JP7071196B2 - 吐出材吐出装置およびインプリント装置 - Google Patents
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Description
まず、本発明の吐出材吐出装置を備えたインプリント装置の概要を図1に基づいて説明する。本発明の吐出装置の適用範囲はインプリント装置に限定されず、例えば、半導体製造装置および液晶製造装置のような産業機器と、プリンター等のコンシューマー製品と、を含め、吐出材の吐出機能を備える種々の装置に対して広く適用可能である。また、以下においては、インプリント装置の一例として、UV光(紫外光)の照射によって樹脂を硬化させるUV光硬化型インプリント装置について説明する。本発明の吐出装置は、他の波長域の光の照射によって樹脂を硬化させるインプリント装置、および他のエネルギー(例えば、熱)によって樹脂を硬化させるインプリント装置に対して適用可能である。
図1のインプリント装置100は、ノズルから液体または液状の吐出材を吐出する吐出ヘッド11、タンク(収容部)12、および圧力制御部13を含む吐出装置10を備えている。吐出材としては、液体または液状のインプリント材(例えば、樹脂)が挙げられる。ここでは、吐出材としてレジスト8を用いた例を説明する。レジスト8は、吐出装置10の吐出ヘッド11から吐出され、基板4に付与される。インプリント装置100は、基板4に付与されたレジスト8にモールド(テンプレート)1を接触させ、その状態において、紫外光発生装置7が紫外光をレジスト8に照射してレジスト8を硬化させる。これにより、基板4のレジスト8に、モールド1のパターンが転写される。モールド1には微細な凹凸状のパターン(モールドパターン)が形成されており、そのモールドパターンに対応した素子パターンが基板4上に形成される。ベースフレーム5上のステージ6は、基板4を保持しながら移動可能である。モールド1を上下方向に移動させる移動機構2は、構造体3に保持されており、モールド1を基板4に近接させて、レジスト8を介してモールド1を基板4に押し付けることができる。モールド1の上方に備わる紫外光発生装置7は、モールド1を介してレジスト8に紫外光9を照射して、レジスト8を硬化させる。この紫外光9は、例えば、i線およびg線を発生するハロゲンランプなどの光源であり、紫外光発生装置7は、光源が発生した光を集光させる機能を持つ。
インプリント装置における不図示の検知部は、図3のように、レジスト収容部16内のレジスト8が所定量以下になったことを検知し、その検知を条件として、インプリント装置における不図示のコントローラが図4の作動液の送液処理を実行する。ここでは、レジスト8が所定量以下になったことの検知を、レジストが使い切られたと検知することとして説明する。送液処理は、レジスト8が使い切られたときに実行できればよく、さらに、ユーザの確認などの他の条件をも満たしたときに実行してもよい。検出部は、例えば、レジスト8の使用量が所定の設定使用量を超えたとき、および作動液収容部17内の圧力が所定の閾値を超えたときを、レジスト8が使い切られたときとして検知することができ、その検知方法は限定されない。レジスト8が使い切られたときとしては、吐出ヘッド11に供給できなくなるまでレジスト収容部16内のレジスト8が減少したとき、および、吐出ヘッド11に安定的に供給できなくなる程度にまでレジスト収容部16内のレジスト8が減少したときを含む。図4の送液処理の実行中は、分離膜15の移動可能な範囲内において、分離膜15が少しずつ-X方向に変形する。
図5は、本発明の第2の実施形態における吐出装置10の構成図であり、図5は、その吐出装置10における作動液の送液処理を説明するためのフローチャートである。インプリント装置における不図示のコントローラは、第1の実施形態の場合と同様に、レジスト収容部16内のレジスト8が使い切られたときに図6の作動液の送液処理を実行する。本実施形態における送液処理は、前述した第1の実施形態とは異なり、分離膜15の移動を伴わない。
前述した実施形態のインプリント装置においては、モールド1に予め形成された凹凸のパターンがウエハなどの基板4に転写される。本発明の第3の実施形態においては、モールド1に凹凸のパターンが形成されていない。
11 吐出ヘッド
12 タンク(収容部)
15 分離膜(可撓性部材)
16 レジスト収容部(第1収容空間)
17 作動液収容部(第2収容空間)
18 サブタンク
19 シリンジポンプ
Claims (10)
- 可撓性部材によって、吐出材を収容する第1収容空間と、作動液を収容する第2収容空間と、に内部空間が分離された収容部と、
前記第1収容空間から供給された吐出材を吐出する吐出ヘッドと、
前記第2収容空間内の作動液の圧力を調整することにより、前記可撓性部材を介して前記第1収容空間内の吐出材の圧力を制御する圧力制御手段と、
を備える吐出材吐出装置であって、
前記第1収容空間内の吐出材が所定量以下になったことを検知するための検知手段と、
前記検知手段による検知を条件として、前記第2収容空間内の作動液を外部に回収する回収手段と、
を備えることを特徴とする吐出材吐出装置。 - 前記回収手段は、前記圧力制御手段による前記第1収容空間内の吐出材の圧力の制御を不能とするように、第2収容空間内の作動液を外部に回収する請求項1に記載の吐出材吐出装置。
- 前記回収手段は、前記収容部が交換されるときに、事前に、前記第2収容空間内の作動液を外部に回収する請求項1または2に記載の吐出材吐出装置。
- 前記収容部は、前記吐出ヘッドは一体化されたカートリッジを構成し、前記カートリッジの単位で交換される請求項1から3のいずれか1項に記載の吐出材吐出装置。
- 前記回収手段は、前記第2収容空間内の作動液を吸引して外部に回収するポンプを含む請求項1から4のいずれか1項に記載の吐出材吐出装置。
- 前記回収手段は、前記第2収容空間内と、作動液が回収される外部と、の間における作動液の水頭差により、前記第2収容空間内の作動液を外部に回収する請求項1から4のいずれか1項に記載の吐出材吐出装置。
- 前記回収手段は、前記吐出ヘッドの内部に外部から気体を加圧導入するためのポンプを含む請求項1から6のいずれか1項に記載の吐出材吐出装置。
- 前記圧力制御手段は、作動液を収容するサブタンクと、前記サブタンク内の作動液を前記第2収容空間に供給する流路と、を含み、
前記回収手段は、前記第2収容空間内の作動液を前記サブタンク内に回収する請求項1から7のいずれか1項に記載の吐出材吐出装置。 - 前記吐出材はレジストである請求項1から8のいずれか1項に記載の吐出材吐出装置。
- 基板に付与されたインプリント材に型のパターンを転写して、前記基板を加工するインプリント装置であって、
前記インプリント材を前記基板に付与するために、前記インプリント材を吐出材として吐出する請求項1から8のいずれか1項に記載の吐出材吐出装置を備えることを特徴とするインプリント装置。
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