その液体噴射ヘッドは、液体を噴射するヘッドチップを含んでいる。この液体噴射記録装置では、ヘッドチップから被記録媒体に液体が噴射されるため、その被記録媒体に画像が記録される。 2. Description of the Related Art A liquid jet recording apparatus having a liquid jet head is known as a recording apparatus for recording an image on a recording medium, and the liquid jet head includes a head chip for jetting liquid. In this liquid jet recording apparatus, liquid is jetted from the head chip onto the recording medium, so that an image is recorded on the recording medium.

このヘッドチップは、液体を噴射させるために電気的に駆動されるアクチュエータプレートを含んでいる。アクチュエータプレートには、複数のチャネルが設けられている。このチャネルの側壁には電極が設けられている(例えば、特許文献1参照)。 The head chip includes an actuator plate that is electrically driven to eject liquid. The actuator plate is provided with a plurality of channels. An electrode is provided on the side wall of this channel (see, for example, Patent Document 1).

特開2001-334657号公報JP-A-2001-334657

このアクチュエータプレートの電極が腐食すると、ヘッドチップの信頼性が低下するおそれがある。 If the electrode of the actuator plate corrodes, the reliability of the head chip may deteriorate.

そこで、信頼性を向上させることが可能なヘッドチップおよびその製造方法、並びに、そのヘッドチップを備えた液体噴射ヘッドおよび液体噴射記録装置を提供することが望まれている。 Therefore, it is desired to provide a head chip that can improve reliability, a method of manufacturing the same, and a liquid jet head and a liquid jet recording apparatus having the head chip.

本開示の一実施形態のヘッドチップは、液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、液体を噴射するヘッドチップであって、アクチュエータプレートは、互いに側壁を介して配置された複数の溝と、側壁に設けられるとともに、斜方蒸着法により形成された蒸着膜と蒸着膜を覆うめっき膜とを有する電極とを含むものである。また、上記側壁が圧電体粒子により構成されており、上記蒸着膜が、上記めっき膜の構成材料と異なる材料を含む密着膜と、上記めっき膜の構成材料と同じ材料を含む耐腐食膜とを含んでおり、上記耐腐食膜の厚みおよび上記めっき膜の厚みの和が、上記密着膜の厚みよりも大きくなっている。 A head chip according to an embodiment of the present disclosure is a head chip that includes an actuator plate that applies pressure to a liquid and ejects the liquid, wherein the actuator plate includes a plurality of grooves arranged with sidewalls interposed therebetween, and an electrode having a vapor deposition film formed by oblique vapor deposition and a plating film covering the vapor deposition film. Further, the side walls are composed of piezoelectric particles, and the vapor deposition film includes an adhesion film containing a material different from that of the plating film and a corrosion-resistant film containing the same material as that of the plating film. The sum of the thickness of the corrosion resistant film and the thickness of the plating film is greater than the thickness of the adhesion film.

本開示の一実施形態の液体噴射ヘッドは、液体を噴射するヘッドチップと、そのヘッドチップに液体を供給する供給部と備え、そのヘッドチップが上記した本開示の一実施形態のヘッドチップと同様の構成を有するものである。 A liquid ejecting head according to an embodiment of the present disclosure includes a head chip that ejects liquid and a supply unit that supplies liquid to the head chip, and the head chip is the same as the head chip according to the embodiment of the present disclosure. It has a configuration of

本開示の一実施形態の液体噴射記録装置は、被記録媒体に液体を噴射する液体噴射ヘッドと、その液体を収容する収容部とを備え、その液体噴射ヘッドが上記した本開示の一実施形態の液体噴射ヘッドと同様の構成を有するものである。 A liquid jet recording apparatus according to an embodiment of the present disclosure includes a liquid jet head that jets liquid onto a recording medium, and a storage section that stores the liquid. has a configuration similar to that of the liquid jet head.

本開示の一実施形態のヘッドチップの製造方法は、液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、液体を噴射するヘッドチップの製造方法であって、アクチュエータプレートを形成する工程は、互いに側壁を介して複数の溝を形成する工程と、側壁に、斜方蒸着法およびめっき法をこの順に行い、蒸着膜とめっき膜とを有する電極を形成する工程とを含むものである。また、上記側壁を圧電体粒子により構成し、上記蒸着膜が、上記めっき膜の構成材料と異なる材料を含む密着膜と、上記めっき膜の構成材料と同じ材料を含む耐腐食膜とを、含むようにし、上記耐腐食膜の厚みおよび上記めっき膜の厚みの和が、上記密着膜の厚みよりも大きくなるようにする。 A method of manufacturing a head chip according to an embodiment of the present disclosure is a method of manufacturing a head chip that includes an actuator plate that applies pressure to a liquid and ejects the liquid, wherein the step of forming the actuator plates includes: and forming a plurality of grooves on the side wall by oblique vapor deposition and plating in this order to form an electrode having a vapor deposited film and a plated film . Further, the side walls are composed of piezoelectric particles, and the deposited film includes an adhesion film containing a material different from the constituent material of the plating film, and a corrosion-resistant film containing the same material as the constituent material of the plating film. Thus, the sum of the thickness of the corrosion resistant film and the thickness of the plating film is made larger than the thickness of the adhesion film.

本開示の一実施形態のヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置およびヘッドチップの製造方法によれば、アクチュエータプレートの溝の側壁に設けられた電極の腐食を抑え、信頼性を向上させることが可能となる。 According to the head chip, liquid jet head, liquid jet recording apparatus, and head chip manufacturing method of one embodiment of the present disclosure, it is possible to suppress corrosion of the electrodes provided on the sidewalls of the grooves of the actuator plate and improve reliability. becomes possible.

本開示の一実施形態の液体噴射記録装置の概略構成を表す斜視図である。1 is a perspective view showing a schematic configuration of a liquid jet recording apparatus according to an embodiment of the present disclosure; FIG. 図1に示した液体噴射ヘッドの概略構成を表す斜視図である。2 is a perspective view showing a schematic configuration of the liquid jet head shown in FIG. 1; FIG. 図2に示した液体噴射ヘッドチップの概略構成を表す斜視図である。3 is a perspective view showing a schematic configuration of a liquid jet head chip shown in FIG. 2; FIG. 図2に示した液体噴射ヘッドチップの概略構成を表す他の斜視図である。3 is another perspective view showing the schematic configuration of the liquid jet head chip shown in FIG. 2. FIG. 図4に示したカバープレートおよびアクチュエータプレートの構成を表す断面模式図である。5 is a schematic cross-sectional view showing configurations of a cover plate and an actuator plate shown in FIG. 4; FIG. 図5に示した駆動電極の構成を拡大して表す断面模式図である。6 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged configuration of the drive electrode shown in FIG. 5; FIG. 図3等に示した液体噴射ヘッドチップの製造方法の一例を表す流れ図である。FIG. 4 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the liquid jet head chip shown in FIG. 3 and the like; FIG. 図7に示したステップS3を説明するための断面模式図である。FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining step S3 shown in FIG. 7; 図7に示した液体噴射ヘッドチップの製造方法の他の例を表す流れ図である。8 is a flow chart showing another example of a method of manufacturing the liquid jet head chip shown in FIG. 7; 図3に示した液体噴射ヘッドチップの要部の構成の他の例(1)を表す断面模式図である。4 is a schematic cross-sectional view showing another example (1) of the configuration of the main part of the liquid jet head chip shown in FIG. 3; FIG. 図3に示した液体噴射ヘッドチップの要部の構成の他の例(2)を表す断面模式図である。4 is a schematic cross-sectional view showing another example (2) of the configuration of the main part of the liquid jet head chip shown in FIG. 3; FIG.

以下、本開示の一実施形態に関して、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、説明する順序は、下記の通りである。

1.液体噴射記録装置(ヘッドチップおよび液体噴射ヘッド)
1-1.全体構成
1-2.液体噴射ヘッドの構成
1-3.ヘッドチップの構成
1-4.ヘッドチップの製造方法
1-5.動作
1-6.作用および効果
2.変形例
3.その他の変形例
An embodiment of the present disclosure will be described in detail below with reference to the drawings. The order of explanation is as follows.

1. Liquid jet recording device (head chip and liquid jet head)
1-1. Overall configuration 1-2. Configuration of Liquid Jet Head 1-3. Configuration of Head Chip 1-4. Manufacturing method of head chip 1-5. Operation 1-6. Action and effect 2 . Modification 3. Other variations

<1.液体噴射記録装置(ヘッドチップおよび液体噴射ヘッド)>
本開示の一実施形態の液体噴射記録装置に関して説明する。
<1. Liquid Jet Recording Apparatus (Head Chip and Liquid Jet Head)>
A liquid jet recording apparatus according to an embodiment of the present disclosure will be described.

なお、本開示の一実施形態のヘッドチップおよび液体噴射ヘッドのそれぞれは、ここで説明する液体噴射記録装置のうちの一部である。そこで、ヘッドチップおよび液体噴射ヘッドのそれぞれに関しては、以下で併せて説明する。 It should be noted that each of the head chip and the liquid jet head according to an embodiment of the present disclosure is part of the liquid jet recording apparatus described here. Therefore, the head chip and the liquid jet head will be described together below.

ここで説明する液体噴射記録装置は、例えば、被記録媒体に画像を形成するプリンタである。被記録媒体の種類は、特に限定されないが、例えば、紙、フィルム、布およびタイルなどである。 The liquid jet recording apparatus described here is, for example, a printer that forms an image on a recording medium. The type of recording medium is not particularly limited, but includes, for example, paper, film, cloth and tile.

<1-1.全体構成>
最初に、液体噴射記録装置の全体構成に関して説明する。
<1-1. Overall configuration>
First, the overall configuration of the liquid jet recording apparatus will be described.

図1は、液体噴射記録装置(インクジェットプリンタ)の一具体例であるプリンタ1の斜視構成を表している。図1では、筐体10の外縁(輪郭)を破線で示している。 FIG. 1 shows a perspective configuration of a printer 1, which is a specific example of a liquid jet recording apparatus (inkjet printer). In FIG. 1, the outer edge (contour) of the housing 10 is indicated by a dashed line.

このプリンタ1は、例えば、記録用の液体(インク9)を用いるインクジェットプリンタである。具体的には、プリンタ1は、例えば、図1に示したように、筐体10の内部に、一対の搬送機構2a,2bと、インクタンク3と、インクジェットヘッド4と、供給チューブ50と、走査機構6とを備えている。 This printer 1 is, for example, an inkjet printer that uses a recording liquid (ink 9). Specifically, for example, as shown in FIG. 1, the printer 1 includes a pair of transport mechanisms 2a and 2b, an ink tank 3, an inkjet head 4, a supply tube 50, and A scanning mechanism 6 is provided.

[搬送機構およびインクタンク]
搬送機構2a,2bは、プリンタ1に投入された記録紙Pを搬送方向D(X軸方向)に搬送させる機構であり、例えば、いずれもグリッドローラ21およびピンチローラ22を含んでいる。インクタンク3は、インク9を貯蔵する器である。ここで、インクタンク3は、本開示の「収容部」の一実施形態である。ここでは、プリンタ1は、例えば互いに異なる色のインク9を収容する4個のインクタンク3(3Y,3M,3C,3K)を備えており、インクタンク3Y,3M,3C,3Kのそれぞれは、例えば、イエロー(Y)のインク9、マゼンタ(M)のインク9、シアン(C)のインク9およびブラック(K)のインク9のそれぞれを収容している。
[Conveyance Mechanism and Ink Tank]
The transport mechanisms 2a and 2b are mechanisms for transporting the recording paper P loaded into the printer 1 in the transport direction D (X-axis direction). The ink tank 3 is a vessel that stores ink 9 . Here, the ink tank 3 is an embodiment of the "accommodating portion" of the present disclosure. Here, the printer 1 includes, for example, four ink tanks 3 (3Y, 3M, 3C, 3K) containing inks 9 of different colors. Each of the ink tanks 3Y, 3M, 3C, 3K For example, it contains yellow (Y) ink 9, magenta (M) ink 9, cyan (C) ink 9, and black (K) ink 9, respectively.

[インクジェットヘッドおよび供給チューブ]
インクジェットヘッド4は、供給チューブ50から供給される液滴状のインク9を記録紙Pに噴射する液体噴射ヘッドであり、例えば、エッジシュートタイプのインクジェットヘッドである。エッジシュートタイプのインクジェットヘッド4では、例えば、後述するように、複数のチャネルC1のそれぞれが所定の方向(例えば、Z軸方向)に延在しており、複数のノズル孔H2のそれぞれから複数のチャネルC1のそれぞれの延在方向と同様の方向(Z軸方向)にインク9が噴射される(図3参照)。すなわち、各チャネルC1の延在方向と各ノズル孔H2からインク9が噴射される方向とは、互いに一致している。
[Inkjet head and supply tube]
The inkjet head 4 is a liquid ejecting head that ejects ink droplets 9 supplied from a supply tube 50 onto the recording paper P, and is, for example, an edge shoot type inkjet head. In the edge shoot type inkjet head 4, for example, as will be described later, each of the plurality of channels C1 extends in a predetermined direction (for example, the Z-axis direction), and each of the plurality of nozzle holes H2 has a plurality of channels C1. Ink 9 is jetted in the same direction (Z-axis direction) as the extending direction of each channel C1 (see FIG. 3). That is, the extending direction of each channel C1 and the direction in which the ink 9 is ejected from each nozzle hole H2 match each other.

ここでは、プリンタ1は、例えば、図1に示したように、互いに異なる色のインク9を噴射する4個のインクジェットヘッド4(4Y,4M,4C,4K)を備えている。なお、インクジェットヘッド4の詳細な構成に関しては、後述する(図2参照)。 Here, the printer 1 is provided with four inkjet heads 4 (4Y, 4M, 4C, 4K) for ejecting inks 9 of different colors, for example, as shown in FIG. A detailed configuration of the inkjet head 4 will be described later (see FIG. 2).

[走査機構]
走査機構6は、搬送方向Dと交差する方向においてインクジェットヘッド4を走査させる機構であり、例えば、一対のガイドレール61a,61bと、キャリッジ62と、駆動機構63とを含んでいる。例えば、キャリッジ62は、例えば、基台62aおよび壁部62bを含んでおり、インクジェットヘッド4を支持しながらガイドレール61a,61bに沿って搬送方向Dと交差する方向に移動可能である。駆動機構63は、例えば、一対のプーリ631a,631bと、無端状のベルト632と、駆動モータ633とを含んでおり、そのベルト632は、例えば、キャリッジ62に連結されている。
[Scanning Mechanism]
The scanning mechanism 6 is a mechanism for scanning the inkjet head 4 in a direction intersecting the transport direction D, and includes, for example, a pair of guide rails 61 a and 61 b, a carriage 62 and a drive mechanism 63 . For example, the carriage 62 includes a base 62a and a wall portion 62b, and is movable in a direction intersecting the transport direction D along guide rails 61a and 61b while supporting the inkjet head 4. As shown in FIG. The drive mechanism 63 includes, for example, a pair of pulleys 631a and 631b, an endless belt 632, and a drive motor 633. The belt 632 is connected to the carriage 62, for example.

<1-2.液体噴射ヘッドの構成>
図2は、図1に示したインクジェットヘッド4(4Y,4M,4C,4K)の斜視構成を拡大して表している。
<1-2. Configuration of Liquid Jet Head>
FIG. 2 shows an enlarged perspective view of the inkjet head 4 (4Y, 4M, 4C, 4K) shown in FIG.

このインクジェットヘッド4は、例えば、図2に示したように、固定板40と、インクジェットヘッドチップ41と、供給機構42と、制御機構43と、ベースプレート44とを備えている。固定板40の一面には、例えば、インクジェットヘッドチップ41と、供給機構42(後述する流路部材42a)と、ベースプレート44とが固定されている。ここで、インクジェットヘッドチップ41は、本開示の「ヘッドチップ」の一実施形態である。 The inkjet head 4 includes, for example, a fixing plate 40, an inkjet head chip 41, a supply mechanism 42, a control mechanism 43, and a base plate 44, as shown in FIG. An inkjet head chip 41 , a supply mechanism 42 (a channel member 42 a described later), and a base plate 44 are fixed to one surface of the fixed plate 40 , for example. Here, the inkjet head chip 41 is one embodiment of the "head chip" of the present disclosure.

[インクジェットヘッドチップ]
インクジェットヘッドチップ41は、インク9を噴射するインクジェットヘッド4の主要部である。なお、インクジェットヘッドチップ41の詳細な構成に関しては、後述する(図3~図5参照)。
[Inkjet head chip]
The inkjet head chip 41 is the main part of the inkjet head 4 that ejects the ink 9 . The detailed configuration of the inkjet head chip 41 will be described later (see FIGS. 3 to 5).

[供給機構]
供給機構42は、供給チューブ50を介して供給されたインク9をインクジェットヘッドチップ41(後述するインク導入孔410a:図3および図4参照)に供給する。この供給機構42は、例えば、インク連結管42cを介して互いに連結された流路部材42aおよび圧力緩衝器42bを含んでいる。流路部材42aはインク9が流れる流路であり、そのインク9の貯留室を有する圧力緩衝器42bには、例えば、供給チューブ50が取り付けられている。
[Supply Mechanism]
The supply mechanism 42 supplies the ink 9 supplied through the supply tube 50 to the inkjet head chip 41 (an ink introduction hole 410a to be described later: see FIGS. 3 and 4). The supply mechanism 42 includes, for example, a channel member 42a and a pressure damper 42b which are connected to each other via an ink connection pipe 42c. The flow path member 42a is a flow path through which the ink 9 flows, and a supply tube 50, for example, is attached to the pressure buffer 42b having a storage chamber for the ink 9. As shown in FIG.

[制御機構]
制御機構43は、例えば、回路基板43aと、駆動回路43bと、フレキシブル基板43cとを含んでいる。回路基板43aは、例えば、インクジェットヘッドチップ41を駆動させる駆動回路43bを含んでおり、その駆動回路43bは、例えば、集積回路(IC:Integrated Circuit)などを含んでいる。フレキシブル基板43cは、駆動回路43bとインクジェットヘッドチップ41(後述する駆動電極Ed:図5参照)とを互いに電気的に接続させている。ここでは図示していないが、フレキシブル基板43cは、例えば、駆動回路43bおよび複数の駆動電極Edのそれぞれに接続された複数の引き出し電極を含んでいる。
[Control mechanism]
The control mechanism 43 includes, for example, a circuit board 43a, a drive circuit 43b, and a flexible board 43c. The circuit board 43a includes, for example, a drive circuit 43b for driving the inkjet head chip 41, and the drive circuit 43b includes, for example, an integrated circuit (IC). The flexible substrate 43c electrically connects the drive circuit 43b and the inkjet head chip 41 (drive electrodes Ed, which will be described later; see FIG. 5) to each other. Although not shown here, the flexible substrate 43c includes, for example, a plurality of extraction electrodes connected respectively to the drive circuit 43b and the plurality of drive electrodes Ed.

<1-3.ヘッドチップの構成>
図3では、インクジェットヘッドチップ41の一連の構成要素が互いに組み合わされた状態を示している。一方、図4では、インクジェットヘッドチップ41の一連の構成要素を見やすくするために、その一連の構成要素が互いに離間された状態を示している。図5では、複数のノズル孔H2を破線で示している。図3では、フレキシブル基板43cの一部の輪郭だけを破線で示している。
<1-3. Configuration of Head Chip>
FIG. 3 shows a state in which a series of components of the inkjet head chip 41 are combined with each other. On the other hand, FIG. 4 shows a state in which the series of constituent elements of the inkjet head chip 41 are separated from each other in order to facilitate viewing of the series of constituent elements. In FIG. 5, the plurality of nozzle holes H2 are indicated by dashed lines. In FIG. 3, only a part of the outline of the flexible substrate 43c is indicated by a dashed line.

このインクジェットヘッドチップ41は、例えば、図3および図4に示したように、カバープレート410と、アクチュエータプレート411と、ノズルプレート(噴射孔プレート)412と、支持プレート413とを含んでいる。カバープレート410およびアクチュエータプレート411は、互いに重ねられている。ノズルプレート412は、例えば支持プレート413に設けられた嵌合孔413aにカバープレート410およびアクチュエータプレート411が嵌め込まれた状態において、その支持プレート413に当接されている。 The inkjet head chip 41 includes, for example, a cover plate 410, an actuator plate 411, a nozzle plate (ejection hole plate) 412, and a support plate 413, as shown in FIGS. Cover plate 410 and actuator plate 411 are stacked on top of each other. The nozzle plate 412 is in contact with the support plate 413 in a state in which the cover plate 410 and the actuator plate 411 are fitted in, for example, fitting holes 413a provided in the support plate 413 .

カバープレート410は、例えば接着剤を介してアクチュエータプレート411に貼り付けられている。ノズルプレート412は、Z軸方向におけるカバープレート410およびアクチュエータプレート411の一端部に接着剤を介して取り付けられている。 The cover plate 410 is attached to the actuator plate 411 with an adhesive, for example. The nozzle plate 412 is attached to one end of the cover plate 410 and the actuator plate 411 in the Z-axis direction via an adhesive.

[アクチュエータプレート]
アクチュエータプレート411は、複数のノズル孔H2からインク9を噴射させるために電気的に駆動される部材である。
[Actuator plate]
The actuator plate 411 is a member that is electrically driven to eject the ink 9 from the multiple nozzle holes H2.

アクチュエータプレート411は、複数のチャネルC1を画定する複数の駆動壁Wdを含んでいる。ここで、この「チャネルC1」が、本開示の「溝」の一具体例に対応し、「駆動壁Wd」が、本開示の「側壁」の一具体例に対応する。 Actuator plate 411 includes a plurality of drive walls Wd that define a plurality of channels C1. Here, the "channel C1" corresponds to a specific example of the "groove" of the present disclosure, and the "drive wall Wd" corresponds to a specific example of the "side wall" of the present disclosure.

このアクチュエータプレート411は、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)などの圧電材料(後述の図6の圧電体粒子411P)のうちのいずれか1種類または2種類以上を含んでおり、より具体的には、Y軸方向における分極方向が一方向となるように設定された1枚の圧電基板である(カンチレバータイプまたはモノポールタイプ)。各チャネルC1は、非貫通溝であり、複数の噴射チャネルC1eおよび複数のダミーチャネル(非噴射チャネル)C1dは、例えば、X軸方向において交互に配列されている。各噴射チャネルC1eは、各ノズル孔H2に連通されており、インク9に圧力を付与する圧力室として機能する。言い換えると、噴射チャネルC1eにはインク9が充填される一方、ダミーチャネルC1dにはインク9が充填されないようになっている。また、図5に示したように、各噴射チャネルC1eは、後述するノズルプレート412におけるノズル孔H2と連通している一方、各ダミーチャネルC1dはノズル孔H2には連通しておらず、後述するカバープレート410によって上方から覆われている。 The actuator plate 411 includes, for example, one or more of piezoelectric materials such as lead zirconate titanate (PZT) (piezoelectric particles 411P in FIG. 6 to be described later). is a single piezoelectric substrate (cantilever type or monopole type) set so that the polarization direction in the Y-axis direction is unidirectional. Each channel C1 is a non-through groove, and a plurality of ejection channels C1e and a plurality of dummy channels (non-ejection channels) C1d are arranged alternately in the X-axis direction, for example. Each ejection channel C1e communicates with each nozzle hole H2 and functions as a pressure chamber that applies pressure to the ink 9 . In other words, the ejection channel C1e is filled with the ink 9, while the dummy channel C1d is not filled with the ink 9. Further, as shown in FIG. 5, each injection channel C1e communicates with a nozzle hole H2 in the nozzle plate 412, which will be described later, while each dummy channel C1d does not communicate with the nozzle hole H2, which will be described later. It is covered from above by a cover plate 410 .

複数のチャネルC1のそれぞれは、Z軸方向において、アクチュエータプレート411の一端部(ノズルプレート412に近い側の端部)から他端部(ノズルプレート412から遠い側の端部)に向かって延在している。ただし、複数のダミーチャネルC1dのそれぞれは、例えば、アクチュエータプレート411の他端部まで延在し、他端部で終端している。これに対して、複数の噴射チャネルC1eのそれぞれは、例えば、アクチュエータプレート411の他端部まで延在しておらず、途中(一端部と他端部との間の位置)で終端している。 Each of the plurality of channels C1 extends from one end of the actuator plate 411 (the end closer to the nozzle plate 412) toward the other end (the end farther from the nozzle plate 412) in the Z-axis direction. is doing. However, each of the plurality of dummy channels C1d, for example, extends to the other end of the actuator plate 411 and terminates at the other end. On the other hand, each of the plurality of injection channels C1e, for example, does not extend to the other end of the actuator plate 411 and terminates midway (position between one end and the other end). .

なお、例えば、図3および図4に示したように、各噴射チャネルC1eを画定する内壁面C1mは、ノズルプレート412から遠い側における各噴射チャネルC1eの端部近傍において切り上がっている。 For example, as shown in FIGS. 3 and 4, the inner wall surface C1m defining each injection channel C1e is rounded near the end of each injection channel C1e on the far side from the nozzle plate 412. As shown in FIG.

アクチュエータプレート411は、例えば、一端部側に位置すると共に複数の噴射チャネルC1eおよび複数のダミーチャネルC1dの双方が設けられている第1チャネル形成部分411aと、他端部側に位置すると共に複数の噴射チャネルC1eが設けられておらずに複数のダミーチャネルC1dだけが設けられている第2チャネル形成部分411bとを含んでいる。上記した複数の駆動壁Wdは、複数のチャネルC1(複数の噴射チャネルC1eおよび複数のダミーチャネルC1d)を画定しているため、上記した第1チャネル形成部分411aに設けられている。 The actuator plate 411 includes, for example, a first channel forming portion 411a located on one end side and provided with both a plurality of injection channels C1e and a plurality of dummy channels C1d, and a first channel forming portion 411a located on the other end side and having a plurality of and a second channel forming portion 411b in which no ejection channel C1e is provided and only a plurality of dummy channels C1d are provided. Since the plurality of drive walls Wd described above define the plurality of channels C1 (the plurality of ejection channels C1e and the plurality of dummy channels C1d), they are provided in the first channel forming portion 411a described above.

複数の駆動壁Wdのそれぞれの側面には、Z軸方向に延在する駆動電極Edが設けられている。駆動電極Edは、複数の噴射チャネルC1eを圧力室として機能させるために、駆動壁Wdを電気的に駆動(変形)させる電極である。ここで、駆動電極Edは、本開示の「電極」の一具体例に対応する。 A driving electrode Ed extending in the Z-axis direction is provided on each side surface of the plurality of driving walls Wd. The drive electrode Ed is an electrode that electrically drives (deforms) the drive wall Wd in order to cause the plurality of ejection channels C1e to function as pressure chambers. Here, the drive electrode Ed corresponds to a specific example of the "electrode" of the present disclosure.

この駆動電極Edは、噴射チャネルC1eを画定する駆動壁Wdの側面に設けられた一対のコモン電極Edcと、ダミーチャネルC1dを画定する駆動壁Wdの側面に設けられた一対のアクティブ電極Edaとを含んでいる。アクティブ電極Edaおよびコモン電極Edcのそれぞれは、例えば、カバープレート410とアクチュエータプレート411との界面から各内壁面の途中まで延在している。図3および図4のそれぞれでは、複数の駆動電極Edの図示を省略している。 The drive electrodes Ed include a pair of common electrodes Edc provided on the side surfaces of the drive walls Wd defining the ejection channel C1e, and a pair of active electrodes Eda provided on the side surfaces of the drive walls Wd defining the dummy channel C1d. contains. Each of the active electrode Eda and the common electrode Edc extends, for example, from the interface between the cover plate 410 and the actuator plate 411 to the middle of each inner wall surface. In each of FIGS. 3 and 4, illustration of the plurality of drive electrodes Ed is omitted.

複数の駆動電極Edおよび回路基板43a(駆動回路43b)は、上記したように、フレキシブル基板43cを介して互いに接続されている。これにより、駆動回路43bからフレキシブル基板43cを介して複数の駆動電極Edに駆動電圧が印加される。この場合には、例えば、コモン電極Edcおよびアクティブ電極Edaのそれぞれに、互いに極性が異なる駆動電圧が印加される。コモン電極Edcは、例えば接地電位(GND電位)に接続され、アクティブ電極Edaは、所定の電位に接続される。コモン電極Edcは、例えば、マイナスの電位に接続されていてもよい。 The plurality of drive electrodes Ed and the circuit board 43a (drive circuit 43b) are connected to each other through the flexible board 43c as described above. As a result, a drive voltage is applied to the plurality of drive electrodes Ed from the drive circuit 43b through the flexible substrate 43c. In this case, for example, drive voltages having different polarities are applied to each of the common electrode Edc and the active electrode Eda. The common electrode Edc is connected to, for example, a ground potential (GND potential), and the active electrode Eda is connected to a predetermined potential. The common electrode Edc may be connected to a negative potential, for example.

図6は、駆動壁Wdを構成する圧電体粒子411Pと、駆動壁Wdの側面に設けられた駆動電極Edの構成を表している。本実施の形態では、この駆動電極Edが、蒸着膜DFと、この蒸着膜DFを覆うめっき膜PFとを含んでいる。したがって、駆動壁Wdの側面に蒸着膜DFが露出されにくくなる。詳細は後述するが、これにより、駆動電極Edの腐食に起因したインクジェットヘッドチップ41の信頼性の低下を抑えることが可能となる。 FIG. 6 shows the configuration of the piezoelectric particles 411P forming the driving wall Wd and the driving electrodes Ed provided on the side surface of the driving wall Wd. In the present embodiment, this drive electrode Ed includes a vapor deposition film DF and a plated film PF covering this vapor deposition film DF. Therefore, the deposition film DF is less likely to be exposed on the side surface of the drive wall Wd. Although details will be described later, this makes it possible to suppress deterioration in the reliability of the inkjet head chip 41 due to corrosion of the drive electrodes Ed.

駆動壁Wdは、例えば、複数の圧電体粒子411Pにより構成されている。圧電体粒子411Pは、例えばPZTにより構成されており、その粒径は例えば、1μm~3μm程度である。蒸着膜DFは、後述するように、例えば斜方蒸着法等の蒸着法により成膜されたものである。この蒸着膜DFは、例えば、密着膜DF1および耐腐食膜DF2を含んでいる。密着膜DF1および耐腐食膜DF2は、複数の圧電体粒子411P各々の表面の少なくとも一部を覆っており、圧電体粒子411P側から、密着膜DF1および耐腐食膜DF2の順に設けられている。密着膜DF1は、耐腐食膜DF2を圧電体粒子411Pの表面に密着させるためのものであり、圧電体粒子411Pに対して高い密着性を有している。密着膜DF1は、例えば、チタン(Ti),銅(Cu),ニッケル(Ni)およびクロム(Cr)等のうちの少なくとも1つを含んでいる。耐腐食膜DF2は、密着膜DF1を介して圧電体粒子411Pの表面の少なくとも一部を覆っている。この耐腐食膜DF2は、インク9に対して高い耐腐食性を有していることが好ましい。耐腐食膜DF2は、例えば、金(Au),白金(Pt)またはパラジウム(Pd)等により構成されている。このような耐腐食膜DF2を設けることにより、駆動電極Edの腐食を抑えることができる。密着膜DF1および耐腐食膜DF2は、例えば、互いに略同じ厚みを有している。 The driving wall Wd is composed of, for example, a plurality of piezoelectric particles 411P. The piezoelectric particles 411P are made of PZT, for example, and have a particle size of about 1 μm to 3 μm, for example. The vapor deposition film DF is formed by a vapor deposition method such as an oblique vapor deposition method, as will be described later. This deposited film DF includes, for example, an adhesion film DF1 and an anti-corrosion film DF2. The adhesion film DF1 and the corrosion-resistant film DF2 cover at least part of the surface of each of the plurality of piezoelectric particles 411P, and are provided in the order of the adhesion film DF1 and the corrosion-resistant film DF2 from the piezoelectric particle 411P side. The adhesion film DF1 is for adhering the corrosion-resistant film DF2 to the surface of the piezoelectric particles 411P, and has high adhesion to the piezoelectric particles 411P. The adhesion film DF1 contains, for example, at least one of titanium (Ti), copper (Cu), nickel (Ni), chromium (Cr), and the like. The corrosion-resistant film DF2 covers at least part of the surface of the piezoelectric particles 411P via the adhesion film DF1. This anti-corrosion film DF2 preferably has high corrosion resistance to the ink 9 . The corrosion resistant film DF2 is made of, for example, gold (Au), platinum (Pt), palladium (Pd), or the like. By providing such a corrosion-resistant film DF2, corrosion of the drive electrode Ed can be suppressed. The adhesion film DF1 and the corrosion resistant film DF2 have substantially the same thickness, for example.

めっき膜PFは、後述するように、例えば無電解めっき法等のめっき法により耐腐食膜DF2を成長させたものである。即ち、めっき膜PFは、耐腐食膜DF2の構成材料と同じ材料により構成されており、例えば、金(Au),白金(Pt)またはパラジウム(Pd)等により構成されている。このようなめっき膜PFを設けることにより駆動電極Edの耐食性をより効果的に向上させることができる。めっき膜PFの構成材料は、密着膜DF1の構成材料と異なるものである。このめっき膜PFの少なくとも一部は、耐腐食膜DF2から露出された密着膜DF1を覆っている。例えば、一の断面(例えば、図6)では、耐腐食膜DF2の厚みおよびめっき膜PFの厚みの和は、密着膜DF1の厚みよりも大きくなっている。めっき膜PFの厚みを大きくすることにより、耐腐食膜DF2から露出された密着膜DF1をより確実に覆うことができる。めっき膜PFの厚みは、例えば、圧電体粒子411Pの粒径の大きさの1/2以上であることが好ましい。これにより、圧電体粒子411Pの表面全体が覆われやすくなる。よって、耐腐食膜DF2から露出された密着膜DF1をより確実に覆うことができる。 The plated film PF is obtained by growing a corrosion resistant film DF2 by a plating method such as an electroless plating method, as will be described later. That is, the plated film PF is made of the same material as the corrosion resistant film DF2, such as gold (Au), platinum (Pt), or palladium (Pd). By providing such a plating film PF, the corrosion resistance of the drive electrode Ed can be improved more effectively. The constituent material of the plating film PF is different from the constituent material of the adhesion film DF1. At least part of the plating film PF covers the adhesion film DF1 exposed from the corrosion resistant film DF2. For example, in one cross section (eg, FIG. 6), the sum of the thickness of the corrosion resistant film DF2 and the thickness of the plating film PF is larger than the thickness of the adhesion film DF1. By increasing the thickness of the plating film PF, the adhesion film DF1 exposed from the corrosion resistant film DF2 can be more reliably covered. The thickness of the plating film PF is preferably, for example, 1/2 or more of the size of the particle size of the piezoelectric particles 411P. This makes it easier to cover the entire surface of the piezoelectric particles 411P. Therefore, the adhesion film DF1 exposed from the corrosion resistant film DF2 can be more reliably covered.

[カバープレート]
カバープレート410は、アクチュエータプレート411を被覆する部材である。アクチュエータプレート411に対向してカバープレート410が設けられている。
[Cover plate]
The cover plate 410 is a member that covers the actuator plate 411 . A cover plate 410 is provided to face the actuator plate 411 .

具体的には、カバープレート410は、例えば、図3~図5に示したように、複数のスリット410bが設けられた窪み状のインク導入孔410aを有している。各スリット410bは、例えば、各チャネルC1の延在方向(Z軸方向)と同様の方向に延在する貫通溝である。 Specifically, as shown in FIGS. 3 to 5, for example, the cover plate 410 has a concave ink introduction hole 410a provided with a plurality of slits 410b. Each slit 410b is, for example, a through groove extending in the same direction as the extending direction (Z-axis direction) of each channel C1.

各スリット410bの位置は、各噴射チャネルC1eの位置に対応しているため、インク導入孔410aは、各スリット410bを介して各噴射チャネルC1eに連通されている。これにより、各噴射チャネルC1eに各スリット410bを介してインク9が供給されるため、その複数の噴射チャネルC1eにインク9が充填される。 Since the position of each slit 410b corresponds to the position of each ejection channel C1e, the ink introduction hole 410a communicates with each ejection channel C1e via each slit 410b. As a result, the ink 9 is supplied to each of the ejection channels C1e through the slits 410b, so that the plurality of ejection channels C1e are filled with the ink 9. As shown in FIG.

[ノズルプレート]
ノズルプレート412は、貫通口である複数のノズル孔H2を有しており、アクチュエータプレート411に対向している。複数のノズル孔H2は、例えば、X軸方向において間隔を隔てながら配列されており、ノズル孔H2の開口形状、すなわちZ軸方向から見たノズル孔H2の形状は、例えば、円形である。ノズル孔H2の内径は、例えば、インク9が噴射される方向において次第に小さくなっている。これにより、インク9の噴射速度および直進性が向上するからである。ノズルプレート412は、例えば、ポリイミドなどの絶縁性材料のうちのいずれか1種類または2種類以上を含んでいる。ノズルプレート412は、例えば、ステンレス鋼(SUS)などの導電性材料のうちのいずれか1種類または2種類以上を含んでいてもよい。
[Nozzle plate]
The nozzle plate 412 has a plurality of nozzle holes H2 that are through holes and faces the actuator plate 411 . The plurality of nozzle holes H2 are arranged, for example, at intervals in the X-axis direction, and the opening shape of the nozzle holes H2, that is, the shape of the nozzle holes H2 viewed from the Z-axis direction is, for example, circular. The inner diameter of the nozzle hole H2 is, for example, gradually reduced in the direction in which the ink 9 is ejected. This is because the ejection speed and straightness of the ink 9 are thereby improved. The nozzle plate 412 includes, for example, one or more of insulating materials such as polyimide. The nozzle plate 412 may include, for example, any one or more of conductive materials such as stainless steel (SUS).

[支持プレート]
支持プレート413は、例えば、図4に示したように、X軸方向に延在する嵌合孔413aを有しており、この嵌合孔413aには、例えば、カバープレート410およびアクチュエータプレート411が互いに積層された状態で嵌め込まれている。
[Support plate]
For example, as shown in FIG. 4, the support plate 413 has a fitting hole 413a extending in the X-axis direction. They are stacked and fitted together.

<1-4.ヘッドチップの製造方法>
図7は、インクジェットヘッドチップ41の製造方法の一例を工程順に表したものである。ここでは、図7を用いて、主にアクチュエータプレート411の製造工程を説明する。
<1-4. Manufacturing Method of Head Chip>
FIG. 7 shows an example of a method for manufacturing the inkjet head chip 41 in order of steps. Here, the manufacturing process of the actuator plate 411 will be mainly described with reference to FIG.

まず、PZT等の圧電材料からなる基板を準備し、この基板上にレジスト膜のパターンを形成する(ステップS1)。レジスト膜は、感光性樹脂材料を基板上に塗布して形成するようにしてもよく、あるいは、基板にレジストフィルムを貼り合わせるようにしてもよい。このレジスト膜のパターンは、例えば、フォトリソグラフィ法を用いて形成する。 First, a substrate made of a piezoelectric material such as PZT is prepared, and a resist film pattern is formed on the substrate (step S1). The resist film may be formed by coating a photosensitive resin material on the substrate, or by bonding a resist film to the substrate. The pattern of this resist film is formed using, for example, a photolithography method.

次いで、この基板に複数のチャネルC1を形成する(ステップS2)。このチャネルC1は、例えばダイサーを用いて、基板に溝加工を行うことにより形成する。 Next, a plurality of channels C1 are formed in this substrate (step S2). The channel C1 is formed by grooving the substrate using, for example, a dicer.

基板に複数のチャネルC1を形成した後、基板の表面およびチャネルC1の側面に蒸着膜DFを形成する(ステップS3)。蒸着膜DFは、例えば斜方蒸着法を用いて、密着膜DF1および耐腐食膜DF2の順に形成する。 After forming the plurality of channels C1 on the substrate, a vapor deposition film DF is formed on the surface of the substrate and the side surfaces of the channels C1 (step S3). The vapor deposition film DF is formed by, for example, an oblique vapor deposition method in order of the adhesion film DF1 and the anti-corrosion film DF2.

図8は、斜方蒸着法を用いて、チャネルC1の側面を構成する圧電体粒子411Pの表面に密着膜DF1および耐腐食膜DF2を形成する工程を表している。蒸着方向DDは、基板の表面に対する法線方向から傾いている。この蒸着方向DDから圧電体粒子411Pの表面に密着膜DF1および耐腐食膜DF2が形成される。斜方蒸着法を用いることにより、チャネルC1の側面の広い範囲にわたって蒸着膜DFを形成することができる。一方、蒸着法では、蒸着方向DDに対して圧電体粒子411Pの影となる部分には、蒸着膜DFがほとんど形成されない。したがって、密着膜DF1が耐腐食膜DF2から露出された部分(露出部分R)が多く生じる。蒸着方向DDを、基板面の法線方向に対して大きく傾けるに連れて、この露出部分Rは多くなる。 FIG. 8 shows a process of forming an adhesion film DF1 and a corrosion-resistant film DF2 on the surfaces of the piezoelectric particles 411P forming the side surfaces of the channel C1 using the oblique vapor deposition method. The deposition direction DD is inclined from the normal direction to the surface of the substrate. An adhesion film DF1 and an anti-corrosion film DF2 are formed on the surfaces of the piezoelectric particles 411P from the vapor deposition direction DD. By using the oblique vapor deposition method, the vapor deposition film DF can be formed over a wide range of side surfaces of the channel C1. On the other hand, in the vapor deposition method, the vapor deposition film DF is hardly formed in the shadow of the piezoelectric particles 411P with respect to the vapor deposition direction DD. Therefore, many portions (exposed portions R) of the adhesion film DF1 are exposed from the anti-corrosion film DF2. As the vapor deposition direction DD is greatly inclined with respect to the normal direction of the substrate surface, the exposed portion R increases.

チャネルC1の側面に蒸着膜DFを形成した後、基板表面のレジスト膜を除去する(ステップS4)。レジスト膜とともに、レジスト膜に付着した蒸着膜DFも除去される。このレジスト膜の除去工程は、いわゆる、リフトオフ法である。これにより、各チャネルC1の側面の蒸着膜DFが電気的に分離される。 After forming the vapor deposition film DF on the side surface of the channel C1, the resist film on the substrate surface is removed (step S4). Along with the resist film, the deposited film DF adhering to the resist film is also removed. This resist film removing step is a so-called lift-off method. Thereby, the deposited film DF on the side surface of each channel C1 is electrically isolated.

レジスト膜を除去した後、蒸着膜DFのバリ(不要な突起)を除去する(ステップS5)。ステップS5の後、蒸着膜DFの表面に形成された不動態膜を除去する工程を行うようにしてもよい。例えば、チタン(Ti)からなる密着膜DF1の表面には不動態膜が形成されやすい。この不動態膜は、例えば、フッ酸(HF)溶液等により除去することができる。不動態膜を除去しておくことにより、蒸着膜DF上に後述のめっき膜PFを形成しやすくなる。 After removing the resist film, burrs (unnecessary protrusions) of the vapor deposition film DF are removed (step S5). After step S5, a step of removing the passive film formed on the surface of the vapor deposition film DF may be performed. For example, a passive film is likely to be formed on the surface of the adhesion film DF1 made of titanium (Ti). This passivation film can be removed with, for example, a hydrofluoric acid (HF) solution. By removing the passivated film, it becomes easier to form a plated film PF, which will be described later, on the deposited film DF.

続いて、蒸着膜DFを覆うめっき膜PFを形成する(ステップS6)。これにより、チャネルC1の側面に駆動電極Edが形成される。このめっき膜PFは、例えば、還元型のめっき液を用いた無電解めっき法により形成する。この還元型のめっき液は、例えば、耐腐食膜DF2に含まれる金属と同じ金属を含んでいる。還元型のめっき液は、この他、例えば還元剤、錯化剤および安定剤などを含んでいる。このような還元型のめっき液を用いることにより、耐腐食膜DF2から等方的に成長するようにめっき膜PFが形成される。換言すれば、耐腐食膜DF2の厚付けが等方的になされる。これにより、露出部分R(図8)の密着膜DF1がめっき膜PFで覆われる。このめっき膜PFは、レジスト膜を除去した(ステップS4)後に形成するので、めっき膜PFにはバリが発生しにくい。 Subsequently, a plated film PF is formed to cover the deposited film DF (step S6). Thereby, the drive electrode Ed is formed on the side surface of the channel C1. This plating film PF is formed, for example, by an electroless plating method using a reducing plating solution. This reduced plating solution contains, for example, the same metal as the metal contained in the corrosion resistant film DF2. The reduction type plating solution also contains, for example, a reducing agent, a complexing agent and a stabilizer. By using such a reducing plating solution, the plating film PF is formed so as to isotropically grow from the corrosion resistant film DF2. In other words, the corrosion resistant film DF2 is isotropically thickened. Thereby, the adhesion film DF1 in the exposed portion R (FIG. 8) is covered with the plating film PF. Since the plating film PF is formed after the resist film is removed (step S4), burrs are less likely to occur on the plating film PF.

電解めっき法を用いてめっき膜PFを形成することも可能であるが、無電解めっき法を用いることにより、電解めっき法に比べてめっき膜PFの厚みの制御を行いやすくなる。 Although it is possible to form the plated film PF using an electrolytic plating method, the use of the electroless plating method makes it easier to control the thickness of the plated film PF than the electrolytic plating method.

このように、チャネルC1の側面に駆動電極Edを形成してアクチュエータプレート411を完成させた後、アクチュエータプレート411と他のプレート(例えば、カバープレート410およびノズルプレート412等)との組み立てを行う(ステップS7)。これにより、図3および図4等に示したインクジェットヘッドチップ41が完成する。 After completing the actuator plate 411 by forming the drive electrode Ed on the side surface of the channel C1 in this manner, the actuator plate 411 and other plates (for example, the cover plate 410 and the nozzle plate 412, etc.) are assembled ( step S7). As a result, the inkjet head chip 41 shown in FIGS. 3 and 4 is completed.

図9は、インクジェットヘッドチップ41の製造方法の他の例を表している。このように、ステップS1からステップS5までを上記図7で説明したのと同様に行った後、プレートの組み立て(ステップS7)およびめっき膜PFの形成(ステップS6)をこの順に行うようにしてもよい。ステップS7とステップS6との間に、蒸着膜DFの表面に形成された不動態膜を除去する工程を行うようにしてもよい。 FIG. 9 shows another example of the method of manufacturing the inkjet head chip 41. As shown in FIG. In this way, after steps S1 to S5 are performed in the same manner as described with reference to FIG. 7, plate assembly (step S7) and plating film PF formation (step S6) may be performed in this order. good. A step of removing the passive film formed on the surface of the vapor deposition film DF may be performed between step S7 and step S6.

<1-5.動作>
[プリンタの動作]
このプリンタ1では、搬送方向Dに記録紙Pが搬送されると共に、搬送方向Dと交差する方向においてインクジェットヘッド4が往復移動しながら記録紙Pにインク9を噴射する。これにより、記録紙Pに画像が記録される。
<1-5. Operation>
[Printer operation]
In this printer 1, the recording paper P is transported in the transport direction D, and the ink 9 is ejected onto the recording paper P while the inkjet head 4 reciprocates in the direction intersecting the transport direction D. As shown in FIG. Thus, an image is recorded on the recording paper P. FIG.

[インクジェットヘッドの動作]
このインクジェットヘッド4では、例えば、以下の手順により、せん断(シェア)モードを用いて記録紙Pにインク9が噴射される。
[Inkjet head operation]
The inkjet head 4 ejects the ink 9 onto the recording paper P using a shear mode, for example, according to the following procedure.

インクジェットヘッド4では、駆動回路43bがアクチュエータプレート411(複数のアクティブ電極Eda)に駆動電圧を印加する際に、その駆動回路43bがノズルプレート412に対応電圧を印加する。この場合には、圧電厚み滑り効果を利用して各駆動壁WdがY軸方向において屈曲変形する。これにより、各噴射チャネルC1eの容積が増大するため、各噴射チャネルC1eにインク9が誘導される。こののち、駆動電圧がゼロ(0V)になると共に、対応電圧もゼロ(0V)になると、各駆動壁Wdが元の状態に戻るように変形する。これにより、各噴射チャネルC1eの容積が減少することに起因して、各噴射チャネルC1eに誘導されたインク9が加圧されるため、各ノズル孔H2から記録紙Pにインク9が噴射される。 In the inkjet head 4, the drive circuit 43b applies a corresponding voltage to the nozzle plate 412 when the drive circuit 43b applies a drive voltage to the actuator plate 411 (the plurality of active electrodes Eda). In this case, each drive wall Wd bends and deforms in the Y-axis direction by utilizing the piezoelectric thickness sliding effect. As a result, the volume of each ejection channel C1e increases, so the ink 9 is guided to each ejection channel C1e. After that, when the drive voltage becomes zero (0V) and the corresponding voltage also becomes zero (0V), each drive wall Wd is deformed to return to its original state. As a result, the ink 9 guided to each ejection channel C1e is pressurized due to the decrease in the volume of each ejection channel C1e, so that the ink 9 is ejected from each nozzle hole H2 onto the recording paper P. .

<1-6.作用および効果>
本実施の形態のインクジェットヘッドチップ41、インクジェットヘッド4およびプリンタ1では、アクチュエータプレート411の駆動電極Edが、蒸着膜DF(密着膜DF1,耐腐食膜DF2)と蒸着膜DFを覆うめっき膜PFとを含んでいるので、蒸着膜DFが駆動壁Wdの側面に露出されにくくなる。これにより、駆動電極Edの腐食に起因したインクジェットヘッドチップ41の信頼性の低下を抑えることができる。以下、この作用効果について説明する。
<1-6. Action and effect>
In the inkjet head chip 41, the inkjet head 4, and the printer 1 of the present embodiment, the drive electrode Ed of the actuator plate 411 consists of the vapor deposition film DF (adhesion film DF1, anti-corrosion film DF2) and the plating film PF covering the vapor deposition film DF. , the vapor deposition film DF is less likely to be exposed on the side surface of the driving wall Wd. As a result, deterioration in reliability of the inkjet head chip 41 due to corrosion of the drive electrodes Ed can be suppressed. This action and effect will be described below.

例えば、図8に示したように、蒸着膜DFは、蒸着方向DDから形成されるので、蒸着方向DDに対して、圧電体粒子411Pの影となる部分にはほとんど蒸着膜DFが形成されない。換言すれば、蒸着源からの回り込みによって蒸着膜DFが形成されることはほとんどない。したがって、蒸着法のみでは、耐腐食膜DF2が密着膜DF1を十分に覆うことができず、密着膜DF1の露出部分Rが多く生じやすい。 For example, as shown in FIG. 8, since the vapor deposition film DF is formed in the vapor deposition direction DD, the vapor deposition film DF is hardly formed in the shadow of the piezoelectric particles 411P with respect to the vapor deposition direction DD. In other words, the vapor deposition film DF is hardly formed by the wraparound from the vapor deposition source. Therefore, the corrosion-resistant film DF2 cannot sufficiently cover the adhesion film DF1 only by the vapor deposition method, and many exposed portions R of the adhesion film DF1 are likely to occur.

仮に、蒸着法のみを用いて駆動電極Edを形成すると、密着膜DF1の露出部分Rが多いので、駆動壁Wdの側面に露出された密着膜DF1がインク9に触れやすくなる。この密着膜DF1は、耐腐食膜DF2に比べて耐腐食性が低いので、駆動電極Edが腐食するおそれがある。 If the drive electrodes Ed were formed only by vapor deposition, the adhesion films DF1 exposed on the side surfaces of the drive walls Wd would easily come into contact with the ink 9 because the exposed portions R of the adhesion films DF1 are large. Since the adhesion film DF1 has lower corrosion resistance than the corrosion-resistant film DF2, the drive electrode Ed may corrode.

これに対し、蒸着法を行った後、更に、めっき法を行って駆動電極Edを形成すると、めっき膜PFは等方的に形成されるので、圧電体粒子411Pの影となる露出部分Rもめっき膜PFで覆われる。これにより、密着膜DF1が耐腐食性の高いめっき膜PFで覆われ、密着膜DF1とインク9との接触に起因した駆動電極Edの腐食を抑えることができる。また、仮に、斜方蒸着法により形成した蒸着膜DFの膜質が低い場合でも、めっき膜PFにより駆動電極Edの膜質を維持することができる。 On the other hand, if the driving electrodes Ed are formed by plating after the vapor deposition, the plating film PF is isotropically formed, so that the exposed portions R that are the shadows of the piezoelectric particles 411P are also formed. It is covered with the plating film PF. As a result, the adhesion film DF1 is covered with the plating film PF having high corrosion resistance, and corrosion of the drive electrodes Ed due to contact between the adhesion film DF1 and the ink 9 can be suppressed. Further, even if the film quality of the vapor deposition film DF formed by the oblique vapor deposition method is low, the film quality of the drive electrode Ed can be maintained by the plated film PF.

また、還元型のめっき液を用いた無電解めっき法によりめっき膜PFを形成すると、耐腐食膜DF2から成長するようにめっき膜PFが形成される。換言すれば、耐腐食膜DF2の形成されていない部分には、めっき膜PFも形成されない。したがって、めっき膜PFのパターニング工程が不要となる。 Further, when the plating film PF is formed by an electroless plating method using a reducing plating solution, the plating film PF is formed so as to grow from the corrosion resistant film DF2. In other words, the plating film PF is also not formed on the portion where the corrosion resistant film DF2 is not formed. Therefore, the patterning process of the plated film PF becomes unnecessary.

以上のように本実施の形態のインクジェットヘッドチップ41では、アクチュエータプレート411の駆動電極Edが、蒸着膜DFを覆うめっき膜PF有しているので、蒸着膜DFが駆動壁Wdの側面に露出されにくくなる。したがって、蒸着膜DFが、比較的耐腐食性の低い密着膜DF1を含んでいても、インク9がこの密着膜DF1接することに起因した駆動電極Edの腐食を抑えることができる。これにより、駆動電極Edの腐食に起因した信頼性の低下が抑えられる。よって、インクジェットヘッドチップ41、インクジェットヘッド4およびプリンタ1の信頼性を向上させることが可能となる。 As described above, in the inkjet head chip 41 of the present embodiment, the drive electrode Ed of the actuator plate 411 has the plating film PF covering the vapor deposition film DF, so that the vapor deposition film DF is exposed on the side surface of the drive wall Wd. become difficult. Therefore, even if the deposited film DF includes the adhesion film DF1 with relatively low corrosion resistance, it is possible to suppress corrosion of the drive electrodes Ed caused by contact of the ink 9 with the adhesion film DF1. This suppresses deterioration in reliability due to corrosion of the drive electrode Ed. Therefore, the reliability of the inkjet head chip 41, the inkjet head 4 and the printer 1 can be improved.

また、還元型のめっき液を用いた無電解めっき法によりめっき膜PFを形成することにより、めっき膜PFのパターニング工程が不要となる。即ち、パターニング工程を追加することなく、密着膜DF1をめっき膜PFで覆うことが可能となる。よって、簡便な方法でインクジェットヘッドチップ41、インクジェットヘッド4およびプリンタ1の信頼性を向上させることができる。 Further, by forming the plating film PF by an electroless plating method using a reducing plating solution, the patterning process of the plating film PF becomes unnecessary. That is, the adhesion film DF1 can be covered with the plating film PF without adding a patterning step. Therefore, the reliability of the inkjet head chip 41, the inkjet head 4, and the printer 1 can be improved by a simple method.

更に、上記のめっき膜PFは、レジスト膜を除去した(図7,図9のステップS4)後に形成することが可能であり、めっき膜PFにはレジスト膜の除去に起因したバリ等が生じにくい。よって、バリの除去工程を追加することなく、めっき膜PFを形成することができる。 Furthermore, the plating film PF can be formed after the resist film is removed (step S4 in FIGS. 7 and 9), and the plating film PF is less likely to have burrs or the like due to the removal of the resist film. . Therefore, the plating film PF can be formed without adding a step of removing burrs.

<2.変形例>
図10は、変形例に係るインクジェットヘッドチップ41の要部の模式的な断面構成を表している。このインクジェットヘッドチップ41では、カバープレート410が、駆動電極Edに電気的に接続された配線410Wを有している。例えば、このカバープレート410にフレキシブル基板43c(図3参照)が接続される。即ち、カバープレート410の配線410Wを介して駆動電極Edとフレキシブル基板43cとが電気的に接続されるようになっている。このように、カバープレート410に配線410Wを設けることにより、配線の自由度を高めることができる。
<2. Variation>
FIG. 10 shows a schematic cross-sectional configuration of a main part of an inkjet head chip 41 according to a modification. In this inkjet head chip 41, the cover plate 410 has wirings 410W electrically connected to the drive electrodes Ed. For example, a flexible substrate 43c (see FIG. 3) is connected to this cover plate 410. As shown in FIG. That is, the wiring 410W of the cover plate 410 is used to electrically connect the drive electrodes Ed and the flexible substrate 43c. Thus, by providing the wiring 410W on the cover plate 410, the degree of freedom of wiring can be increased.

カバープレート410は、例えば、アクチュエータプレート411との対向面に配線410Wを有している。アクチュエータプレート411は、例えば、カバープレート410との対向面にパッド電極411Eを有している。このパッド電極411Eは駆動電極Edに接続されている。このパッド電極411Eに配線410Wが接することにより、駆動電極Edがパッド電極411Eを介して配線410Wに電気的に接続されるようになっている。 The cover plate 410 has wiring 410W on the surface facing the actuator plate 411, for example. The actuator plate 411 has a pad electrode 411E on the surface facing the cover plate 410, for example. This pad electrode 411E is connected to the drive electrode Ed. The drive electrode Ed is electrically connected to the wiring 410W through the pad electrode 411E by bringing the wiring 410W into contact with the pad electrode 411E.

このようにカバープレート410の配線410Wと、アクチュエータプレート411のパッド電極411Eとが接続されているインクジェットヘッドチップ41は、図9に示したように、プレートの組み立てを行った(ステップS8)後に、めっき膜PFを形成する(ステップS7)ことが好ましい。ステップS8の後にステップS7を行うことにより、配線410Wとパッド電極411Eとの接続部分を覆うようにめっき膜PFが形成される(図10)。即ち、配線410W、パッド電極411E各々の少なくとも一部がめっき膜PFで覆われる。これにより、配線410Wとパッド電極411Eとの電気的な接続の安定性を高めることができる。 The inkjet head chip 41, in which the wiring 410W of the cover plate 410 and the pad electrode 411E of the actuator plate 411 are connected in this manner, is assembled as shown in FIG. It is preferable to form the plated film PF (step S7). By performing step S7 after step S8, the plating film PF is formed so as to cover the connecting portion between the wiring 410W and the pad electrode 411E (FIG. 10). That is, at least part of each of the wiring 410W and the pad electrode 411E is covered with the plating film PF. This can improve the stability of the electrical connection between the wiring 410W and the pad electrode 411E.

図11に示したように、カバープレート410の配線410Wとアクチュエータプレート411のパッド電極411Eとを接続し、パッド電極411Eにフレキシブル基板43cを接続するようにしてもよい。例えば、パッド電極411Eおよび配線410Wは、コモン電極Edcに接続されている。カバープレート410に配線410Wを設けることにより、冗長性を高めることが可能となる。このようなインクジェットヘッドチップ41にも、配線410Wとパッド電極411Eとの接続部分を覆うようにめっき膜PFを形成することができる。 As shown in FIG. 11, the wiring 410W of the cover plate 410 and the pad electrode 411E of the actuator plate 411 may be connected, and the flexible substrate 43c may be connected to the pad electrode 411E. For example, the pad electrode 411E and wiring 410W are connected to the common electrode Edc. By providing the wiring 410W on the cover plate 410, redundancy can be enhanced. In such an inkjet head chip 41 as well, the plating film PF can be formed so as to cover the connecting portion between the wiring 410W and the pad electrode 411E.

<3.その他の変形例>
以上、実施の形態および変形例を挙げながら本開示に関して説明したが、本開示の態様は上記した実施の形態等において説明された態様に限定されず、種々の変形が可能である。
<3. Other modified examples>
Although the present disclosure has been described above with reference to the embodiment and modifications, the aspect of the present disclosure is not limited to the aspects described in the above-described embodiment and the like, and various modifications are possible.

具体的には、例えば、1個の液体噴射ヘッド(液体噴射ヘッドチップ)が1色の液体(インク)を噴射せずに、その1個の液体噴射ヘッドが互いに異なる複数色(例えば、2色など)の液体を噴射してもよい。 Specifically, for example, one liquid ejecting head (liquid ejecting head chip) does not eject one color of liquid (ink), and the one liquid ejecting head ejects a plurality of different colors (for example, two colors). etc.).

また、例えば、液体噴射ヘッドは、上記したエッジシュートタイプの液体噴射ヘッドに限定されず、サイドシュートタイプの液体噴射ヘッドでもよい。このサイドシュートタイプの液体噴射ヘッドでは、アクチュエータプレートに設けられた各チャネルが特定の方向に延在している場合において、ノズルプレートに設けられた各ノズル孔から各チャネルの延在方向と交差する方向にインクが噴射される。 Further, for example, the liquid ejecting head is not limited to the edge shoot type liquid ejecting head described above, and may be a side shoot type liquid ejecting head. In this side-shoot type liquid jet head, when each channel provided in the actuator plate extends in a specific direction, each nozzle hole provided in the nozzle plate intersects with the extending direction of each channel. Ink is ejected in a direction.

また、例えば、液体噴射ヘッドは、インクジェットヘッド4とインクタンク3との間の循環機構により、インク9が循環される循環式の液体噴射ヘッドであってもよく、非循環式の液体噴射ヘッドであってもよい。 Further, for example, the liquid ejecting head may be a circulating liquid ejecting head in which the ink 9 is circulated by a circulation mechanism between the inkjet head 4 and the ink tank 3, or may be a non-circulating liquid ejecting head. There may be.

また、上記実施の形態等では、いわゆるカンチレバータイプのアクチュエータプレート411について説明したが、アクチュエータプレート411は、シェブロンタイプであってもよい。このとき、アクチュエータプレート411は、例えば、Y軸方向の分極方向が異なる2枚の圧電基板の積層体により構成され、駆動電極Edは、駆動壁Wdの内壁面全面に設けられている。 Further, although the so-called cantilever type actuator plate 411 has been described in the above embodiments and the like, the actuator plate 411 may be of a chevron type. At this time, the actuator plate 411 is composed of, for example, a laminate of two piezoelectric substrates having different polarization directions in the Y-axis direction, and the drive electrodes Ed are provided on the entire inner wall surfaces of the drive walls Wd.

また、例えば、上記実施の形態等では、ノズル孔H2の開口形状が円形状である場合について説明したが、ノズル孔H2の開口形状は、例えば、楕円形状や、三角形状等の多角形状、星型形状など他の形状であってもよい。 Further, for example, in the above embodiment and the like, the case where the opening shape of the nozzle hole H2 is circular has been described, but the opening shape of the nozzle hole H2 may be, for example, an elliptical shape, a polygonal shape such as a triangular shape, or a star shape. Other shapes such as a mold shape may be used.

また、例えば、本開示の液体噴射ヘッドチップ、液体噴射ヘッドおよび液体噴射記録装置のそれぞれが適用される用途は、インクジェットプリンタに限定されず、他の用途でよい。他の用途は、例えば、ファクシミリおよびオンデマンド印刷機などの他の装置である。 Further, for example, applications to which the liquid jet head chip, liquid jet head, and liquid jet recording apparatus of the present disclosure are applied are not limited to inkjet printers, and may be other uses. Other applications are other devices such as facsimiles and print-on-demand machines, for example.

なお、本明細書中に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また、他の効果があってもよい。 Note that the effects described in this specification are merely examples and are not limited, and other effects may be provided.

また、本開示は、以下のような構成を取ることも可能である。
(1)
液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、前記液体を噴射するヘッドチップであって、
前記アクチュエータプレートは、
互いに側壁を介して配置された複数の溝と、
前記側壁に設けられるとともに、蒸着膜と前記蒸着膜を覆うめっき膜とを有する電極と
を含むヘッドチップ。
(2)
前記めっき膜は、金(Au),白金(Pt)およびパラジウム(Pd)のうちの少なくとも一つを含む
前記(1)に記載のヘッドチップ。
(3)
前記蒸着膜は、前記めっき膜の構成材料と異なる材料を含む密着膜と、前記めっき膜の構成材料と同じ材料を含む耐腐食膜とを含み、
前記耐腐食膜の厚みおよび前記めっき膜の厚みの和は、前記密着膜の厚みよりも大きくなっている
前記(1)または(2)に記載のヘッドチップ。
(4)
前記側壁は圧電材料を含み、
前記めっき膜は、前記圧電材料の粒径の大きさの1/2以上の厚みを有する
前記(1)ないし(3)のうちいずれか1つに記載のヘッドチップ。
(5)
更に、前記電極に電気的に接続された配線を有するとともに、前記アクチュエータプレートに対向して設けられたカバープレートを含み、
前記配線の少なくとも一部は、前記めっき膜に覆われている
前記(1)ないし(4)のうちいずれか1つに記載のヘッドチップ。
(6)
前記(1)ないし(5)のいずれか1つに記載のヘッドチップと、
前記ヘッドチップに前記液体を供給する供給機構と
を備えた液体噴射ヘッド。
(7)
前記(6)に記載の液体噴射ヘッドと、
前記液体を収容する収容部と
を備えた液体噴射記録装置。
(8)
液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、前記液体を噴射するヘッドチップの製造方法であって、
前記アクチュエータプレートを形成する工程は、
互いに側壁を介して複数の溝を形成する工程と、
前記側壁に、蒸着法およびめっき法をこの順に行い、電極を形成する工程と
を含むヘッドチップの製造方法。
(9)
前記側壁に、前記蒸着法により密着膜および耐腐食膜をこの順に形成した後、前記めっき法により前記耐腐食膜を成長させて前記電極を形成する
前記(8)に記載のヘッドチップの製造方法。
(10)
更に、前記めっき法を行う前に、前記密着膜の表面に形成された不動態膜を除去する工程を含む
前記(9)に記載のヘッドチップの製造方法。
(11)
前記めっき法では、還元型のめっき液を用いる
前記(9)または(10)に記載のヘッドチップの製造方法。
In addition, the present disclosure can also be configured as follows.
(1)
A head chip that ejects the liquid, comprising an actuator plate that applies pressure to the liquid,
The actuator plate is
a plurality of grooves arranged with sidewalls of each other;
and an electrode provided on the side wall and having a vapor deposition film and a plating film covering the vapor deposition film.
(2)
The head chip according to (1), wherein the plating film contains at least one of gold (Au), platinum (Pt) and palladium (Pd).
(3)
The vapor deposition film includes an adhesion film containing a material different from the constituent material of the plating film, and a corrosion resistant film containing the same material as the constituent material of the plating film,
The head chip according to (1) or (2), wherein the sum of the thickness of the corrosion resistant film and the thickness of the plating film is larger than the thickness of the adhesion film.
(4)
said sidewalls comprising a piezoelectric material;
The head chip according to any one of (1) to (3), wherein the plated film has a thickness equal to or more than half the grain size of the piezoelectric material.
(5)
a cover plate having wiring electrically connected to the electrodes and provided opposite to the actuator plate;
The head chip according to any one of (1) to (4), wherein at least part of the wiring is covered with the plating film.
(6)
the head chip according to any one of (1) to (5);
and a supply mechanism for supplying the liquid to the head chip.
(7)
the liquid jet head according to (6);
A liquid jet recording apparatus comprising: a storage section that stores the liquid.
(8)
A method for manufacturing a head chip that includes an actuator plate that applies pressure to a liquid and ejects the liquid,
The step of forming the actuator plate includes:
forming a plurality of trenches with sidewalls from each other;
A method of manufacturing a head chip, comprising: forming an electrode on the side wall by performing a vapor deposition method and a plating method in this order.
(9)
The method of manufacturing a head chip according to (8) above, wherein after forming an adhesion film and a corrosion-resistant film on the sidewall in this order by the vapor deposition method, the corrosion-resistant film is grown by the plating method to form the electrode. .
(10)
The method of manufacturing a head chip according to (9), further comprising removing a passivation film formed on the surface of the adhesion film before performing the plating method.
(11)
The head chip manufacturing method according to (9) or (10), wherein the plating method uses a reduction plating solution.

1…プリンタ、3…インクタンク、4…インクジェットヘッド、9…インク、41…インクジェットヘッドチップ、42…供給機構、410…カバープレート、410W…配線、411…アクチュエータプレート、411P…圧電体粒子、411E…パッド電極、412…ノズルプレート、413…支持プレート、C1…チャネル、C1d…ダミーチャネル、C1e…噴射チャネル、Ed…駆動電極、DF…蒸着膜、DF1…密着膜、DF2…耐腐食膜、PF…めっき膜、Eda…アクティブ電極、Edc…コモン電極、H2…ノズル孔、P…記録紙、Wd…駆動壁。 Reference Signs List 1 printer 3 ink tank 4 inkjet head 9 ink 41 inkjet head chip 42 supply mechanism 410 cover plate 410W wiring 411 actuator plate 411P piezoelectric particles 411E Pad electrode 412 Nozzle plate 413 Support plate C1 Channel C1d Dummy channel C1e Ejection channel Ed Drive electrode DF Deposition film DF1 Adhesion film DF2 Corrosion-resistant film PF Plating film, Eda: Active electrode, Edc: Common electrode, H2: Nozzle hole, P: Recording paper, Wd: Driving wall.

Claims (9)

液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、前記液体を噴射するヘッドチップであって、
前記アクチュエータプレートは、
互いに側壁を介して配置された複数の溝と、
前記側壁に設けられるとともに、斜方蒸着法により形成された蒸着膜と前記蒸着膜を覆うめっき膜とを有する電極と
を含み、
前記側壁が、圧電体粒子により構成されており、
前記蒸着膜は、前記めっき膜の構成材料と異なる材料を含む密着膜と、前記めっき膜の構成材料と同じ材料を含む耐腐食膜とを含み、
前記耐腐食膜の厚みおよび前記めっき膜の厚みの和は、前記密着膜の厚みよりも大きくなっている
ヘッドチップ。
A head chip that ejects the liquid, comprising an actuator plate that applies pressure to the liquid,
The actuator plate is
a plurality of grooves arranged with sidewalls of each other;
an electrode provided on the side wall and having a deposited film formed by an oblique deposition method and a plated film covering the deposited film;
the side walls are composed of piezoelectric particles,
The vapor deposition film includes an adhesion film containing a material different from the constituent material of the plating film, and a corrosion resistant film containing the same material as the constituent material of the plating film,
The head chip, wherein the sum of the thickness of the corrosion resistant film and the thickness of the plating film is greater than the thickness of the adhesion film.
前記めっき膜は、金(Au),白金(Pt)およびパラジウム(Pd)のうちの少なくとも一つを含む
請求項1に記載のヘッドチップ。
2. The head chip according to claim 1, wherein said plating film contains at least one of gold (Au), platinum (Pt) and palladium (Pd).
更に、前記電極に電気的に接続された配線を有するとともに、前記アクチュエータプレートに対向して設けられたカバープレートを含み、
前記配線の少なくとも一部は、前記めっき膜に覆われている
請求項1または請求項2に記載のヘッドチップ。
a cover plate having wiring electrically connected to the electrodes and provided opposite to the actuator plate;
3. The head chip according to claim 1, wherein at least part of said wiring is covered with said plating film.
請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のヘッドチップと、
前記ヘッドチップに前記液体を供給する供給機構と
を備えた液体噴射ヘッド。
a head chip according to any one of claims 1 to 3;
and a supply mechanism for supplying the liquid to the head chip.
請求項4に記載の液体噴射ヘッドと、
前記液体を収容する収容部と
を備えた液体噴射記録装置。
a liquid jet head according to claim 4;
A liquid jet recording apparatus comprising: a storage section that stores the liquid.
液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、前記液体を噴射するヘッドチップの製造方法であって、
前記アクチュエータプレートを形成する工程は、
互いに側壁を介して複数の溝を形成する工程と、
前記側壁に、斜方蒸着法およびめっき法をこの順に行い、蒸着膜とめっき膜とを有する電極を形成する工程と
を含み、
前記側壁を、圧電体粒子により構成し、
前記蒸着膜が、前記めっき膜の構成材料と異なる材料を含む密着膜と、前記めっき膜の構成材料と同じ材料を含む耐腐食膜とを、含むようにし、
前記耐腐食膜の厚みおよび前記めっき膜の厚みの和が、前記密着膜の厚みよりも大きくなるようにする
ヘッドチップの製造方法。
A method for manufacturing a head chip that includes an actuator plate that applies pressure to a liquid and ejects the liquid,
The step of forming the actuator plate includes:
forming a plurality of trenches with sidewalls from each other;
forming an electrode having a deposited film and a plated film on the sidewall by performing an oblique deposition method and a plating method in this order on the side wall;
The side walls are composed of piezoelectric particles,
wherein the deposited film includes an adhesion film containing a material different from the constituent material of the plating film and a corrosion resistant film containing the same material as the constituent material of the plating film;
A method of manufacturing a head chip, wherein the sum of the thickness of the corrosion resistant film and the thickness of the plating film is made larger than the thickness of the adhesion film.
前記側壁に、前記斜方蒸着法により前記密着膜および前記耐腐食膜をこの順に形成した後、前記めっき法により前記耐腐食膜を成長させて前記電極を形成する
請求項6に記載のヘッドチップの製造方法。
7. The head chip according to claim 6, wherein after forming the adhesive film and the anti-corrosion film on the sidewall in this order by the oblique vapor deposition method, the anti-corrosion film is grown by the plating method to form the electrodes. manufacturing method.
更に、前記めっき法を行う前に、前記密着膜の表面に形成された不動態膜を除去する工程を含む
請求項7に記載のヘッドチップの製造方法。
8. The method of manufacturing a head chip according to claim 7, further comprising a step of removing a passivation film formed on the surface of said adhesion film before performing said plating method.
前記めっき法では、還元型のめっき液を用いる
請求項7または請求項8に記載のヘッドチップの製造方法。
9. The method of manufacturing a head chip according to claim 7, wherein the plating method uses a reduction plating solution.
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