JP7046679B2 - External electrodes of ceramic laminate - Google Patents

External electrodes of ceramic laminate Download PDF

Info

Publication number
JP7046679B2
JP7046679B2 JP2018069060A JP2018069060A JP7046679B2 JP 7046679 B2 JP7046679 B2 JP 7046679B2 JP 2018069060 A JP2018069060 A JP 2018069060A JP 2018069060 A JP2018069060 A JP 2018069060A JP 7046679 B2 JP7046679 B2 JP 7046679B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
ceramic
laminated
external electrode
ceramic laminate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018069060A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2019179874A (en
Inventor
秀樹 古澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JX Nippon Mining and Metals Corp
Original Assignee
JX Nippon Mining and Metals Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JX Nippon Mining and Metals Corp filed Critical JX Nippon Mining and Metals Corp
Priority to JP2018069060A priority Critical patent/JP7046679B2/en
Publication of JP2019179874A publication Critical patent/JP2019179874A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7046679B2 publication Critical patent/JP7046679B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Description

本発明は、セラミック積層体に設けられた外部電極に関する。 The present invention relates to an external electrode provided on a ceramic laminate.

積層セラミック製品は、温度安定性、耐湿性といった品質上の利点に加え、高周波数帯での使用に適していることから、基板の実装部品として近年需要が激増している。とくに積層セラミックコンデンサ(MLCC)、積層インダクタ(MLCI)はスマートフォンや車載用センサでの需要が旺盛となっている。 In addition to quality advantages such as temperature stability and moisture resistance, monolithic ceramic products are suitable for use in high frequency bands, so demand for laminated ceramic products has increased dramatically in recent years as board mounting components. In particular, demand for multilayer ceramic capacitors (MLCCs) and multilayer inductors (MLCIs) for smartphones and in-vehicle sensors is strong.

MLCCは基板に実装され、一時的な蓄電、ノイズ除去の役割を果たす。電子機器が使用される周波数が高周波数帯にシフトすることに伴い、高性能化が望まれている。MLCCは通常以下の手順で製造される。BaTiO3を主成分とするセラミック粒子から構成されるグリーンシートにニッケル粉ペーストを印刷し、それを積層し、1000℃前後で焼成される。所望サイズにカットされ、外部電極を形成する銅粉ペーストを塗布し、800℃前後で焼き付ける。得られたMLCCを基板に実装するために、外部電極上にはニッケルめっき、その後、すずめっきが行われる。ニッケルめっき層は焼成して得られた外部電極をいわゆるはんだ喰われから保護する。すず層ははんだで実装するための接合層として設けられる。 The MLCC is mounted on a substrate and plays a role of temporary storage and noise reduction. As the frequency at which electronic devices are used shifts to higher frequency bands, higher performance is desired. The MLCC is usually manufactured by the following procedure. Nickel powder paste is printed on a green sheet composed of ceramic particles containing BaTiO 3 as a main component, laminated, and fired at around 1000 ° C. A copper powder paste that is cut to a desired size and forms an external electrode is applied and baked at around 800 ° C. In order to mount the obtained MLCC on the substrate, nickel plating is performed on the external electrode, and then tin plating is performed. The nickel-plated layer protects the external electrode obtained by firing from so-called solder erosion. The tin layer is provided as a bonding layer for mounting with solder.

MLCIは、携帯電話や無線LANなどの高周波用基板において、RF部でのマッチングや共振回路などに使用される。フェライト粒子、セラミックス粒子等から構成されるグリーンシートにビアホールを形成した後、銀粉ペーストが印刷される。このシートを積層し、900℃前後で焼成された後、所望サイズにカットされ、外部電極を形成する銅粉ペーストを塗布し、800℃前後で焼き付ける。得られたMLCIを基板に実装するために、MLCCと同じように外部電極上にニッケルめっき、すずめっきが行われる。 MLCI is used for matching in the RF section, resonance circuit, etc. in a high frequency substrate such as a mobile phone or a wireless LAN. After forming via holes in a green sheet composed of ferrite particles, ceramic particles, etc., a silver powder paste is printed. This sheet is laminated and fired at around 900 ° C., then cut to a desired size, coated with a copper powder paste forming an external electrode, and baked at around 800 ° C. In order to mount the obtained MLCI on the substrate, nickel plating and tin plating are performed on the external electrodes in the same manner as in MLCC.

MLCC、MLCIのいずれも、従来サイズでの性能を維持したうえでの小サイズ化が望まれている。 Both MLCC and MLCI are desired to be reduced in size while maintaining the performance in the conventional size.

積層セラミック製品ではJISでサイズが規格化されている。例えばMLCCでは高さと幅が同じとなるよう設計されているので、‘1005’では長さ1.0mm、幅0.5mmのMLCC,‘0603’では長さ0.6mm、幅0.3mmのMLCCを表す。このような制限のもと、積層セラミック製品のサイズが小さくなっても電気的特性が損なわれないよう、積層セラミック製品の1層あたりの厚みが薄くして、積層数を増やす努力が行われている。このようにして、サイズを維持したままに電気的特性を高性能化する努力が行われている。 The size of laminated ceramic products is standardized by JIS. For example, the MLCC is designed to have the same height and width, so the '1005' has a length of 1.0 mm and a width of 0.5 mm, and the '0603' has a length of 0.6 mm and a width of 0.3 mm. Represents. Under these restrictions, efforts have been made to reduce the thickness of each layer of the laminated ceramic product and increase the number of layers so that the electrical characteristics are not impaired even if the size of the laminated ceramic product is reduced. There is. In this way, efforts are being made to improve the electrical characteristics while maintaining the size.

一般的な外部電極ペーストとしては特許文献1(特開2002-277372号)に記載されるように、1μm前後の大きさの銅粉にバインダー樹脂、溶剤から構成されるペーストが広く用いられている。このペースト材料では無機成分がCu粉のみだと、焼成体中に空隙が生成し、セラミック素体からのはがれを引き起こすので、ガラスフリットが添加される。ガラスフリットが空隙を埋めるので、セラミック素体と焼成により得られた外部電極との密着力が確保される。 As a general external electrode paste, as described in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-277372), a paste composed of a binder resin and a solvent in a copper powder having a size of about 1 μm is widely used. .. In this paste material, if the inorganic component is only Cu powder, voids are generated in the fired body and cause peeling from the ceramic prime field, so glass frit is added. Since the glass frit fills the voids, the adhesion between the ceramic prime field and the external electrode obtained by firing is ensured.

特許文献2(特開2011-18898号)には、歩留まりを向上した積層セラミックコンデンサの製造が開示されており、内部電極にはニッケルペーストが使用されている。 Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2011-18898) discloses the manufacture of a monolithic ceramic capacitor with improved yield, and nickel paste is used for the internal electrode.

特許文献3(WO2013/118893A1号)及び特許文献4(WO2013/125659号)には、内部電極のためのペーストに適した、表面処理された金属粉とその製造方法が開示されている。 Patent Document 3 (WO2013 / 118893A1) and Patent Document 4 (WO2013 / 125659) disclose a surface-treated metal powder suitable for a paste for an internal electrode and a method for producing the same.

特開2002-277372号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-277372 特開2011-18898号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-18898 WO2013/118893号WO2013 / 118893 WO2013/125659号WO2013 / 125659

このように、MLCC等の積層セラミック製品について、性能を維持しつつ小サイズ化すること、あるいはサイズを維持しつつ高性能化することが求められている。これに対して本発明者は、積層セラミック製品に形成される外部電極を薄層化することによって、積層セラミック製品の1層あたりの面積を増大させ、結果として全体の内部電極面積を増大させて、同じサイズでの高性能化を実現するという着想を得た。 As described above, it is required to reduce the size of laminated ceramic products such as MLCC while maintaining the performance, or to improve the performance while maintaining the size. On the other hand, the present inventor increases the area per layer of the laminated ceramic product by thinning the external electrode formed on the laminated ceramic product, and as a result, increases the total internal electrode area. , I got the idea of achieving high performance with the same size.

したがって、本発明の目的は、積層セラミック製品、特にMLCCの外部電極であって、外部電極に必要な積層体への密着性を維持しつつ、薄層化された外部電極を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a thinned external electrode for a laminated ceramic product, particularly an external electrode of MLCC, while maintaining the adhesion to the laminate required for the external electrode. ..

本発明者は、鋭意研究の結果、焼結遅延性に優れたNi粉ペーストを外部電極材料とすることで、従来のCu電極を外部電極として積層体に形成することなく、薄層化された外部電極を製造できることを見いだして、本発明に到達した。 As a result of diligent research, the present inventor has made a thin layer without forming a conventional Cu electrode as an external electrode in a laminate by using a Ni powder paste having excellent sintering delay as an external electrode material. The present invention was reached by finding that an external electrode can be manufactured.

したがって、本発明は、次の(1)を含む。
(1)
セラミック積層体に設けられた外部電極であって、
セラミック積層体の積層端面上に設けられたNi層、Ni層上に設けられたSnめっき層からなり、
Ni層が厚さ1~20μmであり、
Ni層中においてNi含有量に対するSi含有量が0.05~3.0質量%である、外部電極。
Therefore, the present invention includes the following (1).
(1)
An external electrode provided on a ceramic laminate,
It consists of a Ni layer provided on the laminated end face of the ceramic laminate and a Sn plating layer provided on the Ni layer.
The Ni layer has a thickness of 1 to 20 μm and has a thickness of 1 to 20 μm.
An external electrode having a Si content of 0.05 to 3.0% by mass with respect to the Ni content in the Ni layer.

本発明によれば、積層セラミック製品の外部電極を薄層化することができる。 According to the present invention, the external electrode of the laminated ceramic product can be thinned.

以下に本発明を実施の態様をあげて詳細に説明する。本発明は以下にあげる具体的な実施の態様に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments. The present invention is not limited to the specific embodiments listed below.

[外部電極]
本発明の外部電極は、セラミック積層体に設けられた外部電極であって、セラミック積層体の積層端面上に設けられたNi層、Ni層上に設けられたSnめっき層からなり、Ni層が厚さ1~20μmであり、Ni層中においてNi含有量に対するSi含有量が0.05~3.0質量%とすることができる。
[External electrode]
The external electrode of the present invention is an external electrode provided on the ceramic laminate, and is composed of a Ni layer provided on the laminated end face of the ceramic laminate and a Sn plating layer provided on the Ni layer, and the Ni layer is formed. The thickness is 1 to 20 μm, and the Si content in the Ni layer can be 0.05 to 3.0% by mass with respect to the Ni content.

[セラミック積層体と外部電極]
セラミック積層体は、セラミック積層製品、例えば積層セラミックコンデンサ(MLCC)、積層インダクタ(MLCI)の本体となる部分である。例えば積層セラミックコンデンサでは、セラミック積層体においてセラミック層と内部電極層が交互に積層されており、セラミック積層体の対向する2面では、積層された内部電極が交互に露出しており、この対向する2面(積層端面)に、それぞれの面に露出した内部電極を互いに電気的に接続して、同時に外部への電気的接続を可能にするように、外部電極が設けられて、積層セラミックコンデンサとして使用される。積層端面とは、セラミック積層体において、積層された内部電極が交互に露出している面であり、ここに外部電極が設置される。この内部電極面の面積が大きいほど、例えばコンデンサの容量が増大して好ましいために、これまで積層数の増加による内部電極面の面積増大が行われてきた。本発明者は外部電極を薄層化することにより、同じ積層数であっても内部電極面の面積を増大させるとの着想に至り、上記構成の外部電極とすることによって、シェア強度を維持したまま薄層化できることを見いだして、本発明に到達した。
[Ceramic laminate and external electrodes]
The ceramic laminate is a part that becomes the main body of a ceramic laminate product, for example, a multilayer ceramic capacitor (MLCC) or a multilayer inductor (MLCI). For example, in a laminated ceramic capacitor, a ceramic layer and an internal electrode layer are alternately laminated in a ceramic laminate, and on two facing surfaces of the ceramic laminate, the laminated internal electrodes are alternately exposed and face each other. External electrodes are provided on the two surfaces (laminated end faces) so that the internal electrodes exposed on each surface are electrically connected to each other and at the same time can be electrically connected to the outside, as a laminated ceramic capacitor. used. The laminated end surface is a surface of the ceramic laminate in which the laminated internal electrodes are alternately exposed, and external electrodes are installed therein. As the area of the internal electrode surface is large, for example, the capacity of the capacitor is increased, which is preferable. Therefore, the area of the internal electrode surface has been increased by increasing the number of laminated layers. The present inventor came up with the idea of increasing the area of the internal electrode surface even with the same number of layers by thinning the external electrode, and by using the external electrode having the above configuration, the share strength was maintained. The present invention was reached by finding that the layer can be thinned as it is.

[セラミック層]
好適な実施の態様において、セラミック積層体に使用されるセラミック層は、一般に使用されるセラミックによる層とすることができ、例えば、BaTiO3(チタン酸バリウム)、CaZrO3(ジルコン酸カルシウム)、CaTiO3(チタン酸カルシウム)、SrTiO3(チタン酸ストロンチウム)、ペロブスカイト構造を形成するBa1-x-yCaxSryTi1-zZrz3(0≦x≦1,0≦y≦1,0≦z≦1)、NiCuZnを主成分としたフェライト、ガラス(CaO,SiO2、Al23、B23)とアルミナの混合物等をあげることができる。
[Ceramic layer]
In a preferred embodiment, the ceramic layer used in the ceramic laminate can be a commonly used ceramic layer, eg, BaTIO 3 (barium titanate), CaZrO 3 (calcium titanate), CaTIO. 3 (calcium titanate), SrTiO 3 (strontium titanate), Ba 1-xy CaxSry Ti 1-z Zr z O 3 (0 ≦ x ≦ 1,0 ≦ y ≦ 1,0 ≦ z) forming a perovskite structure ≦ 1), ferrite containing NiCuZn as a main component, a mixture of glass (CaO, SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 ) and alumina, and the like can be mentioned.

[内部電極層]
好適な実施の態様において、セラミック積層体に使用される内部電極層は、一般に使用される金属による内部電極層とすることができ、例えば、Ni(ニッケル),Cu(銅),Sn(スズ)等を主成分とする金属、あるいはPt(白金)、Pd(パラジウム)、Ag(銀)、Au(金)などの貴金属やこれらを含む合金をあげることができる。
[Internal electrode layer]
In a preferred embodiment, the internal electrode layer used in the ceramic laminate can be an internal electrode layer made of a commonly used metal, such as Ni (nickel), Cu (copper), Sn (tin). Examples thereof include metals containing the above as a main component, precious metals such as Pt (platinum), Pd (platinum), Ag (silver), and Au (gold), and alloys containing these.

[Ni層と厚み]
本発明のNi層は、セラミック積層体の積層端面上に直接に設けられており、これによってその積層端面に露出した内部電極層が相互に電気的に接続される。また本発明のNi層は、積層端面に露出した内部電極層とセラミック層に対して、十分な強度の接着を実現して、積層セラミック製品の耐久性を達成するものとなっている。
[Ni layer and thickness]
The Ni layer of the present invention is provided directly on the laminated end face of the ceramic laminate, whereby the internal electrode layers exposed on the laminated end face are electrically connected to each other. Further, the Ni layer of the present invention realizes sufficient strength of adhesion to the internal electrode layer exposed on the laminated end face and the ceramic layer, and achieves the durability of the laminated ceramic product.

従来の技術において、セラミック積層体の積層端面上には、いったんCu層が設けられることが通常であった。このCu層が露出した内部電極層を相互に電気的に接続し、積層端面に対して十分な強度の接着を実現して、積層セラミック製品を構成していた。このCu層の設置による電気的接続は十分に良好であり、積層端面との接着も良好であるが、例えば30~100μmという厚みを要する構造であった。 In the conventional technique, it is usual that a Cu layer is once provided on the laminated end face of the ceramic laminate. The internal electrode layers exposed from the Cu layer were electrically connected to each other to achieve sufficient strength of adhesion to the laminated end face, thereby forming a laminated ceramic product. The electrical connection by installing the Cu layer is sufficiently good, and the adhesion to the laminated end face is also good, but the structure requires a thickness of, for example, 30 to 100 μm.

好適な実施の態様において、本発明のNi層は、その厚さを、例えば1~20μm、好ましくは1~15μm、さらに好ましくは1~11μm、あるいは1~10μm、1~8μm、1~6μm、1~5μm、1~4μm、1~3μm、1~2μmの範囲とすることができる。このように薄層化されたNi層を積層端面上に設けて、電気的接続と接着を実現することで、Cu層を採用した場合よりも広い内部電極面積を達成することができる。 In a preferred embodiment, the Ni layer of the present invention has a thickness of, for example, 1 to 20 μm, preferably 1 to 15 μm, more preferably 1 to 11 μm, or 1 to 10 μm, 1 to 8 μm, 1 to 6 μm. It can be in the range of 1 to 5 μm, 1 to 4 μm, 1 to 3 μm, and 1 to 2 μm. By providing the Ni layer thinned in this way on the laminated end face to realize electrical connection and adhesion, it is possible to achieve a wider internal electrode area than when the Cu layer is adopted.

[Ni層中のSi含有量]
好適な実施の態様において、本発明のNi層は、Ni層中においてNi含有量に対するSi含有量が、例えば0.05~3.0質量%、好ましくは0.05~2.0質量%、さらに好ましくは0.05~1.5質量%の範囲とすることができる。
[Si content in Ni layer]
In a preferred embodiment, the Ni layer of the present invention has a Si content of, for example, 0.05 to 3.0% by mass, preferably 0.05 to 2.0% by mass, based on the Ni content in the Ni layer. More preferably, it can be in the range of 0.05 to 1.5% by mass.

[Snめっき層]
好適な実施の態様において、Ni層上に設けられたSnめっき層は、厚みを、例えば0.5~10μm、好ましくは0.5~5μm、さらに好ましくは1~5μmの範囲とすることができる。Snめっき層は、公知の手段によって形成することができ、例えば、無電解Snめっき、あるいは電解Snめっきによって形成することができる。
[Sn plating layer]
In a preferred embodiment, the Sn plating layer provided on the Ni layer can have a thickness in the range of, for example, 0.5 to 10 μm, preferably 0.5 to 5 μm, and more preferably 1 to 5 μm. .. The Sn plating layer can be formed by a known means, for example, electroless Sn plating or electrolytic Sn plating.

従来の技術において、積層端面との接着と電気的な接続にCu層を使用していた場合には、このCu層に対していったんNi層をメッキ等で設けてその上にSnめっき層を設けることが通常であったが、本発明においては、積層端面との接着と電気的な接続にNi層を使用しているので、その上に別な層を設置する必要なく、Snめっき層を設けることができるために有利である。本発明によれば、従来の技術において必要となっていたNi層を形成するためのNiめっき工程を省略できることから、これに伴う生産性の向上の点で有利である。 In the conventional technique, when a Cu layer is used for adhesion to the laminated end face and electrical connection, a Ni layer is once provided on the Cu layer by plating or the like, and a Sn plating layer is provided on the Cu layer. However, in the present invention, since the Ni layer is used for adhesion and electrical connection with the laminated end face, it is not necessary to install another layer on the Ni layer, and a Sn plating layer is provided. It is advantageous to be able to. According to the present invention, since the Ni plating step for forming the Ni layer, which is required in the conventional technique, can be omitted, it is advantageous in terms of improving the productivity associated therewith.

[焼成Ni層]
好適な実施の態様において、本発明のNi層は、Niペーストが焼成されてなる焼成Ni層とすることができる。
[Fired Ni layer]
In a preferred embodiment, the Ni layer of the present invention can be a fired Ni layer formed by firing a Ni paste.

好適な実施の態様において、焼成Ni層は、後述するNiペーストを、セラミック積層体の積層端面に浸漬させて、例えば400~600℃でバインダー樹脂を燃焼させた後に600~1000℃で、還元雰囲気または水蒸気雰囲気下で焼成することによって、調製することができる。あるいは、例えばNiペーストを、ディップまたは吹付によって、積層端面へ塗布してもよい。 In a preferred embodiment, the fired Ni layer is formed by immersing a Ni paste described later in a laminated end face of a ceramic laminate, burning a binder resin at, for example, 400 to 600 ° C, and then reducing the atmosphere at 600 to 1000 ° C. Alternatively, it can be prepared by firing in a steam atmosphere. Alternatively, for example, Ni paste may be applied to the laminated end face by dipping or spraying.

[Niペースト]
好適な実施の態様において、Niペーストは、表面処理されたNi粉を使用して、調製される。Niペーストは、例えば表面処理されたNi粉を、バインダー樹脂、有機溶剤、ガラスフリットと混練して調製することができ、所望によりさらに分散剤、チキソ剤及び/又は消泡剤を添加してもよい。
[Ni paste]
In a preferred embodiment, the Ni paste is prepared using surface treated Ni powder. The Ni paste can be prepared, for example, by kneading the surface-treated Ni powder with a binder resin, an organic solvent, and a glass frit, and if desired, a dispersant, a thixo agent, and / or an antifoaming agent may be added. good.

バインダー樹脂としては、例えばエチルセルロース、アクリル樹脂及びブチラール樹脂をあげることができる。Niペースト中のバインダー樹脂は、Ni粉の質量に対して例えば0.1~10%の比率となるように含有させることができる。有機溶剤としては、例えばターピネオール、ブチルカルビトール及びヘキサンをあげることができる。ガラスフリットとしては、例えば直径が0.1~10μm、好ましくは0.1~5.0μmの範囲のガラスフリットを使用することができる。分散剤としては、例えばオレイン酸、ステアリン酸及びオレイルアミンをあげることができる。消泡剤としては、例えば有機変性ポリシロキサン、ポリアクリレートをあげることができる。Niペースト中には、Niペーストの質量に対して、Ni粉の質量比率を30~90%とし、ガラスフリットの質量比率を0~5%とし、バインダー樹脂の質量比率を上記の通りにし、残部を有機溶剤、分散剤等として含有させることができる。混練は公知の手段を使用して行うことができる。表面処理されたNi粉からのNiペーストの調製は、例えば特許文献4(WO2013/125659号)に開示されたペーストの調製にしたがって行うことができる。 Examples of the binder resin include ethyl cellulose, acrylic resin and butyral resin. The binder resin in the Ni paste can be contained in a ratio of, for example, 0.1 to 10% with respect to the mass of the Ni powder. Examples of the organic solvent include tarpineol, butyl carbitol and hexane. As the glass frit, for example, a glass frit having a diameter in the range of 0.1 to 10 μm, preferably 0.1 to 5.0 μm can be used. Examples of the dispersant include oleic acid, stearic acid and oleylamine. Examples of the defoaming agent include organically modified polysiloxane and polyacrylate. In the Ni paste, the mass ratio of the Ni powder to the mass of the Ni paste is 30 to 90%, the mass ratio of the glass frit is 0 to 5%, the mass ratio of the binder resin is as described above, and the balance. Can be contained as an organic solvent, a dispersant, or the like. Kneading can be performed using known means. The Ni paste from the surface-treated Ni powder can be prepared, for example, according to the preparation of the paste disclosed in Patent Document 4 (WO2013 / 125659).

[表面処理されたNi粉]
好適な実施の態様において、Niペーストに使用されるNi粉は、表面処理されたNi粉である。好適な実施の態様において、表面処理されたNi粉は、例えばBET比表面積が0.8m2-1以上で、焼結開始温度が600℃以上のNi粉を使用することができる。
[Surface-treated Ni powder]
In a preferred embodiment, the Ni powder used in the Ni paste is a surface-treated Ni powder. In a preferred embodiment, as the surface-treated Ni powder, for example, Ni powder having a BET specific surface area of 0.8 m 2 g -1 or more and a sintering start temperature of 600 ° C. or more can be used.

好適な実施の態様において、表面処理されたNi粉は、Ni粉をカップリング剤処理することによって調製することができる。カップリング剤としては、例えば末端にアミノ基を有する公知のカップリング剤を使用することができ、例えば特許文献3(WO2013/118893A1号)に開示されたカップリング剤を同文献に開示された手順で使用することができる。例えば、Ni粉を、カップリング剤水溶液中に投入して撹拌した後に、ケーキとして表面処理されたNi粉を回収することができる。 In a preferred embodiment, the surface-treated Ni powder can be prepared by treating the Ni powder with a coupling agent. As the coupling agent, for example, a known coupling agent having an amino group at the terminal can be used, and for example, the coupling agent disclosed in Patent Document 3 (WO2013 / 118893A1) is the procedure disclosed in the same document. Can be used in. For example, the Ni powder surface-treated as a cake can be recovered after the Ni powder is put into an aqueous solution of the coupling agent and stirred.

[シェア強度]
本発明の外部電極は、セラミック積層体の積層端面上に、Cu層を設けることなく、Ni層を直接に設けて、厚みを減らすと同時に、十分な強さでセラミック積層体に接合している。外部電極が、セラミック積層体に接合している強さを、シェア強度によって表すことができる。シェア強度は、公知の手段によって測定することができる。シェア強度は、所定のサイクル試験後のシェア強度として測定することによって、耐久性を示す指標とすることができる。本発明において、サイクル試験とは、-55℃(15分間)から125℃(15分間)を経て-55℃に戻すまでの1周期を1サイクル(1回)として温度変化させる試験であり、0回目(サイクル試験前)と1000サイクル後(1000回後)とのシェア強度を対比している。好適な実施の態様において、シェア強度は、長さ0.4mm、幅、高さが0.2mmの積層セラミック製品であれば、サイクル試験0回において、例えば290~1000[gf]、好ましくは290~500[gf]とすることができ、サイクル試験1000回後において、例えば100~500[gf]、好ましくは200~500[gf]とすることができる。積層セラミック製品の基板との密着力を表すシェア強度は接地面積、すなわち積層セラミック製品のサイズによって変わるので、耐久性の指標はシェア強度の劣化率でみる方が好ましい。好適な実施の態様において、サイクル試験1000回後のシェア強度は、サイクル試験0回目でのシェア強度に対して、例えば0.5以上、好ましくは0.73以上、さらに好ましくは0.81以上の比率の値とすることができる。
[Share strength]
In the external electrode of the present invention, the Ni layer is directly provided on the laminated end face of the ceramic laminate without providing the Cu layer to reduce the thickness and at the same time, the external electrode is bonded to the ceramic laminate with sufficient strength. .. The strength of the external electrode bonded to the ceramic laminate can be expressed by the shear strength. The share strength can be measured by known means. The shear strength can be used as an index showing durability by measuring the shear strength after a predetermined cycle test. In the present invention, the cycle test is a test in which one cycle (1 time) from −55 ° C. (15 minutes) to returning to −55 ° C. via 125 ° C. (15 minutes) is regarded as one cycle (1 time), and the temperature is changed to 0. The share strengths of the first time (before the cycle test) and after 1000 cycles (after 1000 times) are compared. In a preferred embodiment, the share strength is, for example, 290 to 1000 [gf], preferably 290, in 0 cycle tests for a laminated ceramic product having a length of 0.4 mm, a width and a height of 0.2 mm. It can be set to ~ 500 [gf], and after 1000 cycles of the cycle test, it can be set to, for example, 100 to 500 [gf], preferably 200 to 500 [gf]. Since the shear strength, which represents the adhesion of the laminated ceramic product to the substrate, varies depending on the ground contact area, that is, the size of the laminated ceramic product, it is preferable to look at the deterioration rate of the shear strength as an index of durability. In a preferred embodiment, the share strength after 1000 cycle tests is, for example, 0.5 or more, preferably 0.73 or more, and more preferably 0.81 or more with respect to the share strength at the 0th cycle test. It can be a ratio value.

[外部電極の厚み]
好適な実施の態様において、本発明の外部電極は、Ni層及びSnめっき層を含めた厚みを、例えば1.5~30μm、好ましくは3~20μm、さらに好ましくは3~5μmとすることができる。
[Thickness of external electrode]
In a preferred embodiment, the external electrode of the present invention can have a thickness including the Ni layer and the Sn plating layer, for example, 1.5 to 30 μm, preferably 3 to 20 μm, and more preferably 3 to 5 μm. ..

[好適な実施の態様]
本発明は次の(1)以下の実施態様を含む。
(1)
セラミック積層体に設けられた外部電極であって、
セラミック積層体の積層端面上に設けられたNi層、Ni層上に設けられたSnめっき層からなり、
Ni層が厚さ1~20μmであり、
Ni層中においてNi含有量に対するSi含有量が0.05~3.0質量%である、外部電極。
(2)
Snめっき層の厚みが0.5~10μmである、(1)に記載の外部電極。
(3)
Ni層が、Niペーストが焼成されてなる焼成Ni層である、(1)~(2)のいずれか)に記載の外部電極。
(4)
セラミック積層体が、内部電極層及びセラミック層が積層されてなるセラミック積層体である、(1)~(3)のいずれかに記載の外部電極。
(5)
セラミック積層体の積層端面上に、(1)~(4)のいずれかに記載の外部電極が設けられてなる、積層セラミック製品。
(6)
セラミック積層体が直方体の形状であり、
セラミック積層体の積層端面であって対向する2面に、(1)~(5)のいずれかに記載の外部電極が設けられてなる、積層セラミック製品。
(7)
積層セラミック製品が、積層セラミックコンデンサ、又は積層セラミックインダクタである、(6)に記載の積層セラミック製品。
[Preferable embodiment]
The present invention includes the following (1) embodiments.
(1)
An external electrode provided on a ceramic laminate,
It consists of a Ni layer provided on the laminated end face of the ceramic laminate and a Sn plating layer provided on the Ni layer.
The Ni layer has a thickness of 1 to 20 μm and has a thickness of 1 to 20 μm.
An external electrode having a Si content of 0.05 to 3.0% by mass with respect to the Ni content in the Ni layer.
(2)
The external electrode according to (1), wherein the Sn plating layer has a thickness of 0.5 to 10 μm.
(3)
The external electrode according to any one of (1) to (2)), wherein the Ni layer is a fired Ni layer formed by firing Ni paste.
(4)
The external electrode according to any one of (1) to (3), wherein the ceramic laminate is a ceramic laminate in which an internal electrode layer and a ceramic layer are laminated.
(5)
A laminated ceramic product in which the external electrode according to any one of (1) to (4) is provided on the laminated end face of the ceramic laminate.
(6)
The ceramic laminate is a rectangular parallelepiped shape,
A laminated ceramic product in which the external electrodes according to any one of (1) to (5) are provided on two facing surfaces of the laminated end faces of the ceramic laminate.
(7)
The laminated ceramic product according to (6), wherein the laminated ceramic product is a laminated ceramic capacitor or a laminated ceramic inductor.

したがって、本発明は、セラミック積層体に設けられた外部電極、セラミック積層体に外部電極が設けられてなる積層セラミック製品を含み、積層セラミックコンデンサ、及び積層セラミックインダクタを含む。 Therefore, the present invention includes an external electrode provided on the ceramic laminate, a laminated ceramic product in which the external electrode is provided on the ceramic laminate, and includes a laminated ceramic capacitor and a laminated ceramic inductor.

以下に実施例をあげて、本発明をさらに詳細に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to the following examples.

(例1:積層部分の作製)
特開2011-18898に記載の方法でMLCCの積層部分を作製した。すなわち、BET比表面積3.4m2-1のNi粉を30重量%、平均粒子径100nmの硫黄含有高結晶チタン酸バリウムを6重量%、エチルセルロースを7.0重量%、オレイン酸を0.5重量%、ターピネオールを56.5%からなる内部電極用Ni粉ペーストをロールギャップを5μmとして3本ロールで分散させた。このNi粉ペーストをチタン酸バリウムセラミックシート(厚さ4μm)に電極パターンに印刷し、20層分積層した。これをH2を3%含むN2中で1230℃、2時間、さらにN2中で1000℃、3時間の酸化処理を行った。
(Example 1: Fabrication of laminated portion)
A laminated portion of MLCC was prepared by the method described in JP-A-2011-18898. That is, 30% by weight of Ni powder having a BET specific surface area of 3.4 m 2 g -1 , 6% by weight of sulfur-containing high crystalline barium titanate having an average particle diameter of 100 nm, 7.0% by weight of ethyl cellulose, and 0% by weight of oleic acid. A Ni powder paste for an internal electrode consisting of 5% by weight and 56.5% of tarpineol was dispersed in three rolls with a roll gap of 5 μm. This Ni powder paste was printed on a barium titanate ceramic sheet (thickness 4 μm) on an electrode pattern, and 20 layers were laminated. This was oxidized in N 2 containing 3% of H 2 at 1230 ° C. for 2 hours, and further in N 2 at 1000 ° C. for 3 hours.

(例2:外部電極用Ni粉ペーストの作製1)(実施例1)
東邦チタニウム製のNi粉NF32(3.2m2-1)2kgを、8%ジアミノシラン水溶液(A-1120)2.5Lを用いてWO2013/1118893の実施例1の手順に従い表面処理をし、固液分離してケーキを回収した。これをN2雰囲気で100℃、2時間で乾燥した後、乳棒、乳鉢で1mmの篩を通るまで粗解砕し、ジェットミルで解砕した。この粉を圧粉体密度4.9gcm-3となるよう成形し、TMAを行った(2%H2、5℃/分、10mN)。1%体積収縮するときの温度は910℃であった。
このNi粉を
Ni:エチルセルロース:オレイン酸:ターピネオール
=73:2.2:1.6:23.2
となるように調合し、ロールギャップを5μmに設定して、3本ロールに5パス通して、外部電極用Ni粉ペーストを得た。
(Example 2: Preparation of Ni powder paste for external electrode 1) (Example 1)
2 kg of Toho Titanium Ni powder NF32 (3.2 m 2 g -1 ) was surface-treated with 2.5 L of an 8% diaminosilane aqueous solution (A-1120) according to the procedure of Example 1 of WO2013 / 1118893. The cake was collected by solid-liquid separation. This was dried in an N 2 atmosphere at 100 ° C. for 2 hours, coarsely crushed with a pestle and a mortar until it passed through a 1 mm sieve, and crushed with a jet mill. This powder was molded to a green compact density of 4.9 gcm -3 and subjected to TMA (2% H 2 , 5 ° C./min, 10 mN). The temperature at the time of 1% volume shrinkage was 910 ° C.
This Ni powder is Ni: ethyl cellulose: oleic acid: tarpineol = 73: 2.2: 1.6: 23.2
The roll gap was set to 5 μm, and 5 passes were passed through 3 rolls to obtain a Ni powder paste for an external electrode.

(例3:外部電極用Ni粉ペーストの作製2)(実施例2)
例2で作製した表面処理Ni粉を以下の組成で調合し、同じ条件で3本ロールに通して、外部電極用Ni粉ペーストを得た。
Ni:エチルセルロース:オレイン酸:ターピネオール
=71:2.1:1.6:25.3
(Example 3: Preparation of Ni powder paste for external electrode 2) (Example 2)
The surface-treated Ni powder prepared in Example 2 was prepared with the following composition and passed through three rolls under the same conditions to obtain a Ni powder paste for an external electrode.
Ni: Ethyl cellulose: Oleic acid: Tarpineol = 71: 2.1: 1.6: 25.3

(例4:外部電極用Ni粉ペーストの作製3)(実施例3)
例2で作製した表面処理Ni粉を以下の組成で調合し、同じ条件で3本ロールに通して、外部電極用Ni粉ペーストを得た。
Ni:エチルセルロース:オレイン酸:ターピネオール
=75:2.3:1.6:21.1
(Example 4: Preparation of Ni powder paste for external electrode 3) (Example 3)
The surface-treated Ni powder prepared in Example 2 was prepared with the following composition and passed through three rolls under the same conditions to obtain a Ni powder paste for an external electrode.
Ni: Ethyl cellulose: Oleic acid: Tarpineol = 75: 2.3: 1.6: 21.1

(例5:外部電極用Ni粉ペーストの作製5)(実施例4)
例2で使用した、表面処理前のNi粉と、平均粒径3μmのガラスフリット(有限会社アド・レート、D672)を使って、以下の組成のペーストを調合した。
Ni:エチルセルロース:オレイン酸:ターピネオール:ガラスフリット
=73:2.2:1.6:22.2:1.0
(Example 5: Preparation of Ni powder paste for external electrode 5) (Example 4)
Using the Ni powder before surface treatment used in Example 2 and a glass frit (Ad Rate Co., Ltd., D672) having an average particle size of 3 μm, a paste having the following composition was prepared.
Ni: Ethyl cellulose: Oleic acid: Tarpineol: Glass frit = 73: 2.2: 1.6: 22.2: 1.0

(例6:外部電極用Ni粉ペーストの作製6)(実施例5)
例5の平均粒径3μmのガラスフリットをビーズミルでNi粉と同程度のサイズになるまで粉砕し、0.5μmのガラスフリットを得た。このガラスフリットと例2のNi粉を使い、例2の手順で以下の組成のペーストを作製した。
Ni:エチルセルロース:オレイン酸:ターピネオール:ガラスフリット
=73:2.2:1.6:22.2:1.0
(Example 6: Preparation of Ni powder paste for external electrode 6) (Example 5)
The glass frit having an average particle size of 3 μm of Example 5 was pulverized with a bead mill until the size was about the same as that of Ni powder to obtain a glass frit of 0.5 μm. Using this glass frit and the Ni powder of Example 2, a paste having the following composition was prepared by the procedure of Example 2.
Ni: Ethyl cellulose: Oleic acid: Tarpineol: Glass frit = 73: 2.2: 1.6: 22.2: 1.0

(例7:外部電極用Ni粉ペーストの作製7)(実施例6)
例5の平均粒径3μmのガラスフリットをビーズミルでNi粉と同程度のサイズになるまで粉砕し、0.5μmのガラスフリットを得た。
例3のジアミノシランをチタネートカップリング剤KR-44にした以外は例2の手順に従ってNi粉を得た。TMAでの1%体積収縮温度は850℃であった。
このガラスフリットとこのNi粉を使い、例2の手順で以下の組成のペーストを作製した。
Ni:エチルセルロース:オレイン酸:ターピネオール:ガラスフリット
=73:2.2:1.6:22.2:1.0
(Example 7: Preparation of Ni powder paste for external electrode 7) (Example 6)
The glass frit having an average particle size of 3 μm of Example 5 was pulverized with a bead mill until the size was about the same as that of Ni powder to obtain a glass frit of 0.5 μm.
Ni powder was obtained according to the procedure of Example 2 except that the diaminosilane of Example 3 was used as a titanate coupling agent KR-44. The 1% volumetric shrinkage temperature at TMA was 850 ° C.
Using this glass frit and this Ni powder, a paste having the following composition was prepared by the procedure of Example 2.
Ni: Ethyl cellulose: Oleic acid: Tarpineol: Glass frit = 73: 2.2: 1.6: 22.2: 1.0

(例8:MLCCのサイクル試験)
例1で作製した積層体を長さ0.4mm、幅0.2mmにカットし、例2~例7のペーストに浸漬し、大気中510℃で焼成した後、2%H2を含むN2中で850℃で焼成した。その後、pH4.5のキレートSnめっきを行い、厚み3μmのSnめっき層を焼成体上に形成した。MLCCの断面をSEMで観察し、Ni層、Sn層の厚みを計測した。
この後、ポリイミド上に無電解めっきで形成したCuパッドに、作製したMLCCとSn-3.0wt%Ag-0.5wt%Cuのはんだペースト(はんだ粉の粒径20~32μm)で250℃で接合した。この後、-55℃ /15分 ⇔ 125℃ / 15分を1サイクルとして1000サイクル繰り返した。各段階で、MLCCと基板のシェア強度を測定した。シェア強度測定にあたっては、MLCCにツールが当たるようにツールを基板から50μmの高さに設定した。ツールの移動速度は300μms-1とした。
(Example 8: MLCC cycle test)
The laminate prepared in Example 1 was cut into a length of 0.4 mm and a width of 0.2 mm, immersed in the pastes of Examples 2 to 7, baked at 510 ° C. in the air, and then N 2 containing 2% H 2 . It was calcined at 850 ° C. Then, chelate Sn plating at pH 4.5 was performed to form a Sn plating layer having a thickness of 3 μm on the fired body. The cross section of the MLCC was observed by SEM, and the thicknesses of the Ni layer and the Sn layer were measured.
After that, MLCC and Sn-3.0 wt% Ag-0.5 wt% Cu solder paste (solder powder particle size 20 to 32 μm) produced on a Cu pad formed by electrolytic plating on polyimide were used at 250 ° C. Joined. After that, 1000 cycles were repeated with −55 ° C./15 minutes ⇔ 125 ° C./15 minutes as one cycle. At each stage, the share strength of the MLCC and the substrate was measured. In measuring the share strength, the tool was set at a height of 50 μm from the substrate so that the tool would hit the MLCC. The moving speed of the tool was set to 300 μms -1 .

(例9:従来外部電極Cuペースト)(参考例1)
特開2002-277372に従い、外部電極用Cuペーストを作製した。すなわち、硫酸銅五水和物60kgを50℃の水80Lに溶解し、50℃の液温を維持し25wt%のアンモニア水16kgを徐々に滴下した。その後、ヒドラジン一水和物120L、アンモニア水15リットルを同時に添加した。生成した沈殿物を50℃の純水でデカンテーションして沈殿させ、ここにヒドラジン一水和物6kgを添加し、Cu粉15kgを生成した。これを吸引ろ過し、オレイン酸で表面処理を行い、真空乾燥機で70℃で乾燥し、ケーキを解砕して表面処理銅粉を得た。このCu粉、ガラスフリット、エチルセルロース、ターピネオールが以下の組成となるよう調合し、ロールギャップ5μmで3本ロールに5パス通して、外部電極用Cuペーストを得た。
Cu:ガラスフリット:エチルセルロース:ターピネオール
=75:5:1:4:18.6
このペーストを例8の手順で積層体に浸漬し、焼成して、ワット浴のNiめっきを行い、その後、弱酸のキレートすずめっきを行った。
(Example 9: Conventional external electrode Cu paste) (Reference example 1)
A Cu paste for an external electrode was prepared according to JP-A-2002-277372. That is, 60 kg of copper sulfate pentahydrate was dissolved in 80 L of water at 50 ° C., and 16 kg of 25 wt% ammonia water was gradually added dropwise while maintaining the liquid temperature at 50 ° C. Then, 120 L of hydrazine monohydrate and 15 liters of aqueous ammonia were added at the same time. The produced precipitate was decanted with pure water at 50 ° C. to precipitate, and 6 kg of hydrazine monohydrate was added thereto to produce 15 kg of Cu powder. This was suction-filtered, surface-treated with oleic acid, dried at 70 ° C. in a vacuum dryer, and the cake was crushed to obtain surface-treated copper powder. The Cu powder, glass frit, ethyl cellulose, and turpineol were mixed so as to have the following composition, and 5 passes were passed through 3 rolls with a roll gap of 5 μm to obtain a Cu paste for an external electrode.
Cu: Glass frit: Ethyl cellulose: Tarpineol = 75: 5: 1: 4: 18.6
This paste was immersed in the laminate according to the procedure of Example 8, fired, Ni-plated in a Watt bath, and then chelated tin-plated with a weak acid.

(例10:外部電極用Ni粉ペーストの作製9)(比較例1)
例5の平均粒径3μmのガラスフリットをビーズミルでNi粉と同程度のサイズになるまで粉砕し、0.5μmのガラスフリットを得た。このガラスフリットと例2のNi粉を使い、例2の手順で以下の組成のペーストを作製した。
Ni:エチルセルロース:オレイン酸:ターピネオール:ガラスフリット
=73:2.2:1.6:18.2:5.0
(Example 10: Preparation of Ni powder paste for external electrode 9) (Comparative Example 1)
The glass frit having an average particle size of 3 μm of Example 5 was pulverized with a bead mill until the size was about the same as that of Ni powder to obtain a glass frit of 0.5 μm. Using this glass frit and the Ni powder of Example 2, a paste having the following composition was prepared by the procedure of Example 2.
Ni: Ethyl cellulose: Oleic acid: Tarpineol: Glass frit = 73: 2.2: 1.6: 18.2: 5.0

(例11:焼成Ni層の観察)
Ni層をNi粉の焼成で形成していない参考例1を除いた各MLCCの外部電極の断面加工し、ガラスフリットの主成分であるSiの焼成Ni層中における濃度を断面観察でEPMAでマッピングして求めた。日立ハテクノロジー製のSU-70で観察し、加速電圧10kVでEPMAマッピングを行った。まずは低倍率で焼成Ni層の厚みを求め、その厚みの60~80%が画面に入る倍率でマッピングを行った。これを焼成Ni層の厚みとは垂直方向に30倍の範囲で分析を行い、ガラスフリットの主成分であるSiの焼成Ni層中における、Niに対する濃度を求めた。分析時の倍率としては焼成Ni層の厚みの60~80%が分析画面に入ることが望ましい。80%を超えると、焼成Ni層自体の厚みのばらつきがあるので、下地のセラミック素体中にSiが含まれている場合、分析値がこれを含む可能性があるためである。60%を下回ると、Ni層中の特定の範囲を分析している可能性があり、焼成Ni層の評価としては好ましくないと言える。
(Example 11: Observation of calcined Ni layer)
The Ni layer is not formed by firing Ni powder. Except for Reference Example 1, the cross-section of the external electrode of each MLCC is processed, and the concentration of Si, which is the main component of the glass frit, in the fired Ni layer is mapped by EPMA by cross-section observation. I asked for it. Observation was performed with SU-70 manufactured by Hitachi Ha Technology, and EPMA mapping was performed at an acceleration voltage of 10 kV. First, the thickness of the fired Ni layer was obtained at a low magnification, and mapping was performed at a magnification at which 60 to 80% of the thickness entered the screen. This was analyzed in a range of 30 times the thickness of the fired Ni layer in the vertical direction, and the concentration of Si, which is the main component of the glass frit, in the fired Ni layer was determined. As a magnification at the time of analysis, it is desirable that 60 to 80% of the thickness of the fired Ni layer enters the analysis screen. If it exceeds 80%, the thickness of the fired Ni layer itself varies, and if Si is contained in the underlying ceramic prime field, the analysis value may include this. If it is less than 60%, it is possible that a specific range in the Ni layer is being analyzed, which is not preferable for the evaluation of the fired Ni layer.

実施例1~4は外部電極とめっきの厚みが従来のMLCCの参考例1と比べると非常に薄い。実装後のシェア強度は従来品と同等の強度が得られている一方、比較例では焼成Ni層のガラスフリットのためかSnめっき不良が発生し、シェア強度が得られなかった。 In Examples 1 to 4, the thickness of the external electrode and the plating is very thin as compared with Reference Example 1 of the conventional MLCC. While the share strength after mounting was the same as that of the conventional product, in the comparative example, Sn plating failure occurred probably because of the glass frit of the fired Ni layer, and the share strength could not be obtained.

Figure 0007046679000001
Figure 0007046679000001

本発明は、積層セラミック製品、特にMLCCの外部電極であって、外部電極に必要な積層体への密着性を維持しつつ、薄層化された外部電極を提供する。本発明は産業上有用な発明である
[好適な実施の態様]
本発明は次の(1)以下の実施の態様を含む。
(1)
セラミック積層体に設けられた外部電極であって、
セラミック積層体の積層端面上に設けられたNi層、Ni層上に設けられたSnめっき層からなり、
Ni層が厚さ1~20μmであり、
Ni層中においてNi含有量に対するSi含有量が0.05質量%以上で0.68質量%より小さい、外部電極。
(2)
Snめっき層の厚みが0.5~10μmである、(1)に記載の外部電極。
(3)
Ni層が、Niペーストが焼成されてなる焼成Ni層である、(1)~(2)のいずれかに記載の外部電極。
(4)
セラミック積層体が、内部電極層及びセラミック層が積層されてなるセラミック積層体である、(1)~(3)のいずれかに記載の外部電極。
(5)
セラミック積層体の積層端面上に、(1)~(4)のいずれかに記載の外部電極が設けられてなる、積層セラミック製品。
(6)
セラミック積層体が直方体の形状であり、
セラミック積層体の積層端面であって対向する2面に、(1)~(5)のいずれかに記載の外部電極が設けられてなる、積層セラミック製品。
(7)
積層セラミック製品が、積層セラミックコンデンサ、又は積層セラミックインダクタである、(6)に記載の積層セラミック製品。

The present invention provides a laminated ceramic product, particularly an external electrode of MLCC, which is a thinned external electrode while maintaining the adhesion to the laminate required for the external electrode. The present invention is an industrially useful invention.
[Preferable embodiment]
The present invention includes the following (1) embodiments.
(1)
An external electrode provided on a ceramic laminate,
It consists of a Ni layer provided on the laminated end face of the ceramic laminate and a Sn plating layer provided on the Ni layer.
The Ni layer has a thickness of 1 to 20 μm and has a thickness of 1 to 20 μm.
An external electrode having a Si content of 0.05% by mass or more and less than 0.68% by mass in the Ni layer with respect to the Ni content.
(2)
The external electrode according to (1), wherein the Sn plating layer has a thickness of 0.5 to 10 μm.
(3)
The external electrode according to any one of (1) to (2), wherein the Ni layer is a fired Ni layer formed by firing Ni paste.
(4)
The external electrode according to any one of (1) to (3), wherein the ceramic laminate is a ceramic laminate in which an internal electrode layer and a ceramic layer are laminated.
(5)
A laminated ceramic product in which the external electrode according to any one of (1) to (4) is provided on the laminated end face of the ceramic laminate.
(6)
The ceramic laminate is a rectangular parallelepiped shape,
A laminated ceramic product in which the external electrodes according to any one of (1) to (5) are provided on two facing surfaces of the laminated end faces of the ceramic laminate.
(7)
The laminated ceramic product according to (6), wherein the laminated ceramic product is a laminated ceramic capacitor or a laminated ceramic inductor.

Claims (13)

セラミック積層体に設けられた外部電極であって、
セラミック積層体の積層端面上に設けられたNi層、Ni層上に設けられたSnめっき層からなり、
Ni層が厚さ1~20μmであり、
Ni層中においてNi含有量に対するSi含有量が0.05質量%以上で0.68質量%より小さく、
Ni層が、Niペーストが焼成されてなる焼成Ni層であり、
NiペーストのNi粉が、シランカップリング剤によって表面処理されたNi粉である、外部電極。
An external electrode provided on a ceramic laminate,
It consists of a Ni layer provided on the laminated end face of the ceramic laminate and a Sn plating layer provided on the Ni layer.
The Ni layer has a thickness of 1 to 20 μm and has a thickness of 1 to 20 μm.
In the Ni layer, the Si content with respect to the Ni content is 0.05% by mass or more and less than 0.68% by mass.
The Ni layer is a fired Ni layer formed by firing Ni paste.
An external electrode in which the Ni powder of the Ni paste is a Ni powder surface-treated with a silane coupling agent .
Snめっき層の厚みが0.5~10μmである、請求項1に記載の外部電極。 The external electrode according to claim 1, wherein the thickness of the Sn plating layer is 0.5 to 10 μm. シランカップリング剤が、アミノ基を有するシランカップリング剤である、請求項1~2のいずれかに記載の外部電極。 The external electrode according to any one of claims 1 to 2, wherein the silane coupling agent is a silane coupling agent having an amino group . セラミック積層体が、内部電極層及びセラミック層が積層されてなるセラミック積層体である、請求項1~3のいずれかに記載の外部電極。 The external electrode according to any one of claims 1 to 3, wherein the ceramic laminate is a ceramic laminate in which an internal electrode layer and a ceramic layer are laminated. セラミック積層体の積層端面上に、請求項1~4のいずれかに記載の外部電極が設けられてなる、積層セラミック製品。 A laminated ceramic product comprising the external electrode according to any one of claims 1 to 4 provided on the laminated end face of the ceramic laminate. セラミック積層体が直方体の形状であり、
セラミック積層体の積層端面であって対向する2面に、請求項1~5のいずれかに記載の外部電極が設けられてなる、積層セラミック製品。
The ceramic laminate is a rectangular parallelepiped shape,
A laminated ceramic product, wherein the external electrodes according to any one of claims 1 to 5 are provided on two facing surfaces of the laminated end faces of the ceramic laminate.
積層セラミック製品が、積層セラミックコンデンサ、又は積層セラミックインダクタである、請求項6に記載の積層セラミック製品。 The laminated ceramic product according to claim 6, wherein the laminated ceramic product is a laminated ceramic capacitor or a laminated ceramic inductor. セラミック積層体に設けられた外部電極を製造する方法であって、 It is a method of manufacturing an external electrode provided on a ceramic laminate.
セラミック積層体に設けられた外部電極が、 The external electrodes provided on the ceramic laminate are
セラミック積層体の積層端面上に設けられたNi層、Ni層上に設けられたSnめっき層からなり、 It consists of a Ni layer provided on the laminated end face of the ceramic laminate and a Sn plating layer provided on the Ni layer.
Ni層が厚さ1~20μmであり、 The Ni layer has a thickness of 1 to 20 μm and has a thickness of 1 to 20 μm.
Ni層中においてNi含有量に対するSi含有量が0.05質量%以上で0.68質量%より小さく、 In the Ni layer, the Si content with respect to the Ni content is 0.05% by mass or more and less than 0.68% by mass.
Ni層が、Niペーストが850℃以上の温度で焼成されてなる焼成Ni層であり、 The Ni layer is a fired Ni layer formed by firing a Ni paste at a temperature of 850 ° C. or higher.
NiペーストのNi粉が、焼結開始温度600℃以上のNi粉であり、 The Ni powder of the Ni paste is a Ni powder having a sintering start temperature of 600 ° C. or higher.
NiペーストのNi粉が、シランカップリング剤によって表面処理されたNi粉である、外部電極の製造方法。 A method for manufacturing an external electrode, wherein the Ni powder of the Ni paste is a Ni powder surface-treated with a silane coupling agent.
Snめっき層の厚みが0.5~10μmである、請求項8に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 8, wherein the thickness of the Sn plating layer is 0.5 to 10 μm. セラミック積層体が、内部電極層及びセラミック層が積層されてなるセラミック積層体である、請求項8~9のいずれかに記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 8 to 9, wherein the ceramic laminate is a ceramic laminate in which an internal electrode layer and a ceramic layer are laminated. 請求項8~10のいずれかに記載の外部電極の製造方法によって、セラミック積層体の積層端面上に、外部電極を設ける工程を含む、積層セラミック製品の製造方法。 A method for manufacturing a laminated ceramic product, comprising a step of providing an external electrode on a laminated end face of the ceramic laminate by the method for manufacturing an external electrode according to any one of claims 8 to 10. セラミック積層体が直方体の形状であり、 The ceramic laminate is a rectangular parallelepiped shape,
セラミック積層体の積層端面であって対向する2面に、外部電極を設ける工程を含む、請求項11に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 11, further comprising a step of providing external electrodes on two facing surfaces of the laminated end faces of the ceramic laminate.
積層セラミック製品が、積層セラミックコンデンサ、又は積層セラミックインダクタである、請求項11~12のいずれかに記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 11 to 12, wherein the monolithic ceramic product is a monolithic ceramic capacitor or a monolithic ceramic inductor.
JP2018069060A 2018-03-30 2018-03-30 External electrodes of ceramic laminate Active JP7046679B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018069060A JP7046679B2 (en) 2018-03-30 2018-03-30 External electrodes of ceramic laminate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018069060A JP7046679B2 (en) 2018-03-30 2018-03-30 External electrodes of ceramic laminate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019179874A JP2019179874A (en) 2019-10-17
JP7046679B2 true JP7046679B2 (en) 2022-04-04

Family

ID=68279008

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018069060A Active JP7046679B2 (en) 2018-03-30 2018-03-30 External electrodes of ceramic laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7046679B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023009629A (en) 2021-07-07 2023-01-20 株式会社村田製作所 Multilayer ceramic capacitor
JP2023009630A (en) 2021-07-07 2023-01-20 株式会社村田製作所 Multilayer ceramic capacitor

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000252158A (en) 1999-02-26 2000-09-14 Kyocera Corp Multilayer ceramic capacitor
JP2001307548A (en) 2000-04-19 2001-11-02 Murata Mfg Co Ltd Conductive paste and ceramic electronic component
JP2003327868A (en) 2002-05-08 2003-11-19 Daiken Kagaku Kogyo Kk Conductive coating for ceramic electronic part
JP2006332236A (en) 2005-05-25 2006-12-07 Murata Mfg Co Ltd Conductive paste, laminated ceramic electronic component, and manufacturing method thereof
WO2010087221A1 (en) 2009-01-28 2010-08-05 株式会社 村田製作所 Multilayer electronic component
JP2011129688A (en) 2009-12-17 2011-06-30 Tdk Corp Electronic component and terminal electrode
JP2017147430A (en) 2016-02-16 2017-08-24 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Multilayer capacitor and manufacturing method for the same

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2635053B2 (en) * 1987-09-19 1997-07-30 太陽誘電 株式会社 Conductive paste
JPH09260186A (en) * 1996-03-27 1997-10-03 Murata Mfg Co Ltd Multilayer ceramic electronic part and manufacture thereof

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000252158A (en) 1999-02-26 2000-09-14 Kyocera Corp Multilayer ceramic capacitor
JP2001307548A (en) 2000-04-19 2001-11-02 Murata Mfg Co Ltd Conductive paste and ceramic electronic component
JP2003327868A (en) 2002-05-08 2003-11-19 Daiken Kagaku Kogyo Kk Conductive coating for ceramic electronic part
JP2006332236A (en) 2005-05-25 2006-12-07 Murata Mfg Co Ltd Conductive paste, laminated ceramic electronic component, and manufacturing method thereof
WO2010087221A1 (en) 2009-01-28 2010-08-05 株式会社 村田製作所 Multilayer electronic component
JP2011129688A (en) 2009-12-17 2011-06-30 Tdk Corp Electronic component and terminal electrode
JP2017147430A (en) 2016-02-16 2017-08-24 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Multilayer capacitor and manufacturing method for the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019179874A (en) 2019-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102648161B1 (en) Multilayer ceramic capacitor and manufacturing method thereof
KR100465140B1 (en) Multilayer capacitor
JP4786604B2 (en) Dielectric porcelain and multilayer ceramic capacitor using the same
KR102388227B1 (en) Multilayer ceramic capacitor and manufacturing method of multilayer ceramic capacitor
KR100444229B1 (en) Nonreducible dielectric ceramic composition
CN109755020B (en) Multilayer ceramic capacitor
JP4097900B2 (en) Manufacturing method of electronic parts
JP4682426B2 (en) Electronic component and manufacturing method thereof
JP7046679B2 (en) External electrodes of ceramic laminate
JP4012861B2 (en) Ceramic package
JP5349807B2 (en) Multilayer ceramic capacitor and manufacturing method thereof
JP2019091800A (en) Ceramic electronic component and method of manufacturing the same
JP5498973B2 (en) Multilayer ceramic capacitor and method for manufacturing multilayer ceramic capacitor
JP3679529B2 (en) Terminal electrode paste and multilayer ceramic capacitor
JP4471453B2 (en) Multilayer electronic components
JP2001307939A (en) Laminated ceramic capacitor and its manufacturing method
JP2003243246A (en) Laminated ceramic electronic component
JP3481740B2 (en) Multilayer ceramic capacitor for temperature compensation
JP5570205B2 (en) Magnetic sintered body, composite sintered body of magnetic body and dielectric, manufacturing method thereof, and electronic component using the same
JPH0684693A (en) Multilayer ceramic capacitor
JP4453214B2 (en) Method for producing copper powder, copper powder, conductive paste and ceramic electronic component
JP2021103730A (en) Ceramic electronic component and mounting board
JPH11121276A (en) Electronic component and manufacturing method therefor
JP2002343669A (en) Laminated ceramic electronic component
JP2007288144A (en) Process for manfacturing multilayer ceramic electronic component

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190207

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20200214

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20200302

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200318

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200515

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20201007

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201201

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210526

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20210720

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210922

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211007

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220302

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220323

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7046679

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151