JP7056685B2 - シリコンウェーハのエッチング方法 - Google Patents
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Description
スピンエッチング装置を用いて、シリコンウェーハのエッチングを行った。使用した酸エッチング液は弗酸と硝酸の混合液であり、混合比は質量%で、弗酸が10%、硝酸が51%とした。衝突噴流域内に滴下する混酸としても、この酸エッチング液を用いた。なお、供給ノズルは内径が25mmのものである。エッチング装置内の真空吸着ステージ上に、シリコンウェーハとして直径300mmのPWを載置し真空吸着して保持させた。シリコンウェーハの回転を開始する前に、酸エッチング液を供給ノズルから30mL滴下し、供給ノズル直下の直径30mmの範囲を酸エッチング液で覆った。滴下した時から2秒後にシリコンウェーハの回転を開始し、所定の回転数となったときに酸エッチング液を供給してスピンエッチングを行い、純水の供給に切替えて酸エッチング液を除去し、さらに薬液の供給を止めてシリコンウェーハを乾燥させた。エッチングは、平均10μmのエッチング量として行った。
シリコンウェーハの回転を開始する前の混酸(酸エッチング液)の滴下を行わなかったこと以外は実施例と同じ条件で、シリコンウェーハのスピンエッチング及び評価を行った。
5…混酸タンク、 6…エッチング液タンク、 7…給水源、 8…酸エッチング液、
9…水、 10…混酸、 11…液滴、 20…衝突噴流域、
100…エッチング装置。
Claims (5)
- シリコンウェーハの表面又は裏面に供給ノズルを通して酸エッチング液を供給しながら、前記シリコンウェーハを回転させることで、前記酸エッチング液の供給範囲を前記シリコンウェーハの表面又は裏面の全面に拡大して酸エッチングを行うスピンエッチング工程を含むシリコンウェーハのエッチング方法であって、
前記シリコンウェーハの回転を開始する前に、前記供給ノズルから供給される前記酸エッチング液が前記供給ノズルの直下で前記シリコンウェーハの表面に衝突する衝突噴流域内に、少なくとも弗酸及び硝酸を含む混酸を滴下して、前記衝突噴流域を前記混酸で覆った後に、前記混酸を供給しない状態で前記シリコンウェーハの回転を開始して前記スピンエッチング工程を行うことを特徴とするシリコンウェーハのエッチング方法。 - 前記衝突噴流域は、前記供給ノズルの内径の0.8倍以上、1.6倍以下の直径を有する円形領域であることを特徴とする請求項1に記載のシリコンウェーハのエッチング方法。
- 前記シリコンウェーハの回転を開始する前に滴下する混酸の液量を20~50mLとすることを特徴とする請求項1又は2に記載のシリコンウェーハのエッチング方法。
- 前記衝突噴流域内に前記混酸を滴下した後、1秒以上、2秒以下の時間が経過する間に、前記シリコンウェーハの回転を開始して酸エッチングを行うことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のシリコンウェーハのエッチング方法。
- 前記酸エッチング液として、弗酸及び硝酸を含む混合液、又は、該混合液に酢酸、燐酸、硫酸のいずれか1つ以上を加えた混合液を用いることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のシリコンウェーハのエッチング方法。
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