JP7061935B2 - 制御装置、成膜装置、制御方法、成膜方法、および制御プログラム - Google Patents
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Description
まず、図1を参照して本開示の一実施形態による成膜装置1の構成の一例を説明する。図1は、本開示の一実施形態による成膜装置1の構成の一例を示す断面図である。成膜装置1は、被処理体Wに膜を生成する装置である。成膜装置1は、例えば、化学真空蒸着(CVD)装置である。被処理体Wは、例えば、半導体装置の基板であるウェハである。
従来は、被処理体Wに膜を生成する際に、チャンバー10内における原料Aの蒸気圧(分圧)および原料Bの蒸気圧(分圧)の差が低減されるように、チャンバー10に供給される原料Aおよび原料Bの各々の流量を精度よく制御する。しかしながら、原料Aおよび原料Bの各々の流量を精度よく制御するため、原料Aおよび原料Bからの膜の生成を容易に制御することができなかった。本実施形態においては、原料Aおよび原料Bからの膜の生成を容易に制御することができる技術を提供する。
次に、図3を参照して、本開示の一実施形態による制御装置100の構成の一例を説明する。図3は、本開示の一実施形態による制御装置100の構成の一例を示すブロック図である。制御装置100は、例えば、コンピュータである。制御装置100は、記憶部110と、制御部120とを備える。
次に、図8を参照して、本開示の一実施形態による制御方法の処理手順の一例を説明する。図8は、本開示の一実施形態による制御方法の処理手順の一例を示すフローチャートである。
次に、図9を参照して、本開示の一実施形態による成膜方法の処理手順の一例を説明する。図9は、本開示の一実施形態による成膜方法の処理手順の一例を示すフローチャートである。
原料Aおよび原料Bは、被処理体Wに生成される膜に依存して選択される。原料Aおよび原料Bは、例えば、それぞれ独立に、脂肪族化合物、脂環式化合物、芳香族アルキル化合物、または芳香族化合物である。
次に、図10を参照して、本開示の一実施形態の変形例による制御装置101の構成の一例を説明する。図10は、本開示の一実施形態の変形例による制御装置101の構成の一例を示すブロック図である。図10に示す制御装置101は、図3に示す制御装置100に含まれる記憶部110および制御部120に加えて通知部130をさらに備える。なお、図10に示す制御装置101に含まれる処理部の機能のうち、図3に示す制御装置100に含まれる処理部の機能と同様の機能の説明を省略することにする。
次に、図12を参照して、本開示の一実施形態による制御方法の第1の実施例を説明する。図12は、本開示の一実施形態による制御方法の第1の実施例を説明する図である。
次に、図13を参照して、本開示の一実施形態による制御方法の第2の実施例を説明する。図13は、本開示の一実施形態による制御方法の第2の実施例を説明する図である。
次に、図14を参照して、本開示の一実施形態による制御方法の第3の実施例を説明する。図14は、本開示の一実施形態による制御方法の第3の実施例を説明する図である。
上述してきた制御装置100,101は、例えば、図15に示すような構成を備えたコンピュータ1000によって実現される。図15は、制御装置100,101の機能を実現するコンピュータの一例を示すハードウェア構成図である。コンピュータ1000は、CPU(Central Processing Unit)1100、RAM1200、ROM(Read Only Memory)1300、およびHDD(Hard Disk Drive)1400を含む。また、コンピュータ1000は、通信インターフェイス(I/F)1500、入出力インターフェイス(I/F)1600、およびメディアインターフェイス(I/F)1700を含む。
10 チャンバー
11a 第1の原料供給源
11b 第2の原料供給源
12a 第1の気化器
12b 第2の気化器
13a 第1の供給管
13b 第2の供給管
14 排気装置
15 排気管
16 捕獲装置
17 載置台
18 シャワーヘッド
100,101 制御装置
110 記憶部
111 飽和蒸気圧曲線データ
112 飽和蒸気圧設定値
120 制御部
121 受付部
122 取得部
123 選択部
124 算出部
125 制御部
130 通知部
W 被処理体
Claims (8)
- 被処理体に膜を生成するために用いられる複数種類の原料についての飽和蒸気圧曲線のデータおよび前記被処理体に膜を生成するために前記被処理体について設定された所定の飽和蒸気圧の値を取得する取得部と、
前記飽和蒸気圧曲線のデータに基づいて前記複数種類の原料のうち、ある温度において最も低い飽和蒸気圧を有する原料を選択する選択部と、
前記選択された原料についての前記飽和蒸気圧曲線のデータに基づいて前記選択された原料についての前記所定の飽和蒸気圧の値に対応する温度を算出する算出部と、
前記被処理体の温度を前記算出された温度に制御する制御部と
を備える、制御装置。 - 前記取得部は、前記被処理体について設定された第1の飽和蒸気圧の値と前記被処理体が搬入されるチャンバーおよび前記チャンバーに接続される排気管の少なくとも一方について設定された、前記第1の飽和蒸気圧の値よりも高い第2の飽和蒸気圧の値とを取得し、
前記算出部は、前記選択された原料についての前記第1の飽和蒸気圧の値に対応する第1の温度および前記第2の飽和蒸気圧の値に対応する第2の温度を算出し、
前記制御部は、前記被処理体の温度を前記第1の温度に制御し、前記チャンバーおよび前記排気管の少なくとも一方の温度を前記第2の温度に制御する、
請求項1に記載の制御装置。 - 前記取得部は、前記被処理体について設定された第1の飽和蒸気圧の値と前記被処理体が搬入されるチャンバー内で発生したパーティクルを捕獲する捕獲装置について設定された、前記第1の飽和蒸気圧の値よりも低い第3の飽和蒸気圧の値とを取得し、
前記算出部は、前記選択された原料についての前記第1の飽和蒸気圧の値に対応する第1の温度および前記第3の飽和蒸気圧の値に対応する第3の温度を算出し、
前記制御部は、前記被処理体の温度を前記第1の温度に制御し、前記捕獲装置の温度を前記第3の温度に制御する、
請求項1または2に記載の制御装置。 - 前記複数種類の原料は、前記ある温度において最も低い飽和蒸気圧を有する原料および前記ある温度において前記最も低い飽和蒸気圧よりも少なくとも10倍高い飽和蒸気圧を有する少なくとも一つの原料を含む、
請求項1から3のいずれか一項に記載の制御装置。 - 被処理体が搬入されるチャンバーと、
前記被処理体に膜を生成するために用いられる複数種類の原料をそれぞれ収容する複数の原料供給源と、
前記チャンバーへ前記複数種類の原料をそれぞれ供給する複数の供給管と、
前記チャンバーに接続される排気管と、
請求項1から4のいずれか一項に記載の制御装置と
を備える、成膜装置。 - 被処理体に膜を生成するために用いられる複数種類の原料についての飽和蒸気圧曲線のデータおよび前記被処理体に膜を生成するために前記被処理体について設定された所定の飽和蒸気圧の値を取得することと、
前記飽和蒸気圧曲線のデータに基づいて前記複数種類の原料のうち、ある温度において最も低い飽和蒸気圧を有する原料を選択することと、
前記選択された原料についての前記飽和蒸気圧曲線のデータに基づいて前記選択された原料についての前記所定の飽和蒸気圧の値に対応する温度を算出することと、
前記被処理体の温度を前記算出された温度に制御することと
を含む、制御方法。 - 請求項6に記載の制御方法と、
前記複数種類の原料を用いて前記被処理体に前記膜を生成することと
を含む、成膜方法。 - 被処理体に膜を生成するために用いられる複数種類の原料についての飽和蒸気圧曲線のデータおよび前記被処理体に膜を生成するために前記被処理体について設定された所定の飽和蒸気圧の値を取得することと、
前記飽和蒸気圧曲線のデータに基づいて前記複数種類の原料のうち、ある温度において最も低い飽和蒸気圧を有する原料を選択することと、
前記選択された原料についての前記飽和蒸気圧曲線のデータに基づいて前記選択された原料についての前記所定の飽和蒸気圧の値に対応する温度を算出することと、
前記被処理体の温度を前記算出された温度に制御することと
を含む処理をコンピュータに実行させる制御プログラム。
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