JP7193334B2 - HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD, LIQUID JET RECORDING APPARATUS, AND HEAD CHIP MANUFACTURING METHOD - Google Patents

HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD, LIQUID JET RECORDING APPARATUS, AND HEAD CHIP MANUFACTURING METHOD Download PDF

Info

Publication number
JP7193334B2
JP7193334B2 JP2018236901A JP2018236901A JP7193334B2 JP 7193334 B2 JP7193334 B2 JP 7193334B2 JP 2018236901 A JP2018236901 A JP 2018236901A JP 2018236901 A JP2018236901 A JP 2018236901A JP 7193334 B2 JP7193334 B2 JP 7193334B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
corrosion
adhesion film
head chip
adhesion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018236901A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020097186A (en
Inventor
仁 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SII Printek Inc
Original Assignee
SII Printek Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SII Printek Inc filed Critical SII Printek Inc
Priority to JP2018236901A priority Critical patent/JP7193334B2/en
Publication of JP2020097186A publication Critical patent/JP2020097186A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7193334B2 publication Critical patent/JP7193334B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2202/00Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/10Finger type piezoelectric elements

Description

本開示は、ヘッドチップおよびその製造方法、液体噴射ヘッドならびに液体噴射記録装置に関する。 The present disclosure relates to a head chip and its manufacturing method, a liquid jet head, and a liquid jet recording apparatus.

被記録媒体に画像を記録する記録装置として、液体噴射ヘッドを備えた液体噴射記録装置が知られており、その液体噴射ヘッドは、液体を噴射するヘッドチップを含んでいる。この液体噴射記録装置では、ヘッドチップから被記録媒体に液体が噴射されるため、その被記録媒体に画像が記録される。 2. Description of the Related Art A liquid jet recording apparatus having a liquid jet head is known as a recording apparatus for recording an image on a recording medium, and the liquid jet head includes a head chip for jetting liquid. In this liquid jet recording apparatus, liquid is jetted from the head chip onto the recording medium, so that an image is recorded on the recording medium.

このヘッドチップは、液体を噴射させるために電気的に駆動されるアクチュエータプレートを含んでいる。アクチュエータプレートには、複数のチャネルが設けられている。このチャネルの内壁には電極が設けられている(例えば、特許文献1参照)。 The head chip includes an actuator plate that is electrically driven to eject liquid. The actuator plate is provided with a plurality of channels. An electrode is provided on the inner wall of this channel (see Patent Document 1, for example).

特開2001-334657号公報JP-A-2001-334657

このアクチュエータプレートの電極が腐食すると、ヘッドチップの信頼性が低下するおそれがある。 If the electrode of the actuator plate corrodes, the reliability of the head chip may deteriorate.

そこで、信頼性を向上させることが可能なヘッドチップおよびその製造方法、並びに、そのヘッドチップを備えた液体噴射ヘッドおよび液体噴射記録装置を提供することが望まれている。 Therefore, it is desired to provide a head chip that can improve reliability, a method of manufacturing the same, and a liquid jet head and a liquid jet recording apparatus having the head chip.

本開示の一実施の形態に係るヘッドチップは、液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、液体を噴射するヘッドチップであって、アクチュエータプレートは、第1面および第1面と反対を向く第2面と、第1面に設けられた第1開口に連通するとともに、第1面から第2面に向かう方向に深さ方向を有するチャネルと、チャネルの内壁に設けられ、かつ、内壁の少なくとも一部を覆う第1密着膜と、第1密着膜の第1面側の一端から第2面側の他端まで覆う第1耐腐食膜とを含む電極とを有するものである。また、上記チャネルは、第1開口とともに、第2面に設けられた第2開口に連通しており、上記電極は、更に、第1密着膜よりも第2開口側に設けられた第2密着膜と、この第2密着膜を第2面側から上記深さ方向の少なくとも一部にわたって覆う第2耐腐食膜と、を含んでいる。 A head chip according to an embodiment of the present disclosure is a head chip that includes an actuator plate that applies pressure to a liquid and ejects the liquid, wherein the actuator plate has a first surface and a second surface facing away from the first surface. two surfaces, a channel communicating with a first opening provided in the first surface and having a depth direction in a direction from the first surface to the second surface; The electrode includes a first adhesion film covering a part thereof, and a first anti-corrosion film covering from one end of the first adhesion film on the first surface side to the other end on the second surface side of the first adhesion film. Further, the channel communicates with a second opening provided on the second surface together with the first opening, and the electrode further communicates with a second adhesion film provided on the second opening side of the first adhesion film. and a second anti-corrosion film covering at least part of the second adhesion film from the second surface side in the depth direction.

本開示の一実施形態の液体噴射ヘッドは、液体を噴射するヘッドチップと、そのヘッドチップに液体を供給する供給部と備え、そのヘッドチップが上記した本開示の一実施形態のヘッドチップと同様の構成を有するものである。 A liquid ejecting head according to an embodiment of the present disclosure includes a head chip that ejects liquid and a supply unit that supplies liquid to the head chip, and the head chip is the same as the head chip according to the embodiment of the present disclosure. It has a configuration of

本開示の一実施形態の液体噴射記録装置は、被記録媒体に液体を噴射する液体噴射ヘッドと、その液体を収容する収容部とを備え、その液体噴射ヘッドが上記した本開示の一実施形態の液体噴射ヘッドと同様の構成を有するものである。 A liquid jet recording apparatus according to an embodiment of the present disclosure includes a liquid jet head that jets liquid onto a recording medium, and a storage section that stores the liquid. has a configuration similar to that of the liquid jet head.

本開示の一実施形態のヘッドチップの製造方法は、液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、液体を噴射するヘッドチップの製造方法であって、アクチュエータプレートを形成する工程は、第1面および第1面と反対を向く第2面を有する圧電基板を準備する工程と、圧電基板の第1面に第1開口を形成するとともに、第1開口に連通させて第1面から第2面に向かう方向に深さ方向を有するチャネルを形成する工程と、チャネルの内壁に、蒸着法を用いて第1密着膜を形成する工程と、蒸着法を用いて、第1密着膜の第1面側の一端から第2面側の他端まで覆う第1耐腐食膜を形成し、第1密着膜および第1耐腐食膜を含む電極を形成する工程とを含むものである。また、上記チャネルが、第1開口とともに、第2面に設けられた第2開口に連通するようにし、上記電極が、更に、第1密着膜よりも第2開口側に設けられた第2密着膜と、この第2密着膜を第2面側から上記深さ方向の少なくとも一部にわたって覆う第2耐腐食膜と、を含むようにする。 A method of manufacturing a head chip according to an embodiment of the present disclosure is a method of manufacturing a head chip that includes an actuator plate that applies pressure to a liquid and ejects the liquid, wherein the step of forming the actuator plate includes: providing a piezoelectric substrate having a second surface facing away from the first surface; forming a first opening in the first surface of the piezoelectric substrate and communicating with the first opening from the first surface to the second surface; a step of forming a channel having a depth direction in a facing direction; a step of forming a first adhesion film on the inner wall of the channel using a vapor deposition method; forming a first corrosion-resistant film covering from one end to the other end on the second surface side, and forming an electrode including the first adhesion film and the first corrosion-resistant film. In addition, the channel communicates with a second opening provided on the second surface as well as the first opening, and the electrode further includes a second adhesion film provided closer to the second opening than the first adhesion film. and a second anti-corrosion film covering at least part of the second adhesion film from the second surface side in the depth direction.

本開示の一実施形態のヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置およびヘッドチップの製造方法によれば、アクチュエータプレートのチャネルの内壁に設けられた電極の腐食を抑え、信頼性を向上させることが可能となる。 According to the head chip, liquid jet head, liquid jet recording apparatus, and head chip manufacturing method of one embodiment of the present disclosure, corrosion of the electrodes provided on the inner wall of the channel of the actuator plate is suppressed, and reliability is improved. becomes possible.

本開示の一実施形態の液体噴射記録装置の概略構成を表す斜視図である。1 is a perspective view showing a schematic configuration of a liquid jet recording apparatus according to an embodiment of the present disclosure; FIG. 図1に示した液体噴射ヘッドの概略構成を表す斜視図である。2 is a perspective view showing a schematic configuration of the liquid jet head shown in FIG. 1; FIG. 図2に示した液体噴射ヘッドチップの概略構成を表す斜視図である。3 is a perspective view showing a schematic configuration of a liquid jet head chip shown in FIG. 2; FIG. 図2に示した液体噴射ヘッドチップの概略構成を表す他の斜視図である。3 is another perspective view showing the schematic configuration of the liquid jet head chip shown in FIG. 2. FIG. 図4に示したカバープレートおよびアクチュエータプレートの構成を表す断面模式図である。5 is a schematic cross-sectional view showing configurations of a cover plate and an actuator plate shown in FIG. 4; FIG. 図5に示した駆動電極の構成を拡大して表す断面模式図である。6 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged configuration of the drive electrode shown in FIG. 5; FIG. 図3等に示した液体噴射ヘッドチップの製造方法の一例を表す流れ図である。FIG. 4 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the liquid jet head chip shown in FIG. 3 and the like; FIG. 比較例1に係る液体噴射ヘッドチップの要部の構成を拡大して表す断面模式図である。FIG. 10 is an enlarged schematic cross-sectional view showing the configuration of a main part of a liquid jet head chip according to Comparative Example 1; 変形例に係る液体噴射ヘッドチップの概略構成を表す断面模式図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of a liquid jet head chip according to a modification; 図9に示した駆動電極の構成を拡大して表す断面模式図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged configuration of the driving electrode shown in FIG. 9 ; 図10に示した駆動電極の構成の他の例を表す断面模式図である。11 is a schematic cross-sectional view showing another example of the configuration of the drive electrodes shown in FIG. 10; FIG. 図9に示した液体噴射ヘッドチップの製造方法の一例を表す流れ図である。FIG. 10 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing the liquid jet head chip shown in FIG. 9; FIG. 図12に示した液体噴射ヘッドチップの製造方法の一工程を説明するための断面模式図である。13A and 13B are schematic cross-sectional views for explaining one step of the method of manufacturing the liquid jet head chip shown in FIG. 12; 図13Aに続く工程を表す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram showing the process following FIG. 13A. 図13Bに続く工程を表す断面模式図である。FIG. 13B is a schematic cross-sectional view showing a step following FIG. 13B; 図13Cに続く工程を表す断面模式図である。FIG. 13C is a schematic cross-sectional view showing a step following FIG. 13C; 図13Dに続く工程を表す断面模式図である。FIG. 13D is a schematic cross-sectional view showing a step following FIG. 13D; 図13Eに続く工程を表す断面模式図である。13D is a schematic cross-sectional view showing a step following FIG. 13E; FIG. 比較例2に係る液体噴射ヘッドチップの要部の構成を拡大して表す断面模式図である。8 is an enlarged schematic cross-sectional view showing the configuration of a main part of a liquid jet head chip according to Comparative Example 2. FIG.

以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。

1.液体噴射記録装置(ヘッドチップおよび液体噴射ヘッド)
1-1.全体構成
1-2.液体噴射ヘッドの構成
1-3.ヘッドチップの構成
1-4.ヘッドチップの製造方法
1-5.動作
1-6.作用および効果
2.変形例
3.その他の変形例
Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The description will be given in the following order.

1. Liquid jet recording device (head chip and liquid jet head)
1-1. Overall configuration 1-2. Configuration of liquid jet head 1-3. Configuration of Head Chip 1-4. Manufacturing method of head chip 1-5. Operation 1-6. Action and effect 2 . Modification 3. Other variations

<1.液体噴射記録装置(ヘッドチップおよび液体噴射ヘッド)>
本開示の一実施形態の液体噴射記録装置に関して説明する。
<1. Liquid Jet Recording Apparatus (Head Chip and Liquid Jet Head)>
A liquid jet recording apparatus according to an embodiment of the present disclosure will be described.

なお、本開示の一実施形態のヘッドチップおよび液体噴射ヘッドのそれぞれは、ここで説明する液体噴射記録装置のうちの一部である。そこで、ヘッドチップおよび液体噴射ヘッドのそれぞれに関しては、以下で併せて説明する。 It should be noted that each of the head chip and the liquid jet head according to an embodiment of the present disclosure is part of the liquid jet recording apparatus described here. Therefore, the head chip and the liquid jet head will be described together below.

ここで説明する液体噴射記録装置は、例えば、被記録媒体に画像を形成するプリンタである。被記録媒体の種類は、特に限定されないが、例えば、紙、フィルム、布およびタイルなどである。 The liquid jet recording apparatus described here is, for example, a printer that forms an image on a recording medium. The type of recording medium is not particularly limited, but includes, for example, paper, film, cloth and tile.

<1-1.全体構成>
最初に、液体噴射記録装置の全体構成に関して説明する。
<1-1. Overall configuration>
First, the overall configuration of the liquid jet recording apparatus will be described.

図1は、液体噴射記録装置(インクジェットプリンタ)の一具体例であるプリンタ1の斜視構成を表している。図1では、筐体10の外縁(輪郭)を破線で示している。 FIG. 1 shows a perspective configuration of a printer 1, which is a specific example of a liquid jet recording apparatus (inkjet printer). In FIG. 1, the outer edge (contour) of the housing 10 is indicated by a dashed line.

このプリンタ1は、例えば、記録用の液体(インク9)を用いるインクジェットプリンタである。具体的には、プリンタ1は、例えば、図1に示したように、筐体10の内部に、一対の搬送機構2a,2bと、インクタンク3と、インクジェットヘッド4と、供給チューブ50と、走査機構6とを備えている。 This printer 1 is, for example, an inkjet printer that uses a recording liquid (ink 9). Specifically, for example, as shown in FIG. 1, the printer 1 includes a pair of transport mechanisms 2a and 2b, an ink tank 3, an inkjet head 4, a supply tube 50, and A scanning mechanism 6 is provided.

[搬送機構およびインクタンク]
搬送機構2a,2bは、プリンタ1に投入された記録紙Pを搬送方向D(X軸方向)に搬送させる機構であり、例えば、いずれもグリッドローラ21およびピンチローラ22を含んでいる。インクタンク3は、インク9を貯蔵する器である。ここで、インクタンク3は、本開示の「収容部」の一実施形態である。ここでは、プリンタ1は、例えば互いに異なる色のインク9を収容する4個のインクタンク3(3Y,3M,3C,3K)を備えており、インクタンク3Y,3M,3C,3Kのそれぞれは、例えば、イエロー(Y)のインク9、マゼンタ(M)のインク9、シアン(C)のインク9およびブラック(K)のインク9のそれぞれを収容している。
[Conveyance Mechanism and Ink Tank]
The transport mechanisms 2a and 2b are mechanisms for transporting the recording paper P loaded into the printer 1 in the transport direction D (X-axis direction). The ink tank 3 is a vessel that stores ink 9 . Here, the ink tank 3 is an embodiment of the "accommodating portion" of the present disclosure. Here, the printer 1 includes, for example, four ink tanks 3 (3Y, 3M, 3C, 3K) containing inks 9 of different colors. Each of the ink tanks 3Y, 3M, 3C, 3K For example, it contains yellow (Y) ink 9, magenta (M) ink 9, cyan (C) ink 9, and black (K) ink 9, respectively.

[インクジェットヘッドおよび供給チューブ]
インクジェットヘッド4は、供給チューブ50から供給される液滴状のインク9を記録紙Pに噴射する液体噴射ヘッドであり、例えば、エッジシュートタイプのインクジェットヘッドである。エッジシュートタイプのインクジェットヘッド4では、例えば、後述するように、複数のチャネルC1のそれぞれが所定の方向(例えば、Z軸方向)に延在しており、複数のノズル孔H2のそれぞれから複数のチャネルC1のそれぞれの延在方向と同様の方向(Z軸方向)にインク9が噴射される(図3参照)。すなわち、各チャネルC1の延在方向と各ノズル孔H2からインク9が噴射される方向とは、互いに一致している。
[Inkjet head and supply tube]
The inkjet head 4 is a liquid ejecting head that ejects ink droplets 9 supplied from a supply tube 50 onto the recording paper P, and is, for example, an edge shoot type inkjet head. In the edge shoot type inkjet head 4, for example, as will be described later, each of the plurality of channels C1 extends in a predetermined direction (for example, the Z-axis direction), and each of the plurality of nozzle holes H2 has a plurality of channels C1. Ink 9 is jetted in the same direction (Z-axis direction) as the extending direction of each channel C1 (see FIG. 3). That is, the extending direction of each channel C1 and the direction in which the ink 9 is ejected from each nozzle hole H2 match each other.

ここでは、プリンタ1は、例えば、図1に示したように、互いに異なる色のインク9を噴射する4個のインクジェットヘッド4(4Y,4M,4C,4K)を備えている。なお、インクジェットヘッド4の詳細な構成に関しては、後述する(図2参照)。 Here, the printer 1 is provided with four inkjet heads 4 (4Y, 4M, 4C, 4K) for ejecting inks 9 of different colors, for example, as shown in FIG. A detailed configuration of the inkjet head 4 will be described later (see FIG. 2).

[走査機構]
走査機構6は、搬送方向Dと交差する方向においてインクジェットヘッド4を走査させる機構であり、例えば、一対のガイドレール61a,61bと、キャリッジ62と、駆動機構63とを含んでいる。例えば、キャリッジ62は、例えば、基台62aおよび壁部62bを含んでおり、インクジェットヘッド4を支持しながらガイドレール61a,61bに沿って搬送方向Dと交差する方向に移動可能である。駆動機構63は、例えば、一対のプーリ631a,631bと、無端状のベルト632と、駆動モータ633とを含んでおり、そのベルト632は、例えば、キャリッジ62に連結されている。
[Scanning Mechanism]
The scanning mechanism 6 is a mechanism for scanning the inkjet head 4 in a direction intersecting the transport direction D, and includes, for example, a pair of guide rails 61 a and 61 b, a carriage 62 and a drive mechanism 63 . For example, the carriage 62 includes a base 62a and a wall portion 62b, and is movable in a direction intersecting the transport direction D along guide rails 61a and 61b while supporting the inkjet head 4. As shown in FIG. The drive mechanism 63 includes, for example, a pair of pulleys 631a and 631b, an endless belt 632, and a drive motor 633. The belt 632 is connected to the carriage 62, for example.

<1-2.液体噴射ヘッドの構成>
図2は、図1に示したインクジェットヘッド4(4Y,4M,4C,4K)の斜視構成を拡大して表している。
<1-2. Configuration of Liquid Jet Head>
FIG. 2 shows an enlarged perspective view of the inkjet head 4 (4Y, 4M, 4C, 4K) shown in FIG.

このインクジェットヘッド4は、例えば、図2に示したように、固定板40と、インクジェットヘッドチップ41と、供給機構42と、制御機構43と、ベースプレート44とを備えている。固定板40の一面には、例えば、インクジェットヘッドチップ41と、供給機構42(後述する流路部材42a)と、ベースプレート44とが固定されている。ここで、インクジェットヘッドチップ41は、本開示の「ヘッドチップ」の一実施形態である。 The inkjet head 4 includes, for example, a fixing plate 40, an inkjet head chip 41, a supply mechanism 42, a control mechanism 43, and a base plate 44, as shown in FIG. An inkjet head chip 41 , a supply mechanism 42 (a channel member 42 a described later), and a base plate 44 are fixed to one surface of the fixed plate 40 , for example. Here, the inkjet head chip 41 is one embodiment of the "head chip" of the present disclosure.

[インクジェットヘッドチップ]
インクジェットヘッドチップ41は、インク9を噴射するインクジェットヘッド4の主要部である。なお、インクジェットヘッドチップ41の詳細な構成に関しては、後述する(図3~図5参照)。
[Inkjet head chip]
The inkjet head chip 41 is the main part of the inkjet head 4 that ejects the ink 9 . The detailed configuration of the inkjet head chip 41 will be described later (see FIGS. 3 to 5).

[供給機構]
供給機構42は、供給チューブ50を介して供給されたインク9をインクジェットヘッドチップ41(後述するインク導入孔410a:図3および図4参照)に供給する。この供給機構42は、例えば、インク連結管42cを介して互いに連結された流路部材42aおよび圧力緩衝器42bを含んでいる。流路部材42aはインク9が流れる流路であり、そのインク9の貯留室を有する圧力緩衝器42bには、例えば、供給チューブ50が取り付けられている。ここで、供給機構42は、本開示の「供給機構」の一実施形態である。
[Supply Mechanism]
The supply mechanism 42 supplies the ink 9 supplied through the supply tube 50 to the inkjet head chip 41 (an ink introduction hole 410a to be described later: see FIGS. 3 and 4). The supply mechanism 42 includes, for example, a channel member 42a and a pressure damper 42b which are connected to each other via an ink connection pipe 42c. The flow path member 42a is a flow path through which the ink 9 flows, and a supply tube 50, for example, is attached to the pressure buffer 42b having a storage chamber for the ink 9. As shown in FIG. Here, the supply mechanism 42 is one embodiment of the "supply mechanism" of the present disclosure.

[制御機構]
制御機構43は、例えば、回路基板43aと、駆動回路43bと、フレキシブル基板43cとを含んでいる。回路基板43aは、例えば、インクジェットヘッドチップ41を駆動させる駆動回路43bを含んでおり、その駆動回路43bは、例えば、集積回路(IC:Integrated Circuit)などを含んでいる。フレキシブル基板43cは、駆動回路43bとインクジェットヘッドチップ41(後述する駆動電極Ed:図5参照)とを互いに電気的に接続させている。ここでは図示していないが、フレキシブル基板43cは、例えば、駆動回路43bおよび複数の駆動電極Edのそれぞれに接続された複数の端子を含んでいる。
[Control mechanism]
The control mechanism 43 includes, for example, a circuit board 43a, a drive circuit 43b, and a flexible board 43c. The circuit board 43a includes, for example, a drive circuit 43b for driving the inkjet head chip 41, and the drive circuit 43b includes, for example, an integrated circuit (IC). The flexible substrate 43c electrically connects the drive circuit 43b and the inkjet head chip 41 (drive electrodes Ed, which will be described later; see FIG. 5) to each other. Although not shown here, the flexible substrate 43c includes, for example, a plurality of terminals connected respectively to the drive circuit 43b and the plurality of drive electrodes Ed.

<1-3.ヘッドチップの構成>
図3では、インクジェットヘッドチップ41の一連の構成要素が互いに組み合わされた状態を示している。一方、図4では、インクジェットヘッドチップ41の一連の構成要素を見やすくするために、その一連の構成要素が互いに離間された状態を示している。図5では、インクジェットヘッドチップ41のXY断面の構成を示している。なお、図5では、複数のノズル孔H2を破線で示している。図3では、フレキシブル基板43cの一部の輪郭だけを破線で示している。
<1-3. Configuration of Head Chip>
FIG. 3 shows a state in which a series of components of the inkjet head chip 41 are combined with each other. On the other hand, FIG. 4 shows a state in which the series of constituent elements of the inkjet head chip 41 are separated from each other in order to facilitate viewing of the series of constituent elements. FIG. 5 shows the configuration of the XY cross section of the inkjet head chip 41 . In addition, in FIG. 5, the plurality of nozzle holes H2 are indicated by dashed lines. In FIG. 3, only a part of the outline of the flexible substrate 43c is indicated by a dashed line.

このインクジェットヘッドチップ41は、例えば、図3および図4に示したように、カバープレート410と、アクチュエータプレート411と、ノズルプレート(噴射孔プレート)412と、支持プレート413とを含んでいる。カバープレート410およびアクチュエータプレート411は、互いに重ねられている。ノズルプレート412は、例えば支持プレート413に設けられた嵌合孔413aにカバープレート410およびアクチュエータプレート411が嵌め込まれた状態において、その支持プレート413に当接されている。 The inkjet head chip 41 includes, for example, a cover plate 410, an actuator plate 411, a nozzle plate (ejection hole plate) 412, and a support plate 413, as shown in FIGS. Cover plate 410 and actuator plate 411 are stacked on top of each other. The nozzle plate 412 is in contact with the support plate 413 in a state in which the cover plate 410 and the actuator plate 411 are fitted in, for example, fitting holes 413a provided in the support plate 413 .

カバープレート410は、例えば接着剤を介してアクチュエータプレート411(より具体的には、後述のアクチュエータプレート411の表面411f1)に貼り付けられている。ノズルプレート412は、Z軸方向におけるカバープレート410およびアクチュエータプレート411の一端部に接着剤を介して取り付けられている。 The cover plate 410 is attached to the actuator plate 411 (more specifically, a surface 411f1 of the actuator plate 411 to be described later) via an adhesive, for example. The nozzle plate 412 is attached to one end of the cover plate 410 and the actuator plate 411 in the Z-axis direction via an adhesive.

[アクチュエータプレート]
アクチュエータプレート411は、複数のノズル孔H2からインク9を噴射させるために電気的に駆動される部材である。
[Actuator plate]
The actuator plate 411 is a member that is electrically driven to eject the ink 9 from the multiple nozzle holes H2.

アクチュエータプレート411は、複数のチャネルC1を画定する複数の駆動壁Wdを含んでいる。ここで、この「チャネルC1」が、本開示の「チャネル」の一具体例に対応し、「駆動壁Wd」が、本開示の「内壁」の一具体例に対応する。 Actuator plate 411 includes a plurality of drive walls Wd that define a plurality of channels C1. Here, the "channel C1" corresponds to a specific example of the "channel" of the present disclosure, and the "drive wall Wd" corresponds to a specific example of the "inner wall" of the present disclosure.

このアクチュエータプレート411は、図5に示したように、例えば、分極方向が互いに異なる2つの圧電基板411p,411mを含んでいる。圧電基板411p,411mは、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)などの圧電材料のうちのいずれか1種類または2種類以上を含んでいる。圧電基板411pの分極方向は、厚み方向(Y軸方向)の一方に沿って設定されており、圧電基板411mの分極方向は、例えば、厚み方向の他方に沿って設定されている。アクチュエータプレート411では、この2つの圧電基板411p,411mが、厚み方向に沿って積層して構成されている(いわゆる、シェブロンタイプ)。ただし、アクチュエータプレート411の構成としては、このシェブロンタイプには限られない。すなわち、例えば、分極方向が厚み方向に沿って一方向に設定されている1つ(単一)の圧電基板によって、アクチュエータプレート411を構成するようにしてもよい(いわゆる、カンチレバータイプまたはモノポールタイプ)。アクチュエータプレート411は、カバープレート410に貼り合わされた表面411f1と、表面411f1と反対を向く裏面411f2とを有している。例えば、表面411f1は圧電基板411pに設けられ、裏面411f2は圧電基板411mに設けられている。ここでは、表面411f1が本開示の「第1面」の一具体例に対応し、裏面411f2が本開示の「第2面」の一具体例に対応する。 As shown in FIG. 5, the actuator plate 411 includes, for example, two piezoelectric substrates 411p and 411m with different polarization directions. The piezoelectric substrates 411p and 411m include, for example, one or more of piezoelectric materials such as lead zirconate titanate (PZT). The polarization direction of the piezoelectric substrate 411p is set along one of the thickness directions (Y-axis direction), and the polarization direction of the piezoelectric substrate 411m is set along the other thickness direction, for example. The actuator plate 411 is configured by stacking these two piezoelectric substrates 411p and 411m along the thickness direction (so-called chevron type). However, the configuration of the actuator plate 411 is not limited to this chevron type. That is, for example, the actuator plate 411 may be configured by one (single) piezoelectric substrate whose polarization direction is set in one direction along the thickness direction (a so-called cantilever type or monopole type substrate). ). The actuator plate 411 has a front surface 411f1 bonded to the cover plate 410 and a back surface 411f2 facing away from the front surface 411f1. For example, the front surface 411f1 is provided on the piezoelectric substrate 411p, and the back surface 411f2 is provided on the piezoelectric substrate 411m. Here, the front surface 411f1 corresponds to a specific example of the "first surface" of the present disclosure, and the back surface 411f2 corresponds to a specific example of the "second surface" of the present disclosure.

各チャネルC1は、例えば、アクチュエータプレート411の表面411f1から裏面411f2に向かう方向(Y軸方向)に深さ方向を有する非貫通溝である。アクチュエータプレート411の表面411f1には、チャネルC1各々に連通する開口M1が設けられている。ここでは、開口M1が本開示の「第1開口」の一具体例に対応する。 Each channel C1 is, for example, a non-through groove having a depth direction in the direction (Y-axis direction) from the front surface 411f1 of the actuator plate 411 to the rear surface 411f2. A surface 411f1 of the actuator plate 411 is provided with openings M1 communicating with each of the channels C1. Here, the opening M1 corresponds to a specific example of the "first opening" of the present disclosure.

複数の吐出チャネル(噴射チャネル)C1eおよび複数のダミーチャネル(非噴射チャネル)C1dは、例えば、X軸方向において交互に配列されている。各吐出チャネルC1eは、各ノズル孔H2に連通されており、インク9に圧力を付与する圧力室として機能する。言い換えると、吐出チャネルC1eにはインク9が充填される一方、ダミーチャネルC1dにはインク9が充填されないようになっている。また、図5に示したように、各吐出チャネルC1eは、後述するノズルプレート412におけるノズル孔H2と連通している一方、各ダミーチャネルC1dはノズル孔H2には連通しておらず、後述するカバープレート410によって上方から覆われている。 A plurality of ejection channels (ejection channels) C1e and a plurality of dummy channels (non-ejection channels) C1d are arranged alternately in the X-axis direction, for example. Each ejection channel C1e communicates with each nozzle hole H2 and functions as a pressure chamber that applies pressure to the ink 9 . In other words, the ejection channel C1e is filled with the ink 9, while the dummy channel C1d is not filled with the ink 9. Further, as shown in FIG. 5, each ejection channel C1e communicates with a nozzle hole H2 in a nozzle plate 412, which will be described later, while each dummy channel C1d does not communicate with a nozzle hole H2, which will be described later. It is covered from above by a cover plate 410 .

複数のチャネルC1のそれぞれは、Z軸方向において、アクチュエータプレート411の一端部(ノズルプレート412に近い側の端部)から他端部(ノズルプレート412から遠い側の端部)に向かって延在している。ただし、複数のダミーチャネルC1dのそれぞれは、例えば、アクチュエータプレート411の他端部まで延在し、他端部で終端している。これに対して、複数の吐出チャネルC1eのそれぞれは、例えば、アクチュエータプレート411の他端部まで延在しておらず、途中(一端部と他端部との間の位置)で終端している。 Each of the plurality of channels C1 extends from one end of the actuator plate 411 (the end closer to the nozzle plate 412) toward the other end (the end farther from the nozzle plate 412) in the Z-axis direction. doing. However, each of the plurality of dummy channels C1d, for example, extends to the other end of the actuator plate 411 and terminates at the other end. On the other hand, each of the plurality of ejection channels C1e does not extend to the other end of the actuator plate 411, for example, and terminates midway (at a position between the one end and the other end). .

なお、例えば、図3および図4に示したように、各吐出チャネルC1eを画定する内壁面C1mは、ノズルプレート412から遠い側における各吐出チャネルC1eの端部近傍において切り上がっている。 For example, as shown in FIGS. 3 and 4, the inner wall surface C1m that defines each ejection channel C1e is cut up near the end of each ejection channel C1e on the far side from the nozzle plate 412. As shown in FIG.

アクチュエータプレート411は、例えば、一端部側に位置すると共に複数の吐出チャネルC1eおよび複数のダミーチャネルC1dの双方が設けられている第1チャネル形成部分411aと、他端部側に位置すると共に複数の吐出チャネルC1eが設けられておらずに複数のダミーチャネルC1dだけが設けられている第2チャネル形成部分411bとを含んでいる。上記した複数の駆動壁Wdは、複数のチャネルC1(複数の吐出チャネルC1eおよび複数のダミーチャネルC1d)を画定しているため、上記した第1チャネル形成部分411aに設けられている。 The actuator plate 411 includes, for example, a first channel forming portion 411a positioned on one end side and provided with both a plurality of ejection channels C1e and a plurality of dummy channels C1d, and a first channel forming portion 411a positioned on the other end side and provided with a plurality of channel forming portions 411a. and a second channel forming portion 411b in which no ejection channel C1e is provided and only a plurality of dummy channels C1d are provided. Since the plurality of drive walls Wd described above define the plurality of channels C1 (the plurality of ejection channels C1e and the plurality of dummy channels C1d), they are provided in the above-described first channel forming portion 411a.

複数の駆動壁Wdのそれぞれの側面には、チャネルC1の延在方向(Z軸方向)およびチャネルC1の深さ方向(Y軸方向)にわたって駆動電極Edが設けられている。駆動電極Edは、複数の吐出チャネルC1eを圧力室として機能させるために、駆動壁Wdを電気的に駆動(変形)させる電極である。ここで、駆動電極Edは、本開示の「電極」の一具体例に対応する。 Drive electrodes Ed are provided on each side surface of the plurality of drive walls Wd over the extending direction (Z-axis direction) of the channel C1 and the depth direction (Y-axis direction) of the channel C1. The drive electrode Ed is an electrode that electrically drives (deforms) the drive wall Wd in order to cause the plurality of ejection channels C1e to function as pressure chambers. Here, the drive electrode Ed corresponds to a specific example of the "electrode" of the present disclosure.

この駆動電極Edは、吐出チャネルC1eを画定する駆動壁Wdの側面に設けられた一対のコモン電極Edcと、ダミーチャネルC1dを画定する駆動壁Wdの側面に設けられた一対のアクティブ電極Edaとを含んでいる。アクティブ電極Edaおよびコモン電極Edcのそれぞれは、例えば、圧電基板411pと圧電基板411mとの境界(接合面)よりも、より深い位置(例えば、図5のY方向プラスの位置)まで延在している。図3および図4のそれぞれでは、複数の駆動電極Edの図示を省略している。 The drive electrodes Ed include a pair of common electrodes Edc provided on the side surfaces of the drive walls Wd defining the ejection channel C1e, and a pair of active electrodes Eda provided on the side surfaces of the drive walls Wd defining the dummy channel C1d. contains. Each of the active electrode Eda and the common electrode Edc extends, for example, to a position deeper than the boundary (joint surface) between the piezoelectric substrate 411p and the piezoelectric substrate 411m (for example, the positive position in the Y direction in FIG. 5). there is In each of FIGS. 3 and 4, illustration of the plurality of drive electrodes Ed is omitted.

複数の駆動電極Edおよび回路基板43a(駆動回路43b)は、上記したように、フレキシブル基板43cを介して互いに接続されている。例えば、アクチュエータプレート411の他端部側の表面411f1に、駆動電極Edに電気的に接続されたパッド部(図示せず)が設けられている。このパッド部にフレキシブル基板43cが接続されることにより、駆動回路43bからフレキシブル基板43cを介して複数の駆動電極Edに駆動電圧が印加される。コモン電極Edcに接続されたパッド部と、アクティブ電極Edaに接続されたパッド部とは、互いに分離して設けられている。この場合には、例えば、コモン電極Edcおよびアクティブ電極Edaのそれぞれに、互いに極性が異なる駆動電圧が印加される。コモン電極Edcは、例えば接地電位(GND電位)に接続され、アクティブ電極Edaは、所定の電位に接続される。コモン電極Edcは、例えば、マイナスの電位に接続されていてもよい。 The plurality of drive electrodes Ed and the circuit board 43a (drive circuit 43b) are connected to each other through the flexible board 43c as described above. For example, a pad portion (not shown) electrically connected to the drive electrode Ed is provided on the surface 411f1 of the actuator plate 411 on the other end side. By connecting the flexible substrate 43c to this pad portion, a drive voltage is applied to the plurality of drive electrodes Ed from the drive circuit 43b through the flexible substrate 43c. A pad portion connected to the common electrode Edc and a pad portion connected to the active electrode Eda are provided separately from each other. In this case, for example, drive voltages having different polarities are applied to each of the common electrode Edc and the active electrode Eda. The common electrode Edc is connected to, for example, a ground potential (GND potential), and the active electrode Eda is connected to a predetermined potential. The common electrode Edc may be connected to a negative potential, for example.

図6は、図5に示した駆動電極Edのより具体的な構成を表したものである。駆動電極Edは、密着膜CF1および耐腐食膜CF2を含んでおり、駆動壁Wd側から密着膜CF1および耐腐食膜CF2がこの順に積層されている。密着膜CF1および耐腐食膜CF2は各々、チャネルC1の延在方向およびチャネルC1の深さ方向にわたって設けられている。ここで、密着膜CF1が本開示の「第1密着膜」の一具体例に対応し、耐腐食膜CF2が本開示の「第1耐腐食膜」の一具体例に対応する。 FIG. 6 shows a more specific configuration of the drive electrodes Ed shown in FIG. The drive electrode Ed includes an adhesion film CF1 and a corrosion-resistant film CF2, and the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 are laminated in this order from the drive wall Wd side. The adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2 are each provided over the extending direction of the channel C1 and the depth direction of the channel C1. Here, the adhesion film CF1 corresponds to a specific example of the "first adhesion film" of the present disclosure, and the corrosion resistant film CF2 corresponds to a specific example of the "first corrosion resistant film" of the present disclosure.

密着膜CF1は、後述するように、例えば蒸着法により成膜されたものである。この密着膜CF1は、例えば、駆動壁Wd(圧電基板411p,411m)に接しており、チャネルC1の深さ方向にわたって駆動壁Wdの少なくとも一部を覆っている。密着膜CF1は、チャネルC1の深さ方向にわたって駆動壁Wdの全部を覆っていてもよい。密着膜CF1は、チャネルC1の深さ方向の上端euおよび下端ebを有している。上端euは表面411f1(開口M1)側に設けられ、下端ebは裏面411f2側に設けられている。密着膜CF1の上端euは、開口M1の外側の表面411f1に設けられていてもよく、あるいは、チャネルC1内に設けられていてもよい。例えば、複数の駆動電極Ed各々の一部では、密着膜CF1の上端euが開口M1の外側の表面411f1に設けられている。ここでは、上端euが本開示の「一端」の一具体例に対応し、下端ebが本開示の「他端」の一具体例に対応する。 The adhesion film CF1 is formed by, for example, a vapor deposition method, as will be described later. The adhesion film CF1 is, for example, in contact with the drive walls Wd (piezoelectric substrates 411p and 411m) and covers at least a portion of the drive walls Wd in the depth direction of the channel C1. The adhesion film CF1 may cover the entire driving wall Wd in the depth direction of the channel C1. The adhesion film CF1 has an upper end eu and a lower end eb in the depth direction of the channel C1. The upper end eu is provided on the front surface 411f1 (opening M1) side, and the lower end eb is provided on the rear surface 411f2 side. The upper end eu of the adhesion film CF1 may be provided on the outer surface 411f1 of the opening M1, or may be provided within the channel C1. For example, in a part of each of the plurality of drive electrodes Ed, the upper end eu of the adhesion film CF1 is provided on the outer surface 411f1 of the opening M1. Here, the upper end eu corresponds to a specific example of "one end" of the present disclosure, and the lower end eb corresponds to a specific example of "the other end" of the present disclosure.

密着膜CF1は、耐腐食膜CF2を駆動壁Wdに密着させるためのものであり、圧電基板411p,411mに対して高い密着性を有している。密着膜CF1は、例えば、チタン(Ti),銅(Cu),ニッケル(Ni)およびクロム(Cr)等のうちの少なくとも1つを含んでいる。 The adhesion film CF1 is for adhering the corrosion-resistant film CF2 to the drive wall Wd, and has high adhesion to the piezoelectric substrates 411p and 411m. The adhesion film CF1 contains, for example, at least one of titanium (Ti), copper (Cu), nickel (Ni), chromium (Cr), and the like.

耐腐食膜CF2は、後述するように、例えば、密着膜CF1を形成した後、蒸着法により成膜されたものであり、密着膜CF1上に設けられている。即ち、密着膜CF1および耐腐食膜CF2は蒸着膜により構成されている。耐腐食膜CF2は、駆動電極Edの主導電膜として機能する。この耐腐食膜CF2は、インク9に対して高い耐腐食性を有していることが好ましい。耐腐食膜CF2は、例えば、金(Au),白金(Pt)またはパラジウム(Pd)等の貴金属により構成されている。このような耐腐食膜CF2を設けることにより、駆動電極Edの腐食を抑えることができる。 As will be described later, the corrosion resistant film CF2 is formed, for example, by vapor deposition after forming the adhesion film CF1, and is provided on the adhesion film CF1. That is, the adhesion film CF1 and the anti-corrosion film CF2 are composed of vapor deposition films. The corrosion resistant film CF2 functions as a main conductive film of the drive electrode Ed. This anti-corrosion film CF2 preferably has high corrosion resistance to the ink 9 . The corrosion resistant film CF2 is made of noble metal such as gold (Au), platinum (Pt) or palladium (Pd). By providing such a corrosion-resistant film CF2, corrosion of the drive electrode Ed can be suppressed.

本実施の形態では、この耐腐食膜CF2が、密着膜CF1の上端euから下端ebまでを覆っている。換言すれば、密着膜CF1は、チャネルC1の深さ方向全部にわたって耐腐食膜CF2に覆われており、駆動電極Edには、密着膜CF1が耐腐食膜CF2から露出された部分が設けられていない。詳細は後述するが、これにより、駆動電極Edの腐食に起因したインクジェットヘッドチップ41の信頼性の低下を抑えることが可能となる。例えば、耐腐食膜CF2の厚みT2は、その周辺の密着膜CF1の厚みT1とほぼ同じになっている(T1≒T2)。耐腐食膜CF2では、チャネルC1の深さ方向の上端および下端が、各々、密着膜CF1の上端euおよび下端ebの位置に揃うように配置されており、駆動電極Edの深さ方向全部にわたって、密着膜CF1および耐腐食膜CF2の積層構造が維持されている。なお、密着膜CF1および耐腐食膜CF2はそれぞれ、チャネルC1の深さ方向の位置により厚みT1,T2が変化していてもよいが、密着膜CF1および耐腐食膜CF2それぞれの上端から下端までを比較したとき、耐腐食膜CF2の厚みは、密着膜CF1の厚みとほぼ同じになっている。 In the present embodiment, the corrosion resistant film CF2 covers the adhesion film CF1 from the upper end eu to the lower end eb. In other words, the adhesion film CF1 is covered with the corrosion-resistant film CF2 over the entire depth direction of the channel C1, and the drive electrode Ed has a portion where the adhesion film CF1 is exposed from the corrosion-resistant film CF2. No. Although details will be described later, this makes it possible to suppress deterioration in the reliability of the inkjet head chip 41 due to corrosion of the drive electrodes Ed. For example, the thickness T2 of the corrosion-resistant film CF2 is substantially the same as the thickness T1 of the surrounding adhesion film CF1 (T1≈T2). In the corrosion-resistant film CF2, the upper and lower ends of the channel C1 in the depth direction are aligned with the upper end eu and the lower end eb of the adhesion film CF1, respectively. The laminated structure of the adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2 is maintained. The thicknesses T1 and T2 of the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 may vary depending on the position in the depth direction of the channel C1. When compared, the thickness of the corrosion resistant film CF2 is substantially the same as the thickness of the adhesion film CF1.

[カバープレート]
カバープレート410は、アクチュエータプレート411を被覆する部材である。アクチュエータプレート411に対向してカバープレート410が設けられている。
[Cover plate]
The cover plate 410 is a member that covers the actuator plate 411 . A cover plate 410 is provided to face the actuator plate 411 .

具体的には、カバープレート410は、例えば、図3~図5に示したように、複数のスリット410bが設けられた窪み状のインク導入孔410aを有している。各スリット410bは、例えば、各チャネルC1の延在方向(Z軸方向)と同様の方向に延在する貫通溝である。 Specifically, as shown in FIGS. 3 to 5, for example, the cover plate 410 has a concave ink introduction hole 410a provided with a plurality of slits 410b. Each slit 410b is, for example, a through groove extending in the same direction as the extending direction (Z-axis direction) of each channel C1.

各スリット410bの位置は、各吐出チャネルC1eの位置に対応しているため、インク導入孔410aは、各スリット410bを介して各吐出チャネルC1eに連通されている。これにより、各吐出チャネルC1eに各スリット410bを介してインク9が供給されるため、その複数の吐出チャネルC1eにインク9が充填される。 Since the position of each slit 410b corresponds to the position of each ejection channel C1e, the ink introduction hole 410a communicates with each ejection channel C1e via each slit 410b. As a result, the ink 9 is supplied to each of the ejection channels C1e through the slits 410b, so that the plurality of ejection channels C1e are filled with the ink 9. As shown in FIG.

[ノズルプレート]
ノズルプレート412は、貫通口である複数のノズル孔H2を有しており、アクチュエータプレート411に対向している。複数のノズル孔H2は、例えば、X軸方向において間隔を隔てながら配列されており、ノズル孔H2の開口形状、すなわちZ軸方向から見たノズル孔H2の形状は、例えば、円形である。ノズル孔H2の内径は、例えば、インク9が噴射される方向において次第に小さくなっている。これにより、インク9の噴射速度および直進性が向上するからである。ノズルプレート412は、例えば、ポリイミドなどの絶縁性材料のうちのいずれか1種類または2種類以上を含んでいる。ノズルプレート412は、例えば、ステンレス鋼(SUS)などの導電性材料のうちのいずれか1種類または2種類以上を含んでいてもよい。
[Nozzle plate]
The nozzle plate 412 has a plurality of nozzle holes H2 that are through holes and faces the actuator plate 411 . The plurality of nozzle holes H2 are arranged, for example, at intervals in the X-axis direction, and the opening shape of the nozzle holes H2, that is, the shape of the nozzle holes H2 viewed from the Z-axis direction is, for example, circular. The inner diameter of the nozzle hole H2 is, for example, gradually reduced in the direction in which the ink 9 is ejected. This is because the ejection speed and straightness of the ink 9 are thereby improved. The nozzle plate 412 includes, for example, one or more of insulating materials such as polyimide. The nozzle plate 412 may include, for example, any one or more of conductive materials such as stainless steel (SUS).

[支持プレート]
支持プレート413は、例えば、図4に示したように、X軸方向に延在する嵌合孔413aを有しており、この嵌合孔413aには、例えば、カバープレート410およびアクチュエータプレート411が互いに積層された状態で嵌め込まれている。
[Support plate]
For example, as shown in FIG. 4, the support plate 413 has a fitting hole 413a extending in the X-axis direction. They are stacked and fitted together.

<1-4.ヘッドチップの製造方法>
図7は、インクジェットヘッドチップ41の製造方法の一例を工程順に表したものである。ここでは、図7を用いて、主にアクチュエータプレート411の製造工程を説明する。
<1-4. Manufacturing Method of Head Chip>
FIG. 7 shows an example of a method for manufacturing the inkjet head chip 41 in order of steps. Here, the manufacturing process of the actuator plate 411 will be mainly described with reference to FIG.

まず、PZT等の圧電材料からなる圧電基板411p,411mを形成する(ステップS1)。次いで、この圧電基板411p,411mの表面411f1(例えば、圧電基板411pのうち、圧電基板411mに接合された面と反対の面)にレジスト膜のパターンを形成する(ステップS2)。レジスト膜は、感光性樹脂材料を表面411f1に塗布して形成するようにしてもよく、あるいは、表面411f1にレジストフィルムを貼り合わせるようにしてもよい。このレジスト膜のパターンは、例えば、フォトリソグラフィ法を用いて形成する。 First, piezoelectric substrates 411p and 411m made of a piezoelectric material such as PZT are formed (step S1). Next, a resist film pattern is formed on the surface 411f1 of the piezoelectric substrates 411p and 411m (for example, the surface of the piezoelectric substrate 411p opposite to the surface bonded to the piezoelectric substrate 411m) (step S2). The resist film may be formed by coating the surface 411f1 with a photosensitive resin material, or by bonding a resist film to the surface 411f1. The pattern of this resist film is formed using, for example, a photolithographic method.

次いで、この圧電基板411p,411mに複数のチャネルC1を形成する(ステップS3)。チャネルC1は、例えばダイサーを用いて、圧電基板に研削加工を行うことにより形成する。このチャネルC1の形成工程では、複数のチャネルC1とともに、表面411f1に複数の開口M1が形成される。 Next, a plurality of channels C1 are formed on the piezoelectric substrates 411p and 411m (step S3). The channel C1 is formed by grinding the piezoelectric substrate using, for example, a dicer. In this channel C1 formation process, a plurality of openings M1 are formed in the surface 411f1 along with the plurality of channels C1.

圧電基板411p,411mに複数のチャネルC1を形成した後、表面411f1およびチャネルC1の内壁面に密着膜CF1および耐腐食膜CF2をこの順に形成する(ステップS4,S5)。密着膜CF1および耐腐食膜CF2は、例えば斜方蒸着法を用いて形成する。斜方蒸着法では、蒸着方向を圧電基板の表面に対する法線方向から傾けるようにするので、チャネルC1の内壁面の広い範囲にわたって密着膜CF1および耐腐食膜CF2を形成することができる。 After forming the plurality of channels C1 on the piezoelectric substrates 411p and 411m, the adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2 are formed in this order on the surface 411f1 and the inner wall surfaces of the channels C1 (steps S4 and S5). The adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 are formed using, for example, an oblique vapor deposition method. In the oblique vapor deposition method, the direction of vapor deposition is tilted from the direction normal to the surface of the piezoelectric substrate, so the adhesion film CF1 and the anti-corrosion film CF2 can be formed over a wide range of the inner wall surface of the channel C1.

このとき、例えば、表面411f1に形成される耐腐食膜CF2の厚みT2が、表面411f1に形成される密着膜CF1の厚みT1と同じなるようにして斜方蒸着法を行う。これにより、密着膜CF1の上端euから下端ebまでが耐腐食膜CF2により覆われやすくなる。これは、蒸着法を用いて密着膜CF1および耐腐食膜CF2を形成するとき、表面411f1に形成される密着膜CF1および耐腐食膜CF2の厚み(厚みT1,T2)と、チャネルC1の深さ方向に形成される密着膜CF1および耐腐食膜CF2の大きさとが、所定の範囲内で相関関係を有するためである。つまり、表面411f1に形成される密着膜CF1および耐腐食膜CF2の厚みを大きくするに連れて、チャネルC1の深さ方向に形成される密着膜CF1および耐腐食膜CF2の大きさも大きくなる。なお、蒸着法では、蒸着方向に応じてチャネルC1の深さ方向に形成される密着膜CF1および耐腐食膜CF2の大きさの限度が決まる。この限度内で、表面411f1に形成される密着膜CF1および耐腐食膜CF2の厚みと、チャネルC1の深さ方向に形成される密着膜CF1および耐腐食膜CF2の大きさとが相関関係を有する。 At this time, for example, the oblique evaporation method is performed so that the thickness T2 of the corrosion resistant film CF2 formed on the surface 411f1 is the same as the thickness T1 of the adhesion film CF1 formed on the surface 411f1. This makes it easier for the adhesion film CF1 to be covered with the corrosion-resistant film CF2 from the upper end eu to the lower end eb. When the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 are formed using the vapor deposition method, the thicknesses (thicknesses T1 and T2) of the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 formed on the surface 411f1 and the depth of the channel C1 This is because the sizes of the adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2 formed in the direction have a correlation within a predetermined range. That is, as the thicknesses of the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 formed on the surface 411f1 increase, the sizes of the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 formed in the depth direction of the channel C1 also increase. In the vapor deposition method, the limits of the sizes of the adhesion film CF1 and the anti-corrosion film CF2 formed in the depth direction of the channel C1 are determined according to the vapor deposition direction. Within this limit, there is a correlation between the thicknesses of the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 formed on the surface 411f1 and the sizes of the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 formed in the depth direction of the channel C1.

チャネルC1の内壁面に密着膜CF1および耐腐食膜CF2を形成した後、表面411f1のレジスト膜のパターンを除去する(ステップS6)。レジスト膜とともに、レジスト膜に付着した密着膜CF1および耐腐食膜CF2も除去される。このレジスト膜の除去工程は、いわゆる、リフトオフ法である。これにより、吐出チャネルC1eの内壁面に形成された密着膜CF1および耐腐食膜CF2と、ダミーチャネルC1dの内壁面に形成された密着膜CF1および耐腐食膜CF2とが電気的に分離される。即ち、吐出チャネルC1eにはコモン電極Edc、ダミーチャネルC1dにはアクティブ電極Eda、表面411f1にはパッド部が各々形成される。 After forming the adhesion film CF1 and the anti-corrosion film CF2 on the inner wall surface of the channel C1, the pattern of the resist film on the surface 411f1 is removed (step S6). Along with the resist film, the adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2 adhering to the resist film are also removed. This resist film removing step is a so-called lift-off method. Thereby, the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 formed on the inner wall surface of the discharge channel C1e are electrically separated from the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 formed on the inner wall surface of the dummy channel C1d. That is, a common electrode Edc is formed on the ejection channel C1e, an active electrode Eda is formed on the dummy channel C1d, and a pad portion is formed on the surface 411f1.

このようにしてアクチュエータプレート411を完成させた後、アクチュエータプレート411と他のプレート(例えば、カバープレート410およびノズルプレート412等)との組み立てを行う(ステップS7)。これにより、図3および図4等に示したインクジェットヘッドチップ41が完成する。 After completing the actuator plate 411 in this manner, the actuator plate 411 and other plates (eg, the cover plate 410 and the nozzle plate 412, etc.) are assembled (step S7). As a result, the inkjet head chip 41 shown in FIGS. 3 and 4 is completed.

<1-5.動作>
[プリンタの動作]
このプリンタ1では、搬送方向Dに記録紙Pが搬送されると共に、搬送方向Dと交差する方向においてインクジェットヘッド4が往復移動しながら記録紙Pにインク9を噴射する。これにより、記録紙Pに画像が記録される。
<1-5. Operation>
[Printer operation]
In this printer 1, the recording paper P is transported in the transport direction D, and the ink 9 is ejected onto the recording paper P while the inkjet head 4 reciprocates in the direction intersecting the transport direction D. As shown in FIG. Thus, an image is recorded on the recording paper P. FIG.

[インクジェットヘッドの動作]
このインクジェットヘッド4では、例えば、以下の手順により、せん断(シェア)モードを用いて記録紙Pにインク9が噴射される。
[Inkjet head operation]
The inkjet head 4 ejects the ink 9 onto the recording paper P using a shear mode, for example, according to the following procedure.

インクジェットヘッド4では、駆動回路43bがアクチュエータプレート411(複数のアクティブ電極Eda)に駆動電圧を印加する際に、その駆動回路43bがノズルプレート412に対応電圧を印加する。この場合には、圧電厚み滑り効果を利用して各駆動壁WdがY軸方向において屈曲変形する。これにより、各吐出チャネルC1eの容積が増大するため、各吐出チャネルC1eにインク9が誘導される。こののち、駆動電圧がゼロ(0V)になると共に、対応電圧もゼロ(0V)になると、各駆動壁Wdが元の状態に戻るように変形する。これにより、各吐出チャネルC1eの容積が減少することに起因して、各吐出チャネルC1eに誘導されたインク9が加圧されるため、各ノズル孔H2から記録紙Pにインク9が噴射される。 In the inkjet head 4, the drive circuit 43b applies a corresponding voltage to the nozzle plate 412 when the drive circuit 43b applies a drive voltage to the actuator plate 411 (the plurality of active electrodes Eda). In this case, each drive wall Wd bends and deforms in the Y-axis direction by utilizing the piezoelectric thickness sliding effect. As a result, the volume of each ejection channel C1e increases, so the ink 9 is guided to each ejection channel C1e. After that, when the drive voltage becomes zero (0V) and the corresponding voltage also becomes zero (0V), each drive wall Wd is deformed to return to its original state. As a result, the ink 9 guided to each ejection channel C1e is pressurized due to the decrease in the volume of each ejection channel C1e, so that the ink 9 is ejected onto the recording paper P from each nozzle hole H2. .

<1-6.作用および効果>
本実施の形態のインクジェットヘッドチップ41、インクジェットヘッド4およびプリンタ1では、アクチュエータプレート411の駆動電極Edが密着膜CF1および耐腐食膜CF2を含んでおり、耐腐食膜CF2が密着膜CF1の上端euから下端ebまでを覆っている。これにより、駆動電極Edの腐食に起因したインクジェットヘッドチップ41の信頼性の低下を抑えることができる。以下、比較例(比較例1)を用いて、この作用効果について説明する。
<1-6. Action and effect>
In the inkjet head chip 41, the inkjet head 4, and the printer 1 of the present embodiment, the drive electrode Ed of the actuator plate 411 includes the adhesion film CF1 and the anti-corrosion film CF2, and the anti-corrosion film CF2 is the upper end eu of the adhesion film CF1. to the lower end eb. As a result, deterioration in reliability of the inkjet head chip 41 due to corrosion of the drive electrodes Ed can be suppressed. Hereinafter, this effect will be described using a comparative example (comparative example 1).

図8は、比較例1に係るインクジェットヘッドチップ141の要部の構成を拡大して表したものである。図8は、インクジェットヘッドチップ41を表す図6に対応している。インクジェットヘッドチップ141では、インクジェットヘッドチップ41と同様に、駆動電極Edが密着膜CF1および耐腐食膜CF2を含んでいる。しかし、インクジェットヘッドチップ141では、この駆動電極Edに、密着膜CF1が耐腐食膜CF2から露出された部分が設けられている。具体的には、耐腐食膜CF2が密着膜CF1よりも浅く形成されており、耐腐食膜CF2は密着膜CF1の下端eb側の一部を覆っていない。このように駆動電極Edの一部で密着膜CF1が耐腐食膜CF2から露出されていると、密着膜CF1がインク9に触れやすくなる。密着膜CF1は、耐腐食膜DF2に比べて耐腐食性が低いので、インク9と密着膜CF1とが接触する部分では腐食が生じやすい。これにより、駆動電極Edの不具合が発生し、インクジェットヘッドチップ141の信頼性が低下する。 FIG. 8 is an enlarged view of the configuration of the main part of an inkjet head chip 141 according to Comparative Example 1. As shown in FIG. FIG. 8 corresponds to FIG. 6 showing the inkjet head chip 41 . In the inkjet head chip 141, similarly to the inkjet head chip 41, the drive electrodes Ed include the adhesion film CF1 and the anti-corrosion film CF2. However, in the inkjet head chip 141, the drive electrode Ed is provided with a portion where the adhesion film CF1 is exposed from the anti-corrosion film CF2. Specifically, the corrosion-resistant film CF2 is formed shallower than the adhesion film CF1, and the corrosion-resistant film CF2 does not cover a portion of the adhesion film CF1 on the lower end eb side. When the contact film CF1 is exposed from the anti-corrosion film CF2 in a portion of the drive electrode Ed in this manner, the contact film CF1 is likely to come into contact with the ink 9. As shown in FIG. Since the adhesion film CF1 has lower corrosion resistance than the corrosion-resistant film DF2, corrosion is likely to occur at the portion where the ink 9 and the adhesion film CF1 contact each other. As a result, the drive electrode Ed becomes defective, and the reliability of the inkjet head chip 141 is lowered.

これに対し、インクジェットヘッドチップ41の駆動電極Edでは、耐腐食膜CF2が密着膜CF1の上端euから下端ebまでを覆っている。したがって、駆動電極Edのいずれの部分においても密着膜CF1が耐腐食膜CF2により覆われており、密着膜CF1とインク9との接触を抑えることができる。 On the other hand, in the drive electrode Ed of the inkjet head chip 41, the anti-corrosion film CF2 covers the adhesion film CF1 from the upper end eu to the lower end eb. Therefore, the adhesion film CF1 is covered with the anti-corrosion film CF2 at any portion of the drive electrode Ed, and contact between the adhesion film CF1 and the ink 9 can be suppressed.

また、チャネルC1の深さ方向では、耐腐食膜CF2の大きさが密着膜CF1の大きさと略同じであり、耐腐食膜CF2の下端の位置が密着膜CF1の下端ebの位置に揃っていることが好ましい。このとき、例えば、耐腐食膜CF2の厚みT2は、その周辺の密着膜CF1の厚みT1と同じになっている(T1≒T2)。仮に、チャネルC1の深さ方向で、耐腐食膜CF2の大きさを密着膜CF1の大きさよりも大きくすると、耐腐食膜CF2の下端側の一部は密着膜CF1を介さずに駆動壁Wdに設けられる。この場合、耐腐食膜CF2の下端側から剥がれが生じ、駆動電極Edの剥がれに起因した異物混入(コンタミネーション)が発生するおそれがある。チャネルC1の深さ方向において、耐腐食膜CF2の下端の位置を密着膜CF1の下端ebの位置に揃えることにより、このような駆動電極Edの剥がれに起因した異物混入の発生を抑えることができる。 Further, in the depth direction of the channel C1, the size of the corrosion resistant film CF2 is substantially the same as the size of the adhesion film CF1, and the position of the lower end of the corrosion resistant film CF2 is aligned with the position of the lower end eb of the adhesion film CF1. is preferred. At this time, for example, the thickness T2 of the corrosion-resistant film CF2 is the same as the thickness T1 of the surrounding adhesion film CF1 (T1≈T2). If, in the depth direction of the channel C1, the size of the corrosion-resistant film CF2 is made larger than the size of the adhesion film CF1, a part of the lower end side of the corrosion-resistant film CF2 is not connected to the drive wall Wd without passing through the adhesion film CF1. be provided. In this case, peeling occurs from the lower end side of the corrosion-resistant film CF2, and there is a risk of contamination due to the peeling of the drive electrode Ed. By aligning the position of the lower end of the corrosion-resistant film CF2 with the position of the lower end eb of the adhesion film CF1 in the depth direction of the channel C1, it is possible to suppress the occurrence of contamination due to such peeling of the drive electrode Ed. .

以上のように本実施の形態のインクジェットヘッドチップ41では、密着膜CF1がチャネルC1の深さ方向にわたって耐腐食膜CF2で覆われているので、密着膜CF1とインク9との接触に起因した駆動電極Edの腐食が抑えられる。よって、インクジェットヘッドチップ41、インクジェットヘッド4およびプリンタ1の信頼性を向上させることが可能となる。 As described above, in the inkjet head chip 41 of the present embodiment, since the adhesion film CF1 is covered with the anti-corrosion film CF2 over the depth direction of the channel C1, the driving force caused by the contact between the adhesion film CF1 and the ink 9 is reduced. Corrosion of the electrode Ed is suppressed. Therefore, the reliability of the inkjet head chip 41, the inkjet head 4 and the printer 1 can be improved.

<2.変形例>
図9は、変形例に係るインクジェットヘッドチップ41Aの要部の模式的な断面構成を表している。図9は、上記実施の形態に係るインクジェットヘッドチップ41を表す図5に対応している。変形例に係るインクジェットヘッドチップ41Aでは、複数のチャネルC1各々がアクチュエータプレート411の表面411f1から裏面411f2まで貫通している。即ち、複数のチャネルC1各々は、アクチュエータプレート411の表面411f1に設けられた開口M1に連通するとともに、アクチュエータプレート411の裏面411f2に設けられた開口M2に連通している。これにより、チャネルC1の内壁面に、アクチュエータプレート411の表面411f1側から形成する蒸着膜(後述の密着膜CF3および耐腐食膜CF4)と、裏面411f2側から形成する蒸着膜(後述の密着膜CF1および耐腐食膜CF2)とを含む駆動電極Edを形成することが可能となる。
<2. Variation>
FIG. 9 shows a schematic cross-sectional configuration of a main part of an inkjet head chip 41A according to a modification. FIG. 9 corresponds to FIG. 5 showing the inkjet head chip 41 according to the above embodiment. In the inkjet head chip 41A according to the modified example, each of the plurality of channels C1 penetrates the actuator plate 411 from the front surface 411f1 to the rear surface 411f2. That is, each of the plurality of channels C1 communicates with the opening M1 provided on the front surface 411f1 of the actuator plate 411 and communicates with the opening M2 provided on the back surface 411f2 of the actuator plate 411 . As a result, on the inner wall surface of the channel C1, a vapor deposition film (adhesion film CF3 and corrosion resistant film CF4 described later) formed from the front surface 411f1 side of the actuator plate 411 and a vapor deposition film (adhesion film CF1 described later) formed from the back surface 411f2 side are formed. and the corrosion resistant film CF2).

ここでは、裏面411f2が本開示の「第1面」の一具体例に対応し、表面411f1が本開示の「第2面」の一具体例に対応する。また、開口M2が本開示の「第1開口」の一具体例に対応し、開口M1が本開示の「第2開口」の一具体例に対応する。 Here, the back surface 411f2 corresponds to a specific example of the "first surface" of the present disclosure, and the front surface 411f1 corresponds to a specific example of the "second surface" of the present disclosure. Further, the opening M2 corresponds to a specific example of the "first opening" of the present disclosure, and the opening M1 corresponds to a specific example of the "second opening" of the present disclosure.

インクジェットヘッドチップ41Aは、アクチュエータプレート411およびカバープレート410に加えて、アクチュエータプレート411の裏面411f2に貼り合わされた封止プレート415を含んでいる。即ち、複数のアクチュエータプレート411の裏面411f2に設けられた複数の開口M2各々は、封止プレート415により閉塞されている。この封止プレート415は、アクチュエータプレート411を間にしてカバープレート410に対向している。封止プレート415は、例えばPZTまたはシリコン等により構成されている。 The inkjet head chip 41A includes an actuator plate 411 and a cover plate 410, as well as a sealing plate 415 bonded to the back surface 411f2 of the actuator plate 411. As shown in FIG. That is, each of the plurality of openings M2 provided on the rear surface 411f2 of the plurality of actuator plates 411 is closed by the sealing plate 415. As shown in FIG. The sealing plate 415 faces the cover plate 410 with the actuator plate 411 therebetween. The sealing plate 415 is made of PZT, silicon, or the like, for example.

図10は、図9に示した駆動電極Edのより具体的な構成を表したものである。駆動電極Edは、アクチュエータプレート411の表面411f1から裏面411f2側に延在する密着膜CF3および耐腐食膜CF4と、裏面411f2から表面411f1側に延在する密着膜CF1および耐腐食膜CF2とを含んでいる。表面411f1側(開口M1側)では、駆動壁Wd側から密着膜CF3および耐腐食膜CF4がこの順に積層され、裏面411f2側(開口M2側)では、密着膜CF1および耐腐食膜CF2がこの順に積層されている。密着膜CF3および耐腐食膜CF4の少なくとも一方は、密着膜CF1および耐腐食膜CF2の少なくとも一方に接続されている。後述するように、アクチュエータプレート411の表面411f1側から密着膜CF3および耐腐食膜CF4を形成した後、裏面411f2側から密着膜CF1および耐腐食膜CF2を形成する。 FIG. 10 shows a more specific configuration of the drive electrodes Ed shown in FIG. The drive electrode Ed includes an adhesion film CF3 and a corrosion-resistant film CF4 extending from the front surface 411f1 of the actuator plate 411 to the rear surface 411f2 side, and an adhesion film CF1 and a corrosion-resistant film CF2 extending from the rear surface 411f2 to the front surface 411f1 side. I'm in. On the front surface 411f1 side (opening M1 side), the adhesion film CF3 and the corrosion-resistant film CF4 are laminated in this order from the drive wall Wd side, and on the back surface 411f2 side (opening M2 side), the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 are laminated in this order. Laminated. At least one of the adhesion film CF3 and the corrosion resistant film CF4 is connected to at least one of the adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2. As will be described later, after forming the adhesion film CF3 and the corrosion-resistant film CF4 from the front surface 411f1 side of the actuator plate 411, the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 are formed from the rear surface 411f2 side.

ここでは、密着膜CF3が本開示の「第2密着膜」の一具体例に対応し、耐腐食膜CF4が本開示の「第2耐腐食膜」の一具体例に対応する。 Here, the adhesion film CF3 corresponds to a specific example of the "second adhesion film" of the present disclosure, and the corrosion resistant film CF4 corresponds to a specific example of the "second corrosion resistant film" of the present disclosure.

密着膜CF3は、後述するように、例えば蒸着法により成膜されたものである。この密着膜CF3は、例えば、駆動壁Wd(圧電基板411p,411m)に接している。密着膜CF3は、密着膜CF1よりも開口M1側に設けられ、開口M1側から駆動壁Wdの少なくとも一部を覆っている。密着膜CF3は、例えば、開口M1側の駆動壁Wdの一部を覆っているが、開口M1から開口M2まで全ての駆動壁Wdを覆っていてもよい。密着膜CF3は、チャネルC1の深さ方向(図10のY方向)の上端eu3および下端eb3を有している。上端eu3は表面411f1(開口M1)側に設けられ、下端eb3は裏面411f2側(開口M2)に設けられている。例えば、複数の駆動電極Ed各々の一部では、密着膜CF3の上端euが開口M1の外側の表面411f1に設けられている。ここでは、上端eu3が本開示の「第2密着膜の一端」の一具体例に対応し、下端eb3が本開示の「第2密着膜の他端」の一具体例に対応する。この密着膜CF3は、耐腐食膜CF4を駆動壁Wdに密着させるためのものであり、圧電基板411p,411mに対して高い密着性を有している。密着膜CF3は、例えば、チタン(Ti),銅(Cu),ニッケル(Ni)およびクロム(Cr)等のうちの少なくとも1つを含んでいる。 The adhesion film CF3 is formed by, for example, a vapor deposition method, as will be described later. This adhesion film CF3 is in contact with, for example, the drive walls Wd (piezoelectric substrates 411p and 411m). The adhesion film CF3 is provided closer to the opening M1 than the adhesion film CF1, and covers at least part of the driving wall Wd from the opening M1 side. The adhesion film CF3 covers, for example, a portion of the driving wall Wd on the opening M1 side, but may cover the entire driving wall Wd from the opening M1 to the opening M2. The adhesion film CF3 has an upper end eu3 and a lower end eb3 in the depth direction (Y direction in FIG. 10) of the channel C1. The upper end eu3 is provided on the front surface 411f1 (opening M1) side, and the lower end eb3 is provided on the rear surface 411f2 side (opening M2). For example, in a part of each of the plurality of drive electrodes Ed, the upper end eu of the adhesion film CF3 is provided on the outer surface 411f1 of the opening M1. Here, the upper end eu3 corresponds to a specific example of "one end of the second adhesion film" of the present disclosure, and the lower end eb3 corresponds to a specific example of "the other end of the second adhesion film" of the present disclosure. The adhesion film CF3 is for adhering the anti-corrosion film CF4 to the drive wall Wd, and has high adhesion to the piezoelectric substrates 411p and 411m. The adhesion film CF3 contains, for example, at least one of titanium (Ti), copper (Cu), nickel (Ni), chromium (Cr), and the like.

耐腐食膜CF4は、後述するように、例えば、密着膜CF3を形成した後、蒸着法により成膜されたものであり、密着膜CF3上に設けられている。即ち、密着膜CF3および耐腐食膜CF4は蒸着膜により構成されている。例えば、チャネルC1の深さ方向では、耐腐食膜CF4の大きさが密着膜CF3の大きさよりも小さくなっており、耐腐食膜CF4の下端は密着膜CF3の下端eb3よりも表面411f1側に設けられている。耐腐食膜CF4は、インク9に対して高い耐腐食性を有していることが好ましい。耐腐食膜CF4は、例えば、金(Au),白金(Pt)またはパラジウム(Pd)等の貴金属により構成されている。 As will be described later, the corrosion resistant film CF4 is formed, for example, by vapor deposition after forming the adhesion film CF3, and is provided on the adhesion film CF3. In other words, the adhesion film CF3 and the anti-corrosion film CF4 are composed of vapor deposition films. For example, in the depth direction of the channel C1, the size of the corrosion-resistant film CF4 is smaller than the size of the adhesion film CF3, and the lower end of the corrosion-resistant film CF4 is provided closer to the surface 411f1 than the lower end eb3 of the adhesion film CF3. It is The corrosion resistant film CF4 preferably has high corrosion resistance to the ink 9 . The corrosion resistant film CF4 is made of noble metal such as gold (Au), platinum (Pt) or palladium (Pd).

密着膜CF1は、例えば、開口M2近傍で駆動壁Wd(圧電基板411p,411m)に接しており、開口M2側から駆動壁Wdの少なくとも一部を覆っている。密着膜CF1は、例えば、開口M2側の駆動壁の一部を覆っているが、開口M2から開口M1まで全ての駆動壁Wdを覆っていてもよい。密着膜CF1の下端ebは裏面411f2(開口M2)側に設けられ、上端euは表面411f1(開口M1)側に設けられている。密着膜CF1の下端ebは、開口M2の外側の裏面411f2に設けられていてもよく、あるいは、チャネルC1内に設けられていてもよい。ここでは、下端ebが本開示の「第1密着膜の一端」の一具体例に対応し、上端euが本開示の「第1密着膜の他端」の一具体例に対応する。 The adhesion film CF1 is, for example, in contact with the drive wall Wd (piezoelectric substrates 411p and 411m) near the opening M2, and covers at least a portion of the drive wall Wd from the opening M2 side. The adhesion film CF1 covers, for example, part of the driving wall on the opening M2 side, but may cover the entire driving wall Wd from the opening M2 to the opening M1. The lower end eb of the adhesion film CF1 is provided on the back surface 411f2 (opening M2) side, and the upper end eu is provided on the front surface 411f1 (opening M1) side. The lower end eb of the adhesion film CF1 may be provided on the back surface 411f2 outside the opening M2, or may be provided within the channel C1. Here, the lower end eb corresponds to a specific example of "one end of the first adhesion film" of the present disclosure, and the upper end eu corresponds to a specific example of "the other end of the first adhesion film" of the present disclosure.

耐腐食膜CF2は、密着膜CF1の下端ebから上端euまでを覆っており、駆動電極Edには、密着膜CF1が耐腐食膜CF2から露出された部分が設けられていない。上記実施の形態で説明したのと同様に、これにより、駆動電極Edの腐食に起因したインクジェットヘッドチップ41の信頼性の低下を抑えることが可能となる。例えば、耐腐食膜CF2の厚みT2は、その周辺の密着膜CF1の厚みT1とほぼ同じ、あるいは、耐腐食膜CF2の厚みT2は、その周辺の密着膜CF1の厚みT1よりも大きくなっている(T1≦T2)。例えば、チャネルC1の深さ方向では、耐腐食膜CF2の大きさが密着膜CF1の大きさよりも大きくなっており、耐腐食膜CF2の上端は密着膜CF1の上端euよりも表面411f1側に設けられている。チャネルC1の深さ方向での耐腐食膜CF2の大きさは、密着膜CF1の大きさ以上であればよく、耐腐食膜CF2の上端の位置が密着膜CF1の上端euの位置に揃っていてもよい。例えば、耐腐食膜CF2の下端の位置は、密着膜CF1の下端ebの位置に揃っている。上記実施の形態で説明したのと同様に、密着膜CF1および耐腐食膜CF2はそれぞれ、チャネルC1の深さ方向の位置により厚みT1,T2が変化していてもよい。密着膜CF1および耐腐食膜CF2それぞれの上端から下端までを比較したとき、耐腐食膜CF2の厚みは、密着膜CF1の厚み以上になっている。 The corrosion-resistant film CF2 covers the adhesion film CF1 from the lower end eb to the upper end eu, and the drive electrode Ed does not have a portion where the adhesion film CF1 is exposed from the corrosion-resistant film CF2. As described in the above embodiment, this makes it possible to suppress deterioration in reliability of the inkjet head chip 41 due to corrosion of the drive electrodes Ed. For example, the thickness T2 of the corrosion-resistant film CF2 is substantially the same as the thickness T1 of the adhesion film CF1 around it, or the thickness T2 of the corrosion-resistant film CF2 is larger than the thickness T1 of the adhesion film CF1 around it. (T1≦T2). For example, in the depth direction of the channel C1, the size of the corrosion-resistant film CF2 is larger than the size of the adhesion film CF1, and the upper end of the corrosion-resistant film CF2 is provided closer to the surface 411f1 than the upper end eu of the adhesion film CF1. It is The size of the corrosion-resistant film CF2 in the depth direction of the channel C1 should be equal to or larger than the size of the adhesion film CF1, and the upper end of the corrosion-resistant film CF2 is aligned with the upper end eu of the adhesion film CF1. good too. For example, the position of the lower end of the corrosion resistant film CF2 is aligned with the position of the lower end eb of the adhesion film CF1. As described in the above embodiment, the thicknesses T1 and T2 of the adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2 may vary depending on the position in the depth direction of the channel C1. Comparing the respective top to bottom ends of the adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2, the thickness of the corrosion resistant film CF2 is equal to or greater than the thickness of the adhesion film CF1.

密着膜CF1の上端euは耐腐食膜CF4上に設けられ、密着膜CF1の少なくとも一部が耐腐食膜CF4に重なっていることが好ましい。換言すれば、駆動電極Edは、密着膜CF1と耐腐食膜CF4とが重なる重なり部OPを有していることが好ましい。これにより、上記のように、密着膜CF3の下端eb3側の一部が耐腐食膜CF4から露出されていても、この密着膜CF3の露出部分が耐腐食膜CF2に覆われる。したがって、密着膜CF3とインク9との接触に起因した駆動電極Edの腐食を抑えることができる。また、駆動電極Edが重なり部OPを有することにより、以下のような理由により、密着膜CF1の剥がれを抑えることができる。 Preferably, the upper end eu of the adhesion film CF1 is provided on the corrosion-resistant film CF4, and at least part of the adhesion film CF1 overlaps the corrosion-resistant film CF4. In other words, the drive electrode Ed preferably has an overlapping portion OP where the adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF4 overlap. As a result, as described above, even if a portion of the adhesion film CF3 on the side of the lower end eb3 is exposed from the corrosion-resistant film CF4, the exposed portion of the adhesion film CF3 is covered with the corrosion-resistant film CF2. Therefore, corrosion of the drive electrodes Ed due to contact between the adhesion film CF3 and the ink 9 can be suppressed. Moreover, since the driving electrode Ed has the overlapping portion OP, peeling of the adhesion film CF1 can be suppressed for the following reasons.

例えば、重なり部OPを有さない駆動電極Edでは、密着膜CF1の上端euが、より裏面411f2側に配置されており、密着膜CF1が密着膜CF3および耐腐食膜CF4のうち、密着膜CF3にのみ重なる。この場合、密着膜CF1と密着膜CF3との密着性が低く、密着膜CF1の剥がれが生じるおそれがある。また、駆動電極Edの抵抗が高くなり易い。これらは、密着膜CF1の表面に形成される不動態膜に起因している。一方、耐腐食膜CF4の表面には不動態膜が形成されにくい。したがって、駆動電極Edが重なり部OPを有することにより、重なり部OPでは耐腐食膜CF4に密着膜CF1が密着するので、密着膜CF1の剥がれを抑えることができる。また、駆動電極Edの抵抗を下げることが可能となる。このような重なり部OPでは、駆動壁Wd側から、密着膜CF1、耐腐食膜CF2、密着膜CF3および耐腐食膜CF4がこの順に積層されている。 For example, in the drive electrode Ed that does not have the overlapping portion OP, the upper end eu of the adhesion film CF1 is arranged closer to the back surface 411f2, and the adhesion film CF1 is closer to the adhesion film CF3 than the adhesion film CF3 or the corrosion resistant film CF4. overlaps only with In this case, the adhesion between the adhesion film CF1 and the adhesion film CF3 is low, and the adhesion film CF1 may be peeled off. Also, the resistance of the drive electrode Ed tends to increase. These are caused by the passive film formed on the surface of the adhesion film CF1. On the other hand, it is difficult to form a passive film on the surface of the corrosion resistant film CF4. Therefore, since the drive electrode Ed has the overlapping portion OP, the adhesion film CF1 is in close contact with the anti-corrosion film CF4 in the overlapping portion OP, so that peeling of the adhesion film CF1 can be suppressed. Moreover, it becomes possible to lower the resistance of the drive electrode Ed. In such an overlapping portion OP, the adhesion film CF1, the corrosion-resistant film CF2, the adhesion film CF3, and the corrosion-resistant film CF4 are laminated in this order from the driving wall Wd side.

図11は、図10に示した駆動電極Edの構成の他の例を表している。このように、耐腐食膜CF2が密着膜CF1の下端ebから上端euまでを覆い、かつ、耐腐食膜CF4が密着膜CF3の上端eu3から下端eb3までを覆っていてもよい。これにより、重なり部OPを形成しやすくなり、より効果的に密着膜CF1の剥がれを抑えることができる。また、駆動電極Edの抵抗もより下げることができる。このとき、例えば、耐腐食膜CF4の上端および下端の位置は各々、密着膜CF3の上端から下端の位置に揃っており、耐腐食膜CF4の厚みT4は、その周辺の密着膜CF3の厚みT3とほぼ同じになっている。 FIG. 11 shows another example of the configuration of the drive electrodes Ed shown in FIG. In this manner, the corrosion resistant film CF2 may cover the adhesion film CF1 from the lower end eb to the upper end eu, and the corrosion resistant film CF4 may cover the adhesion film CF3 from the upper end eu3 to the lower end eb3. This makes it easier to form the overlapping portion OP, and it is possible to more effectively suppress peeling of the adhesion film CF1. Also, the resistance of the drive electrode Ed can be further reduced. At this time, for example, the positions of the upper end and the lower end of the corrosion resistant film CF4 are aligned with the positions from the upper end to the lower end of the adhesion film CF3, and the thickness T4 of the corrosion resistant film CF4 is equal to the thickness T3 of the adhesion film CF3 around it. is almost the same as

次に、図12~図13Fを用いてインクジェットヘッドチップ41Aの製造方法について説明する。図12は、インクジェットヘッドチップ41Aの製造方法の一例を工程順に表したものであり、図13A~図13Fは、図12に示した各工程について説明するための断面図を表している。 Next, a method for manufacturing the inkjet head chip 41A will be described with reference to FIGS. 12 to 13F. FIGS. 12A to 12F show an example of a method of manufacturing the inkjet head chip 41A in order of steps, and FIGS. 13A to 13F are cross-sectional views for explaining each step shown in FIG.

まず、上記インクジェットヘッドチップ41の製造方法(図7参照)で説明したのと同様に、圧電基板の形成(ステップS1)およびレジスト膜のパターン形成(ステップS2)をこの順に行う。圧電基板の形成工程(ステップS1)では、図13Aに示したように、厚さ方向(Y軸方向)に分極処理された2枚の圧電基板(圧電基板411pZおよび圧電基板411mZ)を用意し、各々の分極方向が逆向きとなるようにそれらを積層する。そののち、必要に応じて圧電基板411pZに対し研削加工を行い、圧電基板411pZの厚さを調整する。これにより圧電基板411pおよび表面411f1が形成される。次に、この表面411f1にレジスト膜のパターン(図13BのパターンRP1)を形成する。このレジスト膜のパターンRP1は、表面411f1にコモン電極Edc、アクティブ電極Eda各々に電気的に接続されたパッド部(図示せず)と、コモン電極Edcおよびアクティブ電極Edaをパッド部に接続するための配線とを形成するためのものである。 First, in the same manner as described in the manufacturing method of the inkjet head chip 41 (see FIG. 7), formation of the piezoelectric substrate (step S1) and pattern formation of the resist film (step S2) are performed in this order. In the piezoelectric substrate forming step (step S1), as shown in FIG. 13A, two piezoelectric substrates (piezoelectric substrate 411pZ and piezoelectric substrate 411mZ) polarized in the thickness direction (Y-axis direction) are prepared, They are stacked so that their polarization directions are opposite to each other. Thereafter, the piezoelectric substrate 411pZ is ground as necessary to adjust the thickness of the piezoelectric substrate 411pZ. This forms the piezoelectric substrate 411p and the surface 411f1. Next, a resist film pattern (pattern RP1 in FIG. 13B) is formed on the surface 411f1. The pattern RP1 of this resist film has a pad portion (not shown) electrically connected to each of the common electrode Edc and the active electrode Eda on the surface 411f1, and a pad portion for connecting the common electrode Edc and the active electrode Eda to the pad portion. It is for forming wiring.

続いて、図13Bに示したように、複数のチャネルC1それぞれを形成する位置に、トレンチC1Uを形成する(ステップS3)。この複数のトレンチC1Uにより、複数のチャネルC1が形成される。トレンチC1Uは、例えば、表面411f1から、ダイシングブレード等を用いて研削加工を行うことにより形成する。これにより、複数のトレンチC1Uとともに、表面411f1には複数のトレンチC1U各々に連通された複数の開口M1が形成される。 Subsequently, as shown in FIG. 13B, trenches C1U are formed at positions where the plurality of channels C1 are to be formed (step S3). A plurality of channels C1 are formed by the plurality of trenches C1U. The trench C1U is formed, for example, by grinding the surface 411f1 using a dicing blade or the like. Thus, along with the plurality of trenches C1U, a plurality of openings M1 communicating with each of the plurality of trenches C1U are formed in the surface 411f1.

圧電基板411Zに複数のトレンチC1Uを形成した後、図13Cに示したように、例えば蒸着法により、密着膜CF3および耐腐食膜CF4をこの順に形成する(ステップS12,S13)。密着膜CF3および耐腐食膜CF4は、複数のトレンチC1Uの内壁面および表面411f1に形成する。この密着膜CF3および耐腐食膜CF4の形成工程(ステップS12,S13)では、斜方蒸着法を用いることが好ましい。上記実施の形態で説明したのと同様に、これにより、トレンチC1Uの深さ方向(図13CのY軸方向)にわたって広く密着膜CF3および耐腐食膜CF4を形成することができる。このとき、密着膜CF3の下端(図10の下端eb3)側の一部は耐腐食膜CF4から露出されていてもよく(図10参照)、あるいは、トレンチC1Uの深さ方向にわたって密着膜CF3が耐腐食膜CF4により覆われていてもよい(図11参照)。 After forming a plurality of trenches C1U in the piezoelectric substrate 411Z, as shown in FIG. 13C, an adhesion film CF3 and a corrosion-resistant film CF4 are formed in this order by vapor deposition, for example (steps S12 and S13). The adhesion film CF3 and the anti-corrosion film CF4 are formed on the inner wall surface and surface 411f1 of the plurality of trenches C1U. In the step of forming the adhesion film CF3 and the corrosion resistant film CF4 (steps S12 and S13), it is preferable to use an oblique vapor deposition method. As described in the above embodiment, this makes it possible to form the adhesion film CF3 and the corrosion resistant film CF4 widely over the depth direction of the trench C1U (the Y-axis direction in FIG. 13C). At this time, a part of the lower end (lower end eb3 in FIG. 10) of the adhesion film CF3 may be exposed from the anti-corrosion film CF4 (see FIG. 10), or the adhesion film CF3 may extend in the depth direction of the trench C1U. It may be covered with a corrosion resistant film CF4 (see FIG. 11).

密着膜CF3および耐腐食膜CF4を形成した後、レジスト膜のパターンRP1を除去する(ステップS14)。これにより、レジスト膜のパターンRP1に付着した密着膜CF3および耐腐食膜CF4も除去され(リフトオフ法)、トレンチC1Uの内壁面の密着膜CF3および耐腐食膜CF4と、表面411f1の選択的な領域に設けられた密着膜CF3および耐腐食膜CF4とが残る。例えば、表面411f1の選択的な領域に設けられた密着膜CF3および耐腐食膜CF4により、駆動電極Edに電気的に接続された配線およびパッド部(図示せず)が形成される。 After forming the adhesion film CF3 and the corrosion resistant film CF4, the pattern RP1 of the resist film is removed (step S14). As a result, the adhesion film CF3 and the corrosion-resistant film CF4 adhering to the pattern RP1 of the resist film are also removed (lift-off method), and the adhesion film CF3 and the corrosion-resistant film CF4 on the inner wall surface of the trench C1U and selective regions of the surface 411f1 are removed. The adhesion film CF3 and the anti-corrosion film CF4 provided in the region remain. For example, the adhesion film CF3 and the anti-corrosion film CF4 provided in selective regions of the surface 411f1 form wirings and pads (not shown) electrically connected to the drive electrodes Ed.

この後、図13Dに示したように、レジスト膜のパターンRP1が除去された表面411f1に、カバープレート410を貼り合わせる(ステップS15)。続いて、図13Eに示したように、圧電基板411mZに裏面(圧電基板411pと反対側の面)から研削加工を行う(ステップS16)。この研削工程(ステップS16)では、裏面411f2に複数のトレンチC1Uを露出させ、裏面411f2に複数のチャネルC1各々に連通した開口M2を形成する。これにより、圧電基板411mZの厚みが調整され、圧電基板411mが形成される。 Thereafter, as shown in FIG. 13D, the cover plate 410 is attached to the surface 411f1 from which the resist film pattern RP1 has been removed (step S15). Subsequently, as shown in FIG. 13E, the piezoelectric substrate 411mZ is ground from the rear surface (the surface opposite to the piezoelectric substrate 411p) (step S16). In this grinding step (step S16), a plurality of trenches C1U are exposed in the back surface 411f2, and openings M2 communicating with the plurality of channels C1 are formed in the back surface 411f2. Thereby, the thickness of the piezoelectric substrate 411mZ is adjusted, and the piezoelectric substrate 411m is formed.

裏面411f2に複数の開口M2を形成した後、図13Fに示したように、裏面411f2にレジスト膜のパターンRP2を形成する(ステップS17)。 After forming the plurality of openings M2 on the back surface 411f2, as shown in FIG. 13F, a resist film pattern RP2 is formed on the back surface 411f2 (step S17).

裏面411f2にレジスト膜のパターンRP2を形成した後、例えば蒸着法により、密着膜CF1および耐腐食膜CF2をこの順に形成する(ステップS18,S19)。密着膜CF1および耐腐食膜CF2は、複数のチャネルC1の内壁面とレジスト膜のパターンRP2とを覆うように形成する。この密着膜CF1および耐腐食膜CF2の形成工程(ステップS18,S19)では、斜方蒸着法を用いることが好ましい。上記実施の形態で説明したのと同様に、これにより、チャネルC1の深さ方向にわたって広く密着膜CF1および耐腐食膜CF2を形成することができる。このとき、密着膜CF1は、耐腐食膜CF4に重なるように形成する(図10,図11の重なり部OP)。また、裏面411f2に形成される耐腐食膜CF2の厚みT2は、裏面411f2に形成される密着膜CF1の厚みT1と同じ、あるいは裏面411f2に形成される密着膜CF1の厚みT1よりも大きくなるようにして斜方蒸着法を行う。これにより、密着膜CF1の下端ebから上端euまでが耐腐食膜CF2により覆われる。 After the pattern RP2 of the resist film is formed on the back surface 411f2, the adhesion film CF1 and the anti-corrosion film CF2 are formed in this order by, for example, vapor deposition (steps S18 and S19). The adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2 are formed to cover the inner wall surfaces of the plurality of channels C1 and the resist film pattern RP2. In the step of forming the adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2 (steps S18 and S19), it is preferable to use an oblique vapor deposition method. As described in the above embodiment, this makes it possible to form the adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2 widely over the depth direction of the channel C1. At this time, the adhesion film CF1 is formed so as to overlap the corrosion-resistant film CF4 (overlapping portion OP in FIGS. 10 and 11). Further, the thickness T2 of the corrosion resistant film CF2 formed on the back surface 411f2 is the same as the thickness T1 of the adhesion film CF1 formed on the back surface 411f2, or is larger than the thickness T1 of the adhesion film CF1 formed on the back surface 411f2. Then, the oblique vapor deposition method is performed. As a result, the adhesion film CF1 is covered with the corrosion-resistant film CF2 from the lower end eb to the upper end eu.

密着膜CF1および耐腐食膜CF2を形成した後、レジスト膜のパターンRP2を除去する(ステップS20)。これにより、裏面411f2に形成された密着膜CF1および耐腐食膜CF2のうち、不要な部分が除去される(リフトオフ法)。したがって、チャネルC1の内側面を覆う密着膜CF1,CF3および耐腐食膜CF2,CF4により駆動電極Edが形成されるとともに、吐出チャネルC1eのコモン電極Edcと、ダミーチャネルC1dのアクティブ電極Edaとが電気的に分離される。 After forming the adhesion film CF1 and the corrosion resistant film CF2, the pattern RP2 of the resist film is removed (step S20). Thereby, unnecessary portions of the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 formed on the back surface 411f2 are removed (lift-off method). Accordingly, the drive electrodes Ed are formed by the adhesion films CF1 and CF3 and the anti-corrosion films CF2 and CF4 covering the inner surface of the channel C1, and the common electrode Edc of the ejection channel C1e and the active electrode Eda of the dummy channel C1d are electrically connected. physically separated.

このようにしてアクチュエータプレート411を形成した後、レジスト膜のパターンRP2が除去された裏面411f2に、封止プレート415を貼り合わせる(ステップS21)。最後に、これらカバープレート410、アクチュエータプレート411および封止プレート415と、他のプレート(例えば、ノズルプレート412等)との組み立てを行う(ステップS7)。これにより、図9等に示したインクジェットヘッドチップ41Aが完成する。 After the actuator plate 411 is formed in this way, the sealing plate 415 is attached to the rear surface 411f2 from which the resist film pattern RP2 has been removed (step S21). Finally, the cover plate 410, the actuator plate 411, the sealing plate 415, and other plates (for example, the nozzle plate 412, etc.) are assembled (step S7). As a result, the inkjet head chip 41A shown in FIG. 9 and the like is completed.

本変形例に係るインクジェットヘッドチップ41Aにおいても、チャネルC1の深さ方向にわたって、耐腐食膜CF2が密着膜CF1の下端ebから上端euまでを覆っている。これにより、駆動電極Edの腐食に起因したインクジェットヘッドチップ41Aの信頼性の低下を抑えることができる。以下、比較例(比較例2)を用いて、この作用効果について説明する。 Also in the inkjet head chip 41A according to this modification, the corrosion-resistant film CF2 covers from the lower end eb to the upper end eu of the adhesive film CF1 over the depth direction of the channel C1. As a result, deterioration in reliability of the inkjet head chip 41A due to corrosion of the drive electrodes Ed can be suppressed. Hereinafter, this effect will be described using a comparative example (comparative example 2).

図14は、比較例2に係るインクジェットヘッドチップ141Aの要部の構成を拡大して表したものである。図14は、インクジェットヘッドチップ41Aを表す図10に対応している。インクジェットヘッドチップ141Aは、インクジェットヘッドチップ41Aと同様に密着膜CF1,CF3および耐腐食膜CF2,CF4を含む駆動電極Edを有している。しかし、この駆動電極Edの一部では、密着膜CF1が耐腐食膜CF2から露出されている。具体的には、耐腐食膜CF2が密着膜CF1よりも浅く形成されており、耐腐食膜CF2は密着膜CF1の上端eu側の一部を覆っていない。これにより、上記比較例1で説明したのと同様に、駆動電極Edの不具合が発生し、インクジェットヘッドチップ141Aの信頼性が低下する。 FIG. 14 is an enlarged view of the configuration of the main part of an inkjet head chip 141A according to Comparative Example 2. As shown in FIG. FIG. 14 corresponds to FIG. 10 showing the inkjet head chip 41A. The inkjet head chip 141A has drive electrodes Ed including adhesion films CF1, CF3 and anti-corrosion films CF2, CF4, similarly to the inkjet head chip 41A. However, the adhesion film CF1 is exposed from the anti-corrosion film CF2 in a part of the drive electrode Ed. Specifically, the corrosion-resistant film CF2 is formed shallower than the adhesion film CF1, and the corrosion-resistant film CF2 does not cover a part of the adhesion film CF1 on the upper end eu side. As a result, in the same manner as described in Comparative Example 1, problems occur in the drive electrodes Ed, and the reliability of the inkjet head chip 141A is lowered.

これに対し、インクジェットヘッドチップ41Aの駆動電極Edでは、耐腐食膜CF2が密着膜CF1の下端ebから上端euまでを覆っている。また、駆動電極Edは、密着膜CF1と耐腐食膜CF4とが重なる重なり部OPを有している。これにより、駆動電極Edのいずれの部分においても密着膜CF1,CF3が耐腐食膜CF2または耐腐食膜CF4により覆われる。したがって、密着膜CF1,CF3とインク9との接触を抑え、インクジェットヘッドチップ41Aの信頼性を向上させることが可能となる。 On the other hand, in the drive electrode Ed of the inkjet head chip 41A, the anti-corrosion film CF2 covers the adhesion film CF1 from the lower end eb to the upper end eu. Further, the drive electrode Ed has an overlapping portion OP where the adhesion film CF1 and the anti-corrosion film CF4 overlap. As a result, the adhesion films CF1 and CF3 are covered with the corrosion-resistant film CF2 or the corrosion-resistant film CF4 at any portion of the drive electrode Ed. Therefore, contact between the adhesion films CF1 and CF3 and the ink 9 can be suppressed, and the reliability of the inkjet head chip 41A can be improved.

また、インクジェットヘッドチップ41Aでは、駆動電極Edが表面411f1側から形成された密着膜CF3および耐腐食膜CF4と、裏面411f2側から形成された密着膜CF1および耐腐食膜CF2とを含んでいるので、表面411f1側または裏面411f2側のどちらか一方のみから駆動電極Edを形成する場合に比べて、よりチャネルC1の内壁(駆動壁Wd)に広く駆動電極Edを形成することができる。これにより、複数のチャネルC1間での駆動電極Edの形成面積のばらつきが小さくなる。したがって、インクジェットヘッドチップ41Aでは、駆動電極Edの形成面積のばらつきに起因した吐出量のばらつきを抑えることが可能となる。 In the inkjet head chip 41A, the drive electrodes Ed include the adhesion film CF3 and the corrosion-resistant film CF4 formed from the front surface 411f1 side, and the adhesion film CF1 and the corrosion-resistant film CF2 formed from the rear surface 411f2 side. , the drive electrode Ed can be formed more widely on the inner wall (drive wall Wd) of the channel C1 than when the drive electrode Ed is formed only from either the front surface 411f1 side or the rear surface 411f2 side. This reduces variations in the formation area of the drive electrodes Ed among the plurality of channels C1. Therefore, in the inkjet head chip 41A, it is possible to suppress the variation in the ejection amount due to the variation in the formation area of the drive electrodes Ed.

<3.その他の変形例>
以上、実施の形態および変形例を挙げながら本開示に関して説明したが、本開示の態様は上記した実施の形態等において説明された態様に限定されず、種々の変形が可能である。
<3. Other modified examples>
Although the present disclosure has been described above with reference to the embodiment and modifications, the aspect of the present disclosure is not limited to the aspects described in the above-described embodiment and the like, and various modifications are possible.

具体的には、例えば、1個の液体噴射ヘッド(液体噴射ヘッドチップ)が1色の液体(インク)を噴射せずに、その1個の液体噴射ヘッドが互いに異なる複数色(例えば、2色など)の液体を噴射してもよい。 Specifically, for example, one liquid ejecting head (liquid ejecting head chip) does not eject one color of liquid (ink), and the one liquid ejecting head ejects a plurality of different colors (for example, two colors). etc.).

また、例えば、液体噴射ヘッドは、上記したエッジシュートタイプの液体噴射ヘッドに限定されず、サイドシュートタイプの液体噴射ヘッドでもよい。このサイドシュートタイプの液体噴射ヘッドでは、アクチュエータプレートに設けられた各チャネルが特定の方向に延在している場合において、ノズルプレートに設けられた各ノズル孔から各チャネルの延在方向と交差する方向にインクが噴射される。 Further, for example, the liquid ejecting head is not limited to the edge shoot type liquid ejecting head described above, and may be a side shoot type liquid ejecting head. In this side-shoot type liquid jet head, when each channel provided in the actuator plate extends in a specific direction, each nozzle hole provided in the nozzle plate intersects with the extending direction of each channel. Ink is ejected in a direction.

また、例えば、液体噴射ヘッドは、インクジェットヘッド4とインクタンク3との間の循環機構により、インク9が循環される循環式の液体噴射ヘッドであってもよく、非循環式の液体噴射ヘッドであってもよい。 Further, for example, the liquid ejecting head may be a circulating liquid ejecting head in which the ink 9 is circulated by a circulation mechanism between the inkjet head 4 and the ink tank 3, or may be a non-circulating liquid ejecting head. There may be.

また、上記実施の形態等では、リフトオフ法を用いて密着膜CF1,CF3および耐腐食膜CF2,CF4のパターニングを行う場合について説明したが、密着膜CF1,CF3および耐腐食膜CF2,CF4のパターニングは、例えば、レーザ照射等の他の方法を用いて行うようにしてもよい。 Further, in the above embodiments and the like, the case where the adhesion films CF1, CF3 and the corrosion-resistant films CF2, CF4 are patterned using the lift-off method has been described. may be performed using other methods such as laser irradiation.

また、上記実施の形態等では、蒸着法を用いて密着膜CF1,CF3および耐腐食膜CF2,CF4の形成する場合について説明した。ここでの蒸着法は、いわゆる物理蒸着法であり、真空蒸着法、スパッタリング法およびイオンプレーティング法等を含んでいる。 Further, in the above embodiments and the like, the case where the adhesion films CF1 and CF3 and the anti-corrosion films CF2 and CF4 are formed using the vapor deposition method has been described. The vapor deposition method here is a so-called physical vapor deposition method, and includes a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and the like.

また、例えば、上記実施の形態等では、ノズル孔H2の開口形状が円形状である場合について説明したが、ノズル孔H2の開口形状は、例えば、楕円形状や、三角形状等の多角形状、星型形状など他の形状であってもよい。 Further, for example, in the above embodiment and the like, the case where the opening shape of the nozzle hole H2 is circular has been described, but the opening shape of the nozzle hole H2 may be, for example, an elliptical shape, a polygonal shape such as a triangular shape, or a star shape. Other shapes such as a mold shape may be used.

また、例えば、本開示の液体噴射ヘッドチップ、液体噴射ヘッドおよび液体噴射記録装置のそれぞれが適用される用途は、インクジェットプリンタに限定されず、他の用途でよい。他の用途は、例えば、ファクシミリおよびオンデマンド印刷機などの他の装置である。 Further, for example, applications to which the liquid jet head chip, liquid jet head, and liquid jet recording apparatus of the present disclosure are respectively applied are not limited to inkjet printers, and may be other uses. Other applications are other devices such as facsimiles and print-on-demand machines, for example.

なお、本明細書中に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また、他の効果があってもよい。 Note that the effects described in this specification are merely examples and are not limited, and other effects may be provided.

また、本開示は、以下のような構成を取ることも可能である。
(1)
液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、前記液体を噴射するヘッドチップであって、
前記アクチュエータプレートは、
第1面および前記第1面と反対を向く第2面と、
前記第1面に設けられた第1開口に連通するとともに、前記第1面から前記第2面に向かう方向に深さ方向を有するチャネルと、
前記チャネルの内壁に設けられ、かつ、前記内壁の少なくとも一部を覆う第1密着膜と、前記第1密着膜の前記第1面側の一端から前記第2面側の他端まで覆う第1耐腐食膜とを含む電極とを有する
ヘッドチップ。
(2)
前記第1耐腐食膜の厚みは、前記第1密着膜の厚みと同じまたは前記第1密着膜の厚みよりも大きい
前記(1)に記載のヘッドチップ。
(3)
前記チャネルは、前記第1開口とともに、前記第2面に設けられた第2開口に連通し、
前記電極は、更に、前記第1密着膜よりも前記第2開口側に設けられた第2密着膜と、前記第2密着膜を前記第2面側から前記深さ方向の少なくとも一部にわたって覆う第2耐腐食膜とを有する
前記(1)または前記(2)に記載のヘッドチップ。
(4)
前記電極は、前記第2耐腐食膜および前記第1密着膜の重なる重なり部を有し、
前記重なり部では、前記内壁側から、前記第2密着膜、前記第2耐腐食膜、前記第1密着膜および前記第1耐腐食膜がこの順に積層されている
前記(3)に記載のヘッドチップ。
(5)
前記第2耐腐食膜は、前記第2密着膜の前記第2面側の一端から前記第1面側の他端まで覆っている
前記(4)に記載のヘッドチップ。
(6)
前記第1耐腐食膜は、金(Au),白金(Pt)およびパラジウム(Pd)のうちの少なくとも一つを含む
前記(1)ないし前記(5)のうちいずれか1つに記載のヘッドチップ。
(7)
前記第1密着膜および前記第1耐腐食膜は、蒸着膜である
前記(1)ないし前記(6)のうちいずれか1つに記載のヘッドチップ。
(8)
前記(1)ないし前記(7)のいずれか1つに記載のヘッドチップと、
前記ヘッドチップに前記液体を供給する供給機構と
を備えた液体噴射ヘッド。
(9)
前記(8)に記載の液体噴射ヘッドと、
前記液体を収容する収容部と
を備えた液体噴射記録装置。
(10)
液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、前記液体を噴射するヘッドチップの製造方法であって、
前記アクチュエータプレートを形成する工程は、
第1面および前記第1面と反対を向く第2面を有する圧電基板を準備する工程と、
前記圧電基板の前記第1面に第1開口を形成するとともに、前記第1開口に連通させて前記第1面から前記第2面に向かう方向に深さ方向を有するチャネルを形成する工程と、
前記チャネルの内壁に、蒸着法を用いて第1密着膜を形成する工程と、
蒸着法を用いて、前記第1密着膜の前記第1面側の一端から前記第2面側の他端まで覆う第1耐腐食膜を形成し、前記第1密着膜および前記第1耐腐食膜を含む電極を形成する工程と
を含むヘッドチップの製造方法。
In addition, the present disclosure can also be configured as follows.
(1)
A head chip that ejects the liquid, comprising an actuator plate that applies pressure to the liquid,
The actuator plate is
a first surface and a second surface facing away from the first surface;
a channel communicating with a first opening provided in the first surface and having a depth direction in a direction from the first surface to the second surface;
a first adhesion film provided on the inner wall of the channel and covering at least part of the inner wall; and a first adhesion film covering from one end of the first adhesion film on the first surface side to the other end on the second surface side. and an electrode including a corrosion resistant film.
(2)
The head chip according to (1), wherein the thickness of the first anti-corrosion film is equal to or greater than the thickness of the first adhesion film.
(3)
the channel communicates with the first opening and a second opening provided on the second surface;
The electrode further includes a second adhesion film provided closer to the second opening than the first adhesion film, and covering at least part of the second adhesion film from the second surface side in the depth direction. The head chip according to (1) or (2), further comprising a second anti-corrosion film.
(4)
the electrode has an overlapping portion where the second corrosion resistant film and the first adhesive film overlap,
In the overlapping portion, the second adhesion film, the second anti-corrosion film, the first adhesion film and the first anti-corrosion film are laminated in this order from the inner wall side. The head according to (3) above. chips.
(5)
The head chip according to (4), wherein the second anti-corrosion film covers from one end of the second adhesion film on the second surface side to the other end on the first surface side.
(6)
The head chip according to any one of (1) to (5), wherein the first corrosion-resistant film contains at least one of gold (Au), platinum (Pt), and palladium (Pd). .
(7)
The head chip according to any one of (1) to (6) above, wherein the first adhesion film and the first anti-corrosion film are deposited films.
(8)
a head chip according to any one of (1) to (7);
and a supply mechanism for supplying the liquid to the head chip.
(9)
the liquid jet head according to (8);
A liquid jet recording apparatus comprising: a storage section that stores the liquid.
(10)
A method for manufacturing a head chip that includes an actuator plate that applies pressure to a liquid and ejects the liquid,
The step of forming the actuator plate includes:
providing a piezoelectric substrate having a first side and a second side facing away from the first side;
forming a first opening in the first surface of the piezoelectric substrate and forming a channel communicating with the first opening and having a depth direction in a direction from the first surface to the second surface;
forming a first adhesion film on the inner wall of the channel using a vapor deposition method;
forming a first corrosion-resistant film covering from one end of the first adhesion film on the first surface side to the other end on the second surface side by vapor deposition; A method of manufacturing a head chip, comprising: forming an electrode including a film.

1…プリンタ、3…インクタンク、4…インクジェットヘッド、9…インク、41,41A…インクジェットヘッドチップ、42…供給機構、410…カバープレート、411…アクチュエータプレート、411p,411z…圧電基板、411f1…表面、411f2…裏面、412…ノズルプレート、413…支持プレート、415…封止プレート、C1…チャネル、C1d…ダミーチャネル、C1e…吐出チャネル、Ed…駆動電極、CF1,CF3…密着膜、CF2,CF4…耐腐食膜、eu,eu3…上端、ed,ed3…下端、Eda…アクティブ電極、Edc…コモン電極、H2…ノズル孔、P…記録紙、Wd…駆動壁。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Printer 3... Ink tank 4... Inkjet head 9... Ink 41, 41A... Inkjet head chip 42... Supply mechanism 410... Cover plate 411... Actuator plate 411p, 411z... Piezoelectric substrate 411f1... Front surface 411f2 Back surface 412 Nozzle plate 413 Support plate 415 Sealing plate C1 Channel C1d Dummy channel C1e Ejection channel Ed Drive electrode CF1, CF3 Adhesion film CF2, CF4: anti-corrosion film, eu, eu3: upper end, ed, ed3: lower end, Eda: active electrode, Edc: common electrode, H2: nozzle hole, P: recording paper, Wd: driving wall.

Claims (9)

液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、前記液体を噴射するヘッドチップであって、
前記アクチュエータプレートは、
第1面および前記第1面と反対を向く第2面と、
前記第1面に設けられた第1開口に連通するとともに、前記第1面から前記第2面に向かう方向に深さ方向を有するチャネルと、
前記チャネルの内壁に設けられ、かつ、前記内壁の少なくとも一部を覆う第1密着膜と、前記第1密着膜の前記第1面側の一端から前記第2面側の他端まで覆う第1耐腐食膜とを含む電極と
を有しており、
前記チャネルは、前記第1開口とともに、前記第2面に設けられた第2開口に連通し、
前記電極は、更に、前記第1密着膜よりも前記第2開口側に設けられた第2密着膜と、前記第2密着膜を前記第2面側から前記深さ方向の少なくとも一部にわたって覆う第2耐腐食膜と、を含んでいる
ヘッドチップ。
A head chip that ejects the liquid, comprising an actuator plate that applies pressure to the liquid,
The actuator plate is
a first surface and a second surface facing away from the first surface;
a channel communicating with a first opening provided in the first surface and having a depth direction in a direction from the first surface to the second surface;
a first adhesion film provided on the inner wall of the channel and covering at least part of the inner wall; and a first adhesion film covering from one end of the first adhesion film on the first surface side to the other end on the second surface side. and an electrode including a corrosion resistant film ,
the channel communicates with the first opening and a second opening provided on the second surface;
The electrode further includes a second adhesion film provided closer to the second opening than the first adhesion film, and covering at least part of the second adhesion film from the second surface side in the depth direction. a second corrosion resistant film;
head tip.
前記第1耐腐食膜の厚みは、前記第1密着膜の厚みと同じまたは前記第1密着膜の厚みよりも大きい
請求項1に記載のヘッドチップ。
2. The head chip according to claim 1, wherein the thickness of said first anti-corrosion film is the same as or greater than the thickness of said first adhesion film.
前記電極は、前記第2耐腐食膜および前記第1密着膜の重なる重なり部を有し、
前記重なり部では、前記内壁側から、前記第2密着膜、前記第2耐腐食膜、前記第1密着膜および前記第1耐腐食膜がこの順に積層されている
請求項1または請求項2に記載のヘッドチップ。
the electrode has an overlapping portion where the second corrosion resistant film and the first adhesive film overlap,
3. In the overlapping portion, the second adhesion film, the second anti-corrosion film, the first adhesion film, and the first anti-corrosion film are laminated in this order from the inner wall side. Head tip as described.
前記第2耐腐食膜は、前記第2密着膜の前記第2面側の一端から前記第1面側の他端まで覆っている
請求項に記載のヘッドチップ。
4. The head chip according to claim 3 , wherein said second anti-corrosion film covers from one end of said second adhesive film on the second surface side to the other end on the first surface side of said second adhesion film.
前記第1耐腐食膜は、金(Au),白金(Pt)およびパラジウム(Pd)のうちの少なくとも一つを含む
請求項1ないし請求項のうちいずれか1つに記載のヘッドチップ。
5. The head chip according to claim 1 , wherein said first anti-corrosion film contains at least one of gold (Au), platinum (Pt) and palladium (Pd).
前記第1密着膜および前記第1耐腐食膜は、蒸着膜である
請求項1ないし請求項のうちいずれか1つに記載のヘッドチップ。
6. The head chip according to claim 1 , wherein said first adhesion film and said first anti-corrosion film are deposited films.
請求項1ないし請求項のいずれか1項に記載のヘッドチップと、
前記ヘッドチップに前記液体を供給する供給機構と
を備えた液体噴射ヘッド。
a head chip according to any one of claims 1 to 6 ;
and a supply mechanism for supplying the liquid to the head chip.
請求項に記載の液体噴射ヘッドと、
前記液体を収容する収容部と
を備えた液体噴射記録装置。
a liquid jet head according to claim 7 ;
A liquid jet recording apparatus comprising: a storage section that stores the liquid.
液体に圧力を印加するアクチュエータプレートを備え、前記液体を噴射するヘッドチップの製造方法であって、
前記アクチュエータプレートを形成する工程は、
第1面および前記第1面と反対を向く第2面を有する圧電基板を準備する工程と、
前記圧電基板の前記第1面に第1開口を形成するとともに、前記第1開口に連通させて前記第1面から前記第2面に向かう方向に深さ方向を有するチャネルを形成する工程と、
前記チャネルの内壁に、蒸着法を用いて第1密着膜を形成する工程と、
蒸着法を用いて、前記第1密着膜の前記第1面側の一端から前記第2面側の他端まで覆う第1耐腐食膜を形成し、前記第1密着膜および前記第1耐腐食膜を含む電極を形成する工程と
を含んでおり、
前記チャネルが、前記第1開口とともに、前記第2面に設けられた第2開口に連通するようにし、
前記電極が、更に、前記第1密着膜よりも前記第2開口側に設けられた第2密着膜と、前記第2密着膜を前記第2面側から前記深さ方向の少なくとも一部にわたって覆う第2耐腐食膜と、を含むようにする
ヘッドチップの製造方法。
A method for manufacturing a head chip that includes an actuator plate that applies pressure to a liquid and ejects the liquid,
The step of forming the actuator plate includes:
providing a piezoelectric substrate having a first side and a second side facing away from the first side;
forming a first opening in the first surface of the piezoelectric substrate and forming a channel communicating with the first opening and having a depth direction in a direction from the first surface to the second surface;
forming a first adhesion film on the inner wall of the channel using a vapor deposition method;
A vapor deposition method is used to form a first corrosion resistant film covering from one end of the first adhesion film on the first surface side to the other end on the second surface side, and the first adhesion film and the first corrosion resistance film are formed. forming an electrode comprising a membrane ;
said channel communicates with said first opening as well as a second opening provided in said second surface;
The electrode further includes a second adhesion film provided closer to the second opening than the first adhesion film, and covers at least part of the second adhesion film from the second surface side in the depth direction. and a second anti-corrosion film
A method of manufacturing a head chip.
JP2018236901A 2018-12-19 2018-12-19 HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD, LIQUID JET RECORDING APPARATUS, AND HEAD CHIP MANUFACTURING METHOD Active JP7193334B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018236901A JP7193334B2 (en) 2018-12-19 2018-12-19 HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD, LIQUID JET RECORDING APPARATUS, AND HEAD CHIP MANUFACTURING METHOD

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018236901A JP7193334B2 (en) 2018-12-19 2018-12-19 HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD, LIQUID JET RECORDING APPARATUS, AND HEAD CHIP MANUFACTURING METHOD

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020097186A JP2020097186A (en) 2020-06-25
JP7193334B2 true JP7193334B2 (en) 2022-12-20

Family

ID=71105654

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018236901A Active JP7193334B2 (en) 2018-12-19 2018-12-19 HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD, LIQUID JET RECORDING APPARATUS, AND HEAD CHIP MANUFACTURING METHOD

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7193334B2 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002166544A (en) 2000-11-29 2002-06-11 Seiko Instruments Inc Ink jet head
JP2005096414A (en) 2003-09-05 2005-04-14 Konica Minolta Holdings Inc Manufacturing method for inkjet head
JP2012519378A (en) 2009-02-26 2012-08-23 富士フイルム株式会社 Sputtered piezoelectric material
JP2014004721A (en) 2012-06-22 2014-01-16 Canon Inc Liquid discharge head
JP2016115702A (en) 2014-12-11 2016-06-23 コニカミノルタ株式会社 Piezoelectric actuator, method for manufacturing the same, inkjet head, and inkjet printer
JP2017100356A (en) 2015-12-01 2017-06-08 エスアイアイ・プリンテック株式会社 Liquid jet head, liquid jet recording device, and manufacturing method for liquid jet head

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3139511B2 (en) * 1990-11-09 2001-03-05 セイコーエプソン株式会社 Inkjet recording head
JPH0825638A (en) * 1994-07-14 1996-01-30 Seikosha Co Ltd Manufacture of recording head

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002166544A (en) 2000-11-29 2002-06-11 Seiko Instruments Inc Ink jet head
JP2005096414A (en) 2003-09-05 2005-04-14 Konica Minolta Holdings Inc Manufacturing method for inkjet head
JP2012519378A (en) 2009-02-26 2012-08-23 富士フイルム株式会社 Sputtered piezoelectric material
JP2014004721A (en) 2012-06-22 2014-01-16 Canon Inc Liquid discharge head
JP2016115702A (en) 2014-12-11 2016-06-23 コニカミノルタ株式会社 Piezoelectric actuator, method for manufacturing the same, inkjet head, and inkjet printer
JP2017100356A (en) 2015-12-01 2017-06-08 エスアイアイ・プリンテック株式会社 Liquid jet head, liquid jet recording device, and manufacturing method for liquid jet head

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020097186A (en) 2020-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5905266B2 (en) Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and method of manufacturing liquid ejecting head
US7448731B2 (en) Liquid droplet ejecting head and liquid droplet ejecting device
JP7185512B2 (en) HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD AND LIQUID JET RECORDER
JP4800666B2 (en) Liquid discharge head and manufacturing method thereof
JP2007050687A (en) Ink jet head and ink jet recording apparatus
JP2008055831A (en) Liquid droplet ejection head, its manufacturing method, and liquid droplet ejector
JP4508595B2 (en) Liquid ejecting head, manufacturing method thereof, and liquid ejecting apparatus
JP2009028918A (en) Manufacturing method for liquid jetting head unit
JP7193334B2 (en) HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD, LIQUID JET RECORDING APPARATUS, AND HEAD CHIP MANUFACTURING METHOD
CN111204127B (en) Liquid discharge head and liquid discharge apparatus
JP7185454B2 (en) HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD, LIQUID JET RECORDING APPARATUS, AND HEAD CHIP MANUFACTURING METHOD
US9789687B2 (en) Ink jet head having grounded protection plate on ejection face of nozzle plate and liquid jet recording apparatus incorporating same
JP2016159441A (en) Liquid jet head, liquid jet device, and method for manufacturing liquid jet head
JP2018051982A (en) Plate body, liquid jet head, and liquid jet recording device
JP7198006B2 (en) HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD AND LIQUID JET RECORDER
JP7288750B2 (en) HEAD CHIP, LIQUID JET HEAD AND LIQUID JET RECORDER
JP2018094866A (en) Liquid jet head and liquid jet recording device
CN112123939B (en) Liquid ejection head, method of manufacturing liquid ejection head, and liquid ejection apparatus
JP2008012703A (en) Liquid droplet ejecting head, liquid droplet ejector and manufacturing method for liquid droplet ejecting head
US20190030894A1 (en) Method for producing nozzle plate and method for producing liquid jet head
JP2023128607A (en) Droplet discharge head and droplet discharge device
JP2019111744A (en) Liquid jet head chip, liquid jet head and liquid jet recorder, and manufacturing method for liquid jet head chip
JP2020110957A (en) Ink jet head, ink jet device, and manufacturing method of ink jet head
JP2019214146A (en) Method for forming thin film and production method for liquid jet head
JP2003205612A (en) Ink-jet head

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211007

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220831

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221129

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221208

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7193334

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150