JP7182003B2 - 荷電粒子ビームシステム - Google Patents
荷電粒子ビームシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7182003B2 JP7182003B2 JP2021529590A JP2021529590A JP7182003B2 JP 7182003 B2 JP7182003 B2 JP 7182003B2 JP 2021529590 A JP2021529590 A JP 2021529590A JP 2021529590 A JP2021529590 A JP 2021529590A JP 7182003 B2 JP7182003 B2 JP 7182003B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aperture
- charged particle
- particle beam
- diaphragm
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/09—Diaphragms; Shields associated with electron or ion-optical arrangements; Compensation of disturbing fields
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/04—Means for controlling the discharge
- H01J2237/045—Diaphragms
- H01J2237/0451—Diaphragms with fixed aperture
- H01J2237/0453—Diaphragms with fixed aperture multiple apertures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/05—Arrangements for energy or mass analysis
- H01J2237/057—Energy or mass filtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/24405—Faraday cages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
Is=Jπ(β2-γ2)
r、h、tを用いて変形すると、下記の数式2となる。
Is=Jπ〔{tan-1(r/h)}2-{tan-1(r/(h+t))}2〕
また、絞り板130の上面に照射される電子ビームの電流値Iuは、放射角電流密度J、図5中に示す角度αおよびβを用いて、数式3のように表すことができる。
Iu=Jπ(α2-β2)
r、r´、hを用いて変形すると、下記の数式4となる。
Iu=Jπ〔{tan-1(r´/h)}2-{tan-1(r/h)}2〕
一方、絞り板130の上面に照射された電子ビームは、絞り板130内部で板厚tに対して指数関数的に減衰し、絞り板130の下面から透過電子として出射する。このとき、絞り板130を透過してくる電子ビームの電流量Itは、絞り板130の上面に照射される電子ビームの電流値Iu、崩壊定数λを用いて、数式5のように表すことができる。なお、崩壊定数λは、絞り板130の材質と電子ビームの加速電圧によって決まるパラメータである。
It=Iu×exp(-λt)
上述した数式1~5の関係から、絞り孔134の側壁部で散乱する電子ビームの電流量Isと絞り板130を透過してくる電子ビームの電流量Itとの交点を求めることで、最適な板厚tを決定することができる。なお、数式1~5中に記載される各種のパラメータは、実験及び計算により求められるパラメータである。
この場合、当該熱量ΔQの発生によって、ビーム調整絞り板の温度が上昇して、絞り板が熱膨張する。このようなビーム調整絞り板の経時変化(ドリフト)が生じると、メインビームの状態が変化し、撮像ツール101の光軸が変化する、といった事象が発生するため、装置性能の経時変化や装置間の機差が発生してしまうという問題があった。
φ3=φ2×(L/H)
数式7を用いれば、選択可能な絞り孔1107の孔径φ2に合わせて、最適となる絞り孔1307の孔径φ3を予め求め、φ2とφ3の最適な組合せをビームカット絞り孔選択テーブル1504として、記憶部105に保存しておくことが可能である。
Claims (10)
- 荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームの加速電圧を制御するコンピュータシステムを備えた荷電粒子ビームシステムであって、
前記荷電粒子ビームに作用する絞りであって、厚さが異なる第1及び第2の絞りを含む第1の絞り群と、
前記第1の絞り群における絞りを切り替える第1の絞り切り替え機構と、を備え、
前記コンピュータシステムは、前記加速電圧の増減に応じて前記第1の絞りから前記第2の絞りに切り替えるように、前記第1の絞り切り替え機構を制御すること特徴とする荷電粒子ビームシステム。 - 請求項1において、
前記第1の絞り群は、第1の円盤状絞り板に形成されること特徴とする荷電粒子ビームシステム。 - 請求項2において、
前記第1の絞り切り替え機構は、前記第1の円盤状絞り板が回転するように構成されること特徴とする荷電粒子ビームシステム。 - 請求項2において、
前記第1の円盤状絞り板は、同一の金属材料で形成されること特徴とする荷電粒子ビームシステム。 - 請求項1において、
前記コンピュータシステムは、前記第1及び第2の絞りと前記加速電圧との対応関係を示す第1の関係情報を予め求め、当該第1の関係情報と前記加速電圧の増減に基づいて、前記第1の絞りから前記第2の絞りに切り替えるように、前記第1の絞り切り替え機構を制御すること特徴とする荷電粒子ビームシステム。 - 請求項1において、
前記コンピュータシステムは、グラフィカルユーザーインターフェースから入力された前記加速電圧に基づいて、前記第1の絞り切り替え機構を制御すること特徴とする荷電粒子ビームシステム。 - 請求項1において、
前記荷電粒子ビームに作用する絞りであって、孔径が異なる第3及び第4の絞りを含む第2の絞り群と、
前記第2の絞り群における絞りを切り替える第2の絞り切り替え機構と、を備え、
前記コンピュータシステムは、前記第1の絞りまたは前記第2の絞りの孔径に応じて、前記第2の絞り切り替え機構を制御すること特徴とする荷電粒子ビームシステム。 - 請求項7において、
前記コンピュータシステムは、前記第1の絞り又は前記第2の絞りの孔径と、前記第3及び第4の絞りとの対応関係を示す第2の関係情報を予め求め、当該第2の関係情報と前記第1の絞りまたは前記第2の絞りの孔径に基づいて、前記第3の絞りから前記第4の絞りに切り替えるように、前記第2の絞り切り替え機構を制御すること特徴とする荷電粒子ビームシステム。 - 請求項1において、
試料と前記第1の絞り群との間に配置され、前記荷電粒子ビームに作用するエネルギーフィルタを備え、
前記コンピュータシステムは、前記第1の絞りまたは前記第2の絞りの孔径に応じて、前記エネルギーフィルタに印加する印加電圧を制御すること特徴とする荷電粒子ビームシステム。 - 請求項9において、
前記コンピュータシステムは、前記第1の絞り又は前記第2の絞りの孔径と、前記印加電圧との対応関係を示す第3の関係情報を予め求め、当該第3の関係情報と前記第1の絞りまたは前記第2の絞りの孔径に基づいて、前記エネルギーフィルタに印加する印加電圧を制御すること特徴とする荷電粒子ビームシステム。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2019/026230 WO2021001916A1 (ja) | 2019-07-02 | 2019-07-02 | 荷電粒子ビームシステム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2021001916A1 JPWO2021001916A1 (ja) | 2021-01-07 |
JPWO2021001916A5 JPWO2021001916A5 (ja) | 2022-02-21 |
JP7182003B2 true JP7182003B2 (ja) | 2022-12-01 |
Family
ID=74100978
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021529590A Active JP7182003B2 (ja) | 2019-07-02 | 2019-07-02 | 荷電粒子ビームシステム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11961704B2 (ja) |
JP (1) | JP7182003B2 (ja) |
WO (1) | WO2021001916A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11749495B2 (en) * | 2021-10-05 | 2023-09-05 | KLA Corp. | Bandpass charged particle energy filtering detector for charged particle tools |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000271237A (ja) | 1999-03-24 | 2000-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | 放射線照射装置 |
US20150348738A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-12-03 | Car Zeiss Microscopy GmbH | Particle beam system |
JP6236743B2 (ja) | 2013-12-24 | 2017-11-29 | 株式会社サタケ | 籾摺選別機 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06236743A (ja) | 1991-09-20 | 1994-08-23 | Jeol Ltd | 電子線装置のプローブ電流設定方式 |
JPH065499A (ja) | 1992-06-22 | 1994-01-14 | Hitachi Ltd | アパーチャ絞り及びその製造方法ならびにこれを用いた荷電ビーム描画装置 |
JPH06163371A (ja) | 1992-11-18 | 1994-06-10 | Hitachi Ltd | 電子線描画装置 |
JPH07302564A (ja) | 1994-05-10 | 1995-11-14 | Topcon Corp | 走査電子顕微鏡 |
JP3688160B2 (ja) * | 1999-09-17 | 2005-08-24 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡 |
JP2005044560A (ja) | 2003-07-24 | 2005-02-17 | Nikon Corp | 荷電粒子線装置用絞り、及び荷電粒子線装置 |
DE102008008634B4 (de) * | 2008-02-12 | 2011-07-07 | Bruker Daltonik GmbH, 28359 | Automatische Reinigung von MALDI-Ionenquellen |
JP2011243540A (ja) | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Hitachi High-Technologies Corp | 透過電子顕微鏡の制限視野絞りプレート、制限視野絞りプレートの製造方法及び制限視野電子回折像の観察方法 |
JP5687157B2 (ja) | 2011-08-22 | 2015-03-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子銃、電界放出電子銃、荷電粒子線装置および透過型電子顕微鏡 |
-
2019
- 2019-07-02 US US17/595,742 patent/US11961704B2/en active Active
- 2019-07-02 WO PCT/JP2019/026230 patent/WO2021001916A1/ja active Application Filing
- 2019-07-02 JP JP2021529590A patent/JP7182003B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000271237A (ja) | 1999-03-24 | 2000-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | 放射線照射装置 |
JP6236743B2 (ja) | 2013-12-24 | 2017-11-29 | 株式会社サタケ | 籾摺選別機 |
US20150348738A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-12-03 | Car Zeiss Microscopy GmbH | Particle beam system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11961704B2 (en) | 2024-04-16 |
JPWO2021001916A1 (ja) | 2021-01-07 |
US20220223372A1 (en) | 2022-07-14 |
WO2021001916A1 (ja) | 2021-01-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6810804B2 (ja) | 試験片を検査する方法および荷電粒子マルチビーム装置 | |
CN110214361B (zh) | 用于检查样本的方法和带电粒子多束装置 | |
TWI684197B (zh) | 抗旋轉透鏡、多射束裝置、及用於組態聚焦抗旋轉透鏡的方法 | |
US10062541B2 (en) | Apparatus of plural charged-particle beams | |
NL2021253B1 (en) | Charged particle beam device for inspection of a specimen with an array of primary charged particle beamlets and method of imaging or illuminating a specimen with an array of primary charged particle beamlets | |
TWI650550B (zh) | 用於高產量電子束檢測(ebi)的多射束裝置 | |
US8247782B2 (en) | Apparatus and method for investigating and/or modifying a sample | |
JP4171479B2 (ja) | 荷電粒子線応用装置及び荷電粒子線応用方法 | |
JP4679978B2 (ja) | 荷電粒子ビーム応用装置 | |
JP5498488B2 (ja) | 荷電粒子線応用装置及び試料観察方法 | |
US20200051779A1 (en) | Apparatus for multiple charged-particle beams | |
WO2004066331A2 (en) | Charged particle beam apparatus and method for operating the same | |
JP2004342341A (ja) | ミラー電子顕微鏡及びそれを用いたパターン欠陥検査装置 | |
JP7182003B2 (ja) | 荷電粒子ビームシステム | |
EP2378537B1 (en) | Method of operating a charged particle beam device | |
JPH10162769A (ja) | イオンビーム加工装置 | |
WO2023017107A1 (en) | Charged-particle beam device for diffraction analysis | |
EP2182543A1 (en) | Method and device for improved alignment of a high brightness charged particle gun |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211124 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211124 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221115 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221118 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7182003 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |