JP2003300328A - Ink jet head and its fabricating method - Google Patents

Ink jet head and its fabricating method

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JP2003300328A
JP2003300328A JP2003030456A JP2003030456A JP2003300328A JP 2003300328 A JP2003300328 A JP 2003300328A JP 2003030456 A JP2003030456 A JP 2003030456A JP 2003030456 A JP2003030456 A JP 2003030456A JP 2003300328 A JP2003300328 A JP 2003300328A
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Japan
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substrate
channel
adhesive
ink
partition wall
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JP2003030456A
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Takeshi Ito
健 伊藤
Hiroyuki Nomori
弘之 野守
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Konica Minolta Inc
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    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2202/00Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/10Finger type piezoelectric elements

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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ink jet head exhibiting excellent ink ejection properties, and its fabricating method, by preventing outflow of adhesive to the barrier wall of a channel substrate at the time of bonding the channel substrate and a cover substrate. <P>SOLUTION: The ink jet head having ink channels formed by covering the barrier wall 13 and the upper surface of a channel substrate 1 with a cover substrate 2 and ejecting ink in the ink channel through shear deformation of the barrier wall 13 of the ink channel is fabricated by a step for forming a metal electrode on the surface of the barrier wall 13 of the channel substrate 1, a step for superposing the cover substrate 2 on the upper end face of the barrier wall 13 such that the ink channel is formed by the barrier wall 13 and the cover substrate 2 under such a state as the hardness of adhesive is 10<SP>5</SP>dyne/cm<SP>2</SP>or above, and a step for pressing the barrier wall 13 and the cover substrate 2 such that the upper end face of the barrier wall 13 and the cover substrate 2 are bonded with the hardness of adhesive being in the range of 10<SP>5</SP>dyne/cm<SP>2</SP>and 10<SP>9</SP>dyne/cm<SP>2</SP>. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、接着剤の硬化性に
優れ、良好な接着性を示し、インク射出性に優れるイン
クジェットヘッドおよびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ink jet head having excellent curability of an adhesive, good adhesiveness, and excellent ink ejectability, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】シェヤーモードタイプのインクジェット
ヘッドは、分極した圧電素子を用い、隔壁により区切ら
れるインク流路を備えたチャネル基板と、該チャネル基
板の上面に固着されたカバー基板とを備えており、前記
隔壁をせん断変形させてインク流路に繋がるノズルより
インク液滴を吐出させて、紙やフィルムなどの記録媒体
に記録を行う。
2. Description of the Related Art A shear mode type ink jet head is provided with a channel substrate provided with an ink flow path divided by partition walls using a polarized piezoelectric element, and a cover substrate fixed to the upper surface of the channel substrate. The partition is shear-deformed to eject ink droplets from a nozzle connected to an ink flow path, and recording is performed on a recording medium such as paper or film.

【0003】チャネル基板とカバー基板を固着する手段
としては、一般にカバー基板に接着剤を塗布した後、チ
ャネル基板とカバー基板とを重ね合わせ、加圧して接着
する方法が採用されている。接着剤を用いて複数の部材
を接着する際には、接着剤を塗布した部材の取扱い性を
向上する目的で、塗布した接着剤をBステージ化した後
に他の部材と重ね合わせ、接着することが知られてお
り、このチャネル基板とカバー基板とを重ね合わせる際
にも、カバー基板に塗布した接着剤をBステージ化した
後に重ね合わせることが有効であることが考えられる。
なお、Bステージとは接着剤の半硬化状態を指す。
As a means for fixing the channel substrate and the cover substrate, a method is generally used in which an adhesive is applied to the cover substrate, and then the channel substrate and the cover substrate are superposed and pressed to bond them. When a plurality of members are bonded using an adhesive, in order to improve the handleability of the member to which the adhesive is applied, the applied adhesive should be B-staged and then stacked and bonded to other members. It is known that, when the channel substrate and the cover substrate are superposed, it is effective to superpose the adhesive applied to the cover substrate on the B-stage and then superpose it.
The B stage refers to a semi-cured state of the adhesive.

【0004】本発明者らは、チャネル基板とカバー基板
との接着において、カバー基板に塗布した接着剤を一旦
このBステージ化状態にした後、チャネル基板とカバー
基板とを重ね合わせて接着する方法について鋭意検討し
た結果、重ね合わせ時から接着が完了するまでの接着剤
の硬さに起因して種々の問題が発生することを見出し
た。
[0006] The inventors of the present invention, in bonding the channel substrate and the cover substrate, a method in which the adhesive applied to the cover substrate is once brought into the B stage state, and then the channel substrate and the cover substrate are overlapped and bonded. As a result of diligent study, it was found that various problems occur due to the hardness of the adhesive from the time of superposition to the time of completion of adhesion.

【0005】即ち、チャネル基板とカバー基板とを重ね
合わせ、加圧して接合する際に、チャネル基板の隔壁の
側面に設けられた金属電極の濡れ性の問題により、接着
剤が適切な硬さでないと、金属電極を伝わって接着剤が
流れ出すという現象が発生した。特に、蒸着法により金
属電極を形成する場合はその傾向が大きい。なぜなら、
蒸着法により隔壁側面に金属電極を形成する場合は、隔
壁の側面に適切に金属電極を形成するために、隔壁の側
面を蒸着源に対して斜めに傾けた状態で蒸着する。その
様に斜め蒸着により形成された膜は、ポーラスで柱状構
造をしている場合が多い。また、蒸着によって形成した
金属膜は非常に活性であり、表面が濡れやすい特徴を持
っている。そのような膜を電極として使用すると、カバ
ー基板に塗設された接着剤が、貼り合わせ時から硬化時
にかけて電極側に流れ出やすくなる。
That is, when the channel substrate and the cover substrate are superposed on each other and pressed and bonded together, the adhesive does not have an appropriate hardness due to the problem of the wettability of the metal electrodes provided on the side surfaces of the partition walls of the channel substrate. Then, the phenomenon that the adhesive flows out through the metal electrode occurred. This tendency is particularly large when the metal electrode is formed by the vapor deposition method. Because
When the metal electrode is formed on the side surface of the partition wall by the vapor deposition method, in order to properly form the metal electrode on the side surface of the partition wall, the side surface of the partition wall is obliquely inclined with respect to the evaporation source. In many cases, the film formed by such oblique vapor deposition has a porous and columnar structure. Further, the metal film formed by vapor deposition is very active and has a characteristic that the surface is easily wetted. When such a film is used as an electrode, the adhesive coated on the cover substrate easily flows out to the electrode side from the bonding to the curing.

【0006】チャネル基板に流れ出した接着剤は、それ
を溶解する有機溶剤等でインクジェットヘッドの洗浄を
行っても、インク流路を形成しているチャネル構造は非
常に微細であり、なお且つインクジェットヘッドの形状
も複雑であるため、なかなか全て洗浄しきれず、こうし
て隔壁に流れ出した接着剤や洗浄後も隔壁に残った接着
剤は、インクの射出速度の低下を引き起こすという問題
があり、更に、隔壁に接着剤が流れ過ぎると接着部の接
着剤が不足して接着が不十分となったり、射出そのもの
ができなくなるという問題があった。
The adhesive flowing out to the channel substrate has an extremely fine channel structure forming the ink flow path even when the ink jet head is washed with an organic solvent or the like which dissolves it, and the ink jet head Since the shape of the ink is complicated, it is difficult to completely clean all of them, and thus the adhesive flowing out to the partition or the adhesive remaining on the partition even after cleaning causes a problem that the ejection speed of the ink is lowered. If the adhesive flows too much, there is a problem that the adhesive at the bonding portion becomes insufficient and the bonding becomes insufficient, or the injection itself cannot be performed.

【0007】また、チャネル基板とカバー基板とを重ね
合わせた後に、加圧して接合する際には、接着剤が所定
条件を満足する硬さを経由しないと、上述と同様に十分
な接着が行われず、接着不良を発生してインクの射出性
の劣化や射出そのものができなくなるという問題があっ
た。
Further, when the channel substrate and the cover substrate are superposed on each other and then pressure-bonded, unless the adhesive has a hardness satisfying a predetermined condition, sufficient adhesion is achieved as described above. However, there is a problem in that adhesion failure occurs and ink ejection properties deteriorate and ejection itself becomes impossible.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、チ
ャネル基板とカバー基板との接合において、チャネル基
板の隔壁への接着剤の流れ出しを防止し、インク射出性
に優れたインクジェットヘッド及びその製造方法を提供
することを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, according to the present invention, in bonding the channel substrate and the cover substrate, the adhesive is prevented from flowing out to the partition walls of the channel substrate, and an ink jet head excellent in ink jetting property and its manufacture. The challenge is to provide a method.

【0009】また、本発明の他の課題は以下の記載によ
ってさらに明らかになるであろう。
Further, other problems of the present invention will be further clarified by the following description.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、以
下の各発明によって解決される。
The above-mentioned problems of the present invention are solved by the following inventions.

【0011】(請求項1)チャネル基板の隔壁と該チャ
ネル基板の上面をカバー基板によって覆うことによりイ
ンク流路を形成し、該インク流路の隔壁をせん断変形し
て該インク流路内のインクを吐出するインクジェットヘ
ッドの製造方法であって、前記チャネル基板の隔壁の表
面に金属電極を形成する工程と、前記カバー基板に接着
剤を塗設する工程と、前記接着剤が下記条件1を満たす
状態で、前記隔壁と前記カバー基板によりインク流路が
形成されるように、前記隔壁の上端面に前記カバー基板
を重ね合わせる工程と、前記接着剤が下記条件1を満た
すと共に、下記条件2を経て前記隔壁の上端面と前記カ
バー基板とが接着されるように、前記チャネル基板と前
記カバー基板とを加圧する工程とを有することを特徴と
するインクジェットヘッドの製造方法。 (条件1)粘弾性測定機により測定した接着剤の硬さ
が、105 dyne/cm2以上である。 (条件2)粘弾性測定機により測定した接着剤の硬さ
が、105 dyne/cm2以上109 dyne/cm2以下である。
(Claim 1) The partition wall of the channel substrate and the upper surface of the channel substrate are covered with a cover substrate to form an ink flow path, and the partition wall of the ink flow path is sheared and deformed to cause ink in the ink flow path. A method of manufacturing an inkjet head for ejecting ink, comprising: forming a metal electrode on a surface of a partition wall of the channel substrate; applying an adhesive to the cover substrate; and the adhesive satisfying Condition 1 below. In this state, a step of stacking the cover substrate on the upper end surface of the partition wall so that the partition wall and the cover substrate form an ink flow path; and the adhesive satisfies the following condition 1 and the following condition 2 A step of pressurizing the channel substrate and the cover substrate so that the upper end surface of the partition wall and the cover substrate are bonded to each other. Method of manufacturing a head. (Condition 1) The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 5 dyne / cm 2 or more. (Condition 2) The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 5 dyne / cm 2 or more and 10 9 dyne / cm 2 or less.

【0012】(請求項2)前記条件2の接着剤の硬さ
が、106 dyne/cm2以上108 dyne/cm2以下であること
を特徴とする請求項1記載のインクジェットヘッドの製
造方法。
(Claim 2) The method of manufacturing an ink jet head according to claim 1, wherein the hardness of the adhesive under the condition 2 is 10 6 dyne / cm 2 or more and 10 8 dyne / cm 2 or less. .

【0013】(請求項3)前記条件1の接着剤の硬さ
が、106 dyne/cm2以上であることを特徴とする請求項
1又は2記載のインクジェットヘッドの製造方法。
(Claim 3) The method for producing an ink jet head according to claim 1 or 2, wherein the hardness of the adhesive under the condition 1 is 10 6 dyne / cm 2 or more.

【0014】(請求項4)前記インク流路を形成する工
程が、前記カバー基板を重ね合わせる工程の前に、2枚
の異なるチャネル基板を、各分極方向が反対になるよう
に接合する工程と、前記接合されたチャネル基板に前記
インク流路用の溝を加工する工程を有することを特徴と
する請求項1〜3の何れかに記載のインクジェットヘッ
ドの製造方法。
(Claim 4) In the step of forming the ink flow path, a step of joining two different channel substrates so that their polarization directions are opposite to each other before the step of superposing the cover substrates. The method for manufacturing an inkjet head according to any one of claims 1 to 3, further comprising a step of processing a groove for the ink flow path in the bonded channel substrate.

【0015】(請求項5)前記チャネル基板と前記カバ
ー基板とを加圧する工程における加圧力が、14〜20
kg/cm2であることを特徴とする請求項1〜4の何れかに
記載のインクジェットヘッドの製造方法。
(Claim 5) The pressure applied in the step of pressurizing the channel substrate and the cover substrate is 14 to 20.
method for manufacturing an ink jet head according to any one of claims 1 to 4, characterized in that a kg / cm 2.

【0016】(請求項6)前記金属電極を形成する工程
は、前記チャネル基板としての非金属製の圧電材料の隔
壁の表面に金属電極を形成することを特徴とする請求項
1〜5の何れかに記載のインクジェットヘッドの製造方
法。
(Claim 6) In the step of forming the metal electrode, the metal electrode is formed on the surface of the partition wall made of a non-metallic piezoelectric material as the channel substrate. A method for manufacturing an inkjet head according to claim 1.

【0017】(請求項7)前記チャネル基板の隔壁の表
面に金属電極を形成する工程が、金属電極を蒸着により
形成する工程であることを特徴とする請求項1〜6の何
れかに記載のインクジェットヘッドの製造方法。
(Claim 7) The step of forming the metal electrode on the surface of the partition wall of the channel substrate is a step of forming the metal electrode by vapor deposition, according to any one of claims 1 to 6. Inkjet head manufacturing method.

【0018】(請求項8)前記接着剤を塗設する工程
は、前記チャネル基板と同じ種類の圧電素子板を脱分極
処理したカバー基板に対して接着剤を塗設することを特
徴とする請求項1〜7の何れかに記載のインクジェット
ヘッドの製造方法。
(Claim 8) In the step of applying the adhesive, the adhesive is applied to a cover substrate obtained by depolarizing a piezoelectric element plate of the same type as the channel substrate. Item 8. A method for manufacturing an inkjet head according to any one of Items 1 to 7.

【0019】(請求項9)チャネル基板の隔壁と該チャ
ネル基板の上面をカバー基板によって覆うことによりイ
ンク流路が形成され、該インク流路の隔壁をせん断変形
して該インク流路内のインクを吐出するインクジェット
ヘッドであって、前記チャネル基板の隔壁の表面には金
属電極が形成され、前記カバー基板は、接着剤が塗設さ
れた後、下記条件1を満たす状態で、前記隔壁と前記カ
バー基板によりインク流路が形成されるように、前記隔
壁の上端面に重ね合わせてなり、前記チャンネル基板と
前記カバー基板とは加圧され、前記接着剤が下記条件1
を満たすと共に、下記条件2を経て接着されてなること
を特徴とするインクジェットヘッド。 (条件1)粘弾性測定機により測定した接着剤の硬さ
が、105 dyne/cm2以上である。 (条件2)粘弾性測定機により測定した接着剤の硬さ
が、105 dyne/cm2以上109 dyne/cm2以下である。
(Claim 9) A partition wall of the channel substrate and an upper surface of the channel substrate are covered with a cover substrate to form an ink flow path, and the partition wall of the ink flow path is sheared and deformed to cause ink in the ink flow path. In the inkjet head for discharging, a metal electrode is formed on the surface of the partition wall of the channel substrate, the cover substrate is coated with an adhesive, and the partition wall and the The channel substrate and the cover substrate are overlapped with each other so that an ink flow path is formed by the cover substrate, the channel substrate and the cover substrate are pressed, and the adhesive is formed under the following condition 1.
An inkjet head, which satisfies the following condition 2 and is adhered. (Condition 1) The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 5 dyne / cm 2 or more. (Condition 2) The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 5 dyne / cm 2 or more and 10 9 dyne / cm 2 or less.

【0020】(請求項10)前記条件2の接着剤の硬さ
が、106 dyne/cm2以上108 dyne/cm2以下であること
を特徴とする請求項9記載のインクジェットヘッド。
(Item 10) The ink jet head according to Item 9, wherein the hardness of the adhesive under the condition 2 is 10 6 dyne / cm 2 or more and 10 8 dyne / cm 2 or less.

【0021】(請求項11)前記条件1の接着剤の硬さ
が、106 dyne/cm2以上であることを特徴とする請求項
9又は10記載のインクジェットヘッド。
(Claim 11) The ink jet head according to Claim 9 or 10, wherein the adhesive of Condition 1 has a hardness of 10 6 dyne / cm 2 or more.

【0022】(請求項12)前記インク流路が、2枚の
異なるチャネル基板を、各分極方向が反対になるように
接合して形成されており、該接合されたチャネル基板に
前記インク流路用の溝が加工されていることを特徴とす
る請求項9〜11の何れかに記載のインクジェットヘッ
ド。
(Claim 12) The ink flow channel is formed by bonding two different channel substrates so that their polarization directions are opposite to each other, and the ink flow channel is connected to the bonded channel substrate. The inkjet head according to any one of claims 9 to 11, wherein a groove for use is processed.

【0023】(請求項13)前記チャネル基板と前記カ
バー基板とが、14〜20kg/cm2で加圧され接着されて
いることを特徴とする請求項9〜12の何れかに記載の
インクジェットヘッド。
(Claim 13) The ink jet head according to any one of claims 9 to 12, wherein the channel substrate and the cover substrate are adhered under pressure of 14 to 20 kg / cm 2. .

【0024】(請求項14)前記金属電極が、蒸着によ
り形成されていることを特徴とする請求項9〜13の何
れかに記載のインクジェットヘッド。
(Claim 14) The ink jet head according to any one of claims 9 to 13, wherein the metal electrode is formed by vapor deposition.

【0025】(請求項15)前記チャネル基板は、非金
属製の圧電材料であることを特徴とする請求項9〜14
の何れかに記載のインクジェットヘッド。
(Claim 15) The channel substrate is made of a non-metallic piezoelectric material.
The inkjet head according to any one of 1.

【0026】(請求項16)前記カバー基板は、前記チ
ャネル基板と同じ種類の圧電素子板を脱分極処理した基
板であることを特徴とする請求項9〜15の何れかに記
載のインクジェットヘッド。
(Claim 16) The ink jet head according to any one of claims 9 to 15, wherein the cover substrate is a substrate obtained by depolarizing a piezoelectric element plate of the same type as the channel substrate.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面に基づいて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0028】図1はインクジェットヘッドの概要を示す
部分破断斜視図であり、図2は同ヘッドの縦断面図であ
る。
FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing the outline of an ink jet head, and FIG. 2 is a vertical sectional view of the same head.

【0029】図1において、1はチャネル基板、2はカ
バー基板、3はノズルプレート、4はバックプレート、
5はインクマニホールドである。
In FIG. 1, 1 is a channel substrate, 2 is a cover substrate, 3 is a nozzle plate, 4 is a back plate,
Reference numeral 5 is an ink manifold.

【0030】チャネル基板1に用いられる圧電材料とし
ては、例えば電界を加えることにより変形を生じる圧電
材料を用いることができ、有機材料からなる基板、非金
属製の基板等が挙げられる。
As the piezoelectric material used for the channel substrate 1, for example, a piezoelectric material which is deformed by applying an electric field can be used, and examples thereof include a substrate made of an organic material and a non-metal substrate.

【0031】有機材料からなる基板に用いられる有機材
料としては、ポリフッ化ビニリデン等の有機ポリマー
や、有機ポリマーと無機物とのハイブリッド材料等が挙
げられる。
Examples of the organic material used for the substrate made of an organic material include an organic polymer such as polyvinylidene fluoride and a hybrid material of an organic polymer and an inorganic material.

【0032】非金属製の基板としては、成形、焼成等の
工程を経て形成される圧電セラミックス基板、又は成
形、焼成等を必要としないで形成される基板等が挙げら
れる。
Examples of the non-metallic substrate include a piezoelectric ceramics substrate formed through steps such as molding and firing, and a substrate formed without requiring molding and firing.

【0033】本発明において、チャネル基板1に用いら
れる圧電材料として好ましいのは、非金属製のチャネル
基板である。その理由は、一般的に、圧電セラミックス
等の非金属性チャネル基板の方が硬く、変形させて圧力
を発生させた時の圧力ロスが少なく、また電気・機械変
換効率が良いものが多いためである。
In the present invention, the piezoelectric material used for the channel substrate 1 is preferably a non-metal channel substrate. The reason is that non-metallic channel substrates such as piezoelectric ceramics are generally harder, have less pressure loss when deformed to generate pressure, and often have good electromechanical conversion efficiency. is there.

【0034】非金属製のチャネル基板において、成形、
焼成等の工程を経て形成される圧電セラミックス基板と
しては、例えばチタン酸ジルコン酸鉛(以下、「PZ
T」と略す)が好ましく、さらにBaTiO3、Zn
O、LiNbO3、LiTaO3等を用いてもよい。
In a non-metal channel substrate, molding,
As a piezoelectric ceramic substrate formed through a process such as firing, for example, lead zirconate titanate (hereinafter referred to as “PZ
T "and abbreviated), more BaTiO 3, Zn
O, LiNbO 3 , LiTaO 3 or the like may be used.

【0035】PZTとしては、第三成分を添加しないP
ZT(PbZrO3−PbTiO3)と、第三成分を添加
したPZTがある。
As PZT, P containing no third component added
ZT and (PbZrO 3 -PbTiO 3), there is a PZT added with a third component.

【0036】添加する第三成分としてはPb(Mg1/2
Nb2/3)O3、Pb(Mn1/3Sb2/ 3)O3、Pb(C
1/3Nb2/3)O3等が挙げられる。
The third component added is Pb (Mg 1/2
Nb 2/3) O 3, Pb ( Mn 1/3 Sb 2/3) O 3, Pb (C
o 1/3 Nb 2/3 ) O 3 and the like.

【0037】また、非金属製のチャネル基板において、
成形、焼成を必要としないで形成される基板は、例え
ば、ゾル−ゲル法、積層基板コーティング法等で形成す
ることができる。
In the non-metal channel substrate,
The substrate formed without requiring molding and firing can be formed by, for example, a sol-gel method, a laminated substrate coating method, or the like.

【0038】チャネル基板1は、2枚のチャネル基板1
a、1bを分極方向を互いに反対に向けて上下に接合し
て形成される。2枚のチャネル基板1a、1bを接合す
る手段としては、例えばエポキシ系接着剤等を用いて接
合する手段が挙げられる。
The channel substrate 1 is composed of two channel substrates 1.
It is formed by joining a and 1b vertically with their polarization directions opposite to each other. Examples of means for joining the two channel substrates 1a and 1b include means for joining using an epoxy adhesive or the like.

【0039】接着剤層の硬化後の厚み(乾燥膜厚)は、
1〜100μmの範囲が好ましい。
The thickness (dry film thickness) of the adhesive layer after curing is
The range of 1 to 100 μm is preferable.

【0040】なお、本実施形態では、せん断変形量を大
きくするために、チャネル基板1が2枚のチャネル基板
1a、1bから構成されているが、本発明はこの様な構
成に限定されるものではない。
In this embodiment, the channel substrate 1 is composed of two channel substrates 1a and 1b in order to increase the amount of shear deformation, but the present invention is not limited to such a configuration. is not.

【0041】このチャネル基板1には、円盤状の砥石
(ダイシングブレード)等の公知の研削機を用いて、所
定ピッチで、互いに平行な複数列の溝を加工することに
より、インクが貯溜されるインク流路となるインクチャ
ネル11と、インクが貯溜されない空気チャネル12と
からなるチャネル部10と、それら各チャネル部10間
の隔壁13とを交互に形成する。
Ink is stored in the channel substrate 1 by processing a plurality of parallel rows of grooves at a predetermined pitch using a known grinder such as a disk-shaped grindstone (dicing blade). A channel portion 10 including an ink channel 11 serving as an ink flow path, an air channel 12 that does not store ink, and a partition wall 13 between the respective channel portions 10 are alternately formed.

【0042】なお、本発明において、より大きな本発明
の効果を得るには、チャネル高さは50μm以上500
μm以下であることが好ましい。また、アスペクト比
(チャネル高さ/チャネル幅)は、1以上5以下である
ことが好ましい。
In the present invention, in order to obtain a larger effect of the present invention, the channel height is 50 μm or more and 500 or more.
It is preferably μm or less. The aspect ratio (channel height / channel width) is preferably 1 or more and 5 or less.

【0043】次いで、上記のようにして溝を加工した後
に、各隔壁13の壁面に金属電極6を形成する。この金
属電極6の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、め
っき法等の公知の手段を用いることができる。
Next, after the groove is processed as described above, the metal electrode 6 is formed on the wall surface of each partition wall 13. As a method of forming the metal electrode 6, known methods such as a vapor deposition method, a sputtering method, and a plating method can be used.

【0044】各隔壁13は、分極方向の異なる2枚のチ
ャネル基板1a、1bからなるため、各隔壁13に対応
する各金属電極6は、それら両基板1a、1bを駆動さ
せるべく、少なくとも各隔壁13を構成しているチャネ
ル基板1a及び1bに亘る側面の全面に形成する。
Since each partition wall 13 is composed of two channel substrates 1a and 1b having different polarization directions, each metal electrode 6 corresponding to each partition wall 13 has at least each partition wall 1a and 1b in order to drive both the substrates 1a and 1b. 13 is formed on the entire side surface extending over the channel substrates 1a and 1b forming the substrate 13.

【0045】かかる金属電極6を形成することができる
金属としては、Au、Pt、Ag、Ni、Co、Cu、
Al等を主成分とするものが挙げられるが、中でもAl
やNiやCuを主成分とするものが好ましく、特に好ま
しいのはNiを主成分とするものである。
As the metal capable of forming the metal electrode 6, Au, Pt, Ag, Ni, Co, Cu,
Examples of the main component include Al, and among others, Al
Those having Ni or Cu as a main component are preferable, and those having Ni as a main component are particularly preferable.

【0046】めっき法により金属電極6を形成する場合
に使用されるめっきは、特に、無電解めっきが好まし
い。無電解めっきによれば、より均一且つピンホールフ
リーの金属皮膜を簡易に形成することができるからであ
る。
The electroless plating is particularly preferable as the plating used when the metal electrode 6 is formed by the plating method. This is because the electroless plating can easily form a more uniform and pinhole-free metal film.

【0047】無電解めっきによる電極形成においては、
Ni−P(リン)めっき又はNi−B(ホウ素)めっき
を単独で使用してもよいし、あるいはNi−PとNi−
Bを重層してもよい。
In forming electrodes by electroless plating,
Ni-P (phosphorus) plating or Ni-B (boron) plating may be used alone, or Ni-P and Ni-
B may be layered.

【0048】Ni−Pめっきの場合はP含量が高くなる
と電気抵抗が増大するので、P含量は1〜数%程度がよ
い。Ni−BめっきのB含量は普通1%以下なので、N
i−PよりNi含量が多く、電気抵抗が低く、且つ外部
配線との接続性が良いため、Ni−PよりNi−Bの方
が好ましいが、Ni−Bは高価なのでNi−PとNi−
Bを組み合わせることも好ましい。
In the case of Ni-P plating, the electrical resistance increases as the P content increases, so the P content is preferably about 1 to several percent. Since the B content of Ni-B plating is usually 1% or less, N
Ni-B is preferable to Ni-P because it has a higher Ni content than i-P, low electric resistance, and good connectivity with external wiring. However, Ni-B is expensive, so Ni-P and Ni-P are more expensive.
It is also preferable to combine B.

【0049】Ni−P又はNi−Bからなる無電解めっ
き法により形成された金属電極6は、析出が均一に行わ
れ、その結果、平滑な表面性を有している。
The metal electrode 6 made of Ni-P or Ni-B by the electroless plating method has uniform deposition and, as a result, has a smooth surface property.

【0050】金属電極6の厚みは0.5〜5μmの範囲
が好ましい。
The thickness of the metal electrode 6 is preferably in the range of 0.5 to 5 μm.

【0051】なお、金属電極6は、隔壁13に、例えば
Ni−Bからなる無電解めっきにより、めっき膜を形成
した上に、更にNi−Pからなる無電解めっき処理を施
すようにして形成することもできる。この場合、更にそ
れぞれのめっき金属を異ならせるようにすることもでき
る。
The metal electrode 6 is formed on the partition wall 13 by forming a plating film by, for example, electroless plating of Ni-B, and then performing electroless plating of Ni-P. You can also In this case, it is also possible to make each plating metal different.

【0052】また、隔壁13に無電解めっきによりめっ
き膜を形成した後、そのめっき膜上に金めっき等の電解
めっき処理を行うようにしてもよい。
After the plating film is formed on the partition wall 13 by electroless plating, the plating film may be subjected to electrolytic plating such as gold plating.

【0053】更に、隔壁13にスパッタ法や蒸着法等に
より金属皮膜を形成した後に、該金属皮膜上に電解めっ
き処理を行って、めっき膜を形成することにより金属電
極6を形成するようにしてもよい。
Further, after the metal film is formed on the partition wall 13 by the sputtering method, the vapor deposition method or the like, the metal electrode 6 is formed by performing the electrolytic plating treatment on the metal film to form the plated film. Good.

【0054】また、蒸着法により金属電極6を形成する
場合、隔壁13の上端面に保護膜を設けた後、隔壁13
の延長面と一定の角度をなす面内にある蒸着源から、電
極となる金属を蒸発させる。それにより、各隔壁13を
構成するチャネル基板1a、1bの側面全面に金属を蒸着す
る。
When the metal electrode 6 is formed by the vapor deposition method, after the protective film is provided on the upper end surface of the partition wall 13, the partition wall 13 is formed.
The metal serving as an electrode is evaporated from a vapor deposition source located in a plane that forms a constant angle with the extended surface of. Thereby, metal is vapor-deposited on the entire side surfaces of the channel substrates 1a and 1b forming each partition wall 13.

【0055】電極となる金属としては、特に電気的特
性、耐蝕性、加工性の点から、金、アルミニウム、ニッ
ケルクロム合金が好ましい。
As the metal used as the electrode, gold, aluminum, and nickel-chromium alloy are preferable from the viewpoints of electrical characteristics, corrosion resistance, and workability.

【0056】次いで、以上のようにして形成されたチャ
ネル基板1の上面に、カバー基板2を貼り合わせる。
Next, the cover substrate 2 is attached to the upper surface of the channel substrate 1 formed as described above.

【0057】このカバー基板2としては、チャネル基板
1と同じ圧電素子板を脱分極して使用すると、貼り合せ
た時にソリ、変形、熱膨張係数の差による剥離等が起こ
らないために好ましい。
As the cover substrate 2, it is preferable to use the same piezoelectric element plate as that used for the channel substrate 1 after depolarizing it, because warping, deformation, and peeling due to a difference in thermal expansion coefficient do not occur at the time of bonding.

【0058】また、チャネル基板1と同じ程度の熱膨張
係数を持つ非圧電性基板であってもよい。非圧電性基板
としては、例えば成形、焼成等の工程を経て形成される
セラミックス基板、または成形、焼成を必要としないで
形成される基板等が挙げられる。
Further, it may be a non-piezoelectric substrate having a thermal expansion coefficient similar to that of the channel substrate 1. Examples of the non-piezoelectric substrate include a ceramic substrate formed through steps such as molding and firing, a substrate formed without requiring molding and firing, and the like.

【0059】焼成等の工程を経て形成されるセラミック
ス基板として、例えばAl23、SiO2、それらの混
合、混融体、さらにZrO2、BeO、AlN、SiC
等を用いることができる。
As a ceramic substrate formed through a process such as firing, for example, Al 2 O 3 , SiO 2 , a mixture thereof, a mixed melt, and further ZrO 2 , BeO, AlN, SiC.
Etc. can be used.

【0060】その他、非圧電性基板としては、有機材料
からなる基板であってもよく、有機ポリマーや有機ポリ
マーと無機物のハイブリッド材料等を用いてもよい。
In addition, the non-piezoelectric substrate may be a substrate made of an organic material, or may be an organic polymer or a hybrid material of an organic polymer and an inorganic material.

【0061】本発明において、チャネル基板1とカバー
基板2の接着に際しては、好ましくは硬化型接着剤を用
いて接着される。
In the present invention, when the channel substrate 1 and the cover substrate 2 are bonded, it is preferable to use a curable adhesive.

【0062】硬化型接着剤としては、例えばエポキシ系
接着剤が挙げられるが、特に限定されるわけではない。
Examples of the curable adhesive include, but are not limited to, epoxy adhesives.

【0063】本発明では、上記の通りチャネル基板1の
隔壁13表面に金属電極6を設けた後に、カバー基板2
に接着剤を塗設し、該接着剤が下記条件1を満たす状態
で、前記チャネル基板1の上面にカバー基板2を重ね合
わせ、前記チャネル基板1と前記カバー基板2を加圧し
ながら接着する際に、該接着剤が下記条件1を満足する
と共に、下記条件2を経て前記チャネル基板1と前記カ
バー基板2との接着が行われることを特徴としている。
In the present invention, as described above, after the metal electrode 6 is provided on the surface of the partition wall 13 of the channel substrate 1, the cover substrate 2 is formed.
When an adhesive is applied to the substrate, the cover substrate 2 is superposed on the upper surface of the channel substrate 1 in a state where the adhesive satisfies the following condition 1, and the channel substrate 1 and the cover substrate 2 are bonded while being pressed. In addition, the adhesive satisfies the following condition 1, and the channel substrate 1 and the cover substrate 2 are bonded to each other under the following condition 2.

【0064】(条件1)粘弾性測定機により測定した接
着剤の硬さが、105 dyne/cm2以上である。(条件2)
粘弾性測定機により測定した接着剤の硬さが、105 dy
ne/cm2以上109 dyne/cm2以下である。
(Condition 1) The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 5 dyne / cm 2 or more. (Condition 2)
The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 5 dy
It is ne / cm 2 or more and 10 9 dyne / cm 2 or less.

【0065】接着剤の硬さが105 dyne/cm2よりも小さ
いと、チャネル基板1とカバー基板2とを重ね合わせた
時に接着剤が金属電極6に流れ出す問題がある。これは
チャネル基板1とカバー基板2とを接着するために重ね
合わせた時から、接着が完了するまでに必要な条件であ
る。
If the hardness of the adhesive is less than 10 5 dyne / cm 2 , there is a problem that the adhesive flows out to the metal electrode 6 when the channel substrate 1 and the cover substrate 2 are superposed on each other. This is a necessary condition from when the channel substrate 1 and the cover substrate 2 are superposed to each other until they are bonded to each other.

【0066】また、チャネル基板1とカバー基板2とを
加圧しながら接着する際には、接着剤が粘着性を有して
いることが必要である。この時、接着剤の硬さが109
dyne/cm2を超えると、接着剤の粘着性が不足し、チャネ
ル基板1とカバー基板2との接着が不良となる。
Further, when the channel substrate 1 and the cover substrate 2 are bonded while being pressed, it is necessary that the adhesive has tackiness. At this time, the hardness of the adhesive is 10 9
If it exceeds dyne / cm 2 , the adhesiveness of the adhesive will be insufficient and the adhesion between the channel substrate 1 and the cover substrate 2 will be poor.

【0067】隔壁13の上部の接着が不十分であると、
ヘッドを駆動した時に、発生圧力が接着が十分に行われ
ているものに比較して小さくなり、駆動電圧の上昇、チ
ャネル毎のバラツキの発生等を引き起こす。ひどくなる
とインクチャネル11からインクが漏れ出し、インク射
出不良をきたすおそれがある。
If the upper part of the partition wall 13 is not sufficiently adhered,
When the head is driven, the generated pressure becomes smaller than that in the case where the adhesion is sufficiently performed, which causes an increase in the drive voltage and the occurrence of variations in each channel. If it gets worse, the ink may leak from the ink channel 11 and cause defective ink ejection.

【0068】本発明において、より好ましい態様として
は、上記の通りチャネル基板1の隔壁13表面に金属電
極6を設けた後に、カバー基板2に接着剤を塗設し、該
接着剤が下記条件3を満たす状態で、前記チャネル基板
1の上面にカバー基板2を重ね合わせることであり、ま
た、前記チャネル基板1と前記カバー基板2を加圧しな
がら接着する際に、該接着剤が下記条件3を満足すると
共に、下記条件4を経て前記チャネル基板1と前記カバ
ー基板2との接着が行われることである。
In a more preferred embodiment of the present invention, after the metal electrode 6 is provided on the surface of the partition wall 13 of the channel substrate 1 as described above, the cover substrate 2 is coated with an adhesive, and the adhesive has the following Condition 3 The cover substrate 2 is superposed on the upper surface of the channel substrate 1 while satisfying the condition, and when the channel substrate 1 and the cover substrate 2 are adhered while being pressed, the adhesive satisfies the following Condition 3. In addition to being satisfied, the channel substrate 1 and the cover substrate 2 are adhered to each other under the following Condition 4.

【0069】(条件3)粘弾性測定機により測定した接
着剤の硬さが、106 dyne/cm2以上である。 (条件4)粘弾性測定機により測定した接着剤の硬さ
が、106 dyne/cm2以上108 dyne/cm2以下である。
(Condition 3) The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 6 dyne / cm 2 or more. (Condition 4) The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 6 dyne / cm 2 or more and 10 8 dyne / cm 2 or less.

【0070】本発明において、接着剤を、上記条件1、
又は、より好ましくは、上記条件3を満たす状態で、チ
ャネル基板1とカバー基板2とを重ね合わせて加圧する
際、加圧する圧力は、14〜20kg/cm2であることが好
ましい。
In the present invention, the adhesive is used under the above condition 1,
Or, more preferably, when the channel substrate 1 and the cover substrate 2 are overlapped and pressed under the condition 3 above, the pressure applied is preferably 14 to 20 kg / cm 2 .

【0071】硬化時間は特に限定されるわけではない
が、30分〜3日間程度が好ましい。
The curing time is not particularly limited, but is preferably about 30 minutes to 3 days.

【0072】このようにしてチャネル基板1の上面にカ
バー基板2を接合した後は、チャネル部10のうち、少
なくともインクチャネル11内に、金属電極6を保護す
る絶縁性の保護膜を形成することが好ましい。
After the cover substrate 2 is bonded to the upper surface of the channel substrate 1 in this way, an insulating protective film for protecting the metal electrode 6 is formed in at least the ink channel 11 of the channel portion 10. Is preferred.

【0073】絶縁性の保護膜としては、公知の種々の材
料を用いた絶縁性の保護膜を適用することができるが、
特にパリレン膜を用いることが好ましい。パリレン膜を
形成すると、インクとして水系インクを使用することが
可能となるからである。本実施形態では、この絶縁性の
保護膜をパリレン膜7と称する。
As the insulating protective film, insulating protective films made of various known materials can be used.
It is particularly preferable to use a parylene film. This is because when the parylene film is formed, it becomes possible to use a water-based ink as the ink. In this embodiment, this insulating protective film is referred to as a parylene film 7.

【0074】このパリレン膜7の形成法としては、固体
のジパラキシリレンダイマーを蒸着源とするCVD法
(Chemical Vapour Deposition:気相合成法)による公
知の方法を用いることができる。即ち、ジパラキシリレ
ンダイマーが気化、熱分解して発生したジラジカルパラ
キシリレンが、基板上に吸着し重合反応して被膜を形成
する。
As a method for forming the parylene film 7, a known method by a CVD method (Chemical Vapor Deposition) using a solid diparaxylylene dimer as a vapor deposition source can be used. That is, the diradical paraxylylene generated by vaporization and thermal decomposition of the diparaxylylene dimer is adsorbed on the substrate and polymerized to form a film.

【0075】パリレン膜7の膜厚は1.0〜10μmと
することが好ましい。パリレン膜7の膜厚が1.0μm
よりも薄いと十分な絶縁性を維持することが困難とな
り、また、膜厚が増加し10μmを越えると膜自体の剛
性により隔壁13の動きを規制するようになるからであ
る。パリレン膜7の膜厚のより好ましい範囲は、1.0
〜5.0μmであり、特に好ましい範囲は1.0〜3.
0μmである。パリレン膜7をインクチャネル11内に
十分に薄い膜として形成しても、インクチャネル11内
の有効断面積を減少させることがなく、十分なインク吐
出感度及びインク吐出特性を得ることができるからであ
る。
The parylene film 7 preferably has a thickness of 1.0 to 10 μm. Parylene film 7 has a thickness of 1.0 μm
If it is thinner, it becomes difficult to maintain a sufficient insulating property, and if the thickness exceeds 10 μm, the rigidity of the film itself restricts the movement of the partition wall 13. The more preferable range of the film thickness of the parylene film 7 is 1.0.
To 5.0 μm, and a particularly preferable range is 1.0 to 3.
It is 0 μm. Even if the parylene film 7 is formed as a sufficiently thin film in the ink channel 11, it is possible to obtain sufficient ink ejection sensitivity and ink ejection characteristics without reducing the effective sectional area in the ink channel 11. is there.

【0076】本発明では、パリレン膜7の表面を酸素プ
ラズマ処理して、親水化することが好ましい。かかるパ
リレン膜7を形成したインクチャネル11内に貯溜され
たインクに気泡が混入すると、気泡がパリレン膜7に付
着してこびりつき、抜けにくい問題が起こり得るが、上
記の親水化処理によってその問題を解消できるからであ
る。
In the present invention, the surface of the parylene film 7 is preferably treated with oxygen plasma to make it hydrophilic. When air bubbles are mixed in the ink stored in the ink channel 11 in which the parylene film 7 is formed, the air bubbles may adhere to the parylene film 7 and stick to the parylene film 7, which makes it difficult for the air bubbles to escape. This is because it can be resolved.

【0077】次いで、チャネル基板1の前端面に、イン
クを吐出するためのノズル孔31を有するノズルプレー
ト3を、エポキシ系接着剤等を用いて接合する。また、
チャネル基板1の後端面には、インク導入孔41を有す
るバックプレート4を介して、インクチャネル11内に
インクを供給するインクマニホールド5をエポキシ系接
着剤等の接着剤を用いて接合し、インクジェットヘッド
を構成する。
Next, the nozzle plate 3 having the nozzle holes 31 for ejecting ink is bonded to the front end surface of the channel substrate 1 by using an epoxy adhesive or the like. Also,
An ink manifold 5 for supplying ink into the ink channel 11 is joined to the rear end surface of the channel substrate 1 through a back plate 4 having an ink introduction hole 41 using an adhesive such as an epoxy adhesive, and the inkjet Make up the head.

【0078】以上、本発明の製造方法及びその製法によ
って得られるインクジェットヘッドの一例を説明した
が、本発明は、チャネル基板の隔壁表面に金属電極を設
けた後に、接着剤を用いてチャネル基板のチャネル部を
覆うように該チャネル基板の上面にカバー基板を加熱加
圧しながら接着する技術を採用するインクジェットヘッ
ドの製法、あるいはインクジェットヘッドであれば全て
に適用できる。
Although the manufacturing method of the present invention and an example of the ink jet head obtained by the manufacturing method have been described above, the present invention provides a method of forming a channel substrate by using an adhesive after providing a metal electrode on the partition wall surface of the channel substrate. The present invention can be applied to any manufacturing method of an inkjet head that adopts a technique of adhering a cover substrate to the upper surface of the channel substrate while heating and pressing the channel substrate so as to cover the channel portion, or any inkjet head.

【0079】[0079]

【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はかかる実施例によって何ら限定さ
れるものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0080】実施例1−6、比較例1−5 厚さ150μmと厚さ900μmの2枚のPZT板を1
50℃に熱した絶縁油に漬けて、10KVの直流電圧を
掛けて分極を行い、エポキシ系接着剤で2枚のPZT板
を分極方向が反対になるように接着した。
Example 1-6, Comparative Example 1-5 Two PZT plates each having a thickness of 150 μm and a thickness of 900 μm
It was immersed in insulating oil heated to 50 ° C., polarized by applying a DC voltage of 10 KV, and two PZT plates were bonded with an epoxy adhesive so that the polarization directions were opposite.

【0081】次いで、PZT板の表面に、東京応化工業
社製ポジ型フォトレジスト「PMER P−LA10
0」を、乾燥膜厚5μmになる様にスピンコートし、1
00℃のオーブンに30分間入れてキュアーした後、P
ZT板の表面からダイヤモンドブレードを使用して、前
後方向に伸びる幅70μm、深さ300μmのインク流
路用のインクチャネルと、前後方向に伸びる幅70μ
m、深さ300μmの空気溝用の空気チャネルを交互に
70μm間隔で研削してチャネル基板を形成した後、超
音波洗浄して研削屑を取り除き、Ni−Bの無電解めっ
きを施した。
Then, a positive photoresist "PMER P-LA10" manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. was formed on the surface of the PZT plate.
0 "by spin coating to a dry film thickness of 5 μm, and
Put in an oven at 00 ° C for 30 minutes to cure, then
Using a diamond blade from the surface of the ZT plate, an ink channel for the ink flow passage having a width of 70 μm and a depth of 300 μm extending in the front-rear direction and a width of 70 μ extending in the front-rear direction.
m, air channels for air grooves having a depth of 300 μm were alternately ground at intervals of 70 μm to form a channel substrate, ultrasonic cleaning was performed to remove grinding debris, and Ni—B electroless plating was performed.

【0082】無電解めっき法は、最初に、チャネル基板
を、50℃に加熱した(株)ワールドメタル製の脱脂液
「PT−0」(有機酸塩0.4%+無機アルカリ塩0.
2%+ノニオン活性剤0.5%、pH=1)に30秒間
つけて洗浄した。水洗後、(株)ワールドメタル製のエ
ッチング液「PT−1」(無機酸塩5%+アンモニヤ系
硫酸塩4%、弗素系塩1.5%、pH=2)に30秒間
漬け、水洗した後、(株)ワールドメタル製の酸化液
「PT−2」(有機酸塩15%+無機塩2%、pH=
1)に30秒間漬けた。更に水洗した後、(株)ワール
ドメタル製の塩化第一錫溶液「PT−3」(有機酸塩
0.4%+無機酸塩0.8%+塩化第一錫0.6%+N
aCl3.5%、pH= 1)に30秒間漬け、軽く水洗
して、(株)ワールドメタル製の塩化パラジウム溶液
「PT−4」(有機酸塩1%+無機酸塩3%+塩化パラ
ジウム0.1%、pH=1)に45秒漬けた。これを水
洗後、「PT−3」と「PT−4」による処理をもう一
度繰り返した。
In the electroless plating method, first, the degreasing liquid "PT-0" (organic acid salt 0.4% + inorganic alkali salt 0.
2% + nonionic activator 0.5%, pH = 1) for 30 seconds for washing. After washing with water, it was immersed in an etching solution "PT-1" manufactured by World Metal Co., Ltd. (inorganic acid salt 5% + ammonium sulfate 4%, fluorine salt 1.5%, pH = 2) for 30 seconds and washed with water. Later, World Metal Co., Ltd. oxidation solution "PT-2" (15% organic acid salt + 2% inorganic salt, pH =
Soak in 1) for 30 seconds. After further washing with water, stannous chloride solution "PT-3" manufactured by World Metal Co., Ltd. (0.4% organic acid salt + 0.8% inorganic acid salt + 0.6% stannous chloride + N)
aCl 3.5%, pH = 1) for 30 seconds, lightly washed with water, and then palladium chloride solution “PT-4” (organic acid salt 1% + inorganic acid salt 3% + palladium chloride 0) manufactured by World Metal Co., Ltd. It was soaked in 0.1%, pH = 1) for 45 seconds. After washing this with water, the treatments with "PT-3" and "PT-4" were repeated once again.

【0083】次いで、前処理の終ったチャネル基板を、
60℃に加熱した(株)ワールドメタル製のニッケル−
ホウ素無電解めっき液「ニボロン70」に界面活性剤
「AP555」を添加した液で、20分間、チャネル基
板を垂直方向に2.5cm/secの速度で揺動させな
がらめっきし、1.5μmのめっき金属を形成した。
Next, the pretreated channel substrate is
World Metal Nickel heated to 60 ° C
The electroless plating solution of boron "Nivolon 70" was added with the surfactant "AP555" for 20 minutes to plate the channel substrate while rocking it vertically at a speed of 2.5 cm / sec. A plated metal was formed.

【0084】次いで、東京応化工業社製のレジスト剥離
液「PS」にヘッドを浸漬して、レジストを取り除き、
セラミックス製の試料取り付け板の上に、めっきしたチ
ャネル基板の前壁を上に向けてワックスでチャネル基板
を固定し、これを(株)日本エンギス製のハイプラスラ
ッピング機の回転するラッピングプレート上に載せて、
粒径3μmのダイヤモンドスラリーを噴射しながら、3
分間、チャネル基板の前壁を研磨してめっき金属を除去
した。
Then, the head is immersed in a resist stripping solution "PS" manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. to remove the resist,
On the ceramic sample mounting plate, fix the channel substrate with wax with the front wall of the plated channel substrate facing upwards, and place it on the rotating lapping plate of the High Plus wrapping machine manufactured by Nippon Engis Co., Ltd. Put,
3 while spraying diamond slurry with a particle size of 3 μm
The front wall of the channel substrate was polished for minutes to remove the plated metal.

【0085】引き続き、チャネル基板の後壁と底面に析
出しためっき金属を、波長532nmのYAGレーザー
で、約50J/cm2 のエネルギー密度で除去してめっ
き除去部を形成し、これにより各チャネル部間の電極を
分離してヘッド配線とした。
Subsequently, the plating metal deposited on the rear wall and the bottom surface of the channel substrate was removed with a YAG laser having a wavelength of 532 nm at an energy density of about 50 J / cm 2 to form a plating removal portion, whereby each channel portion was formed. The electrodes in between were separated to form head wiring.

【0086】一方、カバー基板は、上記チャネル基板と
同一の圧電素子板を脱分極して形成した。
On the other hand, the cover substrate was formed by depolarizing the same piezoelectric element plate as the channel substrate.

【0087】かかるチャネル基板及びカバー基板の組を
11組用意し、それぞれに下記の接着剤(各実施例及び
比較例で使用した接着剤の種類は表1に示している)を
カバー基板に塗布し、室温より2℃/minの定率で昇
温し、80℃で維持する時間を変えて、若しくは室温
(約25℃)のまま放置する時間を変えて、チャネル基
板との重ね合わせ時における接着剤の種々の状態を作製
した。
Eleven sets of such channel substrates and cover substrates were prepared, and the following adhesives (the types of adhesives used in each Example and Comparative Example are shown in Table 1) were applied to the respective cover substrates. Then, the temperature is raised from room temperature at a constant rate of 2 ° C./min, and the time of maintaining at 80 ° C. is changed, or the time of leaving it at room temperature (about 25 ° C.) is changed, and adhesion at the time of overlapping with the channel substrate is performed. Different states of the agent were made.

【0088】また、重ね合わせ後の加圧時には、重ね合
わせ後に加熱せず常温のまま、若しくは重ね合わせ後に
加熱する温度を制御して、加圧時の接着剤の硬さが異な
る種々の状態を作製した。
Further, at the time of pressing after superposition, the temperature is kept at room temperature without heating after superposition, or the temperature of heating after superposition is controlled so that the hardness of the adhesive at the time of pressurization varies. It was made.

【0089】チャネル基板とカバー基板とを重ね合わせ
た後に加圧する際の圧力は、20kg/cm2の圧力で行っ
た。
The pressure applied after the channel substrate and the cover substrate were superposed on each other was 20 kg / cm 2 .

【0090】(接着剤1) エポキシ系接着剤 ビスフェノールAジグリシジルエーテル(DGEBA) ジシアンジアミド(DICY) エポキシアダクト系硬化促進剤(Adhesive 1) Epoxy adhesive Bisphenol A diglycidyl ether (DGEBA) Dicyandiamide (DICY) Epoxy adduct curing accelerator

【0091】(接着剤2) エポキシ系接着剤 ビスフェノールAジグリシジルエーテル(DGEBA) ジエチレントリアミン(Adhesive 2) Epoxy adhesive Bisphenol A diglycidyl ether (DGEBA) Diethylenetriamine

【0092】カバー基板に塗設した接着剤の重ね合わせ
時及び加圧時のそれぞれの硬さは、Rheometric Scienti
fic社製の粘弾性測定機「ARES」の測定により求め
た。但し、粘弾性測定機による測定は、カバー基板をチ
ャネル基板に貼付けした後には行えないため、接着剤の
硬さの確認は、上記粘弾性測定機を用いて次のように行
った。
The hardness of the adhesive coated on the cover substrate at the time of superposition and pressure application is Rheometric Scienti
It was determined by measurement with a viscoelasticity measuring instrument "ARES" manufactured by fic. However, since the measurement with the viscoelasticity measuring device cannot be performed after the cover substrate is attached to the channel substrate, the hardness of the adhesive was confirmed with the above viscoelasticity measuring device as follows.

【0093】図3に示すように、粘弾性測定機は、変換
器101側に取り付けられた上側軸102の先端と、モ
ータ103に取り付けられた下側軸104の先端とが、
温度調節器105により温度調整される温度調整室10
6内で対向配置されている。この温度調節器105は、
実際に接着剤が塗布されたカバー基板の製造温度環境と
同じ環境を形成することができる。上側軸102の先端
と下側軸104の先端には、それぞれ円盤状治具102
a、104aが所定のギャップを形成するように取り付
けられており、円盤状治具102aと104aとのギャ
ップに上記接着剤200が存在している。また、モータ
103及び温度調節器105はコンピュータ(PC)1
07によって制御され、変換器101からのデータはコ
ンピュータ107に入力されるようになっている。
As shown in FIG. 3, in the viscoelasticity measuring machine, the tip of the upper shaft 102 attached to the converter 101 side and the tip of the lower shaft 104 attached to the motor 103 are
Temperature control chamber 10 whose temperature is controlled by the temperature controller 105
6 are opposed to each other. This temperature controller 105
It is possible to form the same environment as the manufacturing temperature environment of the cover substrate to which the adhesive is actually applied. At the tip of the upper shaft 102 and the tip of the lower shaft 104, a disc-shaped jig 102 is provided.
a and 104a are attached so as to form a predetermined gap, and the adhesive 200 is present in the gap between the disc-shaped jigs 102a and 104a. The motor 103 and the temperature controller 105 are the computer (PC) 1
Controlled by 07, the data from the converter 101 is input to the computer 107.

【0094】接着剤の硬さを測定する際は、まず温度調
整室106内を、実際にカバー基板とチャネル基板の各
組がそれぞれおかれる温度雰囲気と同様に制御し、この
温度調整室106内の円盤状治具102aと104aと
のギャップに、実際のカバー基板と同じ条件で接着剤2
00を存在させる。そして、コンピュータ107からの
指示により所定の周波数でモータ103を回転させて下
側軸104を回転させ、そのときに接着剤200を介し
て上側軸101に伝達されるトルクを変換器101で検
知してコンピュータ107に出力し、そのトルク及びト
ルクのかかる時間のずれ等から接着剤200の硬さを測
定する。
When measuring the hardness of the adhesive, first, the inside of the temperature adjusting chamber 106 is controlled in the same manner as the temperature atmosphere in which each set of the cover substrate and the channel substrate is actually placed. In the gap between the disc-shaped jigs 102a and 104a, adhesive 2 is applied under the same conditions as the actual cover substrate.
00 is present. Then, in accordance with an instruction from the computer 107, the motor 103 is rotated at a predetermined frequency to rotate the lower shaft 104, and at that time, the torque transmitted to the upper shaft 101 via the adhesive 200 is detected by the converter 101. And outputs it to the computer 107, and measures the hardness of the adhesive 200 from the torque and the time lag of the torque.

【0095】チャネル基板にカバー基板を貼り付けした
後は、アセトンで洗浄し、その前後の重量を測定して、
接着剤の未硬化分の有無を確認した。
After the cover substrate was attached to the channel substrate, it was washed with acetone, and the weight before and after that was measured,
The presence or absence of the uncured portion of the adhesive was confirmed.

【0096】その後、保護膜としてパリレン膜を設け、
前壁側にノズルプレートを、後壁側にバックプレート及
びマニホールドを各々接合して、所定の配線を行ってイ
ンクジェットヘッドを作成した。
After that, a parylene film is provided as a protective film,
The nozzle plate was joined to the front wall side, the back plate and the manifold were joined to the rear wall side, and predetermined wiring was performed to form an inkjet head.

【0097】チャネル基板とカバー基板とが確実に接着
されているかどうかの確認は、インクジェットヘッドの
共振周波数の有無と、インク射出テストにより判断し
た。
Whether or not the channel substrate and the cover substrate were reliably adhered was determined by the presence or absence of the resonance frequency of the ink jet head and the ink ejection test.

【0098】共振周波数の有無は、インクジェットヘッ
ドの隔壁に電圧を印加して変形駆動させることにより、
カバー基板との間の接着の有無で共振周波数が違うこと
を利用し、特定の共振周波数の有無を見て接着の状態を
調べる方法である。共振周波数が「有」の場合は、ヘッ
ド全体に亘って強固な接着が達成されていることを示し
ている。
The presence / absence of the resonance frequency can be determined by applying a voltage to the partition of the ink jet head to drive the deformation.
By utilizing the fact that the resonance frequency differs depending on the presence or absence of adhesion with the cover substrate, it is a method of checking the adhesion state by checking the presence or absence of a specific resonance frequency. When the resonance frequency is “present”, it indicates that strong adhesion is achieved over the entire head.

【0099】また、インク射出テストは、実際にインク
を射出し、インク滴速度が7m/secになる射出電圧
を測定すると同時に、各チャネル間でのばらつきを比較
した。電圧が低いことは、隔壁上面にカバー基板が強固
に接着されているために、隔壁変形時の力が損失なくイ
ンク吐出に利用されていることを示している。同時にこ
れは消費電力を抑えることができるために好ましい状態
である。また、ばらつきの発生は、チャネル基板の各隔
壁とカバー基板との間に部分的に接着不良が発生してい
ることを示している。
In the ink ejection test, the ejection voltage was measured by actually ejecting the ink and the ink drop velocity was 7 m / sec, and at the same time, the variations among the channels were compared. The low voltage indicates that the cover substrate is firmly adhered to the upper surface of the partition wall, so that the force at the time of deformation of the partition wall is used for ink ejection without loss. At the same time, this is a preferable state because the power consumption can be suppressed. Further, the occurrence of variation indicates that a defective adhesion is partially generated between each partition wall of the channel substrate and the cover substrate.

【0100】以上の評価結果を表1に示す。Table 1 shows the above evaluation results.

【0101】なお、実施例1〜6について、10万ショ
ットのインク射出テストを行った。その結果、実施例
1、5については、全体的な射出速度低下、チャネル間
の速度ばらつきの増大が見られたが、実施例2〜4、6
については、10万ショットのインク射出によっても何
ら射出性能が劣化することがなく、高耐久性に優れるも
のであった。
An ink ejection test of 100,000 shots was conducted on Examples 1 to 6. As a result, in Examples 1 and 5, a decrease in the overall injection speed and an increase in speed variation between channels were observed, but Examples 2 to 4 and 6
With respect to No. 3, the ejection performance was not deteriorated even when the ink was ejected for 100,000 shots, and the durability was excellent.

【0102】[0102]

【表1】 [Table 1]

【0103】なお、表1では、加圧時の粘弾性測定機に
よる接着剤の硬さをそれぞれほぼ一様として、それぞれ
一点の値を示したが、加圧の際に、重ね合わせ後の加熱
等によって、それぞれの重ね合わせ時の硬さから、それ
ぞれの加圧時の硬さとして表1に示した値の硬さまで、
接着剤の硬さが変化しながら加圧接着した場合にも、ま
た、重ね合わせ後、それぞれの重ね合わせ時の硬さより
も高い硬さの状態の時から若しくはその状態を経た後に
加圧が開始され、表1に示したそれぞれの加圧時の硬さ
の値まで接着剤の硬さが変化しながら加圧接着した場合
にも、表1と同様な評価結果が得られた。
In Table 1, the hardness of the adhesive by the viscoelasticity measuring instrument at the time of pressurization was set to be substantially uniform, and one value was shown for each. From the hardness at the time of stacking to the hardness shown in Table 1 as the hardness at each pressurization,
Even when pressure-bonding is performed while the hardness of the adhesive changes, pressurization starts after the layers have a hardness higher than the hardness of each layer or after the state. The same evaluation results as in Table 1 were obtained even when pressure bonding was performed while the hardness of the adhesive was changed to the respective hardness values under pressure shown in Table 1.

【0104】実施例7−12及び比較例6−10 本実施例は、金属電極の形成方法以外は、実施例1と同
じように形成するため、金属電極の形成方法、および、
それにより形成されたインクジェットヘッドの評価につ
いてのみ説明する。
Examples 7-12 and Comparative Examples 6-10 Since this example is formed in the same manner as in Example 1 except for the method of forming the metal electrode, the method of forming the metal electrode, and
Only the evaluation of the inkjet head formed thereby will be described.

【0105】接着された2枚のPZT板にインクチャネ
ルと空気チャネルとを研削し、超音波洗浄した後、アル
ミ蒸着法により電極を形成した。
Ink channels and air channels were ground in two bonded PZT plates, ultrasonic cleaning was performed, and then electrodes were formed by aluminum vapor deposition.

【0106】アルミ蒸着法は、最初に各隔壁の上端面
(カバー基板との接着面)に、保護膜(ドライフィル
ム)を設ける。その後、隔壁の延長面と一定の角度をな
す面内にある蒸着源から、電極となるアルミニウムを蒸
発させて、PZT板全面にアルミニウムを蒸着させる。
In the aluminum vapor deposition method, first, a protective film (dry film) is provided on the upper end surface (adhesion surface with the cover substrate) of each partition wall. Then, aluminum serving as an electrode is evaporated from a vapor deposition source located within a plane forming a certain angle with the extended surface of the partition wall, and aluminum is vapor deposited on the entire surface of the PZT plate.

【0107】そして、蒸着させた後、各隔壁の上端面の
保護膜を除去する。これにより、簡単に各隔壁にアルミ
ニウム電極を形成することができる。
After vapor deposition, the protective film on the upper end surface of each partition is removed. Thus, the aluminum electrode can be easily formed on each partition.

【0108】実施例1と同様、インクジェットヘッドの
共振周波数の有無と、インク射出テストの評価結果を表
2に示す。
Similar to Example 1, Table 2 shows the presence / absence of resonance frequency of the ink jet head and the evaluation result of the ink ejection test.

【0109】[0109]

【表2】 [Table 2]

【0110】また、以上の実施例においては、接着剤1
及び接着剤2ともエポキシ系接着剤を用いた例を示した
が、本発明はエポキシ系接着剤に限定されるものではな
く、種々の接着剤を適用できることは勿論である。
In the above embodiments, the adhesive 1
Although an example in which an epoxy-based adhesive is used as both the adhesive 2 and the adhesive 2 is shown, the present invention is not limited to the epoxy-based adhesive and various adhesives can of course be applied.

【0111】しかしながら、インクジェットヘッドに必
要な耐インク性や固着強度等を容易に達成できることか
ら、エポキシ系接着剤を用いることが好ましい。また、
特にPZTのチャネル基板を用いる場合には、分極され
たPZTへの悪影響を防止する上で、チャネル基板を高
温下におくことは望ましくなく、本実施例で用いたよう
なエポキシ系接着剤では比較的低温で硬化できることか
らもエポキシ系接着剤を用いることが特に好ましい。
However, it is preferable to use the epoxy adhesive because the ink resistance and fixing strength required for the ink jet head can be easily achieved. Also,
Especially when a PZT channel substrate is used, it is not desirable to keep the channel substrate at a high temperature in order to prevent adverse effects on the polarized PZT, and the epoxy adhesives used in this example are compared. It is particularly preferable to use an epoxy adhesive because it can be cured at a relatively low temperature.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】インクジェットヘッドの部分破断斜視図FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of an inkjet head.

【図2】インクジェットヘッドの部分断面図FIG. 2 is a partial sectional view of an inkjet head.

【図3】粘弾性測定機の概略図FIG. 3 is a schematic diagram of a viscoelasticity measuring machine.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:チャネル基板 2:カバー基板 3:ノズルプレート 4:バックプレート 5:インクマニホールド 6:金属電極 7:パリレン膜 10:チャネル部 11:インクチャネル 12:空気チャネル 13:隔壁 1: Channel substrate 2: Cover substrate 3: Nozzle plate 4: Back plate 5: Ink manifold 6: Metal electrode 7: Parylene film 10: Channel part 11: Ink channel 12: Air channel 13: Partition wall

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C057 AF93 AG45 AP02 AP03 AP14 AP22 AP25 AP45 AP52 AP53 AP54 AP55 AP59 BA03 BA05 BA14    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2C057 AF93 AG45 AP02 AP03 AP14                       AP22 AP25 AP45 AP52 AP53                       AP54 AP55 AP59 BA03 BA05                       BA14

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】チャネル基板の隔壁と該チャネル基板の上
面をカバー基板によって覆うことによりインク流路を形
成し、該インク流路の隔壁をせん断変形して該インク流
路内のインクを吐出するインクジェットヘッドの製造方
法であって、 前記チャネル基板の隔壁の表面に金属電極を形成する工
程と、 前記カバー基板に接着剤を塗設する工程と、 前記接着剤が下記条件1を満たす状態で、前記隔壁と前
記カバー基板によりインク流路が形成されるように、前
記隔壁の上端面に前記カバー基板を重ね合わせる工程
と、 前記接着剤が下記条件1を満たすと共に、下記条件2を
経て前記隔壁の上端面と前記カバー基板とが接着される
ように、前記チャネル基板と前記カバー基板とを加圧す
る工程とを有することを特徴とするインクジェットヘッ
ドの製造方法。 (条件1)粘弾性測定機により測定した接着剤の硬さ
が、105 dyne/cm2以上である。 (条件2)粘弾性測定機により測定した接着剤の硬さ
が、105 dyne/cm2以上109 dyne/cm2以下である。
1. A partition wall of a channel substrate and an upper surface of the channel substrate are covered with a cover substrate to form an ink flow path, and the partition wall of the ink flow path is sheared and deformed to eject ink in the ink flow path. A method of manufacturing an inkjet head, comprising the steps of forming a metal electrode on a surface of a partition wall of the channel substrate, applying an adhesive to the cover substrate, and in a state where the adhesive satisfies the following condition 1, A step of overlaying the cover substrate on an upper end surface of the partition wall so that an ink flow path is formed by the partition wall and the cover substrate; and the adhesive satisfies the following condition 1 and the partition wall through the following condition 2. A step of pressurizing the channel substrate and the cover substrate so that the upper end surface of the substrate and the cover substrate are adhered to each other. Production method. (Condition 1) The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 5 dyne / cm 2 or more. (Condition 2) The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 5 dyne / cm 2 or more and 10 9 dyne / cm 2 or less.
【請求項2】前記条件2の接着剤の硬さが、106 dyne
/cm2以上108 dyne/cm2以下であることを特徴とする請
求項1記載のインクジェットヘッドの製造方法。
2. The hardness of the adhesive under the condition 2 is 10 6 dyne.
The method for producing an ink jet head according to claim 1, wherein the density is not less than / cm 2 and not more than 10 8 dyne / cm 2 .
【請求項3】前記条件1の接着剤の硬さが、106 dyne
/cm2以上であることを特徴とする請求項1又は2記載の
インクジェットヘッドの製造方法。
3. The hardness of the adhesive under the condition 1 is 10 6 dyne.
3. The method for producing an inkjet head according to claim 1, wherein the inkjet head has a density of not less than / cm 2 .
【請求項4】前記インク流路を形成する工程が、前記カ
バー基板を重ね合わせる工程の前に、2枚の異なるチャ
ネル基板を、各分極方向が反対になるように接合する工
程と、前記接合されたチャネル基板に前記インク流路用
の溝を加工する工程を有することを特徴とする請求項1
〜3の何れかに記載のインクジェットヘッドの製造方
法。
4. The step of forming the ink flow path, before the step of superposing the cover substrates, the step of joining two different channel substrates so that their polarization directions are opposite to each other, and the joining step. 2. The method according to claim 1, further comprising a step of processing a groove for the ink flow path on the formed channel substrate.
4. The method for manufacturing an inkjet head according to any one of 3 to 3.
【請求項5】前記チャネル基板と前記カバー基板とを加
圧する工程における加圧力が、14〜20kg/cm2である
ことを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のインク
ジェットヘッドの製造方法。
5. The ink jet head manufacturing method according to claim 1, wherein the pressure applied in the step of pressurizing the channel substrate and the cover substrate is 14 to 20 kg / cm 2. Method.
【請求項6】前記金属電極を形成する工程は、前記チャ
ネル基板としての非金属製の圧電材料の隔壁の表面に金
属電極を形成することを特徴とする請求項1〜5の何れ
かに記載のインクジェットヘッドの製造方法。
6. The step of forming the metal electrode comprises forming a metal electrode on a surface of a partition wall made of a non-metallic piezoelectric material as the channel substrate. Manufacturing method of inkjet head.
【請求項7】前記チャネル基板の隔壁の表面に金属電極
を形成する工程が、金属電極を蒸着により形成する工程
であることを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の
インクジェットヘッドの製造方法。
7. The ink jet head according to claim 1, wherein the step of forming the metal electrode on the surface of the partition wall of the channel substrate is a step of forming the metal electrode by vapor deposition. Production method.
【請求項8】前記接着剤を塗設する工程は、前記チャネ
ル基板と同じ種類の圧電素子板を脱分極処理したカバー
基板に対して接着剤を塗設することを特徴とする請求項
1〜7の何れかに記載のインクジェットヘッドの製造方
法。
8. The step of applying the adhesive comprises applying the adhesive to a cover substrate obtained by depolarizing a piezoelectric element plate of the same type as the channel substrate. 7. The method for manufacturing an inkjet head according to any one of 7.
【請求項9】チャネル基板の隔壁と該チャネル基板の上
面をカバー基板によって覆うことによりインク流路が形
成され、該インク流路の隔壁をせん断変形して該インク
流路内のインクを吐出するインクジェットヘッドであっ
て、 前記チャネル基板の隔壁の表面には金属電極が形成さ
れ、 前記カバー基板は、接着剤が塗設された後、下記条件1
を満たす状態で、前記隔壁と前記カバー基板によりイン
ク流路が形成されるように、前記隔壁の上端面に重ね合
わせてなり、 前記チャンネル基板と前記カバー基板とは加圧され、前
記接着剤が下記条件1を満たすと共に、下記条件2を経
て接着されてなることを特徴とするインクジェットヘッ
ド。 (条件1)粘弾性測定機により測定した接着剤の硬さ
が、105 dyne/cm2以上である。 (条件2)粘弾性測定機により測定した接着剤の硬さ
が、105 dyne/cm2以上109 dyne/cm2以下である。
9. An ink flow path is formed by covering a partition wall of a channel substrate and an upper surface of the channel substrate with a cover substrate, and the partition wall of the ink flow channel is sheared and deformed to eject ink in the ink flow channel. In the inkjet head, a metal electrode is formed on a surface of a partition wall of the channel substrate, the cover substrate is coated with an adhesive, and then the following condition 1 is satisfied.
In a state of satisfying the above, the partition wall and the cover substrate are superposed on the upper end surface of the partition wall so that an ink flow path is formed, the channel substrate and the cover substrate are pressed, and the adhesive is An ink jet head, characterized in that it is adhered under the following condition 2 while satisfying the following condition 1. (Condition 1) The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 5 dyne / cm 2 or more. (Condition 2) The hardness of the adhesive measured by a viscoelasticity measuring device is 10 5 dyne / cm 2 or more and 10 9 dyne / cm 2 or less.
【請求項10】前記条件2の接着剤の硬さが、106 dy
ne/cm2以上108 dyne/cm2以下であることを特徴とする
請求項9記載のインクジェットヘッド。
10. The hardness of the adhesive under the condition 2 is 10 6 dy.
The ink jet head according to claim 9, wherein the ink jet head is ne / cm 2 or more and 10 8 dyne / cm 2 or less.
【請求項11】前記条件1の接着剤の硬さが、106 dy
ne/cm2以上であることを特徴とする請求項9又は10記
載のインクジェットヘッド。
11. The adhesive of Condition 1 has a hardness of 10 6 dy.
The inkjet head according to claim 9 or 10, wherein the inkjet head has a ne / cm 2 or more.
【請求項12】前記インク流路が、2枚の異なるチャネ
ル基板を、各分極方向が反対になるように接合して形成
されており、該接合されたチャネル基板に前記インク流
路用の溝が加工されていることを特徴とする請求項9〜
11の何れかに記載のインクジェットヘッド。
12. The ink flow path is formed by joining two different channel substrates so that their polarization directions are opposite to each other, and the groove for the ink flow channel is formed in the joined channel substrate. Are processed.
11. The inkjet head according to any one of 11.
【請求項13】前記チャネル基板と前記カバー基板と
が、14〜20kg/cm2で加圧され接着されていることを
特徴とする請求項9〜12の何れかに記載のインクジェ
ットヘッド。
13. The ink jet head according to claim 9, wherein the channel substrate and the cover substrate are adhered under pressure of 14 to 20 kg / cm 2 .
【請求項14】前記金属電極が、蒸着により形成されて
いることを特徴とする請求項9〜13の何れかに記載の
インクジェットヘッド。
14. The ink jet head according to claim 9, wherein the metal electrode is formed by vapor deposition.
【請求項15】前記チャネル基板は、非金属製の圧電材
料であることを特徴とする請求項9〜14の何れかに記
載のインクジェットヘッド。
15. The ink jet head according to claim 9, wherein the channel substrate is made of a non-metallic piezoelectric material.
【請求項16】前記カバー基板は、前記チャネル基板と
同じ種類の圧電素子板を脱分極処理した基板であること
を特徴とする請求項9〜15の何れかに記載のインクジ
ェットヘッド。
16. The ink jet head according to claim 9, wherein the cover substrate is a substrate obtained by depolarizing a piezoelectric element plate of the same type as the channel substrate.
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