JP7037757B2 - 保護層転写シート - Google Patents
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Description
ここで、昇華型熱転写方式により受容層上に形成した熱転写画像は、階調性に優れるが、熱転写画像が形成された受容層は最表面に位置するため、耐擦過性等の耐久性に劣るという問題や、形成した画像が経時的に劣化してしまうという問題があった。
以下、図面を参照して本発明の保護層転写シートの構成について説明する。
図1に示すように、本発明の保護層転写シート10は、基材11と、転写性保護層12とを備える。また、転写性保護層12は、剥離層13を少なくとも備える。
また、一実施形態において、図2に示すように、転写性保護層12は、剥離層13上に接着層14を備える。
また、一実施形態において、図2に示すように、転写性保護層12は、剥離層13と接着層14との間に、プライマー層15をさらに備える。
また、一実施形態において、図2に示すように、本発明の保護層転写シート10は、基材11の転写性保護層12が設けられた面とは反対の面に、背面層16をさらに備える。
さらに、一実施形態において、本発明の保護層転写シート10は、基材11と転写性保護層12との間に、離型層を備える(図示せず)。
以下、本発明の保護層転写シートを構成する各層について説明する。
基材は、熱転写時に加えられる熱エネルギー(例えば、サーマルヘッドによる熱)に耐え得る耐熱性を有し、転写性保護層を支持できる機械的強度や耐溶剤性等を有するものであれば、特に制限なく使用できる。
基材として、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、1,4-ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート及びテレフタル酸-シクロヘキサンジメタノール-エチレングリコール共重合体等のポリエステル、ナイロン6及びナイロン6,6等のポリアミド、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)及びポリメチルペンテン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール(PVB)及びポリビニルピロリドン(PVP)等のビニル樹脂、ポリ(メタ)アクリレート及びポリメチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル樹脂、ポリイミド及びポリエーテルイミド等のポリイミド、セロファン、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)及びセルロースアセテートブチレート(CAB)等のセルロース樹脂、ポリスチレン(PS)、ポリカーボネート、並びにアイオノマー樹脂等から構成されるフィルム(以下、単に「樹脂フィルム」という。)を使用できる。
該樹脂フィルムは、延伸フィルムであっても、未延伸フィルムであってもよいが、機械的強度という観点からは、一軸方向又は二軸方向に延伸された延伸フィルムを使用することが好ましい。
なお、本発明において、「(メタ)アクリル」には「アクリル」と「メタクリル」の両方が包含される。また、本発明において、「(メタ)アクリレート」には「アクリレート」と「メタクリレート」の両方が包含される。
基材表面への凹凸形成手段としては、例えば、マット材練り込み加工、サンドブラスト加工、ヘアライン加工、マットコーティング加工及びケミカルエッチング加工等が挙げられる。マット材練り込み加工は、無機物又は有機物を練り込んだ樹脂により、基材を形成する加工法である。マットコーティング加工は、基材表面に、有機物又は無機物を含むコート材をコーティングし、基材表面に凹凸を付与する加工法である。
上記したように転写性保護層は、剥離層を少なくとも備える。また、転写性保護層は、剥離層上に接着層を備えることができ、さらに、剥離層と接着層との間にプライマー層を備えることができる。
剥離層は、印画物上へ転写された転写性保護層の最表面に位置することとなる層であり、印画物の耐久性の向上や、形成された画像の経時的な劣化防止等、印画物の保護を担う層である。
剥離層におけるジルコニウム酸化物の含有量は、25質量%以上、70質量%以下であることがより好ましく、30質量%以上、60質量%以下であることがさらに好ましい。これにより、印画物に形成された画像の濃度を維持しつつ、印画物の光沢度をより向上できる。
なお、本発明において、「平均粒径」は、熱転写シートの垂直断面の電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測する方法で求めることができる。具体的には、一次粒子の短軸径と長軸径を計測し、その平均をその粒子の粒径とした。次に、100個の粒子について、同様に粒径を計測し、それらの平均を平均粒径とした。なお、電子顕微鏡は、透過型(TEM)または走査型(SEM)のいずれを用いても同じ結果を得ることができる。
なお、本発明において、「活性光線硬化樹脂」とは、活性光線硬化性樹脂に対して活性光線を照射し、硬化させた状態の樹脂を意味する。
また、本発明において、「活性光線」とは、活性光線硬化性樹脂に対して化学的に作用させて重合を促進せしめる放射線を意味し、具体的には、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等を意味する。
他のモノマーとしては、例えば、芳香族炭化水素、アリール基含有化合物、アミド基含有化合物及び塩化ビニル等、より具体的には、スチレン、ベンジルスチレン、フェノキシエチルメタクリレート、アクリルアミド及びメタクリルアミド等が挙げられる。
なお、本発明において、光沢度は、JIS-Z-8741(1997年)に準拠し、Gloss Meter VG7000(日本電色工業(株)製)を用いて、反射角20°により測定できる。
一実施形態において、転写性保護層は、剥離層上に接着層を備える。該接着層は、保護層転写シートにおいて最表面に設けられる層であり、転写性保護層の、印画物に対する接着性向上のために設けられる層である。
一実施形態において、転写性保護層は、剥離層と接着層との間にプライマー層を備える。これにより、剥離層と接着層との接着性を向上できる。
イソシアネート化合物としては、分子内に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物が好ましい。例えば、キシレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、1-クロロ-2,4-フェニルジイソシアネート、2-クロロ-1,4-フェニルジイソシアネート、2,4-トルエンジイソシアネート、2,6-トルエンジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、p-フェニレンジイソシアネート、trans-シクロヘキサン、1,4-ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、4,4’-ビフェニレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート及び4,4’,4’’-トリメチル-3,3’,2’-トリイソシアネート-2,4,6-トリフェニルシアヌレート等を挙げることができる。
無機微粒子としては、例えば、タルク及びカオリン等の粘土鉱物、炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウム等の炭酸塩、水酸化アルミニウム及び水酸化マグネシウム等の水酸化物、硫酸カルシウム等の硫酸塩、酸化アルミニウム及びシリカ等の酸化物、並びにグラファイト、硝石及び窒化ホウ素等の無機微粒子が挙げられる。
有機微粒子としては、(メタ)アクリル樹脂、テフロン(登録商標)樹脂、シリコーン樹脂、ラウロイル樹脂、フェノール樹脂、アセタール樹脂、ポリスチレン、ポリアミド等からなる有機樹脂微粒子、及びこれらを架橋材と反応させた架橋樹脂微粒子等が挙げられる。
一実施形態において、本発明の保護層転写シートは、基材の転写性保護層が設けられた面とは反対の面に、背面層を備える。保護層転写シートが背面層を備えることにより、転写時の加熱によるスティッキングやシワ等の発生を防止できる。また、本発明の保護層転写シートの耐ブロッキング性を向上できる
イソシアネート化合物としては、特に制限なく従来公知のイソシアネート化合物を使用できるが、その中でも、芳香族系イソシアネートのアダクト体を使用することが望ましい。芳香族系ポリイソシアネートとしては、2,4-トルエンジイソシアネート、2,6-トルエンジイソシアネート、又は、2,4-トルエンジイソシアネートと2,6-トルエンジイソシアネートの混合物、1,5-ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、p-フェニレンジイソシアネート、trans-シクロヘキサン-1,4-ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート及びトリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェートが挙げられる。
一実施形態において、本発明の保護層転写シートは、基材と転写性保護層との間に、離型層を備える。保護層転写シートが離型層を備えることにより、転写性保護層の転写性を向上できる。なお、離型層は、熱転写時に基材側に留まる層である。
厚さ4.5μmのPETフィルム一方の面に、下記の組成からなる背面層形成用塗工液を塗布、乾燥し、厚さ0.5μmの背面層を形成させた。
<背面層形成用塗工液>
・ポリビニルアセタール(PVA) 51.2質量部
(積水化学工業(株)製、エスレック(登録商標)KS-l)
・イソシアネート化合物 17.8質量部
(DIC(株)製、バーノック(登録商標)D750)
・シリコーン樹脂微粒子 1質量部
(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、トスパール(登録商標)240)
・ステアリルリン酸亜鉛 10質量部
(堺化学工業(株)製、LBT1830精製)
・ステアリン酸亜鉛 10質量部
(堺化学工業(株)製、SZ-PF)
・ポリエチレンワックス 10質量部
(東洋アドレ(株)製、ポリワックス3000)
・メチルエチルケトン(MEK) 200質量部
・トルエン 100質量部
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 12質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・ジルコニウム酸化物粒子 20質量部
(CIKナノテック(株)製、ZRMIBK15WT%-E41、平均粒径:20nm、固形分15%)
・MEK 68質量部
<プライマー層形成用塗工液>
・ポリビニルピロリドン(PVP) 3質量部
(アイエスピー・ジャパン(株)製、K-90)
・アルミナゾル 30質量部
(日産化学工業(株)製、アルミナゾル200、固形分10%)
・水 50質量部
・イソプロパノール(IPA) 17質量部
<接着層形成用塗工液>
・ポリエステル 20質量部
(東洋紡(株)製、バイロン(登録商標)200)
・紫外線吸収剤を反応結合した共重合体 10質量部
(BASFジャパン社製、UVA-635L)
・MEK 40質量部
・トルエン 40質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 11.3質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・ジルコニウム酸化物粒子 25質量部
(CIKナノテック(株)製、ZRMIBK15WT%-E41、平均粒径:20nm、固形分15%)
・MEK 63.8質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 10.5質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・ジルコニウム酸化物粒子 30質量部
(CIKナノテック(株)製、ZRMIBK15WT%-E41、平均粒径:20nm、固形分15%)
・MEK 59.5質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 7.5質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・ジルコニウム酸化物粒子 50質量部
(CIKナノテック(株)製、ZRMIBK15WT%-E41、平均粒径:20nm、固形分15%)
・MEK 42.5質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 4.5質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・ジルコニウム酸化物粒子 70質量部
(CIKナノテック(株)製、ZRMIBK15WT%-E41、平均粒径:20nm、固形分15%)
・MEK 25.5質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 1.5質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・ジルコニウム酸化物粒子 90質量部
(CIKナノテック(株)製、ZRMIBK15WT%-E41、平均粒径:20nm、固形分15%)
・MEK 8.5質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・ポリスチレン 10.5質量部
(DIC(株)製、ディックスチレン(登録商標)CR-3500)
・ジルコニウム酸化物粒子 30質量部
(CIKナノテック(株)製、ZRMIBK15WT%-E41、平均粒径:20nm、固形分15%)
・MEK 59.5質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 15質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・MEK 85質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・ポリスチレン 15質量部
(DIC(株)製、ディックスチレン(登録商標)CR-3500)
・MEK 85質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 0.8質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・ジルコニウム酸化物粒子 95質量部
(CIKナノテック(株)製、ZRMIBK15WT%-E41、平均粒径:20nm、固形分15%)
・MEK 4.2質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 13.5質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・ジルコニウム酸化物粒子 10質量部
(CIKナノテック(株)製、ZRMIBK15WT%-E41、平均粒径:20nm、固形分15%)
・MEK 76.5質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 10.5質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・ケイ素酸化物粒子 15質量部
(日産化学工業(株)製、MEK-ST-ZL、平均粒径:70~100nm、固形分30%)
・MEK 74.5質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 10.5質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・ケイ素酸化物粒子 11.3質量部
(日産化学工業(株)製、MEK-AC-2140Z、平均粒径:10~15nm、固形分40%)
・MEK 78.3質量部
剥離層形成用塗工液の組成を下記のように変更した以外は、実施例1と同様にして保護層転写シートを作製した。
<剥離層形成用塗工液>
・(メタ)アクリル樹脂 10.5質量部
(三菱ケミカル(株)製、ダイヤナール(登録商標)BR-87)
・ケイ素酸化物粒子 11.3質量部
(日産化学工業(株)製、MEK-AC-5140Z、平均粒径:70~100nm、固形分40%)
・MEK 78.3質量部
大日本印刷(株)製の熱転写受像シートが備える受容層上に、昇華型熱転写プリンタ(大日本印刷(株)製、DS620)及び当該プリンタの純正熱転写シート(大日本印刷(株)製)を用いて、黒ベタ画像(0/255画像階調)を印画した。
(評価基準)
A:画像濃度維持率が98%超であり、転写性保護層の高い透明性が確認できた。
B:画像濃度維持率が95%超、98%未満であり、転写性保護層の実用上問題無い程度の透明性が確認できた。
NG:画像濃度維持率が95%未満であり、転写性保護層の透明性が低く、実用上問題があった。
各実施例、比較例の印画物表面(剥離層表面)の光沢度を、JIS-Z-8741(1997年)に準拠し、Gloss Meter VG7000(日本電色工業(株)製)を用いて、反射角20°で測定し、表1にまとめた。
各実施例、比較例の印画物表面(剥離層表面)を、学振試験機(スガ試験機(株)製)にセットし、摩擦素材(カナキン3号)にて200gの荷重で10往復擦過した。擦過後、表面の状態を目視により確認し、下記評価基準により、印画物表面の耐擦過性を評価した。評価結果を表1にまとめた。
(評価基準)
A:表面にキズがなく、良好な耐擦過性を有していることが確認できた。
B:表面に多少のキズがついてはいたが、実用上問題ない程度の耐擦過性を確認できた。
C:表面にキズが多くついていた。
11:基材
12:転写性保護層
13:剥離層
14:接着層
15:プライマー層
16:背面層
Claims (5)
- 基材と、転写性保護層とを備える保護層転写シートであって、
前記転写性保護層が、ジルコニウム酸化物及び樹脂材料を含む剥離層を備え、
前記剥離層における前記ジルコニウム酸化物の含有量が、50質量%以上、92質量%以下であることを特徴とする、保護層転写シート。 - 前記剥離層が、樹脂材料として、(メタ)アクリル樹脂を少なくとも含む、請求項1に記載の保護層転写シート。
- 前記ジルコニウム酸化物が、平均粒径5nm以上、50nm以下の粒子である、請求項1又は2に記載の保護層転写シート。
- 前記転写性保護層が、前記剥離層上に、接着層をさらに備える、請求項1~3のいずれか一項に記載の保護層転写シート。
- 前記転写性保護層が、前記剥離層と、前記接着層との間に、プライマー層をさらに備える、請求項4に記載の保護層転写シート。
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