JP7078521B2 - 排ガス浄化用触媒 - Google Patents
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Description
その結果、触媒層を白金及びロジウムを有する上層とパラジウムを有する下層とで構成するとともに、前記上層及び下層にセリア-ジルコニア複合酸化物及びその他の貴金属担持担体を含有させ、前記下層において、上流側のパラジウム濃度を下流側よりも高めるとともに、前記上層においてロジウムを白金に対して一定比率で含有させることで、貴金属の総量を抑制しながら、低温での活性の高い触媒が得られることを見出した。
該第一触媒層上に形成された第二触媒層と、を備えた排ガス浄化用触媒であって、
前記第一触媒層は、排ガス流動方向の上流側に配置される上流側触媒部と、排ガス流動方向の下流側に配置される下流側触媒部と、を少なくとも備えており、
前記上流側触媒部、前記下流側触媒部及び前記第二触媒層のそれぞれは、酸素貯蔵成分と、酸素貯蔵成分以外の無機酸化物とを有し、該上流側触媒部、該下流側触媒部及び該第二触媒層のそれぞれにおける酸素貯蔵成分がセリア-ジルコニア複合酸化物を有し、
前記第一触媒層は、更に、前記酸素貯蔵成分及び前記無機酸化物中に含まれてなるパラジウムを有しており、
前記第一触媒層において、前記下流側触媒部におけるパラジウムの質量濃度に対する前記上流側触媒部におけるパラジウムの質量濃度が1を超え、
前記第二触媒層は、更に、前記酸素貯蔵成分及び前記無機酸化物中に含まれてなるロジウム及び白金を有しており、
前記第二触媒層における白金含有量に対するロジウム含有量が、質量比で1以上である、排ガス浄化用触媒を提供するものである。
本実施形態の排ガス浄化用触媒の例を図1及び図2に示す。図1に示すように、排ガス浄化用触媒10は、ケーシング20内に配置されて、排気ガスの流通経路に設置されている。図2に示すように、排ガス浄化用触媒10は、多孔質基材11と、該多孔質基材11表面に形成された第一触媒層12と、第一触媒層12における多孔質基材11とは反対側の表面に形成された第二触媒層13とを有する。第二触媒層13には、更に第一触媒層12と反対側の表面に別の層が形成されている場合があり、或いは、第二触媒層13が最外層である場合もある。なお、該多孔質基材11表面に第一触媒層12が形成されていることに替えて、多孔質基材11表面に別の層を介して第一触媒層12が形成された構成であっても構わない。別の層には、触媒活性成分が含まれていても、含まれていなくても構わない。
本明細書中、「担持されている」とは、外表面又は細孔内表面に物理的又は化学的に吸着又は保持されている状態をいう。例えば、一の粒子が他の粒子を担持していることは、走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した時の粒径の測定により確認できる。一の粒子の表面上に存在している粒子の平均粒径は当該一の粒子の平均粒径に対して、10%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましく、1%以下であることが特に好ましい。ここでいう平均粒径とは、SEMで観察した時の30個以上の粒子の粒径の平均値である。
下流側触媒部15における第二触媒層13に被覆される部分の面積の好ましい割合としては、排ガス流動方向Xにおける下流側触媒部15中の第二触媒層13に被覆される部分の好ましい割合として上記した割合と同様の割合が挙げられる。
第二触媒層13中、下流側触媒部15よりも排ガス流動方向Xにおける下流側に延出する部分の面積の第一触媒層12の面積に対する好ましい割合としては、排ガス流動方向Xにおける下流側触媒部15よりも排ガス流動方向Xにおける下流側に延出する部分の延出長さの第一触媒層12の全長に対する好ましい割合として上記した割合と同様の割合が挙げられる。
また、本発明の排ガス浄化用触媒において、第二触媒層13における貴金属の含有量は、排ガス浄化用触媒10における第二触媒層13の存在部分の見かけ容積あたり、1.5g/L以下であることが好ましく、0.20g/L以上0.85g/L以下であることがより好ましい。
(1-1)CeO2-ZrO2と、酸素貯蔵成分以外の無機酸化物とを含む担体、及び、パラジウム塩を含有する水溶液を混合して、上流側触媒部14用スラリーを調製する。
(1-2)CeO2-ZrO2と、酸素貯蔵成分以外の無機酸化物とを含む担体、及び、必要に応じてパラジウム塩を含有する水溶液を混合して、下流側触媒部15用スラリーを調製する。
(1-3)CeO2-ZrO2と、酸素貯蔵成分以外の無機酸化物とを含む担体、及び、ロジウム塩及び白金塩を含有する水溶液を混合して第二触媒層13用スラリーを調製する工程。
(2)多孔質基材11における一端側に上流側触媒部14用スラリー又は下流側触媒部15の一方を塗布後、焼成し、次いで、他端側に他方の触媒部用スラリーに塗布し、焼成することにより、上流側触媒部14及び下流側触媒部15からなる第一触媒層12を形成し、次いで、多孔質基材11における第一触媒層12の表面に、第二触媒層13用スラリーを塗布後、焼成する工程。
前記(1)において、上流側触媒部14用スラリー、下流側触媒部15用スラリーそれぞれの固形分濃度は、いずれも35質量%以上45質量%以下であることが、効率よく貴金属を担持させる点や排ガス浄化性能の点で好ましい。また第二触媒層13用スラリーの固形分濃度は、20質量%以上30質量%以下であることが同様の観点から好ましい。
〔上流側触媒部(Fr)の形成〕
オキシ硝酸ジルコニウム、硝酸セリウム、硝酸ランタン、硝酸ネオジムを含む水溶液に沈殿剤として水酸化ナトリウムをpHが12.0となる量で添加した。得られた沈殿物を濾過、洗浄し、十分に乾燥させた。乾燥物を、大気雰囲気下150℃で2.5時間焼成することにより、CeO2-ZrO2である下記組成の上流側触媒部用酸素貯蔵成分を得た。なお、上流側触媒部用酸素貯蔵成分中、CeO2、La2O3、Nd2O3が及びZrO2が固溶体を形成していることは上記方法にて確認した。
上流側触媒部用酸素貯蔵成分;CeO2:30質量%、ZrO2:58質量%、La2O3:8質量%、Nd2O3:4質量%
硝酸を水に加え、0.7質量%濃度の硝酸水溶液とした。この硝酸水溶液に、上流側触媒部用酸素貯蔵成分、アルミナ及び酢酸バリウムを加えて攪拌してスラリーを得た。このスラリーに対し、硝酸パラジウムの水溶液を添加し、上流側触媒部用スラリー(固形分量40質量%)を得た。このスラリーに、コージェライト製ハニカム状多孔質基材11(日本ガイシ社製)の一端側を浸漬させて、多孔質基材11にスラリーを塗工した。その後、多孔質基材11を450℃で2.5時間焼成して、厚さ56μmの上流側触媒部14を製造した。
上流側触媒部14における貴金属種及びその濃度は表1に示す通りであった。
上流側触媒部14の貴金属種以外の成分の含有量(排ガス浄化用触媒10の上流部の見かけ容積に対する量)を以下に示す。
アルミナ:38g/L
上流側触媒部用酸素貯蔵成分:105g/L
炭酸バリウム:7.0g/L
合計:150g/L
まず、上流側触媒部用として用いた酸素貯蔵成分と同じものを下流側触媒部用酸素貯蔵成分として用意した。
硝酸を水に加え、0.7質量%濃度の硝酸水溶液とした。この硝酸水溶液に、下流側触媒部用酸素貯蔵成分、アルミナ及び酢酸バリウムを加えて攪拌してスラリーを得た。このスラリーに対し、硝酸パラジウムの水溶液を添加し、下流側触媒部用スラリー(固形分量40質量%)を得た。このスラリーに、上流側触媒部を有する多孔質基材11の他端側を浸漬させて、多孔質基材11にスラリーを塗工した。その後、多孔質基材11を450℃で2.5時間焼成して、厚さ57μmの下流側触媒部15を製造した。上流側触媒部と下流側触媒部のガス流動方向における長さ比L1:L2は1:1.67であった。また上流側触媒部と下流側触媒部の質量比は、上流側触媒部と下流側触媒部のガス流動方向における長さ比と同じであった(実施例2~21も同様)。上流側触媒部と下流側触媒部は、排ガス流動方向Xにおいて隙間なく存在し、オーバーラップした部分の長さは、排ガス流動方向における多孔質基材11のL長全長の10%以下であった。上流側触媒部と下流側触媒部からなる第一触媒層の排ガス流動方向Xの長さは、多孔質基材11の排ガス流動方向X長さと同様であった。
下流側触媒部における貴金属種及びその濃度は表1に示す通りであった。
下流側触媒部の貴金属以外の成分の含有量(排ガス浄化用触媒10の下流部の見かけ容積に対する量)を以下に示す。
アルミナ:39g/L
下流側触媒部用酸素貯蔵成分:110g/L
炭酸バリウム:1.0g/L
合計:150g/L
オキシ硝酸ジルコニウム、硝酸セリウム、硝酸ランタン、硝酸ネオジムを含む水溶液に沈殿剤として水酸化ナトリウムをpHが12.0となる量で添加した。得られた沈殿物を濾過、洗浄し、十分に乾燥させた。乾燥物を、大気雰囲気下150℃で2.5時間焼成することにより下記成分を下記質量比で含有する第二触媒層用酸素貯蔵成分を得た。
第二触媒層用酸素貯蔵成分:CeO2:15質量%、ZrO2:73質量%、La2O3:8質量%、Nd2O3:4質量%
なお、第二触媒層用酸素貯蔵成分中、CeO2、ZrO2、La2O3及びNd2O3が固溶体を形成していることは上記方法にて確認した。
硝酸を水に加え、0.7質量%濃度の硝酸水溶液とした。この硝酸水溶液に、第二触媒層用酸素貯蔵成分、アルミナ及び酢酸バリウムを加えて攪拌してスラリーを得た。このスラリーに対し、硝酸白金及び硝酸ロジウムの水溶液を添加し、第二触媒層用スラリー(固形分量30質量%)を得た。このスラリーに、第一触媒層12が形成された多孔質基材11を浸漬させて多孔質基材11にスラリーを塗工した。その後、多孔質基材11を450℃で2.5時間焼成して、厚さ47μmの第二触媒層を製造し、これにより、実施例1の排ガス浄化用触媒を製造した。第二触媒層は第一触媒層の表面全域を被覆し、第二触媒層及び第一触媒層の面積は一致していた。
第二触媒層における貴金属種及びその濃度は表1に示す通りであった。
第二触媒層の貴金属以外の成分の含有量(多孔質基材11における、第二触媒層13が塗工された部分の容積に対する量)を以下に示す。
アルミナ:14g/L
第二触媒層用酸素貯蔵成分:44g/L
炭酸バリウム:2.0g/L
合計:60g/L
貴金属の量又は第一触媒層における上流側触媒部と下流側触媒部の長さ比を表1に示すように変更した。その点以外は、実施例1と同様にして、排ガス浄化用触媒を製造した。
下記条件の耐久試験を行い、その耐久試験後の触媒について、下記方法にてT50を測定した。(耐久条件)
5~10万キロ走行を想定した劣化処理として、次のような耐久条件を課した。
・耐久用エンジン:乗用NA 2L ガソリンエンジン
・使用ガソリン:市販レギュラーガソリン
・耐久温度・時間:1000℃×40hrs+650℃×10hrs
・触媒前段空燃比変動:A/F=13.5(10sec)→14.6(20sec)→1
5.5(10sec)の繰り返し
(T50測定条件)
・評価エンジン:乗用NA 2L ガソリンエンジン
・使用ガソリン:認証試験用燃料
・触媒前段空燃比変動:A/F=14.6
・昇温速度:100℃/min
T50は、排ガス浄化用触媒に流入する評価用モデルガス温度を常温から漸次上昇させていき、HC浄化率が50%に達したときの装置入口のガス温度である。昇温時にHC、CO、NOx浄化に関するライトオフ温度T50を測定した。T50の値としては、全炭化水素量の測定は堀場製作所社製のFID検出器を用い、CO/CO2/NOx/O2濃度の測定は堀場製作所社製のPG-240を用いて行った。
12 第一触媒層
13 第二触媒層
14 上流側触媒部
15 下流側触媒部
Claims (6)
- 第一触媒層と、
該第一触媒層上に形成された第二触媒層と、を備えた排ガス浄化用触媒であって、
前記第一触媒層は、排ガス流動方向の上流側に配置される上流側触媒部と、排ガス流動方向の下流側に配置される下流側触媒部と、を少なくとも備えており、
前記上流側触媒部、前記下流側触媒部及び前記第二触媒層のそれぞれは、酸素貯蔵成分と、酸素貯蔵成分以外の無機酸化物とを有し、該上流側触媒部、該下流側触媒部及び該第二触媒層のそれぞれにおける酸素貯蔵成分がセリア-ジルコニア複合酸化物を有し、
前記第一触媒層は、更に、前記酸素貯蔵成分及び前記無機酸化物中に含まれてなるパラジウムを有しており、
前記第一触媒層において、前記下流側触媒部におけるパラジウムの質量濃度に対する前記上流側触媒部におけるパラジウムの質量濃度が1を超え、
前記第二触媒層は、更に、前記酸素貯蔵成分及び前記無機酸化物中に含まれてなるロジウム及び白金を有しており、
前記第二触媒層における白金含有量に対するロジウム含有量が、質量比で1以上である、排ガス浄化用触媒。 - 前記第一触媒層の下流側触媒部におけるパラジウムの質量濃度に対する前記上流側触媒部におけるパラジウムの質量濃度が1.5以上30以下であり、
前記第二触媒層における白金含有量に対するロジウム含有量が質量比で1.5以上4.5以下である、請求項1記載の排ガス浄化用触媒。 - 前記第二触媒層における白金含有量に対するロジウム含有量が質量比で2.0以上3.0以下である、請求項1又は2記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記上流側触媒部及び前記下流側触媒部の排ガス流動方向における長さの比(前者:後者)が、1:0.5以上3以下である、請求項1~3の何れか1項に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記上流側触媒部及び前記下流側触媒部の排ガス流動方向における長さの比(前者:後者)が、1:0.5以上2以下である、請求項1~3の何れか1項に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記第一触媒層中に含まれるパラジウムの含有量は3g/L以下である、請求項1~5の何れか1項記載の排ガス浄化用触媒。
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