JP7153641B2 - 光学システムにおける物理的効果の補償 - Google Patents
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Description
本願は2016年11月11日出願の米国出願第15/349,600号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
Claims (14)
- 音響光学材料を出る光ビームの波面を推定すること、
前記音響光学材料を含む音響光学システムのための制御信号を生成することであって、前記制御信号は、前記光ビームの前記推定された波面に基づくものであること、及び、
前記制御信号を前記音響光学システムに印加して、前記音響光学材料内を伝搬する周波数チャープ音波を生成することであって、前記周波数チャープ音波は、前記音響光学材料内に過渡回折素子を形成し、前記過渡回折素子と前記光ビームとの間の相互作用は、前記光ビームの前記波面のディストーションを補償するために前記光ビームの前記波面を調節すること、
を含み、
前記波面の前記ディストーションは前記音響光学材料内の物理的効果によって少なくとも部分的に生じるものであり、
前記音響光学材料の前記物理的効果は、前記音響光学材料の熱的ディストーションを含み、前記熱的ディストーションは、前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面の前記ディストーションを少なくとも部分的に発生させるものである、
方法。 - 前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面を推定することは、
前記音響光学材料を出る前記光ビームの少なくとも一部を受信すること、及び、
前記光ビームの前記受信した部分に基づいて、前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面を推定すること、
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面を推定することは、
前記音響光学材料の複数の温度測定値を評価することであって、前記複数の温度測定値の各々は前記音響光学材料の異なる部分の温度であること、
前記評価された複数の温度に基づいて、前記音響光学材料の温度分布を推定すること、
前記音響光学材料の前記推定された温度分布に基づいて、前記音響光学材料の屈折率の空間分布を推定すること、及び、
前記音響光学材料の前記推定された屈折率を使用して、前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面を推定すること、
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記過渡回折素子は、前記音響光学材料の前記物理的効果以外の効果について前記光ビームを更に補償する、請求項2に記載の方法。
- 前記音響光学材料の前記物理的効果以外の前記効果は、前記音響光学材料以外の光学素子の物理的効果を含み、前記光学素子は前記光ビームと相互作用するように位置決めされる、請求項4に記載の方法。
- 前記音響光学システムのための初期制御信号を生成することであって、前記初期制御信号は、前記光ビームの前記推定された波面とは無関係であること、及び、
前記光ビームの前記波面を推定する前に、前記音響光学材料内に一定周波数音波を生成するために、前記初期制御信号を前記音響光学システムに印加することであって、前記一定周波数音波は前記音響光学材料内に初期過渡回折素子を形成し、前記初期過渡回折素子の生成は、少なくとも部分的に前記波面の前記ディストーションを発生させる前記物理的効果であること、
を更に含む、請求項1に記載の方法。 - 極端紫外(EUV)光源のためのシステムであって、
光学システムと、
センシング装置と、
制御システムと、
を備え、
前記光学システムは、
音波が内部を伝搬する音響光学材料であって、ビームパス上に位置決めされるように構成される音響光学材料、及び、
音波ジェネレータであって、
前記音響光学材料に結合するように構成されたトランスデューサと、
前記トランスデューサに結合するように構成された波形ジェネレータと、
を備える、音波ジェネレータ、
を備え、
前記センシング装置は、前記ビームパス上を伝搬する光ビームに関するデータ、又は前記音響光学材料の状態に関するデータを、測定するように構成され、
前記制御システムは、前記センシング装置及び前記波形ジェネレータに結合され、
前記センシング装置によって測定されたデータに基づいて前記光ビームの波面を推定するように、
前記光ビームの前記推定された波面に基づいて制御信号を生成するように、及び、
前記制御信号を前記光学システムに提供するように、
構成され、前記制御信号は、前記音波ジェネレータに周波数チャープ音波を前記音響光学材料に提供させるのに十分であり、前記周波数チャープ音波は前記音響光学材料内に過渡回折素子を形成し、前記過渡回折素子と前記光ビームとの間の相互作用が、前記音響光学材料の物理的効果を補償するように前記光ビームの前記波面を調節し、
前記音響光学材料の前記物理的効果は、前記音響光学材料の熱的ディストーションを含み、前記熱的ディストーションは、前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面の前記ディストーションを少なくとも部分的に発生させるものである、
EUV光源のためのシステム。 - 前記音響光学材料の前記物理的効果は、前記音響光学材料内の空間的に変化する屈折率を含む、請求項7に記載のシステム。
- 前記音響光学材料は、ゲルマニウム(Ge)又はガリウムヒ素(GaAs)を含む、請求項7に記載のシステム。
- 前記光学システムには音響ターミネータがなく、前記音響ターミネータは、前記音響光学材料との物理的接続の一部であるか又は物理的に接続されており、前記周波数チャープ音波の吸収、散乱、伝送、又は方向転換のうちの1つ以上を実行するように構成された、要素である、請求項7に記載のシステム。
- 前記光学システムは、前記波形ジェネレータ及び前記トランスデューサに結合された無線周波数(RF)電気増幅器を更に含み、前記波形ジェネレータは、前記RF電気増幅器を介して前記トランスデューサに結合するように構成される、請求項7に記載のシステム。
- 前記センシング装置は、前記音響光学材料の状態に関するデータを測定するように構成され、前記状態は前記音響光学材料の温度に関する、請求項7に記載のシステム。
- 一定周波数音波を音響光学材料に印加することであって、前記一定周波数音波は前記音響光学材料内に初期過渡回折素子を形成すること、
前記音響光学材料を出る光ビームの波面を、前記初期過渡回折素子と相互作用した後に推定すること、
修正された音波を形成するために前記推定された波面に基づいて前記一定周波数音波を修正することであって、前記修正された音波は周波数チャープを含むこと、及び、
前記修正された音波を前記音響光学材料に印加することであって、前記修正された音波は補正過渡回折素子を形成し、前記補正過渡回折素子と前記光ビームとの間の相互作用が、前記波面のディストーションを補償するように前記光ビームの前記波面を調節すること、
を含み、
前記ディストーションは前記初期過渡回折素子の前記生成によって少なくとも部分的に発生するものであり、
前記波面の前記ディストーションは前記音響光学材料内の物理的効果によって少なくとも部分的に生じ、前記音響光学材料の前記物理的効果は、前記音響光学材料の熱的ディストーションを含み、前記熱的ディストーションは、前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面の前記ディストーションを少なくとも部分的に発生させるものである、
方法。 - 前記音響光学材料を出る前記光ビームの前記波面は、前記音響光学材料の前記温度に基づいて推定される、請求項13に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022159242A JP2022183194A (ja) | 2016-11-11 | 2022-10-03 | 光学システムにおける物理的効果の補償 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/349,600 US10401704B2 (en) | 2016-11-11 | 2016-11-11 | Compensating for a physical effect in an optical system |
US15/349,600 | 2016-11-11 | ||
PCT/US2017/056870 WO2018089177A1 (en) | 2016-11-11 | 2017-10-17 | Compensating for a physical effect in an optical system technical field |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022159242A Division JP2022183194A (ja) | 2016-11-11 | 2022-10-03 | 光学システムにおける物理的効果の補償 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019536071A JP2019536071A (ja) | 2019-12-12 |
JP7153641B2 true JP7153641B2 (ja) | 2022-10-14 |
Family
ID=62107808
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019515280A Active JP7153641B2 (ja) | 2016-11-11 | 2017-10-17 | 光学システムにおける物理的効果の補償 |
JP2022159242A Pending JP2022183194A (ja) | 2016-11-11 | 2022-10-03 | 光学システムにおける物理的効果の補償 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022159242A Pending JP2022183194A (ja) | 2016-11-11 | 2022-10-03 | 光学システムにおける物理的効果の補償 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10401704B2 (ja) |
JP (2) | JP7153641B2 (ja) |
KR (1) | KR102435367B1 (ja) |
CN (1) | CN109923384B (ja) |
NL (1) | NL2019824A (ja) |
TW (1) | TWI754692B (ja) |
WO (1) | WO2018089177A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2016-11-11 US US15/349,600 patent/US10401704B2/en active Active
-
2017
- 2017-10-17 KR KR1020197015751A patent/KR102435367B1/ko active IP Right Grant
- 2017-10-17 CN CN201780069369.XA patent/CN109923384B/zh active Active
- 2017-10-17 WO PCT/US2017/056870 patent/WO2018089177A1/en active Application Filing
- 2017-10-17 JP JP2019515280A patent/JP7153641B2/ja active Active
- 2017-10-30 NL NL2019824A patent/NL2019824A/en unknown
- 2017-11-02 TW TW106137941A patent/TWI754692B/zh active
-
2022
- 2022-10-03 JP JP2022159242A patent/JP2022183194A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011124586A (ja) | 1999-11-17 | 2011-06-23 | Micronic Laser Systems Ab | マイクロリソグラフィ描画におけるビーム位置決め |
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JP2013229553A (ja) | 2012-03-30 | 2013-11-07 | Gigaphoton Inc | レーザ装置及び極端紫外光生成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10401704B2 (en) | 2019-09-03 |
JP2022183194A (ja) | 2022-12-08 |
NL2019824A (en) | 2018-05-23 |
CN109923384A (zh) | 2019-06-21 |
CN109923384B (zh) | 2021-11-02 |
TWI754692B (zh) | 2022-02-11 |
US20180136541A1 (en) | 2018-05-17 |
KR20190084069A (ko) | 2019-07-15 |
TW201830159A (zh) | 2018-08-16 |
WO2018089177A1 (en) | 2018-05-17 |
KR102435367B1 (ko) | 2022-08-22 |
JP2019536071A (ja) | 2019-12-12 |
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