JP2003007646A - Adhesive sheet for dicing and method of manufacturing cut chip - Google Patents

Adhesive sheet for dicing and method of manufacturing cut chip

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JP2003007646A
JP2003007646A JP2001183340A JP2001183340A JP2003007646A JP 2003007646 A JP2003007646 A JP 2003007646A JP 2001183340 A JP2001183340 A JP 2001183340A JP 2001183340 A JP2001183340 A JP 2001183340A JP 2003007646 A JP2003007646 A JP 2003007646A
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pressure
sensitive adhesive
dicing
adhesive sheet
parts
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Takeshi Matsumura
健 松村
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Nitto Denko Corp
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Nitto Denko Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dicing adhesive sheet for fixing various kinds of works to be cut by dicing, such as semiconductor components which prevents chipping in dicing and a method of manufacturing cut products of various kinds of works, such as semiconductor components by dicing with use of the dicing adhesive sheet. SOLUTION: The adhesive sheet comprises a viscoelastic layer (A), hardened on at least one side of a base film by an energy beam incident on the base film and an adhesive layer (B), laminated on the viscoelastic layer (A).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体ウエハ、半導
体パッケージ等の半導体部品の各種基盤等を各チップま
たはパッケージに切断分離(ダイシング)する際に、当
該半導体ウエハ等の被切断体を保持するために用いるダ
イシング用粘着シートに関する。さらには当該ダイシン
グ用粘着シートを用いて、半導体ウエハをダイシングし
て、1つ1つのパターン毎の半導体素子に分割したり、
半導体素子を内部に含む種々の半導体パッケージを分割
して、半導体部品等の被切断体の切断片を製造する方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is intended to hold an object to be cut such as a semiconductor wafer or a semiconductor package when cutting or dicing various substrates of semiconductor components into chips or packages. The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing. Further, by using the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, a semiconductor wafer is diced and divided into semiconductor elements for each pattern,
The present invention relates to a method of manufacturing various cut pieces of a cut object such as a semiconductor component by dividing various semiconductor packages including a semiconductor element inside.

【0002】[0002]

【従来の技術】IC等の所定の回路パターンが形成され
た半導体ウエハは、裏面研磨されて例えば0. 1〜0.
4mm厚程度に可及的に薄くされた後、金属粒子分散の
ブレードを回転させる方式などの回転刃によって所定の
チップサイズにダイシング処理される。そのダイシング
処理に際しては、基材フィルムに粘着剤層を積層してな
るダイシング用粘着シートによってウエハを固定し、ダ
イシング用粘着シートの基材部にまで達する切断(5〜
30μm程度)を行って前記ウエハをフルカットする方
法が一般に知られている。
2. Description of the Related Art A semiconductor wafer on which a predetermined circuit pattern such as an IC has been formed is back-polished to, for example, 0.1 to 0.1.
After making the thickness as thin as possible to about 4 mm, dicing is performed to a predetermined chip size with a rotary blade such as a system in which a blade for dispersing metal particles is rotated. In the dicing process, the wafer is fixed by a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, which is formed by laminating a pressure-sensitive adhesive layer on a base film, and cut to reach the base portion of the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing (5 to 5).
A method of performing full-cutting of the wafer by performing a process of about 30 μm) is generally known.

【0003】前記ダイシング処理を行うと、切断された
チップのバックサイドにチッピングと呼ばれるかけ(数
μm〜数mm)が発生することが問題となっている。近
年、ICカードなどの普及に伴って、半導体ウエハ厚の
薄型化、ウエハ表面へのメタル加工処理が進んでおり、
半導体素子のチッピングは、半導体素子の重大な強度低
下を招き、その信頼性を著しく低下させるといった問題
があった。
When the dicing process is performed, a problem called chipping (several μm to several mm) occurs on the back side of the cut chip, which is a problem. In recent years, along with the widespread use of IC cards and the like, the thickness of semiconductor wafers has been reduced, and metal processing on the wafer surface has progressed.
There is a problem that chipping of a semiconductor element causes a significant reduction in strength of the semiconductor element, resulting in a significant decrease in its reliability.

【0004】この問題は、たとえば、特開平10−24
2086号公報に記載されているような特定の粘着剤層
を積層したダイシング用粘着シート用いることにより、
チップのかけを低減できる。しかし、前記ダイシング用
粘着シートによっても、基材フィルムの種類によって
は、チップのバックサイドのかけが大きくなり、不良率
が大幅に増加する問題があった。また、前記問題に対し
てダイシング用粘着シートの粘着剤層を薄くすることが
提案されている。しかし、粘着剤層を薄くすると、裏面
を研削した半導体ウエハやエポキシ樹脂で封止したパッ
ケージ等の表面凹凸のある被切断体を十分に固定するこ
とができない。
This problem is caused by, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 10-24.
By using a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing in which a specific pressure-sensitive adhesive layer is laminated as described in 2086 gazette,
The amount of chips can be reduced. However, even with the dicing pressure-sensitive adhesive sheet, depending on the type of the base film, there is a problem that the backside of the chip becomes large and the defective rate significantly increases. Further, it has been proposed to reduce the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing in order to solve the above-mentioned problems. However, if the pressure-sensitive adhesive layer is made thin, it is not possible to sufficiently fix an object to be cut, such as a semiconductor wafer whose back surface is ground or a package sealed with epoxy resin, which has surface irregularities.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、半導体部品
等の各種被切断体をダイシングする際に固定するための
ダイシング用粘着シートであって、ダイシング時のチッ
ピングを防止できるものを提供すること、さらには当該
ダイシング用粘着シートを用いててダイシングを行い半
導体部品等の各種被切断体の切断物を製造する方法を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, which is used for fixing various cut objects such as semiconductor parts when dicing, and which can prevent chipping during dicing. Further, it is an object of the present invention to provide a method for producing cut pieces of various cut objects such as semiconductor parts by performing dicing using the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、以下に示すダイシング
用粘着シートにより、上記目的を達成できることを見出
し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventors have found that the above-mentioned object can be achieved by the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, and have completed the present invention. It was

【0007】すなわち本発明は、基材フィルムの少なく
とも片面に、基材フィルム側からエネルギー線で硬化さ
れた粘弾性層(A)、次いで粘着剤層(B)がこの順に
積層されていることを特徴とするダイシング用粘着シー
ト、に関する。
That is, according to the present invention, the viscoelastic layer (A) cured by energy rays from the base film side and then the adhesive layer (B) are laminated in this order on at least one side of the base film. A characteristic adhesive sheet for dicing.

【0008】前記ダイシング用粘着シートの粘弾性層
(A)は、粘弾性体がエネルギー線で硬化された硬化物
であり、一般的な粘着剤層(B)よりも硬い層を形成し
ているため半導体部品等の被切断体が変形等を起こしに
くくなる。そして、ダイシング時における切込みを粘弾
性層(A)までにとどめることにより、基材フィルムの
種類にかかわらず、チップのバックサイドにおけるチッ
ピング等の発生を抑えることができ、不良品を生じるこ
となく被切断体を正常に切断できる。一方、粘着剤層
(B)によって粘着性は失われることがないため、ダイ
シング時に半導体部品を固定して、ダイシング時の応力
で切断された部品が飛散することを防止できる。
The viscoelastic layer (A) of the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing is a cured product obtained by curing a viscoelastic body with energy rays, and forms a layer harder than a general pressure-sensitive adhesive layer (B). Therefore, the cut body such as a semiconductor component is less likely to be deformed. By limiting the cuts during dicing to the viscoelastic layer (A), chipping on the backside of the chip can be suppressed regardless of the type of the base material film, and defective products are not produced. The cut body can be cut normally. On the other hand, since the adhesive layer (B) does not lose the adhesiveness, it is possible to fix the semiconductor parts during dicing and prevent the cut parts from scattering due to the stress during dicing.

【0009】前記ダイシング用粘着シートにおいて、エ
ネルギー線で硬化された粘弾性層(A)が、有機粘弾性
体とエネルギー線硬化性化合物との組成物および/また
はエネルギー線硬化性樹脂を含有するエネルギー線硬化
型粘着剤の硬化物により形成することができる。
In the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, the energy ray-cured viscoelastic layer (A) contains an energy containing a composition of an organic viscoelastic body and an energy ray-curable compound and / or an energy ray-curable resin. It can be formed by a cured product of a line-curable pressure-sensitive adhesive.

【0010】前記ダイシング用粘着シートにおいて、エ
ネルギー線で硬化された粘弾性層(A)の23℃におけ
る貯蔵弾性率が1×107 〜1×1010Paの範囲にあ
ることが好ましい。
In the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, the viscoelastic layer (A) cured by energy rays preferably has a storage elastic modulus at 23 ° C. in the range of 1 × 10 7 to 1 × 10 10 Pa.

【0011】前記貯蔵弾性率を有するような粘弾性層
(A)により、チッピングを効果的に抑えられる。前記
貯蔵弾性率が大きくなるとブレードの磨耗量が多くな
り、またチッピング発生率多くなる傾向があることか
ら、前記貯蔵弾性率は、1×1010Pa以下となるもの
がより好ましい。一方、前記貯蔵弾性率が小さくなると
チッピング発生率が多くなる傾向があることから、前記
貯蔵弾性率は、1×107 以上となるものがより好まし
い。
The viscoelastic layer (A) having the storage elastic modulus can effectively suppress chipping. As the storage elastic modulus increases, the amount of blade wear increases and the chipping occurrence rate tends to increase. Therefore, the storage elastic modulus is more preferably 1 × 10 10 Pa or less. On the other hand, as the storage elastic modulus decreases, the chipping occurrence rate tends to increase, so that the storage elastic modulus is more preferably 1 × 10 7 or more.

【0012】前記ダイシング用粘着シートにおいて、エ
ネルギー線で硬化された粘弾性層(A)の厚さが5〜3
00μmであることが好ましい。
In the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, the viscoelastic layer (A) cured by energy rays has a thickness of 5 to 3
It is preferably 00 μm.

【0013】エネルギー線で硬化された粘弾性層(A)
の厚さは、粘着剤層(B)との合計の厚さが、切断刃の
切込み深さよりも厚いことが好ましい。一方、粘弾性層
(A)の厚さが大きすぎるとウエハへの貼付け作業性が
低下する傾向がある。これらの点より、粘弾性層(A)
の厚さは、通常は、5〜300μm、特に10〜100
μm、さらには20〜50μmが好ましい。
Viscoelastic layer (A) cured by energy rays
The total thickness with respect to the pressure-sensitive adhesive layer (B) is preferably larger than the cutting depth of the cutting blade. On the other hand, if the thickness of the viscoelastic layer (A) is too large, the workability of sticking to the wafer tends to deteriorate. From these points, the viscoelastic layer (A)
The thickness is usually 5 to 300 μm, especially 10 to 100
μm, and more preferably 20 to 50 μm.

【0014】前記ダイシング用粘着シートにおいて、粘
弾性層(A)の厚さが、粘着剤層(B)の厚さ以上であ
ることが好ましい。
In the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing, it is preferable that the thickness of the viscoelastic layer (A) is equal to or larger than the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (B).

【0015】チップ切断面の欠け防止やウエハの固定保
持の両立性などの点より粘着剤層(B)の厚みは、粘弾
性層(A)の厚さ以上であるのがよい。粘着剤層(B)
の厚みは、1〜50μm程度、特に2〜30μm、さら
には2〜15μmの厚さであるのが好ましい。
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (B) is preferably equal to or larger than the thickness of the viscoelastic layer (A) from the viewpoints of preventing chipping of the chip cut surface and compatibility of fixing and holding the wafer. Adhesive layer (B)
Is preferably about 1 to 50 μm, particularly 2 to 30 μm, and further preferably 2 to 15 μm.

【0016】さらに本発明は、前記ダイシング用粘着シ
ートの粘着剤層(B)の表面に被切断体を載置して、被
切断体をダイシングする際に、ダイシングによる前記ダ
イシング用粘着シートへの切り込みを粘弾性層(A)ま
でとし、基材フィルムを切断しないことを特徴とする切
断片の製造方法、に関する。
Further, according to the present invention, when the object to be cut is placed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (B) of the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing and the object to be cut is diced, the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing is subjected to the dicing. The present invention relates to a method for producing a cut piece, wherein the cut is made up to the viscoelastic layer (A) and the base film is not cut.

【0017】本発明のダイシング用粘着シートは、粘着
剤層(B)を被切断体である半導体部品等に貼り付け
て、被切断体を固定してダイシングに供されるが、ダイ
シング時にの切り込みは粘弾性層(A)までとすること
で、基材フィルムは切断しなくともよい。そのため、基
材フィルムに係わりなく、チップのバックサイドにおけ
るチッピング等の発生による不良を生じることなく、被
切断体を正常に切断できる。
In the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer (B) is attached to a semiconductor component or the like which is the object to be cut, and the object to be cut is fixed for dicing. The base film does not have to be cut by setting up to the viscoelastic layer (A). Therefore, it is possible to normally cut the object to be cut regardless of the base film, without causing defects such as chipping on the back side of the chip.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明のダイシング用粘着
シートを図1を参照しつつ詳細に説明する。図1に示す
ように、本発明のダイシング用粘着シートは、基材フィ
ルム1上に、粘弾性層(A)が設けられ、次いで粘弾性
層(A)上に粘着剤層(B)が積層されている。また、
必要に応じて、粘着剤層(B)上にはセパレータ2を有
する。図1では、基材フィルム1の片面に粘弾性層
(A)および粘着剤層(B)を有するが、これらは基材
フィルム1の両面に形成することもできる。ダイシング
用粘着シートは基盤やウエハ等の被切断体の平面形状に
対応した形状や連続シートなどの適宜な形態とすること
ができ、またシートを巻いてテープ状とすることもでき
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The pressure-sensitive adhesive sheet for dicing according to the present invention will be described in detail below with reference to FIG. As shown in FIG. 1, in the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing of the present invention, the viscoelastic layer (A) is provided on the base film 1, and then the pressure-sensitive adhesive layer (B) is laminated on the viscoelastic layer (A). Has been done. Also,
If necessary, the separator 2 is provided on the pressure-sensitive adhesive layer (B). In FIG. 1, the viscoelastic layer (A) and the pressure-sensitive adhesive layer (B) are provided on one side of the base film 1, but they can be formed on both sides of the base film 1. The pressure-sensitive adhesive sheet for dicing may have a shape corresponding to the planar shape of a substrate to be cut such as a substrate or a wafer, or may have an appropriate form such as a continuous sheet, or the sheet may be rolled into a tape shape.

【0019】基材フィルム1の材料は、特に制限される
ものではないが、所定以上のエネルギー線を少なくとも
一部透過するものを用いるのが好ましい。またダイシン
グ後のエキスパンディングに耐え得る柔軟性を有してい
るものが好ましい。基材フィルムは、被着体の切断の際
に用いるカッターなどの切断手段に対して、切断性を特
に有していなくてもよい。例えば、低密度ポリエチレ
ン、直鎖状ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度
ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合
ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモ
ポリプロレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン等のポ
リオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオ
ノマー樹脂、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、
エチレン−(メタ)アクリル酸エステル(ランダム、交
互)共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−
ヘキセン共重合体、ポリウレタン、ポリエチレンテレフ
タレートなどのポリエステル、ポリイミド、ポリエーテ
ルエーテルケトン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、フッ素樹脂、セルロース系樹脂及びこれらの架橋体
などのポリマーがあげられる。また、前記ポリマーは単
体で用いてもよく、必要に応じて数種をブレンドしても
よく、また多層構造として用いてもよい。
The material of the base film 1 is not particularly limited, but it is preferable to use a material that transmits at least a part of energy rays of a predetermined level or more. Further, it is preferable to have flexibility that can endure expanding after dicing. The base film may not particularly have a cutting property with respect to cutting means such as a cutter used for cutting the adherend. For example, low-density polyethylene, linear polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, ultra-low-density polyethylene, random copolymer polypropylene, block copolymer polypropylene, homopolypropylene, polybutene, polyolefin such as polymethylpentene, ethylene-acetic acid. Vinyl copolymer, ionomer resin, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer,
Ethylene- (meth) acrylic acid ester (random, alternating) copolymer, ethylene-butene copolymer, ethylene-
Polymers such as hexene copolymers, polyesters such as polyurethane and polyethylene terephthalate, polyimides, polyether ether ketones, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, fluororesins, cellulosic resins and cross-linked products thereof can be mentioned. Further, the polymer may be used alone, or may be blended with several kinds as required, or may be used as a multilayer structure.

【0020】基材フィルム1の厚みは、被切断体への貼
合せ、被切断体の切断、切断片の剥離、回収などの各工
程における操作性や作業性を損なわない範囲で適宜選択
できるが、通常500μm程度以下、好ましくは3〜3
00μm程度、さらに好ましくは5〜250μm程度で
ある。基材フィルム1は、従来より公知の製膜方法によ
り製膜できる。例えば、湿式キャスティング法、インフ
レーション押出し法、Tダイ押出し法などが利用でき
る。基材フィルム1は、無延伸で用いてもよく、必要に
応じて一軸または二軸の延伸処理を施したものを用いて
もよい。また、基材フィルム1の表面には、必要に応じ
てクロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴
露、イオン化放射線処理等の化学的または物理的処理、
下塗剤(例えば、後述する粘着物質)によるコーティン
グ処理が施されていてもよい。
The thickness of the substrate film 1 can be appropriately selected within a range that does not impair operability and workability in each step such as sticking to a cut object, cutting of the cut object, peeling of cut pieces, and recovery. , Usually about 500 μm or less, preferably 3 to 3
The thickness is about 00 μm, more preferably about 5 to 250 μm. The base film 1 can be formed by a conventionally known film forming method. For example, a wet casting method, an inflation extrusion method, a T-die extrusion method or the like can be used. The base film 1 may be used without being stretched, or may be subjected to a uniaxial or biaxial stretching treatment as needed. In addition, the surface of the base material film 1 may be subjected to chemical or physical treatments such as chromic acid treatment, ozone exposure, flame exposure, high piezoelectric bombardment exposure, ionizing radiation treatment, and the like, if necessary.
A coating treatment with an undercoat (for example, an adhesive substance described below) may be applied.

【0021】粘弾性層(A)は、前記の貯蔵弾性率を満
足しうるものが好ましく、たとえば、有機粘弾性体とエ
ネルギー線硬化性化合物との組成物および/またはエネ
ルギー線硬化性樹脂を含有するエネルギー線硬化型粘着
剤をエネルギー線で硬化した硬化物により形成される。
The viscoelastic layer (A) is preferably one which can satisfy the above storage elastic modulus, and contains, for example, a composition of an organic viscoelastic body and an energy ray curable compound and / or an energy ray curable resin. It is formed by a cured product obtained by curing an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive that is cured with energy rays.

【0022】有機粘弾性体は、たとえば、アクリル系や
ゴム系等の各種粘着剤に用いられるるベースポリマーが
あげられる。特に、半導体ウエハへの接着性、剥離後の
ウエハの超純水やアルコール等の適宜な有機溶剤による
清浄洗浄性などの点より、有機粘弾性体としてはアクリ
ル系粘着剤のベースポリマーであるアクリル系ポリマー
が好ましい。
Examples of the organic viscoelastic body include base polymers used for various pressure-sensitive adhesives such as acrylic and rubber. In particular, from the viewpoints of adhesiveness to semiconductor wafers, cleanability of the separated wafers with ultrapure water and appropriate organic solvents such as alcohol, and the like, the organic viscoelastic body is acrylic, which is a base polymer of an acrylic adhesive. Polymers are preferred.

【0023】前記アクリル系ポリマーとしては、例え
ば、例えばメチル基、エチル基、プルピル基、イソプル
ピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、イソブチル基、
アミル基、イソアミル基、へキシル基、ヘプチル基、シ
クロヘキシル基、2 −エチルヘキシル基、オクチル基、
イソオクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、
イソデシル基、ウンデシル基、ラウリル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ステアリル基、オクタデシル基、
ドデシル基等の炭素数1〜30、特に炭素数4〜18の
直鎖または分岐のアルキル基を有する(メタ)アクリル
酸アルキルエステルの1種または2種以上を成分とする
重合体などがあげられる。なお、(メタ)アクリル酸エ
ステルとはアクリル酸エステルおよび/またはメタクリ
ル酸エステルをいい、本発明の(メタ)とは全て同様の
意味である。
Examples of the acrylic polymer include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group, isobutyl group,
Amyl group, isoamyl group, hexyl group, heptyl group, cyclohexyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group,
Isooctyl group, nonyl group, isononyl group, decyl group,
Isodecyl group, undecyl group, lauryl group, tridecyl group, tetradecyl group, stearyl group, octadecyl group,
Examples of the polymer include one or more components of (meth) acrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms such as dodecyl group, and particularly having 4 to 18 carbon atoms. . In addition, (meth) acrylic acid ester means acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester, and (meth) of the present invention has the same meaning.

【0024】前記アクリル系ポリマーは、凝集力、耐熱
性などの改質を目的として、必要に応じ、前記(メタ)
アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な他のモノマ
ー成分に対応する単位を含んでいてもよい。このような
モノマー成分として、例えば、(メタ)アクリル酸、カ
ルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペン
チル(メタ)アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、
フマル酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有モノマ
ー;無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物モ
ノマー;(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、
(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)
アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸
6−ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8−ヒド
ロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10−ヒドロキシ
デシル、(メタ)アクリル酸12−ヒドロキシラウリ
ル、(4−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)メチル
(メタ)アクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマ
ー;スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、2−(メ
タ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、
(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプ
ロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオ
キシナフタレンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノ
マー;2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート
などのリン酸基含有モノマー;アクリルアミド、アクリ
ロニトリルなどがあげられる。これら共重合可能なモノ
マー成分は、1種又は2種以上使用できる。これら共重
合可能なモノマーの使用量は、全モノマー成分の50重
量%以下が好ましい。
The acrylic polymer is used in order to improve cohesive strength, heat resistance, etc., if necessary, as described above.
It may contain units corresponding to other monomer components copolymerizable with the acrylic acid alkyl ester. Examples of such a monomer component include (meth) acrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid,
Carboxyl group-containing monomers such as fumaric acid and crotonic acid; acid anhydride monomers such as maleic anhydride and itaconic anhydride; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate;
2-Hydroxypropyl (meth) acrylate, (meth)
4-hydroxybutyl acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, 12-hydroxylauryl (meth) acrylate, (4- Hydroxy group-containing monomers such as hydroxymethylcyclohexyl) methyl (meth) acrylate; styrenesulfonic acid, allylsulfonic acid, 2- (meth) acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid,
Sulfonic acid group-containing monomers such as (meth) acrylamide propane sulfonic acid, sulfopropyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxynaphthalene sulfonic acid; phosphoric acid group-containing monomers such as 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate; acrylamide, acrylonitrile, etc. can give. These copolymerizable monomer components may be used alone or in combination of two or more. The amount of these copolymerizable monomers used is preferably 50% by weight or less based on the total monomer components.

【0025】さらに、前記アクリル系ポリマーは、架橋
処理を目的に、多官能性モノマーなども、必要に応じて
共重合用モノマー成分として含むことができる。このよ
うな多官能性モノマーとして、例えば、ヘキサンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)
アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエ
ステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリ
レートなどがあげられる。これらの多官能性モノマーも
1種又は2種以上用いることができる。多官能性モノマ
ーの使用量は、粘着特性等の点から、全モノマー成分の
30重量%以下が好ましい。
Further, the acrylic polymer may contain a polyfunctional monomer or the like as a monomer component for copolymerization, if necessary, for the purpose of crosslinking treatment. Examples of such polyfunctional monomers include hexanediol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, Pentaerythritol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate
Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth)
Examples thereof include acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate and the like. These polyfunctional monomers may be used alone or in combination of two or more. The amount of the polyfunctional monomer used is preferably 30% by weight or less of the total monomer components from the viewpoint of adhesive properties and the like.

【0026】前記アクリル系ポリマーは、1種または2
種以上のモノマー混合物を重合に付すことにより得られ
る。重合は、溶液重合、乳化重合、塊状重合、懸濁重合
等の何れの方式で行うこともできる。粘弾性層(A)
は、半導体ウエハ等の汚染防止等の点から、低分子量物
質の含有量が小さいのが好ましい。この点から、アクリ
ル系ポリマーの重量平均分子量は、好ましくは30万以
上、さらに好ましくは40万〜300万程度である。
The acrylic polymer may be of one type or of two types.
It is obtained by subjecting a mixture of one or more monomers to polymerization. The polymerization can be carried out by any method such as solution polymerization, emulsion polymerization, bulk polymerization and suspension polymerization. Viscoelastic layer (A)
From the standpoint of preventing contamination of semiconductor wafers and the like, it is preferable that the content of the low molecular weight substance is small. From this point, the weight average molecular weight of the acrylic polymer is preferably 300,000 or more, more preferably about 400,000 to 3,000,000.

【0027】アクリル系ポリマー等の有機粘弾性体に配
合するエネルギー線硬化性化合物としては、たとえば、
ウレタンオリゴマー、ウレタン(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テ
トラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリストールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエ
リストールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレートな
どがあげられる。またエネルギー線硬化性化合物とし
て、ウレタン系、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポ
リカーボネート系、ポリブタジエン系など種々のオリゴ
マーがあげられ、その分子量が100〜30000程度
の範囲のものが適当である。
Examples of the energy ray-curable compound to be blended with an organic viscoelastic body such as an acrylic polymer include:
Urethane oligomer, urethane (meth) acrylate,
Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate, dipentaerythritol Examples include hexa (meth) acrylate and 1,4-butanediol di (meth) acrylate. Examples of the energy ray-curable compound include various oligomers such as urethane-based, polyether-based, polyester-based, polycarbonate-based, and polybutadiene-based compounds, and those having a molecular weight of about 100 to 30,000 are suitable.

【0028】エネルギー線硬化性化合物の配合量は、ア
クリル系ポリマー等のベースポリマー100重量部に対
して、例えば5〜500重量部、好ましくは40〜15
0重量部程度である。
The amount of the energy ray-curable compound is, for example, 5 to 500 parts by weight, preferably 40 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the base polymer such as an acrylic polymer.
It is about 0 parts by weight.

【0029】また、エネルギー線硬化型粘着剤として
は、ベースポリマーとして、炭素−炭素二重結合をポリ
マー側鎖または主鎖中もしくは主鎖末端に有し、かつ粘
着性を有するエネルギー線硬化性樹脂を含有するものを
特に制限なく使用できる。かかるエネルギー線硬化性樹
脂は単独で使用することができるが、特性を悪化させな
い程度に、前記有機粘弾性体やエネルギー線硬化性化合
物を配合することもできる。
As the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, an energy ray-curable resin having a carbon-carbon double bond as a base polymer in the side chain of the polymer or in the main chain or at the end of the main chain and having an adhesive property Those containing can be used without particular limitation. The energy ray-curable resin can be used alone, but the organic viscoelastic body and the energy ray-curable compound can be blended to the extent that the characteristics are not deteriorated.

【0030】前記エネルギー線硬化性樹脂としては、ア
クリル系ポリマーを基本骨格とするものが好ましい。ア
クリル系ポリマーの基本骨格としては、前記例示のアク
リル系ポリマーがあげられる。
The energy ray curable resin is preferably one having an acrylic polymer as a basic skeleton. Examples of the basic skeleton of the acrylic polymer include the acrylic polymers exemplified above.

【0031】前記アクリル系ポリマーへの炭素−炭素二
重結合の導入法は特に制限されず、様々な方法を採用で
きるが、炭素−炭素二重結合はポリマー側鎖に導入する
のが分子設計が容易である。たとえば、予め、アクリル
系ポリマーに官能基を有するモノマーを共重合した後、
この官能基と反応しうる官能基および炭素−炭素二重結
合を有する化合物を、炭素−炭素二重結合の放射線硬化
性を維持したまま縮合または付加反応させる方法があげ
られる。これら官能基の組合せの例としては、カルボン
酸基とエポキシ基、カルボン酸基とアジリジル基、ヒド
ロキシル基とイソシアネート基などがあげられる。これ
ら官能基の組合せのなかでも反応追跡の容易さから、ヒ
ドロキシル基とイソシアネート基との組合せが好適であ
る。また、これら官能基の組み合わせにより、上記炭素
−炭素二重結合を有するアクリル系ポリマーを生成する
ような組合せであれば、官能基はアクリル系ポリマーと
前記化合物のいずれの側にあってもよいが、前記の好ま
しい組み合わせでは、アクリル系ポリマーがヒドロキシ
ル基を有し、前記化合物がイソシアネート基を有する場
合が好適である。この場合、炭素−炭素二重結合を有す
るイソシアネート化合物としては、たとえば、メタクリ
ロイルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシエチ
ルイソシアネート、m−イソプロペニル−α,α−ジメ
チルベンジルイソシアネートなどがあげられる。また、
アクリル系ポリマーとしては、前記例示のヒドロキシ基
含有モノマーや2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、
4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングル
コールモノビニルエーテルのエーテル系化合物などを共
重合したものが用いられる。
The method of introducing the carbon-carbon double bond into the acrylic polymer is not particularly limited, and various methods can be adopted, but the molecular design is to introduce the carbon-carbon double bond into the side chain of the polymer. It's easy. For example, after previously copolymerizing a monomer having a functional group with an acrylic polymer,
Examples thereof include a method of subjecting a compound having a functional group capable of reacting with this functional group and a carbon-carbon double bond to a condensation or addition reaction while maintaining the radiation-curability of the carbon-carbon double bond. Examples of combinations of these functional groups include a carboxylic acid group and an epoxy group, a carboxylic acid group and an aziridyl group, and a hydroxyl group and an isocyanate group. Among these combinations of functional groups, the combination of a hydroxyl group and an isocyanate group is preferable because the reaction can be easily traced. In addition, the functional group may be on either side of the acrylic polymer and the compound, as long as the combination of these functional groups is a combination that produces the acrylic polymer having the carbon-carbon double bond. In the above preferable combination, it is preferable that the acrylic polymer has a hydroxyl group and the compound has an isocyanate group. In this case, examples of the isocyanate compound having a carbon-carbon double bond include methacryloyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, m-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate and the like. Also,
Examples of the acrylic polymer include the hydroxy group-containing monomer and 2-hydroxyethyl vinyl ether described above,
A copolymer of 4-hydroxybutyl vinyl ether, an ether compound of diethylene glycol monovinyl ether, or the like is used.

【0032】前記粘弾性層(A)の形成に用いるエネル
ギー線硬化型粘着剤には、粘弾性層(A)を紫外線等に
より硬化させる場合には光重合開始剤を含有させる。光
重合開始剤としては、例えば、4−(2−ヒドロキシエ
トキシ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケ
トン、α−ヒドロキシ−α,α´−ジメチルアセトフェ
ノン、2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノン、
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのα
−ケトール系化合物;メトキシアセトフェノン、2,2
−ジメトキシ−2−フェニルアセトフエノン、2,2−
ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−[4−
(メチルチオ)−フェニル]−2−モルホリノプロパン
−1などのアセトフェノン系化合物;べンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソイ
ンメチルエーテルなどのベンゾインエーテル系化合物;
ベンジルジメチルケタールなどのケタール系化合物;2
−ナフタレンスルホニルクロリドなどの芳香族スルホニ
ルクロリド系化合物;1−フェノン−1,1―プロパン
ジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシムなど
の光活性オキシム系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイ
ル安息香酸、3,3′−ジメチル−4−メトキシベンゾ
フェノンなどのベンゾフェノン系化合物;チオキサンソ
ン、2−クロロチオキサンソン、2−メチルチオキサン
ソン、2,4−ジメチルチオキサンソン、イソプロピル
チオキサンソン、2,4−ジクロロチオキサンソン、
2,4−ジエチルチオキサンソン、2,4−ジイソプロ
ピルチオキサンソンなどのチオキサンソン系化合物;カ
ンファーキノン;ハロゲン化ケトン;アシルホスフィノ
キシド;アシルホスフォナートなどがあげられる。
The energy ray-curable pressure-sensitive adhesive used for forming the viscoelastic layer (A) contains a photopolymerization initiator when the viscoelastic layer (A) is cured by ultraviolet rays or the like. Examples of the photopolymerization initiator include 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, α-hydroxy-α, α′-dimethylacetophenone, 2-methyl-2-hydroxypropio. Phenon,
Α such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
-Ketol compound; methoxyacetophenone, 2,2
-Dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-
Diethoxyacetophenone, 2-methyl-1- [4-
Acetophenone compounds such as (methylthio) -phenyl] -2-morpholinopropane-1; Benzoin ether compounds such as benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and anisoin methyl ether;
Ketal compounds such as benzyl dimethyl ketal; 2
-Aromatic sulfonyl chloride compounds such as naphthalene sulfonyl chloride; Photoactive oxime compounds such as 1-phenone-1,1-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime; benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3 Benzophenone compounds such as ′ -dimethyl-4-methoxybenzophenone; thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxane Son,
Thioxanthone compounds such as 2,4-diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; camphorquinone; halogenated ketones; acylphosphinoxides; acylphosphonates.

【0033】光重合開始剤の配合量は、粘着剤を構成す
るアクリル系ポリマー等のベースポリマー100重量部
に対して、反応性を考慮すると0.1重量部以上、さら
には0.5重量部以上とするのが好ましい。また、多く
なると粘着剤の保存性が低下する傾向があるため、15
重量部以下、さらには5重量部以下とするのが好まし
い。
The photopolymerization initiator is blended in an amount of 0.1 parts by weight or more, and further 0.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the base polymer such as an acrylic polymer constituting the pressure-sensitive adhesive, in consideration of reactivity. The above is preferable. If the amount is too large, the preservability of the pressure-sensitive adhesive tends to decrease.
It is preferably not more than 5 parts by weight, more preferably not more than 5 parts by weight.

【0034】前記貯蔵弾性率を満足しうる粘弾性層
(A)の制御は、エネルギー線硬化型粘着剤のベースポ
リマーに貯蔵弾性率の高いものを用い、これに架橋剤を
添加して粘着剤層(A)の架橋密度を制御することによ
り行うことができる。前記架橋剤としては、例えば多官
能イソシアネート系化合物やエポキシ系化合物、メラミ
ン系化合物や金属塩系化合物、金属キレート系化合物や
アミノ樹脂系化合物や過酸化物などがあげられる。架橋
剤を使用する場合、その使用量は特に制限されず、架橋
すべきベースポリマーとのバランスにより、さらには、
粘着剤としての使用用途によって適宜決定される。一般
的には、上記ベースポリマー100重量部に対して、
0.1〜5重量部程度配合するのが好ましい。粘着剤層
(A)の架橋密度の制御は前記例示したエネルギー線硬
化性化合物やエネルギー線硬化性樹脂が有する炭素−炭
素二重結合の割合を適宜に調整することにより行うこと
もできる。
The control of the viscoelastic layer (A) that can satisfy the storage elastic modulus is performed by using a base polymer having a high storage elastic modulus as the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, and adding a crosslinking agent to the base polymer. It can be performed by controlling the crosslink density of the layer (A). Examples of the cross-linking agent include polyfunctional isocyanate compounds, epoxy compounds, melamine compounds, metal salt compounds, metal chelate compounds, amino resin compounds, and peroxides. When using a cross-linking agent, the amount used is not particularly limited, depending on the balance with the base polymer to be cross-linked, further,
It is appropriately determined depending on the intended use as an adhesive. Generally, based on 100 parts by weight of the base polymer,
It is preferable to add about 0.1 to 5 parts by weight. The crosslinking density of the pressure-sensitive adhesive layer (A) can be controlled by appropriately adjusting the ratio of carbon-carbon double bonds contained in the energy ray-curable compound and the energy ray-curable resin exemplified above.

【0035】さらに、粘弾性層(A)を形成するエネル
ギー線硬化型粘着剤には、必要により、前記成分のほか
に、従来公知の各種の粘着付与剤、老化防止剤、可塑
剤、加硫剤などの添加剤を用いてもよい。
Further, the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive for forming the viscoelastic layer (A) may optionally contain, in addition to the above-mentioned components, various conventionally known tackifiers, antioxidants, plasticizers, vulcanizates. You may use additives, such as an agent.

【0036】一方、粘着剤層(B)の形成には、ダイシ
ング用粘着シートの粘着剤層の形成に用いられている各
種の粘着剤を用いることができる。かかる粘着剤として
は、たとえば、前記例示のアクリル系やゴム系等の各種
粘着剤が用いられる。また当該粘着剤には、適宜に前記
架橋剤や添加剤を配合することができる。また、粘着剤
層(B)は、エネルギー線硬化型とすることができる。
粘着剤層(B)をエネルギー線硬化型とした場合には、
ダイシング後のエネルギー線硬化により粘着剤層(B)
の粘着性を低下させることができ、ダイシング後におけ
る粘着シートから被切断体の剥離を容易に行うことがで
きる。エネルギー線硬化型粘着剤は、粘弾性層(A)の
形成に用いたエネルギー線硬化型粘着剤と同様のものを
使用することができる。
On the other hand, for forming the pressure-sensitive adhesive layer (B), various kinds of pressure-sensitive adhesives used for forming the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing can be used. As the pressure-sensitive adhesive, for example, various pressure-sensitive adhesives such as the acrylic type and the rubber type mentioned above are used. In addition, the above-mentioned cross-linking agent and additives can be appropriately added to the pressure-sensitive adhesive. Further, the pressure-sensitive adhesive layer (B) can be an energy ray-curable type.
When the pressure-sensitive adhesive layer (B) is an energy ray-curable type,
Adhesive layer (B) by energy ray curing after dicing
It is possible to reduce the adhesiveness of the above, and it is possible to easily peel off the cut object from the adhesive sheet after dicing. As the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, the same energy ray-curable pressure-sensitive adhesive used for forming the viscoelastic layer (A) can be used.

【0037】なお、粘着剤層(B)の接着力(エネルギ
ー線硬化型粘着剤の場合にはエネルギー線照射前の接着
力)は、ウエハ固定保持力や形成したチップの回収性な
どの点より、シリコンウエハ等の被切断体に対する常温
(23℃)での接着力(9 0度ピール値、剥離速度30
0mm/分)が、20N/20mm以下、特に0. 00
1〜10N/20mm、さらには0. 01〜8N/20
mmであるのが好ましい。
The adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer (B) (in the case of an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, the adhesive force before irradiation with energy rays) is determined from the standpoints of wafer fixing / holding force and collectability of formed chips. Adhesive strength (90 degree peel value, peeling speed 30
0 mm / min) is 20 N / 20 mm or less, especially 0.00
1-10N / 20mm, and further 0.01-8N / 20
It is preferably mm.

【0038】本発明のダイシング用粘着シートの作製
は、たとえば、基材フィルム1に、エネルギー線硬化型
粘着剤を塗布し、さらに紫外線、電子線等のエネルギー
線等を照射して粘弾性層(A)を形成した後、次いで粘
着剤を塗工してそれを加熱処理して粘着剤層(B)を形
成するなどの方法により形成することができる。また、
別途、粘着剤層(B)をセパレータ2に形成した後、こ
れを粘弾性層(A)に貼り合せる方法等を採用すること
ができる。
The production of the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing of the present invention is carried out, for example, by coating the base film 1 with an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive and further irradiating it with energy rays such as ultraviolet rays and electron rays. After forming A), it can be formed by a method of applying a pressure-sensitive adhesive and heat-treating it to form the pressure-sensitive adhesive layer (B). Also,
Separately, a method of forming the pressure-sensitive adhesive layer (B) on the separator 2 and then laminating it on the viscoelastic layer (A) can be adopted.

【0039】ダイシング用粘着シートの粘着剤層(B)
には、保管時や流通時における汚染防止等の点から半導
体ウエハなどの被切断物に接着するまでの間、前記セパ
レータ2により被覆保護することが好ましい。セパレー
タ2の構成材料としては、紙、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリエチレンテレフタレート等の合成樹脂フィ
ルム等があげられる。セパレータ2の表面には、粘着剤
層(B)からの剥離性を高めるため、必要に応じてシリ
コーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の離型処
理が施されていても良い。セパレータ2の厚みは、通常
10〜200μm、好ましくは25〜100μm程度で
ある。
Pressure-sensitive adhesive layer (B) of pressure-sensitive adhesive sheet for dicing
In terms of prevention of contamination during storage and distribution, it is preferable that the separator 2 covers and protects the semiconductor wafer before adhering to an object to be cut such as a semiconductor wafer. Examples of the constituent material of the separator 2 include paper, synthetic resin films such as polyethylene, polypropylene, and polyethylene terephthalate. The surface of the separator 2 may be subjected to release treatment such as silicone treatment, long-chain alkyl treatment, and fluorine treatment, if necessary, in order to enhance the peelability from the pressure-sensitive adhesive layer (B). The thickness of the separator 2 is usually 10 to 200 μm, preferably about 25 to 100 μm.

【0040】また、ダイシング用粘着シートには、被切
断体への接着時や剥離時等における静電気の発生やそれ
による半導体ウエハ等の帯電によって回路が破壊される
ことなどを防止する目的で帯電防止能をもたせることも
できる。帯電防止能の付与は基材フィルムないし電荷移
動錯体や金属膜等からなる導電層の付設などの各種方式
で行うことができ、半導体ウエハを変質させるおそれの
ある不純物イオンが発生しにくい方式が好ましい。
Further, the adhesive sheet for dicing has an antistatic property for the purpose of preventing static electricity from being generated at the time of adhering to or peeling from the object to be cut and the circuit from being destroyed due to electrification of a semiconductor wafer or the like. It can also be given a noh. The antistatic ability can be imparted by various methods such as attaching a base film or a conductive layer composed of a charge transfer complex or a metal film, etc., and a method in which impurity ions that may alter the quality of a semiconductor wafer are less likely to be generated is preferable. .

【0041】本発明のダイシング用粘着シートは、粘着
剤層(B)の表面に被切断体を載置して、常法に従って
ダイシングに供される。ダイシング工程は、ブレードを
高速回転させ、被切断体を所定のサイズに切断する。ダ
イシングによる切込みは、粘弾性層(A)までとして、
基材フィルム1までは切込みを行なわない。
The pressure-sensitive adhesive sheet for dicing of the present invention is subjected to dicing according to a conventional method by placing an object to be cut on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (B). In the dicing step, the blade is rotated at high speed to cut the object to be cut into a predetermined size. The cutting by dicing is up to the viscoelastic layer (A),
No cut is made up to the base film 1.

【0042】[0042]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。な、各例中の部は重量部である。
The present invention will be described in more detail based on the following examples, but the invention is not intended to be limited by these examples. The parts in each example are parts by weight.

【0043】実施例1 (粘弾性層(A)の形成)アクリル酸メチル70部、ア
クリル酸ブチル30部およびアクリル酸5部からなる混
合モノマーを、2 ,2 ′−アゾビスイソブチロニトリル
0.1部の存在下にトルエン中で共重合して、重量平均
分子量80万のアクリル系ポリマー溶液を得た。このア
クリル系共重合ポリマー溶液100部(固形分)に対
し、ウレタンオリゴマー70部、多官能イソシアネート
化合物5部およびアセトフェノン系光重合開始剤3部を
加えてエネルギー線硬化型粘着剤を調製した。
Example 1 (Formation of viscoelastic layer (A)) 2,2'-azobisisobutyronitrile was mixed with 70 parts of methyl acrylate, 30 parts of butyl acrylate and 5 parts of acrylic acid to prepare a mixed monomer. Copolymerization in toluene in the presence of 1 part to give an acrylic polymer solution having a weight average molecular weight of 800,000. An energy ray-curable pressure-sensitive adhesive was prepared by adding 70 parts of a urethane oligomer, 5 parts of a polyfunctional isocyanate compound and 3 parts of an acetophenone photopolymerization initiator to 100 parts (solid content) of this acrylic copolymer polymer solution.

【0044】厚さ50μmのポリエチレンテレフタレー
トの片面(処理面)に、前記エネルギー線硬化型粘着剤
を塗工し、80W/cm2 高圧水銀灯の下で60秒間放
置して紫外線処理し、厚さ30μmの粘弾性層(A)を
形成した。なお、粘弾性層(A)の23℃における貯蔵
弾性率は3×108 Paであった。貯蔵弾性率は、レオ
メトリック社製、粘弾性スぺクトロメータ(トーション
法)にて、周波数1Hzにおける測定値である。
One side (treated side) of polyethylene terephthalate having a thickness of 50 μm was coated with the above energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, and was left under a high pressure mercury lamp of 80 W / cm 2 for 60 seconds to be treated with ultraviolet rays to give a thickness of 30 μm. Viscoelastic layer (A) was formed. The storage elastic modulus of the viscoelastic layer (A) at 23 ° C. was 3 × 10 8 Pa. The storage elastic modulus is a measured value at a frequency of 1 Hz using a viscoelastic spectrometer (torsion method) manufactured by Rheometrics.

【0045】(粘着剤層(B)の形成:ダイシング用粘
着テープの作製)アクリル酸n−ブチル100部および
アクリル酸5部からなる混合モノマーを、2 ,2 ′−ア
ゾビスイソブチロニトリル0.1部の存在下にトルエン
中で共重合して重量平均分子量80万のアクリル系共重
合ポリマーを含有する溶液を得た。このアクリル系共重
合ポリマー溶液100部(固形分)に対し、多官能イソ
シアネート化合物5部を加えてアクリル系粘着剤を調製
した。
(Formation of Adhesive Layer (B): Preparation of Adhesive Tape for Dicing) A mixed monomer consisting of 100 parts of n-butyl acrylate and 5 parts of acrylic acid was mixed with 2,2'-azobisisobutyronitrile 0 Copolymerization in toluene in the presence of 1 part to give a solution containing an acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 800,000. An acrylic pressure-sensitive adhesive was prepared by adding 5 parts of a polyfunctional isocyanate compound to 100 parts (solid content) of this acrylic copolymer polymer solution.

【0046】前記粘弾性層(A)上に、前記アクリル系
粘着剤を塗工し、130℃で3分間加熱して、厚さ5μ
mの粘着剤層(B)を形成してダイシング用粘着シート
を作製した。
The acrylic adhesive is applied onto the viscoelastic layer (A) and heated at 130 ° C. for 3 minutes to give a thickness of 5 μm.
A pressure-sensitive adhesive layer (B) of m was formed to prepare a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing.

【0047】実施例2 (粘弾性層(A)の形成)アクリル酸ブチル90部、ア
クリロニトリル5部およびアクリル酸5部からなる混合
モノマーを2 ,2 ′−アゾビスイソブチロニトリル0.
1部の存在下にトルエン中で共重合して、重量平均分子
量60万のアクリル系ポリマー溶液を得た。このアクリ
ル系共重合ポリマー溶液100部(固形分)に対し、ウ
レタンオリゴマー50部、多官能イソシアネート化合物
5部およびアセトフェノン系光重合開始剤5部を加えて
エネルギー線硬化型粘着剤を調製した。
Example 2 (Formation of the viscoelastic layer (A)) A mixed monomer consisting of 90 parts of butyl acrylate, 5 parts of acrylonitrile and 5 parts of acrylic acid was mixed with 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.2 part).
Copolymerization in toluene in the presence of 1 part to obtain an acrylic polymer solution having a weight average molecular weight of 600,000. An energy ray-curable pressure-sensitive adhesive was prepared by adding 50 parts of a urethane oligomer, 5 parts of a polyfunctional isocyanate compound and 5 parts of an acetophenone photopolymerization initiator to 100 parts (solid content) of the acrylic copolymer solution.

【0048】厚さ70μmの高密度ポリエチレンフィル
ムの片面(処理面)に、前記エネルギー線硬化型粘着剤
を塗工し、80W/cm2 高圧水銀灯の下で60秒間放
置して紫外線処理し、厚さ30μmの粘弾性層(A)を
形成した。粘弾性層(A)の23℃における貯蔵弾性率
は4×107 Paであった。
On one side (treated side) of a high-density polyethylene film having a thickness of 70 μm, the above-mentioned energy ray-curable pressure-sensitive adhesive was applied, and it was left under a high pressure mercury lamp of 80 W / cm 2 for 60 seconds to be treated with ultraviolet rays to obtain a thickness. A viscoelastic layer (A) having a thickness of 30 μm was formed. The storage elastic modulus of the viscoelastic layer (A) at 23 ° C. was 4 × 10 7 Pa.

【0049】(粘着剤層(B)の形成:ダイシング用粘
着テープの作製)前記粘弾性層(A)上に、実施例1と
同様のアクリル系粘着剤を塗工し、130℃で3分間加
熱して、厚さ5μmの粘着剤層(B)を形成してダイシ
ング用粘着シートを作製した。
(Formation of pressure-sensitive adhesive layer (B): preparation of pressure-sensitive adhesive tape for dicing) The same acrylic pressure-sensitive adhesive as in Example 1 was coated on the viscoelastic layer (A), and the pressure-sensitive adhesive layer was dried at 130 ° C. for 3 minutes. By heating, a pressure-sensitive adhesive layer (B) having a thickness of 5 μm was formed to produce a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing.

【0050】実施例3 (粘弾性層(A)の形成)アクリル酸ブチル90部、ア
クリロニトリル5部およびアクリル酸5部からなる混合
モノマーを2 ,2 ′−アゾビスイソブチロニトリル0.
1部の存在下にトルエン中で共重合して、重量平均分子
量50万のアクリル系ポリマー溶液を得た。このアクリ
ル系共重合ポリマー溶液100部(固形分)に対し、多
官能アクリルモノマー10部、多官能イソシアネート化
合物5部およびアセトフェノン系光重合開始剤10部を
加えてエネルギー線硬化型粘着剤を調製した。
Example 3 (Formation of viscoelastic layer (A)) A mixed monomer consisting of 90 parts of butyl acrylate, 5 parts of acrylonitrile and 5 parts of acrylic acid was mixed with 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.1 part).
Copolymerization in toluene was carried out in the presence of 1 part to obtain an acrylic polymer solution having a weight average molecular weight of 500,000. An energy ray-curable pressure-sensitive adhesive was prepared by adding 10 parts of a polyfunctional acrylic monomer, 5 parts of a polyfunctional isocyanate compound and 10 parts of an acetophenone photopolymerization initiator to 100 parts (solid content) of the acrylic copolymer solution. .

【0051】厚さ110μmの軟費ポリ塩化ビニルの片
面(処理面)に、前記エネルギー線硬化型粘着剤を塗工
し、80W/cm2 高圧水銀灯の下で60秒間放置して
紫外線処理し、厚さ30μmの粘弾性層(A)を形成し
た。粘弾性層(A)の23℃における貯蔵弾性率は5×
109 Paであった。
One side (treated surface) of soft polyvinyl chloride having a thickness of 110 μm was coated with the above-mentioned energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, and was left under a high pressure mercury lamp of 80 W / cm 2 for 60 seconds to be treated with ultraviolet rays. A viscoelastic layer (A) having a thickness of 30 μm was formed. Storage elastic modulus of the viscoelastic layer (A) at 23 ° C. is 5 ×
It was 10 9 Pa.

【0052】(粘着剤層(B)の形成:ダイシング用粘
着テープの作製)アクリル酸メチル70部、アクリル酸
ブチル30部およびアクリル酸5部からなる混合モノマ
ーを2 ,2 ′−アゾビスイソブチロニトリル0.1部の
存在下にをトルエン中で共重合し重量平均分子量80万
のアクリル系共重合ポリマーを得た。このアクリル系共
重合ポリマー溶液100部(固形分)に対し、ウレタン
オリゴマー70部、多官能イソシアネート化合物5部お
よびアセトフェノン系光重合開始剤5部を加えてエネル
ギー線硬化型粘着剤を調製した。
(Formation of pressure-sensitive adhesive layer (B): preparation of pressure-sensitive adhesive tape for dicing) 2,2'-azobisisobutyrate was mixed with a mixed monomer consisting of 70 parts of methyl acrylate, 30 parts of butyl acrylate and 5 parts of acrylic acid. Copolymerization was carried out in toluene in the presence of 0.1 part of ronitrile to obtain an acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 800,000. An energy ray-curable pressure-sensitive adhesive was prepared by adding 70 parts of a urethane oligomer, 5 parts of a polyfunctional isocyanate compound, and 5 parts of an acetophenone photopolymerization initiator to 100 parts (solid content) of the acrylic copolymer solution.

【0053】前記粘弾性層(A)上に、前記エネルギー
線硬化型粘着剤を塗工し、130℃で3分間加熱して、
厚さ5μmの粘着剤層(B)を形成してダイシング用粘
着シートを作製した。
On the viscoelastic layer (A), the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive is applied and heated at 130 ° C. for 3 minutes,
A pressure-sensitive adhesive layer (B) having a thickness of 5 μm was formed to prepare a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing.

【0054】実施例4 (粘弾性層(A)の形成)アクリル酸ブチル90部、ア
クリロニトリル5部およびアクリル酸5部からなる混合
モノマーを2 ,2 ′−アゾビスイソブチロニトリル0.
1部の存在下にトルエン中で共重合して、重量平均分子
量50万のアクリル系ポリマー溶液を得た。このアクリ
ル系共重合ポリマー溶液100部(固形分)に対し、多
官能アクリルモノマー10部、多官能イソシアネート化
合物5部およびアセトフェノン系光重合開始剤5部を加
えてエネルギー線硬化型粘着剤を調整した。
Example 4 (Formation of viscoelastic layer (A)) A mixed monomer consisting of 90 parts of butyl acrylate, 5 parts of acrylonitrile and 5 parts of acrylic acid was mixed with 2,2'-azobisisobutyronitrile (0.1 part).
Copolymerization in toluene was carried out in the presence of 1 part to obtain an acrylic polymer solution having a weight average molecular weight of 500,000. An energy ray-curable pressure-sensitive adhesive was prepared by adding 10 parts of a polyfunctional acrylic monomer, 5 parts of a polyfunctional isocyanate compound and 5 parts of an acetophenone photopolymerization initiator to 100 parts (solid content) of the acrylic copolymer solution. .

【0055】厚さ70μmの高密度ポリエチレンフィル
ムの片面(処理面)に、前記エネルギー線硬化型粘着剤
を塗工し、80W/cm2 高圧水銀灯の下で60秒間放
置して紫外線処理し、厚さ30μmの粘弾性層(A)を
形成した。粘弾性層(A)の23℃における貯蔵弾性率
は8×108 Paであった。
One side (treated side) of a high-density polyethylene film having a thickness of 70 μm was coated with the above-mentioned energy ray-curable pressure-sensitive adhesive and left under a high pressure mercury lamp of 80 W / cm 2 for 60 seconds to be treated with ultraviolet rays to obtain a thick layer. A viscoelastic layer (A) having a thickness of 30 μm was formed. The storage elastic modulus of the viscoelastic layer (A) at 23 ° C. was 8 × 10 8 Pa.

【0056】(粘着剤層(B)の形成:ダイシング用粘
着テープの作製)アクリル酸エチル50部、アクリル酸
ブチル50部および2−ヒドロキシエチルアクリレート
16部からなる混合モノマーを2 ,2 ′−アゾビスイソ
ブチロニトリル0.1部の存在下にトルエン中で共重合
して重量平均分子量50万のアクリル系共重合ポリマー
を得た。続いてこのアクリル系共重合ポリマーに対し、
2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート20部
を付加反応させて、ポリマー分子内側鎖に炭素−炭素二
重結合を導入した。このポリマー100重量部(固形
分)に対して、さらに多官能イソシアネート化合物1部
およびアセトフェノン系光重合開始剤3部を加えてエネ
ルギー線硬化型粘着剤を調製した。
(Formation of adhesive layer (B): Preparation of adhesive tape for dicing) 2,2'-azo was used as a mixed monomer consisting of 50 parts of ethyl acrylate, 50 parts of butyl acrylate and 16 parts of 2-hydroxyethyl acrylate. By copolymerization in toluene in the presence of 0.1 part of bisisobutyronitrile, an acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 500,000 was obtained. Then, for this acrylic copolymer,
20 parts of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was subjected to an addition reaction to introduce a carbon-carbon double bond into the inner chain of the polymer molecule. An energy ray-curable pressure-sensitive adhesive was prepared by further adding 1 part of a polyfunctional isocyanate compound and 3 parts of an acetophenone photopolymerization initiator to 100 parts by weight (solid content) of this polymer.

【0057】前記粘弾性層(A)上に、前記エネルギー
線硬化型粘着剤を塗工し、130℃で3分間加熱して、
厚さ5μmの粘着剤層(B)を形成してダイシング用粘
着シートを作製した。
On the viscoelastic layer (A), the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive was applied and heated at 130 ° C. for 3 minutes,
A pressure-sensitive adhesive layer (B) having a thickness of 5 μm was formed to prepare a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing.

【0058】比較例1 実施例1において、粘弾性層(A)を形成しなかったこ
と以外は実施例1と同様にしてダイシング用粘着シート
を作製した。
Comparative Example 1 A pressure-sensitive adhesive sheet for dicing was produced in the same manner as in Example 1 except that the viscoelastic layer (A) was not formed.

【0059】比較例2 実施例2において、粘弾性層(A)を形成しなかったこ
と以外は実施例2と同様にしてダイシング用粘着シート
を作製した。
Comparative Example 2 A pressure-sensitive adhesive sheet for dicing was produced in the same manner as in Example 2 except that the viscoelastic layer (A) was not formed.

【0060】比較例3 実施例3において、粘弾性層(A)を形成しなかったこ
と以外は実施例3と同様にしてダイシング用粘着シート
を作製した。
Comparative Example 3 An adhesive sheet for dicing was produced in the same manner as in Example 3 except that the viscoelastic layer (A) was not formed.

【0061】(評価試験)実施例及び比較例で得られた
ダイシング用粘着シートを下記の方法により評価した。
結果を表1に示す。
(Evaluation test) The pressure-sensitive adhesive sheets for dicing obtained in Examples and Comparative Examples were evaluated by the following methods.
The results are shown in Table 1.

【0062】回路パターンを形成した直径4インチの半
導体ウエハを裏面研磨処理して厚さ0.15mmとした
ものを、実施例および比較例で得られたダイシング用粘
着シートで接着固定した。それをダイシング装置(ディ
スコ社製,DFD−651)にて、ダイシング速度10
0mm/秒、ダイシングブレード(ディスコ社製、20
50HFDD)の回転数40000rpmで、ダイシン
グ用粘着シートの切込み深さ30μmの条件でフルカッ
トし、3mm×3mmのチップに切断した。
A 4-inch diameter semiconductor wafer having a circuit pattern formed thereon was subjected to a back surface polishing treatment to a thickness of 0.15 mm, and the adhesive sheet for dicing obtained in each of Examples and Comparative Examples was bonded and fixed. Using a dicing device (Disco, DFD-651), dicing speed 10
0 mm / sec, dicing blade (manufactured by DISCO, 20
50 HFDD) at a rotation speed of 40,000 rpm, full cutting was performed under the condition that the cutting depth of the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing was 30 μm, and cut into 3 mm × 3 mm chips.

【0063】(チッピング)ダイシング後、任意の半導
体チップ(被切断体)1000個をピックアップ(剥
離)し、半導体チップ側面のチッピングを観察した。
0.075mmの3角のチッピングの観察されたものを
不良として、その割合を算出した。
(Chipping) After dicing, 1000 arbitrary semiconductor chips (cut objects) were picked up (peeled) and the chipping on the side surface of the semiconductor chip was observed.
The observed ratio of 0.075 mm triangle chipping was regarded as defective, and the ratio was calculated.

【0064】[0064]

【表1】 表1から、実施例のように、粘弾性層(A)と粘着剤層
(B)を積層したダイシング用粘着シートを用い、ダイ
シングの切り込み深さを粘弾性層(A)までにとどめる
ことにより、チッピングの発生を抑えられることが認め
られる。
[Table 1] From Table 1, as in Examples, by using the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing in which the viscoelastic layer (A) and the pressure-sensitive adhesive layer (B) were laminated, the cutting depth of dicing was limited to the viscoelastic layer (A). It is recognized that the occurrence of chipping can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ダイシング用粘着シートの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:基材フィルム A:粘弾性層(A) B:粘着剤層(B) 2:セパレータ 1: Base film A: Viscoelastic layer (A) B: Adhesive layer (B) 2: Separator

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材フィルムの少なくとも片面に、基材
フィルム側からエネルギー線で硬化された粘弾性層
(A)、次いで粘着剤層(B)がこの順に積層されてい
ることを特徴とするダイシング用粘着シート。
1. A viscoelastic layer (A) cured by energy rays from the side of the base film, and then an adhesive layer (B) are laminated in this order on at least one side of the base film. Adhesive sheet for dicing.
【請求項2】 エネルギー線で硬化された粘弾性層
(A)が、有機粘弾性体とエネルギー線硬化性化合物と
の組成物および/またはエネルギー線硬化性樹脂を含有
するエネルギー線硬化型粘着剤の硬化物であることを特
徴とする請求項1記載のダイシング用粘着シート。
2. An energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, wherein the energy ray-cured viscoelastic layer (A) contains a composition of an organic viscoelastic body and an energy ray-curable compound and / or an energy ray-curable resin. The pressure-sensitive adhesive sheet for dicing according to claim 1, which is a cured product of the above.
【請求項3】 エネルギー線で硬化された粘弾性層
(A)の23℃における貯蔵弾性率が1×107 〜1×
1010Paの範囲にあることを特徴とする請求項1また
は2記載のダイシング用粘着シート。
3. A storage elastic modulus at 23 ° C. of the viscoelastic layer (A) cured by energy rays is 1 × 10 7 to 1 ×.
The pressure-sensitive adhesive sheet for dicing according to claim 1, which is in a range of 10 10 Pa.
【請求項4】 エネルギー線で硬化された粘弾性層
(A)の厚さが5〜300μmであることを特徴とする
請求項1〜3のいずれかに記載のダイシング用粘着シー
ト。
4. The pressure-sensitive adhesive sheet for dicing according to claim 1, wherein the viscoelastic layer (A) cured by energy rays has a thickness of 5 to 300 μm.
【請求項5】 エネルギー線で硬化された粘弾性層
(A)の厚さが、粘着剤層(B)の厚さ以上であること
を特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のダイシン
グ用粘着シート。
5. The energy ray-cured viscoelastic layer (A) has a thickness equal to or greater than the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (B). Adhesive sheet for dicing.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載のダイシ
ング用粘着シートの粘着剤層(B)の表面に被切断体を
載置して、被切断体をダイシングする際に、ダイシング
による前記ダイシング用粘着シートへの切り込みを粘弾
性層(A)までとし、基材フィルムを切断しないことを
特徴とする切断片の製造方法。
6. The dicing is performed when a body to be cut is placed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (B) of the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing according to claim 1 and the body to be cut is diced. A method for producing a cut piece, wherein the cut to the pressure-sensitive adhesive sheet for dicing is up to the viscoelastic layer (A) and the base film is not cut.
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