JP2006188607A - Removable adhesive sheet - Google Patents

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Keisuke Watanabe
敬介 渡辺
Masashi Yamamoto
昌司 山本
Toshiaki Shintani
寿朗 新谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a removable adhesive sheet having excellent adhesiveness, peelability and restorability. <P>SOLUTION: This removable adhesive sheet 11 having a substrate 12 comprising a flexible vinyl chloride polymer and an adhesive layer 14 disposed on at least one side of the substrate 12 is characterized by disposing an intermediate layer 13 comprising a biaxially oriented polyester film between the substrate 12 and the adhesive layer 14, and satisfying expressions: (thickness of the substrate 12)/(thickness of the intermediate layer 13)≥30 and (thickness of the intermediate layer 13)≤5 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、再剥離型の粘着剤層が設けられている再剥離型粘着シートに関し、特に電子部品の製造過程に於いて被加工物を切断等の加工をする際に、該被加工物を仮固定する為に用いる再剥離型粘着シートに関する。   The present invention relates to a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet provided with a re-peelable pressure-sensitive adhesive layer, and particularly when the work piece is processed during cutting or the like in the manufacturing process of an electronic component. The present invention relates to a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet used for temporary fixing.

近年、シリコン、ゲルマニウム、ガリウムヒ素などの半導体ウェハの大型化や、ICカード用途等で半導体ウェハの薄型化が進んでいる。半導体ウェハの薄型化は、通常、半導体ウェハ表面に保護シート(バックグラインドテープ)を貼り付けて裏面を研削することにより行われる。ここで、半導体ウェハの薄型加工後に発生する反りを防止する目的から、前記の保護シートに貼付け後の応力緩和性に優れた軟質塩化ビニルフィルムが用いられる場合がある。   In recent years, semiconductor wafers such as silicon, germanium, and gallium arsenide have been increased in size, and semiconductor wafers have been made thinner for IC card applications. Thinning of a semiconductor wafer is usually performed by attaching a protective sheet (back grind tape) to the surface of the semiconductor wafer and grinding the back surface. Here, for the purpose of preventing warpage occurring after thin processing of a semiconductor wafer, a soft vinyl chloride film having excellent stress relaxation properties after being attached to the protective sheet may be used.

また、これらの半導体ウェハは予め粘着シートに貼り付けされた状態でダイシング、洗浄、乾燥、エキスパンド、ピックアップ、マウンティングの各工程が行われる。この様な半導体ウェハのダイシング工程で用いられる半導体ウェハ保持用粘着シート(ダイシングテープ)として、近年、ダイシング工程からエキスパンド工程にいたる製造プロセスに於いては十分な粘着力を有し、かつ、ピックアップ工程に於いては粘着剤がチップに付着しない程度の粘着力を有する粘着シートが望まれている。この場合に於いても、応力緩和性、エキスパンド工程に於ける伸長性、及びその後の復元性に優れた軟質塩化ビニルフィルムを有するダイシングテープが広く用いられる。軟質塩化ビニルフィルムを用いた再剥離型の粘着シートとしては、下記特許文献1及び2などにその詳細が記載されている。   In addition, these semiconductor wafers are subjected to dicing, cleaning, drying, expanding, picking up, and mounting processes in a state where they are attached to an adhesive sheet in advance. As a semiconductor wafer holding adhesive sheet (dicing tape) used in such a semiconductor wafer dicing process, in recent years, it has sufficient adhesive force in the manufacturing process from the dicing process to the expanding process, and the pickup process. However, there is a demand for an adhesive sheet having such an adhesive strength that the adhesive does not adhere to the chip. Even in this case, a dicing tape having a soft vinyl chloride film excellent in stress relaxation, extensibility in the expanding process, and subsequent restoration is widely used. Details of the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet using a soft vinyl chloride film are described in Patent Documents 1 and 2 below.

また再剥離を前提としたこれらの粘着シートには、剥離を容易にするため放射線硬化型の粘着剤層が設けられている。一般に、放射線硬化型の粘着剤層は、ベースポリマーと呼ばれる高分子化合物に、重量平均分子量が2万以下で分子内に炭素−炭素二重結合を有する放射線重合性化合物(モノマー又はオリゴマー)と放射線重合開始剤とを必須の構成材料とし、更にこれに架橋剤などの種々の添加剤を適宜加えて形成されている。   Further, these pressure-sensitive adhesive sheets based on re-peeling are provided with a radiation curable pressure-sensitive adhesive layer for easy peeling. Generally, a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer is composed of a polymer compound called a base polymer, a radiation-polymerizable compound (monomer or oligomer) having a weight-average molecular weight of 20,000 or less and having a carbon-carbon double bond in the molecule, and radiation. A polymerization initiator is used as an essential constituent material, and various additives such as a crosslinking agent are appropriately added thereto.

この様な粘着シートに於いては、放射線照射後に粘着力を極端に低下させるという特性を発揮させるために、放射線重合性化合物として1分子内に炭素−炭素二重結合を2個以上有する、いわゆる多官能化合物が多く用いられている。これに放射線を照射することにより、放射線重合性化合物が反応し、三次元網状構造を速やかに形成することで、放射線重合性化合物の反応により粘着剤層全体も急激に硬化し、放射線照射後に於いては粘着剤層の粘着力が低下するものとされている。この様な粘着剤組成物の詳細は、下記特許文献3及び4などに記載されている。   In such an adhesive sheet, in order to exhibit the characteristic of extremely reducing the adhesive strength after irradiation, a so-called radiation-polymerizable compound having two or more carbon-carbon double bonds in one molecule, so-called Many polyfunctional compounds are used. By irradiating this with radiation, the radiation-polymerizable compound reacts and a three-dimensional network structure is rapidly formed, so that the entire pressure-sensitive adhesive layer is rapidly cured by the reaction of the radiation-polymerizable compound. In other words, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer is reduced. Details of such an adhesive composition are described in Patent Documents 3 and 4 below.

しかし、前記の粘着シートに広く用いられている軟質塩化ビニルフィルムについては、含有する各種添加剤に起因した種々の問題点も指摘されている。即ち、例えばフタル酸エステル等の可塑剤が粘着剤層に容易に浸透する結果、粘着シートの剥離後、ウェハの貼り合わせ面に汚染物として残存することが多いという問題がある。また、粘着剤層を放射線硬化型の粘着剤層とした場合、含有する放射線重合性化合物や放射線重合開始剤等が基材に移行することにより、放射線照射による粘着剤層の硬化機能が失われ、放射線照射後には所定の値まで粘着力を低下させることができないという問題もある。この様な剥離性の低下は、保護シート(バックグラインドテープ)の場合にはウェハから剥離できず、またダイシングテープの場合には小片チップをピックアップできなくなる。これらの問題を解決するため、下記特許文献2及び5などでは、軟質塩化ビニルフィルムと粘着剤層との間に、添加剤の移行を防止する中間層を設けた粘着シートが開示されている。更に、中間層としては、特許文献2に於いては変性ナイロン、ウレタン化感光性ゴム又は樹脂、エチレン・ビニルアルコール共重合体又はポリ塩化ビニリデンからなるものが開示され、特許文献5に於いてはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアルキレンテレフタレート又は変性アルキド樹脂からなるものが開示されている。   However, various problems caused by various additives contained in the flexible vinyl chloride film widely used in the pressure-sensitive adhesive sheet have been pointed out. That is, for example, a plasticizer such as a phthalate ester easily penetrates into the pressure-sensitive adhesive layer, and as a result, after the pressure-sensitive adhesive sheet is peeled off, it often remains as a contaminant on the bonded surface of the wafer. In addition, when the pressure-sensitive adhesive layer is a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer, the curing function of the pressure-sensitive adhesive layer due to radiation irradiation is lost when the contained radiation-polymerizable compound or radiation polymerization initiator is transferred to the substrate. There is also a problem that the adhesive force cannot be reduced to a predetermined value after irradiation. Such a decrease in peelability cannot be peeled from the wafer in the case of a protective sheet (back grind tape), and small chips cannot be picked up in the case of a dicing tape. In order to solve these problems, the following Patent Documents 2 and 5 disclose a pressure-sensitive adhesive sheet in which an intermediate layer for preventing migration of additives is provided between a soft vinyl chloride film and a pressure-sensitive adhesive layer. Further, as the intermediate layer, Patent Document 2 discloses a material composed of modified nylon, urethanized photosensitive rubber or resin, ethylene / vinyl alcohol copolymer or polyvinylidene chloride, and Patent Document 5 discloses. Those made of polyethylene, polypropylene, polyalkylene terephthalate or modified alkyd resin are disclosed.

しかし、前記の構成材料からなる中間層では、長期保存後に於いては可塑剤が移行することが多く、添加剤の移行防止が不十分であることが判った。また、前記の粘着シートをダイシングテープに用いた場合、粘着シートのごく一部分で添加剤の移行があったときには、チップのピックアップ不良が発生し、剥離性が低いという問題もある。   However, it has been found that in the intermediate layer made of the above-mentioned constituent materials, the plasticizer often migrates after long-term storage, and the additive migration is insufficiently prevented. In addition, when the pressure-sensitive adhesive sheet is used for a dicing tape, there is a problem that chip pick-up failure occurs and the peelability is low when the additive is transferred in a small part of the pressure-sensitive adhesive sheet.

また、本願発明者等は、粘着剤層から軟質塩化ビニルフィルムに特定の成分が移行することによっても、剥離性が低下することを見出した。例えば、粘着剤層を放射線硬化型にした場合には、含有する放射線重合性化合物や放射線重合開始剤等が軟質塩化ビニルフィルムに移行することにより、放射線照射による粘着剤層の硬化機能が失われ、放射線照射後には所定の値まで粘着力を低下させることができなくなる。よって、下記各特許文献に開示されている粘着シートの様に、単に軟質塩化ビニルフィルム中に含有されている添加剤が粘着剤層中に移行するのを防止するだけでは、安定した接着性や剥離性等を有する粘着シートが得られない。
日本国特許第2703467号 日本国特許第3060417号 日本国特許第2119328号 日本国特許第2126520号 特公平1−56111号
In addition, the inventors of the present application have found that the releasability is also lowered when a specific component is transferred from the pressure-sensitive adhesive layer to the soft vinyl chloride film. For example, when the pressure-sensitive adhesive layer is made into a radiation curable type, the curing function of the pressure-sensitive adhesive layer due to radiation irradiation is lost due to the migration of the radiation-polymerizable compound and radiation polymerization initiator contained in the soft vinyl chloride film. After irradiation, the adhesive force cannot be reduced to a predetermined value. Therefore, as in the pressure-sensitive adhesive sheet disclosed in each of the following patent documents, it is possible to prevent the additive contained in the soft vinyl chloride film from moving into the pressure-sensitive adhesive layer, and to maintain stable adhesiveness. An adhesive sheet having releasability or the like cannot be obtained.
Japanese Patent No. 2703467 Japanese Patent No. 3060417 Japanese Patent No. 219328 Japanese Patent No. 2126520 No. 1-56111

本発明は前記問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、粘着性、剥離性、復元性に優れた再剥離型粘着シートを提供することにある。   This invention is made | formed in view of the said problem, The objective is to provide the re-peeling type adhesive sheet excellent in adhesiveness, peelability, and recoverability.

本願発明者等は、前記従来の問題点を解決すべく、再剥離型粘着シートについて鋭意検討した。その結果、下記構成を採用することにより前記目的を達成できることを見出して、本発明を完成させるに至った。   In order to solve the above-mentioned conventional problems, the inventors of the present application have made extensive studies on the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet. As a result, the inventors have found that the object can be achieved by adopting the following configuration, and have completed the present invention.

即ち、本発明に係る再剥離型粘着シートは、前記の課題を解決する為に、軟質塩化ビニルを含み構成される基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けられた粘着剤層とを有する再剥離型粘着シートであって、前記基材と粘着剤層との間には、2軸延伸ポリエステルフィルムからなる中間層が設けられており、(基材の厚さ)/(中間層の厚さ)≧30、かつ、(中間層の厚さ)≦5μmを満たすことを特徴とする。   That is, the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention includes a base material containing soft vinyl chloride and a pressure-sensitive adhesive layer provided on at least one surface of the base material in order to solve the above-described problem. An intermediate layer made of a biaxially stretched polyester film is provided between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer, and (thickness of base material) / (intermediate layer) Thickness) ≧ 30 and (intermediate layer thickness) ≦ 5 μm.

前記の構成によれば、基材と粘着剤層との間に2軸延伸ポリエステルフィルムからなる中間層を設けることにより、例えば基材中に含まれる可塑剤等の添加剤が粘着剤層中に移行するのを長期間にわたって防止することができる。その結果、凝集力の低下による軟化に起因した、粘着剤層の粘着性低下を抑制することができる。   According to the said structure, by providing the intermediate | middle layer which consists of a biaxially stretched polyester film between a base material and an adhesive layer, additives, such as a plasticizer contained in a base material, for example in an adhesive layer Transition can be prevented over a long period of time. As a result, it is possible to suppress a decrease in adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer due to softening due to a decrease in cohesive force.

また前記構成に於いては、中間層は硬質材料(2軸延伸ポリエステルフィルム)からなるが、その厚さを5μm以下として従来(例えば、10〜20μm)よりも薄くし、更に基材の厚さと中間層の厚さとの比が30以上となる様にすることで、該中間層が再剥離型粘着シートの伸長性を低下させるのを抑制する。その結果、再剥離型粘着シートを伸長させた際には、中間層が基材から剥離するのを防止し、また伸長後に於いては、元の状態に復元可能にする。これにより、再剥離型粘着シートに弛みが発生するのを防止することができる。   In the above structure, the intermediate layer is made of a hard material (biaxially stretched polyester film), but the thickness thereof is set to 5 μm or less so as to be thinner than the conventional one (for example, 10 to 20 μm). By making the ratio with the thickness of the intermediate layer to be 30 or more, the intermediate layer is inhibited from reducing the extensibility of the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet. As a result, when the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet is stretched, the intermediate layer is prevented from being peeled from the base material, and can be restored to its original state after stretching. Thereby, it is possible to prevent slack from occurring in the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet.

また、前記構成に於いて、前記粘着剤層は、放射線硬化型の粘着剤層であることが好ましい。   Moreover, in the said structure, it is preferable that the said adhesive layer is a radiation curing type adhesive layer.

中間層は、粘着剤層から基材に移行しようとする放射線重合開始剤及び放射線重合性化合物もブロックすることができる。これにより、再剥離型粘着シートを被着体から剥離しようとする際にも、粘着剤層中には、これを硬化させるのに十分な量の放射線重合開始剤及び放射線重合性化合物が残っている。その結果、粘着剤層に放射線を照射すると、粘着剤層が十分に硬化し、被着体から再剥離型粘着シートを容易に剥離することが可能になる。よって、前記構成であると、長期間にわたって剥離性の低下を防止することができる。   The intermediate layer can also block radiation polymerization initiators and radiation polymerizable compounds that are about to migrate from the adhesive layer to the substrate. Thereby, even when trying to peel the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet from the adherend, a sufficient amount of the radiation polymerization initiator and the radiation-polymerizable compound remain in the pressure-sensitive adhesive layer to cure it. Yes. As a result, when the pressure-sensitive adhesive layer is irradiated with radiation, the pressure-sensitive adhesive layer is sufficiently cured, and the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet can be easily peeled from the adherend. Therefore, with the above-described configuration, it is possible to prevent deterioration of peelability over a long period of time.

本発明は、前記に説明した手段により、以下に述べるような効果を奏する。   The present invention has the following effects by the means described above.

即ち、本発明に係る再剥離型粘着シートであると、基材と粘着剤層との間に、2軸延伸ポリエステルフィルムからなる中間層を有するので、例えば基材中の添加剤が粘着剤層中に移行するのを長期間にわたって防止し、粘着剤層の軟化に起因した接着性の低下を防止することができる。   That is, since the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention has an intermediate layer composed of a biaxially stretched polyester film between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer, for example, the additive in the base material is the pressure-sensitive adhesive layer. Transition to the inside can be prevented over a long period of time, and deterioration of adhesiveness due to softening of the pressure-sensitive adhesive layer can be prevented.

また、中間層の厚さを5μm以下として従来よりも薄くし、更に基材の厚さと中間層の厚さとの比が30以上となる様にすることで、硬質材料(2軸延伸ポリエステルフィルム)からなる中間層が再剥離型粘着シートの伸長性を低下させるのを抑制する。その結果、再剥離型粘着シートを伸長させた際には、中間層が基材から剥離するのを防止することができる。また、その復元性を向上させ、弛みの発生も低減することができる。   In addition, the thickness of the intermediate layer is set to 5 μm or less so that it is thinner than the conventional one, and the ratio of the thickness of the base material to the thickness of the intermediate layer is 30 or more so that a hard material (biaxially stretched polyester film) It suppresses that the intermediate | middle layer which consists of reduces the extensibility of a releasable adhesive sheet. As a result, when the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet is extended, it is possible to prevent the intermediate layer from peeling from the base material. Moreover, the restoring property can be improved and the occurrence of slack can be reduced.

更に、粘着剤層中に存在する特定成分の基材への移行も防止でき、例えば粘着剤層が放射線硬化型の場合であっても、粘着剤層中に存在する放射線重合性化合物や放射線重合開始剤等が基材に移行するのを防止することが可能になる。その結果、長期間にわたって剥離性の良好な再剥離型粘着シートを提供することができる。   Furthermore, it is possible to prevent migration of specific components present in the pressure-sensitive adhesive layer to the base material. For example, even when the pressure-sensitive adhesive layer is a radiation curable type, the radiation-polymerizable compound or the radiation polymerization present in the pressure-sensitive adhesive layer. It is possible to prevent the initiator and the like from transferring to the base material. As a result, it is possible to provide a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet having good peelability over a long period of time.

本発明の実施の形態について、図を参照しながら以下に説明する。但し、説明に不要な部分は省略し、また説明を容易にする為に拡大又は縮小等して図示した部分がある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, parts that are not necessary for the description are omitted, and there are parts that are illustrated in an enlarged or reduced manner for ease of explanation.

図1は、本実施の形態に係る再剥離型粘着シート(以下、単に粘着シートと言う。)の概略構成を示す断面模式図である。同図に示すように、本実施の形態に係る粘着シート11は、基材12上に中間層13及び粘着剤層14が順次積層された構成である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet (hereinafter simply referred to as a pressure-sensitive adhesive sheet) according to the present embodiment. As shown in the figure, the pressure-sensitive adhesive sheet 11 according to the present embodiment has a configuration in which an intermediate layer 13 and a pressure-sensitive adhesive layer 14 are sequentially laminated on a base material 12.

前記基材12は中間層13及び粘着剤層14の支持母体となるものであり、軟質塩化ビニルを含み構成されるフィルムからなる。基材12は一層からなるものでもよく、二層以上の積層体からなるものでもよい。基材12が二層以上の積層体である場合、少なくとも1つの層が軟質塩化ビニルフィルムであればよい。尚、基材12は、粘着剤層14が放射線硬化型である場合には、X線、紫外線、電子線等の放射線を少なくとも一部透過させる性質を有するものであることが好ましい。また、ダイシング後のエキスパンディングに耐え得る柔軟性を有しているものが好ましい。   The base 12 is a support base for the intermediate layer 13 and the pressure-sensitive adhesive layer 14 and is made of a film containing soft vinyl chloride. The substrate 12 may be composed of a single layer or may be composed of a laminate of two or more layers. When the substrate 12 is a laminate of two or more layers, at least one layer may be a soft vinyl chloride film. In addition, when the adhesive layer 14 is a radiation curing type, it is preferable that the base material 12 has a property of transmitting at least part of radiation such as X-rays, ultraviolet rays, and electron beams. Moreover, what has the softness | flexibility which can endure the expanding after dicing is preferable.

基材12の構成材料としては特に限定されるものではなく、例えば、ポリ塩化ビニル、ウレタン−塩化ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等の塩化ビニル共重合体及びこれらの混合物、又は他の樹脂及びエラストマーとの混合物等が例示できる。尚、前記共重合体はクラフト共重合物を含み、混合物はいわゆるアロイを含む。   The constituent material of the substrate 12 is not particularly limited. For example, polyvinyl chloride, urethane-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl chloride copolymer, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, ethylene-acetic acid. Examples thereof include vinyl chloride copolymers such as vinyl copolymers and mixtures thereof, or mixtures with other resins and elastomers. The copolymer includes a kraft copolymer and the mixture includes a so-called alloy.

また、前記基材12には、前記の構成材料に加えて、低密度ポリエチレン、直鎖状ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモポリプロレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン、アイオノマー樹脂、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル(ランダム、交互)共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ塩化ビニリデン、フッ素樹脂、セルロース系樹脂、及びこれらの架橋体などのポリマーを必要に応じて数種ブレンドしたものを用いることもできる。   In addition to the above-mentioned constituent materials, the base material 12 includes low density polyethylene, linear polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, ultra low density polyethylene, random copolymer polypropylene, block copolymer polypropylene, homopolymer. Polypropylene, polybutene, polyolefins such as polymethylpentene, ionomer resin, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid ester (random, alternating) copolymer, ethylene-butene copolymer, Polymers such as ethylene-hexene copolymer, polyurethane, polyester such as polyethylene terephthalate, polyimide, polyether ether ketone, polyvinylidene chloride, fluororesin, cellulosic resin, and cross-linked products thereof were blended as required. Also It can also be used.

前記基材12には、例えばジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジノニルフタレート、ジイソデシルフタレートのようなフタル酸エステル、その他ポリエステル可塑剤、エポキシ系可塑剤、又はトリメット系可塑剤等の添加剤が添加されていてもよい。尚、エポキシ系可塑剤は、二次可塑剤兼安定剤としてのエポキシ化大豆油でも良い。   Additives such as phthalic acid esters such as dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, dinonyl phthalate, diisodecyl phthalate, other polyester plasticizers, epoxy plasticizers, or trimet plasticizers are added to the base material 12. May be. The epoxy plasticizer may be epoxidized soybean oil as a secondary plasticizer and stabilizer.

また、前記基材12中には、鉱油等の軟化剤、炭酸カルシウム、シリカ、タルク、マイカ、クレー等の充填材、酸化防止剤、光安定剤、帯電防止剤、滑剤、分散剤、中和剤、α晶核剤、β晶核剤、加工助剤、老化防止剤等の公知の各種添加剤が必要に応じて配合されていてもよい。   Further, in the base material 12, softeners such as mineral oil, fillers such as calcium carbonate, silica, talc, mica, clay, antioxidants, light stabilizers, antistatic agents, lubricants, dispersants, neutralization Various known additives such as an agent, an α crystal nucleating agent, a β crystal nucleating agent, a processing aid, and an antiaging agent may be blended as necessary.

前記基材12は、無延伸で用いてもよく、必要に応じて一軸又は二軸の延伸処理を施したものを用いてもよい。基材12の表面には、必要に応じてマット処理、コロナ放電処理、プライマー処理、架橋処理(化学架橋(シラン))などの慣用の物理的又は化学的処理を施すことができる。また、前記基材12の厚み(二層以上の積層体である場合は総厚)は特に限定されるものではなく、約30〜250μmであることが好ましく、約60〜230μmであることがより好ましい。   The base material 12 may be used without stretching, or may be subjected to uniaxial or biaxial stretching treatment as necessary. The surface of the substrate 12 can be subjected to conventional physical or chemical treatment such as mat treatment, corona discharge treatment, primer treatment, and crosslinking treatment (chemical crosslinking (silane)) as necessary. The thickness of the substrate 12 (total thickness in the case of a laminate of two or more layers) is not particularly limited, and is preferably about 30 to 250 μm, more preferably about 60 to 230 μm. preferable.

尚、基材12は、従来より公知の製膜方法により製膜できる。具体的には、例えば湿式キャスティング法、インフレーション押出し法、Tダイ押出し法などが利用できる。   The substrate 12 can be formed by a conventionally known film forming method. Specifically, for example, a wet casting method, an inflation extrusion method, a T-die extrusion method, or the like can be used.

前記中間層13は、2軸延伸ポリエステルフィルムからなる。該2軸延伸ポリエステルフィルムは、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレートを主たる構成成分とするポリエステルを二軸延伸したものである。二軸延伸の方法としては、例えば、同時二軸延伸、逐次二軸延伸等が例示できる。二軸延伸ポリエステルフィルムは、次の通りにして得られる。即ち、例えば、ポリエステルを必要に応じて乾燥した後、溶融押出機に供給し、スリット状のダイからシート状に押出す。次に、静電印加などの方式によりキャスティングドラムに密着させ冷却固化して未延伸シートを得る。延伸方式としては、前述の同時二軸延伸 、又は逐次二軸延伸等を採用することができ、該未延伸シートをフィルムの長手方向及び幅方向に延伸し 、熱処理する。同時二軸延伸による場合は、フィルムの長手方向、幅方向をほぼ同時に延伸していく。また、逐次二軸延伸による場合は、フィルムの長手方向に延伸した後、幅方向に延伸する。延伸倍率としては、それぞれの方向に1.1〜10倍、好ましくは2.0〜10倍である。長手方向、幅方向の延伸倍率はいずれを大きくしてもよく、或いは同一としてもよい。   The intermediate layer 13 is made of a biaxially stretched polyester film. The biaxially stretched polyester film is obtained by biaxially stretching a polyester mainly composed of polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate. Examples of the biaxial stretching method include simultaneous biaxial stretching and sequential biaxial stretching. A biaxially stretched polyester film is obtained as follows. That is, for example, after drying polyester as necessary, it is supplied to a melt extruder and extruded from a slit-shaped die into a sheet. Next, it is brought into close contact with the casting drum by a method such as electrostatic application, and solidified by cooling to obtain an unstretched sheet. As the stretching method, the above-described simultaneous biaxial stretching, sequential biaxial stretching, or the like can be employed. The unstretched sheet is stretched in the longitudinal direction and the width direction of the film and heat-treated. In the case of simultaneous biaxial stretching, the longitudinal direction and the width direction of the film are stretched almost simultaneously. In the case of sequential biaxial stretching, the film is stretched in the longitudinal direction and then stretched in the width direction. The draw ratio is 1.1 to 10 times, preferably 2.0 to 10 times in each direction. Any of the draw ratios in the longitudinal direction and the width direction may be increased or the same.

前記中間層13の厚さは5μm以下であることが好ましく、2〜4μmの範囲内であることがより好ましい。但し、本発明に於いては、(基材の厚さ)/(中間層の厚さ)が30以上、より好ましくは48〜50の範囲内であることが必要である。2軸延伸ポリエステルフィルムからなる中間層13の厚さを従来よりも薄くすることにより、該中間層に起因して粘着シート11の伸長性が低下するのを抑制する。その結果、粘着シート11を伸長させた際には、中間層13が基材12から剥離するのを防止し、また伸長後に於いては、元の状態に復元可能にする。これにより、粘着シート11に弛みが発生するのを防止することができる。   The thickness of the intermediate layer 13 is preferably 5 μm or less, and more preferably in the range of 2 to 4 μm. However, in the present invention, (the thickness of the base material) / (the thickness of the intermediate layer) needs to be 30 or more, more preferably in the range of 48-50. By making the thickness of the intermediate layer 13 made of the biaxially stretched polyester film thinner than before, the extensibility of the pressure-sensitive adhesive sheet 11 is prevented from being lowered due to the intermediate layer. As a result, when the pressure-sensitive adhesive sheet 11 is stretched, the intermediate layer 13 is prevented from being peeled off from the base material 12 and can be restored to its original state after stretching. Thereby, it is possible to prevent the adhesive sheet 11 from being slackened.

尚、中間層13として1軸延伸ポリエステルフィルムからなるものを用いた場合、再剥離型粘着シートの伸長の際にシートの縦方向又は横方向で不均一になるという問題がある。また、無延伸ポリエステルフィルムの場合、フィルム製膜が困難であるという製造上の問題がある。   In addition, when what consists of a uniaxially stretched polyester film is used as the intermediate | middle layer 13, when extending | stretching a re-peeling type adhesive sheet, there exists a problem that it becomes non-uniform | heterogenous in the vertical direction or horizontal direction of a sheet | seat. Moreover, in the case of an unstretched polyester film, there exists a manufacturing problem that film formation is difficult.

前記粘着剤層14を構成する粘着剤としては、ゴム系、アクリル系、シリコーン系、ビニルエステル系などの各種の粘着性ポリマーが用いられる。これらの粘着性ポリマーのうち、分子設計の容易さ、半導体ウェハやガラス等の汚染を嫌う電子部品の超純水やアルコール等の有機溶剤による清浄洗浄性などの点から、(メタ)アクリル系ポリマーが特に好ましい。   As the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer 14, various pressure-sensitive adhesive polymers such as rubber-based, acrylic-based, silicone-based, and vinyl ester-based are used. Among these adhesive polymers, (meth) acrylic polymers are used from the standpoints of easy molecular design and cleanability of electronic components that do not like contamination such as semiconductor wafers and glass with organic solvents such as ultrapure water and alcohol. Is particularly preferred.

前記アクリル系ポリマーとしては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ラウリル基、トリデシル基、テトラデシル基、ステアリル基、オクタデシル基、及びドデシル基などの炭素数30以下、好ましくは炭素数4〜18の直鎖又は分岐のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。これらアルキル(メタ)アクリレートは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the acrylic polymer include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, an isobutyl group, an amyl group, an isoamyl group, a hexyl group, a heptyl group, and a cyclohexyl group. Carbon number such as 2-ethylhexyl group, octyl group, isooctyl group, nonyl group, isononyl group, decyl group, isodecyl group, undecyl group, lauryl group, tridecyl group, tetradecyl group, stearyl group, octadecyl group, and dodecyl group Hereinafter, an alkyl (meth) acrylate having a linear or branched alkyl group having 4 to 18 carbon atoms is preferable. These alkyl (meth) acrylates may be used alone or in combination of two or more.

前記以外のモノマー成分及びオリゴマー成分としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、及びクロトン酸などのカルボキシル基含有モノマー、無水マレイン酸や無水イタコン酸などの酸無水物モノマー、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8−ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10−ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12−ヒドロキシラウリル、及び(4−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマー、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、及び(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノマー、2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートなどのリン酸基含有モノマーなどが挙げられる。これらモノマー成分は1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Other monomer components and oligomer components include, for example, carboxyl groups such as acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid. Monomers, acid anhydride monomers such as maleic anhydride and itaconic anhydride, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, (meth) acrylic 6-hydroxyhexyl acid, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, 12-hydroxylauryl (meth) acrylate, (4-hydroxymethylcyclohexyl) methyl (meth) acrylate, etc. of Droxyl group-containing monomer, styrene sulfonic acid, allyl sulfonic acid, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropane sulfonic acid, (meth) acrylamide propane sulfonic acid, sulfopropyl (meth) acrylate, and (meth) acryloyloxynaphthalene sulfone Examples thereof include sulfonic acid group-containing monomers such as acids, and phosphoric acid group-containing monomers such as 2-hydroxyethylacryloyl phosphate. These monomer components may be used alone or in combination of two or more.

また、(メタ)アクリル系ポリマーの架橋処理等を目的に多官能モノマーなども必要に応じて共重合モノマー成分として用いることができる。多官能モノマーとしては、例えば、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、及びウレタン(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これら多官能モノマーは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Moreover, a polyfunctional monomer etc. can also be used as a copolymerization monomer component as needed for the purpose of a crosslinking treatment of a (meth) acrylic polymer. Examples of polyfunctional monomers include hexanediol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol di (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate, Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and urethane (meth) acrylate Etc., and the like. These polyfunctional monomers may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

多官能モノマーの使用量は、粘着特性等の観点より全モノマー成分の30重量%以下であることが好ましく、更に好ましくは20重量%以下である。   The amount of the polyfunctional monomer used is preferably 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less of the total monomer components from the viewpoint of adhesive properties and the like.

(メタ)アクリル系ポリマーの調製は、例えば1種又は2種以上のモノマー成分を含む混合物を溶液重合方式、乳化重合方式、塊状重合方式、又は懸濁重合方式等の適宜な方式を適用して行うことができる。   For the preparation of the (meth) acrylic polymer, an appropriate method such as a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a bulk polymerization method, or a suspension polymerization method is applied to a mixture containing one or more monomer components. It can be carried out.

前記(メタ)アクリル系ポリマーの分子内側鎖に炭素−炭素二重結合を導入し、放射線硬化性ポリマーとすることもできる。この場合に於いては、放射線の照射時に粘着力を低下させる特性を十分に発現できるのであれば、後述の放射線重合性化合物としての放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分を特に加える必要がなく、その使用は任意である。炭素−炭素二重結合の導入方法としては、従来公知の方法を採用することができる。但し、分子設計の容易さの観点からは、次の方法が好ましい。即ち、予め(メタ)アクリル系ポリマーに所定の官能基を有するモノマーを共重合させ共重合体を得る。次に、この共重合体と、前記の官能基と付加反応し得るような他の官能基及び炭素−炭素二重結合を有するモノマーを、炭素−炭素二重結合を維持したまま、縮合又は付加反応させる。   A carbon-carbon double bond may be introduced into the inner chain of the (meth) acrylic polymer to form a radiation curable polymer. In this case, it is not necessary to add a radiation-curable monomer component or oligomer component as a radiation-polymerizable compound described below, as long as the characteristics that reduce the adhesive force when irradiated with radiation can be sufficiently expressed. Its use is optional. As a method for introducing a carbon-carbon double bond, a conventionally known method can be employed. However, from the viewpoint of ease of molecular design, the following method is preferable. That is, a copolymer having a predetermined functional group is previously copolymerized with a (meth) acrylic polymer to obtain a copolymer. Next, this copolymer and another functional group capable of addition reaction with the above functional group and a monomer having a carbon-carbon double bond are condensed or added while maintaining the carbon-carbon double bond. React.

前記所定の官能基と、その官能基に付加反応し得るような他の官能基との組合せとしては、カルボン酸基とエポキシ基、カルボン酸基とアジリジル基、ヒドロキシル基とイソシアネート基などが挙げられる。これらの組み合わせの内、反応後前記放射線硬化性ポリマーが生成可能な組合せであればどのようなものであってもよい。但し、反応追跡の容易さの観点からは、ヒドロキシル基とイソシアネート基との組合せが好適である。   Examples of the combination of the predetermined functional group and other functional group capable of addition reaction with the functional group include a carboxylic acid group and an epoxy group, a carboxylic acid group and an aziridyl group, a hydroxyl group and an isocyanate group, and the like. . Of these combinations, any combination may be used as long as the radiation-curable polymer can be produced after the reaction. However, a combination of a hydroxyl group and an isocyanate group is preferable from the viewpoint of easy reaction tracking.

ヒドロキシル基とイソシアネート基とを組み合わせる場合について、より詳細に説明する。この様な場合に使用する、イソシアネート基及び炭素−炭素二重結合を有するモノマーとしては、例えばイソシアネート化合物が挙げられ、より具体的には、メタクリロイルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、m−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート等が挙げられる。(メタ)アクリル系ポリマーとヒドロキシル基を有するモノマーとの共重合体としては、例えば、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシルなどの、分子内にエステル結合を有するものや、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングルコールモノビニルエーテルなどの、分子内にエーテル結合を有する化合物が好適に用いられる。但し、前記放射線硬化性ポリマーが得られるのであれば、前記に例示した化合物に限定されるものではない。   The case where a hydroxyl group and an isocyanate group are combined will be described in more detail. Examples of the monomer having an isocyanate group and a carbon-carbon double bond used in such a case include an isocyanate compound, and more specifically, methacryloyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, m-isopropenyl. -Α, α-dimethylbenzyl isocyanate and the like. Examples of the copolymer of a (meth) acrylic polymer and a monomer having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxy (meth) acrylate. Ether bonds in the molecule such as butyl, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate having an ester bond in the molecule, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, etc. The compound which has is used suitably. However, it is not limited to the compounds exemplified above as long as the radiation curable polymer can be obtained.

重合開始剤としては、過酸化水素、過酸化ベンゾイル、t−ブチルパーオキサイドなどの過酸化物系が挙げられる。重合開始剤は単独で用いるのが望ましいが、還元剤と組み合わせてレドックス系重合開始剤として使用することもできる。還元剤としては、例えば、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、鉄、銅、コバルト塩などのイオン化の塩、トリエタノールアミン等のアミン類、アルドース、ケトース等の還元糖などを挙げることができる。また、アゾ化合物も好ましい重合開始剤であり、2,2’−アゾビス−2−メチルプロピオアミジン酸塩、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、2,2’−アゾビス−N,N’−ジメチレンイソブチルアミジン酸塩、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド等を使用することができる。また、前記重合開始剤を2種以上併用して使用することも可能である。   Examples of the polymerization initiator include peroxides such as hydrogen peroxide, benzoyl peroxide, and t-butyl peroxide. Although the polymerization initiator is preferably used alone, it can also be used as a redox polymerization initiator in combination with a reducing agent. Examples of the reducing agent include ionized salts such as sulfites, hydrogen sulfites, iron, copper, and cobalt salts, amines such as triethanolamine, and reducing sugars such as aldose and ketose. Azo compounds are also preferred polymerization initiators, and are 2,2′-azobis-2-methylpropioamidine, 2,2′-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, 2,2′-azobis- Use N, N'-dimethyleneisobutylaminate, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis-2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide, etc. Can do. Further, two or more kinds of the polymerization initiators can be used in combination.

反応温度は通常50〜85℃程度、反応時間は1〜8時間程度とされる。また、前記製造法のなかでも溶液重合法が好ましく、(メタ)アクリル系ポリマーの溶媒としては一般に酢酸エチル、トルエン等の極性溶剤が用いられる。溶液濃度は通常20〜80重量%程度とされる。   The reaction temperature is usually about 50 to 85 ° C., and the reaction time is about 1 to 8 hours. Among the production methods, a solution polymerization method is preferable, and a polar solvent such as ethyl acetate or toluene is generally used as a solvent for the (meth) acrylic polymer. The solution concentration is usually about 20 to 80% by weight.

前記粘着剤には、ベースポリマーである(メタ)アクリル系ポリマーの数平均分子量を高めるため、架橋剤を適宜に加えることもできる。架橋剤としては、ポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、メラミン樹脂、尿素樹脂、無水化合物、ポリアミン、カルボキシル基含有ポリマーなどが挙げられる。架橋剤を使用する場合、その使用量は引き剥がし粘着力が下がり過ぎないことを考慮し、一般的には、前記ベースポリマー100重量部に対して、0.01〜5重量部程度配合するのが好ましい。また粘着剤層を形成する粘着剤には、必要により、前記成分のほかに、従来公知の各種の粘着付与剤、老化防止剤、充填材、着色剤等の慣用の添加剤を含有させることができる。   In order to increase the number average molecular weight of the (meth) acrylic polymer that is the base polymer, a crosslinking agent can be appropriately added to the pressure-sensitive adhesive. Examples of the crosslinking agent include polyisocyanate compounds, epoxy compounds, aziridine compounds, melamine resins, urea resins, anhydrous compounds, polyamines, and carboxyl group-containing polymers. In the case of using a crosslinking agent, the amount used is about 0.01-5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base polymer, considering that the peeling adhesive strength does not decrease too much. Is preferred. In addition to the above-described components, the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer may contain conventionally known various additives such as tackifiers, anti-aging agents, fillers, and colorants. it can.

被着体からの剥離性を向上させるため、粘着剤層は、紫外線、電子線等の放射線により硬化する放射線硬化型の粘着剤層とすることが好ましい。この場合、前記軟質塩化ビニルフィルムとしては、粘着剤層14を放射線硬化させるためにX線、紫外線、電子線等の放射線を少なくとも一部透過可能な性質を有するものを用いるのが好ましい。   In order to improve the peelability from the adherend, the pressure-sensitive adhesive layer is preferably a radiation-curing pressure-sensitive adhesive layer that is cured by radiation such as ultraviolet rays or electron beams. In this case, as the soft vinyl chloride film, it is preferable to use a film having a property of transmitting at least part of radiation such as X-rays, ultraviolet rays and electron beams in order to cure the pressure-sensitive adhesive layer 14 by radiation.

放射線硬化型の粘着剤層とする為には、放射線重合性化合物が構成材料に配合される。この様な放射線重合性化合物としては放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分が挙げられ、より具体的には、例えばウレタン系、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリブタジエン系など種々のモノマー成分やオリゴマー成分を選択し、組み合わせ可能である。具体的には、例えばウレタン(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、又は市販のオリゴエステルアクリレートなどを例示できる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   In order to obtain a radiation curable pressure-sensitive adhesive layer, a radiation polymerizable compound is blended in the constituent material. Examples of such radiation polymerizable compounds include radiation curable monomer components and oligomer components. More specifically, for example, various monomer components such as urethane, polyether, polyester, polycarbonate, polybutadiene, and the like. The oligomer components can be selected and combined. Specifically, for example, urethane (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol mono Examples include hydroxypenta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,4-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, or commercially available oligoester acrylate. . These may be used alone or in combination of two or more.

放射線重合性化合物の添加量は適宜設定すればよい。具体的には、例えば粘着剤を構成する(メタ)アクリル系ポリマー等のベースポリマー100重量部に対して0.1〜200重量部の範囲内が好ましく、0.1〜150重量部の範囲内がより好ましい。   What is necessary is just to set the addition amount of a radiation polymerizable compound suitably. Specifically, for example, a range of 0.1 to 200 parts by weight is preferable with respect to 100 parts by weight of a base polymer such as a (meth) acrylic polymer constituting the pressure-sensitive adhesive, and a range of 0.1 to 150 parts by weight. Is more preferable.

尚、放射線硬化性のオリゴマー成分としてウレタン系のオリゴマー成分を使用する場合、その重量平均分子量が3000〜30000の範囲内であることが好ましく、4000〜8000の範囲内であることがより好ましい。重量平均分子量が当該範囲内であると、被着体としての半導体ウェハ表面が粗い場合に於いても、チップのピックアップの際にチップ表面に粘着剤が付着するのを防止できるからである。   In addition, when using a urethane-type oligomer component as a radiation-curable oligomer component, it is preferable that the weight average molecular weight exists in the range of 3000-30000, and it is more preferable that it exists in the range of 4000-8000. This is because, when the weight average molecular weight is within the range, even when the surface of the semiconductor wafer as the adherend is rough, it is possible to prevent the adhesive from adhering to the chip surface during chip pickup.

本実施の形態に係る粘着剤層14には、紫外線等の放射線により硬化させる為、放射線重合開始剤が含有されていてもよい。放射線重合開始剤としては、半導体装置の製造工程に於いて一般的に使用されている高圧水銀灯の特性波長である365nmに於けるモル吸光係数が1,000mol−1・cm−1以上、好ましくは1,500mol−1・cm−1以上(通常、30,000mol−1・cm−1以下)であり、かつ長波長側の最大吸収波長が420nm以上、好ましくは430nm以上(通常、460nm以下)のものが用いられる。具体的には、例えば、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1や、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。また、その他にも、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、α−ヒドロキシ−α,α´−ジメチルアセトフェノン、2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのα−ケトール系化合物;メトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフエノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)−フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1などのアセトフェノン系化合物;ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソインメチルエーテルなどのベンゾインエーテル系化合物;ベンジルジメチルケタールなどのケタール系化合物;2−ナフタレンスルホニルクロリドなどの芳香族スルホニルクロリド系化合物;1−フェノン−1,1―プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシムなどの光活性オキシム系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3′−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物;チオキサンソン、2−クロロチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、2,4−ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、2,4−ジクロロチオキサンソン、2,4−ジエチルチオキサンソン、2,4−ジイソプロピルチオキサンソンなどのチオキサンソン系化合物;カンファーキノン;ハロゲン化ケトン;アシルホスフィノキシド;アシルホスフォナートなどが挙げられる。 The pressure-sensitive adhesive layer 14 according to the present embodiment may contain a radiation polymerization initiator in order to be cured by radiation such as ultraviolet rays. The radiation polymerization initiator has a molar extinction coefficient of 1,000 mol −1 · cm −1 or more at 365 nm, which is a characteristic wavelength of a high pressure mercury lamp generally used in the manufacturing process of semiconductor devices, preferably 1,500 mol −1 · cm −1 or more (usually 30,000 mol −1 · cm −1 or less) and the maximum absorption wavelength on the long wavelength side is 420 nm or more, preferably 430 nm or more (usually 460 nm or less). Things are used. Specific examples include 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide. It is done. In addition, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, α-hydroxy-α, α′-dimethylacetophenone, 2-methyl-2-hydroxypropiophenone, 1 Α-ketol compounds such as hydroxycyclohexyl phenyl ketone; methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio)- Acetophenone compounds such as phenyl] -2-morpholinopropane-1; benzoin ether compounds such as benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and anisoin methyl ether; ketal compounds such as benzyldimethyl ketal; 2-naphthalenesulfonyl chloride Aromatic sulfonyl chloride compounds such as: 1-phenone-1,1-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime and other photoactive oxime compounds; benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3′-dimethyl- Benzophenone compounds such as 4-methoxybenzophenone; thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2, Examples include thioxanthone compounds such as 4-diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; camphorquinone; halogenated ketone; acyl phosphinoxide; acyl phosphonate.

放射線重合開始剤の配合量は、粘着剤を構成するアクリル系ポリマー等のベースポリマー100重量部に対して、例えば1〜10重量部程度である。   The compounding quantity of a radiation polymerization initiator is about 1-10 weight part with respect to 100 weight part of base polymers, such as an acryl-type polymer which comprises an adhesive.

また、前記粘着剤層14の厚みは特に限定されるものではないが、通常は約5〜100μmの範囲内である。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 14 is not particularly limited, but is usually in the range of about 5 to 100 μm.

尚、放射線硬化型の粘着剤層に関しては、特開2000−312862号公報などにその詳細が記載されている。   The radiation curable pressure-sensitive adhesive layer is described in detail in JP-A No. 2000-312862.

本実施の形態に係る粘着シート11は、例えば半導体(Si、Ge、Ga−As等)ウェハの加工に好適に用いることができる。即ち、例えば半導体ウェハの回路パターン形成面に粘着シート11を貼り合わせて、半導体ウェハをダイシングし半導体チップを作製し、その後、粘着シート11に放射線を照射し、半導体チップのピックアップを行う場合等に用いられる。ここで、本実施の形態に係る粘着シート11は、粘着性の低下を抑制するので、半導体ウェハ等の被加工物を確実に固定することができる。この為、ダイシングの際にチップ欠けやチップ飛びが生じるのを防止し、また半導体ウェハ等の破損も低減できる。また、放射線の照射に対し十分な硬化機能を維持し続けているので、半導体チップに糊残りを生じさせることなく容易に剥離することができ、ピックアップ性に優れる。更に、粘着剤層14は放射線の照射に対する十分な硬化機能を維持し続けるので、長期保存性にも優れる。その上、硬質材料からなる中間層13の厚さ、及び基材12の厚さと中間層13の厚さの比を所定範囲内とすることにより、中間層13に2軸延伸ポリエステルフィルムを用いたことに起因した粘着シート11の伸長性の低下を防止するので、エキスパンド性及び復元性にも優れる。   The pressure-sensitive adhesive sheet 11 according to the present embodiment can be suitably used for processing a semiconductor (Si, Ge, Ga-As, etc.) wafer, for example. That is, for example, when the adhesive sheet 11 is bonded to the circuit pattern forming surface of a semiconductor wafer, the semiconductor wafer is diced to produce a semiconductor chip, and then the adhesive sheet 11 is irradiated with radiation to pick up the semiconductor chip. Used. Here, since the adhesive sheet 11 according to the present embodiment suppresses a decrease in adhesiveness, a workpiece such as a semiconductor wafer can be reliably fixed. For this reason, chipping or chip jumping during dicing can be prevented, and damage to the semiconductor wafer or the like can be reduced. In addition, since a sufficient curing function is maintained for irradiation with radiation, the semiconductor chip can be easily peeled off without causing adhesive residue, and the pickup property is excellent. Furthermore, since the pressure-sensitive adhesive layer 14 continues to maintain a sufficient curing function against radiation irradiation, it is excellent in long-term storage stability. In addition, a biaxially stretched polyester film was used for the intermediate layer 13 by setting the thickness of the intermediate layer 13 made of a hard material and the ratio of the thickness of the base material 12 and the thickness of the intermediate layer 13 within a predetermined range. Since the fall of the extensibility of the adhesive sheet 11 resulting from that is prevented, it is excellent also in expandability and recoverability.

尚、中間層13と基材12との間に、密着性の向上と、粘着剤層14又は基材12からの移行成分をブロックすることを目的として、更に他の層を形成してもよい。この様な他の層としては、例えば、アクリル系接着剤、ゴム系接着剤等からなるものが例示できる。   In addition, you may form another layer between the intermediate | middle layer 13 and the base material 12 for the purpose of improving adhesiveness and blocking the transfer component from the adhesive layer 14 or the base material 12. FIG. . Examples of such other layers include those made of acrylic adhesive, rubber adhesive, and the like.

(その他の事項)
以上の説明に於いては、本発明の最も好適な実施態様について説明した。しかし、本発明は当該実施態様に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一の範囲で種々の変更が可能である。
(Other matters)
In the above description, the most preferred embodiment of the present invention has been described. However, the present invention is not limited to this embodiment, and various modifications can be made within the scope substantially the same as the technical idea described in the claims of the present invention.

即ち、本発明の再剥離型粘着シートは、粘着剤層の保護のため、その上に剥離ライナーを積層した構成であってもよい。剥離ライナーは、汎用の樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、汎用の離型性を有する材料を塗布することで得られる。前記樹脂フィルムとしては特に限定されず、具体的には、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン又はポリメチルペンテン等のポリオレフィン系フィルム、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタン、エチレン酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート等が例示できる。これらの材料は1種又は2種以上を組み合わせて使用することができる。剥離ライナーは、その剥離機能及び粘着剤層の保護機能等が発揮される限り特に限定されないが、通常は、例えばシリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、脂肪酸網時計、シリカ系の剥離剤等が塗布されたポリエステルフィルムが多用される。また、その他にも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリテトラフルオロエチレンフィルム等は特殊な離型処理を施さなくとも、それ自体高い離型性を有する為、単独で使用できる。尚、前記樹脂フィルムの厚さは特に限定されず、通常は10〜100μm程度である。   That is, the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention may have a structure in which a release liner is laminated thereon for protecting the pressure-sensitive adhesive layer. The release liner is obtained by applying a general-purpose releasable material to at least one surface of a general-purpose resin film. The resin film is not particularly limited, and specifically, polyolefin film such as polyethylene, polypropylene, polybutene, polybutadiene or polymethylpentene, polyvinyl chloride, vinyl chloride copolymer, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, Examples thereof include polyurethane, ethylene vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene / (meth) acrylic acid copolymer, ethylene / (meth) acrylic acid ester copolymer, polystyrene, and polycarbonate. These materials can be used alone or in combination of two or more. The release liner is not particularly limited as long as the release function and the protective function of the pressure-sensitive adhesive layer are exhibited. Usually, for example, silicone-based, long-chain alkyl-based, fluorine-based, fatty acid network clock, silica-based release agent, etc. A polyester film coated with is often used. In addition, a polyethylene film, a polypropylene film, a polytetrafluoroethylene film, and the like can be used alone because they have a high mold release property without being subjected to a special mold release treatment. In addition, the thickness of the said resin film is not specifically limited, Usually, it is about 10-100 micrometers.

また、前記基材と中間層との間、及び中間層と粘着剤層との間には、接着性(投錨性)を向上させる目的でアンダーコート層を設けても良い。基材と中間層との間に設けるアンダーコート層の構成材料としては、粘着剤層と同種で基材との接着性に優れるアクリル酸エステル共重合体を主成分とするものが好ましく、特にエキスパンド工程に耐えられる十分な接着性と高弾性率を備えたものが好ましい。より具体的には、例えばブチルアクリレート又はそれをイソシアネート架橋する等したものが例示される。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアルキレンテレフタレート、変性アルキド樹脂、変性ナイロン、ウレタン化感光性樹脂、エチレン・ビニルアルコール共重合体、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体、ポリ塩化ビニリデンなど、基材からの可塑剤移行の影響を受け難い公知の材料も例示できる。   Moreover, you may provide an undercoat layer between the said base material and an intermediate | middle layer, and between an intermediate | middle layer and an adhesive layer in order to improve adhesiveness (anchoring property). The constituent material of the undercoat layer provided between the base material and the intermediate layer is preferably the same as the pressure-sensitive adhesive layer and mainly composed of an acrylate copolymer having excellent adhesion to the base material. What has sufficient adhesiveness and high elasticity modulus which can endure a process is preferable. More specifically, for example, butyl acrylate or a product obtained by crosslinking it with an isocyanate is exemplified. Also, from base materials such as polyethylene, polypropylene, polyalkylene terephthalate, modified alkyd resin, modified nylon, urethanated photosensitive resin, ethylene / vinyl alcohol copolymer, ethylene / (meth) acrylic acid copolymer, polyvinylidene chloride, etc. Examples of known materials that are not easily affected by the migration of plasticizers are also available.

また、前記の説明に於いては、基材の一方の側にのみ粘着剤層を設けた態様を例にして説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。即ち、基材の他方の側にも粘着剤層を設けた両面粘着シートとしても良い。この場合、基材の他方の側に於いても中間層を設けることができる。   In the above description, an example in which the pressure-sensitive adhesive layer is provided only on one side of the base material has been described as an example, but the present invention is not limited to this. That is, it is good also as a double-sided adhesive sheet which provided the adhesive layer also on the other side of the base material. In this case, an intermediate layer can also be provided on the other side of the substrate.

また、本発明に係る再剥離型粘着シートは、前記半導体ウェハの加工用に限定されるものではなく、例えば、半導体パッケージや、ガラス等のダイシング用粘着シートとしても好適である。   Moreover, the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention is not limited to the processing of the semiconductor wafer, and is also suitable as a pressure-sensitive adhesive sheet for dicing such as a semiconductor package or glass.

また、本発明に係る再剥離型粘着シートの形状は、テープ状、ラベル状などあらゆる形状を取り得る。   Further, the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention can have any shape such as a tape shape and a label shape.

以下に、この発明の好適な実施例を例示的に詳しく説明する。但し、この実施例に記載されている材料や配合量等は、特に限定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではなく、単なる説明例に過ぎない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail by way of example. However, the materials, blending amounts, and the like described in the examples are not intended to limit the scope of the present invention only to them, but are merely illustrative examples, unless otherwise specified.

(実施例1)
酢酸エチル50wt%溶液に、2−エチルヘキシルアクリレート33重量部、メチルアクリレート67重量部、アクリル酸7.5重量部、及び過酸化ベンゾイル0.2重量部を加えて重合させ、重量平均分子量約70万のアクリル系ポリマーを含有する溶液を得た。更に、この溶液100重量部に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(商品名:カヤラッドDPHA、日本化薬(株)製)80重量部、光重合開始剤(商品名:イルガキュア651、チガ・スペシャリティー・ケミカルズ社製)6.5重量部、及びポリイソシアネート化合物(商品名「コロネートL」、日本ポリウレタン(株)製)3重量部を加えて、アクリル系粘着剤溶液を調整した。
Example 1
In a 50 wt% solution of ethyl acetate, 33 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 67 parts by weight of methyl acrylate, 7.5 parts by weight of acrylic acid, and 0.2 parts by weight of benzoyl peroxide are added and polymerized to obtain a weight average molecular weight of about 700,000. A solution containing an acrylic polymer was obtained. Further, 100 parts by weight of this solution, 80 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: Kayarad DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), photopolymerization initiator (trade names: Irgacure 651, Ciga Specialty Chemicals) Acrylic pressure-sensitive adhesive solution was prepared by adding 6.5 parts by weight) and 3 parts by weight of a polyisocyanate compound (trade name “Coronate L”, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.).

このアクリル系粘着剤溶液を、離型処理された厚さ50μmのポリエステルライナー(剥離ライナー)上に塗布・乾燥し、放射線硬化型の粘着剤層(厚さ5μm)を形成した。   This acrylic pressure-sensitive adhesive solution was applied and dried on a release-treated polyester liner (release liner) having a thickness of 50 μm to form a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer (thickness 5 μm).

酢酸エチル60wt%溶液に、ブチルアクリレート100重量部、アクリル酸6.5重量部、及び過酸化ベンゾイル0.2重量部を加えて重合させ、分子量約85万のアクリル系ポリマーを含有する溶液を得た。更に、その溶液に架橋剤としてのエポキシ化合物(商品名:テトラッドC、三菱瓦斯化学(株)製)0.15重量部、及びポリイソシアネート化合物(商品名「コロネートL」、日本ポリウレタン(株)製)2.4重量部を加えて、アクリル系粘着剤溶液を調整した。   A solution containing an acrylic polymer having a molecular weight of about 850,000 is obtained by adding 100 parts by weight of butyl acrylate, 6.5 parts by weight of acrylic acid, and 0.2 parts by weight of benzoyl peroxide to a 60 wt% ethyl acetate solution for polymerization. It was. Furthermore, 0.15 parts by weight of an epoxy compound (trade name: Tetrad C, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as a crosslinking agent and a polyisocyanate compound (trade name “Coronate L”, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) ) 2.4 parts by weight were added to prepare an acrylic pressure-sensitive adhesive solution.

このアクリル系粘着剤溶液を、厚さ2μmの2軸延伸ポリエステルフィルム上に塗布・乾燥して、厚さ2μmのアンダーコート層を形成し、中間層を作製した。この中間層のアンダーコート層側に、可塑剤としてジオクチルフタレート30重量部を含有する軟質塩化ビニルフィルム(基材、厚さ100μm)を重ね合わせて、加熱処理(加熱温度75℃、加熱時間1時間)及び熱プレス処理(加熱温度75℃、加熱時間1時間、プレス圧5MPa)をした。   This acrylic pressure-sensitive adhesive solution was applied and dried on a biaxially stretched polyester film having a thickness of 2 μm to form an undercoat layer having a thickness of 2 μm, thereby producing an intermediate layer. A soft vinyl chloride film (base material, thickness 100 μm) containing 30 parts by weight of dioctyl phthalate as a plasticizer is superimposed on the undercoat layer side of this intermediate layer, and heat treatment (heating temperature 75 ° C., heating time 1 hour) ) And hot pressing (heating temperature 75 ° C., heating time 1 hour, press pressure 5 MPa).

次に、前記ポリエステルライナー上に形成された粘着剤層を、前記軟質塩化ビニルフィルム上に設けられた中間層上に転写し、本実施例1に係る再剥離型の粘着シートを作製した。転写は、加熱温度50℃、加熱時間48時間で加熱処理をし、加熱温度50℃、加熱時間12時間、プレス圧1.0MPaで熱プレス処理をすることにより行った。   Next, the pressure-sensitive adhesive layer formed on the polyester liner was transferred onto an intermediate layer provided on the soft vinyl chloride film to produce a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to Example 1. The transfer was performed by performing a heat treatment at a heating temperature of 50 ° C. and a heating time of 48 hours, and performing a heat press treatment at a heating temperature of 50 ° C., a heating time of 12 hours, and a press pressure of 1.0 MPa.

(実施例2)
本実施例に於いては、前記実施例1に於ける2軸延伸ポリエステルフィルムを厚さ4μmのものに変更し、かつ、可塑剤としてジオクチルフタレート30重量部を含有する軟質塩化ビニルフィルムを厚さ190μmのものに変更した以外は、前記実施例1と同様にして、本実施例2に係る再剥離型の粘着シートを作製した。
(Example 2)
In this example, the biaxially stretched polyester film in Example 1 was changed to one having a thickness of 4 μm, and a soft vinyl chloride film containing 30 parts by weight of dioctyl phthalate as a plasticizer was thickened. A re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness was changed to 190 μm.

(実施例3)
酢酸エチル60wt%溶液に、ブチルアクリレート100重量部、アクリル酸7.5重量部、及び過酸化ベンゾイル0.2重量部を加えて重合させ、重量平均分子量約85万のアクリル系ポリマーを含有する溶液を得た。更に、この溶液100重量部に、架橋剤としてエポキシ化合物(商品名:テトラッドC、三菱瓦斯化学(株)製)0.15重量部、及びポリイソシアネート化合物(商品名「コロネートL」、日本ポリウレタン(株)製)2.6重量部を加えて、アクリル系粘着剤溶液を調整した。このアクリル系粘着剤溶液を、前記実施例1と同様にして、離型処理された厚さ50μmのポリエステルライナー(剥離ライナー)上に塗布・乾燥し、感圧型の粘着剤層(厚さ5μm)を形成した。
(Example 3)
A solution containing an acrylic polymer having a weight average molecular weight of about 850,000, polymerized by adding 100 parts by weight of butyl acrylate, 7.5 parts by weight of acrylic acid, and 0.2 parts by weight of benzoyl peroxide to a 60 wt% solution of ethyl acetate Got. Furthermore, 0.15 parts by weight of an epoxy compound (trade name: Tetrad C, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) and a polyisocyanate compound (trade name “Coronate L”, Nippon Polyurethane (trade name) 2.6 parts by weight (manufactured by Co., Ltd.) was added to prepare an acrylic pressure-sensitive adhesive solution. In the same manner as in Example 1, this acrylic pressure-sensitive adhesive solution was applied and dried on a release-treated polyester liner (release liner) having a thickness of 50 μm, and a pressure-sensitive pressure-sensitive adhesive layer (thickness 5 μm). Formed.

更に、前記実施例1と同様にして、本実施例3に係る再剥離型の粘着シートを作製した。   Further, in the same manner as in Example 1, a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to Example 3 was produced.

(比較例1)
本比較例1に於いては、中間層として厚さ20μmの低密度ポリエチレンフィルムを用いた以外は、前記実施例1と同様にして、本比較例1に係る再剥離型の粘着シートを作製した。
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that a low-density polyethylene film having a thickness of 20 μm was used as the intermediate layer. .

(比較例2)
先ず、前記実施例1と同様にして、アクリル系粘着剤溶液を調整し、これを離型処理された厚さ50μmのポリエステルライナー上に塗布・乾燥して、放射線硬化型の粘着剤層(厚さ5μm)を形成した。
(Comparative Example 2)
First, in the same manner as in Example 1, an acrylic pressure-sensitive adhesive solution was prepared, and this was applied and dried on a 50 μm-thick polyester liner that had been subjected to a release treatment, and a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer (thickness) 5 μm) was formed.

次に、前記ポリエステルライナー上に形成された粘着剤層を軟質塩化ビニルフィルム上に転写し、本比較例2に係る再剥離型の粘着シートを作製した。転写は、加熱温度50℃、加熱時間48時間で加熱処理をし、加熱温度50℃、加熱時間12時間、プレス圧1.0MPaで熱プレス処理をすることにより行った。   Next, the pressure-sensitive adhesive layer formed on the polyester liner was transferred onto a soft vinyl chloride film, and a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to Comparative Example 2 was produced. The transfer was performed by performing a heat treatment at a heating temperature of 50 ° C. and a heating time of 48 hours, and performing a heat press treatment at a heating temperature of 50 ° C., a heating time of 12 hours, and a press pressure of 1.0 MPa.

(比較例3)
本比較例3に於いては、中間層として厚さ4μmの低密度ポリエチレンフィルムを用いた以外は、前記実施例2と同様にして、本比較例3に係る再剥離型の粘着シートを作製した。
(Comparative Example 3)
In Comparative Example 3, a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 2 except that a low-density polyethylene film having a thickness of 4 μm was used as the intermediate layer. .

(比較例4)
本比較例4に於いては、中間層として厚さ7μmの2軸延伸ポリエステルフィルムを用い、基材として厚さ230μmの軟質塩化ビニルシートを用いた以外は、前記実施例1と同様にして、本比較例4に係る再剥離型の粘着シートを作製した。
(Comparative Example 4)
In Comparative Example 4, a biaxially stretched polyester film having a thickness of 7 μm was used as the intermediate layer, and a soft vinyl chloride sheet having a thickness of 230 μm was used as the base material. A re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to Comparative Example 4 was produced.

(比較例5)
本比較例5に於いては、基材として厚さ70μmの軟質塩化ビニルシートを用いた以外は、前記実施例2と同様にして、本比較例5に係る再剥離型の粘着シートを作製した。
(Comparative Example 5)
In Comparative Example 5, a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to Comparative Example 5 was produced in the same manner as in Example 2 except that a soft vinyl chloride sheet having a thickness of 70 μm was used as the base material. .

(評価)
以上のようにして得られた再剥離型の粘着シートは、シリコンミラーウェハ(大きさ6インチ、厚さ650μm)の表面に貼り合わせ、紫外線の照射前及び照射後の粘着力をそれぞれ測定した。また、各粘着シートをそれぞれ貼り合わせたシリコンミラーウェハをダイシングしてピックアップし、その成功率を算出した。更に、ピックアップ後の各粘着シートについて復元性を検討した。これらの結果を下記表1に示す。尚、粘着力の測定条件、ダイシング条件、ピックアップ条件、復元性の評価方法は下記の通りである。
(Evaluation)
The re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet obtained as described above was bonded to the surface of a silicon mirror wafer (size 6 inches, thickness 650 μm), and the adhesive strength before and after irradiation with ultraviolet rays was measured. Moreover, the silicon mirror wafer which each bonded each adhesive sheet was diced and picked up, and the success rate was calculated. Furthermore, restoration property was examined for each pressure-sensitive adhesive sheet after pickup. These results are shown in Table 1 below. The adhesive strength measurement conditions, dicing conditions, pickup conditions, and restoration property evaluation methods are as follows.

[再剥離型粘着シートの粘着力の測定]
再剥離型の粘着シートの粘着力の測定は、次の通りにした。即ち、シリコンミラーウェハを被着体とし、実施例1〜3及び比較例1〜5に係る粘着シートをこれに貼り合せ、それぞれ30分間保持した。放射線硬化型の粘着剤層を有する粘着シートの場合には、その後、中心波長365nmの紫外線を、積算光量460mJ/cmとなるよう照射(日東精機株式会社製、照射装置:NEL UM−810)して、粘着剤層を紫外線硬化させた。更に、オリエンテック社製のTENSILON:RTM−100型を用いて、各再剥離型粘着シートの粘着力を測定した。粘着力の測定条件は下記の通りとした。
[Measurement of adhesive strength of re-peelable adhesive sheet]
The measurement of the adhesive strength of the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet was as follows. That is, the silicon mirror wafer was used as an adherend, and the pressure-sensitive adhesive sheets according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 were bonded to each other and held for 30 minutes. In the case of a pressure-sensitive adhesive sheet having a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer, irradiation with ultraviolet light having a center wavelength of 365 nm is performed so as to obtain an integrated light amount of 460 mJ / cm 2 (Nitto Seiki Co., Ltd., irradiation device: NEL UM-810). Then, the pressure-sensitive adhesive layer was UV-cured. Furthermore, the adhesive force of each re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet was measured using TENSILON: RTM-100 type manufactured by Orientec. The measurement conditions for the adhesive strength were as follows.

シート幅:20mm
剥離角度:180°
剥離速度:300mm/min
[シリコンミラーウェハのダイシング条件]
実施例1〜3、及び比較例1〜5に係る粘着シートをダイシングリングに貼合せ、更に裏面研削後のシリコンミラーウェハ(大きさ6インチ、厚さ650μm)をこの再剥離型粘着シート上に接着・固定して、以下の条件でダイシングした。
Sheet width: 20mm
Peel angle: 180 °
Peeling speed: 300mm / min
[Dicing condition of silicon mirror wafer]
The pressure-sensitive adhesive sheets according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 were bonded to a dicing ring, and a silicon mirror wafer (size 6 inches, thickness 650 μm) after back grinding was further applied to the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet. After bonding and fixing, dicing was performed under the following conditions.

ダイシング装置:ディスコ社製DFD651
ダイシング速度:120mm/sec
ダイシングブレード:ディスコ社製NBC−ZH2050HECC
ダイシングブレード回転数:40000rpm
ダイシングテープ切り込み深さ:30μm
ウェハチップサイズ:7mm×7mm
カットモード:ダウンカット
尚、シリコンミラーウェハ(大きさ6インチ、厚さ650μm)の裏面研削は、各粘着シートをその表面に貼り合わせた後、研削装置(ディスコ社製DFG−840)を用いて、シリコンミラーウェハの厚さ150μmになるまで行った。
Dicing machine: DFD651 manufactured by DISCO
Dicing speed: 120mm / sec
Dicing blade: NBC-ZH2050HECC made by DISCO
Dicing blade rotation speed: 40000 rpm
Dicing tape cutting depth: 30μm
Wafer chip size: 7mm x 7mm
Cut mode: Down cut In addition, the backside grinding of the silicon mirror wafer (size 6 inches, thickness 650 μm) is performed using a grinding device (DFG-840 manufactured by Disco Corporation) after bonding each adhesive sheet to the surface. This was performed until the thickness of the silicon mirror wafer reached 150 μm.

[ピックアップ条件]
ダイシング後の各ウェハチップのピックアップは、NESマシナリー社製のCPS−100を用いて行った。即ち、100個のチップをピックアップし、そのピックアップ成功率(不良数/全数)として算出した。ピックアップ条件は下記の通りにした。
[Pickup conditions]
Pickup of each wafer chip after dicing was performed using CPS-100 manufactured by NES Machinery. That is, 100 chips were picked up and calculated as the pick-up success rate (number of defects / total number). The pickup conditions were as follows.

ニードル数:5本
突き上げ量 :400μm
突き上げ速度:80mm/秒
引き落とし量:10mm
引き落とし後の加熱:50℃×10秒間
[復元性の評価]
ピックアップ後、ダイシングリングに貼り合わせた状態の各粘着シートを前記CPS−100から取り外し、図2に示す各粘着シートの弛み量をノギスで測定した。
Number of needles: 5 Push-up amount: 400 μm
Push-up speed: 80 mm / sec. Amount of withdrawal: 10 mm
Heating after withdrawal: 50 ° C x 10 seconds
[Restorability evaluation]
After picking up, each adhesive sheet bonded to the dicing ring was removed from the CPS-100, and the amount of looseness of each adhesive sheet shown in FIG. 2 was measured with calipers.

(結果)
表1から明らかな様に、実施例1、2に係る粘着シートに於いては、UVの照射前後で粘着力が十分に低下しているのに対し、比較例1に係る粘着シートに於いては、UV照射後の粘着力が大幅に増加していることが分かった。これにより、実施例1、2に係る粘着シートは、UV照射後に於いても各粘着剤層中に十分な量の放射線重合性化合物及び光重合開始剤を含んでおり、粘着剤層の紫外線照射による硬化機能は十分であることが確認された。
(result)
As is apparent from Table 1, in the pressure-sensitive adhesive sheets according to Examples 1 and 2, the pressure-sensitive adhesive strength was sufficiently reduced before and after UV irradiation, whereas in the pressure-sensitive adhesive sheet according to Comparative Example 1, It was found that the adhesive strength after UV irradiation was greatly increased. Thereby, the pressure-sensitive adhesive sheets according to Examples 1 and 2 contain a sufficient amount of the radiation-polymerizable compound and the photopolymerization initiator in each pressure-sensitive adhesive layer even after UV irradiation, and the pressure-sensitive adhesive layer is irradiated with ultraviolet rays. It was confirmed that the curing function by is sufficient.

また、比較例2〜4に係る粘着シートに於いては、チップのピックアップ率が30%〜100%であり、粘着シートの全面に於ける剥離性は劣っていた。その一方、実施例1〜3に係る粘着シートに於いては、チップのピックアップ成功率は100%で良好であり、粘着シートの全面に於いて優れた剥離性及びエキスパンド性を有していることが確認された。   Moreover, in the adhesive sheet which concerns on Comparative Examples 2-4, the pick-up rate of the chip | tip was 30%-100%, and the peelability in the whole surface of an adhesive sheet was inferior. On the other hand, in the pressure-sensitive adhesive sheets according to Examples 1 to 3, the chip pickup success rate is 100%, and the entire surface of the pressure-sensitive adhesive sheet has excellent peelability and expandability. Was confirmed.

更に、弛み量については、比較例1、3〜5に係る粘着シートでは弛み量が6〜8mmであったのに対し、実施例1〜3に係る粘着シートについては1〜2mm程度に抑制することができ、復元性に優れていることが確認された。   Furthermore, about the amount of looseness, in the adhesive sheet which concerns on Comparative Examples 1 and 3-5, the amount of looseness was 6-8 mm, but about the adhesive sheet which concerns on Examples 1-3, it suppresses to about 1-2 mm. It was confirmed that the restoration was excellent.

Figure 2006188607
Figure 2006188607

本発明の実施の形態に係る再剥離型粘着シートの概略構成を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows schematic structure of the re-peeling type adhesive sheet which concerns on embodiment of this invention. 再剥離型粘着シートの弛み量の測定方法を説明する為の模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the measuring method of the amount of slack of a releasable adhesive sheet.

符号の説明Explanation of symbols

11 粘着シート(再剥離型粘着シート)
12 基材
13 中間層
14 粘着剤層


11 Adhesive sheet (removable adhesive sheet)
12 Base material 13 Intermediate layer 14 Adhesive layer


Claims (2)

軟質塩化ビニルを含み構成される基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けられた粘着剤層とを有する再剥離型粘着シートであって、
前記基材と粘着剤層との間には、2軸延伸ポリエステルフィルムからなる中間層が設けられており、
(基材の厚さ)/(中間層の厚さ)≧30、かつ、(中間層の厚さ)≦5μmを満たすことを特徴とする再剥離型粘着シート。
A re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet having a base material comprising soft vinyl chloride and a pressure-sensitive adhesive layer provided on at least one surface of the base material,
Between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer, an intermediate layer made of a biaxially stretched polyester film is provided,
A re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet satisfying (thickness of base material) / (thickness of intermediate layer) ≧ 30 and (thickness of intermediate layer) ≦ 5 μm.
前記粘着剤層は、放射線硬化型の粘着剤層であることを特徴とする請求項1に記載の再剥離型粘着シート。
The re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is a radiation curable pressure-sensitive adhesive layer.
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