JP7017040B2 - 液体吐出ヘッド及びプリンター - Google Patents
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圧力室と、
前記圧力室の一壁を形成する振動板と、
前記振動板上に形成された第1電極、前記第1電極上に形成された鉛を含有する薄膜圧電体層、及び、前記薄膜圧電体層上に形成された第2電極を有する圧電素子と、
前記振動板と前記薄膜圧電体層との間に設けられた鉛拡散抑制層と、
を有し、
前記振動板の厚さ方向における前記薄膜圧電体層の輪郭は、前記振動板の厚さ方向における前記圧力室の輪郭よりも内側に配置される。
前記振動板は、第1層、並びに、前記第1層を挟む第2層及び第3層を含み、
前記第2層及び前記第3層は、同一組成であってもよい。
前記鉛拡散抑制層は、導電性を有し、前記第1電極と前記薄膜圧電体層との間に設けられてもよい。
前記鉛拡散抑制層は、前記振動板と前記第1電極との間に設けられてもよい。
前記薄膜圧電体層の厚さは、3μm以下であってもよい。
圧力室と、
前記圧力室の一壁を形成する振動板と、
前記振動板上に形成された第1電極、前記第1電極上に形成された鉛を含有する薄膜圧電体層、及び、前記薄膜圧電体層上に形成された第2電極を有する圧電素子と、
を有し、
前記振動板の厚さ方向における前記薄膜圧電体層の輪郭は、前記振動板の厚さ方向における前記圧力室の輪郭よりも内側に配置され、
前記第1電極は、鉛拡散抑制層として機能する。
本実施形態に係る液体吐出ヘッドについて、図面を参照しながら説明する。図1及び図2は、本実施形態に係る液体吐出ヘッド200の断面の模式図である。図3は、本実施形態に係る液体吐出ヘッド200を平面的に見た模式図である。図1及び図2は、それぞれ
図3のI-I線及びII-II線の断面に相当する。なお、図1~図3における各部材の大きさや厚さは、説明の便宜上一部誇張して描かれており、各部材の相対的な大きさや厚さも図示したものに限定されない。
ノズルプレート10は、図1、図2に示すように、平板状の形状を有する。ノズルプレート10は、圧力室基板20の下方に設けられる。ノズルプレート10は、圧力室基板20と一体であっても別体であってもよい。別体である場合にはノズルプレート10は、例えば接着剤や熱溶着フィルム等によって、圧力室基板20に接合される。ノズルプレート10は、圧力室21の一壁(下部壁)を構成し、圧力室21に対応した複数のノズル孔11を有する。
圧力室基板20は、圧力室21の側壁を形成できる形状に加工されている。圧力室基板20は、例えば、シリコン基板をエッチング加工して形成される。本実施形態では、図3に示すように圧力室21の端部には連通路22が形成されている。連通路22は、圧力室21の端部を狭窄することで、その流通断面積が小さくなるように形成されている。連通路22の長さや形状は、特に限定されない。
振動板30は、平板状の形状を有し、圧力室21の一壁(上部壁)を構成している。振動板30は、圧力室基板20の上方に設けられる。振動板30と圧力室基板20との間には他の層が設けられてもよい。また、振動板30は圧力室基板20の上端面に直接設けられてもよい。振動板30は、圧電素子40の動作により、撓んだり振動したりすることができる。
ら鉛拡散抑制層50までの間に存在する第1電極42以外の部材であって、圧電素子40の動作により撓んだり振動したりする部材の全体であると定義する。
圧電素子40は、振動板30の上方に設けられる。圧電素子40は、第1電極42と薄膜圧電体層44と第2電極46とを含む。圧電素子40は、圧電素子駆動回路(図示せず)に電気的に接続され、圧電素子駆動回路の信号に基づいて動作(振動、変形)することができる。圧電素子40の動作によって振動板30が撓み又は振動(変位)し、これによ
り圧力室21の容積及び内部の圧力を変化させることができる。
第1電極42は、振動板30の上方に形成される。第1電極42の平面的な形状は、薄膜圧電体層44の平面的な形状と一致していても一致していなくてもよい。第1電極42は、図1に示すように、圧電素子40の隣に同様の圧電素子40があるときに、圧電素子の第1電極42と共通の第1電極42となるように電気的に接続してもよく、この場合には、第1電極42は、複数の圧電素子40の共通電極となる。また、第1電極42は、圧電素子40毎に設けられる個別電極であってもよい。この場合には第2電極46を共通電極としてもよい。第1電極42は、図示せぬ外部回路と電気的に接続される。
薄膜圧電体層44は、第1電極42の上方に形成される。薄膜圧電体層44は、第1電極42及び第2電極46によって電界が印加されることで変形し、これにより振動板30を撓ませたり振動させたりする。
成等の任意の工程を複数回行って形成されてもよい。例えば、原料塗布、脱脂のサイクルを繰り返して行った後、焼成して形成されてもよい。薄膜圧電体層44がこのようにして形成された場合には、薄膜圧電体層44の厚さ方向で組成の周期的な揺らぎが形成されることがある。このような組成の揺らぎは、例えば、SIMS(二次イオン質量スペクトル)、(S)TEM-EDX((走査)透過型電子顕微鏡-エネルギー分散X線分光)等の手法により確認することができる。
第2電極46は、薄膜圧電体層44の上方に形成される。第2電極46は、第1電極42と対になり、圧電素子40の一方の電極として機能する。第2電極46の厚さは、特に限定されず、例えば10nm以上300nm以下とすることができる。第2電極46の材質は、導電性を有する物質である限り、特に限定されない。第2電極46の材質は、第1電極42と同様であるので、説明を省略する。また、第2電極46は、例示した材料の単層でもよいし、複数の材料を積層した構造であってもよい。
鉛拡散抑制層50は、振動板30と薄膜圧電体層44との間に設けられる。鉛拡散抑制層50は、圧電素子40を焼成する際に、薄膜圧電体層44に含まれる鉛が振動板30へと拡散することを抑制する機能を有する。
1.6.1.薄膜圧電体層及び圧力室
本実施形態の液体吐出ヘッド200では、図1~図3に示すように、上述の振動板30の厚さ方向における薄膜圧電体層44の輪郭が、振動板30の厚さ方向における圧力室21の輪郭よりも内側に配置される。換言すると、液体吐出ヘッド200を振動板30の厚さ方向に平行に投影した場合に、薄膜圧電体層44が、圧力室21の内側に存在する。
力室基板20に重ならない(構造的に薄膜圧電体層44と圧力室基板20とが接しない)ので、薄膜圧電体層44の変形が振動板30の変位に十分に貢献することができる。言い換えると、本実施形態の配置であれば、振動板30の変形が薄膜圧電体層44によって阻害されにくい。これにより、振動板30の変位量をより大きくすることができる。
本実施形態の液体吐出ヘッド200において、平面視における薄膜圧電体層44の輪郭が、平面視における鉛拡散抑制層50の輪郭と同じ又は内側に配置される。換言すると、液体吐出ヘッド200を振動板30の厚さ方向に平行に投影した場合に、薄膜圧電体層44が、鉛拡散抑制層50の内側に存在する。本実施形態の液体吐出ヘッド200において、鉛拡散抑制層50は、薄膜圧電体層44の鉛が振動板30に拡散することを抑制している。そのため、平面視における鉛拡散抑制層50の輪郭は、薄膜圧電体層44の輪郭と一致していてもよい。
鉛拡散抑制層50は、振動板30と薄膜圧電体層44との間に配置されれば、鉛の拡散を抑制する機能を発揮できるが、本項では第1電極42との位置関係等について述べる。
合、第1電極42が鉛拡散抑制層50として機能するとみなしてもよい。
鉛拡散抑制層50は、薄膜圧電体層44から振動板30に向かう方向で最初に現れる上記材質の層であると定義する。すなわち、振動板30に、鉛拡散抑制層50となり得る材質の層が存在する場合には、当該層は、鉛拡散抑制層50とはみなさず、振動板30を構成する層とみなすものとする。なお、振動板30が単層で構成され、該単層が鉛拡散抑制層50となり得る材質である場合には、該単層は、振動板30とみなしても、鉛拡散抑制層50とみなしてもよい。
図1~図3に示す本実施形態の液体吐出ヘッド200は、絶縁層60と、配線層70とを有している。配線層70は、第2電極46の引出配線である。絶縁層60は、配線層70を第1電極42と絶縁する機能を有している。
液体吐出ヘッド200の製造は、例えば次のように行うことができる。シリコン基板上に振動板30となる層、鉛拡散抑制層50となる層、第1電極42となる層、薄膜圧電体層44となる層、及び、第2電極46となる層を、CVD法、スパッタ法、真空蒸着法、ゾル・ゲル法等により形成する。これらの工程には適宜及び必要に応じてマスキング、パターニングの工程が含まれてもよい。なお、薄膜圧電体層44の焼成は、適宜のタイミングで行われることができる。また、ゾル・ゲル法においては、原料溶液塗布、予備加熱、結晶化アニールの一連の作業を数回繰り返して所望の膜厚にしてもよい。このようにしてシリコン基板上に振動板30、鉛拡散抑制層50、圧電素子40が所定の形状で形成された構造体を得ることができる。また、絶縁層60は、例えば、スピンオングラス(SOG)法、インクジェット法等により形成でき、必要に応じてパターニングすることができる。配線層70は、例えば、スパッタ法、真空蒸着、CVD法、無電解めっき法等の方法で形成し、パターニングを行って形成することができる。そして、シリコン基板を上記層が形成された面と反対側から適宜のマスクを用いてエッチングして、圧力室基板20を形成する。ノズルプレート10は、例えばステンレス板を切削し、ノズル孔11を所定の位置に穿孔して製造する。以上のように製造した振動板30、鉛拡散抑制層50、圧電素子40を含む圧力室基板20及びノズルプレート10を公知の位置合わせ手段などを用いて所定の位置に、必要に応じて接着剤などを使用して組み立てることにより、液体吐出ヘッド200が製造される。
本実施形態の液体吐出ヘッド200によれば、振動板30の厚さ方向における薄膜圧電体層44の輪郭が、振動板30の厚さ方向における圧力室21の輪郭よりも内側に配置されるように形成されているので、相対的に硬い薄膜圧電体層44による振動板30の変位の拘束が構造上抑えられる。そのため振動板30の変位量を大きくすることができる。また、鉛拡散抑制層50が振動板30と薄膜圧電体層44との間に設けられることにより、薄膜圧電体層44の焼成温度を高くしても、鉛が振動板30へ拡散することを抑制できる。これにより、圧電素子40の圧電特性を高くすることができ、振動板30の変位量を大きくすることができ、かつ、鉛による振動板30の脆化を抑制できるので振動板30を破損しにくくでき、信頼性を高めることができる。
次に、本実施形態に係るプリンターについて、図面を参照しながら説明する。図4は、本実施形態に係るプリンター300を模式的に示す斜視図である。
Claims (7)
- 圧力室と、
前記圧力室の一壁を形成する振動板と、
前記振動板上に形成された第1電極、前記第1電極上に形成された鉛を含有する薄膜圧電体層、及び、前記薄膜圧電体層上に形成された第2電極を有する圧電素子と、
前記振動板と前記薄膜圧電体層との間に設けられた鉛拡散抑制層と、
を有し、
前記振動板の厚さ方向における前記薄膜圧電体層の輪郭は、前記振動板の厚さ方向における前記圧力室の輪郭よりも内側に配置され、
前記振動板は、積層構造を有し、第1層、並びに、前記第1層を挟む第2層及び第3層を含み、
前記第2層及び前記第3層は、同一組成であり、
前記振動板の材質は、酸化ジルコニウム、窒化シリコン、酸化シリコン、タングステン、タンタル、及び、ステンレスから選択され、
前記鉛拡散抑制層の材質は、ZnO x 、AlO x 、HfO x 、TaO x 、VO x 、SrTaO x 、及び、LaTaO x から選択される、液体吐出ヘッド。 - 請求項1において、
前記振動板の厚さ方向における前記薄膜圧電体層の輪郭は、前記振動板の厚さ方向からの平面視における前記鉛拡散抑制層の輪郭と同じ又は内側に配置されている、液体吐出ヘッド。 - 請求項1又は請求項2において、
前記振動板の厚さ方向からの平面視において、前記第1電極の輪郭が前記薄膜圧電体層の輪郭よりも内側にあり、かつ、前記鉛拡散抑制層の輪郭は前記第1電極の輪郭よりも外側となり前記薄膜圧電体層の輪郭と同じかそれよりも大きくなるように配置されている、液体吐出ヘッド。 - 請求項1又は請求項3において、
前記鉛拡散抑制層は、導電性を有し、前記第1電極と前記薄膜圧電体層との間に設けられる、液体吐出ヘッド。 - 請求項1又は請求項3において、
前記鉛拡散抑制層は、前記振動板と前記第1電極との間に設けられる、液体吐出ヘッド。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか一項において、
前記薄膜圧電体層の厚さは、3μm以下である、液体吐出ヘッド。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか一項に記載の液体吐出ヘッドを含む、プリンター。
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JP2008254202A (ja) | 2007-03-30 | 2008-10-23 | Fujifilm Corp | 圧電アクチュエータの製造方法、圧電アクチュエータ、液体吐出ヘッド、及び画像形成装置 |
JP2014013842A (ja) | 2012-07-04 | 2014-01-23 | Ricoh Co Ltd | 圧電素子及びその製造方法、並びに液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
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