JP7101697B2 - 低減したスペックルを持つレーザ照射システム - Google Patents
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Description
本出願は、2018年3月14日に出願された米国仮出願第62/471,323号に対する優先権を主張し、その全開示は参照により本明細書に組み込まれる。
例1は、照射システムであって:
光のビームレットを発生する光変調器と;
光変調器によって利用される少なくとも1つの相対位相シフトパターンを生成、出力及び記憶するうちの少なくとも1つを行うパターン発生器であって、相対位相シフトパターンが光変調器によって利用される場合、光ビームレットのうちの少なくとも2つの隣接するビームレット間の少なくとも1つの相対位相シフトが、パターン発生器によって生成される少なくとも1つの相対位相シフトパターンに対応する、パターン発生器と;
少なくとも1つの相対位相シフトパターンを有する光のビームレットの2つの隣接するビームレットのうちの少なくとも1つの対を受け、光ビームレットの少なくとも2つの隣接するビームレットの少なくとも1つの少なくとも部分を光のビームレットの少なくとも2つの隣接するビームレットのうちの他のものの少なくとも部分の上に重ね合わせるビーム整形装置と;
を有する、照射システムを含む。
例2は、少なくとも1つの相対位相シフトパターンは、ある時間インスタンスにおける光のビームレットの少なくとも2つの隣接するビームレットの間のゼロ及びパイのうちの少なくとも1つの相対位相シフトを含む、例1の照射システムを含む。
例3は、照射システムであって:
光のビームレットを生成するピクセルを有する光変調器と;
ピクセルをアドレス指定し、ある時間インスタンスにおいて光変調器によって出力される光のビームレットの隣接するビームレットのうちの少なくとも1つの対の間のゼロ及びパイの少なくとも1つの相対位相シフトを含む少なくとも1つの相対位相シフトパターンを誘起する、制御ユニットと;
誘起された相対位相シフトを有する光のビームレットの隣接するビームレットのうちの少なくとも1つの対を受け、光ビームレットの隣接するビームレットのうちの少なくとも1つの対のうちの1つのうちの少なくとも部分を、光ビームレットの隣接するビームレットのうちの少なくとも1つの対のうちの他のものの少なくとも部分の上に重ね合わせるビーム整形装置と;
を有する、照射システムを含む。
例4は、照射システムであって:
光のビームレットを生成するピクセルを有する光変調器と;
ピクセルをアドレス指定し、ある時間インスタンスにおいて光変調器によって出力される光のビームレットの隣接するビームレットの間のゼロ及びパイの少なくとも1つの相対位相シフトを含む少なくとも1つの相対位相シフトパターンを誘起する、制御ユニットと;
誘起された相対位相シフトパターンを有する光のビームレットを受け、光のビームレットの1つ又は複数の少なくとも部分を光のビームレットの他の1つ又は複数の少なくとも部分の上に重ね合わせるビーム整形デバイスと;
を有する、照射システムを含む。
例5は、レーザ光を生成するレーザ光源をさらに有し、光変調器は、レーザ光源からのレーザ光を受ける、例4の照射システムを含む。
例6は、ビーム整形デバイスが、回折光学素子、屈折ホモジナイザ、光トンネル、及び光パイプのうちの少なくとも1つである、例4の照射システムを含む。
例7は、ビーム整形装置が回折ホモジナイザである、例4の照射システムを含む。
例8は、ビーム整形デバイスが1つ又は複数のマイクロレンズである、例4の照射システムを含む。
例9は、制御ユニットに結合される又は統合されるうちの少なくとも1つであるパターン発生器をさらに有し、パターン発生器はランダムパターン発生器であり、ランダムパターン発生器は、少なくとも2つの相対位相シフトパターンを、生成、出力、及び記憶するうちの少なくとも1つを行い、少なくとも2つの相対位相シフトパターンは、異なる時間インスタンスにおいて変化する、例4の照射システムを含む。
例10は、例4の相対位相シフトパターンを含み、光のビームレットの隣接するビームレットの間の相対位相シフトは、ある時間インスタンスにおいてゼロであり、異なる時間インスタンスにおいてパイである。
例11は、少なくとも1つの相対位相シフトパターンが予め定められたパターンである、例4の照射システムを含む。
例12は、少なくとも1つの相対位相シフトパターンは、アダマールパターンである、例4の照射システムを含む。
例13は、パターン発生器が設定可能なパターン発生器である、例9の照射システムを含む。
例14は、設定可能なパターン発生器が、ピクセルグループに対して少なくとも1つの相対位相シフトパターンを生成するように設定可能である、例13の照射システムを含む。
例15は、パターン発生器が水平に整列されたピクセルの1つ又は複数のグループに対して少なくとも1つの相対位相シフトパターンを生成するようにパターン発生器が構成される、例13の照射システムを含む。
例16は、パターン発生器が垂直に整列したピクセルの1つ又は複数のグループに対して少なくとも1つの相対位相シフトパターンを生成するようにパターン発生器が構成される、例13の照射システムを含む。
例17は、パターン発生器が光変調器のピクセルのグループに対するピクセル値の平均に対応する平均ピクセルデータを受信し、平均ピクセルデータは、パターン発生器がピクセルのグループに対するピクセル値の平均を変化させる少なくとも1つの相対位相シフトパターンを出力するように、パターン発生器を設定するために利用される、例13の照射システムを含む。
例18は、パターン発生器が少なくとも2つのランダム位相シフトパターンを生成するランダムパターン発生器であり、少なくとも2つのランダム位相シフトパターンのうちの第1のものは、第1の時間インスタンスにおいて生成され、少なくとも2つのランダム位相シフトパターンのうちの第2のものは、第2の連続する時間インスタンスにおいて生成され、少なくとも2つのランダム位相シフトパターンのうちの第1のものの生成及び出力の少なくとも一方と、少なくとも2つのランダム位相シフトパターンのうちの第2のものの生成及び出力の少なくとも一方との間の時間は、ランダムパターン発生器へのリフレッシュレート入力に従って設定される、例13の照射システムを含む。
例19は:制御ユニットに結合されるか又は統合されるかの少なくとも一方である駆動ユニットであって、制御ユニットから少なくとも1つの相対位相シフトパターンに、アクセス又はそれを受信するかの少なくとも一方を行い、駆動ユニットは、光変調器から出力される光のビームレットの少なくとも1つの相対位相シフトパターンが駆動ユニットによって受信及びアクセスの少なくとも一方が行われる少なくとも1つの相対位相シフトパターンに対応するように、光変調器のピクセルをアドレス指定する、駆動ユニットをさらに有する、例4の照射システムを含む。
例20は、光変調器がLCOSデバイスである、例4の照射システムを含む。
例21は、光変調器が、位相限定空間光変調器である、例4の照射システムを含む。
例22は、光変調器が、位相限定LCOS空間光変調器である、例4の照射システムを含む。
例23は、制御ユニットが、第1の時間インスタンスにおいて、光のビームレットの隣接するビームレット間のゼロ(0)及びパイ(π)のうちの少なくとも1つの相対位相シフトを含む第1のランダム相対位相シフトパターンを、生成、出力、及び記憶するうちの少なくとも1つを行い、制御ユニットは、第2の時間インスタンスにおいて、光のビームレットの隣接するビームレット間のゼロ(0)及びパイ(π)のうちの少なくとも1つの相対位相シフトを含む第2の異なるランダム相対位相シフトパターンを、生成、出力、及び記憶するうちの少なくとも1つを行う、例4の照射システムを含む。
例24は、制御ユニットが、第1の時間インスタンスにおいて光のビームレットの隣接するビームレット間のゼロ(0)及びパイ(π)のうちの少なくとも1つの相対位相シフトを含む第1のランダム相対位相シフトパターンを、生成、出力、及び記憶するうちの少なくとも1つを行い、制御ユニットは、第2の時間インスタンスにおいて光のビームレットの隣接するビームレット間のゼロ(0)及びパイ(π)の少なくとも1つのうちの他のものの相対位相シフトを含む第2の異なるランダム相対位相シフトパターンを、生成、出力、及び記憶するうちの少なくとも1つを行い、光変調器は、第1の時間インスタンス及び第2の時間インスタンスにおいてスペックルを有する光のビームレットを出力し、第1の時間インスタンスにおける第1のランダム相対位相シフトパターンが、第2の時間インスタンスにおける第2の異なるランダム相対位相シフトパターンと組み合わされるとき、スペックルは、ゼロ又は実質的にゼロに平均する、例4の照射システムを含む。
例25は、制御ユニットが、第1の時間インスタンスにおいて光のビームレットの隣接するビームレットの間のゼロ(0)と2パイ(2π)とを含むゼロ(0)と2パイ(2π)との間のある数のラジアンの相対位相シフトを含むランダム位相シフトパターンを、生成、出力、及び記憶するうちのうちの少なくとも1つを行う、例4の照射システムを含む。
例26は、光変調器が、水平面に対して45度の角度に配置される、例4の照射システムを含む。
例27は、光変調器が水平面に対して垂直に配置される、例4の照射システムを含む。
例28は、レーザ光源からの光が、直接的又は間接的の少なくとも一方で、光変調器に対しておおよそ実質的に垂直に送出される、例5の照射システムを含む。
例29は、レーザ光源からの光が、約45度の角度で光変調器に、直接的又は間接的の少なくとも一方で、送出される、実施例5の照射システムを含む。
例30は、照射システムであって:
光のビームレットを生成するピクセルを有する光変調器と;
ピクセルをアドレス指定し、位相変調された光のビームレットが生成されるようにある時間インスタンスにおいて隣接するピクセル間の時間的位相変動を誘起することによって光のビームレットを変調する光変調器に結合された制御ユニットと;
位相変調された光のビームレットを受け、光のビームレットの1つ又は複数の少なくとも部分を光のビームレットの他のビームレットの1つ又は複数の少なくとも部分に重ね合わせるビーム整形装置と;
を有する、照射システムを含む。
例31は、ビーム整形装置が、光のビームレットのいくつかの少なくとも部分を、画像平面において、前記光ビームレットの他のビームレットの少なくとも部分に重ね合わせる、例30の照射システムを含む。
例32は、光変調器によって生成された光のビームレットが、第1の形状を有し、ビーム整形装置は、光のビームレットを第2の異なる形状に変換する、
例30の照射システムを含む。
例33は、光変調器によって生成された光のビームレットが、ガウスビーム及び楕円ビームの少なくとも1つに対応する断面を有し、ビーム整形装置は光のビームレットを均質化された光のパターンに変換する、例30の照射システムを含む。
例34は、均質化された光のパターンが矩形である、例33の照射システムを含む。
例35は、光を光変調器に送るレーザ光源と;
レーザ光源と光変調器との間の経路に沿って配置されたビーム調整装置であって、レーザ光源からの光が光変調器に到達する前に、レーザ光源からの光を、コリメート、拡大、及び狭くするうちの少なくとも1つを行う、ビーム調整装置と;
をさらに有する、例30の照射システムを含む。
例36は、光ディレクタをさらに有し、光ディレクタは、光源からの光を受け、光変調器に光を、反射及び透過の少なくとも一方を行い、反射光及び透過光の少なくとも一方は、光変調器に対して実質的に垂直に光変調器に入射する、例30の照射システムを含む。
例37は、光ディレクタをさらに有し、光ディレクタは、光変調器からの光を受け、光をビーム整形装置に、反射及び透過の少なくとも一方を行い、反射光及び透過光のうちの少なくとも一方は、ビーム整形装置に対して実質的に垂直にビーム整形装置に入射する、例30の照射システムを含む。
例38は、光ディレクタが全内部反射(TIR)装置である、例37の照射システムを含む。
例39は、TIR装置が、一対のプリズムを有する、例38の照射システムを含む。
例40は、照射方法を含み、方法は:
光変調器で光を受けるステップであって、前記光変調器は光のビームレットを生成する、ステップと;
時間の第1のインスタンスと時間の第2のインスタンスとの間の隣接する光ビームレットの少なくともいくつかの間の位相差を変化させ、位相変調されたビームレットを生成するステップと;
位相変調されたビームレットの少なくともいくつかからの光の少なくとも部分が位相変調ビームレットの他のビームレットのいくつかからの光の少なくとも部分と重なるように位相変調されたビームレットを回折するステップと;
を含む。
例41は、ゼロ(0)とπ(π)の少なくとも1つの間の位相差を変化させるステップをさらに含む、例40の照射方法を含む。
例42は、装置であって:
光路に沿って位置決めされた第1の光変調器であって、光のビームレットの第1のセットを生成する、第1の光変調器と、
第1の修正された光を生成する第1のビーム整形装置であって、前記ビーム整形装置は、光路内の第1の光変調器の前及び後の少なくとも一方に位置決めされ、第1のビーム整形装置が第1の光変調器の前に位置決めされたとき、第1のビーム整形装置は、光源から光を受け、光変調器に、直接的又は間接的の少なくとも一方で、修正された光を回折することによって、第1の修正された光を生成し、第1の光変調装置は、修正された光を受けた後に、光のビームレットの第1のセットを生成し、第1のビーム変調装置が第1の光変調器の後に位置決めされたとき、第1の光変調器は、光源から光を受け、ビームレットの第1のセットを生成し、第1のビーム整形装置は、その後、光のビームレットの第1のセットの光を回折することによって、修正された光を生成する、第1のビーム整形装置と;
第1のビーム整形装置が第1の光変調器の前に配置されたときに生成される光のビームレットの第1のセットと、第1のビーム整形装置が第1の光変調器の後に配置されたときに生成される修正光との少なくとも1つを直接的又は間接的に受け、受けた光のビームレットの第1のセット及び修正光の少なくとも1つの振幅及び位相の少なくとも一方を変調する第2の光変調器と;
を有する、装置を含む。
例43は、第2の光変調器が、光のビームレットの第1のセット及び修正光のうちの少なくとも1つの振幅を変調する、例42の装置を含む。
例44は、第2の光変調器が、光のビームレットの第1のセット及び修正光の少なくとも1つの振幅を変調した後に画像を生成し、前記装置はさらに:
画像を受ける投影レンズ、
を有する、例43の装置を含む。
例45は、プロジェクタであって:
光の第1のビームを生成する第1の光源と;
光の第2のビームを生成する第2の光源と;
光の第1のビームを受け、光のビームレットの第1のセットを生成する第1の光変調器と;
光の第2のビームを受け、光のビームレットの第2のセットを生成する第2の光変調器と;
光のビームレットの第1のセットを受け、実質的に均一な強度の第1の均質化されたパターンの光が生成されるように光のビームレットの第1のセットを変換する、第1のビーム整形装置と;
光のビームレットの第2のセットを受け、実質的に均一な強度の第2の均質化されたパターンの光が生成されるように光のビームレットの第2のセットを変換する、第2のビーム整形装置と;
第1の均質化されたパターンの光と第2の均質化されたパターンの光を結合し、結合されたパターンの光を出力する、結合光学装置と;
結合されたパターンの光を受け、結合されたパターンの光から画像を生成する、第3の光変調器と;
を有する、プロジェクタを含む。
例46は、第1の光変調器及び前記第2の光変調器が、1つ又は複数の光源から光を受け、受けた光の位相のみを変調する、例45のプロジェクタを含む。
例47は、平均ピクセルデータが、ピクセル強度、ピクセル位相、ピクセル振幅、及びピクセル偏光データのうちの少なくとも1つに対応する、例17の照射システムを含む。
例48は、ある離散時間インスタンスにおける位相差が、ゼロ(0)及びパイ(π)の少なくとも1つである、例40の照射方法を含む。
例49は、照射システムであって:
光のビームレットを生成するピクセルを有する光変調器と;
ピクセルをアドレス指定し、ある時間インスタンスにおいて光変調器によって出力された光のビームレットの隣接するビームレット間でゼロ(0)と2パイ(2π)との間で変化する相対位相シフトを有する少なくとも1つの相対位相シフトパターンを誘起する、制御ユニットと;
誘起された相対位相シフトパターンを有する光のビームレットを受け、光のビームレットの1つ又は複数の少なくとも部分を光のビームレットの他のビームレットの1つ又は複数の少なくとも部分の上に重ね合わせる、ビーム整形デバイスと;
を有する、照射システムを含む。
例50は、光路を有する照射システムであって:
光のビームレットを生成する光変調器と;
光変調器によって利用される少なくとも1つの相対位相シフトパターンを、生成、出力、及び記憶するうちの少なくとも1つを行う、光変調器に電気的に結合されるパターン発生器であって、相対位相シフトパターンが光変調器によって利用されるとき、光のビームレットの少なくとも2つの隣接するビームレット間の少なくとも1つの相対位相シフトが、パターン発生器によって生成される少なくとも1つの相対位相シフトパターンに対応する、パターン発生器と;
光分配器であって、光分配器が、光変調器から、直接的又は間接的の少なくとも一方で、少なくとも1つの相対位相シフトパターンに対応する光のビームレットの少なくとも2つの隣接するビームレットを受け、光のビームレットの少なくとも2つの隣接するビームレットのうちの1つのビームレットの少なくとも部分を、光のビームレットの少なくとも2つの隣接するビームレットのうちの他のビームレットの少なくとも部分に重ね合わせるように、光路に沿って配置された、光分配器と;
を有する、照射システムを含む。
例51は、少なくとも1つの相対位相シフトパターンが、ある時間インスタンスにおける光のビームレットの少なくとも2つの隣接するビームレットの間で、ゼロ及びパイの乗数のうちの少なくとも一方の相対位相シフトを有し、乗数は、任意の整数又は数の分数である、例1の照射システムを含む。
例52は、光分配器が、回折ホモジナイザ、屈折ホモジナイザ、反射ホモジナイザ、及びディフューザのうちの少なくとも1つである、例1の照射システムを含む。
例53は、光変調器に電気的に結合された制御ユニットをさらに有し、パターン発生器は、制御ユニットに結合された及び制御ユニットに統合されたうちの少なくとも一方であり、パターン発生器は、ランダムパターン発生器であり、ランダムパターン発生器は、少なくとも1つの相対位相シフトパターンを、生成する、出力する、及び格納するうちの少なくとも1つを行う、例1の照射システムを含む。
例54は、少なくとも1つの相対位相シフトパターンがアダマールパターンである、例1の照射システムを含む。
例55は、パターン発生器が設定可能なパターン発生器である、例1の照射システムを含む。
例56は、光変調器がLCOSデバイスである、例1の照射システムを含む。
例57は、光変調器が位相限定空間光変調器である、例1の照射システムを含む。
例58は、光変調器が位相限定LCOS空間光変調器である、例1の照射システムを含む。
例59は、ランダムパターン発生器が、ゼロ(0)及び2パイ(2π)ラジアンを含む、ゼロ(0)及び2パイ(2π)ラジアンの間のいくつかのラジアンの相対位相シフトを有するランダム位相シフトパターンを生成する、出力する、及び格納するうちの少なくとも1つを行う、例4の照射システムを含む。
例60は、光変調器が水平面に対して45度の角度で配置される、例1の照射システムを含む。
例61は、光変調器が水平面に対して垂直に配置される、例1の照射システムを含む。
例62は、光路内に光源をさらに有し、光源からの光は、光変調器に対して実質的に垂直である角度で、直接的又は間接的の少なくとも一方で、送出される、例1の照射システムを含む。
例63は、光源をさらに有し、光源からの光が、直接的又は間接的の少なくとも一方で、光変調器に送出され、光と光変調器との間の入射角がゼロから90度の間である、例1の照射システムを含む。
例64は、光変調器によって生成された光のビームレットが、第1の形状を形成し、光分配器は、光のビームレットを、第1の形状とは異なる第2の形状に変換する、例1の照射システムを含む。
例65は、第2の形状が矩形である、例15の照射システムを含む。
例66は、光変調器に光を送るレーザ光源と;
レーザ光源からの光が光変調器に到達する前に、レーザ光源からの光を、コリメートする、拡大する、及び狭くするうちの少なくとも1つを行う、レーザ光源と光変調器との間の経路に沿って配置された、ビーム調整装置と;
をさらに有する、例1の照射システムを含む。
例67は、光ディレクタをさらに有し、光ディレクタは、光源から光を受け、光を光変調器に、反射する及び透過するうちの少なくとも一方を行い、反射した及び透過したうちの少なくとも一方の光は、光変調器に対して実質的に垂直に光変調器に入射する、例1に記載の照射システムを含む。
例68は、光ディレクタをさらに有し、光ディレクタは、光変調器からの光を受け、光を光分配器に、反射する及び透過するうちの少なくとも一方を行い、反射した及び透過したうちの少なくとも一方の光は、光分配器に対して実質的に垂直に光分配器に入射する、例1の照射システムを含む。
例69は、照射方法であって:
光変調器で光を受けるステップであって、光変調器は光のビームレットを生成する、ステップと;
第1の時間インスタンスと第2の時間インスタンスとの間で隣接する光のビームレットの少なくともいくつかの間の位相差を変化させ、位相変調されたビームレットを生成するステップと;
位相変調されたビームレットの少なくともいくつかからの光の少なくとも部分が位相変調されたビームレットの他のビームレットのいくつかからの光の少なくとも部分と重なるように位相変調されたビームレットを分配するステップと;
を含む、照射方法を含む。
例70は、光変調システムであって:
光路に沿って配置された第1の光変調器であって、光のビームレットの第1のセットを生成する、第1の光変調器と;
修正された光を生成する光分配器であって、光分配器は、光路内で第1の光変調器の前及び後の少なくとも一方に配置され、光分配器が第1の光変調器の前に配置されるとき、光分配器は、光源から光を受け、修正された光を、直接的又は間接的の少なくとも一方で、光変調器上に分配することによって第1の修正された光を生成し、第1の光変調器は、修正された光を受けた後に光のビームレットの第1のセットを生成し、光分配器が光路内で第1の光変調器の後に配置されるとき、第1の光変調器は、光源から光を受け、ビームレットの第1のセットを生成し、光分配器は、ビームレットの第1のセットを受けた後、光のビームレットの第1のセットを分配することによって修正された光を生成する、光分配器と;
光分配器が第1の光変調器の前に配置されるときに生成される光のビームレットの第1のセット、及び光分配器が第1の光変調器の後に配置されるときに生成される修正された光のうちの少なくとも1つを、直接的又は間接的に受ける第2の光変調器であって、第2の光変調器は、受けた光のビームレットの第1のセット及び修正された光のうちの少なくとも1つの振幅及び位相のうちの少なくとも1つを変調する、第2の光変調器と;
を有する、光変調システムを含む。
例71は、第2の光変調器が、光のビームレットの第1のセット及び修正された光のうちの少なくとも1つの振幅を変調する、例21の光変調システムを含む。
例72は、第2の光変調器が、光のビームレットの第1のセット及び修正された光の少なくとも1つの振幅を変調した後に画像を生成し、前記光変調システムは:
画像を受ける光路内の第2の光変調器の後に配置された観察光学系、をさらに有する、
例22の光変調システムを含む。
例73は、光分配器が、回折光学素子である回折ホモジナイザである、例3の照射システムを含む。
例74は、光分配器が、マイクロレンズアレイである屈折型ホモジナイザである、例3の照射システムを含む。
例75は、光分配器が、光トンネル及び光パイプの少なくとも一方である反射ホモジナイザである、例3の照射システムを含む。
Claims (24)
- 光路を有する照射システムであって:
光のビームレットを生成する光変調器であって、反射及び非画像形成光変調器を含む、光変調器と;
前記光変調器によって利用される少なくとも1つの相対位相シフトパターンを、生成する、出力する、及び記憶するうちの少なくとも1つを行う、前記光変調器に電気的に結合されるパターン発生器であって、前記相対位相シフトパターンが前記光変調器によって利用されるとき、前記光のビームレットの少なくとも2つの隣接するビームレット間の少なくとも1つの相対位相シフトが、前記パターン発生器によって生成される前記少なくとも1つの相対位相シフトパターンに対応する、パターン発生器と;
光分配器であって、前記光分配器が、前記光変調器から、直接的又は間接的の少なくとも一方で、前記少なくとも1つの相対位相シフトパターンに対応する前記光のビームレットの前記少なくとも2つの隣接するビームレットを受け、前記光のビームレットの前記少なくとも2つの隣接するビームレットのうちの1つのビームレットの少なくとも部分を、前記光のビームレットの前記少なくとも2つの隣接するビームレットのうちの他のビームレットの少なくとも部分の上に重ね合わせるように、前記光路に沿って配置された、光分配器と;
光ディレクタであって、前記光ディレクタは、光源から光を受け、光を前記光ディレクタに対して傾斜して設けられた前記光変調器に、反射する及び透過するうちの少なくとも一方を行い、前記の反射した及び透過したうちの少なくとも一方の光を、前記傾斜して設けられた光変調器に対して実質的に垂直に前記光変調器に入射するように案内する、光ディレクタと;
を有し、
前記光源からの光が、角度α(ゼロ度<α<90度)で前記傾斜して設けられた光変調器に到達し、前記光は、角度β(ゼロ度<β<90度)で前記傾斜して設けられた光変調器を出る、
照射システム。 - 光路を有する照射システムであって:
光のビームレットを生成する光変調器であって、反射及び非画像形成光変調器を含む、光変調器と;
前記光変調器によって利用される少なくとも1つの相対位相シフトパターンを、生成する、出力する、及び記憶するうちの少なくとも1つを行う、前記光変調器に電気的に結合されるパターン発生器であって、前記相対位相シフトパターンが前記光変調器によって利用されるとき、前記光のビームレットの少なくとも2つの隣接するビームレット間の少なくとも1つの相対位相シフトが、前記パターン発生器によって生成される前記少なくとも1つの相対位相シフトパターンに対応する、パターン発生器と;
光分配器であって、前記光分配器が、前記光変調器から、直接的又は間接的の少なくとも一方で、前記少なくとも1つの相対位相シフトパターンに対応する前記光のビームレットの前記少なくとも2つの隣接するビームレットを受け、前記光のビームレットの前記少なくとも2つの隣接するビームレットのうちの1つのビームレットの少なくとも部分を、前記光のビームレットの前記少なくとも2つの隣接するビームレットのうちの他のビームレットの少なくとも部分の上に重ね合わせるように、前記光路に沿って配置された、光分配器と;
光ディレクタであって、前記光ディレクタは、光源から光を受け、光を前記光ディレクタに対して傾斜して設けられた前記光変調器に、反射する及び透過するうちの少なくとも一方を行い、前記の反射した及び透過したうちの少なくとも一方の光を、前記傾斜して設けられた光変調器に対して実質的に垂直に前記光変調器に入射するように案内し、前記光ディレクタは、全内部反射(TIR)装置である、光ディレクタと;
を有する、
照射システム。 - 前記少なくとも1つの相対位相シフトパターンは、ある時間インスタンスにおける前記光のビームレットの前記少なくとも2つの隣接するビームレットの間で、ゼロ及びパイの乗数のうちの少なくとも一方の相対位相シフトを有し、前記乗数は、任意の整数又は数の分数である、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記光分配器は、回折ホモジナイザ、屈折ホモジナイザ、反射ホモジナイザ、及びディフューザのうちの少なくとも1つである、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記光変調器に電気的に結合された制御ユニットをさらに有し、前記パターン発生器は、前記制御ユニットに、結合された及び統合されたうちの少なくとも一方であり、前記パターン発生器は、ランダムパターン発生器であり、前記ランダムパターン発生器は、前記少なくとも1つの相対位相シフトパターンを、生成する、出力する、及び格納するうちの少なくとも1つを行う、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記少なくとも1つの相対位相シフトパターンは、アダマールパターンである、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記パターン発生器は、設定可能なパターン発生器である、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記光変調器は、LCOSデバイスである、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記光変調器は、位相限定空間光変調器である、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記光変調器は、位相限定LCOS空間光変調器である、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記ランダムパターン発生器は、ゼロ(0)及び2パイ(2π)ラジアンを含む、ゼロ(0)及び2パイ(2π)ラジアンの間のいくつかのラジアンの相対位相シフトを有するランダム位相シフトパターンを、生成する、出力する、及び格納するうちの少なくとも1つを行う、
請求項5に記載の照射システム。 - 前記光変調器は、水平面に対して45度の角度で配置される、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記光変調器は、水平面に対して垂直に配置される、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記光源は前記光路内にあり、前記光源からの前記光は、前記光変調器に対して実質的に垂直である角度で、直接的又は間接的の少なくとも一方で、送出される、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記光源からの前記光は、直接的又は間接的の少なくとも一方で、前記光変調器に送出される、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記光変調器によって生成された前記光のビームレットは、第1の形状を形成し、前記光分配器は、前記光のビームレットを、前記第1の形状とは異なる第2の形状に変換する、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記第2の形状は、矩形である、
請求項16に記載の照射システム。 - 前記光変調器に光を送るレーザ光源と;
前記レーザ光源からの光が前記光変調器に到達する前に、前記レーザ光源からの光を、コリメートする、拡大する、及び狭くするうちの少なくとも1つを行う、前記レーザ光源と前記光変調器との間の経路に沿って配置された、ビーム調整装置と;
をさらに有する、
請求項1又は2に記載の照射システム。 - 前記の反射した及び透過したうちの少なくとも一方の光は、前記光分配器に対して実質的に垂直に前記光分配器に入射する、
請求項1に記載の照射システム。 - 前記光ディレクタは、全内部反射(TIR)装置である、
請求項19に記載の照射システム。 - 前記TIR装置が、一対のプリズムを有する、
請求項2又は20に記載の照射システム。 - 前記光分配器は、回折光学素子である回折ホモジナイザである、
請求項4に記載の照射システム。 - 前記光分配器は、マイクロレンズアレイである屈折型ホモジナイザである、
請求項4に記載の照射システム。 - 前記光分配器が、光トンネル及び光パイプの少なくとも一方である反射ホモジナイザである、
請求項4に記載の照射システム。
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