JP7056590B2 - 空気流量測定装置 - Google Patents

Description

本発明は、空気流量測定装置に関するものである。

従来、空気が流れる主通路に設置され、主流路を流れる空気流量を測定する空気流量測定装置が知られている。
特許文献１に記載の空気流量測定装置は、エンジンの吸気管の内側に形成される主流路としての吸気通路に設置される。この空気流量測定装置が備えるハウジングは、主通路の上流側に配置される前面、主通路の下流側に配置される後面、および、前面と後面とを接続する側面を有している。そして、ハウジングの内側には、第１副通路および第２副通路が形成されている。なお、特許文献１では、第１副通路はバイパス流路と呼ばれ、第２副通路はサブバイパス流路と呼ばれている。

第１副通路は、ハウジングの前面に設けられる第１副通路入口と、ハウジングの後面に設けられる第１副通路出口とを連通している。第２副通路は、第１副通路の途中に設けられる第２副通路入口と、ハウジングの側面に設けられる第２副通路出口とを連通している。第２副通路の途中に、第２副通路を流れる空気流量に応じた信号を出力する流量検出部が設けられている。
これにより、この空気流量測定装置は、第１副通路入口から第１副通路に流入する空気に含まれるダストを慣性力によって第１副通路出口から排出し、ダストを含まない空気を第２副通路に流すことで、流量検出部にダストが付着することを防いでいる。

さらに、この空気流量測定装置は、第１副通路の流量検出部側の内壁面が、上流側から下流側に向かい、第２副通路入口から遠ざかるように湾曲している。また、第１副通路の流量検出部側の内壁のうち第２副通路入口の上流側の部位は、第１副通路の流量検出部側の内壁のうち第２副通路入口の下流側の部位に対し、流量検出部から遠い位置にある。これにより、この空気流量測定装置は、第１副通路を流れる空気に含まれるダストが第１副通路の内壁面に衝突して跳ね返った場合でも、そのダストが第２副通路に侵入することを防いでいる。

特開２０１３－２４６５４号公報

ところで、特許文献１に記載の空気流量測定装置が備えるハウジングは、射出成形により形成される。その際、射出成形用金型の分割部（即ち、パーティングライン）がハウジングの後面等に配置されると、その箇所に金型の型分割痕が形成される。上記特許文献１には、ハウジングに形成される型分割痕の位置に関する言及はされていない。ハウジングに形成される型分割痕の位置に関し、発明者らの検討の結果、次のことが見出された。

ハウジングに形成される型分割痕は、その金型が初期状態のときは小さな痕となって現れる。しかし、金型が長期間使用され、経年変化などにより金型の分割部に隙間が生じた場合、型分割痕にバリが発生することがある。仮に、ハウジングの後面の型分割痕にバリが発生し、そのバリが第１副通路出口側に倒れるように変形した場合、そのバリは第１副通路出口に突出することが考えられる。その場合、第１副通路出口の空気流れが阻害されると共に、第１副通路を流れたダストがバリによって第１副通路内に跳ね返され、第２副通路入口から第２副通路に侵入するおそれがある。ここで、第２副通路は、第２副通路入口から流量検出部を通り第２副通路出口へ向けて空気が流れている。そのため、第２副通路入口から第２副通路に侵入したダストは、第２副通路の空気流れと共に流量検出部側へ移動し、流量検出部に付着することが考えられる。流量検出部にダストが付着すると、流量検出部の出力信号に誤差が生じ、空気流量測定装置による空気流量の検出精度が悪化するおそれがある。このように、空気流量測定装置のハウジングが第１副通路と第２副通路とを有する構成である場合、そのハウジングに形成される型分割痕の位置が空気流量の検出精度に大きく影響する可能性のあることが、発明者らの検討により見出された。

本発明は上記点に鑑みて、検出精度の信頼性を向上することの可能な空気流量測定装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、請求項１に係る発明は、
空気が流れる主通路（１０２）に設置される空気流量測定装置において、
主通路の上流側に配置される前面（５）、主通路の下流側に配置される後面（６）、および、前面と後面とを接続する側面（７）を有し、射出成形により形成されるハウジング（２）と、
ハウジングに設けられ、前面に設けられる第１副通路入口（１１）と後面に設けられる第１副通路出口（１２）とを連通する第１副通路（１０）と、
ハウジングに設けられ、第１副通路の途中に設けられる第２副通路入口（２１）と第１副通路出口とは別の位置に設けられる第２副通路出口（２２）とを連通する第２副通路（２０）と、
第２副通路内に設けられ、第２副通路を流れる空気の流量に応じた信号を出力する流量検出部（３０）と、
ハウジングの後面のうち第１副通路出口の内側開口縁（１２ａ）から離れた位置に設けられる型分割痕（４０）と、を備える。

これによれば、射出成形用金型の分割部の痕である型分割痕は、ハウジングの後面のうち第１副通路出口の内側開口縁から離れた位置に設けられる。そのため、射出成形用金型の経年変化などによりハウジングの後面の型分割痕にバリが発生し、そのバリが第１副通路出口側に変形した場合でも、第１副通路出口にバリが突出することが抑制される。そのため、第１副通路を通って第１副通路出口から排出されるダストがバリによって第１副通路内に跳ね返されることがないので、第２副通路にダストが侵入することが防がれる。したがって、第２副通路に設けられた流量検出部にダストが付着することが防がれる。このように、この空気流量測定装置は、ハウジングの後面の型分割痕にバリが発生した場合でも、空気流量の検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

本明細書において、型分割痕とは、射出成形時に金型の分割部が配置されていた箇所がハウジング表面に痕として現れている箇所をいう。また、第１副通路出口の内側開口縁とは、ハウジングに形成される副通路出口の開口の内縁をいう。また、第１副通路入口の内側開口縁とは、ハウジングに形成される副通路入口の開口の内縁をいう。
なお、本明細書において、上流側とは空気流れ上流側を言い、下流側とは空気流れ下流側を言うものとする。また、各構成要素等に付された括弧付きの参照符号は、その構成要素等と後述する実施形態に記載の具体的な構成要素等との対応関係の一例を示すものである。

第１実施形態に係るエアフロメータが設けられる車両用エンジンの構成図である。 吸気管に取り付けられた状態のエアフロメータの側面図である。 図２のＩＩＩ方向において吸気管の断面とエアフロメータの正面図である。 図２のＩＶ方向において吸気管の断面とエアフロメータの後面図である。 エアフロメータの分解斜視図である。 図３および図４のＶＩ―ＶＩ線においてエアフロメータが備えるハウジングのバイパス部の断面図である。 図６のＶＩＩ―ＶＩＩ線の断面図である。 図６のＶＩＩＩ―ＶＩＩＩ線の断面図である。 図４のＩＸ部分の拡大図である。 図３のＸ部分の拡大図である。 エアフロメータのハウジングの製造方法を説明するための説明図である。 エアフロメータのハウジングの製造方法を説明するための説明図である。 ハウジングの後面の型分割痕にバリが発生した状態を示す説明図である。 図１３に示したバリが変形した状態を示す説明図である。 ハウジングの前面の前側型分割痕に発生したバリが変形した状態を示す説明図である。 第２実施形態のエアフロメータが備えるハウジングの断面図である。 第３実施形態のエアフロメータの後面図である。 図１７のＸＶＩＩＩ方向においてハウジングプレートを取り外した状態のエアフロメータの側面図である。 図１７のＸＩＸ方向においてハウジングプレートを取り外した状態のエアフロメータの側面図である。 第４実施形態のエアフロメータの後面図である。 図２０のＸＸＩ方向におけるエアフロメータの側面図である。 第１比較例のエアフロメータのハウジングの製造方法を説明するための説明図である。 第１比較例のエアフロメータのハウジングの製造方法を説明するための説明図である。 第１比較例のエアフロメータの型分割痕に発生したバリが第１副通路出口側に変形した状態を示す説明図である。 第１比較例のエアフロメータにおいてバリによって跳ね返ったダストが第２副通路を流量検出部へ向かって移動する様子を示す説明図である。 第２比較例のエアフロメータが備えるハウジングの後部の断面図である。 第３比較例のエアフロメータが備えるハウジングの前部の断面図である。 第４比較例のエアフロメータが備えるハウジングの断面図である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付し、その説明を省略する。なお、以下の説明において、上、下、左、右および垂直の用語を用いる場合、それらの用語は説明の便宜上用いるものであり、空気流量測定装置が車両に搭載されるときの位置および向きを限定するものではない。

（第１実施形態）
第１実施形態について図面を参照しつつ説明する。図１に示すように、本実施形態の空気流量測定装置は、車両用エンジンシステム１００の吸気系統を構成する吸気管１０１に設けられるエアフロメータ１である。具体的には、エアフロメータ１は、吸気管１０１の内側に形成される主通路としての吸気通路１０２にその一部が挿入された状態で取り付けられる。エアフロメータ１は、内燃機関１０３に吸入される空気流量（即ち、吸入空気量）を測定する。

まず、エアフロメータ１が取り付けられる車両用エンジンシステム１００の概略構成について説明する。
吸気管１０１には、エアフロメータ１の他に、エアクリーナ１０４、スロットルバルブ１０５、インジェクタ１０６などが設けられている。エアクリーナ１０４は、吸気通路１０２を流れる空気に含まれるダストを取り除くものである。エアフロメータ１は、そのエアクリーナ１０４の下流側に取り付けられる。なお、エアフロメータ１に供給される空気には、エアクリーナ１０４を通過した微細なダストが含まれることがある。

スロットルバルブ１０５は、エアフロメータ１の下流側に設けられ、吸入空気量を制御する。スロットルバルブ１０５の開度は、スロットルセンサ１０７により検出される。インジェクタ１０６は、内燃機関１０３の燃焼室１０８に燃料を噴射供給する。
燃料室に供給された空気と燃料との混合気は、点火プラグ１０９によって点火され燃焼する。燃焼室１０８で燃焼した排ガスは、排気管１１０から車外に排出される。排気管１１０には、Ｏ_２センサ、Ａ／Ｆセンサなどの排気センサ１１１が設けられている。

エアフロメータ１および排気センサ１１１などの車載センサにより測定された情報は、エンジンシステム１００の電子制御装置（ＥＣＵ１１２）に伝送される。ＥＣＵ１１２は、プロセッサ、ＲＯＭ、ＲＡＭ等の記憶部を含むマイクロコンピュータおよびその周辺回路で構成されている。ＥＣＵ１１２は、それらの情報に基づき、インジェクタ１０６による燃料噴射量の制御およびＥＧＲ量の制御など、エンジンシステム１００の各部の制御を行う。

次に、エアフロメータ１の構成について説明する。
図２～図５に示すように、エアフロメータ１は、ハウジング２、そのハウジング２の内側に形成される第１副通路１０と第２副通路２０、その第２副通路２０に設けられる流量検出部３０などを備えている。また、エアフロメータ１は、ハウジング２の射出成形時に金型の分割部（即ち、パーティングライン）が配置された箇所に形成される型分割痕４０を備えている。

図２～図４に示すように、ハウジング２は、吸気管１０１に設けられた筒状の穴部１１３に取り付けられる。ハウジング２は、吸気通路１０２内に挿入されるバイパス部３と、そのバイパス部３を保持しつつ吸気管１０１の穴部１１３に固定される保持部４とを有している。バイパス部３は、所定の厚みを有する板状に形成されている。バイパス部３は、吸気通路１０２の上流側に配置される前面５、吸気通路１０２の下流側に配置される後面６、および、その前面５と後面６とを接続する側面７を有している。なお、前面５と後面６は、空気抵抗を低減することの可能な湾曲した形状であってもよく、または、平面状であってもよい。

保持部４は、円盤状に形成されており、バイパス部３側の一部が吸気管１０１の穴部１１３に嵌合し、バイパス部３とは反対側の一部が吸気管１０１の外側に配置される。なお、吸気管１０１の穴部１１３の内壁と保持部４との間には、Ｏリング５０が設けられる。図５に示すように、保持部４の内側には、流量検出部３０と配線部材としてのターミナル３１とが収容される。ターミナル３１は、流量検出部３０および温度センサ３２と電気的に接続される。なお、温度センサ３２は、吸気通路１０２内でハウジング２の外側に設けられる。

保持部４の上には、蓋部材５１が設けられる。蓋部材５１は、コネクタ５２を有している。そのコネクタ５２に接続される図示しない車両側の配線を通じて、流量検出部３０および温度センサ３２により測定された情報がＥＣＵ１１２に伝送される。

図５に示すように、本実施形態では、ハウジング２は、第１ハウジング部材２ａと第２ハウジング部材２ｂによって構成されている。第１ハウジング部材２ａは、バイパス部３を厚み方向の略半分の位置で切り分けた形状と保持部４とが一体に形成された部材である。第２ハウジング部材２ｂは、バイパス部３を厚み方向の略半分の位置で切り分けた形状の部材である。このように、ハウジング２を第１ハウジング部材２ａと第２ハウジング部材２ｂで構成することで、ハウジング２の内側に第１副通路１０と第２副通路２０を形成し、且つ、ハウジング２を構成する部品点数を少なくすることが可能である。

図６に示すように、第１ハウジング部材２ａのうち第２ハウジング部材２ｂ側の面には、細溝８が設けられている。図示していないが、第２ハウジング部材２ｂのうち第１ハウジング部材２ａ側の面にも、第１ハウジング部材２ａと同じ位置に細溝８が設けられている。その細溝８に対し溶融樹脂などの接着剤が注入されることで第１ハウジング部材２ａと第２ハウジング部材２ｂとが固定される。なお、図６は、第１ハウジング部材２ａのうちバイパス部３の断面を示しており、保持部４を省略している。

図６に示すように、第１副通路１０は、ハウジング２の前面５に設けられる第１副通路入口１１と、ハウジング２の後面６に設けられる第１副通路出口１２とを連通する通路である。第１副通路１０は、バイパス通路と呼ばれることもある。
また、第２副通路２０は、第１副通路１０の途中に設けられる第２副通路入口２１と、第１副通路出口１２とは別の位置に設けられる第２副通路出口２２とを連通する通路である。本実施形態では、第２副通路出口２２はハウジング２の側面７に設けられている。第２副通路２０は、第１副通路１０の途中から分岐する分岐通路またはサブバイパス通路と呼ばれることもある。

以下、第１副通路１０と第２副通路２０について詳細に説明する。以下の説明では、吸気通路１０２の上流側を前側、吸気通路１０２の下流側を後側という。また、ハウジング２の保持部４側を上側、保持部４とは反対側を下側という。また、バイパス部３の厚み方向をＸ方向、上下方向をＹ方向、前後方向をＺ方向という。

本実施形態では、第１副通路１０は、第１副通路入口１１から第１副通路出口１２に向かって略直線状に形成されている。すなわち、第１副通路入口１１と第１副通路出口１２とは、Ｚ方向に視て少なくとも一部が重なるように形成されている。これにより、第１副通路入口１１から第１副通路出口１２に向かって第１副通路１０を流れる空気に含まれるダストは、その慣性力により第１副通路出口１２から排出されやすくなる。

そして、第１副通路１０の上側の内壁のうち第２副通路入口２１より前側の部位（以下、第１副通路１０の前部上内壁１３という）と、第１副通路１０の上側の内壁のうち第２副通路入口２１より後側の部位（以下、第１副通路１０の後部上内壁１４という）とは、Ｙ方向において段差αを有している。具体的には、第１副通路１０の前部上内壁１３の後端１３ａは、第１副通路１０の後部上内壁１４の前端１４ａよりも下側に位置している。これにより、第１副通路１０を前部上内壁１３に沿って流れる空気に含まれるダストは、第２副通路２０に侵入しにくくなる。なお、第１副通路１０の前部上内壁１３の後端１３ａは、第２副通路入口２１の前端ということもできる。第１副通路１０の後部上内壁１４の前端１４ａは、第２副通路入口２１の後端ということもできる。
また、第１副通路１０の下側の内壁１５は、第１副通路入口１１から第１副通路出口１２に向けて上方へ傾斜している。

図６および図７に示すように、第１副通路１０のＸ方向左右の内壁は、第２副通路入口２１より後側の部位に傾斜部１６を有している。この傾斜部１６は、Ｚ方向の前側から後側に向かって互いに近づくように傾斜している。そのため、第１副通路１０のうち第２副通路入口２１より後側の部位は、その流路面積が、第１副通路出口１２に向かって次第に小さくなっている。これにより、第１副通路１０のうち第２副通路入口２１より後側の部位を流れる空気の圧力損失が大きくなるので、第１副通路１０を第１副通路入口１１から第１副通路出口１２へ向かって流れる空気の一部が第２副通路２０へ流れ易くなる。

図６に示すように、第２副通路２０は、第２副通路入口２１から後方且つ斜め上方へ延びる導入部２３と、導入部２３の上端からさらに上方へ延びる後垂直部２４と、後垂直部２４の上端から前方へ延びる折返し部２５と、折返し部２５の前端から下方へ延びる前垂直部２６とを有している。前垂直部２６の下端の後部に第２副通路出口２２が設けられている。

第２副通路２０の導入部２３は第２副通路入口２１から後方且つ斜め上方へ延びているので、第１副通路１０を第１副通路入口１１から第１副通路出口１２へ向かって流れる空気の一部が第２副通路２０へ流れ易くなる。なお、上述したように、第１副通路入口１１から第１副通路出口１２へ向かって流れる空気に含まれるダストは慣性力によって第１副通路出口１２へ流れるので、第２副通路２０にはダストを含まない空気が流れる。

流量検出部３０は、第２副通路２０の折返し部２５に設けられている。本実施形態の流量検出部３０は、その表面を流れる空気の流量を検出可能な半導体素子３３を有している。図８に示すように、第２副通路２０の折返し部２５の内壁には、流量検出部３０が設けられている部位の流路面積を小さくする絞り部２７が設けられている。そのため、第２副通路２０を流れる空気は、流量検出部３０の有する半導体素子３３の表面に接するように流れる。そのため、流量検出部３０は、第２副通路２０を流れる空気の流量に応じた信号を出力する。なお、その信号は、上述したようにターミナル３１および配線等を介してＥＣＵ１１２に伝送される。

図９に示すように、ハウジング２の後面６には、ハウジング２の射出成形時に金型の分割部が配置された箇所に型分割痕４０が形成されている。図９では説明の便宜上、型分割痕４０を、その他の線と区別するために太線で示している。型分割痕４０は、ハウジング２の後面６のうち第１副通路出口１２の内側開口縁１２ａから離れた位置に設けられている。具体的には、型分割痕４０は、その全体がハウジング２の後面６のうち、第１副通路出口１２の内側開口縁１２ａに接することの無い位置に設けられていることが好ましい。また、型分割痕４０は、側面７からも離れた位置に設けられている。具体的には、型分割痕４０は、その全体が側面７に接することの無い位置に設けられていることが好ましい。
さらに、型分割痕４０は、ハウジング２の後面６のうち、側面７や内側開口縁１２ａよりも、側面７と内側開口縁１２ａとの中央寄りに位置していることが好ましい。

図１０に示すように、ハウジング２の前面５にも、ハウジング２の射出成形時に金型の分割部が配置された箇所に型分割痕が形成されている。ハウジング２の前面５に形成される型分割痕を、前側型分割痕４１と呼ぶこととする。図１０でも説明の便宜上、前側型分割痕４１を、その他の線と区別するために太線で示している。前側型分割痕４１は、ハウジング２の前面５のうち、第１副通路入口１１の内側開口縁１１ａから離れた位置に設けられている。具体的には、前側型分割痕４１は、その全体がハウジング２の前面５のうち、第１副通路入口１１の内側開口縁１１ａに接することの無い位置に設けられていることが好ましい。また、前側型分割痕４１は、側面７からも離れた位置に設けられている。具体的には、前側型分割痕４１は、その全体が側面７に接することの無い位置に設けられていることが好ましい。
さらに、前側型分割痕４１は、ハウジング２の前面５のうち、側面７や内側開口縁１１ａよりも、側面７と内側開口縁１１ａとの中央寄りに位置していることが好ましい。

ここで、ハウジング２の射出成形について説明する。図１１および図１２は、ハウジング２を構成する第１ハウジング部材２ａを射出成形する工程の一部を模式的に示している。
一般に、射出成形では、図１１に示すように、金型６０、６１の型閉じ、型締めを行った後、その金型６０、６１の間の製品形状空間に溶融樹脂を流し込む。そして、樹脂が冷却固化した後、図１２に示すように、型開きを行い、金型６０、６１から成形品を取り出す。

図１１に示すように、本実施形態では、射出成形用の金型６０、６１の分割部６２、６３は、ハウジング２の後面６のうち第１副通路出口１２の内側開口縁１２ａから離れた位置、且つ、側面７からも離れた位置に配置されている。また、金型６０、６１の分割部６２、６３は、ハウジング２の前面５のうち、第１副通路入口１１の内側開口縁１１ａから離れた位置、且つ、側面７からも離れた位置に配置されている。そのため、金型６０、６１から取り出されたハウジング２の後面６と前面５にはそれぞれ、分割部６２、６３が配置されていた箇所に金型６０、６１の型分割痕４０と前側型分割痕４１が形成される。

ところで、ハウジング２等の樹脂製品に形成される型分割痕４０と前側型分割痕４１は、その金型６０、６１が初期状態の場合、または、金型６０、６１がメンテナンスされた直後の場合、小さな痕となって現れる。しかし、金型６０、６１が長期間使用され、経年変化などにより金型６０、６１の分割部６２、６３に隙間が生じた場合、型分割痕４０または前側型分割痕４１にバリ４２、４３が発生することがある。図１１および図１２では、第１ハウジング部材２ａの後面６に設けられた型分割痕４０と、第１ハウジング部材２ａの前面５に設けられた前側型分割痕４１とにそれぞれバリ４２、４３が発生した状態を図示している。

図１３は、ハウジング２の後面６に形成された型分割痕４０にバリ４２が発生した状態を示している。一般に、型分割痕４０に発生するバリ４２は剛性が比較的低いものである。そのため、図１４の実線４２ａに示すように、そのバリ４２は、第１副通路出口１２側に倒れるように変形することがある。その場合でも、本実施形態では、第１副通路出口１２にバリ４２が突出することが抑制される。また、図１４の破線４２ｂに示すように、型分割痕４０に発生するバリ４２は、側面７側に倒れるように変形することも考えられる。その場合でも、本実施形態では、側面７よりも外側にバリ４２が突出することが抑制される。

また、図１５の実線４３ａに示すように、ハウジング２の前面５の前側型分割痕４１に発生するバリ４３も、第１副通路入口１１側に倒れるように変形することが考えられる。その場合でも、本実施形態では、第１副通路入口１１にバリ４３が突出することが抑制される。また、図１５の破線４３ｂに示すように、ハウジング２の前面５の前側型分割痕４１に発生するバリ４３は、側面７側に倒れるように変形することが考えられる。その場合でも、本実施形態では、側面７よりも外側にバリ４３が突出することが抑制される。

ここで、本実施形態のエアフロメータ１と比較するため、複数の比較例のエアフロメータについて説明する。

（第１比較例）
第１比較例について説明する。図２２および図２３は、第１比較例のエアフロメータが備えるハウジング２を構成する第１ハウジング部材２ａを射出成形する工程の一部を模式的に示している。
図２２に示すように、第１比較例では、射出成形用の金型６４、６５の分割部６６、６７は、ハウジング２の後面６のうち第１副通路出口１２の内側開口縁１２ａと同じ位置に配置されている。また、金型６４、６５の分割部６６、６７は、ハウジング２の前面５のうち、第１副通路入口１１の内側開口縁１１ａと同じ位置に配置されている。そのため、図２３に示すように、金型６４、６５から取り出されたハウジング２の後面６と前面５には、分割部６６、６７が配置されていた箇所に金型６４、６５の型分割痕４０および前側型分割痕４１が形成される。すなわち、第１比較例では、第１副通路出口１２の内側開口縁１２ａに型分割痕４０が形成され、第１副通路入口１１の内側開口縁１１ａに前側型分割痕４１が形成される。なお、図２２および図２３では、型分割痕４０と前側型分割痕４１とにそれぞれバリ４２、４３が発生した状態を図示している。

図２４に示すように、第１比較例では、ハウジング２の後面６の型分割痕４０に発生したバリ４２が第１副通路出口１２側に倒れるように変形すると、そのバリ４２は第１副通路出口１２に突出する。
その場合、図２４の矢印Ａおよび図２５の矢印Ｂ、Ｃに示すように、第１副通路１０を流れたダストは、バリ４２によって第１副通路１０内に跳ね返され、第２副通路入口２１から第２副通路２０に侵入するおそれがある。ここで、第２副通路２０は、第２副通路入口２１から流量検出部３０を通り第２副通路出口２２へ向けて空気が流れている。そのため、図２５の矢印Ｄ、Ｅに示すように、第２副通路入口２１から第２副通路２０に侵入したダストが第２副通路２０の空気流れと共に流量検出部３０側へ移動し、流量検出部３０に付着することが考えられる。流量検出部３０の半導体素子３３にダストが付着すると、流量検出部３０の出力信号に誤差が生じ、空気流量の検出精度が悪化するおそれがある。

（第２比較例）
次に、第２比較例について説明する。図２６は、第２比較例のエアフロメータが備えるハウジング２の後部の断面図である。図２６に示すように、第２比較例では、ハウジング２の後面６には、側面７の角部のＲ止まりに型分割痕４０が形成されている。そのため、第２比較例では、ハウジング２の後面６の型分割痕４０に発生したバリ４２が側面７側に倒れるように変形すると、そのバリ４２は側面７よりも外側に突出することがある。その場合、図２６の矢印Ｆに示すように、そのバリ４２によって空気の流れが乱され、バリ４２の下流側に渦が形成されると、第１副通路出口１２から流出する空気流量が減少することが考えられる。第１副通路入口１１から第１副通路１０に流入する空気流量が同一である場合、第１副通路出口１２から流出する空気流量が減少した分、第２副通路２０に流れる空気流量が増加し、流量検出部３０による検出精度が悪化するおそれがある。

（第３比較例）
続いて、第３比較例について説明する。図２７は、第３比較例のエアフロメータが備えるハウジング２の前部の断面図である。図２７に示すように、第３比較例では、ハウジング２の前面５には、第１副通路入口１１の内側開口縁１１ａに前側型分割痕４１が形成されている。そのため、第３比較例では、ハウジング２の前面５の前側型分割痕４１に発生したバリ４３が第１副通路入口１１側に倒れるように変形すると、そのバリ４３は第１副通路入口１１に突出する。その場合、第１副通路入口１１の開口面積が減少し、第１副通路１０に流入する空気流量が減少することが考えられる。また、図２７の矢印Ｇに示すように、バリ４３の下流側に渦が形成され、その影響により第１副通路１０に流入する空気流量が減少することが考えられる。これにより、第１副通路１０から第２副通路２０に流れる空気流量が減少し、流量検出部３０による検出精度が悪化するおそれがある。

（第４比較例）
次に、第４比較例について説明する。図２８は、第４比較例のエアフロメータが備えるハウジング２の断面図である。図２８に示すように、第４比較例では、ハウジング２の前面５には、側面７の角部のＲ止まりに前側型分割痕４１が形成されている。そのため、第４比較例では、ハウジング２の前面５の前側型分割痕４１に発生したバリ４３が側面７側に倒れるように変形すると、そのバリ４３は側面７よりも外側に突出することがある。その場合、図２８の矢印Ｈに示すように、バリ４３の下流側に形成される渦が第１副通路出口１２まで延びると、第１副通路出口１２から流出する空気流量が減少することが考えられる。第１副通路入口１１から第１副通路１０に流入する空気流量が同一の場合、第１副通路出口１２から流出する空気流量が減少した分、第２副通路２０に流れる空気流量が増加し、流量検出部３０による検出精度が悪化するおそれがある。

上述した第１～第４比較例に対し、第１実施形態のエアフロメータ１は、次の作用効果を奏する。
（１）第１実施形態では、ハウジング２の後面６の型分割痕４０は、第１副通路出口１２の内側開口縁１２ａから離れた位置に設けられている。
これによれば、射出成形用金型６０、６１の経年変化などによりハウジング２の後面６の型分割痕４０にバリ４２が発生し、そのバリ４２が第１副通路出口１２側に変形した場合でも、第１副通路出口１２にバリ４２が突出することが抑制される。そのため、第１副通路１０を通って第１副通路出口１２から排出されるダストがバリ４２によって第１副通路１０内に跳ね返されることがないので、第２副通路２０にダストが侵入することが防がれる。したがって、第２副通路２０に設けられた流量検出部３０にダストが付着することが防がれる。このように、このエアフロメータ１は、ハウジング２の後面６の型分割痕４０にバリ４２が発生した場合でも、空気流量の検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

（２）第１実施形態では、ハウジング２の後面６の型分割痕４０は、第１副通路出口１２の内側開口縁１２ａから離れた位置、且つ、側面７から離れた位置に設けられる。
これにより、ハウジング２の後面６の型分割痕４０にバリ４２が発生し、そのバリ４２がハウジング２の側面７側に変形した場合でも、側面７よりも外側にバリ４２が突出することが抑制される。そのため、ハウジング２の側面７を通過した空気の流れがバリ４２によって乱されることが防がれるので、第１副通路出口１２から流出する空気の流量変化が抑制され、それに伴う第２副通路２０を流れる空気の流量変化も抑制される。したがって、このエアフロメータ１は、ハウジング２の後面６の型分割痕４０にバリ４２が発生した場合でも、検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

（３）第１実施形態では、ハウジング２の前面５の前側型分割痕４１は、第１副通路入口１１の内側開口縁１１ａから離れた位置に設けられる。
これによれば、前側型分割痕４１にバリ４３が発生し、そのバリ４３が第１副通路入口１１側に変形した場合でも、第１副通路入口１１にバリ４３が突出することが抑制される。そのため、第１副通路入口１１から流入する空気の流量変化が抑制され、それに伴う第２副通路２０を流れる空気の流量変化も抑制される。したがって、このエアフロメータ１は、ハウジング２の前面５の前側型分割痕４１にバリ４３が発生した場合でも、検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

（４）第１実施形態では、ハウジング２の前面５の前側型分割痕４１は、第１副通路入口１１の内側開口縁１１ａから離れた位置、且つ、側面７から離れた位置に設けられる。
これにより、前側型分割痕４１にバリ４３が発生し、そのバリ４３がハウジング２の側面７側に変形した場合でも、側面７よりも外側にバリ４３が突出することが抑制される。そのため、ハウジング２の側面７近傍の空気の流れがバリ４３によって乱されることが防がれるので、第１副通路出口１２から流出する空気の流量変化が抑制され、それに伴う第２副通路２０を流れる空気の流量変化も抑制される。したがって、このエアフロメータ１は、ハウジング２の前面５の前側型分割痕４１にバリ４３が発生した場合でも、検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

（第２実施形態）
第２実施形態について説明する。第２実施形態は、第１実施形態に対して第１副通路１０の構成の一部を変更したものであり、その他については第１実施形態と同様であるため、第１実施形態と異なる部分についてのみ説明する。

図１６に示すように、第２実施形態では、第１副通路１０の前部上内壁１３が、上斜め後方に凸形状に形成されており、上流側から下流側に向かうに従い第１副通路１０の下側の内壁１５に向かうように湾曲している。言い換えれば、第１副通路１０の前部上内壁１３は、上流側から下流側に向かうに従い第２副通路入口２１から遠ざかるように湾曲している。そして、第１副通路１０の前部上内壁１３の後端１３ａは、第１副通路１０の後部上内壁１４の前端１４ａよりも下に位置している。これにより、図１６の矢印Ｉに示すように、第１副通路１０を第１副通路入口１１から第１副通路出口１２に向けて流れる空気は、第１副通路１０の前部上内壁１３に沿って、第２副通路入口２１から遠ざかるように流れる。そのため、その空気流れに含まれるダストは、第２副通路２０に侵入しにくくなる。

第１副通路１０の前部上内壁１３は、Ｚ方向から視た形状が円弧状に形成された上円弧面１７を有している。また、第１副通路１０のＹ方向下側の内壁は、Ｚ方向から視た形状が円弧状に形成された下円弧面１８を有している。
なお、第２実施形態においても、ハウジング２の後面６の型分割痕４０は、第１副通路出口１２の内側開口縁１２ａから離れた位置、且つ、側面７から離れた位置に設けられている。また、ハウジング２の前面５の前側型分割痕４１は、第１副通路入口１１の内側開口縁１１ａから離れた位置、且つ、側面７から離れた位置に設けられる。

以上説明した第２実施形態の構成においても、第１副通路１０から第２副通路２０にダストが侵入することを防ぎ、流量検出部３０の半導体素子３３にダストが付着することを防ぐことが可能である。したがって、第２実施形態のエアフロメータ１も、検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

（第３実施形態）
第３実施形態について説明する。第３実施形態は、第１実施形態に対してハウジング２の構成を変更したものであり、その他については第１実施形態と同様であるため、第１実施形態と異なる部分についてのみ説明する。

図１７に示すように、第３実施形態のハウジング２は、ハウジング本体７０、第１ハウジングプレート７１、および、第２ハウジングプレート７２を有している。第１ハウジングプレート７１と第２ハウジングプレート７２は、平板状の部材である。図１８および図１９は、その第１、第２ハウジングプレート７１、７２を取り外した状態のハウジング本体７０を示している。ハウジング本体７０には、第１副通路１０および第２副通路２０などが設けられている。

図１８に示すように、第３実施形態では、第１副通路１０の前部上内壁１３は、第１副通路入口１１から第１副通路出口１２に向けて下方に傾斜している。第１副通路１０の下側の内壁１５は、Ｚ方向に対し略平行に設けられている。そのため、第１副通路入口１１のＹ方向の距離Ｄ１は、第１副通路出口１２のＹ方向の距離Ｄ２よりも大きく形成されている。

また、ハウジング本体７０のうち第１副通路１０を形成するＸ方向の内壁は、第２副通路入口２１より後側の部位に傾斜部１６を有している。ハウジング本体７０の傾斜部１６は、Ｚ方向の前側から後側に向かって第２ハウジングプレート７２に近づくように傾斜している。そのため、第１副通路１０のうち、第２副通路入口２１より後側の部位は、その流路面積が、第１副通路出口１２に向かって次第に小さくなっている。これにより、第１副通路１０を第１副通路入口１１から第１副通路出口１２へ向かって流れる空気の一部が第２副通路２０へ流れ易くなる。

第２副通路２０は、第２副通路入口２１から後方且つ斜め上方へ延びる導入部２３と、導入部２３の上端から前方へ延びる折返し部２５と、折返し部２５の前端から下方へ延びる前連通部２８と、前連通部２８の下端から後方へ延びる吹出部２９を有している。吹出部２９の後端に第２副通路出口２２が設けられている。流量検出部３０は、第２副通路２０の折返し部２５に設けられている。

なお、第２副通路２０の第２副通路入口２１と導入部２３は図１８に示されており、折返し部２５は図１８と図１９の両方に示されている。また、第２副通路２０の前連通部２８と吹出部２９と第２副通路出口２２は図１９に示されている。

図１７および図１９に示すように、第３実施形態では、第２副通路出口２２は、ハウジング２の後面６に設けられている。そして、図１７に示すように、第１副通路出口１２の開口面積は、第２副通路出口２２の開口面積より小さく形成されている。

図１７に示すように、ハウジング２の後面６には、型分割痕４０が形成されている。図１７では説明の便宜上、型分割痕４０を、その他の線と区別するために太線で示している。型分割痕４０は、ハウジング２の後面６のうち第１副通路出口１２の内側開口縁１２ａから離れた位置、且つ、第２副通路出口２２の内側開口縁２２ａから離れた位置に設けられている。また、型分割痕４０は、側面７からも離れた位置に設けられている。

この構成により、ハウジング２の後面６の型分割痕４０に発生したバリ４２が第１副通路出口１２側または第２副通路出口２２側に倒れるように変形した場合でも、第１副通路出口１２または第２副通路出口２２側にバリ４２が突出することが抑制される。また、ハウジング２の後面６の型分割痕４０に発生したバリ４２が側面７側に倒れるように変形した場合でも、側面７よりも外側にバリ４２が突出することが抑制される。したがって、第３実施形態のエアフロメータ１も、第１実施形態等と同様に、検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

（第４実施形態）
第４実施形態について説明する。第４実施形態は、第３実施形態に対してハウジング２の構成の一部を変更したものであり、その他については第３実施形態と同様であるため、第３実施形態と異なる部分についてのみ説明する。

図２０および図２１に示すように、第４実施形態では、第２副通路出口２２が第１ハウジングプレート７１の側面７に設けられている。そのため、ハウジング２の後面６には、第１副通路出口１２が設けられており、第２副通路出口２２は設けられていない。

ハウジング２の後面６には、型分割痕４０が形成されている。図２０でも説明の便宜上、型分割痕４０を、その他の線と区別するために太線で示している。型分割痕４０は、ハウジング２の後面６のうち第１副通路出口１２の内側開口縁１２ａから離れた位置、且つ、側面７から離れた位置に設けられている。なお、型分割痕４０は、ハウジング２の後面６の中心線ＣＬに対し第１ハウジングプレート７１寄りに設けられている。すなわち、型分割痕４０と第１副通路出口１２との距離Ｄ３は、型分割痕４０と第１ハウジングプレート７１との距離Ｄ４より大きいものとなっている。
以上説明した第４実施形態のエアフロメータ１も、第１実施形態等と同様に、検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

（他の実施形態）
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。また、上記各実施形態は、互いに無関係なものではなく、組み合わせが明らかに不可な場合を除き、適宜組み合わせが可能である。また、上記各実施形態において、実施形態を構成する要素は、特に必須であると明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。また、上記各実施形態において、実施形態の構成要素の個数、数値、量、範囲等の数値が言及されている場合、特に必須であると明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではない。また、上記各実施形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に特定の形状、位置関係等に限定される場合等を除き、その形状、位置関係等に限定されるものではない。

（１）上記各実施形態では、空気流量測定装置は、車両用エンジンシステム１００の吸気系統を構成する吸気管１０１に設けられるものとして説明したが、これに限らない。空気流量測定装置は、空気が流れる主通路に設置され、その主流路を流れる空気流量を測定するものとして、種々の用途に利用することが可能である。

（２）上記各実施形態では、空気流量測定装置が備える流量検出部３０は半導体素子３３により空気流量を測定するものとして説明したが、これに限らない。流量検出部３０は、例えばフラップ式、熱線式、カルマン渦式など、種々の構成を採用することが可能である。

（３）上記各実施形態において、ハウジング２、第１副通路１０、第１副通路入口１１、第１副通路出口１２、第２副通路２０、第２副通路入口２１、第２副通路出口２２などの形状は任意に変更可能である。

（まとめ）
上述の実施形態の一部または全部で示された第１の観点によれば、空気が流れる主通路に設置される空気流量測定装置は、ハウジング、第１副通路、第２副通路、流量検出部、および型分割痕を備える。ハウジングは、主通路の上流側に配置される前面、主通路の下流側に配置される後面、および、前面と後面とを接続する側面を有し、射出成形により形成される。第１副通路は、ハウジングに設けられ、前面に設けられる第１副通路入口と後面に設けられる第１副通路出口とを連通する。第２副通路は、ハウジングに設けられ、第１副通路の途中に設けられる第２副通路入口と第１副通路出口とは別の位置に設けられる第２副通路出口とを連通する。流量検出部は、第２副通路内に設けられ、第２副通路を流れる空気の流量に応じた信号を出力する。型分割痕は、ハウジングの後面のうち第１副通路出口の内側開口縁から離れた位置に設けられる。

第２の観点によれば、型分割痕は、ハウジングの後面のうち、第１副通路出口の内側開口縁から離れた位置、且つ、側面から離れた位置に設けられる。
これにより、ハウジングの後面の型分割痕にバリが発生し、そのバリがハウジングの側面側に変形した場合でも、側面よりも外側にバリが突出することが抑制される。そのため、ハウジングの側面を通過した空気の流れがバリによって乱されることが防がれるので、第１副通路出口から流出する空気の流量変化が抑制され、それに伴う第２副通路を流れる空気の流量変化も抑制される。したがって、この空気流量測定装置は、ハウジングの後面の型分割痕にバリが発生した場合でも、検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

第３の観点によれば、前側型分割痕は、ハウジングの前面のうち、第１副通路入口の内側開口縁から離れた位置に設けられる。
これによれば、前側型分割痕にバリが発生し、そのバリが第１副通路入口側に変形した場合でも、第１副通路入口にバリが突出することが抑制される。そのため、第１副通路入口から流入する空気の流量変化が抑制され、それに伴う第２副通路を流れる空気の流量変化も抑制される。したがって、この空気流量測定装置は、ハウジングの前面の前側型分割痕にバリが発生した場合でも、検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

第４の観点によれば、前側型分割痕は、ハウジングの前面のうち、第１副通路入口の内側開口縁から離れた位置、且つ、側面から離れた位置に設けられる。
これにより、前側型分割痕にバリが発生し、そのバリがハウジングの側面側に変形した場合でも、側面よりも外側にバリが突出することが抑制される。そのため、ハウジングの側面近傍の空気の流れがバリによって乱されることが防がれるので、第１副通路出口から流出する空気の流量変化が抑制され、それに伴う第２副通路を流れる空気の流量変化も抑制される。したがって、この空気流量測定装置は、ハウジングの前面の前側型分割痕にバリが発生した場合でも、検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

第５の観点によれば、第２副通路出口はハウジングの後面に設けられている。そして、型分割痕は、ハウジングの後面のうち第２副通路出口の内側開口縁から離れた位置に設けられる。
これによれば、ハウジングの後面の型分割痕にバリが発生し、そのバリが第２副通路出口側に変形した場合でも、第２副通路出口にバリが突出することが抑制される。仮に、そのバリが第２副通路入口に突出すると、第２副通路出口の開口面積が減少し、第２副通路の空気流量が減少することが考えられる。これに対し、第５の観点によれば、第２副通路出口にバリが突出することが抑制されるので、第２副通路を流れる空気の流量変化が抑制される。したがって、この空気流量測定装置は、型分割痕にバリが発生した場合でも、検出精度の悪化を防ぎ、検出精度の信頼性を向上することができる。

１ エアフロメータ
２ ハウジング
１０ 第１副通路
１１ 第１副通路入口
１２ 第１副通路出口
１２ａ 第１副通路出口の内側開口縁
２０ 第２副通路
２１ 第２副通路入口
２２ 第２副通路出口
４０ 型分割痕

Claims (5)

1. 空気が流れる主通路（１０２）に設置される空気流量測定装置において、
   前記主通路の上流側に配置される前面（５）、前記主通路の下流側に配置される後面（６）、および、前記前面と前記後面とを接続する側面（７）を有し、射出成形により形成されるハウジング（２）と、
   前記ハウジングに設けられ、前記前面に設けられる第１副通路入口（１１）と前記後面に設けられる第１副通路出口（１２）とを連通する第１副通路（１０）と、
   前記ハウジングに設けられ、前記第１副通路の途中に設けられる第２副通路入口（２１）と前記第１副通路出口とは別の位置に設けられる第２副通路出口（２２）とを連通する第２副通路（２０）と、
   前記第２副通路内に設けられ、前記第２副通路を流れる空気の流量に応じた信号を出力する流量検出部（３０）と、
   前記ハウジングの前記後面のうち前記第１副通路出口の内側開口縁（１２ａ）から離れた位置に設けられる型分割痕（４０）と、を備える空気流量測定装置。
2. 前記型分割痕は、前記ハウジングの前記後面のうち、前記第１副通路出口の内側開口縁から離れた位置、且つ、前記側面から離れた位置に設けられる、請求項１に記載の空気流量測定装置。
3. 前記ハウジングの前記前面のうち、前記第１副通路入口の内側開口縁（１１ａ）から離れた位置に設けられる前側型分割痕（４１）をさらに備える請求項１または２に記載の空気流量測定装置。
4. 前記前側型分割痕は、前記ハウジングの前記前面のうち、前記第１副通路入口の内側開口縁から離れた位置、且つ、前記側面から離れた位置に設けられる、請求項３に記載の空気流量測定装置。
5. 前記第２副通路出口は前記ハウジングの前記後面に設けられており、
   前記型分割痕は、前記ハウジングの前記後面のうち前記第２副通路出口の内側開口縁（２２ａ）から離れた位置に設けられる、請求項１ないし４のいずれか１つに記載の空気流量測定装置。

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