JP7046497B2 - 液晶調光部材、光透過性導電フィルム、および液晶調光素子 - Google Patents

Description

本発明は、液晶調光部材、それに用いるための光透過性導電フィルム、および、それを備えた液晶調光素子に関する。

近年、冷暖房負荷の低減や意匠性などの観点から、スマートウインドウなどに代表される液晶調光素子の需要が高まっている。液晶調光素子は、建築物や乗物の窓ガラス、間仕切り、インテリアなどの種々の用途に用いられている。

液晶調光素子としては、例えば、基体と、導電膜と、液晶－樹脂複合体とを順に備える液晶調光素子が提案されている（例えば、下記特許文献１参照。）。

特開２００９－１３３９２１号公報

一方、特許文献１の液晶調光素子では、導電膜として、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）が用いられる。インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）は、近赤外線反射特性が低いため、遮熱性に劣る。そのため、特許文献１の液晶調光素子が、太陽光の影響を受ける環境（屋外など）で利用される場合には、特許文献１の液晶調光素子の液晶－樹脂複合体が、太陽光の熱によって劣化するという不具合がある。

また、このような不具合を解消するために、基体の表面に、太陽光などの熱線を遮断するためのＩＲ反射層を貼り付けることも検討される。しかし、このような場合には、ＩＲ反射層の厚みに対応して、液晶調光素子の厚みが増加し、また、製造コストが増大するという不具合がある。

本発明の目的は、透明基材の表面に、ＩＲ反射層を貼り付けなくても、近赤外線反射特性に優れる液晶調光部材、それに用いるための光透過性導電フィルム、および、それを備えた液晶調光素子を提供することにある。

本発明［１］は、透明基材と、光透過性導電層と、液晶調光層と順に備え、前記光透過性導電層は、第１無機酸化物層と、金属層と、第２無機酸化物層とを順に備える液晶調光部材を含んでいる。

この液晶調光部材では、光透過性導電層は、近赤外線領域の反射率が高い金属層を備える。そのため、光透過性導電層は、例えば、導電性酸化物のみからなる場合と比較して近赤外線の平均反射率が高く、太陽光などの熱線を液晶調光層から効率的に遮断でき、太陽光の影響を受ける環境（屋外など）で利用できる。

また、この液晶調光部材では、透明基材の表面に、ＩＲ反射層を貼り付けなくても、近赤外線反射特性に優れる。そのため、液晶調光部材の厚みを薄くすることができ、また、製造コストを低減することができる。

本発明［２］は、前記第２無機酸化物層は、結晶粒を含有する上記［１］に記載の液晶調光部材を含んでいる。

この液晶調光部材によれば、光透過性導電層は、結晶粒を含有する第２無機酸化物層を備える。そのため、液晶調光層が、溶媒として水を含有する場合には、その水が、第２無機酸化物層を厚み方向に通過して金属層に浸入することを抑制することができる。

本発明［３］は、前記第２無機酸化物層が、非晶質部および結晶質部を有する半結晶質膜である、上記［１］または［２］に記載の液晶調光部材を含んでいる。

この液晶調光部材によれば、第２無機酸化物層が、非晶質部および結晶質部を有する半結晶質膜である。そのため、湿熱耐久性がより一層優れる。

本発明［４］は、上記［１］～［３］のいずれか一項に記載の液晶調光部材に用いるための光透過性導電フィルムであって、透明基材と、光透過性導電層とを順に備え、前記光透過性導電層は、第１無機酸化物層と、金属層と、第２無機酸化物層とを順に備える、光透過性導電フィルムを含んでいる。

この光透過性導電フィルムでは、光透過性導電層は、近赤外線領域の反射率が高い金属層を備える。そのため、光透過性導電フィルムが、上記の液晶調光部材に用いられる場合には、光透過性導電層は、例えば、導電性酸化物のみからなる場合と比較して近赤外線の平均反射率が高く、太陽光などの熱線を液晶調光層から効率的に遮断でき、太陽光の影響を受ける環境（屋外など）で利用できる。

また、この光透過性導電フィルムでは、透明基材の表面に、ＩＲ反射層を貼り付けなくても、近赤外線反射特性に優れる。そのため、光透過性導電フィルムの厚みを薄くすることができ、また、製造コストを低減することができる。

本発明［５］は、上記［１］～［３］のいずれか一項に記載の液晶調光部材と、前記透明基材に対して、前記液晶調光層の反対側の表面に設けられる電極基板とを備える、液晶調光素子を含んでいる。

この液晶調光素子は、上記した液晶調光部材を備える。そのため、液晶調光素子は、太陽光などの熱線を液晶調光層から効率的に遮断でき、太陽光の影響を受ける環境（屋外など）で利用できる。

また、この液晶調光素子は、上記した液晶調光部材を備える。そのため、液晶調光素子の厚みを薄くすることができ、また、製造コストを低減することができる。

本発明の液晶調光部材、それに用いるための光透過性導電フィルム、および、それを備えた液晶調光素子によれば、透明基材の表面に、ＩＲ反射層を貼り付けなくても、近赤外線反射特性に優れる。そのため、液晶調光部材の厚みを薄くすることができ、また、製造コストを低減することができる。

図１は、本発明の液晶調光部材の一実施形態の断面図を示す。 図２Ａ～Ｂは、図１に示す光透過性導電フィルムの一部拡大図を示し、図２Ａは、第２無機酸化物層が完全結晶質膜である場合の模式図を示し、図２Ｂは、第２無機酸化物層が半結晶質膜である場合の模式図を示す。 図３は、図１に示す液晶調光部材を構成する本発明の光透過性導電フィルムの一実施形態の断面図を示す。 図４は、図１に示す液晶調光部材を備える本発明の液晶調光素子の一実施形態の断面図を示す。 図５は、液晶調光部材の変形例であって、透明基材の上面に、第１無機酸化物層が直接配置された液晶調光部材の断面図を示す。 図６は、液晶調光部材の変形例であって、無機物層が保護層および第１無機酸化物層の間に介在された液晶調光部材の断面図を示す。

図１において、紙面上下方向は、上下方向（厚み方向、第１方向）であって、紙面上側が、上側（厚み方向一方側、第１方向一方側）、紙面下側が、下側（厚み方向他方側、第１方向他方側）である。図１において、紙面左右方向は、左右方向（幅方向、第１方向に直交する第２方向）であり、紙面左側が左側（第２方向一方側）、紙面右側が右側（第２方向他方側）である。図１において、紙厚方向は、前後方向（第１方向および第２方向に直交する第３方向）であり、紙面手前側が前側（第３方向一方側）、紙面奥側が後側（第３方向他方側）である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。

１． 液晶調光部材
液晶調光部材は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）をなし、厚み方向と直交する所定方向（前後方向および左右方向、すなわち、面方向）に延び、平坦な上面および平坦な下面（２つの主面）を有する。液晶調光部材は、例えば、調光装置に備えられる調光パネルなどの一部品であり、つまり、調光装置ではない。すなわち、液晶調光部材は、調光装置などを作製するための部品であり、ＬＥＤなどの光源や外部電源を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。

具体的には、図１に示すように、液晶調光部材１は、厚み方向において、順に、透明基材２と、保護層３と、光透過性導電層４と、液晶調光層５とを備える積層フィルムである。つまり、液晶調光部材１は、透明基材２と、透明基材２の上側に配置される保護層３と、保護層３の上側に配置される光透過性導電層４と、光透過性導電層４の上側に配置される液晶調光層５とを備える。好ましくは、液晶調光部材１は、透明基材２と、保護層３と、光透過性導電層４と、液晶調光層５とのみからなる。以下、各層について詳述する。

２． 透明基材
透明基材２は、液晶調光部材１の電極基板の一部であり、液晶調光部材１の最下層であって、液晶調光部材１の機械強度を確保する支持材である。透明基材２は、保護層３とともに、光透過性導電層４および液晶調光層５を支持する。

透明基材２は、例えば、高分子フィルムからなる。

高分子フィルムは、透明性および可撓性を有する。高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマーなどのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら高分子フィルムは、単独使用または２種以上併用することができる。透明性、可撓性、耐熱性、機械特性などの観点から、好ましくは、オレフィン樹脂やポリエステル樹脂が挙げられ、より好ましくは、シクロオレフィンポリマーやＰＥＴが挙げられる。

透明基材２の厚みは、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下、より好ましくは、１５０μｍ以下である。

また、透明基材２は、好ましくは、第１無機酸化物層６の非晶質性を保持する観点から、微量の水を含有している。つまり、透明基材２では、好ましくは、高分子フィルムが水を含有している。

３． 保護層
保護層３は、液晶調光部材１の電極基板の一部であり、光透過性導電層４や液晶調光層５の上面に擦り傷を生じにくくする（すなわち、優れた耐擦傷性を得る）ための、擦傷保護層である。また、保護層３は、光透過性導電層４を配線パターンなどのパターン形状に形成した場合には、パターンの視認を抑制するために、液晶調光部材１の光学物性を調整する光学調整層でもある。

保護層３は、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、透明基材２の上面全面に、透明基材２の上面に接触するように、配置されている。

保護層３は、樹脂組成物から形成されている。

樹脂組成物は、例えば、樹脂、粒子などを含有する。樹脂組成物は、好ましくは、樹脂を含有し、より好ましくは、樹脂のみからなる。

樹脂としては、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリオレフィン樹脂）などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられる。

硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線（具体的には、紫外線、電子線など）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、例えば、加熱により硬化する熱硬化性樹脂などが挙げられ、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。

活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、分子中に重合性炭素－炭素二重結合を有する官能基を有するポリマーが挙げられる。そのような官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基（メタクリロイル基および／またはアクリロイル基）などが挙げられる。

活性エネルギー線硬化性樹脂としては、例えば、側鎖に官能基を含有する（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）などが挙げられる。

これら樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。

粒子としては、例えば、無機粒子、有機粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタンなどからなる金属酸化物粒子、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩粒子などが挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。

保護層３の厚みは、例えば、０．０１μｍ以上、好ましくは、１μｍ以上であり、また、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、５μｍ以下である。保護層３の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察により測定される。

４． 光透過性導電層
光透過性導電層４は、液晶調光部材１の電極基板の一部であり、外部電源（図示せず）からの電流を、液晶調光層５に電界をかけるための導電層である。また、光透過性導電層４は、透明導電層でもある。

図１に示すように、光透過性導電層４は、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、保護層３の上面全面に、保護層３の上面に接触するように、配置されている。

光透過性導電層４は、厚み方向において、透明基材２側から順に、第１無機酸化物層６と、金属層７と、第２無機酸化物層８とを備える。つまり、光透過性導電層４は、保護層３の上に配置される第１無機酸化物層６と、第１無機酸化物層６の上に配置される金属層７と、金属層７の上に配置される第２無機酸化物層８とを備えている。光透過性導電層４は、好ましくは、第１無機酸化物層６と、金属層７と、第２無機酸化物層８とのみからなる。

光透過性導電層４の表面抵抗値は、例えば、４０Ω／□以下、好ましくは３０Ω／□以下、より好ましくは２０Ω／□以下、さらに好ましくは１５Ω／□以下であり、また、例えば、０．１Ω／□以上、好ましくは、１Ω／□以上、より好ましくは、５Ω／□以上である。

光透過性導電層４の表面抵抗値は、例えば、光透過性導電フィルム９の光透過性導電層４表面に対して、ＪＩＳ Ｋ７１９４（１９９４年）の４探針法に準拠して測定することにより得られる。

光透過性導電層４の比抵抗は、例えば、２．５×１０^－４Ω・ｃｍ以下、好ましくは、２．０×１０^－４Ω・ｃｍ以下、より好ましくは、１．１×１０^－４Ω・ｃｍ以下であり、また、例えば、０．０１×１０^－４Ω・ｃｍ以上、好ましくは、０．１×１０^－４Ω・ｃｍ以上、より好ましくは、０．５×１０^－４Ω・ｃｍ以上である。

光透過性導電層４の比抵抗は、光透過性導電層４の厚み（第１無機酸化物層、金属層７、第２無機酸化物層８の総厚み）と、光透過性導電層４の表面抵抗値とを用いて算出される。

また、光透過性導電層４の近赤外線（波長８５０～２５００ｎｍ）の平均反射率は、例えば、１０％以上、好ましくは、２０％以上、より好ましくは、５０％以上であり、また、例えば、９５％以下、好ましくは、９０％以下である。

光透過性導電層４の厚み、すなわち、第１無機酸化物層６、金属層７および第２無機酸化物層８の総厚みは、例えば、２０ｎｍ以上、好ましくは、４０ｎｍ以上、より好ましくは、６０ｎｍ以上、さらに好ましくは、８０ｎｍ以上であり、また、例えば、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１２０ｎｍ以下、より好ましくは、１００ｎｍ以下である。

５． 第１無機酸化物層
第１無機酸化物層６は、透明基材２に含有される水に由来する水素や、保護層３に含有される有機物に由来する炭素が、金属層７に浸入することを防止するバリヤ層である。さらに、第１無機酸化物層６は、後述する第２無機酸化物層８とともに、金属層７の可視光反射率を抑制し、光透過性導電層４の可視光透過率を向上させるための光学調整層でもある。第１無機酸化物層６は、好ましくは、後述する金属層７とともに、光透過性導電層４に導電性を付与する導電層であり、より好ましくは、透明導電層である。

第１無機酸化物層６は、光透過性導電層４における最下層であって、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、保護層３の上面全面に、保護層３の上面に接触するように、配置されている。

第１無機酸化物層６を形成する無機酸化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｆｅ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｃｒからなる群より選択される少なくとも１種の金属から形成される金属酸化物などが挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子をドープすることができる。

無機酸化物としては、好ましくは、表面抵抗値を低下させる観点、および、優れた透明性を確保する観点から、酸化インジウムを含有する酸化物（酸化インジウム含有酸化物）が挙げられる。酸化インジウム含有酸化物は、金属元素としてインジウム（Ｉｎ）のみを含有していてもよく、また、インジウム（Ｉｎ）以外の（半）金属元素を含んでいてもよい。酸化インジウム含有酸化物は、好ましくは、主金属元素がインジウム（Ｉｎ）である。主金属元素がインジウムである酸化インジウム含有酸化物は、優れたバリヤ機能を有し、水などの影響による金属層７の腐食を好適に抑制しやすい。

酸化インジウム含有酸化物は、単数または複数の（半）金属元素を不純物元素として含有することにより、導電性、透明性、耐久性をより一層向上させることができる。第１無機酸化物層６中の、主金属元素Ｉｎの原子数に対する不純物金属元素の含有原子数比（不純物金属元素の原子数／Ｉｎの原子数）は、例えば、０．５０未満であり、好ましくは、０．４０以下、より好ましくは、０．３０以下、さらに好ましくは、０．２０以下であり、また、例えば、０．０１以上、好ましくは、０．０５以上、より好ましくは、０．１０以上である。これにより、透明性、湿熱耐久性に優れる無機酸化物層が得られる。

酸化インジウム含有酸化物としては、具体的には、例えば、インジウム亜鉛複合酸化物（ＩＺＯ）、インジウムガリウム複合酸化物（ＩＧＯ）、インジウムガリウム亜鉛複合酸化物（ＩＧＺＯ）、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）が挙げられ、より好ましくは、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）が挙げられる。本明細書中における“ＩＴＯ”とは、少なくともインジウム（Ｉｎ）とスズ（Ｓｎ）とを含む複合酸化物であればよく、これら以外の追加成分を含んでもよい。追加成分としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ以外の金属元素が挙げられ、例えば、上記群に示された金属元素、および、これらの組み合わせが挙げられる。追加成分の含有量は特に制限されないが、例えば、５重量％以下である。

ＩＴＯに含有される酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量は、酸化スズおよび酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）の合計量に対して、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上、より好ましくは、６質量％以上、さらに好ましくは、８質量％以上、特に好ましくは、１０質量％以上であり、また、例えば、３５質量％以下、好ましくは、２０質量％以下、より好ましくは、１５質量％以下、さらに好ましくは、１３質量％以下である。酸化インジウムの含有量（Ｉｎ_２Ｏ_３）は、酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量の残部である。

ＩＴＯに含有される、Ｉｎに対するＳｎの原子数比Ｓｎ／Ｉｎは、例えば、０．００４以上、好ましくは、０．０２以上、より好ましくは、０．０３以上、さらに好ましくは、０．０４以上、特に好ましくは、０．０５以上であり、また、例えば、０．４以下、好ましくは、０．３以下、より好ましくは、０．２以下、さらに好ましくは、０．１０以下である。Ｉｎに対するＳｎの原子数比は、Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）により求めることができる。ＩｎとＳｎの原子数比を上記範囲とすることにより、環境信頼性に優れる膜質を得やすい。

第１無機酸化物層６は、好ましくは、結晶粒を含有しない。すなわち、第１無機酸化物層６は、好ましくは、非晶質である。これにより、第１無機酸化物層６表面の濡れ性を向上させて、後述する金属層７を第１無機酸化物層６の上面に、より確実に薄くかつ均一に成膜することができる。そのため、光透過性導電層４の膜質を良好にし、湿熱耐久性を向上させることができる。

本発明において、「結晶粒を含有しない」とは、第１無機酸化物層６を、２００，０００倍での断面ＴＥＭ画像を用いて観察した場合に、厚み方向と直交する面方向（左右方向または前後方向）５００ｎｍの範囲において、結晶粒が観察されないことをいう。

第１無機酸化物層６における無機酸化物の含有割合は、例えば、９５質量％以上、好ましくは、９８質量％以上、より好ましくは、９９質量％以上であり、また、例えば、１００質量％以下である。

第１無機酸化物層６の厚みＴ１は、例えば、５ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上、より好ましくは、３０ｎｍ以上であり、また、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、６０ｎｍ以下、より好ましくは、５０ｎｍ以下である。第１無機酸化物層６の厚みＴ１が上記範囲であれば、光透過性導電層４の可視光透過率を高い水準に調整しやすい。第１無機酸化物層６の厚みＴ１は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察により測定される。

６． 金属層
金属層７は、第１無機酸化物層６および第２無機酸化物層８とともに、光透過性導電層４に導電性を付与する導電層である。また、金属層７は、光透過性導電層４の表面抵抗値を低減する低抵抗化層でもある。また、金属層７は、高いＩＲ反射率（近赤外線の平均反射率）を付与するためのＩＲ反射層でもある。

金属層７は、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、第１無機酸化物層６の上面に、第１無機酸化物層６の上面に接触するように、配置されている。

金属層７を形成する金属は、表面抵抗が小さい金属であれば限定的でないが、例えば、Ｔｉ，Ｓｉ，Ｎｂ，Ｉｎ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｃｏ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｕ、Ｇｅ、Ｒｕ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎａ、Ｗ，Ｚｒ，ＴａおよびＨｆからなる群から選択される１種の金属からなるか、または、それらの２種以上の金属を含有する合金が挙げられる。

金属として、好ましくは、銀（Ａｇ）、銀合金が挙げられ、より好ましくは、銀合金が挙げられる。金属が、銀または銀合金であれば、光透過性導電層４の抵抗値を小さくすることができるのに加えて、近赤外線領域（波長８５０～２５００ｎｍ）の平均反射率が特に高い光透過性導電層４が得られ、屋外で使用される液晶調光素子にも好適に適用できる。

銀合金は、銀を主成分として含有し、その他の金属を副成分として含有している。副成分の金属元素は限定的でない。銀合金としては、例えば、Ａｇ－Ｃｕ合金、Ａｇ－Ｐｄ合金、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ合金、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ－Ｇｅ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ａｕ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ｉｎ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ｓｎ合金、Ａｇ－Ｒｕ－Ｃｕ合金、Ａｇ－Ｒｕ－Ａｕ合金、Ａｇ－Ｎｄ合金、Ａｇ－Ｍｇ合金、Ａｇ－Ｃａ合金、Ａｇ－Ｎａ合金、Ａｇ－Ｎｉ合金、Ａｇ－Ｔｉ合金、Ａｇ－Ｉｎ合金、Ａｇ－Ｓｎ合金などが挙げられる。湿熱耐久性の観点から、銀合金として、好ましくは、Ａｇ－Ｃｕ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ｉｎ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ｓｎ合金、Ａｇ－Ｐｄ合金、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ合金などが挙げられる。

銀合金における銀の含有割合は、例えば、８０質量％以上、好ましくは、９０質量％以上、より好ましくは、９５質量％以上であり、また、例えば、９９．９質量％以下である。銀合金におけるその他の金属の含有割合は、上記した銀の含有割合の残部である。

金属層７の厚みＴ３は、光透過性導電層４の透過率を上げる観点から、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上であり、また、例えば、３０ｎｍ以下、好ましくは、２０ｎｍ以下、より好ましくは、１０ｎｍ以下である。金属層７の厚みＴ３は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察により測定される。

７． 第２無機酸化物層
第２無機酸化物層８は、液晶調光層５に、溶媒として含まれる水（後述）などが金属層７に浸入することを防止するバリヤ層であり、特に、水による経時での金属層７の変色を抑制するバリヤ層である。また、第２無機酸化物層８は、金属層７の可視光反射率を抑制し、光透過性導電層４の可視光透過率を向上させるための光学調整層でもある。第２無機酸化物層８は、好ましくは、金属層７とともに、光透過性導電層４に導電性を付与する導電層であり、より好ましくは、透明導電層である。

第２無機酸化物層８は、光透過性導電層４における最上層であって、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、金属層７の上面全面に、金属層７の上面に接触するように、配置されている。

第２無機酸化物層８を形成する無機酸化物は、第１無機酸化物層６で例示した無機酸化物が挙げられ、好ましくは、酸化インジウムを含有し、より好ましくは、酸化インジウム含有酸化物が挙げられ、より好ましくは、主金属元素がインジウム（Ｉｎ）である酸化インジウム含有酸化物が挙げられ、さらに好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。

第２無機酸化物層８を形成する無機酸化物は、第１無機酸化物層６を形成する無機酸化物と同一または異なっていてもよいが、エッチング性や湿熱耐久性の観点から、好ましくは、第１無機酸化物層６と同一の無機酸化物である。

第２無機酸化物層８が酸化インジウム含有酸化物からなる場合、第２無機酸化物層８中の、主金属元素Ｉｎの原子数に対する不純物金属元素の含有原子数比（不純物金属元素の原子数／Ｉｎの原子数）は、第１無機酸化物層６における「不純物金属元素の原子数／Ｉｎの原子数」と同一またはそれ以上（例えば、０．００１以上）である。

第２無機酸化物層８がＩＴＯからなる場合、ＩＴＯに含有される酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量およびＩｎに対するＳｎの原子数比は、第１無機酸化物層６と同様である。

第１無機酸化物層６及び第２無機酸化物層８のいずれもがＩＴＯからなる場合、第２無機酸化物層８に含有される酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量は、好ましくは、第１無機酸化物層６に含有される酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量と同等水準またはそれ以上（例えば、０．１質量％以上）である。具体的には、第２無機酸化物層８に含有される酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量（Ｓ_２）の、第１無機酸化物層６に含有される酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量（Ｓ_１）に対する比率（Ｓ_２／Ｓ_１）は、例えば、１．０以上、好ましくは、１．２以上であり、また、例えば、３．０以下、好ましくは、２．５以下である。

ＩＴＯに含有される酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量を、上記範囲とすることにより、ＩＴＯ膜の結晶化度を調整することができる。特に、ＩＴＯ膜内の酸化スズの含有量を多くすることにより、加熱によるＩＴＯ膜の完全結晶化を抑制し、半結晶質膜を得やすい。

また、第２無機酸化物層８に含有されるＩｎに対するＳｎの原子数比Ｓｎ／Ｉｎは、好ましくは、第１無機酸化物層６に含有されるＩｎに対するＳｎの原子数比と同等またはそれ以上（具体的には、０．００１以上）である。第２無機酸化物層８における、酸化スズ（ＳｎＯ_２）の含有量、あるいは、Ｉｎに対するＳｎの原子数比を、第１無機酸化物層６のそれらと同等またはそれ以上とすることにより、第２無機酸化物層８の結晶化度を高くできる。

第２無機酸化物層８における無機酸化物の含有割合は、例えば、９５質量％以上、好ましくは、９８質量％以上、より好ましくは、９９質量％以上であり、また、例えば、１００質量％以下である。

第２無機酸化物層８は、結晶粒１０を含有する（図２Ａまたは図２Ｂ参照）。これにより、結晶粒１０は、膜構造が安定しており、水を透過しにくいため、液晶調光層５に、溶媒として含まれる水（後述）が、第２無機酸化物層８を通過して金属層７に浸入することを抑制できる。そのため、光透過性導電層４の耐湿耐久性を良好にすることができる。

具体的には、第２無機酸化物層８は、結晶質膜である。結晶質膜としては、例えば、図２Ａに示すように、側断面図（特に、断面ＴＥＭ画像）において、面方向全体に連続して結晶粒１０を含有する完全結晶質膜であってもよく、また、図２Ｂに示すように、非晶質部１１（結晶化していない部分）および結晶質部１２（すなわち、結晶粒１０からなる部分）を含有する半結晶質膜であってもよい。後述する第２結晶粒１０ｂを含有することができ、湿熱耐久性がより一層優れる観点から、好ましくは、半結晶質膜が挙げられる。

本発明において、「結晶粒を有する」とは、第２無機酸化物層８を、２００，０００倍での断面ＴＥＭ画像を用いて観察した場合に、面方向５００ｎｍの範囲において、少なくとも１つ以上の結晶粒１０を有することをいう。上記範囲において、結晶粒１０の数は、好ましくは、２以上、より好ましくは、３以上、さらに好ましくは、５以上であり、また、好ましくは、５０以下、より好ましくは、４０以下、さらに好ましくは、３０以下の結晶粒１０を有する。

また、第２無機酸化物層８の上面を、１００，０００倍での平面ＴＥＭ画像にて観察した場合において、結晶粒１０が占める面積割合は、例えば、５％以上、好ましくは、１０％以上、より好ましくは、２０％以上であり、また、例えば、１００％以下、好ましくは、９０％以下、より好ましくは、８０％以下、さらに好ましくは、７０％以下、特に好ましくは、６０％以下である。

なお、平面ＴＥＭ画像で結晶粒が占める面積割合を算出する際、前記記載の条件で第１無機酸化物層６の断面ＴＥＭ画像を確認し、第１無機酸化物層６内に結晶粒が存在しないことを確認した後、平面ＴＥＭ画像を観察することとする。平面ＴＥＭ画像だけでは、第１無機酸化物層６および第２無機酸化物層８のいずれの層に存在する結晶粒であるかの判断が難しい場合がある。そのため、本発明では、断面ＴＥＭ画像で第１無機酸化物層６に結晶粒が存在しないことを確認した後、平面ＴＥＭ画像を観察することにより、第２無機酸化物層８の結晶粒１０を観察できているものと判断する。

第２無機酸化物層８に含まれる結晶粒１０の大きさは、例えば、３ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上、より好ましくは、１０ｎｍ以上であり、例えば、２００ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下、より好ましくは、８０ｎｍ以下、さらに好ましくは、５０ｎｍ以下である。第２無機酸化物層８の観察面積内において、上記範囲以外の結晶粒を含んでいてもよいが、その面積割合は、好ましくは、３０％以下、より好ましくは、２０％以下である。より好ましくは、第２無機酸化物層８に含まれる結晶粒１０は全て上記範囲の大きさの結晶粒からなる。結晶粒１０の大きさは、第２無機酸化物層８を２００，０００倍での断面ＴＥＭ画像を用いて観察した場合に、各結晶粒１０がとり得る長さの最大値である。

第２無機酸化物層８に含まれる結晶粒１０の中で最も大きい結晶粒１０（最大結晶粒）の大きさは、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上であり、また、例えば、２００ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下である。

結晶粒の形状は限定的でなく、例えば、断面視略三角形状、断面視略矩形状などが挙げられる。

結晶粒１０としては、厚み方向に第２無機酸化物層８を貫通する第１結晶粒１０ａ、および、厚み方向に第２無機酸化物層８を貫通しない第２結晶粒１０ｂが挙げられる。

第１結晶粒１０ａは、その上端が第２無機酸化物層８の上面から露出し、かつ、その下端が第２無機酸化物層８の下面から露出するように、成長した結晶粒である。第１結晶粒１０ａの厚み方向長さは、第２無機酸化物層８の厚みと同一である。

第２結晶粒１０ｂは、その上端および下端の少なくとも一端が第２無機酸化物層８の表面（上面または下面）から露出しないように、成長した結晶粒である。第２結晶粒１０ｂは、好ましくは、その上端が第２無機酸化物層８の上面から露出し、かつ、その下端が第２無機酸化物層８の下面から露出しないように、形成されている。

第２結晶粒１０ｂの厚み方向長さの平均は、第２無機酸化物層８の厚み（Ｔ２）よりも短く、例えば、第２無機酸化物層８の厚み１００％に対して、例えば、９８％以下、好ましくは、９０％以下、より好ましくは、８０％以下であり、また、例えば、５％以上、好ましくは、１０％以上、より好ましくは、２０％以上である。

第２無機酸化物層８は、好ましくは、第２結晶粒１０ｂを有する。これにより、結晶粒１０の粒界が厚み方向に貫通しないため、水が粒界に沿って第２無機酸化物層８を厚み方向に通過することを抑制することができる。

第１結晶粒１０ａの数は、例えば、０以上、好ましくは、１以上であり、また、例えば、３０以下、好ましくは、１０以下である。

第２結晶粒１０ｂの数は、好ましくは、第１結晶粒１０ａの数よりも多く、具体的には、好ましくは、１以上、より好ましくは、２以上、さらに好ましくは、３以上であり、また、好ましくは、５０以下、より好ましくは、４０以下、さらに好ましくは、３０以下である。

第２無機酸化物層８の厚みＴ２は、例えば、５ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上、さらに好ましくは、３０ｎｍ以上であり、また、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、６０ｎｍ以下、より好ましくは、５０ｎｍ以下である。第２無機酸化物層８の厚みＴ２が上記範囲であれば、光透過性導電層４の可視光透過率を高い水準に調整しやすい。第２無機酸化物層８の厚みＴ２は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察により測定される。

第２無機酸化物層８の厚みＴ２の、第１無機酸化物層６の厚みＴ１に対する比（Ｔ２／Ｔ１）は、例えば、０．５以上、好ましくは、０．７５以上、また、例えば、１．５以下、好ましくは、１．２５以下である。比（Ｔ２／Ｔ１）が上記した下限以上であり、かつ、上記した上限以下であれば、湿熱環境下であっても金属層７の劣化をより一層抑制することができる。

第２無機酸化物層８の厚みＴ２の、金属層７の厚みＴ３に対する比（Ｔ２／Ｔ３）は、例えば、２．０以上、好ましくは、３．０以上であり、また、例えば、１０以下、好ましくは、８．０以下である。

８． 液晶調光層
液晶調光層５は、光透過性導電層４に電界を印加することによって、光透過率や色彩を変化する調光層である。

液晶調光層５は、液晶調光部材１の最上層であって、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、光透過性導電層４の上面全面に、光透過性導電層４の上面に接触するように、配置されている。

液晶調光層５は、液晶材料を含み、好ましくは、液晶カプセルを含んでいる。

液晶材料としては、公知の材料などが挙げられ、例えば、ネマティック液晶分子、スメクテッィック液晶分子、コレステリック液晶分子などが挙げられる。

これら液晶材料は、単独使用または２種以上併用することができる。

液晶カプセルは、微小粒子であり、上記した液晶材料を内包している。

また、このような液晶材料および液晶カプセルは、透明樹脂および／または分散媒によって分散されている。つまり、液晶材料および液晶カプセルは、好ましくは、高分子エマルジョンによって分散されている。

透明樹脂は、液晶材料および液晶カプセルを分散させるマトリクス樹脂であって、公知の樹脂材料などが挙げられ、特に限定はないが、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。これらの透明樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。

溶媒としては、例えば、水、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２－ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素系化合物、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系化合物、例えば、フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール系化合物、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系化合物、例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２－ペンタノン、３－ペンタノン、２－ヘキサノン、３－ヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、２，６－ジメチル－４－ヘプタノン、２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドンなどのケトン系化合物、例えば、ｎ－ブタノールや２－ブタノール、シクロヘキサノール、イソプロピルアルコール、ｔ－ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２－メチル－２，４－ペンタンジオールなどのアルコール系化合物などが挙げられる。これらのうち、エマルジョン形成の観点から、好ましくは、アルコール系化合物、水、より好ましくは、水が挙げられる。これらの溶媒は、単独使用または２種以上併用することができる。

このような透明樹脂および溶媒は、単独使用または２種以上併用することができ、好ましくは、溶媒として水を使用する。

また、このような液晶調光層５では、透明樹脂および／または溶媒の屈折率が、液晶分子における長軸方向の屈折率と同じになるように、調整されていることが好ましい。

そして、電界が印加されていない場合には、液晶カプセルに内包された液晶分子は、液晶カプセルの内壁に沿って整列する。そのため、液晶分子の配向方向が不均一となり、液晶カプセルと、透明樹脂および／または溶媒との界面で、屈折率の不整合が生じ、光が散乱する。これにより、液晶調光層５は不透明になる。

また、電界が印加されている場合には、液晶カプセルに内包された液晶分子は、電界の方向と平行に整列する。透明樹脂および／または溶媒の屈折率が、液晶分子における長軸方向の屈折率と同じになるように、調整されているため、液晶カプセルおよび透明樹脂の界面で、屈折率の不整合が生じない。これにより、液晶調光層５は透明になる。

液晶調光層５の厚みは、例えば、０．１μｍ以上５０００μｍ以下である。

９． 光透過性導電フィルム
液晶調光部材１を構成する部材のうち、透明基材２、保護層３および光透過性導電層４は、本発明の光透過性導電フィルム９の一実施形態を構成する。

すなわち、図３に示すように、光透過性導電フィルム９は、厚み方向において、順に、透明基材２と、保護層３と、光透過性導電層４とを備える積層フィルムである。つまり、光透過性導電フィルム９は、透明基材２と、透明基材２の上側に配置される保護層３と、保護層３の上側に配置される光透過性導電層４とを備える。好ましくは、光透過性導電フィルム９は、透明基材２と、保護層３と、光透過性導電層４とのみからなる。

光透過性導電フィルム９は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）をなし、面方向に延び、平坦な上面および平坦な下面を有する。光透過性導電フィルム９は、液晶調光部材１を作製するための部品であり、具体的には、液晶調光部材１に用いられる電極基板である。光透過性導電フィルム９は、液晶調光層５を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。また、光透過性導電フィルム９は、可視光を透過するフィルムであって、透明導電性フィルムを含む。

光透過性導電フィルム９は、熱収縮された光透過性導電フィルム９であってもよく、非加熱、すなわち、未収縮の光透過性導電フィルム９であってもよい。耐屈曲性に優れる観点から、好ましくは、熱収縮された光透過性導電フィルム９である。

光透過性導電フィルム９の総厚みは、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、２００μｍ以下、より好ましくは、１５０μｍ以下である。

１０． 液晶調光部材の製造方法
次に、液晶調光部材１を製造する方法を説明する。

液晶調光部材１を製造するには、まず、光透過性導電フィルム９を作製し、次いで、光透過性導電フィルム９に液晶調光層５を配置する。

光透過性導電フィルム９は、例えば、透明基材２の上に、保護層３と、光透過性導電層４とを、上記した順序で配置することにより、得られる。

この方法では、図１が参照されるように、まず、透明基材２を用意する。

透明基材２（高分子フィルム）における水分量は限定的でないが、例えば、１０μｇ／ｃｍ^２以上、好ましくは、１５μｇ／ｃｍ^２以上であり、また、例えば、２００μｇ／ｃｍ^２以下、好ましくは、１７０μｇ／ｃｍ^２以下である。水分量が上記した下限以上であれば、第１無機酸化物層６に水素原子などを付与して、後述する加熱によって第１無機酸化物層６が結晶化することを抑制して、第１無機酸化物層６の非晶質性を維持しやすい。また、水分量が上記した上限以下であれば、加熱工程などにより、結晶粒１０を含有する第２無機酸化物層８を確実に得ることができる。透明基材２における水分量は、ＪＩＳ Ｋ ７２５１（２００２年）Ｂ法－水分気化法に準じて測定される。

また、透明基材２（高分子フィルム）に含有される水の、透明基材２に対する含有量は、例えば、０．０５質量％以上、好ましくは、０．１質量％以上であり、また、例えば、１．５質量％以下、好ましくは、１．０質量％以下、より好ましくは、０．５質量％以下である。

なお、上記した水の一部または全部は、後で説明する脱ガス処理において外部に放出される。

次いで、樹脂組成物を透明基材２の上面に、例えば、湿式により、配置する。

具体的には、まず、樹脂組成物を透明基材２の上面に塗布する。その後、樹脂組成物が活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合には、活性エネルギー線を照射する。

これによって、フィルム形状の保護層３を、透明基材２の上面全面に形成する。つまり、透明基材２と保護層３とを備える保護層付透明基材を得る。

その後、必要により、保護層付透明基材を脱ガス処理する。

保護層付透明基材を脱ガス処理するには、保護層付透明基材を、例えば、１×１０^－１Ｐａ以下、好ましくは、１×１０^－２Ｐａ以下、また、例えば、１×１０^－６Ｐａ以上の減圧雰囲気下に放置する。脱ガス処理は、例えば、乾式の装置に備えられる排気装置（具体的には、ターボ分子ポンプなど）を用いて、実施される。

この脱ガス処理によって、透明基材２に含有される水の一部や、保護層３に含有される有機物の一部が、外部に放出される。

次いで、光透過性導電層４を保護層３の上面に、例えば、乾式により、配置する。

具体的には、第１無機酸化物層６、金属層７および第２無機酸化物層８のそれぞれを、順に、乾式により、配置する。

乾式としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。具体的には、マグネトロンスパッタリング法が挙げられる。

スパッタリング法で用いられるガスとしては、例えば、Ａｒなどの不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素などの反応性ガスを併用することができる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比は、特に限定されず、反応性ガスの流量の、不活性ガスの流量に対する比で、例えば、０．１／１００以上、好ましくは、１／１００以上であり、また、例えば、５／１００以下である。

具体的には、第１無機酸化物層６の形成において、ガスとして、好ましくは、不活性ガスおよび反応性ガスが併用される。金属層７の形成において、ガスとして、好ましくは、不活性ガスが単独使用される。第２無機酸化物層８の形成において、ガスとして、好ましくは、不活性ガスおよび反応性ガスが併用される。

第１無機酸化物層６や第２無機酸化物層８が、酸化インジウムを含有する場合、各層の抵抗挙動は、反応性ガスの導入量に依存して変化し、反応性ガス導入量（ｘ軸）－表面抵抗値（ｙ軸）のグラフにおいて、下に凸となる放物線を描く。このとき、第１無機酸化物層６や第２無機酸化物層８が含有する反応性ガスの量は、抵抗値が最小値（すなわち、放物線の変曲点）付近となる導入量であることが好ましく、具体的には、抵抗値が最小値となる導入量±２０％の導入量であることが好ましい。

スパッタリング法を採用する場合、ターゲット材としては、各層を構成する上述の無機酸化物または金属が挙げられる。

スパッタリング法で用いられる電源には限定はなく、例えば、ＤＣ電源、ＭＦ／ＡＣ電源およびＲＦ電源の単独使用または併用が挙げられ、好ましくは、ＤＣ電源が挙げられる。

また、好ましくは、第１無機酸化物層６をスパッタリング法で形成するとき、透明基材２（および保護層３）を冷却する。具体的には、透明基材２の下面を、冷却装置（例えば、冷却ロール）などに接触させて、透明基材２（および保護層３）を冷却する。これによって、第１無機酸化物層６を形成するときに、スパッタリングにより生じる蒸着熱などで透明基材２に含有される水、および、保護層３に含有される有機物が、多量に放出され、水が第１無機酸化物層６に過剰に含まれることを抑制することができる。冷却温度は、例えば、－３０℃以上、好ましくは、－１０℃以上であり、また、例えば、６０℃以下、好ましくは、４０℃以下、より好ましくは、３０℃以下、さらに好ましくは、２０℃以下、特に好ましくは、０℃未満である。また、好ましくは、第１無機酸化物層６、金属層７および第２無機酸化物層８は、いずれも、上記温度範囲で冷却しながら、スパッタリング形成される。これにより、金属層７の凝集や第２無機酸化物層８の過剰酸化を抑制できる。

これにより、第１無機酸化物層６、金属層７および第２無機酸化物層８が、厚み方向において、順に形成された光透過性導電層４を、保護層３の上に形成して、光透過性導電層積層体が得られる。このとき、成膜直後（例えば、光透過性導電層積層体形成後２４時間以内）の第１無機酸化物層６および第２無機酸化物層８は、いずれも、結晶粒１０を含有していない。

次いで、第２無機酸化物層８が、結晶粒１０を含有する場合には、第２無機酸化物層８に結晶粒１０を発生させる結晶化工程を実施する。結晶化工程は、結晶粒１０を形成できれば限定的でないが、例えば、加熱工程が挙げられる。すなわち、光透過性導電層積層体を加熱する。

なお、加熱工程は、上記結晶粒１０を発生させることを目的とした加熱のみならず、光透過性導電層積層体のカール除去や、銀ペースト配線の乾燥形成などに伴って付随的に実施される加熱であってもよい。

加熱温度は適宜設定でき、例えば、３０℃以上、好ましくは、４０℃以上、より好ましくは、８０℃以上であり、また、例えば、１８０℃以下、好ましくは、１５０℃以下である。

加熱時間は限定的でなく、加熱温度に応じて設定されるが、例えば、１分以上、好ましくは、１０分以上、より好ましくは、３０分以上であり、また、例えば、４０００時間以下、好ましくは、１００時間以下である。

加熱は、大気雰囲気下、不活性雰囲気下、真空下のいずれで実施してもよいが、結晶化を容易にする観点から、好ましくは、大気雰囲気下で実施する。

この加熱工程により、第２無機酸化物層８が結晶化され、第２無機酸化物層８内に結晶粒１０が存在する。特に、第２無機酸化物層８が、結晶粒１０を含有する場合には、第２無機酸化物層８は、透明基材２と第２無機酸化物層８との間に介在する金属層７が、結晶化を阻害する透明基材２からの水や保護層３からの有機物をバリヤし、かつ、加熱工程時に露出していることによって結晶化に必要な酸素を取り込みやすいため、第２無機酸化物層８は、容易に結晶化することができる。なお、第１無機酸化物層６は、水や有機物の影響が大きく、また、酸素を取り込みにくいため、結晶粒１０の成長が阻害され、非晶質性を維持する。

これによって、図１に示すように、厚み方向において、透明基材２と、保護層３と、光透過性導電層４（第１無機酸化物層６、金属層７および第２無機酸化物層８）とを順に備え、第２無機酸化物層８のみが結晶粒１０を含有する光透過性導電フィルム９が得られる。

次いで、光透過性導電フィルム９に、液晶調光層５を配置する。

液晶調光層５は、公知の材料を用いることができる。

液晶調光層５と、第２無機酸化物層８とが接触するように、液晶調光層５を光透過性導電フィルム９の上面に配置する。

これによって、図１に示すように、透明基材２と、保護層３と、光透過性導電層４と、液晶調光層５とを、厚み方向において、順に備える液晶調光部材１が得られる。

なお、上記した製造方法を、ロールトゥロール方式で実施できる。また、一部または全部をバッチ方式で実施することもできる。

また、光透過性導電層４は、必要に応じて、エッチングによって、配線パターンなどのパターン形状に形成することもできる。

１１． 作用効果
液晶調光部材１によれば、光透過性導電層４は、近赤外線領域の反射率が高い金属層７を備える。そのため、光透過性導電層４は、例えば、導電性酸化物のみからなる場合と比較して近赤外線の平均反射率が高く、太陽光などの熱線を液晶調光層５から効率的に遮断でき、太陽光の影響を受ける環境（屋外など）で利用できる。

また、液晶調光部材１によれば、光透過性導電層４が導電性を有するため、電極として用いることができる。さらに、液晶調光部材１では、透明基材２の表面に、ＩＲ反射層を貼り付けなくても、近赤外線反射特性に優れる。そのため、液晶調光部材の厚みを薄くすることができ、また、製造コストを低減することができる。

また、液晶調光部材１によれば、透明基材２の表面に、ＩＲ反射層を貼り付けなくても、近赤外線反射特性に優れる。そのため、液晶調光部材１の厚みを薄くすることができ、また、製造コストを低減することができる。

液晶調光部材１によれば、光透過性導電層４は、結晶粒１０を含有する第２無機酸化物層８を備える。そのため、液晶調光層５が、溶媒として水を含有する場合には、その水が、第２無機酸化物層８を厚み方向に通過して金属層７に浸入することを抑制することができる。

液晶調光部材１によれば、第２無機酸化物層が７、非晶質部１１および結晶質部１２を有する半結晶質膜である。そのため、湿熱耐久性がより一層優れる。

光透過性導電フィルム９によれば、光透過性導電層４は、近赤外線領域の反射率が高い金属層７を備える。そのため、光透過性導電フィルム９が、上記した液晶調光部材１に用いられる場合には、光透過性導電層４は、例えば、導電性酸化物のみからなる場合と比較して近赤外線の平均反射率が高く、太陽光などの熱線を液晶調光層５から効率的に遮断でき、太陽光の影響を受ける環境（屋外など）で利用できる。

また、光透過性導電フィルム９では、光透過性導電層４が導電性を有するため、電極として用いることができる。さらに、透明基材２の表面に、ＩＲ反射層を貼り付けなくても、近赤外線反射特性に優れる。そのため、光透過性導電フィルム９の厚みを薄くすることができ、また、製造コストを低減することができる。

１２．液晶調光素子
液晶調光素子１３は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）をなし、厚み方向と直交する所定方向（前後方向および左右方向、すなわち、面方向）に延び、平坦な上面および平坦な下面（２つの主面）を有する。液晶調光素子１３は、例えば、調光装置に備えられる調光パネルなどの一部品であり、つまり、調光装置ではない。すなわち、液晶調光素子１３は、調光装置などを作製するための部品であり、ＬＥＤなどの光源や外部電源を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。

具体的には、図４に示すように、液晶調光素子１３は、液晶調光部材１および電極基板（上側電極基板）１４を備える積層フィルムである。つまり、液晶調光素子１３は、液晶調光部材１と、液晶調光部材１の上側に配置される電極基板１４とを備える。好ましくは、液晶調光素子１３は、液晶調光部材１と、電極基板１４とのみからなる。以下、各層について詳述する。

電極基板１４は、上述した光透過性導電フィルム９であり、厚み方向において、順に、光透過性導電層４、保護層３および透明基材２を備える。電極基板１４は、液晶調光部材１の上側に配置されている。具体的には、電極基板１４は、液晶調光層５の上面（下側の光透過性導電フィルム９の透明基材２に対して反対側の表面）の全面に、液晶調光層５の上面と光透過性導電層４の下面とが接触するように、配置されている。

すなわち、液晶調光素子１３では、２枚の光透過性導電フィルム９が、それぞれの光透過性導電層４が液晶調光層５の表面（下面または上面）と接触するように、対向配置されている。

液晶調光素子１３は、上記した液晶調光部材１を備える。そのため、液晶調光素子１３は、太陽光などの熱線を液晶調光層５から効率的に遮断でき、太陽光の影響を受ける環境（屋外など）で利用できる。

また、液晶調光素子１３は、上記した液晶調光部材１を備える。そのため、液晶調光素子１３の厚みを薄くすることができ、また、製造コストを低減することができる。

１６． 変形例
変形例において、上記した実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。

液晶調光部材１の一実施形態では、図１に示すように、保護層３を、透明基材２および第１無機酸化物層６の間に介在させている。しかし、例えば、図５に示すように、第１無機酸化物層６を透明基材２の上面に直接配置することもできる。つまり、液晶調光部材１は、厚み方向において、順に、透明基材２、光透過性導電層４および液晶調光層５を備えている。一方、液晶調光部材１は、保護層３を備えていない。

液晶調光部材１の一実施形態では、図１に示すように、第１無機酸化物層６を保護層３の上面に直接配置している。しかし、例えば、図６に示すように、無機物層１５を、保護層３および第１無機酸化物層６の間に介在させることもできる。

無機物層１５は、保護層３とともに、光透過性導電層４における配線パターンの視認を抑制するように、液晶調光部材１の光学物性を調整する光学調整層である。無機物層１５は、フィルム形状（シート形状を含む）を有しており、保護層３の上面全面に、保護層３の上面に接触するように、配置されている。無機物層１５は、所定の光学物性を有し、例えば、酸化物、フッ化物などの無機物から調製されている。無機物層１５の厚みは、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上、より好ましくは、１０ｎｍ以上であり、また、例えば、２００ｎｍ以下、好ましくは、８０ｎｍ以下、より好ましくは、４０ｎｍ以下、さらに好ましくは、２５ｎｍ以下である。

液晶調光部材１の一実施形態では、図１に示すように、光透過性導電層４は、第１無機酸化物層６と、金属層７と、第２無機酸化物層８とのみを備えている。しかし、例えば、図示しないが、第２無機酸化物層８の上面に、さらに、第２金属層と、第３無機酸化物層とを順に配置することもでき、さらには、第３無機酸化物層の上面に、第３金属層と、第４無機酸化物層とを配置することもできる。

また、図示しないが、透明基材２の上面および／または下面には、例えば、防汚層、密着、撥水層、反射防止層、オリゴマー防止層などの機能層を配置することもできる。

機能層は、好ましくは、上記した樹脂組成物を含み、より好ましくは、樹脂組成物からなる。

また、光透過性導電層４と液晶調光層５との間には、絶縁層（図示せず）（好ましくは、厚みが５０ｎｍ以下）が全部または一部に配置されていてもよい。絶縁層は、例えば、樹脂組成物や無機酸化物などからなる。

液晶調光部材１の一実施形態では、図１に示すように、液晶調光部材１は、透明基材２を備えているが、透明基材２は、他の着色基材（図示せず）と貼り合せられていてもよい。例えば、透明基材２の光透過性導電層４の反対側に、偏光子や偏光フィルムを配置してもよい。偏光子や偏光フィルムは、例えば、粘着層もしくは接着層を介して、透明基材２に貼り合わせることができる。

このような機能層は、必要な機能に応じて適宜選択される。

なお、上記変形例は、液晶調光部材１について説明したが、光透過性導電フィルム９および液晶調光素子１３についても同様である。

また、液晶調光素子１３では、図３に示すように、上側電極基板１４として、本発明の光透過性導電フィルム９を用いているが、例えば、図示しないが、上側電極基板１４は、透明基材２と、単一の導電層とから構成することもできる。単一の導電層としては、例えば、ＩＴＯ膜（結晶質ＩＴＯ膜、非晶質ＩＴＯ膜）、ＩＧＯ膜、ＩＧＺＯ膜などが挙げられる。

以下に実施例、比較例および参考比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例、比較例および参考比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。

［光透過性導電フィルム］
実施例１
（フィルム基材の用意、および、保護層の形成）
まず、長尺状ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなり、厚みが５０μｍである透明基材を用意した。

次いで、透明基材の上面に、アクリル樹脂からなる紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線照射により硬化させて、硬化樹脂層からなり、厚みが２μｍである保護層を形成した。これにより、透明基材と、保護層とを備える保護層付透明基材ロールを得た。

（第１無機酸化物層の形成）
次いで、保護層付透明基材ロールを真空スパッタ装置に設置して、未搬送時の気圧が２×１０^－３Ｐａとなるまで真空排気した（脱ガス処理）。この時、スパッタリングガス（ＡｒおよびＯ_２）を導入しない状態で、保護層付透明基材の一部を搬送し、１×１０^－２Ｐａまで気圧が上がることを確認した。これにより、保護層付透明基材ロールに十分な量のガスが残存していることを確認した。

次いで、保護層付透明基材ロールを繰り出しながら、硬化樹脂層の上面に、スパッタリングにより、非晶質ＩＴＯからなり、厚みが４０ｎｍである第１無機酸化物層を形成した。

具体的には、ＡｒおよびＯ_２を導入した気圧０．２Ｐａの真空雰囲気下（流量比はＡｒ：Ｏ_２＝１００：３．８）で、直流（ＤＣ）電源を用いて、１２質量％の酸化スズと８８質量％の酸化インジウムとの焼結体からなるターゲットをスパッタリングした。

なお、スパッタリングにより第１無機酸化物層を形成するとき、保護層付透明基材ロールの下面（具体的には、透明基材の下面）を、－５℃の冷却ロールに接触させて、保護層付透明基材ロールを冷却した。

（金属層の形成）
Ａｇ合金からなり、厚みが８ｎｍである金属層を、スパッタリングにより、第１無機酸化物層の上面に形成した。

具体的には、Ａｒを導入した気圧０．４Ｐａの真空雰囲気で、電源として、直流（ＤＣ）電源を用い、Ａｇ合金（三菱マテリアル社製、品番「Ｎｏ．３１７」）をスパッタリングした。

（第２無機酸化物層の形成）
ＩＴＯからなり、厚みが３８ｎｍである第２無機酸化物層を、金属層の上面に、スパッタリングにより、形成した。

具体的には、ＡｒおよびＯ_２を導入した気圧０．２Ｐａの真空雰囲気下（流量比はＡｒ：Ｏ_２＝１００：４．０）で、直流（ＤＣ）電源を用いて、１２質量％の酸化スズと８８質量％の酸化インジウムとの焼結体からなる、ＩＴＯターゲットをスパッタリングした。

その後、大気雰囲気下で８０℃、１２時間の条件で、加熱工程を実施した。これにより、第２無機酸化物層を結晶化した。

これによって、透明基材の上に、厚み方向に対して、順に、保護層、第１無機酸化物層、金属層および第２無機酸化物層が形成された光透過性導電フィルムを得た。

実施例２
ＡｒおよびＯ_２の流量比はＡｒ：Ｏ_２＝１００：３．１とし、１２質量％の酸化スズと８８質量％の酸化インジウムとの焼結体からなる、ＩＴＯターゲットをスパッタリングすることにより、第２無機酸化物層を形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例２の光透過性導電フィルムを得た。

参考比較例３
第２無機酸化物層における加熱工程を実施しなかった以外は、実施例１と同様にして、実施例３の光透過性導電フィルムを得た。

比較例１
スパッタ時のＡｒおよびＯ_２の流量比をＡｒ：Ｏ_２＝１００：１．０とし、第２無機酸化物層の厚みを表１の記載の厚みに変更し、かつ、第１無機酸化物層および金属層を形成することなく、光透過性導電層を形成し、その後、大気雰囲気下で１４０℃、１時間の加熱工程を実施したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１の光透過性導電フィルムを得た。

［液晶調光素子］
（製造例１）
実施例１の光透過性導電フィルムと、比較例１の光透過性導電フィルムとを用意した。次いで、ネマチック液晶と樹脂とが混合された塗工液を用意した。次いで、塗工液を実施例１の光透過性導電フィルムの上面に塗布し、液晶調光層を形成した。その後、液晶調光層の上面に、比較例１の光透過性導電フィルムを積層し、製造例１の液晶調光素子を製造した。

得られた液晶調光素子の端部の液晶調光層を除去した後、導電性銅箔粘着テープ（寺岡製作所製 商品名Ｎｏ８３２３）を液晶調光層が除去された部分に貼り電圧をかけたところ、電界の有無により透過性の変化が視認され、調光素子として機能することを確認した。

（製造例２）
実施例１の光透過性導電フィルムを実施例２の光透過性導電フィルムに変更した以外は、製造例１と同様にして、製造例２の液晶調光素子を製造した。

（製造例３）
実施例１の光透過性導電フィルムを参考比較例３の光透過性導電フィルムに変更した以外は、製造例１と同様にして、製造例３の液晶調光素子を製造した。

（製造比較例１）
比較例１の光透過性導電フィルムを２枚用意し、それぞれの光透過性導電層が液晶調光層の表面（上面または下面）と接触するように積層した以外は、製造例１と同様にして製造比較例１の液晶調光素子を製造した。

（測定）
（１）厚み
保護層、第１無機酸化物層、金属層および第２無機酸化物層の厚みを、透過型電子顕微鏡（日立社製、ＨＦ－２０００）を用いた断面観察により測定した。また、透明基材の厚みを、膜厚計（Ｐｅａｃｏｃｋ社製 デジタルダイアルゲージＤＧ－２０５）を用いて測定した。

（２）断面ＴＥＭによる結晶粒の観察
透過型電子顕微鏡（日立社製、「ＨＦ－２０００」、倍率２００，０００倍）を用いて、第１無機酸化物層および第２無機酸化物層の断面を観察した。そのときの断面図の面方向距離５００ｎｍ当たりにおける結晶粒の数を数えた。また、無機酸化物層に生じた結晶粒の最大結晶粒の長さを測定した。その結果を表１に示す。

（３）平面ＴＥＭによる結晶粒の観察
断面ＴＥＭにより結晶粒が確認された各実施例、比較例および各参考比較例の光透過性導電フィルムにおいて、透過型電子顕微鏡（日立社製、「Ｈ－７６５０」）を用いて、第２無機酸化物層の上面を観察し、倍率：１００，０００倍の平面画像を得た。次に、第２無機酸化物層全体の面積に対する、結晶粒（結晶化している箇所）の面積の割合を測定した。その結果を表１に示す。なお、実施例１においては、第２結晶粒の数が、第１結晶粒の数よりも多かった。

（４）湿熱耐久性
各実施例、各比較例および各参考比較例の光透過性導電フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに切り出し、光透過性導電層上に粘着層（日東電工社製、「ＣＳ９９０４Ｕ」）を形成して、ガラス基板に貼り合せた後、６０℃、９５％ＲＨの条件で２４０時間、放置した。その後、中央８ｃｍ×８ｃｍ部分の光透過性導電層の上面を目視観察した。

このとき、以下の基準に基づいて、外観評価を実施した。
◎：白色の点状欠点（凝集、腐食箇所）が、観察されない（０個）。
○：白色の点状欠点が０個超、５個以下である。
×：白色の点状欠点が５個超である。

その結果を表１に示す。

（５）近赤外線反射特性
各実施例、各比較例および各参考比較例の光透過性導電フィルムについて、近赤外線（波長８５０～２５００ｎｍ）の平均反射率を測定した。

このとき、以下の基準に基づいて、平均反射率の評価を実施した。
○：平均反射率が３０％以上である。
△：平均反射率が、１５％以上３０％未満である。
×：平均反射率が１５％未満である。

その結果を表１に示す。

１ 液晶調光部材
２ 透明基材
４ 光透過性導電層
５ 液晶調光層
６ 第１無機酸化物層
７ 金属層
８ 第２無機酸化物層
９ 光透過性導電フィルム
１３ 液晶調光素子

Claims (4)

1. 透明基材と、光透過性導電層と、液晶調光層と順に備え、
   前記光透過性導電層は、第１無機酸化物層と、金属層と、第２無機酸化物層とを順に備え、
   前記第１無機酸化物層は、結晶粒を含有せず、
   前記第２無機酸化物層は、結晶粒を含有することを特徴とする、液晶調光部材。
2. 前記第２無機酸化物層が、非晶質部および結晶質部を有する半結晶質膜であることを特徴とする、請求項１に記載の液晶調光部材。
3. 請求項１または２に記載の液晶調光部材に用いるための光透過性導電フィルムであって、
   透明基材と、光透過性導電層とを順に備え、
   前記光透過性導電層は、第１無機酸化物層と、金属層と、第２無機酸化物層とを順に備え、
   前記第１無機酸化物層は、結晶粒を含有せず、
   前記第２無機酸化物層は、結晶粒を含有することを特徴とする、光透過性導電フィルム。
4. 請求項１または２に記載の液晶調光部材と、
   前記透明基材に対して、前記液晶調光層の反対側の表面に設けられる電極基板と
   を備えることを特徴とする、液晶調光素子。

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