JP7051814B2 - 改善されたパッシブオンガラス(pog)マルチプレクサ性能のための多密度mimキャパシタ - Google Patents
改善されたパッシブオンガラス(pog)マルチプレクサ性能のための多密度mimキャパシタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP7051814B2 JP7051814B2 JP2019507905A JP2019507905A JP7051814B2 JP 7051814 B2 JP7051814 B2 JP 7051814B2 JP 2019507905 A JP2019507905 A JP 2019507905A JP 2019507905 A JP2019507905 A JP 2019507905A JP 7051814 B2 JP7051814 B2 JP 7051814B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parallel plate
- capacitor
- dielectric
- passive device
- capacitors
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/01—Frequency selective two-port networks
- H03H7/0115—Frequency selective two-port networks comprising only inductors and capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L28/00—Passive two-terminal components without a potential-jump or surface barrier for integrated circuits; Details thereof; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L28/10—Inductors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L28/00—Passive two-terminal components without a potential-jump or surface barrier for integrated circuits; Details thereof; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L28/40—Capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H1/00—Constructional details of impedance networks whose electrical mode of operation is not specified or applicable to more than one type of network
- H03H1/0007—Constructional details of impedance networks whose electrical mode of operation is not specified or applicable to more than one type of network of radio frequency interference filters
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/01—Frequency selective two-port networks
- H03H7/0138—Electrical filters or coupling circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/46—Networks for connecting several sources or loads, working on different frequencies or frequency bands, to a common load or source
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/16—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
- H05K1/162—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/16—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
- H05K1/165—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed inductors
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H1/00—Constructional details of impedance networks whose electrical mode of operation is not specified or applicable to more than one type of network
- H03H2001/0021—Constructional details
- H03H2001/0078—Constructional details comprising spiral inductor on a substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H1/00—Constructional details of impedance networks whose electrical mode of operation is not specified or applicable to more than one type of network
- H03H2001/0021—Constructional details
- H03H2001/0085—Multilayer, e.g. LTCC, HTCC, green sheets
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/09218—Conductive traces
- H05K2201/09263—Meander
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/09218—Conductive traces
- H05K2201/09281—Layout details of a single conductor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Filters And Equalizers (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Description
102、218 電力増幅器
104 デュプレクサ/フィルタ
106 無線周波数(RF)スイッチモジュール、RFスイッチモジュール
108 受動コンバイナ
112 チューナー回路
112A 第1のチューナー回路
112B 第2のチューナー回路
115 接地端子
114、192、194、216 アンテナ
116、122、132、158、162、164、174、612、614、616、618、622、624 キャパシタ
118、166、360、460 インダクタ
120 ワイヤレストランシーバ(WTR)
130 モデム
140 アプリケーションプロセッサ(AP)
150 RFフロントエンド(RFFE)モジュール
152 電源
154 クロック
156 電力管理集積回路(PMIC)、PMIC
160 チップセット
170 ワイヤレスローカルエリアネットワーク(WLAN)(たとえば、WiFi)モジュール、WiFiモジュール
172 WLANモジュール
180 デュプレクサ
200 ダイプレクサ
200-1 第1のダイプレクサ
200-2 第2のダイプレクサ
201 システムボード
202、302 基板
210 アンテナスイッチ、アンテナスイッチ(ASW)
210-1 ハイバンドアンテナスイッチ
210-2 ローバンドアンテナスイッチ
212 ハイバンド(HB)入力ポート
214 ローバンド(LB)入力ポート
220 RFスイッチ
230 フィルタ
250 RFフロントエンドモジュール
300、400 マルチプレクサ
304、404、562 共有の第1の導電プレート
310、410、530、580 第1の平行プレートキャパシタ
312、412 第1の誘電体層
314、324、334、414、424、434、514、564、566 第2の導電プレート
316 第1の誘電体厚さ
320、420、540、590 第2の平行プレートキャパシタ
322、422 第2の誘電体層
326 第2の誘電体厚さ
330、430 第3の平行プレートキャパシタ
332、432 第3の誘電体層
336 第3の誘電体厚さ
340、440 第4のビア
342、442 第1のビア
344、444 第2のビア
346、446 第3のビア
350、450 第3の導電層
350-1、450-1 第1の部分
350-2、450-2 第2の部分
350-3、450-3 第3の部分
350-4、450-4 第4の部分
364、464 ビア
366、466 第4の導電層
370、470 導電バンプ
372、472 パッシベーション層
374、474 層間誘電体(ILD)
402 基板層、基板
500 第1のマルチプレクサ
502、552 出力ポート
510 可変誘電体厚さの平行プレートキャパシタ、平行プレートキャパシタ
512 第1の導電プレート
520、570 平面2次元(2D)スパイラルインダクタ、2Dスパイラルインダクタ
550 第2のマルチプレクサ
560 直列結合平行プレートキャパシタ
560-1 第1の共有プレートキャパシタ
560-2 第2の共有プレートキャパシタ
610 第1の直列結合キャパシタ
613 ギャップ
620 第2の直列結合キャパシタ
623 固定の大きいギャップ
TS1 トレースセグメント、第1のトレースセグメント
TS2 トレースセグメント、第2のトレースセグメント
TS3 トレースセグメント、第3のトレースセグメント
800 ワイヤレス通信システム
820、830、850 リモートユニット
825A、825B、825C ICデバイス
840 基地局
880 順方向リンク信号
890 逆方向リンク信号
900 設計用ワークステーション
901 ハードディスク
902 ディスプレイ
903 ドライブ装置
904 記憶媒体
910 回路
912 多密度MIMキャパシタ
Claims (15)
- 受動デバイスであって、
共通平面における複数の平行プレートキャパシタであって、前記複数の平行プレートキャパシタの各々が、一対の導電プレートの間に誘電体層を有する、複数の平行プレートキャパシタを備え、
前記受動デバイスが、さらに、
前記複数の平行プレートキャパシタのうちの第1の平行プレートキャパシタであって、第1の誘電定数の第1の誘電材料の単一層を有する第1の平行プレートキャパシタ、および、前記複数の平行プレートキャパシタのうちの第2の平行プレートキャパシタであって、前記第1の誘電定数と異なる第2の誘電定数の第2の誘電材料の単一層を有する第2の平行プレートキャパシタと、
相互接続された複数のトレースセグメントを含む2次元スパイラルインダクタと、
を備え、
前記平行プレートキャパシタの1つのみが、前記相互接続されたトレースセグメントの1つのみに重複し、前記他の平行プレートキャパシタが、前記相互接続されたトレースセグメントの何れにも重複しないことを特徴とする、受動デバイス。 - 前記受動デバイスが、パッシブオンガラスPOGデバイスを備える、請求項1に記載の受動デバイス。
- 前記複数の平行プレートキャパシタが、金属絶縁体金属MIMキャパシタを備える、請求項1に記載の受動デバイス。
- 前記金属絶縁体金属MIMキャパシタが、異なる誘電材料から構成される、請求項3に記載の受動デバイス。
- 前記第1の平行プレートキャパシタと同じ誘電材料及び誘電定数の単一層を有する、第3の平行プレートキャパシタをさらに備え、前記第3の平行プレートキャパシタが、前記第1の平行プレートキャパシタと直列に接続される、請求項3に記載の受動デバイス。
- 前記受動デバイスが、マルチプレクサの一部である、請求項1に記載の受動デバイス。
- 受動デバイスであって、
共通平面における複数の平行プレートキャパシタであって、前記複数の平行プレートキャパシタの各々が、一対の導電プレートの間に誘電体層を有する、複数の平行プレートキャパシタを備え、
前記受動デバイスが、さらに、
前記複数の平行プレートキャパシタのうちの第1の平行プレートキャパシタであって、第1の誘電体厚さ及び第1の誘電定数の第1の誘電体層を有する第1の平行プレートキャパシタ、および、前記複数の平行プレートキャパシタのうちの第2の平行プレートキャパシタであって、第2の誘電体厚さの第2の誘電体層を有し、前記第1の誘電体厚さが前記第2の誘電体厚さと異なり、前記第1の誘電体層および前記第2の誘電体層が同じ材料のものである、第2の平行プレートキャパシタと、
相互接続された複数のトレースセグメントを含む2次元スパイラルインダクタと、
を備え、
前記平行プレートキャパシタの1つのみが、前記相互接続されたトレースセグメントの1つのみに重複し、前記他の平行プレートキャパシタが、前記相互接続されたトレースセグメントの何れにも重複しないことを特徴とする、受動デバイス。 - 前記受動デバイスが、パッシブオンガラスPOGデバイスを備える、請求項7に記載の受動デバイス。
- 前記複数の平行プレートキャパシタが、金属絶縁体金属MIMキャパシタを備える、請求項7に記載の受動デバイス。
- 前記第1の平行プレートキャパシタと同じ誘電体厚さと誘電定数とを有する、第3の平行プレートキャパシタをさらに備え、前記第3の平行プレートキャパシタが、前記第1の平行プレートキャパシタと直列に接続される、請求項9に記載の受動デバイス。
- 前記誘電体層が、窒化ケイ素SiN、酸化アルミニウムAlO、および五酸化タンタルTa2O5を含む、請求項9に記載の受動デバイス。
- 前記受動デバイスが、マルチプレクサの一部である、請求項9に記載の受動デバイス。
- 前記受動デバイスが、モバイルデバイスの一部である、請求項9に記載の受動デバイス。
- 前記第1の厚さおよび前記第2の厚さの範囲が、0.1ミクロンから1ミクロンを含む、請求項9に記載の受動デバイス。
- 無線周波数RFフロントエンドモジュールであって、
請求項1から14の何れか一項に記載の受動デバイスを備えるマルチプレクサと、
前記マルチプレクサの出力に結合されたアンテナと
を備えるRFフロントエンドモジュール。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/240,987 US10141908B2 (en) | 2016-08-18 | 2016-08-18 | Multi-density MIM capacitor for improved passive on glass (POG) multiplexer performance |
US15/240,987 | 2016-08-18 | ||
PCT/US2017/041961 WO2018034753A2 (en) | 2016-08-18 | 2017-07-13 | Multi-density mim capacitor for improved passive on glass (pog) multiplexer performance |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019533300A JP2019533300A (ja) | 2019-11-14 |
JP2019533300A5 JP2019533300A5 (ja) | 2020-07-30 |
JP7051814B2 true JP7051814B2 (ja) | 2022-04-11 |
Family
ID=59684008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019507905A Active JP7051814B2 (ja) | 2016-08-18 | 2017-07-13 | 改善されたパッシブオンガラス(pog)マルチプレクサ性能のための多密度mimキャパシタ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10141908B2 (ja) |
EP (1) | EP3501244B1 (ja) |
JP (1) | JP7051814B2 (ja) |
KR (1) | KR102529815B1 (ja) |
CN (1) | CN109644558B (ja) |
WO (1) | WO2018034753A2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7078313B2 (ja) * | 2018-03-07 | 2022-05-31 | 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 | 半導体装置 |
US10292269B1 (en) * | 2018-04-11 | 2019-05-14 | Qualcomm Incorporated | Inductor with metal-insulator-metal (MIM) capacitor |
TWI691092B (zh) * | 2018-11-05 | 2020-04-11 | 力晶積成電子製造股份有限公司 | 電容單元及其製造方法 |
US11515247B2 (en) * | 2021-01-14 | 2022-11-29 | Qualcomm Incorporated | Capacitance fine tuning by fin capacitor design |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002368565A (ja) | 2001-04-04 | 2002-12-20 | Murata Mfg Co Ltd | 集中定数フィルタ、アンテナ共用器、および通信装置 |
JP2004087524A (ja) | 2002-08-22 | 2004-03-18 | Nec Corp | 回路基板およびこれを用いた電子機器 |
JP2005191266A (ja) | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Shinko Electric Ind Co Ltd | キャパシタ装置、電子部品実装構造及びキャパシタ装置の製造方法 |
JP2009518953A (ja) | 2005-12-06 | 2009-05-07 | Tdk株式会社 | インダクタ−キャパシタ共振器を用いた薄膜バンドパスフィルタ |
WO2011118308A1 (ja) | 2010-03-26 | 2011-09-29 | 三洋電機株式会社 | コンデンサ素子、コンデンサ内蔵基板、素子シート、及びこれらの製造方法 |
JP2013120930A (ja) | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Win Semiconductors Corp | 三次元配置部品を有する化合物半導体集積回路 |
JP2016103623A (ja) | 2014-11-27 | 2016-06-02 | ツーハイ アドバンスド チップ キャリアーズ アンド エレクトロニック サブストレート ソリューションズ テクノロジーズ カンパニー リミテッド | フレームがコンデンサと直列に少なくとも1個のビアを備えるようなチップ用のポリマーフレーム |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2577067A1 (fr) | 1985-02-01 | 1986-08-08 | Coupin Patrice | Procede de fabrication de condensateurs plans imprimes et circuits imprimes utilisant de tels condensateurs |
JPH0766043A (ja) * | 1993-08-30 | 1995-03-10 | Murata Mfg Co Ltd | モノリシックフィルタ |
US6127908A (en) * | 1997-11-17 | 2000-10-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Microelectro-mechanical system actuator device and reconfigurable circuits utilizing same |
US6777777B1 (en) | 2003-05-28 | 2004-08-17 | Newport Fab, Llc | High density composite MIM capacitor with flexible routing in semiconductor dies |
WO2006076607A1 (en) | 2005-01-14 | 2006-07-20 | Cabot Corporation | Ink-jet printing of passive electricalcomponents |
CA2594806C (en) * | 2005-01-14 | 2015-06-02 | Cabot Corporation | Security features, their use, and processes for making them |
WO2007005642A2 (en) | 2005-06-30 | 2007-01-11 | Derochemont L Pierre | Electrical components and method of manufacture |
US7444727B2 (en) | 2006-03-10 | 2008-11-04 | Motorola, Inc. | Method for forming multi-layer embedded capacitors on a printed circuit board |
KR100955948B1 (ko) | 2007-12-21 | 2010-05-03 | 삼성전기주식회사 | 다중대역 송신단 모듈 및 이의 제조 방법 |
JP5083125B2 (ja) * | 2008-08-27 | 2012-11-28 | 株式会社村田製作所 | 分波器、半導体集積回路装置および通信用携帯端末 |
BRPI0924518A2 (pt) * | 2009-03-27 | 2016-03-01 | Siemens Ag | sistema de rádio comunicação e método de comunicação entre estação base e antena |
US8094429B2 (en) * | 2009-06-22 | 2012-01-10 | Industrial Technology Research Institute | Multilayer capacitors and methods for making the same |
US8902020B2 (en) * | 2009-07-27 | 2014-12-02 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Resonator filter with multiple cross-couplings |
US8375539B2 (en) | 2009-08-05 | 2013-02-19 | International Business Machines Corporation | Method of manufacturing complimentary metal-insulator-metal (MIM) capacitors |
US8191217B2 (en) | 2009-08-05 | 2012-06-05 | International Business Machines Corporation | Complimentary metal-insulator-metal (MIM) capacitors and method of manufacture |
JP2013127992A (ja) | 2010-03-26 | 2013-06-27 | Sanyo Electric Co Ltd | コンデンサ内蔵基板の製造方法、及び該製造方法に使用可能な素子シートの製造方法 |
US9793338B2 (en) | 2010-07-16 | 2017-10-17 | X-Fab Semiconductor Foundries Ag | Capacitor structures for semiconductor device |
US9642258B2 (en) | 2012-04-18 | 2017-05-02 | Brewer Science Inc. | All-organic inductor-capacitor tank circuit for radio frequency sensor applications |
US9269663B2 (en) * | 2012-12-06 | 2016-02-23 | Texas Instruments Incorporated | Single pattern high precision capacitor |
WO2015033704A1 (ja) | 2013-09-05 | 2015-03-12 | 株式会社村田製作所 | コンデンサ内蔵電子部品 |
US20150200245A1 (en) | 2014-01-13 | 2015-07-16 | Qualcomm Incorporated | Lateral metal insulator metal (mim) capacitor with high-q and reduced area |
-
2016
- 2016-08-18 US US15/240,987 patent/US10141908B2/en active Active
-
2017
- 2017-07-13 EP EP17755298.1A patent/EP3501244B1/en active Active
- 2017-07-13 KR KR1020197004614A patent/KR102529815B1/ko active IP Right Grant
- 2017-07-13 WO PCT/US2017/041961 patent/WO2018034753A2/en active Search and Examination
- 2017-07-13 CN CN201780050522.4A patent/CN109644558B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2017-07-13 JP JP2019507905A patent/JP7051814B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002368565A (ja) | 2001-04-04 | 2002-12-20 | Murata Mfg Co Ltd | 集中定数フィルタ、アンテナ共用器、および通信装置 |
JP2004087524A (ja) | 2002-08-22 | 2004-03-18 | Nec Corp | 回路基板およびこれを用いた電子機器 |
JP2005191266A (ja) | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Shinko Electric Ind Co Ltd | キャパシタ装置、電子部品実装構造及びキャパシタ装置の製造方法 |
JP2009518953A (ja) | 2005-12-06 | 2009-05-07 | Tdk株式会社 | インダクタ−キャパシタ共振器を用いた薄膜バンドパスフィルタ |
WO2011118308A1 (ja) | 2010-03-26 | 2011-09-29 | 三洋電機株式会社 | コンデンサ素子、コンデンサ内蔵基板、素子シート、及びこれらの製造方法 |
JP2013120930A (ja) | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Win Semiconductors Corp | 三次元配置部品を有する化合物半導体集積回路 |
JP2016103623A (ja) | 2014-11-27 | 2016-06-02 | ツーハイ アドバンスド チップ キャリアーズ アンド エレクトロニック サブストレート ソリューションズ テクノロジーズ カンパニー リミテッド | フレームがコンデンサと直列に少なくとも1個のビアを備えるようなチップ用のポリマーフレーム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109644558A (zh) | 2019-04-16 |
BR112019002735A2 (pt) | 2019-05-14 |
EP3501244A2 (en) | 2019-06-26 |
US10141908B2 (en) | 2018-11-27 |
JP2019533300A (ja) | 2019-11-14 |
KR102529815B1 (ko) | 2023-05-08 |
WO2018034753A3 (en) | 2018-06-14 |
CN109644558B (zh) | 2021-06-11 |
WO2018034753A2 (en) | 2018-02-22 |
KR20190040486A (ko) | 2019-04-18 |
US20180054177A1 (en) | 2018-02-22 |
EP3501244B1 (en) | 2023-02-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5982585B2 (ja) | ガラス貫通ビア技術を使用するダイプレクサ構成 | |
US10103135B2 (en) | Backside ground plane for integrated circuit | |
JP7051814B2 (ja) | 改善されたパッシブオンガラス(pog)マルチプレクサ性能のための多密度mimキャパシタ | |
US10643985B2 (en) | Capacitor array overlapped by on-chip inductor/transformer | |
JP2019507972A (ja) | 3dガラス貫通ビアフィルタと統合された2d受動オンガラスフィルタを使用するマルチプレクサ構成 | |
EP3642871B1 (en) | On-chip coupling capacitor with patterned radio frequency shielding structure for lower loss | |
CN108886350A (zh) | 通过层转移进行lc过滤器层堆叠以制作3d复用器结构 | |
US10433425B1 (en) | Three-dimensional high quality passive structure with conductive pillar technology | |
US10446898B2 (en) | On-chip coplanar waveguide having a shielding layer comprising a capacitor formed by sets of interdigitated fingers | |
EP4356442A1 (en) | 3d inductor design using bundle substrate vias | |
US20180083588A1 (en) | Electrode wrap-around capacitors for radio frequency (rf) applications | |
US10262786B2 (en) | Stepped-width co-spiral inductor structure | |
US9780048B1 (en) | Side-assembled passive devices | |
JP6921180B2 (ja) | デュアル側面接触キャパシタを形成するための裏面シリサイド化の利用 | |
US20220285080A1 (en) | Stacked inductor having a discrete metal-stack pattern | |
BR112019002735B1 (pt) | Dispositivo passivo e módulo de front end de radiofrequência, rf | |
WO2023235027A1 (en) | Thin film resistor (tfr) device structure for high performance radio frequency (rf) filter design |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190219 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200622 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200622 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210810 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211015 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220228 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220330 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7051814 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |