JP7148720B1 - 不透明石英ガラス及びその製造方法 - Google Patents
不透明石英ガラス及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7148720B1 JP7148720B1 JP2021521067A JP2021521067A JP7148720B1 JP 7148720 B1 JP7148720 B1 JP 7148720B1 JP 2021521067 A JP2021521067 A JP 2021521067A JP 2021521067 A JP2021521067 A JP 2021521067A JP 7148720 B1 JP7148720 B1 JP 7148720B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- opaque quartz
- thickness
- bubbles
- reflectance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 119
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims abstract description 34
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims abstract description 32
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 43
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 claims description 34
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims description 28
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims description 25
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 20
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 4
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 claims description 2
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 claims description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 53
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 13
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 3
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007580 dry-mixing Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/08—Other methods of shaping glass by foaming
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/063—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction by hot-pressing powders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C11/00—Multi-cellular glass ; Porous or hollow glass or glass particles
- C03C11/007—Foam glass, e.g. obtained by incorporating a blowing agent and heating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/02—Compositions for glass with special properties for coloured glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
- C03C2204/04—Opaque glass, glaze or enamel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
Description
内部に球状気泡を含有する不透明石英ガラスの製造方法としては、結晶質シリカまたは非晶質シリカに窒化珪素等の発泡剤を乾式混合により添加し、酸水素炎により溶融する方法(例えば、特許文献1~3参照)等が知られている。
この製造方法で製造された不透明石英ガラスは、気泡が均一に分散されず、また、凝集した発泡剤が気化して気泡を形成するため、気泡が大きくなりやすく、機械強度や光の反射率が低いものになる。
この製造方法で製造された不透明石英ガラスは、不定形気泡の平均径を小さくすることが可能であり、気泡数の増減制御も容易であることから、球状気泡を含有するタイプの不透明石英ガラスに比べ、より高い機械強度、および光の反射率が得られる優れた製造方法である。
さらに、表面が粗く表面積が大きいため、フッ化水素酸を用いた洗浄の際に、エッチング量が多くなりやすく、洗浄後の表面がさらに凹凸化されるという問題がある。
焼仕上げ後も高い反射率を得る為、焼仕上げ前の不透明石英ガラスの反射率を更に高い値にしておく手段として、内部の球状あるいは不定形の気泡数を増加させておく方法がある。その場合、気泡数の増加により密度、および機械強度の低下やフッ化水素酸を用いた洗浄におけるエッチング量が増加しやすいという問題がある。
なお、不定形気泡の最大幅の平均は、試料を切断して切断面の不定形気泡の形状を走査型電子顕微鏡にて20個以上観察し、それらの最大幅を測定した平均値である。
また、焼仕上げ面を有し、不定形気泡のみからなる不透明石英ガラスであって、不定形気泡の最大幅の平均が3~15μmであり、密度が2.15g/cm3以上、厚み10mmでの白度が75~90%、厚さ4mmにおける波長0.24~2.6μmの光の反射率が60~85%、曲げ強度が95MPa以上であることを特徴とする不透明石英ガラスである。
なお、不定形気泡の最大幅の平均は、試料を切断して切断面の不定形気泡の形状を走査型電子顕微鏡にて20個以上観察し、それらの最大幅を測定した平均値である。
また、焼き仕上げ面を有し、不定形気泡と球状気泡からなる不透明石英ガラスであって、不定形気泡の最大幅の平均が3~15μmであり、密度が2.15g/cm3以上、厚み10mmでの白度が75~90%、厚さ4mmにおける波長0.24~2.6μmの光の反射率が60~85%、曲げ強度が95MPa以上であることを特徴とする不透明石英ガラスである。
なお、不定形気泡の最大幅の平均は、試料を切断して切断面の不定形気泡の形状を走査型電子顕微鏡にて20個以上観察し、それらの最大幅を測定した平均値である。
焼仕上げを行う前の状態で、石英ガラス中に球状気泡を含有させるには、酸水素炎を用いた溶融により不透明石英ガラスを製造する方法を取るが、その場合、発泡剤として内部に混入させた炭化珪素の微粉末が、溶融時に発泡してしまう為、溶融後は内部に炭化珪素微粉末が存在しない。このため、焼仕上げの際には、発泡の効果が得られなくなる。
なお、不定形気泡の最大幅の平均は、試料を切断して切断面の不定形気泡の形状を走査型電子顕微鏡にて20個以上観察し、それらの最大幅を測定した平均値である。
また、焼仕上げ後の状態で、不定形気泡、および球状気泡の数が多く、密度が2.15g/cm3未満の場合は、同様に機械強度が低下しやすく、曲げ強度95MPa以上の値が得られない。
不定形気泡の平均径と密度を上記範囲内に制御することにより、前記の範囲の白度と反射率が得られる。不定形気泡の平均径が大きい場合は、密度の低下に繋がり、不定形気泡の平均径が小さい場合には、前記の範囲の白度と反射率が得られない。不定形気泡の平均径が3~15μmであっても、密度が2.15g/cm3未満の場合は、不定形気泡が多く存在する為、前記の範囲の白度と反射率が得られない。
焼仕上げを行うことにより、曲げ強度が95MPa以上となる為、破損等の恐れをさらに低減することができる。
本発明の不透明石英ガラスの製造方法は、シリカ粉末を45~75wt%で水に分散してスラリーとし、シリカ粉末の粉砕粉の平均粒径を3~9μm、スラリー中に含まれる固形物のBET比表面積を2~9m2/gとなるようビーズミル粉砕、ボールミル粉砕、振動ミル粉砕、アトライター粉砕の1種または2種以上の方法の組み合わせで湿式粉砕した後、スラリーを噴霧乾燥造粒して実質的に球状で平均粒径が30~150μm、含水率が2wt%以下の造粒粉を得て、この造粒粉をプレス成型して焼成するものである。
(1)原料粉末の選定
シリカ粉末は、その製法は特に限定されず、例えばシリコンアルコキシドの加水分解によって製造された非晶質シリカ粉末や、四塩化珪素を酸水素炎等で加水分解して作製したシリカ粉末等を用いることができる。また、天然の水晶を粉砕した粉末やヒュームドシリカも用いることができる。
シリカ粉末の平均粒径は、300μm以下が好ましい。平均粒径が300μmを超えると、シリカ粉末の湿式粉砕に長時間を要するため生産性の低下や生産コストの増大をもたらすため好ましくない。
シリカ粉末を水に分散させたスラリーの濃度は、45~75wt%、望ましくは50~70wt%がよい。75wt%を超えると、スラリーの粘度が高くなり湿式粉砕が行えない。また、45wt%未満の濃度では水分量が多く、乾燥の際に必要な熱量が多くなり、生産性の低下や生産コストの増大をもたらすため望ましくない。
平均径1mm~20mmの炭化珪素ビーズ、あるいは石英ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナビーズから選ばれる1種類または複数のビーズを用いて、スラリー粉砕粉の平均粒径を3~9μm、スラリー中に含まれる固形物のBET比表面積が2~9m2/gになるよう湿式粉砕を行う。BET比表面積は望ましくは4~7m2/gになるよう湿式粉砕を行うのがよい。BET比表面積が2m2/gよりも小さいと、造粒粉の強度が低下して崩れやすく、9m2/gより大きくなるとプレス成型での成形性が悪化するので好ましくない。スラリーの湿式粉砕方法は、特に限定されず、ビーズミル粉砕、ボールミル粉砕、振動ミル粉砕、アトライター粉砕等を例示することができ、いずれの手段を用いてもよい。
一方、別の方法として、炭化珪素の微粉末を直接、スラリーに投入し混入することも可能であるが、炭化珪素の微粉末を均一に分散させることが困難であるので、スラリーの湿式粉砕中に炭化珪素ビーズの摩耗から生じた微粉末をスラリーに混入させることが好ましい。
次に、作製したスラリーを噴霧乾燥し造粒粉を得る。得られた造粒粉は、実質的に球状で、平均粒径が30~150μm、含水率が2wt%以下である。平均粒径が30μm未満では、プレス成型時に造粒粉が散逸して歩留りが悪化する。平均粒径が150μmを超えると、焼成したガラス中に大径の不定形気泡が多くなるようになり、不定形気泡の最大幅の平均が15μm以下にならなくなる。また、プレス成型の均一性も悪化する。含水率が2wt%を超えると造粒粉の流動性が悪化し、プレス成型時の均一性が悪化する。
得られた造粒粉を任意の形状にプレス成型し、焼成することで不透明石英ガラスインゴットが得られる。プレス圧力は10~300MPaが好ましい。10MPa未満では成形体が崩れ、成形時の歩留りが悪化する。プレス圧力を300MPaより大きくするには大規模な設備が必要となり、生産性の低下や生産コストの増大をもたらす恐れが生じるため好ましくない。
焼成温度が高いと白度、及び反射率が低下し、一方、焼成温度が低いと密度及び機械強度が低下する。
(6)機械加工と焼仕上げ
不透明石英ガラス中に炭化珪素微粉末を混入させた場合には、焼仕上げ加工時に、インゴット表面付近で発生する既存の不定形気泡の会合と並行して、新たに炭化珪素微粉末の発泡が起こり、気泡数の減少を低減、あるいは気泡数を増加させることにより、白度と反射率を調整することができる。
インゴット表面の気泡の増加が多い場合には、曲げ強度、およびフッ化水素酸による洗浄耐性が低いものとなりやすい。
不透明石英ガラスの種々の用途において求められる特性を考慮した上で、白度と反射率、曲げ強度、フッ化水素酸による洗浄耐性の調整を行う。
気泡の平均粒径の測定に使用した卓上走査型電子顕微鏡は日立製作所製、TM4000Plusである。
シリカ粉末を45~75wt%で水に分散したスラリーを粉砕粉の平均粒径を3~9μm、スラリー中に含まれる固形物のBET比表面積を2~9m2/gとなるようビーズミル粉砕、ボールミル粉砕、振動ミル粉砕、アトライター粉砕の1種または2種以上の方法の組み合わせで、石英ガラスビーズを用いて湿式粉砕した後、噴霧乾燥造粒して、実質的に球状で平均粒径が30~150μm、含水率が2wt%以下の造粒粉としてプレス成型後に焼成して不透明石英ガラスを得た。
得られた不透明石英ガラスの特性を表1に示す。不透明石英ガラス中の不定形気泡の最大幅の平均は10μmであり、密度は2.18g/cm3、厚み10mmでの白度が87%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率が73%、曲げ強度は82MPaであった。
焼仕上げを実施した後の厚み10mmでの白度は84%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は67%と、焼仕上げ前より若干低下した。焼仕上げを実施した後の曲げ強度は109MPa、表面粗さRaは0.04μmであり、10%のフッ化水素酸水溶液に7時間浸漬後の減耗量は0.06gであった。
実施例1と同様の手法で、不透明石英ガラスを得た。
得られた不透明石英ガラスの特性を表1に示す。不透明石英ガラス中の不定形気泡の最大幅の平均は8μmであり、密度は2.17g/cm3、厚み10mmでの白度が89%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率が76%、曲げ強度は84MPaであった。
焼仕上げを実施した後の厚み10mmでの白度は87%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は73%と、焼仕上げ前より若干低下した。焼仕上げを実施した後の曲げ強度は112MPa、表面粗さRaは0.04μmであり、10%のフッ化水素酸水溶液に7時間浸漬後の減耗量は0.06gであった。
(実施例3)
実施例1と同様の手法で、不透明石英ガラスを得た。
得られた不透明石英ガラスの特性を表1に示す。不透明石英ガラス中の不定形気泡の最大幅の平均は4μmであり、密度は2.19g/cm3、厚み10mmでの白度が90%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率が78%、曲げ強度は85MPaであった。
焼仕上げを実施した後の厚み10mmでの白度は88%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は74%と、焼仕上げ前より若干低下した。焼仕上げを実施した後の曲げ強度は110MPa、表面粗さRaは0.1μmであり、10%のフッ化水素酸水溶液に7時間浸漬後の減耗量は0.10gであった。
(実施例4)
実施例1と同様の手法で、湿式粉砕時間の半分は炭化珪素ビーズを用いて粉砕を行い、残りの半分は石英ガラスビーズを用いて粉砕を行い、不透明石英ガラスを作製した。得られた不透明石英ガラスの特性を表1に示す。不透明石英ガラス中の不定形気泡の最大幅の平均は7μmであり、密度は2.17g/cm3、厚み10mmでの白度が89%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率が76%、曲げ強度は81MPaで、実施例2と同等であった。
焼仕上げを実施した後の厚み10mmでの白度は89%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は77%と、実施例2に比べ焼仕上げ後も高い白度と反射率を示した。焼仕上げを実施した後の曲げ強度は102MPa、表面粗さRaは0.3μmであり、10%のフッ化水素酸水溶液に7時間浸漬後の減耗量は0.14gと、実施例2に比べ、曲げ強度とフッ化水素酸耐性は低い値であった。
実施例1と同様の手法で、炭化珪素ビーズを用いて粉砕を行い、得られた不透明石英ガラスの特性を表1に示す。不透明石英ガラス中の不定形気泡の最大幅の平均は8μmであり、密度は2.17g/cm3、厚み10mmでの白度が89%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率が76%、曲げ強度は83MPaで、実施例2、4と同等であった。
焼仕上げを実施した後の厚み10mmでの白度は90%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は80%と、実施例2、4に比べ焼仕上げ後も高い白度と反射率を示した。焼仕上げを実施した後の曲げ強度は95MPa、表面粗さRaは0.4μmであり、10%のフッ化水素酸水溶液に7時間浸漬後の減耗量は0.17gと、実施例2、4に比べ、曲げ強度とフッ化水素酸耐性は低い値であった。
実施例1と同様の手法で、粉砕粉の平均粒径が2μmになるよう、石英ガラスビーズを用いて粉砕を行い、不透明石英ガラスを作製した。
得られた不透明石英ガラスの特性を表1に示す。
不透明石英ガラス中の不定形気泡の最大幅の平均は0.8μmであり、密度は2.16g/cm3、厚み10mmでの白度は93%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は88%と、実施例に比べ高い値を示した。曲げ強度は85MPaであった。
焼仕上げを実施した後の厚み10mmでの白度は92%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は86%と、実施例に比べ高い値を示したが、曲げ強度は93MPa、表面粗さRaは0.4μmであり、10%のフッ化水素酸水溶液に7時間浸漬後の減耗量は0.21gと、実施例に比較して機械的強度が低く、フッ化水素酸浸漬による減耗量が大きなものとなっている。
実施例1と同様の手法で、平均粒径が170μmになるよう、噴霧乾燥造粒を行い、不透明石英ガラスを作製した。
得られた不透明石英ガラスの特性を表1に示す。
不透明石英ガラス中の不定形気泡の最大幅の平均は19μmであり、密度は2.14g/cm3、と2.15g/cm3以上にならなかった。厚み10mmでの白度は85%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は68%であった。曲げ強度は77MPaで、実施例に比べ低い値を示した。
焼仕上げを実施した後の厚み10mmでの白度は84%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は66%と焼仕上げ前より若干低下した。曲げ強度は89MPa、表面粗さRaは0.7μmであり、10%のフッ化水素酸水溶液に7時間浸漬後の減耗量は0.20gと、実施例に比較して機械的強度が低く、フッ化水素酸浸漬による減耗量が大きなものとなっている。
実施例1と同様の手法で、焼成温度が1340℃になるよう、焼成を行い、不透明石英ガラスを作製した。
得られた不透明石英ガラスの特性を表1に示す。
不透明石英ガラス中の不定形気泡の最大幅の平均は14μmであり、密度は2.12g/cm3、と2.15g/cm3以上にならなかった。厚み10mmでの白度は94%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は87%と、実施例に比べ高い値を示したが、曲げ強度は72MPaと、実施例に比べ低い値を示した。
焼仕上げを実施した後の厚み10mmでの白度は91%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は79%と焼仕上げ前より若干低下した。曲げ強度は85MPa、表面粗さRaは0.8μmであり、10%のフッ化水素酸水溶液に7時間浸漬後の減耗量は0.22gと、実施例に比較して機械的強度が低く、フッ化水素酸浸漬による減耗量が大きなものとなっている。
実施例1と同様の手法で、炭化珪素ビーズを用いて粉砕を行い、焼成温度が1340℃になるよう、焼成を行い、不透明石英ガラスを作製した。
得られた不透明石英ガラスの特性を表1に示す。
不透明石英ガラス中の不定形気泡の最大幅の平均は13μmであり、密度は2.12g/cm3、と2.15g/cm3以上にならなかった。厚み10mmでの白度は93%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は86%と、実施例に比べ高い値を示したが、曲げ強度は73MPaと、実施例に比べ低い値を示した。
焼仕上げを実施した後の厚み10mmでの白度は94%、厚さ4mmでの波長0.24~2.6μmの光の反射率は87%と、実施例に比べ、非常に高い値を示した。曲げ強度は72MPa、表面粗さRaは1.1μmであり、10%のフッ化水素酸水溶液に7時間浸漬後の減耗量は0.28gと、実施例に比較して機械的強度が低く、フッ化水素酸浸漬による減耗量が大きなものとなっている。
また、不定形気泡と球状気泡の割合を調整することにより、白度、反射率、及び曲げ強度を調整することが可能である。
Claims (5)
- 不定形気泡のみからなる不透明石英ガラスであって、不定形気泡の最大幅の平均が3~15μmであり、密度が2.15g/cm3以上、厚み10mmでの白度が75~90%、厚さ4mmにおける波長0.24~2.6μmの光の反射率が60~85%、曲げ強度が80MPa以上であることを特徴とする不透明石英ガラス。
なお、不定形気泡の最大幅の平均は、試料の切断面に現れた不定形気泡を断面走査型電子顕微鏡で20個以上観測測定した不定形気泡の最大幅の平均値である。 - 焼き仕上げ面を有し、不定形気泡のみからなる不透明石英ガラスであって、不定形気泡の最大幅の平均が3~15μmであり、密度が2.15g/cm3以上、厚み10mmでの白度が75~90%、厚さ4mmにおける波長0.24~2.6μmの光の反射率が60~85%、曲げ強度が95MPa以上であることを特徴とする請求項1記載の不透明石英ガラス。
なお、不定形気泡の最大幅の平均は、試料の切断面に現れた不定形気泡を断面走査型電子顕微鏡で20個以上観測測定した不定形気泡の最大幅の平均値である。 - 焼き仕上げ面を有し、不定形気泡と球状気泡からなる不透明石英ガラスであって、不定形気泡の最大幅の平均が3~15μmであり、密度が2.15g/cm3以上、厚み10mmでの白度が75~90%、厚さ4mmにおける波長0.24~2.6μmの光の反射率が60~85%、曲げ強度が95MPa以上であることを特徴とする不透明石英ガラス。
なお、不定形気泡の最大幅の平均は、試料の切断面に現れた不定形気泡を断面走査型電子顕微鏡で20個以上観測測定した不定形気泡の最大幅の平均値である。 - シリカ粉末を45~75wt%で水に分散したスラリーを粉砕粉の平均粒径を3~9μm、スラリー中に含まれる固形物のBET比表面積を2~9m2/gとなるようビーズミル粉砕、ボールミル粉砕、振動ミル粉砕、アトライター粉砕の1種または2種以上の方法の組み合わせで湿式粉砕後、噴霧乾燥造粒して、実質的に球状で平均粒径が30~150μm、含水率が2wt%以下の造粒粉とし、プレス成型後に1350~1500℃で焼成することを特徴とする不透明石英ガラスの製造方法。
- 請求項4の製造法において、シリカ粉末を湿式粉砕する際の粉砕メディアとして炭化珪素ビーズを使用してシリカ粉末中に発泡剤である炭化珪素微粉末を混在させ、焼仕上げによって焼仕上げの熱が到達する表面に近い領域に球状気泡を生成させる不透明石英ガラスの製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2021/003437 WO2022162923A1 (ja) | 2021-01-30 | 2021-01-30 | 不透明石英ガラス及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2022162923A1 JPWO2022162923A1 (ja) | 2022-08-04 |
JP7148720B1 true JP7148720B1 (ja) | 2022-10-05 |
Family
ID=82653227
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021521067A Active JP7148720B1 (ja) | 2021-01-30 | 2021-01-30 | 不透明石英ガラス及びその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11993538B2 (ja) |
JP (1) | JP7148720B1 (ja) |
CN (1) | CN116648436B (ja) |
DE (1) | DE112021006964T5 (ja) |
TW (1) | TWI795053B (ja) |
WO (1) | WO2022162923A1 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008069194A1 (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 |
US20130085056A1 (en) * | 2010-06-02 | 2013-04-04 | Qsil Gmbh Quarzschmelze Ilmenau | Quartz glass body and a method and gel body for producing a quartz glass body |
JP2019506352A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-03-07 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時の中間体としての炭素ドープ二酸化ケイ素造粒体の調製 |
WO2020121511A1 (ja) * | 2018-12-14 | 2020-06-18 | 東ソー・クォーツ株式会社 | 不透明石英ガラスの製造方法 |
WO2020129174A1 (ja) * | 2018-12-19 | 2020-06-25 | 東ソー・クォーツ株式会社 | 不透明石英ガラス及びその製造方法 |
JP6751822B1 (ja) * | 2019-06-03 | 2020-09-09 | 東ソー・クォーツ株式会社 | 不透明石英ガラス及びその製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0366464U (ja) | 1989-10-27 | 1991-06-27 | ||
JP2504849Y2 (ja) | 1989-11-29 | 1996-07-24 | 住友重機械工業株式会社 | ばら物荷揚用アンロ―ダの船底検出装置 |
JP2867070B2 (ja) | 1990-06-14 | 1999-03-08 | セイレイ工業株式会社 | 脱穀機における排塵物処理装置 |
JP3043032B2 (ja) | 1990-07-06 | 2000-05-22 | 日本石英硝子株式会社 | 不透明石英ガラスの製造法 |
DE4338807C1 (de) | 1993-11-12 | 1995-01-26 | Heraeus Quarzglas | Formkörper mit hohem Gehalt an Siliziumdioxid und Verfahren zur Herstellung solcher Formkörper |
US5674792A (en) | 1993-11-12 | 1997-10-07 | Heraeus Quarzglas Gmbh | Shaped body having a high silicon dioxide content and a process for producing such shaped bodies |
US5972488A (en) * | 1996-07-04 | 1999-10-26 | Tosoh Corporation | Opaque quartz glass and process for production thereof |
JP3043032U (ja) | 1997-05-01 | 1997-11-11 | リツ子 北野 | 調理用包丁 |
KR20180095624A (ko) * | 2015-12-18 | 2018-08-27 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 | 불투명 실리카 유리 제품의 제조 |
WO2019171577A1 (ja) | 2018-03-09 | 2019-09-12 | 東ソー・クォーツ株式会社 | 不透明石英ガラス及びその製造方法 |
CN111233308A (zh) * | 2020-03-17 | 2020-06-05 | 江苏亨通智能科技有限公司 | 一种不透明石英玻璃锭及其制备方法 |
-
2021
- 2021-01-30 DE DE112021006964.0T patent/DE112021006964T5/de active Pending
- 2021-01-30 WO PCT/JP2021/003437 patent/WO2022162923A1/ja active Application Filing
- 2021-01-30 US US18/262,842 patent/US11993538B2/en active Active
- 2021-01-30 JP JP2021521067A patent/JP7148720B1/ja active Active
- 2021-01-30 CN CN202180088653.8A patent/CN116648436B/zh active Active
- 2021-10-28 TW TW110140067A patent/TWI795053B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008069194A1 (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 |
US20130085056A1 (en) * | 2010-06-02 | 2013-04-04 | Qsil Gmbh Quarzschmelze Ilmenau | Quartz glass body and a method and gel body for producing a quartz glass body |
JP2019506352A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-03-07 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時の中間体としての炭素ドープ二酸化ケイ素造粒体の調製 |
WO2020121511A1 (ja) * | 2018-12-14 | 2020-06-18 | 東ソー・クォーツ株式会社 | 不透明石英ガラスの製造方法 |
WO2020129174A1 (ja) * | 2018-12-19 | 2020-06-25 | 東ソー・クォーツ株式会社 | 不透明石英ガラス及びその製造方法 |
JP6751822B1 (ja) * | 2019-06-03 | 2020-09-09 | 東ソー・クォーツ株式会社 | 不透明石英ガラス及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202229185A (zh) | 2022-08-01 |
DE112021006964T5 (de) | 2023-11-09 |
JPWO2022162923A1 (ja) | 2022-08-04 |
CN116648436A (zh) | 2023-08-25 |
CN116648436B (zh) | 2024-06-14 |
WO2022162923A1 (ja) | 2022-08-04 |
US11993538B2 (en) | 2024-05-28 |
US20240083803A1 (en) | 2024-03-14 |
TWI795053B (zh) | 2023-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI777171B (zh) | 不透明石英玻璃及其製造方法 | |
JP7148720B1 (ja) | 不透明石英ガラス及びその製造方法 | |
TWI780292B (zh) | 不透明石英玻璃及其製造方法 | |
JP5108803B2 (ja) | シリカ容器の製造方法 | |
WO2020129174A1 (ja) | 不透明石英ガラス及びその製造方法 | |
CN1818002A (zh) | 磨料颗粒、抛光浆料及其制造方法 | |
TWI780379B (zh) | 不透明石英玻璃之製造方法 | |
JP5487259B2 (ja) | シリカ容器 | |
US20030113251A1 (en) | Method for preparing shape-changed nanosize colloidal silica | |
KR20240161568A (ko) | 불투명 석영유리 및 이의 제조방법 | |
CN117279868A (zh) | 不透明石英玻璃及其制造方法 | |
CN116348423A (zh) | 黑色石英玻璃及其制造方法 | |
JP5499118B2 (ja) | シリカ容器の製造方法 | |
CN116323503A (zh) | 黑色石英玻璃及其制造方法 | |
JP5762784B2 (ja) | 多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器並びに多孔質シリカ板体及びその製造方法 | |
KR20030022954A (ko) | 투명 실리카 글래스의 제조 방법 | |
JP2020083682A (ja) | シリカ多孔体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210415 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220524 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220607 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220902 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220920 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220922 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7148720 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |