JP7141924B2 - dicing tape - Google Patents

dicing tape Download PDF

Info

Publication number
JP7141924B2
JP7141924B2 JP2018218225A JP2018218225A JP7141924B2 JP 7141924 B2 JP7141924 B2 JP 7141924B2 JP 2018218225 A JP2018218225 A JP 2018218225A JP 2018218225 A JP2018218225 A JP 2018218225A JP 7141924 B2 JP7141924 B2 JP 7141924B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive layer
dicing tape
pressure
sensitive adhesive
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018218225A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2019140378A (en
Inventor
友二 加藤
俊平 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to TW108103551A priority Critical patent/TWI763973B/en
Priority to SG10201900958QA priority patent/SG10201900958QA/en
Priority to KR1020190013251A priority patent/KR102574149B1/en
Priority to CN201910107520.5A priority patent/CN110128958A/en
Publication of JP2019140378A publication Critical patent/JP2019140378A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7141924B2 publication Critical patent/JP7141924B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22Plastics; Metallised plastics
    • C09J7/24Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J7/241Polyolefin, e.g.rubber
    • C09J7/243Ethylene or propylene polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J9/00Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/20Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive itself
    • C09J2301/208Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive itself the adhesive layer being constituted by at least two or more adjacent or superposed adhesive layers, e.g. multilayer adhesive
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/312Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2423/00Presence of polyolefin
    • C09J2423/04Presence of homo or copolymers of ethene
    • C09J2423/046Presence of homo or copolymers of ethene in the substrate

Description

本発明は、ダイシングテープに関する。より詳細には、当該ダイシングテープを介して、ステルスダイシングを行う際に、好適に用いられるダイシングテープに関する。 The present invention relates to a dicing tape. More particularly, the present invention relates to a dicing tape that is preferably used when performing stealth dicing through the dicing tape.

電子部品の集合体であるワーク(例えば、半導体ウエハ)は、大径で製造され、表面にパターンを形成した後、通常、ウエハの厚さが100~600μm程度となるよう裏面を研削され、次いで素子小片に切断分離(ダイシング)され、さらにマウント工程に移される。このダイシング工程ではワークを切断し、小片化する。ダイシング後のワークを固定するため、通常、ワークに粘着テープ(ダイシングテープ)を貼り合せた上で、ダイシングを行う(例えば、特許文献1)。ダイシングの方法のひとつとして、レーザー光によりワークをダイシングする方法が知られている。このようなダイシング方法としては、レーザー光をワークの表面に集光させて、当該ワークの表面に溝を形成したうえで、ワークを切断する方法が多用されている。その一方、近年、レーザー光をワークの内部に集光させ、当該箇所でワークを改質させた後に、ワークを切断するステルスダイシングも提案されている。 A work (for example, a semiconductor wafer) that is an assembly of electronic components is manufactured with a large diameter, and after forming a pattern on the surface, the back surface is usually ground so that the thickness of the wafer is about 100 to 600 μm. It is cut and separated (diced) into element pieces, and further transferred to the mounting process. In this dicing process, the work is cut into small pieces. In order to fix the workpiece after dicing, dicing is usually performed after bonding an adhesive tape (dicing tape) to the workpiece (for example, Patent Document 1). As one of the dicing methods, a method of dicing a workpiece with a laser beam is known. As such a dicing method, a method of condensing a laser beam on the surface of a workpiece to form grooves on the surface of the workpiece and then cutting the workpiece is frequently used. On the other hand, in recent years, stealth dicing has also been proposed in which a laser beam is focused inside a work, and the work is cut after reforming the work at that location.

上記のようにレーザー光によるダイシングにおいて、ダイシングテープ側からレーザー光を照射する場合、当該ダイシングテープには、カメラによるレーザー光照射位置検知が良好に行われ得る特性が求められる。特に、ステルスダイシングにおいて半導体ウエハをダイシングする場合、レーザー光照射位置決定のための半導体ウエハの表面パターン認識、レーザー光焦点調整のための半導体ウエハ高さ方向の位置検出を高精度に行うことが求められ、また、改質層を良好に形成することが求められ、上記ダイシングテープはこれらの要求達成を阻害しない特性が求められる。 As described above, in dicing by laser light, when the laser light is irradiated from the dicing tape side, the dicing tape is required to have a property that allows the laser light irradiation position to be detected satisfactorily by a camera. In particular, when dicing a semiconductor wafer in stealth dicing, it is required to recognize the surface pattern of the semiconductor wafer for determining the laser light irradiation position and to detect the position in the height direction of the semiconductor wafer for laser light focus adjustment with high accuracy. In addition, it is required to form a modified layer satisfactorily, and the dicing tape is required to have properties that do not hinder the achievement of these requirements.

特開2003-007646号公報JP 2003-007646 A

本発明の課題は、ステルスダイシングに用いられ得るダイシングテープであって、ダイシング時にカメラによるレーザー光照射位置検知、および良好な改質層の形成を阻害しないダイシングテープを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a dicing tape that can be used for stealth dicing and that does not hinder the detection of the laser light irradiation position by a camera during dicing and the formation of a good modified layer.

本発明のダイシングテープは、基材と、該基材の片側に配置された粘着剤層とを備え、基材側からレーザー顕微鏡により観察して取得した輝度256階調のグレースケール画像を、最大輝度の55%を閾値として、白色部と黒色部に2値化した時、白色部の面積が、画像面積に対して、80%以上である。
1つの実施形態においては、上記基材の一方の面の濡れ性が、40mN/m以下である。
1つの実施形態においては、濡れ性が40mN/m以下である面を粘着剤層とは反対側の面となるようにして、上記基材が配置されている。
1つの実施形態においては、上記基材が、ポリエチレン系樹脂を含む。
1つの実施形態においては、上記基材の少なくとも一方の面が、コロナ処理面である。
1つの実施形態においては、上記粘着剤層の22℃における引っ張り弾性率が、0.05MPa~1MPaである。
1つの実施形態においては、上記粘着剤層が2層構成であり、上記ダイシングテープは、上記基材と、第1の粘着剤層と、第2の粘着剤層とをこの順に備える。
1つの実施形態においては、上記第1の粘着剤層の22℃における引っ張り弾性率が、0.05MPa~1MPaである。
1つの実施形態においては、上記第2の粘着剤層の22℃における引っ張り弾性率が、0.1MPa~2MPaである。
1つの実施形態においては、上記第1の粘着剤層の厚みが、5μm~468μmである。
The dicing tape of the present invention comprises a substrate and an adhesive layer disposed on one side of the substrate, and a grayscale image of 256 brightness levels obtained by observation with a laser microscope from the substrate side can be displayed at a maximum of When the white portion and the black portion are binarized using 55% of the brightness as a threshold, the area of the white portion is 80% or more of the image area.
In one embodiment, the wettability of one surface of the substrate is 40 mN/m or less.
In one embodiment, the substrate is arranged such that the surface having a wettability of 40 mN/m or less is the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive layer.
In one embodiment, the base material contains a polyethylene-based resin.
In one embodiment, at least one side of the substrate is a corona treated side.
In one embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer has a tensile modulus at 22° C. of 0.05 MPa to 1 MPa.
In one embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer has a two-layer structure, and the dicing tape includes the base material, a first pressure-sensitive adhesive layer, and a second pressure-sensitive adhesive layer in this order.
In one embodiment, the first pressure-sensitive adhesive layer has a tensile modulus at 22° C. of 0.05 MPa to 1 MPa.
In one embodiment, the second pressure-sensitive adhesive layer has a tensile modulus at 22° C. of 0.1 MPa to 2 MPa.
In one embodiment, the thickness of the first adhesive layer is 5 μm to 468 μm.

本発明によれば、ステルスダイシングに用いられ得るダイシングテープであって、カメラによるレーザー光照射位置検知、および良好な改質層の形成を阻害しないダイシングテープを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a dicing tape that can be used for stealth dicing and that does not hinder the detection of the laser light irradiation position by a camera and the formation of a good modified layer.

本発明の1つの実施形態によるダイシングテープの概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a dicing tape according to one embodiment of the invention; FIG.

A.ダイシングテープの概要
図1は、本発明の1つの実施形態によるダイシングテープの概略断面図である。この実施形態によるダイシングテープ100は、基材10と、基材10の片側に配置された粘着剤層20とを備える。図示していないが、本発明のダイシングテープは、使用に供するまでの間、粘着面を保護する目的で、粘着剤層の外側に剥離ライナーが設けられていてもよい。また、ダイシングテープは、本発明の効果が得られる限り、任意の適切なその他の層をさらに含んでいてもよい。好ましくは、粘着剤層は、基材に直接配置される。
A. Overview of Dicing Tape FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a dicing tape according to one embodiment of the present invention. A dicing tape 100 according to this embodiment comprises a substrate 10 and an adhesive layer 20 arranged on one side of the substrate 10 . Although not shown, the dicing tape of the present invention may be provided with a release liner on the outside of the pressure-sensitive adhesive layer for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive surface until it is used. In addition, the dicing tape may further contain any appropriate other layers as long as the effects of the present invention are obtained. Preferably, the adhesive layer is placed directly on the substrate.

別の実施形態においては、粘着剤層が2層構成であり、ダイシングテープは、基材と第1の粘着剤層と第2の粘着剤層とをこの順に備える。 In another embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer has a two-layer structure, and the dicing tape comprises a substrate, a first pressure-sensitive adhesive layer, and a second pressure-sensitive adhesive layer in this order.

ダイシングテープの基材側からレーザー顕微鏡により観察して取得した輝度256階調のグレースケール画像を、最大輝度の55%を閾値として白色部(高輝度部)と黒色部(低輝度部)に2値化した時、白色部の面積は、画像面積に対して、80%以上である。ここで、最大輝度の55%を閾値とする2値化は、輝度256階調の低輝度側から140階調を境に階調分けし、低輝度側を黒色部とし、高輝度側を白色部とする処理である。2値化処理は、例えば、画像解析ソフトウェアImage J(Wayne Rasband社製)を用いて行うことができる。上記のように構成されている本発明のダイシングテープを用いれば、ステルスダイシング工程において、当該ダイシングテープを介したカメラ検出、すなわち、カメラ(例えば、IRカメラ、SDカメラ)による半導体ウエハの表面パターン認識、半導体ウエハ高さ方向の位置検出等を高精度に行うことができる。また、上記のように構成されている本発明のダイシングテープを用いれば、ステルスダイシング工程において、当該ダイシングテープを介してレーザー光を照射する場合にも、レーザー光を良好に集光させることができ、その結果、半導体ウエハ内部に改質層を良好に形成することができる。より具体的には、改質層に、抜け、蛇行等の不良部分が形成されることが防止され得る。 A grayscale image with a brightness of 256 gradations obtained by observing with a laser microscope from the base side of the dicing tape is divided into white portions (high brightness portions) and black portions (low brightness portions) with a threshold of 55% of the maximum brightness. When quantified, the area of the white portion is 80% or more of the image area. Here, the binarization with a threshold value of 55% of the maximum luminance divides the gradation from the low luminance side of the luminance 256 gradations to the 140 gradation boundary, making the low luminance side black and the high luminance side white. It is a process to be a part. The binarization process can be performed using, for example, image analysis software Image J (manufactured by Wayne Rasband). By using the dicing tape of the present invention configured as described above, in the stealth dicing process, camera detection via the dicing tape, that is, surface pattern recognition of the semiconductor wafer by a camera (eg, IR camera, SD camera) , position detection in the height direction of the semiconductor wafer, etc. can be performed with high accuracy. Further, by using the dicing tape of the present invention configured as described above, even when laser light is irradiated through the dicing tape in the stealth dicing process, the laser light can be well focused. As a result, a modified layer can be satisfactorily formed inside the semiconductor wafer. More specifically, it is possible to prevent defective portions such as gaps and meandering from being formed in the modified layer.

上記白色部の面積は、画像面積に対して、好ましくは83%以上であり、より好ましくは85%以上であり、さらに好ましくは90%以上である。このような範囲であれば、上記効果は、より顕著となる。上記白色部の面積は、広いほど好ましいが、その上限は、例えば、99.5%(好ましくは99.8%、より好ましくは100%)である。 The area of the white portion is preferably 83% or more, more preferably 85% or more, and still more preferably 90% or more of the image area. Within such a range, the above effects are more pronounced. The larger the area of the white portion, the better, but the upper limit is, for example, 99.5% (preferably 99.8%, more preferably 100%).

本発明のダイシングテープをステンレス板に貼着した際の23℃における初期粘着力は、好ましくは0.2N/20mm~8N/20mmであり、より好ましくは0.5N/20mm~5N/20mmである。粘着力は、JIS Z 0237:2000に準じて測定される。具体的には、2kgのローラーを1往復によりダイシングテープをステンレス板(算術平均表面粗さRa:50±25nm)に貼着し、23℃下で30分間放置した後、剥離角度180°、剥離速度(引張速度)300mm/minの条件で、ダイシングテープを引きはがして測定される。後述のように粘着剤層は、活性エネルギー線照射により粘着力が変化してもよいが、本明細書において、「初期粘着力」とは、活性エネルギー線の照射前の粘着力を意味する。 The initial adhesive force at 23° C. when the dicing tape of the present invention is attached to a stainless steel plate is preferably 0.2 N/20 mm to 8 N/20 mm, more preferably 0.5 N/20 mm to 5 N/20 mm. . Adhesion is measured according to JIS Z 0237:2000. Specifically, the dicing tape was attached to a stainless steel plate (arithmetic mean surface roughness Ra: 50 ± 25 nm) by reciprocating a 2 kg roller once, left at 23 ° C. for 30 minutes, and then peeled at a peel angle of 180 °. It is measured by peeling off the dicing tape at a speed (pulling speed) of 300 mm/min. As described later, the pressure-sensitive adhesive layer may change its adhesive strength due to irradiation with active energy rays, but in this specification, the "initial adhesive strength" means the adhesive strength before irradiation with active energy rays.

1つの実施形態においては、ダイシングテープをシリコン製ミラーウエハに貼着し、460mJ/cmの紫外線を照射した後の23℃における粘着力は、好ましくは0.01N/20mm~0.3N/20mmであり、より好ましくは0.02N/20mm~0.2N/20mmである。このような範囲であれば、ダイシング後の紫外線照射により粘着力が低下して、小片化されたワーク(例えば、半導体チップ)のピックアップが容易となるダイシングテープを得ることができる。上記紫外線照射は、例えば、紫外線照射装置(日東精機社製、商品名「UM-810」)を用いて、高圧水銀灯の紫外線(特性波長:365nm、積算光量:460mJ/cm、照射エネルギー:70W/cm、照射時間:6.6秒)を粘着剤層に照射して行われる。 In one embodiment, the adhesive strength at 23° C. after the dicing tape is attached to a silicon mirror wafer and irradiated with 460 mJ/cm 2 ultraviolet rays is preferably 0.01 N/20 mm to 0.3 N/20 mm. and more preferably 0.02 N/20 mm to 0.2 N/20 mm. Within this range, a dicing tape can be obtained in which the adhesive strength is reduced by UV irradiation after dicing, making it easy to pick up small pieces of workpieces (eg, semiconductor chips). The above ultraviolet irradiation is performed, for example, by using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Nitto Seiki Co., Ltd., trade name “UM-810”) and applying ultraviolet rays from a high-pressure mercury lamp (characteristic wavelength: 365 nm, integrated light amount: 460 mJ/cm 2 , irradiation energy: 70 W. /cm 2 , irradiation time: 6.6 seconds).

ダイシングテープの厚みは、好ましくは35μm~500μmであり、より好ましくは60μm~300μmであり、さらに好ましくは80μm~200μmである。 The thickness of the dicing tape is preferably 35 μm to 500 μm, more preferably 60 μm to 300 μm, still more preferably 80 μm to 200 μm.

ダイシングテープの全光線透過率は、好ましくは70%以上であり、より好ましくは80%以上であり、さらに好ましくは90%以上であり、特に好ましくは95%以上である。このような範囲であれば、ダイシングテープを介したカメラ検出が良好に行われ得、かつ、レーザー光の透過・集光を阻害し難いダイシングテープを得ることができる。ダイシングテープの全光線透過率の上限は、例えば、98%(好ましくは99%)である。 The total light transmittance of the dicing tape is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, even more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more. Within such a range, it is possible to obtain a dicing tape that allows good camera detection through the dicing tape and that hardly hinders the transmission and collection of laser light. The upper limit of the total light transmittance of the dicing tape is, for example, 98% (preferably 99%).

ダイシングテープにおいて、波長1064nmの光の透過率は、好ましくは70%以上であり、より好ましくは80%以上であり、さらに好ましくは90%以上であり、特に好ましくは95%以上である。このような範囲であれば、レーザー光の透過・集光を阻害し難いダイシングテープを得ることができる。ダイシングテープの波長1064nmの光の透過率の上限は、例えば、98%(好ましくは99%)である。 In the dicing tape, the transmittance of light having a wavelength of 1064 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, even more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more. Within such a range, it is possible to obtain a dicing tape that hardly inhibits the transmission and collection of laser light. The upper limit of the transmittance of light with a wavelength of 1064 nm of the dicing tape is, for example, 98% (preferably 99%).

ダイシングテープのヘイズ値は、好ましくは20%以下であり、より好ましくは10%以下であり、さらに好ましくは5%以下である。このような範囲であれば、ダイシングテープを介したカメラ検出が良好に行われ得、かつ、レーザー光の透過・集光を阻害し難いダイシングテープを得ることができる。ダイシングテープのヘイズ値の下限は、例えば、1%である。 The haze value of the dicing tape is preferably 20% or less, more preferably 10% or less, still more preferably 5% or less. Within such a range, it is possible to obtain a dicing tape that allows good camera detection through the dicing tape and that hardly hinders the transmission and collection of laser light. The lower limit of the haze value of the dicing tape is, for example, 1%.

B.基材
上記基材は、任意の適切な樹脂から構成され得る。該樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリブテン系樹脂、ポリメチルペンテン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂、セルロース系樹脂、アイオノマー樹脂等が挙げられる。なかでも好ましくはポリオレフィン系樹脂である。
B. Substrate The substrate may be composed of any suitable resin. Examples of the resin include polyolefin-based resins such as polyethylene-based resins, polypropylene-based resins, polybutene-based resins, and polymethylpentene-based resins, polyurethane-based resins, polyester-based resins, polyimide-based resins, polyetherketone-based resins, and polystyrene-based resins. Resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, fluorine resins, silicone resins, cellulose resins, ionomer resins, and the like can be mentioned. Among them, polyolefin resins are preferred.

1つの実施形態においては、上記基材は、ポリエチレン系樹脂を含む。ポリエチレン系樹脂を含む基材を用いれば、上記2値化画像の白色面積が大きいダイシングテープを得ることができる。ポリエチレン系樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン等が挙げられる。 In one embodiment, the substrate contains a polyethylene-based resin. A dicing tape having a large white area of the binary image can be obtained by using a base material containing a polyethylene resin. Examples of polyethylene-based resins include low-density polyethylene, linear polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, and ultra-low-density polyethylene.

ポリエチレン系樹脂中、エチレン由来の構成単位の含有割合は、好ましくは80モル%以上であり、より好ましくは90モル%以上であり、さらに好ましくは95モル%以上である。エチレン由来の構成単位以外の構成単位としては、エチレンと共重合体と共重合可能な単量体由来の構成単位が挙げられ、例えば、プロピレン、1-ブテン、イソブテン、1-ペンテン、2-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ブテン、1-ヘキセン、3-メチル-1-ペンテン、4-メチル-1-ペンテン、1-ヘプテン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-イコセン等が挙げられる。 The content of ethylene-derived structural units in the polyethylene resin is preferably 80 mol % or more, more preferably 90 mol % or more, and still more preferably 95 mol % or more. Structural units other than ethylene-derived structural units include structural units derived from monomers copolymerizable with ethylene and copolymers, such as propylene, 1-butene, isobutene, 1-pentene, 2-methyl -1-butene, 3-methyl-1-butene, 1-hexene, 3-methyl-1-pentene, 4-methyl-1-pentene, 1-heptene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1 -tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-icosene and the like.

ポリエチレン系樹脂の含有量は、基材100重量部に対して、好ましくは80重量部以上であり、より85重量部~100重量部であり、さらに好ましくは95重量部~100重量部である。 The content of the polyethylene resin is preferably 80 parts by weight or more, more preferably 85 parts by weight to 100 parts by weight, and more preferably 95 parts by weight to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the substrate.

上記基材は、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤としては、例えば、滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、加工助剤、充填剤、帯電防止剤、安定剤、抗菌剤、難燃剤、着色剤等が挙げられる。 The substrate may further contain any suitable additive. Examples of additives include lubricants, antioxidants, ultraviolet absorbers, processing aids, fillers, antistatic agents, stabilizers, antibacterial agents, flame retardants, colorants and the like.

1つの実施形態においては、上記基材は、滑剤を含む。滑剤を含むことにより、ダイシングテープをロール状にした際のブロッキングを防止することができる。その結果、上記2値化画像の白色面積が大きいダイシングテープを得ることができる。滑剤としては、例えば、脂肪酸アマイド系滑剤、シリコーン系滑剤、フッ素系滑剤、長鎖アルキル系滑剤等が挙げられる。なかでも好ましくは、不純物混入のリスクが少なく、滑剤としての効果が高いことから、脂肪酸アマイド系滑剤である。滑剤の含有割合は、基材100重量部に対して、好ましくは0.1重量部~30重量部であり、より好ましくは0.5重量部~15重量部であり、さらに好ましくは0.8重量部~10重量部であり、特に好ましくは1重量部~5重量部である。 In one embodiment, the substrate contains a lubricant. By containing a lubricant, it is possible to prevent blocking when the dicing tape is rolled. As a result, a dicing tape having a large white area in the binarized image can be obtained. Examples of lubricants include fatty acid amide-based lubricants, silicone-based lubricants, fluorine-based lubricants, long-chain alkyl-based lubricants, and the like. Of these, fatty acid amide-based lubricants are preferred because they have little risk of contamination with impurities and are highly effective as lubricants. The content of the lubricant is preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 0.5 to 15 parts by weight, and still more preferably 0.8 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base material. 1 to 10 parts by weight, particularly preferably 1 to 5 parts by weight.

1つの実施形態においては、上記基材の一方の面の濡れ性が40mN/m以下である。1つの実施形態においては、上記基材は、濡れ性が40mN/m以下である面を粘着剤層とは反対側の面となるようにして配置されている。上記濡れ性を有する表面が粘着剤層とは反対側の面となるようにして基材を配置すれば、ダイシングテープをロール状にした際のブロッキングを防止することができる。その結果、上記2値化画像の白色面積が大きいダイシングテープを得ることができる。上記基材の一方の面の濡れ性は、好ましくは39mN/m以下であり、より好ましくは38mN/m以下であり、さらに好ましくは30mN/m~38mN/mである。基材の濡れ性は、基材材料の種類;基材に添加する添加剤の有無、種類、添加量;濡れ性調整面の表面処理の有無、種類、条件等により調整することができる。1つの実施形態においては、基材材料としてポリオレフィン系樹脂(好ましくはポリエチレン系樹脂)を用い、コロナ処理等の表面処理を行わないことにより、濡れ性が上記範囲の基材を得ることができる。なお、上記濡れ性は、JIS K6768に準じて測定され得る。 In one embodiment, the wettability of one surface of the substrate is 40 mN/m or less. In one embodiment, the substrate is arranged such that the surface having a wettability of 40 mN/m or less is the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive layer. By disposing the substrate so that the surface having wettability is the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive layer, blocking can be prevented when the dicing tape is rolled. As a result, a dicing tape having a large white area in the binarized image can be obtained. The wettability of one surface of the substrate is preferably 39 mN/m or less, more preferably 38 mN/m or less, and still more preferably 30 mN/m to 38 mN/m. The wettability of the base material can be adjusted by the type of the base material; presence/absence, type, and amount of additives added to the base material; presence/absence, type, and conditions of surface treatment on the wettability-adjusting surface. In one embodiment, by using a polyolefin-based resin (preferably polyethylene-based resin) as a base material and not performing a surface treatment such as corona treatment, a base material having wettability in the above range can be obtained. The wettability can be measured according to JIS K6768.

1つの実施形態においては、上記基材の少なくとも一方の面は、コロナ処理が施されている。好ましくは、基材の一方の面にのみコロナ処理が施され、コロナ処理面を粘着剤層側の面とする。粘着剤層側の面にコロナ処理を施すことにより、粘着剤層と基材との密着性を向上させることができる。別の実施形態においては、上記基材の両面ともコロナ処理が施されていない。基材の粘着剤層とは反対側の面をコロナ未処理面とすることにより、ダイシングテープをロール状にした際のブロッキングを防止することができる。その結果、ロール状ダイシングテープを巻きほどく際に当該ダイシングテープがダメージを受けがたくなり、上記2値化画像の白色面積が大きいダイシングテープを得ることができる。コロナ処理は、例えば、速度:20m/min、放電電力:0.7kw、放電電極長:1550mmの条件で行われ得る。 In one embodiment, at least one surface of the substrate is corona-treated. Preferably, only one side of the substrate is subjected to corona treatment, and the corona-treated side is the side facing the pressure-sensitive adhesive layer. The adhesion between the adhesive layer and the substrate can be improved by subjecting the adhesive layer side surface to corona treatment. In another embodiment, both sides of the substrate are not corona treated. By making the surface of the base material opposite to the pressure-sensitive adhesive layer a corona-untreated surface, it is possible to prevent blocking when the dicing tape is rolled. As a result, the dicing tape is less likely to be damaged when the roll-shaped dicing tape is unwound, and a dicing tape with a large white area of the binary image can be obtained. Corona treatment can be performed, for example, under conditions of speed: 20 m/min, discharge power: 0.7 kw, and discharge electrode length: 1550 mm.

1つの実施形態においては、上記基材の一方の面はエンボス処理が施されている。好ましくは、基材の一方の面にのみエンボス処理が施され、エンボス処理面を粘着剤層側の面とする。粘着剤層側の面にエンボス処理を施すことにより、粘着剤層と基材との密着性を向上させることができる。好ましくは、基材の粘着剤層とは反対側の面には、エンボス処理が施されていない。基材の粘着剤層とは反対側の面にエンボス処理を施さず、当該面を平滑にすることにより、上記2値化画像の白色面積が大きいダイシングテープを得ることができる。基材のエンボス未処理面の算術平均表面粗さRa(JIS B 0601)は、好ましくは1.0μm未満であり、より好ましくは0.8μm以下であり、さらに好ましくは0.5μm以下であり、特に好ましくは0.01μm~1μmである。また、基材のエンボス処理面の算術平均表面粗さRa(JIS B 0601)は、好ましくは1.0μm~3μmであり、より好ましくは1.4μm~2μmである。基材のエンボス処理面の算術平均表面粗さRaが3μmを超えると、粘着剤層と基材との間に空隙ができやすくなり、2値化画像の白色面積が大きくなるおそれがある。また、当該Raが、1μmより小さいと、基材保管時にブロッキングが生じるおそれがある。 In one embodiment, one surface of the substrate is embossed. Preferably, only one side of the base material is embossed, and the embossed side is the pressure-sensitive adhesive layer side. By embossing the adhesive layer side surface, the adhesiveness between the adhesive layer and the substrate can be improved. Preferably, the surface of the substrate opposite to the pressure-sensitive adhesive layer is not embossed. A dicing tape having a large white area of the binary image can be obtained by smoothing the surface of the substrate opposite to the pressure-sensitive adhesive layer without embossing. The arithmetic mean surface roughness Ra (JIS B 0601) of the non-embossed surface of the substrate is preferably less than 1.0 μm, more preferably 0.8 μm or less, still more preferably 0.5 μm or less, Especially preferred is 0.01 μm to 1 μm. The arithmetic mean surface roughness Ra (JIS B 0601) of the embossed surface of the substrate is preferably 1.0 μm to 3 μm, more preferably 1.4 μm to 2 μm. If the arithmetic mean surface roughness Ra of the embossed surface of the base material exceeds 3 μm, gaps are likely to form between the pressure-sensitive adhesive layer and the base material, which may increase the white area of the binarized image. Also, if the Ra is less than 1 μm, blocking may occur during storage of the substrate.

上記基材の厚みは、好ましくは30μm~300μmであり、より好ましくは53μm~200μmであり、さらに好ましくは70μm~160μmである。 The thickness of the substrate is preferably 30 μm to 300 μm, more preferably 53 μm to 200 μm, still more preferably 70 μm to 160 μm.

基材の全光線透過率は、好ましくは70%以上であり、より好ましくは80%以上であり、さらに好ましくは90%以上であり、特に好ましくは95%以上である。基材の全光線透過率の上限は、例えば、98%(好ましくは99%)である。 The total light transmittance of the substrate is preferably 70% or higher, more preferably 80% or higher, even more preferably 90% or higher, and particularly preferably 95% or higher. The upper limit of the total light transmittance of the substrate is, for example, 98% (preferably 99%).

上記基材の22℃における引っ張り弾性率は、好ましくは50MPa~120MPaであり、より好ましくは70MPa~90MPaである。このような範囲であれば、エキスパンド性に優れるダイシングテープを得ることができる。基材の引っ張り弾性率の測定は、引張り試験機(SHIMADZU社製、「AG-IS」)を用い、チャック間距離:50mm、引張速度:300mm/min、基材幅:10mmの条件で行われる。 The tensile modulus of elasticity at 22° C. of the substrate is preferably 50 MPa to 120 MPa, more preferably 70 MPa to 90 MPa. Within such a range, a dicing tape with excellent expandability can be obtained. The tensile modulus of elasticity of the substrate is measured using a tensile tester (manufactured by SHIMADZU, "AG-IS") under the conditions of distance between chucks: 50 mm, tensile speed: 300 mm/min, and substrate width: 10 mm. .

C.粘着剤層
C-1.単層構成の粘着剤層
1つの実施形態においては、粘着剤層は単層で構成される。粘着剤層は、任意の適切な粘着剤により構成され得る。粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等が挙げられる。
C. Adhesive layer C-1. Adhesive Layer Constructed of Single Layer In one embodiment, the adhesive layer is composed of a single layer. The adhesive layer can be composed of any appropriate adhesive. Examples of adhesives include acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, polyvinyl ether adhesives, and the like.

1つの実施形態においては、粘着剤層は、活性エネルギー線硬化型粘着剤から構成される。活性エネルギー線硬化型粘着剤により粘着剤層を構成すれば、ダイシング後の活性エネルギー線(代表的には、紫外線)照射により粘着力が低下して、小片化されたワーク(例えば、半導体チップ)のピックアップを容易とし得るダイシングテープを得ることができる。 In one embodiment, the adhesive layer is composed of an active energy ray-curable adhesive. If the adhesive layer is composed of an active energy ray-curable adhesive, the adhesive strength is reduced by the irradiation of the active energy ray (typically, ultraviolet rays) after dicing, and the workpiece (for example, semiconductor chip) is broken into small pieces. A dicing tape that can be easily picked up can be obtained.

活性エネルギー線硬化型粘着剤は、粘着性を示すベースポリマーを含み得る。ベースポリマーを構成するモノマーとしては、例えば、親水性モノマーが挙げられる。親水性モノマーとしては、極性基を有する任意の適切なモノマーを用いることができる。具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のカルボキシル基含有モノマー;無水マレイン酸、無水イコタン酸等の酸無水物モノマー;(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12-ヒドロキシラウリル、(4-ヒドロキシメチルシクロヘキシル)メチルメタクリレート等のヒドロキシル基含有モノマー;スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、2-(メタ)アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等のスルホン酸基含有モノマー;2-ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等のリン酸基含有モノマー;(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N-ブチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-メチロールプロパン(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(N-置換)アミド系モノマー;(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N-ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸t-ブチルアミノエチル等の(メタ)アクリル酸アミノアルキル系モノマー;(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー;N-シクロヘキシルマレイミド、N-イソプロピルマレイミド、N-ラウリルマレイミド、N-フェニルマレイミド等のマレイミド系モノマー;N-メチルイタコンイミド、N-エチルイタコンイミド、N-ブチルイタコンイミド、N-オクチルイタコンイミド、N-2-エチルヘキシルイタコンイミド、N-シクロヘキシルイタコンイミド、N-ラウリルイタコンイミド等のイタコンイミド系モノマー;N-(メタ)アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、N-(メタ)アクロイル-6-オキシヘキサメチレンスクシンイミド、N-(メタ)アクリロイル-8-オキシオクタメチレンスクシンイミド等のスクシンイミド系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、N-ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、N-ビニルカルボン酸アミド類、スチレン、α-メチルスチレン、N-ビニルカプロラクタム等のビニル系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアノアクリレートモノマー;(メタ)アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有アクリル系モノマー;(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ポリプロピレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシエチレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系アクリルエステルモノマー;(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素(メタ)アクリレート、シリコン(メタ)アクリレート等の複素環、ハロゲン原子、ケイ素原子等を有するアクリル酸エステル系モノマー;ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシアクリート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等の多官能モノマーが挙げられる。親水性モノマーとしては、ヒドロキシル基含有モノマーおよび/または(N-置換)アミド系モノマーを好適に用いることができる。親水性モノマーは1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合せて用いてもよい。 The active energy ray-curable adhesive may contain a base polymer exhibiting adhesiveness. Monomers constituting the base polymer include, for example, hydrophilic monomers. Any suitable monomer having a polar group can be used as the hydrophilic monomer. Specifically, carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl acrylate, carboxypentyl acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid; acid anhydride monomers such as maleic anhydride and isotanoic anhydride ; 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate , 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, (4-hydroxymethylcyclohexyl) hydroxyl group-containing monomers such as methyl methacrylate; styrenesulfonic acid, allylsulfonic acid, 2-(meth) Sulfonic acid group-containing monomers such as acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, (meth)acrylamidopropanesulfonic acid, sulfopropyl (meth)acrylate, (meth)acryloyloxynaphthalenesulfonic acid; phosphoric acid such as 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate Group-containing monomer; (N -Substituted) amide-based monomers; (meth)aminoalkyl acrylate-based monomers such as aminoethyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and t-butylaminoethyl (meth)acrylate; Alkoxyalkyl (meth)acrylate monomers such as methoxyethyl (meth)acrylate and ethoxyethyl (meth)acrylate; maleimide monomers such as N-cyclohexylmaleimide, N-isopropylmaleimide, N-laurylmaleimide and N-phenylmaleimide Monomer; Itaconimide-based monomers such as N-methylitaconimide, N-ethylitaconimide, N-butylitaconimide, N-octylitaconimide, N-2-ethylhexylitaconimide, N-cyclohexylitaconimide, N-laurylitaconimide ; N-(meth)acryloyloxymethylenesuccinimide, N-(meth)acryloyl-6-oxyhexamethylenesuccinimide, N-(meth)acryloyl-8-oxyoctamethylenesuccinimide succinimide-based monomers such as vinyl acetate, vinyl propionate, N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole, vinyloxazole, vinylmorpholine, N- vinyl monomers such as vinylcarboxylic acid amides, styrene, α-methylstyrene, and N-vinylcaprolactam; cyanoacrylate monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; epoxy group-containing acrylic monomers such as glycidyl (meth)acrylate; Glycol-based acrylic ester monomers such as polyethylene glycol meth)acrylate, polypropylene glycol (meth)acrylate, methoxyethylene glycol (meth)acrylate, and methoxypolypropylene glycol (meth)acrylate; tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, fluorine Heterocycles such as (meth)acrylates and silicon (meth)acrylates, halogen atoms, acrylic acid ester monomers having silicon atoms, etc.; hexanediol di(meth)acrylate, (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, ) propylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth) Polyfunctional monomers such as acrylates, epoxy acrylates, polyester acrylates and urethane acrylates can be mentioned. Hydroxyl group-containing monomers and/or (N-substituted) amide monomers can be suitably used as hydrophilic monomers. Only one type of hydrophilic monomer may be used, or two or more types may be used in combination.

上記親水性モノマーと疎水性モノマーとを組み合わせてもよい。疎水性モノマーとしては、疎水性を有するモノマーであればよく、任意の適切なモノマーを用いることができる。具体的には、2-エチルヘキサン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、ステアリルビニルエーテル等の炭素数9~30のアルキル基を有するビニルアルキルまたアリールエーテル;(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸オレイル、(メタ)アクリル酸パルミチル、及び(メタ)アクリル酸ステアリル(メタ)アクリル酸の炭素数6~30のアルキルエステル;脂肪酸及び脂肪アルコールから誘導される(メタ)アクリル酸の不飽和ビニルエステル;コレステロールから誘導されるモノマー;1-ブテン、2-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-オクテン、イソブチレン、イソプレン等のオレフィンモノマーが挙げられる。疎水性モノマーは1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合せて用いてもよい。なお、本発明で用いる疎水性モノマーは、水100gに対する溶解度が0.02g以下であるモノマーをいう。 You may combine the said hydrophilic monomer and hydrophobic monomer. As the hydrophobic monomer, any appropriate monomer can be used as long as it is a monomer having hydrophobic properties. Specifically, vinyl alkyl or aryl ether having an alkyl group having 9 to 30 carbon atoms such as vinyl 2-ethylhexanoate, vinyl laurate, vinyl stearate, stearyl vinyl ether; hexyl (meth)acrylate, (meth)acrylate heptyl acrylate, octyl (meth)acrylate, isooctyl acrylate, isononyl acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, ( benzyl meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, oleyl (meth)acrylate, palmityl (meth)acrylate, and stearyl (meth)acrylate (meth)acrylic acid having 6 to 30 carbon atoms; fatty acid and unsaturated vinyl esters of (meth) acrylic acid derived from fatty alcohols; monomers derived from cholesterol; 1-butene, 2-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, isobutylene, isoprene, etc. Olefin monomers are mentioned. Only one type of hydrophobic monomer may be used, or two or more types may be used in combination. The hydrophobic monomer used in the present invention refers to a monomer having a solubility of 0.02 g or less in 100 g of water.

上記ベースポリマーは、上記親水性モノマーおよび疎水性モノマー以外のモノマー成分をさらに含んでいてもよい。他のモノマー成分としては、ブチルアクリレート、エチルアクリレート等のアルキルアクリレート等が挙げられる。他のモノマー成分は1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合せて用いてもよい。 The base polymer may further contain monomer components other than the hydrophilic monomer and the hydrophobic monomer. Other monomer components include alkyl acrylates such as butyl acrylate and ethyl acrylate. Other monomer components may be used alone or in combination of two or more.

上記ベースポリマーは、分子内に硬化性の官能基を有するイソシアネート系化合物由来の構成単位をさらに含んでいてもよい。イソシアネート系化合物由来の構成単位を含むベースポリマーは、例えば、上記親水性モノマー由来の構成単位が有する置換基(例えば、OH基)とイソシアネート系化合物のNCO基とを反応させて得ることができる。上記イソシアネート化合物としては、例えば、メタクリロイルイソシアネート、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、2-アクリロイルオキシエチルイソシアネート、m-イソプロペニル-α,α-ジメチルベンジルイソシアネート等が挙げられる。 The base polymer may further contain a structural unit derived from an isocyanate compound having a curable functional group in the molecule. A base polymer containing a structural unit derived from an isocyanate compound can be obtained, for example, by reacting a substituent (e.g., OH group) of the structural unit derived from the hydrophilic monomer with an NCO group of the isocyanate compound. Examples of the isocyanate compound include methacryloyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, 2-acryloyloxyethyl isocyanate, m-isopropenyl-α,α-dimethylbenzyl isocyanate and the like.

上記粘着剤を構成するベースポリマーの重量平均分子量は、好ましくは30万~200万であり、より好ましくは50万~150万である。重量平均分子量は、GPC(溶媒:THF)により測定され得る。 The weight average molecular weight of the base polymer constituting the pressure-sensitive adhesive is preferably 300,000 to 2,000,000, more preferably 500,000 to 1,500,000. A weight average molecular weight can be measured by GPC (solvent: THF).

上記活性エネルギー線硬化型粘着剤は、光重合開始剤を含み得る。 The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive may contain a photopolymerization initiator.

光重合開始剤としては、任意の適切な開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル(2-ヒドロキシ-2-プロピル)ケトン、α-ヒドロキシ-α,α’-ジメチルアセトフェノン、2-メチル-2-ヒドロキシプロピオフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のα-ケトール系化合物;メトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)-フェニル]-2-モルホリノプロパン-1等のアセトフェノン系化合物;ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物;ベンジルジメチルケタール等のケタール系化合物;2-ナフタレンスルホニルクロリド等の芳香族スルホニルクロリド系化合物;1-フェノン-1,1―プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)オキシム等の光活性オキシム系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;チオキサンソン、2-クロロチオキサンソン、2-メチルチオキサンソン、2,4-ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、2,4-ジクロロチオキサンソン、2,4-ジエチルチオキサンソン、2,4-ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物;カンファーキノン;ハロゲン化ケトン;アシルホスフィノキシド;アシルホスフォナート等が挙げられる。光重合開始剤の使用量は、任意の適切な量に設定され得る。 Any appropriate initiator can be used as the photopolymerization initiator. Examples of photopolymerization initiators include 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl(2-hydroxy-2-propyl)ketone, α-hydroxy-α,α'-dimethylacetophenone, 2-methyl-2-hydroxypropio α-ketol compounds such as phenone and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-methyl-1-[4-(methylthio) Acetophenone compounds such as -phenyl]-2-morpholinopropane-1; benzoin ether compounds such as benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and anisoin methyl ether; ketal compounds such as benzyl dimethyl ketal; 2-naphthalenesulfonyl chloride, etc. aromatic sulfonyl chloride compounds; 1-phenone-1,1-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl) oxime and other photoactive oxime compounds; benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3'-dimethyl-4 -benzophenone compounds such as methoxybenzophenone; thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4 thioxanthone-based compounds such as diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; camphorquinone; halogenated ketones; The amount of photopolymerization initiator used can be set to any appropriate amount.

上記光重合開始剤として、市販品を用いてもよい。例えば、BASF社製の商品名「イルガキュア651」、「イルガキュア184」、「イルガキュア369」、「イルガキュア819」、「イルガキュア2959」等が挙げられる。 A commercially available product may be used as the photopolymerization initiator. For example, trade names such as "Irgacure 651", "Irgacure 184", "Irgacure 369", "Irgacure 819" and "Irgacure 2959" manufactured by BASF are listed.

好ましくは、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤は、架橋剤を含む。架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、アミン系架橋剤等が挙げられる。 Preferably, the active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive contains a cross-linking agent. Examples of cross-linking agents include isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, oxazoline-based cross-linking agents, aziridine-based cross-linking agents, melamine-based cross-linking agents, peroxide-based cross-linking agents, urea-based cross-linking agents, metal alkoxide-based cross-linking agents, Examples include metal chelate cross-linking agents, metal salt cross-linking agents, carbodiimide cross-linking agents, amine cross-linking agents and the like.

粘着剤層が単層構成の場合、上記架橋剤の含有割合は、粘着剤のベースポリマー100重量部に対して、好ましくは0.5重量部~10重量部であり、より好ましくは1重量部~8重量部である。このような範囲であれば、弾性率が適切に調整された粘着剤層を形成することができる。 When the pressure-sensitive adhesive layer has a single-layer structure, the content of the cross-linking agent is preferably 0.5 to 10 parts by weight, more preferably 1 part by weight, with respect to 100 parts by weight of the base polymer of the pressure-sensitive adhesive. ~8 parts by weight. Within such a range, a pressure-sensitive adhesive layer having an appropriately adjusted elastic modulus can be formed.

1つの実施形態においては、イソシアネート系架橋剤が好ましく用いられる。イソシアネート系架橋剤は、多種の官能基と反応し得る点で好ましい。上記イソシアネート系架橋剤の具体例としては、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類;シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類;2,4-トリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート類;トリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネート3量体付加物(日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートL」)、トリメチロールプロパン/へキサメチレンジイソシアネート3量体付加物(日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートHL」)、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートHX」)等のイソシアネート付加物;等が挙げられる。好ましくは、イソシアネート基を3個以上有する架橋剤が用いられる。 In one embodiment, an isocyanate-based cross-linking agent is preferably used. An isocyanate-based cross-linking agent is preferable because it can react with various functional groups. Specific examples of the isocyanate-based cross-linking agents include lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; aromatic isocyanates such as tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate; trimethylolpropane/tolylene diisocyanate trimer adduct (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name “Coronate L”), tri Methylolpropane/hexamethylene diisocyanate trimer adduct (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name "Coronate HL"), hexamethylene diisocyanate isocyanurate (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name "Coronate HX"), etc. isocyanate adduct; and the like. Preferably, a cross-linking agent having 3 or more isocyanate groups is used.

活性エネルギー線硬化型粘着剤は、必要に応じて、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤としては、例えば、活性エネルギー線重合促進剤、ラジカル捕捉剤、粘着付与剤、可塑剤(例えば、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸エステル系可塑剤等)、顔料、染料、充填剤、老化防止剤、導電材、帯電防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、剥離調整剤、軟化剤、界面活性剤、難燃剤、酸化防止剤等が挙げられる。 The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive may further contain any appropriate additive as necessary. Additives include, for example, active energy ray polymerization accelerators, radical scavengers, tackifiers, plasticizers (e.g., trimellitic acid ester plasticizers, pyromellitic acid ester plasticizers, etc.), pigments, dyes, and fillers. agents, anti-aging agents, conductive agents, antistatic agents, ultraviolet absorbers, light stabilizers, release modifiers, softeners, surfactants, flame retardants, antioxidants, and the like.

粘着剤層が単層構成の場合、上記粘着剤層の22℃における引っ張り弾性率は、好ましくは0.05MPa~1MPaであり、より好ましくは0.1MPa~0.8MPaであり、さらに好ましくは0.15MPa~0.6MPaである。このような範囲であれば、十分な強度を有する粘着剤層を形成でき、かつ、粘着剤層と基材とが良好に密着して、基材と粘着剤層との界面近傍における空隙の発生を抑制することができる。その結果、上記2値化画像の白色面積が大きいダイシングテープを得ることができる。特に、粘着剤層側の面にエンボス処理が施された基材を用いる場合、通常であれば空隙が生じやすくなるが、粘着剤層の引っ張り弾性率を上記範囲とすることにより、空隙の発生を抑制することができる。換言すると、当該引っ張り弾性率が1MPaを超えると、基材のエンボス面に粘着剤層を積層する際、粘着剤層が基材の凹凸に追従しないおそれがある。また、当該引っ張り弾性率が0.5MPaより小さい場合、粘着剤層が定形を保たず、また、十分な特性を有さなくなるおそれがある。なお、上記のとおり、粘着剤層が活性エネルギー線硬化型粘着剤により構成される場合、活性エネルギー線照射前の22℃における引っ張り弾性率が当該範囲であることが好ましい。粘着剤層の引っ張り弾性率の測定方法は、後述する。 When the adhesive layer has a single-layer structure, the tensile modulus of the adhesive layer at 22° C. is preferably 0.05 MPa to 1 MPa, more preferably 0.1 MPa to 0.8 MPa, and still more preferably 0. 0.15 MPa to 0.6 MPa. Within such a range, a pressure-sensitive adhesive layer having sufficient strength can be formed, and the pressure-sensitive adhesive layer and the substrate are well adhered to each other, and voids are generated in the vicinity of the interface between the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer. can be suppressed. As a result, a dicing tape having a large white area in the binarized image can be obtained. In particular, when using a base material having an embossed surface on the pressure-sensitive adhesive layer side, voids are likely to occur normally. can be suppressed. In other words, if the tensile modulus exceeds 1 MPa, the adhesive layer may not conform to the irregularities of the substrate when the adhesive layer is laminated on the embossed surface of the substrate. Also, if the tensile modulus is less than 0.5 MPa, the pressure-sensitive adhesive layer may not maintain a fixed shape and may not have sufficient properties. As described above, when the pressure-sensitive adhesive layer is composed of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, it is preferable that the tensile modulus at 22° C. before irradiation with the active energy ray is within the above range. A method for measuring the tensile modulus of the pressure-sensitive adhesive layer will be described later.

1つの実施形態においては、粘着剤層が単層構成の場合、上記粘着剤層の紫外線(460mJ/cm)照射後の22℃における引っ張り弾性率は、好ましくは50MPa~3000MPaであり、より好ましくは100MPa~1500MPaであり、さらに好ましくは200MPa~1000MPaである。このような範囲であれば、ピックアップ性に優れるダイシングテープを得ることができる。 In one embodiment, when the pressure-sensitive adhesive layer has a single-layer structure, the tensile elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer at 22° C. after irradiation with ultraviolet rays (460 mJ/cm 2 ) is preferably 50 MPa to 3000 MPa, more preferably. is 100 MPa to 1500 MPa, more preferably 200 MPa to 1000 MPa. Within such a range, a dicing tape with excellent pick-up properties can be obtained.

粘着剤層が単層構成の場合、粘着剤層の厚みは、好ましくは5μm~470μmであり、より好ましくは7μm~247μmであり、さらに好ましくは10μm~130μmである。このような範囲であれば、エンボス処理面に粘着剤層を形成する場合に、該粘着剤層がエンボスを良好に埋め、不用な空隙が生じることを防止し得る。その結果、上記2値化画像の白色面積が大きいダイシングテープを得ることができる。 When the pressure-sensitive adhesive layer has a single layer structure, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 5 μm to 470 μm, more preferably 7 μm to 247 μm, still more preferably 10 μm to 130 μm. Within such a range, when the pressure-sensitive adhesive layer is formed on the embossed surface, the pressure-sensitive adhesive layer satisfactorily fills the embossments, and the generation of unnecessary voids can be prevented. As a result, a dicing tape having a large white area in the binarized image can be obtained.

粘着剤層の全光線透過率は、好ましくは70%以上であり、より好ましくは80%以上であり、さらに好ましくは90%以上であり、特に好ましくは95%以上である。粘着剤層の全光線透過率の上限は、例えば、98%(好ましくは99%)である。 The total light transmittance of the adhesive layer is preferably 70% or higher, more preferably 80% or higher, still more preferably 90% or higher, and particularly preferably 95% or higher. The upper limit of the total light transmittance of the adhesive layer is, for example, 98% (preferably 99%).

粘着剤層のヘイズ値は、好ましくは20%以下であり、より好ましくは10%以下であり、さらに好ましくは5%以下である。粘着剤層のヘイズ値の下限は、例えば、1%である。 The haze value of the adhesive layer is preferably 20% or less, more preferably 10% or less, still more preferably 5% or less. The lower limit of the haze value of the adhesive layer is, for example, 1%.

C-2.2層構成の粘着剤層
1つの実施形態においては、上記粘着剤層は、2層で構成される。以下、便宜上、基材側の粘着剤層を第1の粘着剤層とし、基材と反対側の粘着剤層を第2の粘着剤層とする。第1の粘着剤層と第2の粘着剤層とは、引っ張り弾性率の相違により区別され得る。第1の粘着剤層は、第2の粘着剤層よりも低弾性であることが好ましい。低弾性な第1の粘着剤層を基材側とすることにより、粘着剤層と基材とが良好に密着して、基材と粘着剤層との界面近傍における空隙の発生を抑制することができる。その結果、上記2値化画像の白色面積が大きいダイシングテープを得ることができる。また、高弾性な第2の粘着剤層を備えることにより、高精度なダイシングに寄与し得るダイシングテープを得ることができる。
C-2. Adhesive Layer Constructed of Two Layers In one embodiment, the adhesive layer is composed of two layers. Hereinafter, for the sake of convenience, the pressure-sensitive adhesive layer on the substrate side is referred to as the first pressure-sensitive adhesive layer, and the pressure-sensitive adhesive layer on the side opposite to the substrate is referred to as the second pressure-sensitive adhesive layer. The first pressure-sensitive adhesive layer and the second pressure-sensitive adhesive layer can be distinguished by a difference in tensile elastic modulus. The first adhesive layer preferably has lower elasticity than the second adhesive layer. By placing the first pressure-sensitive adhesive layer with low elasticity on the side of the substrate, the pressure-sensitive adhesive layer and the substrate are well adhered to suppress the generation of voids in the vicinity of the interface between the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer. can be done. As a result, a dicing tape having a large white area in the binarized image can be obtained. Moreover, by providing the highly elastic second pressure-sensitive adhesive layer, it is possible to obtain a dicing tape that can contribute to highly accurate dicing.

第1の粘着剤層の22℃における引っ張り弾性率は、好ましくは0.05MPa~1MPaであり、より好ましくは0.06MPa~0.8MPaであり、さらに好ましくは0.07MPa~0.5MPaである。このような範囲であれば、粘着剤層と基材とが良好に密着して、基材と粘着剤層との界面近傍における空隙の発生を顕著に抑制することができる。その結果、上記2値化画像の白色面積が大きいダイシングテープを得ることができる。特に、粘着剤層側の面にエンボス処理が施された基材を用いる場合、通常であれば空隙が生じやすくなるが、粘着剤層の引っ張り弾性率を上記範囲とすることにより、空隙の発生を抑制することができる。なお、第1の粘着剤層が活性エネルギー線硬化型粘着剤により構成される場合、活性エネルギー線照射前の22℃における引っ張り弾性率が当該範囲であることが好ましい。 The tensile elastic modulus of the first pressure-sensitive adhesive layer at 22° C. is preferably 0.05 MPa to 1 MPa, more preferably 0.06 MPa to 0.8 MPa, and still more preferably 0.07 MPa to 0.5 MPa. . Within such a range, the pressure-sensitive adhesive layer and the substrate adhere well, and the generation of voids in the vicinity of the interface between the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer can be significantly suppressed. As a result, a dicing tape having a large white area in the binarized image can be obtained. In particular, when using a base material having an embossed surface on the pressure-sensitive adhesive layer side, voids are likely to occur normally. can be suppressed. In addition, when the first pressure-sensitive adhesive layer is composed of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, it is preferable that the tensile elastic modulus at 22° C. before the irradiation of the active energy ray is within the above range.

1つの実施形態においては、第1の粘着剤層の紫外線(460mJ/cm)照射後の22℃における引っ張り弾性率は、好ましくは50MPa~300MPaであり、より好ましくは100MPa~1500MPaであり、さらに好ましくは200MPa~1000MPaである。このような範囲であれば、ピックアップ性に優れるダイシングテープを得ることができる。 In one embodiment, the tensile elastic modulus of the first pressure-sensitive adhesive layer at 22° C. after irradiation with ultraviolet rays (460 mJ/cm 2 ) is preferably 50 MPa to 300 MPa, more preferably 100 MPa to 1500 MPa, and further It is preferably 200 MPa to 1000 MPa. Within such a range, a dicing tape with excellent pick-up properties can be obtained.

第2の粘着剤層の22℃における引っ張り弾性率は、好ましくは0.1MPa~2MPaであり、より好ましくは0.15MPa~1.5MPaであり、さらに好ましくは0.2MPa~1MPaである。このような範囲であれば、粘着剤層全体として適度な剛性を有し、高精度なダイシングに寄与し得るダイシングテープを得ることができる。なお、第2の粘着剤層が活性エネルギー線硬化型粘着剤により構成される場合、活性エネルギー線照射前の22℃における引っ張り弾性率が当該範囲であることが好ましい。 The tensile elastic modulus of the second pressure-sensitive adhesive layer at 22° C. is preferably 0.1 MPa to 2 MPa, more preferably 0.15 MPa to 1.5 MPa, still more preferably 0.2 MPa to 1 MPa. Within such a range, it is possible to obtain a dicing tape that has appropriate rigidity as a whole pressure-sensitive adhesive layer and that can contribute to highly accurate dicing. In addition, when the second pressure-sensitive adhesive layer is composed of an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, it is preferable that the tensile elastic modulus at 22° C. before the irradiation of the active energy ray is within the above range.

第1の粘着剤層の厚みは、好ましくは5μm~468μmであり、より好ましくは7μm~244μmである。第1の粘着剤層の厚みが5μm以上であれば、エンボス処理面に第1の粘着剤層を形成する場合に、該第1の粘着剤層がエンボスを良好に埋め、不用な空隙が生じることを防止し得る。その結果、上記2値化画像の白色面積が大きいダイシングテープを得ることができる。また、第1の粘着剤層が468μm以下であれば、小片化されたワーク(例えば、半導体チップ)のピックアップが容易となるダイシングテープを得ることができる。 The thickness of the first adhesive layer is preferably 5 μm to 468 μm, more preferably 7 μm to 244 μm. If the thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer is 5 μm or more, when the first pressure-sensitive adhesive layer is formed on the embossed surface, the first pressure-sensitive adhesive layer satisfactorily fills the embossments, creating unnecessary voids. can be prevented. As a result, a dicing tape having a large white area in the binarized image can be obtained. Moreover, if the first pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 468 μm or less, a dicing tape can be obtained that makes it easy to pick up small pieces of a work (for example, a semiconductor chip).

第2の粘着剤層の厚みは、好ましくは2μm~465μmであり、より好ましくは3μm~240μmである。 The thickness of the second adhesive layer is preferably 2 μm to 465 μm, more preferably 3 μm to 240 μm.

粘着剤層が2層構成である場合、粘着剤層の総厚は、好ましくは7μm~470μmであり、より好ましくは10μm~247μmであり、さらに好ましくは15μm~130μmである。 When the pressure-sensitive adhesive layer has a two-layer structure, the total thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 7 μm to 470 μm, more preferably 10 μm to 247 μm, still more preferably 15 μm to 130 μm.

粘着剤層が2層構成である場合、粘着剤層の全光線透過率は、好ましくは70%以上であり、より好ましくは80%以上であり、さらに好ましくは90%以上であり、特に好ましくは95%以上である。粘着剤層の全光線透過率の上限は、例えば、98%(好ましくは99%)である。 When the pressure-sensitive adhesive layer has a two-layer structure, the total light transmittance of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more. The upper limit of the total light transmittance of the adhesive layer is, for example, 98% (preferably 99%).

粘着剤層が2層構成である場合、粘着剤層のヘイズ値は、好ましくは20%以下であり、より好ましくは10%以下であり、さらに好ましくは5%以下である。粘着剤層のヘイズ値の下限は、例えば、1%である。 When the pressure-sensitive adhesive layer has a two-layer structure, the haze value of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 20% or less, more preferably 10% or less, and even more preferably 5% or less. The lower limit of the haze value of the adhesive layer is, for example, 1%.

第1の粘着剤層および第2の粘着剤層を構成する粘着剤としては、上記C-1項で説明した粘着剤が用いられ得る。好ましくは、活性エネルギー線硬化型粘着剤が用いられる。 As the adhesive constituting the first adhesive layer and the second adhesive layer, the adhesive described in the above section C-1 can be used. Preferably, an active energy ray-curable adhesive is used.

第1の粘着剤層を構成する活性エネルギー線硬化型粘着剤の架橋剤含有量は、粘着剤のベースポリマー100重量部に対して、好ましくは0.005重量部~5重量部であり、より好ましくは0.02重量部~3重量部である。このような範囲であれば、弾性率が適切に調整され、基材のエンボス面を良好に埋め、かつ定形を保持し得る粘着剤層を形成することができる。 The cross-linking agent content of the active energy ray-curable adhesive constituting the first adhesive layer is preferably 0.005 parts by weight to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base polymer of the adhesive, and more It is preferably 0.02 to 3 parts by weight. Within such a range, the elastic modulus is appropriately adjusted, the embossed surface of the base material is satisfactorily filled, and a pressure-sensitive adhesive layer capable of maintaining a regular shape can be formed.

第2の粘着剤層を構成する活性エネルギー線硬化型粘着剤の架橋剤含有量は、粘着剤のベースポリマー100重量部に対して、好ましくは1重量部~20重量部であり、より好ましくは2重量部~10重量部である。このような範囲であれば、弾性率および粘着力(ダイシング時のウエハの保持と、ダイシング後のチップピックアップとを両立し得る粘着力)が適切に調整された粘着剤層を形成することができる。 The content of the cross-linking agent in the active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive constituting the second pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1 to 20 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the base polymer of the pressure-sensitive adhesive. 2 to 10 parts by weight. Within such a range, it is possible to form a pressure-sensitive adhesive layer in which the elastic modulus and adhesive strength (adhesive strength that enables both wafer holding during dicing and chip pick-up after dicing) are appropriately adjusted. .

D.ダイシングテープの製造方法
上記ダイシングテープは、任意の適切な方法により製造され得る。ダイシングテープは、例えば、基材上に、上記粘着剤を塗工して得られ得る。塗工方法としては、バーコーター塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷など種々の方法を採用することができる。また、別途、剥離ライナーに粘着剤層を形成した後、それを基材に貼り合せる方法等を採用してもよい。
D. Manufacturing method of dicing tape The dicing tape can be manufactured by any appropriate method. A dicing tape can be obtained, for example, by applying the pressure-sensitive adhesive onto a substrate. Coating methods include bar coater coating, air knife coating, gravure coating, gravure reverse coating, reverse roll coating, lip coating, die coating, dip coating, offset printing, flexographic printing, screen printing, etc. Various methods can be employed. Alternatively, a method of forming a pressure-sensitive adhesive layer on a release liner and then attaching it to a base material may be adopted.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における試験および評価方法は以下のとおりである。また、特に明記しない限り、「部」および「%」は重量基準である。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Tests and evaluation methods in Examples are as follows. Also, "parts" and "%" are by weight unless otherwise specified.

(1)粘着剤層の弾性率
実施例および比較例で調製した粘着剤を、1対のPETセパレータ間に塗布して、粘着剤層(厚さ20μm)を形成し、当該粘着剤層を乾燥器内、50℃の環境下、48時間エージングした。その後、粘着剤層を50mm×30mmのサイズにカットし、セパレータを剥離した後、気泡が入らないようにして丸め、長さ30mm/直径1.13mmの棒状試料を作製した。
上記棒状試料の引っ張り弾性率を、引っ張り試験機(ORIENTEC社製、商品名「RTC-1150A」)を用いて、測定温度22℃、チャック間距離10mm、速度10mm/minの条件でSSカーブを測定した。該SSカーブの立ち上がりから初期弾性率を求め、これを粘着剤層の引っ張り弾性率とした。
(1) Elastic Modulus of Adhesive Layer The adhesive prepared in Examples and Comparative Examples is applied between a pair of PET separators to form an adhesive layer (20 μm thick), and the adhesive layer is dried. It was aged for 48 hours in an environment of 50°C in the vessel. After that, the pressure-sensitive adhesive layer was cut into a size of 50 mm×30 mm, the separator was peeled off, and the sheet was rolled without air bubbles to prepare a rod-shaped sample with a length of 30 mm and a diameter of 1.13 mm.
The tensile modulus of elasticity of the rod-shaped sample was measured using a tensile tester (manufactured by ORIENTEC, trade name "RTC-1150A"), and the SS curve was measured under the conditions of a measurement temperature of 22 ° C., a distance between chucks of 10 mm, and a speed of 10 mm / min. did. The initial elastic modulus was determined from the rise of the SS curve, and this was taken as the tensile elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer.

(2)基材の濡れ性
基材の両面の濡れ性を、JIS K6768に準じて測定した。
(2) Wettability of Substrate The wettability of both surfaces of the substrate was measured according to JIS K6768.

(3)基材の算術平均表面粗さRa
基材の粘着剤層とは反対側の面の算術平均表面粗さ(線粗さ)Raを、ケーエルエー・テンコール社製 のP-15を用い、JIS B 0601-2001に準じて測定した。
(3) Arithmetic mean surface roughness Ra of substrate
The arithmetic mean surface roughness (line roughness) Ra of the surface of the substrate opposite to the pressure-sensitive adhesive layer was measured according to JIS B 0601-2001 using P-15 manufactured by KLA-Tencor.

(4)全光線透過率
ダイシングテープの全光線透過率を、株式会社村上色彩技術研究所社製のヘイズメーター商品名「HM-150」を用い、JIS K 7361に準じて測定した。
(4) Total Light Transmittance The total light transmittance of the dicing tape was measured according to JIS K 7361 using a haze meter trade name "HM-150" manufactured by Murakami Color Research Laboratory.

(5)ヘイズ値
ダイシングテープのヘイズ値を、株式会社村上色彩技術研究所社製のヘイズメーター商品名「HM-150」を用い、JIS K 7136に準じて測定した。
(5) Haze value The haze value of the dicing tape was measured according to JIS K 7136 using a haze meter trade name "HM-150" manufactured by Murakami Color Research Laboratory.

(6)波長1064nmの光透過率
ダイシングテープの波長1064nmの光透過率を、株式会社島津製作所製のSolidSpec-3700を用いて測定した。
(6) Light transmittance at a wavelength of 1064 nm The light transmittance of the dicing tape at a wavelength of 1064 nm was measured using SolidSpec-3700 manufactured by Shimadzu Corporation.

(7)2値化白色面積の測定
Siウエハミラー面にダイシングテープを圧着した。明るさ80に設定したレーザー顕微鏡VK-X150(keyence社製)で当該ダイシングテープを、基材側から観察し、観察画像(範囲:5.8mm×4.4mm、輝度256階調)をPCに取り込んだ。ImageJ(フリーソフト)を用いて、輝度140、すなわち、輝度256階調の低輝度側から140階調を境に(最大輝度の55%を閾値として)観察画像を2値化画像に変換し、所定のマクロ処理により、白色面積(高輝度部分)の割合を求めた。
(7) Measurement of binarized white area A dicing tape was pressed onto the Si wafer mirror surface. Observe the dicing tape from the base material side with a laser microscope VK-X150 (manufactured by Keyence) set to a brightness of 80, and transfer the observed image (range: 5.8 mm × 4.4 mm, brightness 256 gradations) to a PC. taken in. Using ImageJ (free software), the observed image is converted to a binarized image with a luminance of 140, that is, a boundary of 140 gradations from the low luminance side of 256 gradations of luminance (with a threshold of 55% of the maximum luminance), The ratio of the white area (high luminance portion) was obtained by a predetermined macro processing.

(8)ステルスダイシング前装置視認性評価
ダイシングテープにシリコンウエハおよびリングフレームを貼付し、下記装置でのカメラ視認性を確認し、下記の基準で評価した。
使用装置:Disco社製 DAL7360(SDE05)
SDカメラ:高さ調整用のカメラ。ダイシングテープ越しにウエハ裏面にカメラで焦点を合わせ、焦点があった高さをウエハ裏面の位置として装置制御系内で座標認識させる。ウエハ裏面高さを基準にウエハ内部のレーザー照射位置を決める。このレーザー照射位置決め操作は、ダイシング中、継続的に繰り返される。
IRカメラ:シリコンウエハのパターン認識用のカメラ。ダイシングテープを介してウエハ表面のパターンを認識し、装置内でのレーザー照射開始位置を定める(XY座標設定)を実施するために使用されるカメラ。
<評価基準>
〇・・・・・不具合なく、SDカメラおよびIRカメラによる位置認識が可能。
×・・・・・高さ認識および/またはパターン認識の精度が悪く、オートマチックモードの装置駆動が不可能となる。
(8) Apparatus visibility evaluation before stealth dicing A silicon wafer and a ring frame were attached to a dicing tape, and camera visibility was confirmed with the following apparatus and evaluated according to the following criteria.
Apparatus used: DAL7360 (SDE05) manufactured by Disco
SD camera: Camera for height adjustment. A camera is focused on the rear surface of the wafer through the dicing tape, and the height of the focus is recognized as the position of the rear surface of the wafer by coordinates within the apparatus control system. The laser irradiation position inside the wafer is determined based on the height of the back surface of the wafer. This laser irradiation positioning operation is continuously repeated during dicing.
IR camera: A camera for pattern recognition of silicon wafers. A camera used to recognize the wafer surface pattern through the dicing tape and determine the laser irradiation start position (XY coordinate setting) within the device.
<Evaluation Criteria>
〇・・・Position recognition by SD camera and IR camera is possible without problems.
x: Accuracy of height recognition and/or pattern recognition is poor, making it impossible to drive the apparatus in automatic mode.

(9)分割適性評価
ダイシングテープにシリコンウエハおよびリングフレームを貼付し、下記の分割条件で、ダイシングテープを介してレーザーを照射してウエハの内部に改質部を形成した。
(分割条件)
使用装置:Disco製 DAL7360(SDE05)
Power:0.25W
デフォーカス量:-2.5um
送り速度:350mm/sec
周波数:80kHz
Pass数:2本(マッピングパス1pass+加工1pass)
シリコンウエハ:直径200mmφ、厚み50μm、チップサイズ:5mm×5mm
その後、エキスパンド装置(Disco製、商品名「DDS-2300」)を用い、エキスパンド量10mm、エキスパンド速度20mm/sec、エキスパンド温度22℃でダイシングテープの周縁部のエキスパンドを行い、シリコンウエハを個片化した。
個片化したチップの断面をデジタル顕微鏡(KEYENCE社製、商品名「VHX-1000」)にて観察し、一定間隔で直線状にレーザーによる改質部が形成されている場合には○、改質部の間隔が不均一であり(改質層抜け)および/または改質部をつないだ線が直線とならない場合(蛇行)を×と評価した。
(9) Dividing suitability evaluation A silicon wafer and a ring frame were attached to a dicing tape, and a modified portion was formed inside the wafer by irradiating a laser through the dicing tape under the following dividing conditions.
(Division condition)
Device used: Disco DAL7360 (SDE05)
Power: 0.25W
Defocus amount: -2.5um
Feeding speed: 350mm/sec
Frequency: 80kHz
Number of passes: 2 (mapping pass 1 pass + processing 1 pass)
Silicon wafer: diameter 200 mmφ, thickness 50 μm, chip size: 5 mm × 5 mm
After that, using an expanding device (manufactured by Disco, trade name "DDS-2300"), the peripheral portion of the dicing tape is expanded at an expansion amount of 10 mm, an expansion speed of 20 mm / sec, and an expansion temperature of 22 ° C. to singulate the silicon wafer. did.
Observe the cross section of the singulated chip with a digital microscope (manufactured by KEYENCE, trade name “VHX-1000”), and if the laser modified portion is formed linearly at regular intervals, ○, modified When the interval between the modified portions was uneven (improved layer missing) and/or when the line connecting the modified portions was not straight (meandering), it was evaluated as x.

[製造例1]活性エネルギー線硬化型粘着剤(1)の作製
アクリル酸2-メトキシエチル100重量部、アクロイルモルホリン27重量部、アクリル酸2-ヒドロキシエチル22重量部を混合して、モノマー組成物を調製した。
次いで、窒素導入管、温度計、攪拌機を備えた反応容器に窒素を導入し、窒素雰囲気下で、酢酸エチル500重量部、上記モノマー組成物149重量部、および、アゾイソブチルニトリル(AIBN)0.2重量部を仕込み、60℃で24時間攪拌した。その後、室温まで冷却して、アクリル系共重合体a1(重量平均分子量:60万)を含有するアクリル系共重合体溶液A1を得た。得られたアクリル系共重合体溶液aに、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート24重量部を添加し反応させて、共重合体中のアクリル酸2-ヒドロキシエチルの側鎖末端OH基にNCO基を付加し、末端に炭素-炭素二重結合を有する重量平均分子量80万のアクリル系共重合体a2を含有するアクリル系共重合体溶液A2を得た。
アクリル系共重合体a2を100重量部含むアクリル系共重合体溶液A2に、架橋剤(日本ポリウレタン工業株式会社、商品名「コロネートL」)3重量部、光重合開始剤(チバ・ジャパン社製、商品名「イルガキュア184」)7重量部、UV効果補助剤(新中村化学工業社製、商品名「NKオリゴU-6LPA」)30重量部を加えて、活性エネルギー線硬化型粘着剤(1)を得た。
[Production Example 1] Preparation of active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive (1) 100 parts by weight of 2-methoxyethyl acrylate, 27 parts by weight of acryloylmorpholine, and 22 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate were mixed to form a monomer composition. prepared the product.
Next, nitrogen was introduced into a reaction vessel equipped with a nitrogen inlet tube, a thermometer, and a stirrer, and 500 parts by weight of ethyl acetate, 149 parts by weight of the above monomer composition, and 0.2 parts by weight of azoisobutylnitrile (AIBN) were mixed under a nitrogen atmosphere. 2 parts by weight were charged and stirred at 60° C. for 24 hours. Then, it was cooled to room temperature to obtain an acrylic copolymer solution A1 containing an acrylic copolymer a1 (weight average molecular weight: 600,000). 24 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added to the obtained acrylic copolymer solution a and reacted to add an NCO group to the side chain terminal OH group of 2-hydroxyethyl acrylate in the copolymer. to obtain an acrylic copolymer solution A2 containing an acrylic copolymer a2 having a weight average molecular weight of 800,000 and having carbon-carbon double bonds at the terminals.
Acrylic copolymer solution A2 containing 100 parts by weight of acrylic copolymer a2, 3 parts by weight of a cross-linking agent (Japan Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name "Coronate L"), a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Japan) , trade name "Irgacure 184") 7 parts by weight, UV effect auxiliary (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name "NK Oligo U-6LPA") 30 parts by weight, active energy ray curable adhesive (1 ).

[製造例2]活性エネルギー線硬化型粘着剤(2)の作製
架橋剤(日本ポリウレタン工業株式会社、商品名「コロネートL」)の配合量を0.6重量部としたこと以外は、製造例1と同様にして、活性エネルギー線硬化型粘着剤(2)を得た。
[Production Example 2] Production of active energy ray-curable adhesive (2) Production example except that the amount of the cross-linking agent (Japan Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name "Coronate L") was 0.6 parts by weight An active energy ray-curable adhesive (2) was obtained in the same manner as in 1.

[製造例3]活性エネルギー線硬化型粘着剤(3)の作製
架橋剤(日本ポリウレタン工業株式会社、商品名「コロネートL」)の配合量を0.025重量部としたこと以外は、製造例1と同様にして、活性エネルギー線硬化型粘着剤(3)を得た。
[Production Example 3] Production of active energy ray-curable adhesive (3) Production example except that the amount of the cross-linking agent (Japan Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name "Coronate L") was 0.025 parts by weight An active energy ray-curable adhesive (3) was obtained in the same manner as in 1.

[製造例4]活性エネルギー線硬化型粘着剤(4)の作製
架橋剤(日本ポリウレタン工業株式会社、商品名「コロネートL」)の配合量を4重量部としたこと以外は、製造例1と同様にして、活性エネルギー線硬化型粘着剤(4)を得た。
[Production Example 4] Production of active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive (4) An active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive (4) was obtained in the same manner.

[製造例5]基材(1)の作製
基材形成材料として、高圧ポリエチレン(PE)(住友化学社製、商品名「スミカセン F213-P」)を用いた。
基材形成材料を押し出し機に投入し、Tダイ溶融共押し出し(押し出し機:ジー・エム・エンジニアリング社製、商品名「GM30-28」/Tダイ:フィードブロック方式;押出温度240℃)を行い、フィルム片面にエンボス処理(表面粗さRa:1.42μm)を行いながら、厚みが100μmのフィルムを得た。なお、層の厚みは、Tダイ出口の形状により制御した。得られたフィルムの両面に対してコロナ処理を行い、基材(1)を得た。なお、エンボス面のRaは株式会社キーエンス社製VK-X150で測定して得られた数値である。
[Production Example 5] Production of Substrate (1) As a substrate forming material, high-pressure polyethylene (PE) (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name “Sumikasen F213-P”) was used.
The substrate-forming material is put into an extruder, and T-die melt co-extrusion (extruder: manufactured by GM Engineering, trade name "GM30-28"/T-die: feed block method; extrusion temperature 240° C.) is performed. A film having a thickness of 100 μm was obtained while performing embossing treatment (surface roughness Ra: 1.42 μm) on one side of the film. The thickness of the layer was controlled by the shape of the T-die exit. Both surfaces of the obtained film were subjected to corona treatment to obtain a substrate (1). The Ra of the embossed surface is a numerical value obtained by measuring with VK-X150 manufactured by Keyence Corporation.

[製造例6]基材(2)の作製
フィルムのエンボス処理面にのみ、コロナ処理を施した以外は、製造例5と同様にして、基材(2)を得た。
[Production Example 6] Production of Substrate (2) A substrate (2) was obtained in the same manner as in Production Example 5, except that only the embossed surface of the film was subjected to corona treatment.

[製造例7]基材(3)の作製
基材形成材料として、高圧ポリエチレン(PE)(住友化学社製、商品名「スミカセン F213-P」)100重量部と、滑剤(三菱ケミカル社製、商品名「アマイドAp-1」)1重量部との混合物を用いた。
基材形成材料を押し出し機に投入し、Tダイ溶融共押し出し(押し出し機:ジー・エム・エンジニアリング社製、商品名「GM30-28」/Tダイ:フィードブロック方式;押出温度240℃)を行い、フィルム片面にエンボス処理(表面粗さRa:1.42μm)を行いながら、厚みが100μmのフィルムを得た。なお、層の厚みは、Tダイ出口の形状により制御した。得られたフィルムのエンボス処理面に対してコロナ処理を行い、基材(3)を得た。
[Production Example 7] Production of base material (3) As a material for forming the base material, 100 parts by weight of high-pressure polyethylene (PE) (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name "Sumikasen F213-P") and a lubricant (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., A mixture with 1 part by weight of "Amide Ap-1" (trade name) was used.
The substrate-forming material is put into an extruder, and T-die melt co-extrusion (extruder: manufactured by GM Engineering, trade name "GM30-28"/T-die: feed block method; extrusion temperature 240° C.) is performed. A film having a thickness of 100 μm was obtained while performing embossing treatment (surface roughness Ra: 1.42 μm) on one side of the film. The thickness of the layer was controlled by the shape of the T-die exit. The embossed surface of the obtained film was subjected to corona treatment to obtain a substrate (3).

[実施例1]
PETセパレーター(厚さ:38μm)のシリコーン処理面に、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤(1)を塗布し、その後、120℃で2分間加熱して、厚さ15μmの粘着剤層を形成した。
ハンドローラーを用いて、基材に上記粘着剤層を転写して、ダイシングテープを得た。なお、基材は、大倉工業社製の「NSOフィルム 100um トウメイ」を用いた。当該フィルムは、一方の面にコロナ処理が施され、エンボス処理は施されていないフィルムである。粘着剤層は、コロナ処理面上に積層した。
得られたダイシングテープを上記評価(1)~(9)に供した。結果を表1に示す。
[Example 1]
The active energy ray-curable adhesive (1) was applied to the silicone-treated surface of a PET separator (thickness: 38 μm), and then heated at 120° C. for 2 minutes to form an adhesive layer with a thickness of 15 μm. .
A dicing tape was obtained by transferring the pressure-sensitive adhesive layer to the substrate using a hand roller. "NSO Film 100um Tomei" manufactured by Okura Kogyo Co., Ltd. was used as the base material. The film is a film that has been corona treated on one side and is not embossed. The adhesive layer was laminated onto the corona treated surface.
The obtained dicing tape was subjected to the above evaluations (1) to (9). Table 1 shows the results.

[実施例2]
活性エネルギー線硬化型粘着剤(1)に代えて、活性エネルギー線硬化型粘着剤(2)を用い、基材として、製造例6で作製した基材(2)を用いたこと以外は、実施例1と同様にしてダイシングテープを得た。粘着剤層は、エンボス処理面上に積層した。
得られたダイシングテープを上記評価(1)~(9)に供した。結果を表1に示す。
[Example 2]
Instead of the active energy ray-curable adhesive (1), the active energy ray-curable adhesive (2) was used, and the substrate (2) prepared in Production Example 6 was used as the substrate. A dicing tape was obtained in the same manner as in Example 1. The adhesive layer was laminated on the embossed surface.
The obtained dicing tape was subjected to the above evaluations (1) to (9). Table 1 shows the results.

[実施例3]
PETセパレーター(厚さ:38μm)のシリコーン処理面に、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤(3)を塗布し、その後、120℃で2分間加熱して、厚さ7μmの粘着剤層aを形成した。
別途、PETセパレーター(厚さ:38μm)のシリコーン処理面に、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤(1)を塗布し、その後、120℃で2分間加熱して、厚さ8μmの粘着剤層bを形成した。
ハンドローラーを用いて、基材(2)に粘着剤層aを転写し、さらに、粘着剤層aに粘着剤層bを転写してダイシングテープ(基材(2)/第1の粘着剤層a/第2の粘着剤層b)を得た。粘着剤層は、エンボス処理面上に積層した。
得られたダイシングテープを上記評価(1)~(9)に供した。結果を表1に示す。
[Example 3]
The active energy ray-curable adhesive (3) is applied to the silicone-treated surface of a PET separator (thickness: 38 μm), and then heated at 120° C. for 2 minutes to form an adhesive layer a with a thickness of 7 μm. did.
Separately, the active energy ray-curable adhesive (1) is applied to the silicone-treated surface of a PET separator (thickness: 38 μm), and then heated at 120 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer b having a thickness of 8 μm. formed.
Using a hand roller, the adhesive layer a is transferred to the base material (2), and the adhesive layer b is transferred to the adhesive layer a to form a dicing tape (base material (2)/first adhesive layer a/Second adhesive layer b) was obtained. The adhesive layer was laminated on the embossed surface.
The obtained dicing tape was subjected to the above evaluations (1) to (9). Table 1 shows the results.

[実施例4]
PETセパレーター(厚さ:38μm)のシリコーン処理面に、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤(3)を塗布し、その後、120℃で2分間加熱して、厚さ7μmの粘着剤層aを形成した。
別途、PETセパレーター(厚さ:38μm)のシリコーン処理面に、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤(4)を塗布し、その後、120℃で2分間加熱して、厚さ8μmの粘着剤層cを形成した。
ハンドローラーを用いて、基材(2)に粘着剤層aを転写し、さらに、粘着剤層aに粘着剤層cを転写してダイシングテープ(基材(2)/第1の粘着剤層a/第2の粘着剤層c)を得た。粘着剤層は、エンボス処理面上に積層した。
得られたダイシングテープを上記評価(1)~(9)に供した。結果を表1に示す。
[Example 4]
The active energy ray-curable adhesive (3) is applied to the silicone-treated surface of a PET separator (thickness: 38 μm), and then heated at 120° C. for 2 minutes to form an adhesive layer a with a thickness of 7 μm. did.
Separately, the active energy ray-curable adhesive (4) is applied to the silicone-treated surface of a PET separator (thickness: 38 μm), and then heated at 120° C. for 2 minutes to form an adhesive layer c having a thickness of 8 μm. formed.
Using a hand roller, the adhesive layer a is transferred to the base material (2), and the adhesive layer c is transferred to the adhesive layer a to form a dicing tape (base material (2) / first adhesive layer a/Second adhesive layer c) was obtained. The adhesive layer was laminated on the embossed surface.
The obtained dicing tape was subjected to the above evaluations (1) to (9). Table 1 shows the results.

[実施例5]
基材(2)に代えて、基材(3)を用いたこと以外は、実施例4と同様にしてダイシングテープを得た。
得られたダイシングテープを上記評価(1)~(9)に供した。結果を表1に示す。
[Example 5]
A dicing tape was obtained in the same manner as in Example 4, except that the base material (3) was used instead of the base material (2).
The obtained dicing tape was subjected to the above evaluations (1) to (9). Table 1 shows the results.

[比較例1]
基材として、製造例5で作製した基材(1)を用いたこと以外は、実施例1と同様にしてダイシングテープを得た。粘着剤層は、エンボス処理面上に積層した。
得られたダイシングテープを上記評価(1)~(9)に供した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
A dicing tape was obtained in the same manner as in Example 1, except that the base material (1) produced in Production Example 5 was used as the base material. The adhesive layer was laminated on the embossed surface.
The obtained dicing tape was subjected to the above evaluations (1) to (9). Table 1 shows the results.

[比較例2]
基材として、製造例5で作製した基材(1)を用いたこと以外は、実施例2と同様にしてダイシングテープを得た。粘着剤層は、エンボス処理面上に積層した。
得られたダイシングテープを上記評価(1)~(9)に供した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
A dicing tape was obtained in the same manner as in Example 2, except that the base material (1) produced in Production Example 5 was used as the base material. The adhesive layer was laminated on the embossed surface.
The obtained dicing tape was subjected to the above evaluations (1) to (9). Table 1 shows the results.

[比較例3]
PETセパレーター(厚さ:38μm)のシリコーン処理面に、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤(3)を塗布し、その後、120℃で2分間加熱して、厚さ5μmの粘着剤層a’を形成した。
別途、PETセパレーター(厚さ:38μm)のシリコーン処理面に、上記活性エネルギー線硬化型粘着剤(4)を塗布し、その後、120℃で2分間加熱して、厚さ10μmの粘着剤層c’を形成した。
ハンドローラーを用いて、基材(2)に粘着剤層a’を転写し、さらに、粘着剤層aに粘着剤層c’を転写してダイシングテープ(基材(2)/第1の粘着剤層a’/第2の粘着剤層c’)を得た。粘着剤層は、エンボス処理面上に積層した。
得られたダイシングテープを上記評価(1)~(9)に供した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 3]
The active energy ray-curable adhesive (3) is applied to the silicone-treated surface of a PET separator (thickness: 38 μm), and then heated at 120° C. for 2 minutes to form an adhesive layer a′ having a thickness of 5 μm. formed.
Separately, the active energy ray-curable adhesive (4) is applied to the silicone-treated surface of a PET separator (thickness: 38 μm), and then heated at 120° C. for 2 minutes to form an adhesive layer c having a thickness of 10 μm. 'formed.
Using a hand roller, the adhesive layer a' is transferred to the base material (2), and the adhesive layer c' is transferred to the adhesive layer a to form a dicing tape (base material (2)/first adhesive An agent layer a'/second adhesive layer c') was obtained. The adhesive layer was laminated on the embossed surface.
The obtained dicing tape was subjected to the above evaluations (1) to (9). Table 1 shows the results.

Figure 0007141924000001
Figure 0007141924000001

表1から明らかなように、本発明のダイシングテープを用いれば、2値化白色面積が特定値以上であることにより、ステルスダイシング工程において、当該ダイシングテープを介したカメラ検出、すなわち、カメラ(例えば、IRカメラ、SDカメラ)による半導体ウエハの表面パターン認識、半導体ウエハ高さ方向の位置検出等を高精度に行うことができる。また、半導体ウエハ内部に改質層を良好に形成することができる。なお、実施例においては、基材のブロッキングを防止すること;ならびに、基材エンボスの排除、粘着剤層弾性率の調整等で、基材と粘着剤層との界面近傍における空隙を生じさせないようにして、ダイシングテープ構成したこと;により、2値化白色面積を大きくすることができている。なお、比較例3においては、基材の表面粗さが比較的小さいが、2値化白色面積が特定値以下であるため、ダイシングの精度に劣ることが示されている。 As is clear from Table 1, if the dicing tape of the present invention is used, the binarized white area is equal to or greater than a specific value, so in the stealth dicing process, camera detection via the dicing tape, that is, a camera (for example, , IR camera, SD camera) can recognize the surface pattern of the semiconductor wafer, detect the position in the height direction of the semiconductor wafer, and the like with high accuracy. Moreover, a modified layer can be satisfactorily formed inside the semiconductor wafer. In the examples, blocking of the base material should be prevented; By constructing the dicing tape, the binarized white area can be increased. In Comparative Example 3, although the surface roughness of the substrate is relatively small, the binarized white area is less than or equal to a specific value, indicating that the dicing accuracy is inferior.

10 基材
20 粘着剤層
100 ダイシングテープ
REFERENCE SIGNS LIST 10 base material 20 adhesive layer 100 dicing tape

Claims (10)

基材と、該基材の片側に配置された粘着剤層とを備え、
ダイシングテープにSiウエハミラー面を圧着した状態で、基材側からレーザー顕微鏡により観察して取得した輝度256階調のグレースケール画像を、最大輝度の55%を閾値として、白色部と黒色部に2値化した時、白色部の面積が、画像面積に対して、80%以上であり、
該基材の一方の面にのみエンボス処理が施され、該エンボス処理面を該粘着剤層側の面とし、該基材の該エンボス処理面の算術平均表面粗さRaが、1.0μm~3μmである、
ダイシングテープ。
comprising a substrate and an adhesive layer disposed on one side of the substrate;
With the Si wafer mirror surface pressed against the dicing tape, a grayscale image with a brightness of 256 levels obtained by observing with a laser microscope from the base material side is used as a threshold value of 55% of the maximum brightness. When binarized, the area of the white part is 80% or more of the image area ,
Only one surface of the substrate is embossed, the embossed surface is the surface on the adhesive layer side, and the arithmetic average surface roughness Ra of the embossed surface of the substrate is 1.0 μm to is 3 μm;
dicing tape.
前記基材の一方の面の濡れ性が、40mN/m以下である、請求項1に記載のダイシングテープ。 2. The dicing tape according to claim 1, wherein the wettability of one surface of said base material is 40 mN/m or less. 濡れ性が40mN/m以下である面を前記粘着剤層とは反対側の面となるようにして、前記基材が配置されている、請求項2に記載のダイシングテープ。 3. The dicing tape according to claim 2, wherein the substrate is arranged such that the surface having a wettability of 40 mN/m or less is the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive layer. 前記基材が、ポリエチレン系樹脂を含む、請求項1から3のいずれかに記載のダイシングテープ。 The dicing tape according to any one of claims 1 to 3, wherein the base material contains a polyethylene resin. 前記基材の少なくとも一方の面が、コロナ処理面である、請求項1から4のいずれかに記載のダイシングテープ。 The dicing tape according to any one of claims 1 to 4, wherein at least one surface of said base material is a corona-treated surface. 前記粘着剤層の22℃における引っ張り弾性率が、0.05MPa~1MPaである、請求項1から5に記載のダイシングテープ。 6. The dicing tape according to claim 1, wherein the adhesive layer has a tensile elastic modulus at 22° C. of 0.05 MPa to 1 MPa. 前記粘着剤層が2層構成であり、
前記基材と、第1の粘着剤層と、第2の粘着剤層とをこの順に備える、請求項1から5に記載のダイシングテープ。
The pressure-sensitive adhesive layer has a two-layer structure,
The dicing tape according to any one of claims 1 to 5, comprising the base material, a first adhesive layer, and a second adhesive layer in this order.
前記第1の粘着剤層の22℃における引っ張り弾性率が、0.05MPa~1MPaである、請求項7に記載のダイシングテープ。 8. The dicing tape according to claim 7, wherein the tensile elastic modulus at 22° C. of the first pressure-sensitive adhesive layer is 0.05 MPa to 1 MPa. 前記第2の粘着剤層の22℃における引っ張り弾性率が、0.1MPa~2MPaである、請求項7または8に記載のダイシングテープ。 9. The dicing tape according to claim 7, wherein the second pressure-sensitive adhesive layer has a tensile elastic modulus at 22° C. of 0.1 MPa to 2 MPa. 前記第1の粘着剤層の厚みが、5μm~468μmである、請求項7から9のいずれかに記載のダイシングテープ。 The dicing tape according to any one of claims 7 to 9, wherein the first adhesive layer has a thickness of 5 µm to 468 µm.
JP2018218225A 2018-02-09 2018-11-21 dicing tape Active JP7141924B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW108103551A TWI763973B (en) 2018-02-09 2019-01-30 Sliced Ribbon
SG10201900958QA SG10201900958QA (en) 2018-02-09 2019-02-01 Dicing tape
KR1020190013251A KR102574149B1 (en) 2018-02-09 2019-02-01 Dicing tape
CN201910107520.5A CN110128958A (en) 2018-02-09 2019-02-02 Cutting belt

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018022139 2018-02-09
JP2018022139 2018-02-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019140378A JP2019140378A (en) 2019-08-22
JP7141924B2 true JP7141924B2 (en) 2022-09-26

Family

ID=67694440

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018218225A Active JP7141924B2 (en) 2018-02-09 2018-11-21 dicing tape

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7141924B2 (en)
KR (1) KR102574149B1 (en)
SG (1) SG10201900958QA (en)
TW (1) TWI763973B (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112521878A (en) * 2019-09-19 2021-03-19 日东电工株式会社 Adhesive tape

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004346277A (en) 2003-05-26 2004-12-09 Tomoegawa Paper Co Ltd Pressure sensitive adhesive sheet
WO2008084021A1 (en) 2007-01-11 2008-07-17 Basf Se Process for making polymer nanocomposites
JP2011018804A (en) 2009-07-09 2011-01-27 Sumitomo Bakelite Co Ltd Film for semiconductor, and method of manufacturing semiconductor device
JP2011223013A (en) 2011-05-27 2011-11-04 Nitto Denko Corp Manufacturing method of dicing die-bonding film
WO2013099778A1 (en) 2011-12-26 2013-07-04 三井・デュポンポリケミカル株式会社 Substrate for stealth dicing film, film for stealth dicing, and method for manufacturing electronic component
JP2015185584A (en) 2014-03-20 2015-10-22 日立化成株式会社 Wafer processing tape

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2694854B2 (en) * 1988-12-16 1997-12-24 光洋化学 株式会社 Adhesive tape
JP2003007646A (en) 2001-06-18 2003-01-10 Nitto Denko Corp Adhesive sheet for dicing and method of manufacturing cut chip
JP2005236082A (en) * 2004-02-20 2005-09-02 Nitto Denko Corp Pressure sensitive adhesive sheet for laser dicing, and its manufacturing method
JP4799205B2 (en) * 2006-02-16 2011-10-26 日東電工株式会社 Active surface-attached dicing adhesive tape or sheet and method of picking up a workpiece cut piece
JP5000370B2 (en) * 2007-04-20 2012-08-15 日東電工株式会社 Adhesive sheet for water jet laser dicing
JP2009064975A (en) * 2007-09-06 2009-03-26 Nitto Denko Corp Dicing adhesive sheet and dicing method
JP4630377B2 (en) * 2009-03-11 2011-02-09 古河電気工業株式会社 Manufacturing method of semiconductor device
JP5490445B2 (en) * 2009-06-05 2014-05-14 日東電工株式会社 Adhesive optical film, production method and image display device thereof, and adhesive coating liquid and production method thereof
TW201207070A (en) * 2010-07-05 2012-02-16 Nitto Denko Corp Active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive for re-release and dicing die-bonding film
JP6261115B2 (en) * 2013-09-19 2018-01-17 日東電工株式会社 Adhesive sheet
JP5978246B2 (en) * 2014-05-13 2016-08-24 日東電工株式会社 Dicing tape-integrated film for semiconductor back surface and method for manufacturing semiconductor device
JP6549902B2 (en) * 2015-05-27 2019-07-24 日東電工株式会社 Dicing die bond film, method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004346277A (en) 2003-05-26 2004-12-09 Tomoegawa Paper Co Ltd Pressure sensitive adhesive sheet
WO2008084021A1 (en) 2007-01-11 2008-07-17 Basf Se Process for making polymer nanocomposites
JP2011018804A (en) 2009-07-09 2011-01-27 Sumitomo Bakelite Co Ltd Film for semiconductor, and method of manufacturing semiconductor device
JP2011223013A (en) 2011-05-27 2011-11-04 Nitto Denko Corp Manufacturing method of dicing die-bonding film
WO2013099778A1 (en) 2011-12-26 2013-07-04 三井・デュポンポリケミカル株式会社 Substrate for stealth dicing film, film for stealth dicing, and method for manufacturing electronic component
JP2015185584A (en) 2014-03-20 2015-10-22 日立化成株式会社 Wafer processing tape

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190096812A (en) 2019-08-20
KR102574149B1 (en) 2023-09-05
TWI763973B (en) 2022-05-11
TW201936832A (en) 2019-09-16
JP2019140378A (en) 2019-08-22
SG10201900958QA (en) 2019-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20040191510A1 (en) Heat-peelable double-faced pressure-sensitive adhesive sheet, method of processing adherend, and electronic part
US20090065133A1 (en) Pressure-sensitive adhesive sheet for dicing and dicing method
JP2008060151A (en) Method of semiconductor wafer back processing, method of substrate back processing, and radiation-curable pressure-sensitive adhesive sheet
JP5406110B2 (en) Adhesive sheet for semiconductor wafer processing
KR102647059B1 (en) Backgrind tape
JP2006188607A (en) Removable adhesive sheet
JP7141924B2 (en) dicing tape
KR102647149B1 (en) Backgrind tape
JP7324023B2 (en) dicing tape
JP2004346296A (en) Radiation-curable water dispersion type acrylic adhesive composition for re-peeling and radiation-curable water dispersion type acrylic adhesive sheet for re-peeling
JP2021050319A (en) Adhesive tape
JP2017005072A (en) Semiconductor wafer protection adhesive sheet
TWI837315B (en) cutting tape
US20240043724A1 (en) Pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor processing
WO2022270008A1 (en) Adhesive sheet for semiconductor element fabrication
CN112521878A (en) Adhesive tape
JP2021138863A (en) Adhesive tape
TW202413576A (en) Pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor processing
CN110128958A (en) Cutting belt
KR20220169929A (en) Pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer processing
CN115148654A (en) Sheet for processing workpiece, diced wafer, composite sheet for forming back surface protection film, and method for producing workpiece processed product

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210705

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220609

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220621

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220816

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220906

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220912

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7141924

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150