JP7054638B2 - シール構造およびシール方法 - Google Patents
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Description
まず、図1の(a)部、図1の(b)部、図2、図3を参照して、シール構造SEを説明する。図1は、(a)部、(b)部を備え、一実施形態に係るシール構造SEの二つの態様を例示する断面図である。図2は、一実施形態に係るシール構造SEに用いられる部品を例示する分解斜視図である。図3は、一実施形態に係るシール構造SEの効果を説明するためのグラフである。
図6に示すシール構造SEのシール部材SZは、第1の部分PM1と第2の部分PM2とを備える。第1の部分PM1および第2の部分PM2を備える図6に示すシール部材SZは、表面SF2に沿って(換言すれば、図6に示すシール部材SZを挟む二つの流路部品BM2の間のスペースSCに沿った方向DBに)、流路部品BM2に対して摺動的に移動可能である。第1の部分PM1と第2の部分PM2とは、スペースSC内において、境目CNに沿って(表面SF2に沿って)順に配置されている。
図7の(a)部に示すシール構造SEは、図1の(a)部に示すシール構造SEとは、シール部材SZのキャップ部BCの構成についてのみ異なり、キャップ部BC以外の他の構成については、図7の(a)部に示すシール構造SEと図1の(a)部に示すシール構造SEとは、互いに同様である。図7の(a)部に示すキャップ部BCと、図1の(a)部に示すキャップ部BCとは、突起部BCbの配置が異なっているが、このような突起部BCbの配置の相違を除けば、互いに同様である。
図7の(b)部に示すシール構造SEは、図1の(b)部に示すシール構造SEとは、シール部材SZのキャップ部BCの構成についてのみ異なり、キャップ部BC以外の他の構成については、図7の(b)部に示すシール構造SEと図1の(b)部に示すシール構造SEとは、互いに同様である。図7の(b)部に示すキャップ部BCと、図1の(b)部に示すキャップ部BCとは、突起部BCbの配置が異なっているが、このような突起部BCbの配置の相違を除けば、互いに同様である。溝BM1aの形状は、弾性体部BLの保持が可能な形状であれば特定の形状に限定されない。
図8の(a)部に示すシール構造SEは、図1の(a)部に示すシール構造SEとは、シール部材SZのキャップ部BCの構成についてのみ異なり、キャップ部BC以外の他の構成については、図8の(a)部に示すシール構造SEと図1の(a)部に示すシール構造SEとは、互いに同様である。図8の(a)部に示すキャップ部BCと、図1の(a)部に示すキャップ部BCとは、突起部BCbの配置が異なっているが、このような突起部BCbの配置の相違を除けば、互いに同様である。溝BM1aの形状は、弾性体部BLの保持が可能な形状であれば特定の形状に限定されない。
図8の(b)部に示すシール構造SEにおいて、流路部品BM1、弾性体部BLおよびキャップ部BCを備えるシール部材SZは、図5に示す場合とは異なり、流路部品BM2に対し挿抜が可能ではない構成を備える。
図9に示すシール構造SEは、図1の(a)部に示すシール構造SEとは、シール部材SZの流路部品BM1の構造についてのみ異なり、流路部品BM1以外の他の構成については、図9に示すシール構造SEと、図1の(a)部に示すシール構造SEとは、互いに同様である。
図10に示すシール構造SEは、図1の(b)部、図7の(b)部に示すシール構造SEのように流路部品BM1を含むシール部材SZが流路部品BM2の二つの部分(部分BM2aおよび部分BM2b)と流路部品BM3の二つの部分(部分BM3aおよび部分BM3b)とによって囲まれている。しかし、図10に示すシール構造SEは、図1の(b)部、図7の(b)部のそれぞれに示すシール構造SEとは異なり、ガス流路GLが、流路部品BM2の部分BM2a、流路部品BM1、流路部品BM3の部分BM3bに亘って設けられている。
第1の実施形態~第8の実施形態のそれぞれに係るシール構造SEは、何れも、例えば図12に示すプラズマ処理装置10のガス流路におけるガス導入口(ガス導入口36c、ガス導入口36d、ガス導入口52a)に用いられ得る。図12を参照して、プラズマ処理装置10の構成を概略的に説明する。図12は、一実施形態に係るシール構造SEが用いられるプラズマ処理装置10の概要図である。図12に示すプラズマ処理装置10は、CCP(Capacitively Coupled Plasma)型のプラズマ処理装置であり、プラズマ処理として、例えば、プラズマエッチングに用いられる装置である。なお、第1の実施形態~第8の実施形態のそれぞれに係るシール構造SEは、図12に示すCCP型のプラズマ処理装置に限らず、例えば、ICP(Inductively Coupled Plasma)型のプラズマ処理装置、ECR(Electron Cyclotron Resonance)型のプラズマ処理装置、マイクロ波を用いたプラズマ処理装置等の他の任意のタイプのプラズマ処理装置に対して適用され得る。
Claims (5)
- ガスの流路を封止するシール構造であって、
前記流路を画定する第1の部品および第2の部品と、
前記第1の部品と前記第2の部品との境目に設けられた弾性体部およびキャップ部と、
を備え、
前記第1の部品は、
第1の貫通孔と第1の表面とを備え、
前記第2の部品は、
第2の貫通孔と第2の表面とを備え、
前記第1の貫通孔は、前記第1の表面から延びており、
前記第2の貫通孔は、前記第2の表面から延びており、
前記境目は、前記第1の表面と前記第2の表面とによって画定され、
前記流路は、前記第1の貫通孔と前記第2の貫通孔とが連結することによって画定され、
前記第1の部品と前記第2の部品とは、前記第1の貫通孔と前記第2の貫通孔とが連結するように配置可能であり、
前記弾性体部は、輪形状を備え、前記第1の表面から突出するように該第1の表面の溝内に設けられ、該第1の表面上から見て前記第1の貫通孔の第1の開口が該弾性体部の輪形状の第2の開口に重なるように配置され、
前記キャップ部は、第3の開口を備え、前記弾性体部上に配置され、前記第1の表面上から見て該第3の開口、前記第2の開口および前記第1の開口が互いに重なるように、並びに該弾性体部が前記第2の部品に直に接触しないように該弾性体部を覆い、該第1の表面の前記溝に嵌め込まれ、前記第2の表面に密接しており、
前記キャップ部と前記第2の部品とは、摺動性を有するように互いに密接し、
前記キャップ部と前記第2の部品の前記第2の表面との間の摩擦抵抗は、該キャップ部を用いないで前記弾性体部を該第2の表面に直接的に接触させる構造における該弾性体部と該第2の表面との間の摩擦抵抗に比較して小さい、
シール構造。 - 前記キャップ部は、ポリテトラフルオロエチレン(polytetrafluoroethylene)の材料を有する、
請求項1に記載のシール構造。 - 前記第1の部品と前記弾性体部と前記キャップ部とを備えるシール部材は、前記第2の表面に沿って、前記第2の部品に対して摺動的に移動可能であり、
前記第2の部品に対する前記第2の表面に沿った前記シール部材の移動は、前記第1の貫通孔および前記第2の貫通孔の前記連結と、該連結の解除と、を切り替える、
請求項1または請求項2に記載のシール構造。 - 二つの前記第2の部品を備え、
前記第1の部品は、互いに対向して配置される二つの前記第2の部品の間に挿抜可能に配置される、
請求項1~3の何れか一項に記載のシール構造。 - ガスの流路を封止するシール方法であって、該流路は、第1の部品の第1の貫通孔と第2の部品の第2の貫通孔とが連結することによって画定され、該方法は、
輪形状の弾性体部を前記第1の部品の第1の表面から突出するように該第1の表面の溝内に設けて、該第1の表面上から見て前記第1の貫通孔の第1の開口が該弾性体部の輪形状の第2の開口に重なるように該弾性体部を配置するステップと、
第3の開口を有するキャップ部を、前記第1の表面上から見て前記第1の開口、前記第2の開口および該第3の開口が互いに重なるように、並びに前記弾性体部が前記第2の部品に直に接触しないように該弾性体部を覆いつつ該弾性体部上に設けて、前記第1の表面の前記溝に嵌め込むステップと、
前記第1の貫通孔が前記第2の貫通孔と連結するように前記第1の部品と前記第2の部品とを前記弾性体部および前記キャップ部を介して組み、該キャップ部を該第2の部品の第2の表面に互いに摺動性を有するように密接させて、前記流路を画定するステップと、
を備え、
前記キャップ部と前記第2の表面との間の摩擦抵抗は、該キャップ部を用いないで前記弾性体部を該第2の表面に直接的に接触させる構造における該弾性体部と該第2の表面との間の摩擦抵抗に比較して小さい、
シール方法。
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