JP7130955B2 - Three-dimensional wiring board manufacturing method and three-dimensional wiring board - Google Patents

Three-dimensional wiring board manufacturing method and three-dimensional wiring board Download PDF

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本発明は、三次元配線基板の製造方法および三次元配線基板に関する。 The present invention relates to a three-dimensional wiring board manufacturing method and a three-dimensional wiring board.

基板内部の複数層に導体を設けた三次元配線基板が知られている。そのような三次元配線基板の一つである積層セラミック基板は、例えば、セラミックグリーンシート上に導体パターンを形成し、導体パターンを形成した複数のセラミックグリーンシートを積層して焼成することによって製造することができる。 A three-dimensional wiring board is known in which conductors are provided in a plurality of layers inside the board. A laminated ceramic substrate, which is one of such three-dimensional wiring substrates, is manufactured, for example, by forming a conductor pattern on a ceramic green sheet, laminating and firing a plurality of ceramic green sheets having the conductor pattern formed thereon. be able to.

しかしながら、セラミックグリーンシートの焼成によって基板が変形し、導体の位置が変わる場合がある。 However, firing of the ceramic green sheets may deform the substrate and change the positions of the conductors.

特許文献1には、先行セラミック基板を作製することによって、先行セラミック基板と、基板表面の先行導体パターンの変形度を予め把握し、製造後の積層セラミック基板の導体の配置位置の精度を向上させる方法が記載されている。 In Patent Document 1, by manufacturing a preceding ceramic substrate, the degree of deformation of the preceding ceramic substrate and the preceding conductor pattern on the surface of the substrate is grasped in advance, and the accuracy of the arrangement position of the conductors of the laminated ceramic substrate after manufacturing is improved. method is described.

すなわち、特許文献1に記載されている積層セラミック基板の製造方法では、先行セラミック基板を作製することによって、先行セラミック基板と先行導体パターンの変形度を把握し、先行セラミック基板と先行導体パターンの変形度に基づいて、セラミックグリーンシートに導体パターンを形成する。そして、複数のセラミックグリーンシートを積層して焼成することによって、導体の配置位置の精度を向上させた積層セラミック基板を製造する。 That is, in the method for manufacturing a laminated ceramic substrate described in Patent Document 1, the degree of deformation of the preceding ceramic substrate and the preceding conductor pattern is grasped by manufacturing the preceding ceramic substrate, and the deformation of the preceding ceramic substrate and the preceding conductor pattern is determined. A conductor pattern is formed on the ceramic green sheet based on the degree. Then, by laminating and firing a plurality of ceramic green sheets, a laminated ceramic substrate is manufactured in which the accuracy of the arrangement position of the conductor is improved.

特開2011-96821号公報JP 2011-96821 A

しかしながら、上述した製造方法では、導体パターンによって焼成時の変形度合いが変化するため、様々な導体パターンに応じた、導体の位置精度の高い基板を製造することが困難であるという問題があった。 However, in the above-described manufacturing method, the degree of deformation during firing changes depending on the conductor pattern, so there is a problem that it is difficult to manufacture a substrate with high conductor position accuracy according to various conductor patterns.

本発明は、上記課題を解決するものであり、位置精度の高い導体を有する三次元配線基板およびその製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to solve the above problems, and to provide a three-dimensional wiring board having conductors with high positional accuracy and a method of manufacturing the same.

本発明の三次元配線基板の製造方法は、
絶縁体と、前記絶縁体の内部に設けられた面内導体と、前記面内導体を支持する層間支持体とを備える三次元配線基板の製造方法であって、
焼成時に消失するシートに、前記面内導体を構成するための導体ペースト、および、前記層間支持体を構成するための層間支持体ペーストを塗工する工程と、
前記導体ペーストおよび前記層間支持体ペーストが塗工されたシートを含む複数のシートを積層して、未焼成積層体を形成する工程と、
前記未焼成積層体を焼成することによって、前記シートを消失させ、かつ、前記導体ペーストと前記層間支持体ペーストとを焼結させる工程と、
前記シートが消失した部分の少なくとも一部に絶縁材料を配置して硬化させる工程と、
を有し、前記未焼成積層体を構成する前記複数のシートには、金属導体ペーストを有するセラミックグリーンシートは含まれないことを特徴とする。
The method for manufacturing a three-dimensional wiring board of the present invention comprises:
A method for manufacturing a three-dimensional wiring board comprising an insulator, an in-plane conductor provided inside the insulator, and an interlayer support for supporting the in-plane conductor,
a step of applying a conductor paste for forming the in-plane conductor and an interlayer support paste for forming the interlayer support to a sheet that disappears during firing;
laminating a plurality of sheets including a sheet coated with the conductor paste and the interlayer support paste to form an unfired laminate;
firing the unfired laminate to eliminate the sheet and to sinter the conductor paste and the interlayer support paste;
placing and curing an insulating material on at least a portion of the portion where the sheet has disappeared;
and the plurality of sheets constituting the unfired laminate do not include a ceramic green sheet having a metal conductor paste .

前記三次元配線基板は、前記面内導体および前記層間支持体をそれぞれ複数備えたものであって、
複数の前記面内導体はそれぞれ、複数の前記層間支持体のうちの少なくとも1つと接していてもよい。
The three-dimensional wiring board includes a plurality of the in-plane conductors and the interlayer supports,
Each of the plurality of in-plane conductors may be in contact with at least one of the plurality of interlayer supports.

前記三次元配線基板の内部に位置する前記面内導体は、複数の前記層間支持体のうち少なくとも2つと接していてもよい。 The in-plane conductor positioned inside the three-dimensional wiring board may be in contact with at least two of the plurality of interlayer supports.

前記層間支持体は、ビア導体を含んでいてもよい。 The interlayer support may include via conductors.

前記層間支持体は、非導電性のセラミック体を含んでいてもよい。 The interlayer support may comprise a non-conductive ceramic body.

前記未焼成積層体の焼成後であって、かつ、前記絶縁材料を配置する前に、前記面内導体および前記層間支持体にめっき処理を施す工程をさらに備えていてもよい。 A step of plating the in-plane conductor and the interlayer support after firing the unfired laminate and before disposing the insulating material may be further included.

本発明による三次元配線基板は、金属導体を含むセラミック層を備えていない三次元配線基板であって、
焼成体ではない絶縁体と、
前記絶縁体の内部に設けられた複数の面内導体と、
前記複数の面内導体を支持する層間支持体と、
を備え、
前記面内導体の表面全体に凹凸が形成されており、
前記絶縁体は、前記面内導体の凹凸の凹部内に入り込んでおり、
前記面内導体および前記層間支持体は、焼結体であることを特徴とする。
A three-dimensional wiring board according to the present invention is a three-dimensional wiring board not provided with a ceramic layer containing a metal conductor,
an insulator that is not a sintered body ;
a plurality of in-plane conductors provided inside the insulator;
an interlayer support that supports the plurality of in-plane conductors;
with
unevenness is formed on the entire surface of the in-plane conductor,
The insulator is embedded in the concave portion of the in-plane conductor ,
The in-plane conductor and the interlayer support are sintered bodies .

前記面内導体の上面および下面の表面には、めっき膜が形成されていてもよい。 A plating film may be formed on the upper and lower surfaces of the in-plane conductor.

前記複数の面内導体は、それぞれ平板状の形状を有し、
隣り合う前記面内導体同士の間には、前記絶縁体である感湿材が配置されていてもよい。
each of the plurality of in-plane conductors has a flat plate shape,
The moisture-sensitive material, which is the insulator, may be arranged between the adjacent in-plane conductors.

前記複数の面内導体が配置されている方向の両外側には、前記金属導体を含まないセラミック層が配置されていてもよい。 Ceramic layers that do not contain the metal conductors may be arranged on both outer sides in the direction in which the plurality of in-plane conductors are arranged.

前記層間支持体は、前記絶縁体の外側表面に配置された一対の外部電極であって、
隣り合う二つの前記面内導体のうちの一方は、前記一対の外部電極のうちの一方と接続され、前記隣り合う二つの面内導体のうちの他方は、前記一対の外部電極のうちの他方と接続されていてもよい。
The interlayer support is a pair of external electrodes disposed on the outer surface of the insulator,
One of the two adjacent in-plane conductors is connected to one of the pair of external electrodes, and the other of the two adjacent in-plane conductors is connected to the other of the pair of external electrodes. may be connected to

本発明の三次元配線基板の製造方法によれば、焼成時に消失するシートに、導体ペーストおよび層間支持体ペーストを塗工して積層してから焼成することによって、シートを消失させ、シートが消失した部分の少なくとも一部に絶縁材料を配置して硬化させるので、変形が抑制され、位置精度の高い面内導体を有する三次元配線基板を製造することができる。すなわち、セラミックグリーンシート上に電極パターンを形成してから焼成する従来の製造方法のような、セラミック基板の変形によって、基板内部の導体の配置位置が設計した位置から変動してしまうことを防ぐことができる。 According to the method for manufacturing a three-dimensional wiring board of the present invention, the sheet that disappears during firing is coated with the conductor paste and the interlayer support paste, laminated, and then fired, thereby causing the sheet to disappear. Since the insulating material is placed on at least part of the cut portion and cured, deformation is suppressed, and a three-dimensional wiring board having in-plane conductors with high positional accuracy can be manufactured. In other words, it is possible to prevent the arrangement position of the conductor inside the substrate from changing from the designed position due to the deformation of the ceramic substrate as in the conventional manufacturing method in which the electrode pattern is formed on the ceramic green sheet and then fired. can be done.

また、本発明の三次元配線基板は、例えば、焼成時に消失するシート上に導体ペーストを塗工してから焼成し、シートが消失した部分に絶縁材料を配置して硬化させるような方法によって製造することにより、面内導体の表面全体に凹凸が形成され、絶縁体が面内導体の凹凸の凹部内に入り込んだ構造となる。そのような構造を有する三次元配線基板の面内導体は、変形が抑制され、位置精度が高い。 In addition, the three-dimensional wiring board of the present invention is manufactured by, for example, a method in which a conductive paste is applied on a sheet that disappears during firing and then fired, and an insulating material is placed in the portion where the sheet has disappeared and cured. As a result, unevenness is formed on the entire surface of the in-plane conductor, and the structure is such that the insulator enters into the recesses of the unevenness of the in-plane conductor. The in-plane conductors of the three-dimensional wiring board having such a structure are suppressed in deformation and have high positional accuracy.

第1の実施形態における三次元配線基板の斜視図である。1 is a perspective view of a three-dimensional wiring board according to a first embodiment; FIG. 第1の実施形態における三次元配線基板をII-II線で切断した場合の側面図である。FIG. 2 is a side view of the three-dimensional wiring board cut along line II-II in the first embodiment; 面内導体と絶縁体との界面の拡大図である。4 is an enlarged view of an interface between an in-plane conductor and an insulator; FIG. 第1の実施形態における三次元配線基板の製造方法を説明するための図である。4A to 4C are diagrams for explaining the method of manufacturing the three-dimensional wiring board according to the first embodiment; FIG. 第2の実施形態における三次元配線基板の部分拡大図であって、詳しくは、三次元配線基板内に設けられている面内導体および層間支持体の側面拡大図である。FIG. 4 is a partial enlarged view of the three-dimensional wiring board in the second embodiment, and more specifically, an enlarged side view of an in-plane conductor and an interlayer support provided in the three-dimensional wiring board. 第3の実施形態における三次元配線基板としての湿度計の斜視図である。It is a perspective view of a hygrometer as a three-dimensional wiring board in the third embodiment. 図6に示す湿度計をVII-VII線で切断した場合の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of the hygrometer shown in FIG. 6 taken along line VII-VII; 湿度計の製造方法について説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a hygrometer. 湿度計の製造工程において作製される未焼成マザー積層体の側面図である。FIG. 4 is a side view of an unfired mother laminate produced in the manufacturing process of the hygrometer. 隣り合う面内導体の間に、非導電性の層間支持体を設けた湿度計の断面図である。1 is a cross-sectional view of a hygrometer with a non-conductive interlayer support between adjacent in-plane conductors; FIG.

以下に本発明の実施形態を示して、本発明の特徴とするところを具体的に説明する。 Embodiments of the present invention will be shown below, and features of the present invention will be specifically described.

<第1の実施形態>
図1は、第1の実施形態における三次元配線基板100の斜視図である。また、図2は、第1の実施形態における三次元配線基板100をII-II線で切断した場合の側面図である。なお、図1では、図2に示す表面電極10を省略している。
<First embodiment>
FIG. 1 is a perspective view of a three-dimensional wiring board 100 according to the first embodiment. Also, FIG. 2 is a side view of the three-dimensional wiring board 100 according to the first embodiment cut along line II-II. 1, the surface electrode 10 shown in FIG. 2 is omitted.

三次元配線基板100は、絶縁体1と、複数の面内導体2と、面内導体2を支持する複数の層間支持体3とを備える。 A three-dimensional wiring board 100 includes an insulator 1 , a plurality of in-plane conductors 2 , and a plurality of interlayer supports 3 that support the in-plane conductors 2 .

絶縁体1は、例えば樹脂やガラスであって、互いに対向する一方主面1aおよび他方主面1bを有する。 The insulator 1 is made of resin or glass, for example, and has one main surface 1a and the other main surface 1b facing each other.

面内導体2は、絶縁体1の内部に、一方主面1aおよび他方主面1bと平行に設けられている。面内導体2は、高さの異なる位置、すなわち、Z軸方向における異なる位置に複数設けられており、例えばコイルやキャパシタを構成する。図1に示す構成例では、面内導体2として、絶縁体1の内部にコイルを形成する面内導体2a~2cとキャパシタを形成する面内導体2d~2eとを備える。 The in-plane conductor 2 is provided inside the insulator 1 in parallel with the one main surface 1a and the other main surface 1b. A plurality of in-plane conductors 2 are provided at different height positions, that is, different positions in the Z-axis direction, and constitute, for example, coils and capacitors. In the configuration example shown in FIG. 1, the in-plane conductors 2 include in-plane conductors 2a to 2c forming coils inside the insulator 1 and in-plane conductors 2d to 2e forming capacitors.

面内導体2は全て、複数の層間支持体3のうちの少なくとも1つと接している。特に、絶縁体1の内部に位置する面内導体2は、複数の層間支持体3のうちの少なくとも2つと接している。絶縁体1の内部に位置する面内導体2a~2eは、その両端でそれぞれ層間支持体3と接続されていてもよい。その場合、例えば、コイルを構成する面内導体2a~2cであれば、面内導体の全長をコイルパターンとすることができる。 All the in-plane conductors 2 are in contact with at least one of the multiple interlayer supports 3 . In particular, the in-plane conductors 2 located inside the insulator 1 are in contact with at least two of the plurality of interlayer supports 3 . In-plane conductors 2a to 2e located inside insulator 1 may be connected to interlayer supports 3 at both ends thereof. In this case, for example, if the in-plane conductors 2a to 2c constitute the coil, the entire length of the in-plane conductors can be used as the coil pattern.

なお、図2では、一部の面内導体2は、層間支持体3と接していない、すなわち、層間支持体3によって支持されず浮いているように見えるが、これは、図2が図1のII-II線断面図であることから、一部の面内導体2が層間支持体3と接していない領域が図示されているものであり、実際には、全ての面内導体2はいずれかの位置で層間支持体3と接している。 2, some of the in-plane conductors 2 are not in contact with the interlayer support 3, that is, appear to float without being supported by the interlayer support 3. This is because FIG. is a cross-sectional view taken along the line II-II, the figure shows a region in which some of the in-plane conductors 2 are not in contact with the interlayer support 3. Actually, all of the in-plane conductors 2 are It is in contact with the interlayer support 3 at some position.

層間支持体3は、面内導体2を支持する。より詳しくは、層間支持体3は、後述する三次元配線基板100の製造時に、Z軸方向における異なる位置に設けられている面内導体2を支持する。 An interlayer support 3 supports the in-plane conductor 2 . More specifically, the interlayer support 3 supports the in-plane conductors 2 provided at different positions in the Z-axis direction during manufacturing of the three-dimensional wiring board 100, which will be described later.

本実施形態では、層間支持体3は、絶縁体1の内部に設けられている。層間支持体3には、異なる層に設けられている複数の面内導体2間、および、面内導体2と後述する表面電極との間を導通するためのビア導体が含まれている。例えば、層間支持体3は、面内導体2a~2cとともにコイルを構成する。 In this embodiment, the interlayer support 3 is provided inside the insulator 1 . The interlayer support 3 includes via conductors for conducting between a plurality of in-plane conductors 2 provided in different layers and between the in-plane conductors 2 and surface electrodes described later. For example, the interlayer support 3 forms a coil together with the in-plane conductors 2a-2c.

層間支持体3には、導電性のビア導体の他に、非導電性の支持体が含まれていてもよい。非導電性の支持体とは、例えばセラミック材料からなるセラミック体である。層間支持体3を非導電性にすることで、例えば、図1の面内導体2dと面内導体2eの間のように層間支持体3同士で絶縁性を保ちながら、一方がもう一方を支持することができる。 The interlayer support 3 may contain a non-conductive support in addition to the conductive via conductors. A non-conducting support is, for example, a ceramic body made of ceramic material. By making the interlayer supports 3 non-conductive, one supports the other while maintaining insulation between the interlayer supports 3, such as between the in-plane conductor 2d and the in-plane conductor 2e in FIG. can do.

面内導体2および層間支持体3の表面全体には凹凸が形成されている。この凹凸は、後述するように、三次元配線基板100の製造時の焼成工程で形成される。面内導体2および層間支持体3の表面粗さRaは、例えば0.6μm以上である。 Concavities and convexities are formed on the entire surface of the in-plane conductor 2 and the interlayer support 3 . The unevenness is formed in a baking process during manufacturing of the three-dimensional wiring board 100, as will be described later. The surface roughness Ra of the in-plane conductor 2 and the interlayer support 3 is, for example, 0.6 μm or more.

なお、参考までに、従来のプリント基板上に配置されている、めっき膜が施された電極の表面粗さRaは、0.5μm以下である。 For reference, the surface roughness Ra of the plated electrode disposed on the conventional printed circuit board is 0.5 μm or less.

図3は、面内導体2と絶縁体1との界面の拡大模式図である。上述したように、面内導体2の表面には凹凸が形成されている。図3に示すように、絶縁体1は、面内導体2の表面の凹凸を構成している凹部21内に入り込んでいる。 FIG. 3 is an enlarged schematic diagram of the interface between the in-plane conductor 2 and the insulator 1. As shown in FIG. As described above, unevenness is formed on the surface of the in-plane conductor 2 . As shown in FIG. 3, the insulator 1 enters into the recesses 21 forming the unevenness of the surface of the in-plane conductor 2 .

同様に、絶縁体1は、層間支持体3の表面の凹凸を構成している凹部内にも入り込んでいる。 Similarly, the insulator 1 also enters into the recesses forming the unevenness of the surface of the interlayer support 3 .

本実施形態における三次元配線基板100は、絶縁体1の一方主面1aおよび他方主面1bに、導電性の層間支持体3と接続された表面電極10をさらに備える。表面電極10は、層間支持体3を介して、面内導体2と電気的に接続されている。表面電極10には、例えば、図示しない電子部品が実装される。 The three-dimensional wiring board 100 in this embodiment further includes surface electrodes 10 connected to the conductive interlayer support 3 on one main surface 1 a and the other main surface 1 b of the insulator 1 . Surface electrode 10 is electrically connected to in-plane conductor 2 via interlayer support 3 . An electronic component (not shown) is mounted on the surface electrode 10, for example.

(三次元配線基板の製造方法)
図4は、第1の実施形態における三次元配線基板100の製造方法を説明するための図である。
(Method for manufacturing three-dimensional wiring board)
FIG. 4 is a diagram for explaining the method of manufacturing the three-dimensional wiring board 100 according to the first embodiment.

まず、事前に用意したカーボンシート41に、面内導体2を構成するための導体ペースト42、および、層間支持体3を構成するための層間支持体ペースト43を塗工する(図4(a))。カーボンシート41は、焼成時に消失するシートである。 First, a carbon sheet 41 prepared in advance is coated with a conductor paste 42 for forming an in-plane conductor 2 and an interlayer support paste 43 for forming an interlayer support 3 (FIG. 4A). ). The carbon sheet 41 is a sheet that disappears during firing.

導体ペースト42は、カーボンシート41上に配置する。また、層間支持体ペースト43は、カーボンシート41に貫通孔を設け、この貫通孔を充填するように配置する。導体ペースト42および層間支持体ペースト43として、例えば、Ag、CuまたはNiなどを含む導電性ペーストを用いる。 Conductive paste 42 is placed on carbon sheet 41 . Further, the interlayer support paste 43 is arranged so as to fill the through holes provided in the carbon sheet 41 . Conductive paste containing Ag, Cu, Ni, or the like, for example, is used as the conductive paste 42 and the interlayer support paste 43 .

なお、導電性の層間支持体3以外に、非導電性の層間支持体3、例えばセラミック体を配置する場合には、カーボンシート41に貫通孔を設け、貫通孔にセラミックスラリーを充填すればよい。 When a non-conductive interlayer support 3 such as a ceramic body is arranged in addition to the conductive interlayer support 3, a through hole is provided in the carbon sheet 41, and the through hole is filled with ceramic slurry. .

導体ペースト42および層間支持体ペースト43を配置したカーボンシート41は、積層する各層に対応する分を作製する。三次元配線基板100の構造によっては、層間支持体ペースト43のみを配置したカーボンシート41や、導体ペースト42および層間支持体ペースト43を配置しないカーボンシート41を用意する。 The carbon sheet 41 on which the conductor paste 42 and the interlayer support paste 43 are arranged is prepared corresponding to each layer to be laminated. Depending on the structure of the three-dimensional wiring board 100, a carbon sheet 41 on which only the interlayer support paste 43 is placed or a carbon sheet 41 on which neither the conductor paste 42 nor the interlayer support paste 43 are placed is prepared.

また、積層方向の最も外側に配置するカーボンシート41には、表面電極10を構成するための表面電極ペースト44を配置する。表面電極ペースト44として、導体ペースト42および層間支持体ペースト43と同じ導電性ペーストを用いることができる。 Further, the surface electrode paste 44 for forming the surface electrode 10 is arranged on the carbon sheet 41 arranged on the outermost side in the stacking direction. As the surface electrode paste 44, the same conductive paste as the conductive paste 42 and the interlayer support paste 43 can be used.

上述した方法によって各層分用意したカーボンシート41を積層し、未焼成積層体45を作製する(図4(b))。 The carbon sheets 41 prepared for each layer are laminated by the method described above to produce an unfired laminate 45 (FIG. 4(b)).

なお、図4(b)では、カーボンシート41の輪郭線を省略している。 Note that the outline of the carbon sheet 41 is omitted in FIG. 4(b).

続いて、未焼成積層体45を焼成する。焼成温度は、例えばAgを主成分とする導体ペーストを用いる場合は900℃、Cuを主成分とする導体ペーストを用いる場合は1000℃である。未焼成積層体45を焼成することによって、カーボンシート41は消失し、導体ペースト42、層間支持体ペースト43および表面電極ペースト44は焼結する。これにより、面内導体2、層間支持体3および表面電極10だけが形成される(図4(c))。この際、カーボンシートは、セラミックグリーンシートに比べて熱収縮が小さいため、焼成による変形を抑制することができ、位置および形状を高精度に保つことができる。 Subsequently, the unfired laminate 45 is fired. The firing temperature is, for example, 900° C. when using a conductive paste containing Ag as a main component, and 1000° C. when using a conductive paste containing Cu as a main component. By firing the unfired laminate 45, the carbon sheet 41 disappears and the conductor paste 42, interlayer support paste 43 and surface electrode paste 44 are sintered. Thereby, only the in-plane conductor 2, the interlayer support 3 and the surface electrode 10 are formed (FIG. 4(c)). At this time, since the carbon sheet has less heat shrinkage than the ceramic green sheet, deformation due to firing can be suppressed, and the position and shape can be maintained with high accuracy.

また、カーボンシート41が消失し、かつ、導体ペースト42、層間支持体ペースト43および表面電極ペースト44が焼結するので、形成される面内導体2、層間支持体3および表面電極10の表面全体に凹凸が形成される。 In addition, since the carbon sheet 41 disappears and the conductor paste 42, interlayer support paste 43 and surface electrode paste 44 are sintered, the entire surface of the formed in-plane conductor 2, interlayer support 3 and surface electrode 10 is reduced. Asperities are formed on the surface.

なお、図4(c)では、どこにも接続されていない面内導体2および表面電極10が存在するように見えるが、全ての面内導体2は、いずれかの層間支持体3と接続されている。また、全ての表面電極10もいずれかの層間支持体3と接続されている。すなわち、全ての面内導体2、層間支持体3および表面電極10は一体的につながっている。 In FIG. 4(c), it seems that there are in-plane conductors 2 and surface electrodes 10 that are not connected anywhere, but all the in-plane conductors 2 are connected to any one of the interlayer supports 3. there is All the surface electrodes 10 are also connected to one of the interlayer supports 3 . That is, all in-plane conductors 2, interlayer supports 3 and surface electrodes 10 are integrally connected.

このように、焼成時にカーボンシート41が消失することによって、位置および形状が高精度に保たれた面内導体2、層間支持体3および表面電極10だけが残る。 As described above, the carbon sheet 41 disappears during firing, leaving only the in-plane conductor 2, the interlayer support 3 and the surface electrode 10 whose positions and shapes are maintained with high precision.

すなわち、導電性ペーストを塗工したセラミックグリーンシートを焼成する従来の製造方法では、焼成によってセラミックが形成される際の変形によって、導体の位置が変化する場合がある。しかしながら、本実施形態の製造方法では、上述したように、焼成によってカーボンシート41が消失するので、位置および形状が高精度に保たれた面内導体2、層間支持体3および表面電極10を形成することができる。 That is, in the conventional manufacturing method of firing a ceramic green sheet coated with a conductive paste, the positions of the conductors may change due to deformation when the ceramic is formed by firing. However, in the manufacturing method of the present embodiment, as described above, the carbon sheet 41 disappears by firing, so that the in-plane conductors 2, the interlayer supports 3 and the surface electrodes 10 whose positions and shapes are maintained with high precision are formed. can do.

最後に、カーボンシート41が消失した部分に、流動性を有する絶縁材料を流し込んで硬化させる。例えば、絶縁材料を流し込むための金型を用意して、金型内に、一体化している面内導体2、層間支持体3および表面電極10を配置する。そして、金型内に絶縁材料を流し込んで硬化させる。流動性を有する絶縁材料は、例えば熱硬化性樹脂や液体ガラスである。絶縁材料が硬化することによって、絶縁体1が形成される(図4(d))。 Finally, an insulating material having fluidity is poured into the portion where the carbon sheet 41 has disappeared and hardened. For example, a mold for pouring the insulating material is prepared, and the integrated in-plane conductor 2, interlayer support 3 and surface electrode 10 are arranged in the mold. Then, an insulating material is poured into the mold and hardened. The fluid insulating material is, for example, thermosetting resin or liquid glass. The insulator 1 is formed by hardening the insulating material (FIG. 4(d)).

絶縁材料は、カーボンシート41が消失した部分と全く同じ位置に配置する必要はない。例えば、カーボンシート41が消失した部分の一部にだけ絶縁材料を配置してもよいし、カーボンシート41が消失した部分を包含するように、より広い部分に絶縁材料を配置してもよい。 The insulating material does not have to be placed at exactly the same position where the carbon sheet 41 has disappeared. For example, the insulating material may be placed only on a portion of the portion where the carbon sheet 41 has disappeared, or the insulating material may be placed on a wider portion so as to include the portion where the carbon sheet 41 has disappeared.

すなわち、製造される三次元配線基板100が所望の形状となるように、カーボンシート41が消失した部分の少なくとも一部に絶縁材料を配置すればよい。ただし、製造された三次元配線基板100において、導電性の面内導体2および導電性の層間支持体3は、絶縁体1で覆われていることが好ましい。 In other words, the insulating material may be placed on at least a part of the portion where the carbon sheet 41 disappears so that the three-dimensional wiring board 100 to be manufactured has a desired shape. However, in the manufactured three-dimensional wiring board 100 , the conductive in-plane conductors 2 and the conductive interlayer supports 3 are preferably covered with the insulator 1 .

上記のように、カーボンシート41が消失した部分に、流動性を有する絶縁材料を流し込むので、面内導体2および層間支持体3の表面に形成されている凹凸の凹部内に絶縁材料が入り込む。これにより、製造された三次元配線基板100では、面内導体2の表面の凹凸を構成している凹部内に入り込むような態様で絶縁体1が形成され、面内導体2および層間支持体3が絶縁体1と密着する。 As described above, since the insulating material having fluidity is poured into the portion where the carbon sheet 41 has disappeared, the insulating material enters the uneven recesses formed on the surfaces of the in-plane conductor 2 and the interlayer support 3. As a result, in the manufactured three-dimensional wiring board 100, the insulator 1 is formed in such a manner as to enter the recesses forming the unevenness of the surface of the in-plane conductor 2, and the in-plane conductor 2 and the interlayer support 3 are formed. is in close contact with the insulator 1 .

なお、絶縁材料を流し込んだ際に、表面電極10の表面に絶縁材料が付着した場合には、表面に付着した絶縁材料を取り除くようにすればよい。 If the insulating material adheres to the surface of the surface electrode 10 when the insulating material is poured, the insulating material adhering to the surface may be removed.

また、表面電極ペースト44を塗工していない未焼成積層体45を作製して焼成し、絶縁体1を形成した後に、表面電極10を配置するようにしてもよい。 Alternatively, the surface electrode 10 may be arranged after the non-fired laminate 45 is produced without the surface electrode paste 44 applied and fired to form the insulator 1 .

<第2の実施形態>
第2の実施形態における三次元配線基板100Aが第1の実施形態における三次元配線基板100と異なるのは、面内導体2および層間支持体3の表面に、めっき膜が形成されている点であり、その他の構成は、第1の実施形態の場合と同様である。
<Second embodiment>
The three-dimensional wiring board 100A in the second embodiment differs from the three-dimensional wiring board 100 in the first embodiment in that a plating film is formed on the surfaces of the in-plane conductors 2 and the interlayer support 3. and other configurations are the same as in the first embodiment.

図5は、第2の実施形態における三次元配線基板100Aの部分拡大図であって、詳しくは、三次元配線基板100A内に設けられている面内導体2および層間支持体3の側面拡大図である。図5に示すように、面内導体2の上面および下面の表面には、めっき膜50が形成されている。また、面内導体2の側面の表面にも、めっき膜50が形成されている。さらに、層間支持体3の表面にもめっき膜が形成されている。図示は省略するが、表面電極10の表面にもめっき膜が形成されている。 FIG. 5 is a partial enlarged view of a three-dimensional wiring board 100A according to the second embodiment, and more specifically, an enlarged side view of an in-plane conductor 2 and an interlayer support 3 provided in the three-dimensional wiring board 100A. is. As shown in FIG. 5 , plating films 50 are formed on the upper and lower surfaces of the in-plane conductor 2 . A plated film 50 is also formed on the side surfaces of the in-plane conductors 2 . Furthermore, a plated film is also formed on the surface of the interlayer support 3 . Although illustration is omitted, a plated film is also formed on the surface of the surface electrode 10 .

めっき膜50が形成された面内導体2および層間支持体3の表面粗さRaは、めっき膜50が形成されていない面内導体2および層間支持体3の表面粗さRaと略同程度である。 The surface roughness Ra of the in-plane conductor 2 and the interlayer support 3 on which the plating film 50 is formed is approximately the same as the surface roughness Ra of the in-plane conductor 2 and the interlayer support 3 on which the plating film 50 is not formed. be.

めっき膜50の形成は、第1の実施形態で説明した三次元配線基板の製造工程のうち、未焼成積層体45の焼成後であって、かつ、絶縁材料を流し込む前に行う。めっき膜50の形成方法は、電解めっきでも無電解めっきでもよい。 The plating film 50 is formed after firing the unfired laminate 45 and before pouring the insulating material in the manufacturing process of the three-dimensional wiring board described in the first embodiment. The method of forming the plated film 50 may be electrolytic plating or electroless plating.

上述したように、未焼成積層体45の焼成後、すなわち、カーボンシート41の消失後に、面内導体2、層間支持体3および表面電極10にめっき膜を形成することにより、面内導体2、層間支持体3および表面電極10の表面全体にめっき膜を形成することができる。 As described above, after the unfired laminate 45 is fired, that is, after the carbon sheet 41 disappears, a plating film is formed on the in-plane conductors 2, the interlayer support 3, and the surface electrodes 10, whereby the in-plane conductors 2, A plating film can be formed on the entire surface of the interlayer support 3 and the surface electrode 10 .

<第3の実施形態>
上述した第1の実施形態における三次元配線基板100および第2の実施形態における三次元配線基板100Aは、例えば、コイルやキャパシタを備える基板であるものとして説明した。
<Third Embodiment>
The three-dimensional wiring board 100 in the first embodiment and the three-dimensional wiring board 100A in the second embodiment have been described as boards having coils and capacitors, for example.

第3の実施形態では、三次元配線基板が、感湿材を備えた湿度計であるものとして説明する。 In the third embodiment, it is assumed that the three-dimensional wiring board is a hygrometer having a moisture sensitive material.

図6は、第3の実施形態における三次元配線基板としての湿度計200の斜視図である。また、図7は、図6に示す湿度計200をVII-VII線で切断した場合の断面図である。 FIG. 6 is a perspective view of a hygrometer 200 as a three-dimensional wiring board according to the third embodiment. 7 is a cross-sectional view of the hygrometer 200 shown in FIG. 6 taken along line VII-VII.

湿度計200は、感湿材61と、複数の面内導体62a、62bと、一対の外部電極63a、63bと、セラミック層64とを備える。 The hygrometer 200 includes a moisture sensitive material 61 , multiple in-plane conductors 62 a and 62 b , a pair of external electrodes 63 a and 63 b and a ceramic layer 64 .

面内導体62a、62bは、それぞれ平板状の形状を有し、例えばCuを含む材料により構成されている。面内導体62aは、外部電極63a側に引き出され、外部電極63aと接続されている。また、面内導体62bは、外部電極63b側に引き出され、外部電極63bと接続されている。 The in-plane conductors 62a and 62b each have a plate-like shape and are made of a material containing Cu, for example. The in-plane conductor 62a is drawn out toward the external electrode 63a and connected to the external electrode 63a. Further, the in-plane conductor 62b is drawn out toward the external electrode 63b and connected to the external electrode 63b.

面内導体62aと面内導体62bは、Z軸方向において、感湿材61を介して交互に配置されている。Z軸方向において隣り合う面内導体62aと面内導体62bとの間隔は全て同一、または、略同一である。 The in-plane conductors 62a and the in-plane conductors 62b are alternately arranged with the moisture sensitive material 61 interposed therebetween in the Z-axis direction. The intervals between the in-plane conductors 62a and the in-plane conductors 62b that are adjacent in the Z-axis direction are all the same or substantially the same.

なお、第2の実施形態における三次元配線基板100Aの面内導体2と同様に、面内導体62aおよび面内導体62bの表面にめっき膜を形成してもよい。 A plated film may be formed on the surfaces of the in-plane conductors 62a and 62b, similarly to the in-plane conductors 2 of the three-dimensional wiring board 100A in the second embodiment.

感湿材61は、Z軸方向において隣り合う面内導体62aと面内導体62bとの間に配置されている。感湿材61として、例えば、親水性高分子であるセルロース化合物やポリビニール化合物を用いることができる。 The moisture-sensitive material 61 is arranged between an in-plane conductor 62a and an in-plane conductor 62b that are adjacent in the Z-axis direction. As the moisture-sensitive material 61, for example, a cellulose compound or a polyvinyl compound, which are hydrophilic polymers, can be used.

一対の外部電極63a、63bは、例えばCuを含む材料により構成されており、湿度計200の外側表面に、向かい合うように配置されている。本実施形態では、一対の外部電極63a、63bは、湿度を検出するための電極であって、後述する湿度計200の製造時に、Z軸方向における異なる位置に設けられている面内導体62a、62bを支持する層間支持体でもある。 The pair of external electrodes 63a and 63b are made of a material containing Cu, for example, and are arranged on the outer surface of the hygrometer 200 so as to face each other. In the present embodiment, the pair of external electrodes 63a and 63b are electrodes for detecting humidity, and in-plane conductors 62a and 63b are provided at different positions in the Z-axis direction when manufacturing the hygrometer 200, which will be described later. It is also an interlayer support that supports 62b.

湿度計200の側面のうち、外部電極63a、63bが形成されていない面には、上述した面内導体62a、62bおよび感湿材61が露出している。 Of the side surfaces of the hygrometer 200, the above-described in-plane conductors 62a and 62b and the moisture sensitive material 61 are exposed on the surfaces on which the external electrodes 63a and 63b are not formed.

セラミック層64は、面内導体62a、感湿材61および面内導体62bの積層方向であるZ軸方向の両外側に配置されている。 The ceramic layers 64 are arranged on both outer sides in the Z-axis direction, which is the stacking direction of the in-plane conductor 62a, the moisture sensitive material 61, and the in-plane conductor 62b.

上述した構成を有する湿度計200では、静電容量の変化を検出することによって、湿度を検出する。すなわち、湿度が変化すると、面内導体62aと面内導体62bとの間に配置されている感湿材61の誘電率が変化して、静電容量が変化するので、その静電容量の変化を検出することによって、湿度を検出する。 The hygrometer 200 having the configuration described above detects humidity by detecting a change in capacitance. That is, when the humidity changes, the dielectric constant of the humidity sensitive material 61 arranged between the in-plane conductors 62a and 62b changes, and the capacitance changes. Humidity is detected by detecting

本実施形態における湿度計200は、上述したように、Z軸方向に面内導体62aと面内導体62bが交互に配置され、面内導体62aと面内導体62bとの間に感湿材61を配置した構造を有する。本実施形態における湿度計200は、上述したような積層構造を有していることから、静電容量が大きくなり、その変化の幅も大きくなるので、湿度を高精度に検出することができる。 In the hygrometer 200 of this embodiment, as described above, the in-plane conductors 62a and the in-plane conductors 62b are alternately arranged in the Z-axis direction, and the moisture-sensitive material 61 is placed between the in-plane conductors 62a and 62b. It has a structure in which Since the hygrometer 200 according to the present embodiment has the laminated structure as described above, the capacitance is increased and the width of the change is also increased, so that the humidity can be detected with high accuracy.

また、Z軸方向に、面内導体62a、感湿材61および面内導体62bを積層した立体的な構造であるので、平面的に広がった形状を有する従来の湿度計と比べて、投影面積の小さい小型の湿度計とすることができる。 In addition, since the in-plane conductor 62a, the moisture-sensitive material 61, and the in-plane conductor 62b are laminated in the Z-axis direction, the three-dimensional structure has a projected area of can be a small hygrometer.

さらに、Z軸方向において隣り合う面内導体62aと面内導体62bとの間隔は全て同一、または、略同一であるので、湿度を高精度に検出することができる。 Furthermore, the distances between the in-plane conductors 62a and 62b that are adjacent in the Z-axis direction are all the same or substantially the same, so humidity can be detected with high accuracy.

(湿度計の製造方法)
図8は、湿度計200の製造方法について説明するための図である。
(Manufacturing method of hygrometer)
8A and 8B are diagrams for explaining a method for manufacturing the hygrometer 200. FIG.

事前に用意したセラミックグリーンシート71の上に、導体ペースト73を塗工したカーボンシート72を複数積層し、一番上にセラミックグリーンシート71を配置して、未焼成マザー積層体75を得る(図8(a))。導体ペースト73は、後述するように、カーボンシート72上の所定の領域に塗工する。第1の実施形態と同様に、カーボンシート72は、焼成時に消失するシートである。 A plurality of carbon sheets 72 coated with conductive paste 73 are laminated on a ceramic green sheet 71 prepared in advance, and the ceramic green sheet 71 is arranged on the top to obtain an unfired mother laminate 75 (Fig. 8(a)). The conductor paste 73 is applied to a predetermined area on the carbon sheet 72 as will be described later. As in the first embodiment, the carbon sheet 72 is a sheet that disappears during firing.

図9は、未焼成マザー積層体75の側面図である。図9に示すように、導体ペースト73は、カーボンシート72上の全ての領域には塗工せずに、所定の領域に塗工する。具体的には、後述するように、分割線80の位置で未焼成マザー積層体75を分割したときに、端面に導体ペースト73が交互に引き出されるように、導体ペースト73を塗工する。 FIG. 9 is a side view of the unfired mother laminate 75. FIG. As shown in FIG. 9, the conductive paste 73 is not applied to the entire area of the carbon sheet 72, but is applied to a predetermined area. Specifically, as will be described later, the conductor paste 73 is applied so that the conductor paste 73 is alternately pulled out from the end face when the green mother laminate 75 is divided at the division line 80 .

続いて、未焼成マザー積層体75を、ダイシング等により所定の大きさに分割して、未焼成積層体76を得る(図8(b))。 Subsequently, the unfired mother laminate 75 is divided into predetermined sizes by dicing or the like to obtain unfired laminates 76 (FIG. 8(b)).

続いて、未焼成積層体76の側面76aに、外部電極を構成するための外部電極ペースト77を塗工する(図8(c))。外部電極ペースト77は、例えばAgまたはCuを含む。 Next, an external electrode paste 77 for forming external electrodes is applied to the side surface 76a of the unfired laminate 76 (FIG. 8(c)). The external electrode paste 77 contains Ag or Cu, for example.

続いて、外部電極ペースト77を塗工した未焼成積層体76を焼成する。焼成温度は、例えばAgを主成分とする導体ペーストであれば900℃、Cuを主成分とする導体ペーストであれば1000℃である。未焼成積層体76を焼成することによって、カーボンシート72は消失し、導体ペースト73および外部電極ペースト77は焼結する。これにより、面内導体62a、62bおよび外部電極63a、63bが形成される。また、積層方向の両外側には、セラミック層64が形成される(図8(d))。 Subsequently, the unfired laminate 76 coated with the external electrode paste 77 is fired. The firing temperature is, for example, 900° C. for a conductive paste containing Ag as a main component, and 1000° C. for a conductive paste containing Cu as a main component. By firing the unfired laminate 76, the carbon sheet 72 disappears and the conductor paste 73 and the external electrode paste 77 are sintered. Thereby, in-plane conductors 62a, 62b and external electrodes 63a, 63b are formed. Also, ceramic layers 64 are formed on both outer sides in the stacking direction (FIG. 8(d)).

面内導体62aは外部電極63aと接続されており、面内導体62bは外部電極63bと接続されている。また、セラミック層64は、外部電極63aおよび63bと接続されている。これにより、面内導体62a、62b、外部電極63a、63bおよびセラミック層64が一体的に結合した構造体が得られる。 The in-plane conductor 62a is connected to the external electrode 63a, and the in-plane conductor 62b is connected to the external electrode 63b. Ceramic layer 64 is also connected to external electrodes 63a and 63b. Thereby, a structure in which the in-plane conductors 62a, 62b, the external electrodes 63a, 63b, and the ceramic layer 64 are integrally bonded is obtained.

続いて、カーボンシート72が消失した部分、すなわち、内部の空洞の部分に感湿材61を流し込んで硬化させる(図8(e))。例えば、第1の実施形態で説明したように、金型を用意し、金型内に感湿材61を流し込んで硬化させる。 Subsequently, the moisture-sensitive material 61 is poured into the portion where the carbon sheet 72 has disappeared, ie, the hollow portion inside, and is cured (FIG. 8(e)). For example, as described in the first embodiment, a mold is prepared, and the moisture-sensitive material 61 is poured into the mold and cured.

以上の工程により、湿度計200が製造される。上述したように、焼成時にカーボンシート72が消失することによって、位置および形状が高精度に保たれた面内導体62a、62bが形成される。これにより、隣り合う面内導体62aと面内導体62bとの間隔を同一または略同一とすることができるので、計測精度の高い湿度計を製造することができる。 The hygrometer 200 is manufactured through the above steps. As described above, the in-plane conductors 62a and 62b whose positions and shapes are maintained with high precision are formed by the carbon sheet 72 disappearing during firing. As a result, the interval between the adjacent in-plane conductors 62a and 62b can be made the same or substantially the same, so a hygrometer with high measurement accuracy can be manufactured.

ここで、上述した湿度計200において、Z軸方向に隣り合う面内導体62aと面内導体62bとの間に、非導電性の層間支持体を設けるようにしてもよい。 Here, in the hygrometer 200 described above, a non-conductive interlayer support may be provided between the in-plane conductors 62a and 62b adjacent to each other in the Z-axis direction.

図10は、隣り合う面内導体62aと面内導体62bとの間に、非導電性の層間支持体90を設けた湿度計200Aの断面図である。非導電性の層間支持体90は、例えば、セラミック材料からなるセラミック体である。 FIG. 10 is a cross-sectional view of a hygrometer 200A in which a non-conductive interlayer support 90 is provided between adjacent in-plane conductors 62a and 62b. The non-conductive interlayer support 90 is, for example, a ceramic body made of ceramic material.

図10に示すような非導電性の層間支持体90、例えばセラミック体を配置する場合には、上述した湿度計の製造工程において、積層するカーボンシート72に貫通孔を設け、貫通孔にセラミックスラリーを充填すればよい。 When a non-conductive interlayer support 90 such as a ceramic body is arranged as shown in FIG. should be filled.

隣り合う面内導体62aと面内導体62bとの間に非導電性の層間支持体90を設けることにより、上述した未焼成積層体76の焼成後に残る面内導体62aおよび面内導体62bの位置および形状をより確実に保つことができる。また、製造された湿度計200Aにおいて、隣り合う面内導体62aと面内導体62bとの間隔を維持することができるので、湿度の計測精度を保つことができる。 By providing a non-conductive interlayer support 90 between the adjacent in-plane conductors 62a and 62b, the positions of the in-plane conductors 62a and 62b remaining after firing the unfired laminate 76 described above are reduced. And the shape can be kept more reliably. In addition, in the manufactured hygrometer 200A, the distance between the adjacent in-plane conductors 62a and 62b can be maintained, so humidity measurement accuracy can be maintained.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能である。 The present invention is not limited to the above embodiments, and various applications and modifications can be made within the scope of the present invention.

例えば、焼成時に消失するシートがカーボンシートに限定されることはない。ただし、樹脂シートのように、消失温度が低いシートを用いると、三次元配線基板の製造工程において、導体ペーストおよび層間支持体ペーストが焼結する前に、シートが消失してしまい、位置精度の高い面内導体および層間支持体を形成することが困難になる。このため、カーボンシートのように、消失温度が高いシートを用いることが好ましい。 For example, the sheet that disappears during firing is not limited to a carbon sheet. However, if a sheet with a low vanishing temperature, such as a resin sheet, is used, the sheet vanishes before the conductive paste and the interlayer support paste are sintered in the manufacturing process of the three-dimensional wiring board, resulting in poor positional accuracy. It becomes difficult to form high in-plane conductors and interlayer supports. Therefore, it is preferable to use a sheet having a high vanishing temperature, such as a carbon sheet.

1 絶縁体
2 面内導体
3 層間支持体
10 表面電極
21 面内導体の表面の凹凸成している凹部
41 カーボンシート
42 導体ペースト
43 層間支持体ペースト
44 表面電極ペースト
45 未焼成積層体
50 めっき膜
61 感湿材
62a、62b 面内導体
63a、63b 外部電極
64 セラミック層
71 セラミックグリーンシート
72 カーボンシート
73 導体ペースト
75 未焼成マザー積層体
76 未焼成積層体
77 外部電極ペースト
90 非導電性の層間支持体
100 第1の実施形態における三次元配線基板
100A 第2の実施形態における三次元配線基板
200、200A 湿度計
Reference Signs List 1 Insulator 2 In-plane conductor 3 Interlayer support 10 Surface electrode 21 Concave portion 41 formed by uneven surface of in-plane conductor Carbon sheet 42 Conductor paste 43 Interlayer support paste 44 Surface electrode paste 45 Unfired laminate 50 Plating film 61 Moisture-sensitive materials 62a, 62b In-plane conductors 63a, 63b External electrode 64 Ceramic layer 71 Ceramic green sheet 72 Carbon sheet 73 Conductor paste 75 Unfired mother laminate 76 Unburned laminate 77 External electrode paste 90 Non-conductive interlayer support Body 100 Three-dimensional wiring board 100A in the first embodiment Three-dimensional wiring boards 200 and 200A in the second embodiment Hygrometer

Claims (11)

絶縁体と、前記絶縁体の内部に設けられた面内導体と、前記面内導体を支持する層間支持体とを備える三次元配線基板の製造方法であって、
焼成時に消失するシートに、前記面内導体を構成するための導体ペースト、および、前記層間支持体を構成するための層間支持体ペーストを塗工する工程と、
前記導体ペーストおよび前記層間支持体ペーストが塗工されたシートを含む複数のシートを積層して、未焼成積層体を形成する工程と、
前記未焼成積層体を焼成することによって、前記シートを消失させ、かつ、前記導体ペーストと前記層間支持体ペーストとを焼結させる工程と、
前記シートが消失した部分の少なくとも一部に絶縁材料を配置して硬化させる工程と、
を有し、前記未焼成積層体を構成する前記複数のシートには、金属導体ペーストを有するセラミックグリーンシートは含まれないことを特徴とする三次元配線基板の製造方法。
A method for manufacturing a three-dimensional wiring board comprising an insulator, an in-plane conductor provided inside the insulator, and an interlayer support for supporting the in-plane conductor,
a step of applying a conductor paste for forming the in-plane conductor and an interlayer support paste for forming the interlayer support to a sheet that disappears during firing;
laminating a plurality of sheets including a sheet coated with the conductor paste and the interlayer support paste to form an unfired laminate;
firing the unfired laminate to eliminate the sheet and to sinter the conductor paste and the interlayer support paste;
placing and curing an insulating material on at least a portion of the portion where the sheet has disappeared;
and wherein the plurality of sheets constituting the unfired laminate do not include ceramic green sheets having a metal conductor paste.
前記三次元配線基板は、前記面内導体および前記層間支持体をそれぞれ複数備えたものであって、
複数の前記面内導体はそれぞれ、複数の前記層間支持体のうちの少なくとも1つと接していることを特徴とする請求項1に記載の三次元配線基板の製造方法。
The three-dimensional wiring board includes a plurality of the in-plane conductors and the interlayer supports,
2. The method of manufacturing a three-dimensional wiring board according to claim 1, wherein each of the plurality of in-plane conductors is in contact with at least one of the plurality of interlayer supports.
前記三次元配線基板の内部に位置する前記面内導体は、複数の前記層間支持体のうち少なくとも2つと接していることを特徴とする請求項2に記載の三次元配線基板の製造方法。 3. The method of manufacturing a three-dimensional wiring board according to claim 2, wherein the in-plane conductor positioned inside the three-dimensional wiring board is in contact with at least two of the plurality of interlayer supports. 前記層間支持体は、ビア導体を含むことを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の三次元配線基板の製造方法。 4. The method of manufacturing a three-dimensional wiring board according to claim 1, wherein the interlayer support includes via conductors. 前記層間支持体は、非導電性のセラミック体を含むことを特徴とする請求項1~4のいずれかに記載の三次元配線基板の製造方法。 5. The method for manufacturing a three-dimensional wiring board according to claim 1, wherein the interlayer support includes a non-conductive ceramic body. 前記未焼成積層体の焼成後であって、かつ、前記絶縁材料を配置する前に、前記面内導体および前記層間支持体にめっき処理を施す工程をさらに備えることを特徴とする請求項1~5のいずれかに記載の三次元配線基板の製造方法。 The method further comprises the step of plating the in-plane conductor and the interlayer support after firing the unfired laminate and before arranging the insulating material. 6. The method for manufacturing a three-dimensional wiring board according to any one of 5. 金属導体を含むセラミック層を備えていない三次元配線基板であって、
焼成体ではない絶縁体と、
前記絶縁体の内部に設けられた複数の面内導体と、
前記複数の面内導体を支持する層間支持体と、
を備え、
前記面内導体の表面全体に凹凸が形成されており、
前記絶縁体は、前記面内導体の凹凸の凹部内に入り込んでおり、
前記面内導体および前記層間支持体は、焼結体であることを特徴とする三次元配線基板。
A three-dimensional wiring board not provided with a ceramic layer containing a metal conductor,
an insulator that is not a sintered body ;
a plurality of in-plane conductors provided inside the insulator;
an interlayer support that supports the plurality of in-plane conductors;
with
unevenness is formed on the entire surface of the in-plane conductor,
The insulator is embedded in the concave portion of the in-plane conductor ,
A three-dimensional wiring board , wherein the in-plane conductor and the interlayer support are sintered bodies .
前記面内導体の上面および下面の表面には、めっき膜が形成されていることを特徴とする請求項7に記載の三次元配線基板。 8. The three-dimensional wiring board according to claim 7, wherein plating films are formed on the upper and lower surfaces of the in-plane conductors. 前記複数の面内導体は、それぞれ平板状の形状を有し、
隣り合う前記面内導体同士の間には、前記絶縁体である感湿材が配置されていることを特徴とする請求項7または8に記載の三次元配線基板。
each of the plurality of in-plane conductors has a flat plate shape,
9. The three-dimensional wiring board according to claim 7, wherein the moisture-sensitive material, which is the insulator, is arranged between the adjacent in-plane conductors.
前記複数の面内導体が配置されている方向の両外側には、前記金属導体を含まないセラミック層が配置されていることを特徴とする請求項7~9のいずれかに記載の三次元配線基板。 The three-dimensional wiring according to any one of claims 7 to 9, characterized in that ceramic layers not containing the metal conductors are arranged on both outer sides of the direction in which the plurality of in-plane conductors are arranged. substrate. 前記層間支持体は、前記絶縁体の外側表面に配置された一対の外部電極であって、
隣り合う二つの前記面内導体のうちの一方は、前記一対の外部電極のうちの一方と接続され、前記隣り合う二つの面内導体のうちの他方は、前記一対の外部電極のうちの他方と接続されていることを特徴とする請求項7~10のいずれかに記載の三次元配線基板。
The interlayer support is a pair of external electrodes disposed on the outer surface of the insulator,
One of the two adjacent in-plane conductors is connected to one of the pair of external electrodes, and the other of the two adjacent in-plane conductors is connected to the other of the pair of external electrodes. 11. The three-dimensional wiring board according to any one of claims 7 to 10, wherein the three-dimensional wiring board is connected to the .
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008048273A (en) 2006-08-18 2008-02-28 Epson Toyocom Corp Piezoelectric device and method of manufacturing same
JP2012015405A (en) 2010-07-02 2012-01-19 Fujitsu Ltd Method of manufacturing electronic component and electronic component
JP2016225611A (en) 2015-05-27 2016-12-28 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Chip inductor
WO2017154692A1 (en) 2016-03-11 2017-09-14 株式会社村田製作所 Composite substrate and method for manufacturing composite substrate

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02151753A (en) * 1988-12-02 1990-06-11 Shinagawa Refract Co Ltd Laminated structure type humidity sensor element
JP2689756B2 (en) * 1991-04-19 1997-12-10 株式会社村田製作所 Sudden change thermistor and manufacturing method thereof
JPH05238827A (en) * 1992-02-26 1993-09-17 Tonen Corp Coating composition and coating process
JPH06160328A (en) * 1992-11-20 1994-06-07 Marcon Electron Co Ltd Ceramic humidity sensor and manufacture thereof
JPH091728A (en) * 1995-06-20 1997-01-07 Asahi Chem Ind Co Ltd Resin attached metal foil, sequential multilayered laminated plate and manufacture thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008048273A (en) 2006-08-18 2008-02-28 Epson Toyocom Corp Piezoelectric device and method of manufacturing same
JP2012015405A (en) 2010-07-02 2012-01-19 Fujitsu Ltd Method of manufacturing electronic component and electronic component
JP2016225611A (en) 2015-05-27 2016-12-28 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Chip inductor
WO2017154692A1 (en) 2016-03-11 2017-09-14 株式会社村田製作所 Composite substrate and method for manufacturing composite substrate

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