JP7142837B2 - ストロンチウム吸着材及びその製造方法 - Google Patents
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Description
ストロンチウム吸着材として、本発明の実施例1ないし5を作製した。また、既存のゼオライト型の吸着材も調達した。そこで、次述の育成条件に従って結晶を調製した。
Li源として炭酸リチウム(Li2CO3,和光純薬工業株式会社製)を1.90g、Nb源として酸化ニオブ(V)(Nb2O5,同社製)を6.83g、Mo源として酸化モリブデン(VI)(MoO3,同社製)を7.40g、それぞれ使用した。溶質のLi,Nb,及びW源のモル比は、1:1:2とした。これらの成分を乾式混合し均一な混合物とした。当該混合物を坩堝に入れ電気炉にて580℃まで300℃・h-1の条件で昇温し、10時間保持した。その後、200℃・h-1の条件で降温して結晶を得た。当該結晶を温水洗浄により洗浄して未反応分等を除去して実施例1の結晶性無機材料を作製した。
Li源として炭酸リチウム(Li2CO3,和光純薬工業株式会社製)を1.44g、Ta源として酸化タンタル(V)(Ta2O5,同社製)を8.62g、Mo源として酸化モリブデン(VI)(MoO3,同社製)を5.61g、それぞれ使用した。Li,Ta,及びMo源のモル比は、1:1:2とした。これらの成分を乾式混合し均一な混合物とした。当該混合物を坩堝に入れ電気炉にて600℃まで300℃・h-1の条件で昇温し、24時間保持した。その後、300℃・h-1の条件で降温して結晶を得た。当該結晶を温水洗浄により洗浄して未反応分等を除去して実施例2の結晶性無機材料を作製した。
Li源として炭酸リチウム(Li2CO3,和光純薬工業株式会社製)を1.22g、Nb源として酸化ニオブ(V)(Nb2O5,同社製)を4.05g、W源として酸化タングステン(VI)(WO3,同社製)を4.05g、それぞれ使用した。さらに、溶媒(フラックス成分)として硝酸リチウム(LiNO3,同社製)8.42gを使用した。溶質濃度は20mol%とした。溶質のLi,Nb,及びW源のモル比は、1:1:2とした。これらの成分を乾式混合し均一な混合物とした。当該混合物を坩堝に入れ電気炉にて450℃まで500℃・h-1の条件で昇温し、10時間保持した。その後、200℃・h-1の条件で降温して結晶を得た。当該結晶を温水洗浄によりフラックス成分等を除去して実施例3の結晶性無機材料を作製した。
Li源兼溶媒として水酸化リチウム一水和物(LiOH・H2O,和光純薬工業株式会社製)を1.26g及び硝酸リチウム(LiNO3,同社製)を5.44g、Nb源として酸化ニオブ(V)(Nb2O5,同社製)を3.50g、W源として酸化タングステン(VI)(WO3,同社製)を6.10g、それぞれ使用した。これらの成分を乾式混合し均一な混合物とした。当該混合物を坩堝に入れ電気炉にて600℃まで500℃・h-1の条件で昇温し、10時間保持した。その後、200℃・h-1の条件で降温して結晶を得た。当該結晶を温水洗浄によりフラックス成分等を除去して実施例4の結晶性無機材料を作製した。
Li源兼溶媒として塩化リチウム(LiCl,和光純薬工業株式会社製)を2.63g及び水酸化リチウム一水和物(LiOH・H2O,同社製)を1.26g、Nb源として酸化ニオブ(V)(Nb2O5,同社製)を4.12g、Mo源として酸化モリブデン(VI)(MoO3,同社製)を4.46g、それぞれ使用した。これらの成分を乾式混合し均一な混合物とした。当該混合物を坩堝に入れ電気炉にて480℃まで300℃・h-1の条件で昇温し、5時間保持した。その後、300℃・h-1の条件で降温して結晶を得た。当該結晶を温水洗浄によりフラックス成分等を除去して実施例5の結晶性無機材料を作製した。
ストロンチウム吸着材の対照例として、既存のゼオライト型の吸着材(ユニオン昭和株式会社製,MS-4A,A型,細孔径0.35nm)を調達し、当該吸着材を比較例1とした。
〔XRD,FE-SEMによる解析〕
実施例の結晶性無機材料の構造解析に際し、株式会社リガク製,粉末X線回折装置MiniFlexIIを使用して粉末X線回折(XRD)測定を行った。測定には、CuKα線を用い測定した。この際の加速電圧は30kV、印加電流は15mAとした。併せて、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子株式会社製,JSM-7600F)により、各実施例、比較例の結晶性無機材料のFE-SEM像を撮影した。図3以降にXRD、FE-SEM像、及び次述の粒度分布図を開示する。
平均粒子径等の測定に際して、レーザー光散乱式粒度分布測定装置(株式会社島津製作所製,SALD-7100)を使用した。同装置のレーザー回折・散乱法によって求めた粒度分布の積算値50%における粒径を平均粒子径とした。また、必要により前出の走査電子顕微鏡も使用して粒子径を算出した。各実施例の平均粒子径等は表1に記す。
実施例1の結晶性無機材料は、固相法により作製した結晶である。図3はそのXRDパターンであり、図4はFE-SEM像である。図3のパターンより、2θ=9.1°、26.9°、27.4°、28.4°、34.9°、38.4°、39.9°、43.0°、47.8°、52.8°に鋭いピークが観察された。これらのピークは、(001)面、(110)面、(102)面、(111)面、(103)面、(200)面、(113)面、(210)面、(212)面、または(213)面の回折ピークに帰属できる。
実施例2の結晶性無機材料は、固相法により作製した結晶である。図6はそのXRDパターンであり、図7はFE-SEM像である。図6のパターンより、2θ=9.3°、27.0°、27.3°、28.6°、34.9°、38.5°、39.9°、43.2°、47.8°、52.9°に鋭いピークが観察された。これらのピークは、(001)面、(110)面、(102)面、(111)面、(103)面、(200)面、(113)面、(210)面、(212)面、または(213)面の回折ピークに帰属できる。
実施例3の結晶性無機材料は、フラックス法により作製した結晶である。図9はそのXRDパターンであり、図10はFE-SEM像である。図9のパターンより、2θ=23.8°、32.8°、34.9°、40.2°、42.7°、48.6°、53.4°に鋭いピークが観察された。これらのピークは、(012)面、(104)面、(110)面、(113)面、(202)面、(024)面、または(116)面の回折ピークに帰属できる。
実施例4の結晶性無機材料は、フラックス法により作製した結晶である。図12はそのXRDパターンであり、図13はFE-SEM像である。図12のパターンより、2θ=23.8°、32.8°、34.9°、40.2°、42.7°、48.6°、53.4°に鋭いピークが観察された。これらのピークは、(012)面、(104)面、(110)面、(113)面、(202)面、(024)面、または(116)面の回折ピークに帰属できる。
実施例5の結晶性無機材料は、フラックス法により作製した結晶である。図15はそのXRDパターンであり、図16はFE-SEM像である。図15のパターンより、2θ=9.1°、26.8°、34.8°、38.3°、39.9°、52.7°に鋭いピークが観察された。これらのピークは、(001)面、(110)面、(103)面、(200)面、(113)面、または(213)面の回折ピークに帰属できる。
〔吸着試験〕
実施例1ないし5の結晶性無機材料並びに比較例1のストロンチウム吸着材の吸着能力の評価に際し、実際の使用環境を想定して競合する金属イオンを含有するストロンチウム溶液を試験溶液として調製した。
ストロンチウムイオンの分配係数(KdSr)、カルシウムイオンの分配係数(KdCa)及びナトリウムイオンの分配係数(KdNa)について、それぞれ式(ii)より求めた。そして、各イオンの分配係数(Kd;KdSr,KdCa,KdNa)から、式(i)より選択係数(SFSr/Ca)を、式(iii)より選択係数(SFSr/Na)を求めた。
各実施例1ないし5並びに比較例1ついて、それぞれの結晶性無機材料の組成、構造、及び製法を示すとともに、育成温度(℃)、平均粒子径(μmまたはnm)、粒子径範囲(μmまたはnm)、「x>y>z」としたときのx軸方向の粒子径,y軸方向の粒子径,z軸方向の粒子径(μmまたはnm)、アスペクト比、分配係数〔KdSr(mL・g-1),KdCa(mL・g-1),KdNa(mL・g-1)〕、及び選択係数〔SFSr/Ca,SFSr/Na〕を表1に示す。前出の各実施例並びに比較例のアスペクト比は、x>y>zの関係より最大側である「x」の粒子径を最小側の「z」の粒子径により除した商として算出した。つまり、アスペクト比は「x÷z」の数値である。
いずれの実施例のストロンチウム吸着材も、比較例1のゼオライト型の吸着材と比較して良好な選択係数(SFSr/Ca,SFSr/Na)を示した。この結果から、ストロンチウムの吸着能力の高さは際立つ。特に、カルシウムイオンないしはナトリウムイオンの存在下にあってもストロンチウムを吸着したことから、ストロンチウムの選択的な吸着性能も備えることを確認した。
MVI 第6族元素
O 酸素
Li リチウム
Claims (11)
- ストロンチウムを吸着するための結晶性無機材料のストロンチウム吸着材であって、
前記結晶性無機材料がトリルチル構造をもつニオブモリブデン酸リチウムの層状複酸化物であり、そのX線回折パターンにおいて格子定数をa=b<cとしたとき、第1回折線に相当する結晶面が、(001)面、(101)面、(110)面、(102)面、(111)面、(103)面、(200)面、(113)面、(212)面、(213)面、(220)面、(115)面、(006)面、(310)面、(205)面、または(116)面のうちの少なくとも一面であり、
下記(iii)式より求められる前記結晶性無機材料の選択係数(SFSr/Na)が1143以上である
ことを特徴とするストロンチウム吸着材。
- 前記ニオブモリブデン酸リチウムの化学組成がLiNbMoO6である請求項1に記載のストロンチウム吸着材。
- ストロンチウムを吸着するための結晶性無機材料のストロンチウム吸着材であって、
前記結晶性無機材料がトリルチル構造をもつタンタルモリブデン酸リチウムの層状複酸化物であり、そのX線回折パターンにおいて格子定数をa=b<cとしたとき、第1回折線に相当する結晶面が、(001)面、(110)面、(102)面、(111)面、(103)面、(200)面、(201)面、(113)面、(212)面、(213)面、(220)面、(115)面、(006)面、(310)面、(311)面、(205)面、(116)面、または(303)面のうちの少なくとも一面であり、
上記(iii)式より求められる前記結晶性無機材料の選択係数(SFSr/Na)が1143以上である
ことを特徴とするストロンチウム吸着材。 - 前記タンタルモリブデン酸リチウムの化学組成がLiTaMoO6である請求項3に記載のストロンチウム吸着材。
- ストロンチウムを吸着するための結晶性無機材料のストロンチウム吸着材であって、
前記結晶性無機材料がLiNbO3構造をもつニオブタングステン酸リチウムの層状複酸化物であり、そのX線回折パターンにおいて格子定数をa=b<cとしたとき、第1回折線に相当する結晶面が、(012)面、(104)面、(110)面、(202)面、(024)面、(116)面、(122)面、(214)面、(300)面、(208)面、(312)面、(128)面、または(226)面のうちの少なくとも一面であり、
上記(iii)式より求められる前記結晶性無機材料の選択係数(SFSr/Na)が1143以上である
ことを特徴とするストロンチウム吸着材。 - 前記ニオブタングステン酸リチウムの化学組成がLiNbWO6である請求項5に記載のストロンチウム吸着材。
- 前記結晶性無機材料の平均粒子径が80nmないし100μmである請求項1ないし6のいずれか1項に記載のストロンチウム吸着材。
- 請求項1ないし7のいずれか1項に記載のストロンチウム吸着材の製造方法であって、
Li源と、NbまたはTaのいずれか一種の第5族元素源と、MoまたはWのいずれか一種の第6族元素源と、アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩を含有するフラックス成分とを混合して混合原料を得る混合工程と、
前記混合原料を加熱し前記フラックス成分を溶融して溶融物を得る溶融工程と、
前記溶融物を冷却して結晶性無機材料を生成する結晶生成工程とを有する
ことを特徴とするストロンチウム吸着材の製造方法。 - 前記結晶生成工程の後、前記結晶性無機材料を洗浄して前記フラックス成分を除去する洗浄工程を備える請求項8に記載のストロンチウム吸着材の製造方法。
- 前記第5族元素源がNbまたはTaのいずれか一種の金属酸化物であり、前記第6族元素源がMoまたはWのいずれか一種の金属酸化物である請求項8または9に記載のストロンチウム吸着材の製造方法。
- 前記フラックス成分が、Liの塩である請求項8ないし10のいずれか1項に記載のストロンチウム吸着材の製造方法。
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