JP7015131B2 - Ring frame transport mechanism - Google Patents

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Description

本発明は、リングフレームを搬送するリングフレーム搬送機構に関する。 The present invention relates to a ring frame transport mechanism for transporting a ring frame.

ウエーハなどの被加工物を加工する加工装置においては、ウエーハをリングフレームに貼着されたテープに貼着することにより、リングフレームにウエーハが支持されたフレームユニットを形成し、フレームユニットの形態でリングフレーム搬送機構がリングフレームを吸引保持して保持テーブルに搬送している。保持テーブルでウエーハを保持したら、加工手段によってウエーハを加工している（例えば、下記の特許文献１を参照）。加工には、例えば切削ブレードでウエーハを切削する切削加工、レーザビームをウエーハに対して照射するレーザ加工、研削砥石でウエーハを研削する研削加工などがある。 In a processing device for processing a workpiece such as a wafer, the wafer is attached to a tape attached to the ring frame to form a frame unit in which the wafer is supported on the ring frame, and the wafer is formed in the form of a frame unit. The ring frame transport mechanism sucks and holds the ring frame and transports it to the holding table. After holding the wafer on the holding table, the wafer is processed by a processing means (see, for example, Patent Document 1 below). Processing includes, for example, cutting processing for cutting a wafer with a cutting blade, laser processing for irradiating a wafer with a laser beam, and grinding processing for grinding a wafer with a grinding wheel.

特開２０１４－２０４０２０号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-204020

被加工物の加工中にトラブルが発生したときには、作業者の安全を確保するために、加工装置の電源を遮断している。このとき、リングフレーム搬送機構に接続された吸引源への電力供給が途絶えてリングフレーム搬送機構からリングフレームが落下してしまうが、リングフレーム搬送機構が、例えばリングフレームを保持し続ける保持維持機構を備えている場合は、電源が遮断されたとしても、リングフレーム搬送機構からリングフレームが落下してウエーハを破損させることがない。 When a trouble occurs during the processing of the workpiece, the power supply of the processing equipment is cut off in order to ensure the safety of the operator. At this time, the power supply to the suction source connected to the ring frame transport mechanism is interrupted and the ring frame falls from the ring frame transport mechanism, but the ring frame transport mechanism keeps holding the ring frame, for example. Even if the power supply is cut off, the ring frame does not fall from the ring frame transport mechanism and damage the wafer.

その後、電源を投入し加工装置を稼働させる際には、リングフレーム搬送機構が保持しているリングフレームを取り外す必要があり、この取り外し作業には、少なくとも２人の作業者が必要である。すなわち、上記特許文献に示した加工装置においては、リングフレーム保持機構の吸引を解除する解除ボタンがタッチパネルに表示され、タッチパネルとリングフレーム保持機構とが遠い位置に配置されているため、１人がタッチパネルを操作してリングフレーム保持機構の吸引を解除する操作を行い、もう１人がリングフレーム保持機構の吸引が解除されて落下するリングフレームを受け取るようにしているため、作業効率が悪い。 After that, when the power is turned on and the processing apparatus is operated, it is necessary to remove the ring frame held by the ring frame transport mechanism, and at least two workers are required for this removal work. That is, in the processing apparatus shown in the above patent document, a release button for releasing the suction of the ring frame holding mechanism is displayed on the touch panel, and the touch panel and the ring frame holding mechanism are arranged at a distant position, so that one person can do so. The touch panel is operated to release the suction of the ring frame holding mechanism, and the other person receives the falling ring frame after the suction of the ring frame holding mechanism is released, so that the work efficiency is poor.

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、リングフレーム保持機構からリングフレームを容易に取り外しできるようにすることを目的としている。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to make it possible to easily remove the ring frame from the ring frame holding mechanism.

本発明は、リングフレームの一方の面を吸引保持する少なくとも３つの吸盤を備えたリングフレーム搬送機構であって、該吸盤を吸引源に連通させる吸引路と、該吸盤の近傍に配設され該吸引路を大気解放させる開放バルブ、該開放バルブを操作する操作手段と、を備え、該操作手段は、該吸盤が配設されたプレートの面方向に該プレートの中心を軸に該プレートを回転移動または面方向にスライド移動させる移動機構と、該プレートの原点位置を位置決めするストッパと、該プレートを原点位置に向かって付勢するバネと、該プレートを該原点位置から遠ざかる方向に移動させたときに該開放バルブを操作し該吸引路を大気開放する操作部と、を備え、該吸盤が該リングフレームを吸引保持した状態で該操作部により操作した該開放バルブにより該吸引路を大気開放させ、該吸盤から該リングフレームを取り外すことを可能にする。 The present invention is a ring frame transport mechanism provided with at least three suction cups for sucking and holding one surface of the ring frame, the suction path for communicating the suction cups with a suction source, and the suction cups arranged in the vicinity of the suction cups. It is provided with an opening valve that opens the suction path to the atmosphere and an operating means for operating the opening valve, and the operating means rotates the plate around the center of the plate in the plane direction of the plate on which the suction cup is arranged. A moving mechanism that moves or slides in the plane direction, a stopper that positions the origin position of the plate, a spring that urges the plate toward the origin position, and a plate that moves away from the origin position. Occasionally , an operation unit that operates the release valve to open the suction path to the atmosphere is provided, and the suction path is opened to the atmosphere by the release valve operated by the operation unit while the suction cup sucks and holds the ring frame. It allows the ring frame to be removed from the suction cup.

また、上記吸引源は、バキュームポンプであって、該バキュームポンプの動力源が遮断されたら上記吸引路を密閉して負圧を維持させるために上記開放バルブと該吸引源との間の該吸引路に保持維持バルブを備え、上記吸盤が上記リングフレームを吸引保持した状態で該開放バルブにより該吸引路を大気開放させ、該吸盤から該リングフレームを取り外すことを可能にする。 Further, the suction source is a vacuum pump, and when the power source of the vacuum pump is shut off, the suction path is sealed and the suction between the open valve and the suction source is maintained in order to maintain a negative pressure. A holding / maintaining valve is provided on the path, and the suction path is opened to the atmosphere by the opening valve while the suction cup sucks and holds the ring frame, so that the ring frame can be removed from the suction cup.

本発明に係るリングフレーム搬送機構は、吸盤を吸引源に連通させる吸引路と、吸盤の近傍に配設され吸引路を大気解放させる開放バルブとを備え、吸盤がリングフレームを吸引保持した状態で開放バルブにより吸引路を大気開放させ、吸盤からリングフレームを取り外すことを可能にしたため、リングフレームの取り外し作業を容易に行うことができる。 The ring frame transport mechanism according to the present invention includes a suction path for communicating the suction cup to the suction source and an open valve arranged in the vicinity of the suction cup to open the suction path to the atmosphere, with the suction cup sucking and holding the ring frame. Since the suction path is opened to the atmosphere by the open valve and the ring frame can be removed from the suction cup, the ring frame can be easily removed.

また、上記吸引源は、バキュームポンプであって、バキュームポンプの動力源が遮断されたら上記吸引路を密閉して負圧を維持させるために上記開放バルブと吸引源との間の吸引路に保持維持バルブを備えたため、動力源から吸引源への電力供給が途絶えたとしても、吸盤でリングフレームを吸引保持した状態を維持できる。また、上記同様に、開放バルブを大気開放すれば、吸盤からリングフレームを容易に取り外すことができる。 Further, the suction source is a vacuum pump, and when the power source of the vacuum pump is shut off, the suction path is sealed and held in the suction path between the open valve and the suction source in order to maintain a negative pressure. Since it is equipped with a maintenance valve, even if the power supply from the power source to the suction source is interrupted, the ring frame can be maintained in a suction-held state with a suction cup. Further, similarly to the above, if the release valve is opened to the atmosphere, the ring frame can be easily removed from the suction cup.

さらに、本発明は、上記開放バルブを操作する操作手段を備え、操作手段は、上記吸盤が配設されたプレートの面方向にプレートの中心を軸にプレートを回転移動または面方向にスライド移動させる移動機構と、プレートの原点位置を位置決めするストッパと、プレートを原点位置に向かって付勢するバネと、プレートを原点位置から遠ざかる方向に移動させたときに開放バルブを操作し上記吸引路を大気開放する操作部とを備えたため、吸盤が吸引保持した状態のリングフレームを例えば作業者が把持して、回転移動または水平移動させるだけで、開放バルブを開いて吸引路を大気開放させることが可能となり、リングフレームを容易に取り外すことができる。したがって、本発明によれば、例えば、リングフレーム搬送機構を備える加工装置において、リングフレームを吸引保持した状態のリングフレーム搬送機構からリングフレームを取り外す際には、１人の作業者でリングフレームの取り外し作業を行うことができるため、作業効率が向上する。 Further, the present invention includes an operating means for operating the opening valve, and the operating means rotates or slides the plate around the center of the plate in the plane direction of the plate on which the suction cup is arranged. The movement mechanism, the stopper that positions the origin position of the plate, the spring that urges the plate toward the origin position, and the opening valve when the plate is moved away from the origin position are operated to make the suction path atmospheric. Since it is equipped with an operation unit that opens, it is possible to open the release valve and open the suction path to the atmosphere simply by the operator grasping the ring frame in the state where the suction cup is sucked and held, and rotating or moving it horizontally. The ring frame can be easily removed. Therefore, according to the present invention, for example, in a processing apparatus provided with a ring frame transport mechanism, when the ring frame is removed from the ring frame transport mechanism in a state where the ring frame is sucked and held, one operator is required to perform the ring frame. Since the removal work can be performed, the work efficiency is improved.

リングフレーム搬送機構の第１例によってリングフレームを搬送する状態を 示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which transports a ring frame by 1st example of a ring frame transport mechanism. 第１例によるリングフレームの搬送中に不具合が発生した場合を示す断面図 である。It is sectional drawing which shows the case where the trouble occurred while transporting a ring frame by 1st example. 第１例からリングフレームを取り外す状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which removes a ring frame from 1st example. リングフレーム搬送機構の第２例によってリングフレームを搬送する状態を 示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which the ring frame is conveyed by the 2nd example of a ring frame transfer mechanism. 第２例によるリングフレームの搬送中に電源が遮断された場合を示す断面図 である。It is sectional drawing which shows the case where the power supply was cut off during the transport of the ring frame by the 2nd example. 第２例からリングフレームを取り外す状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which removes the ring frame from the 2nd example. リングフレーム搬送機構の第３例の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the 3rd example of a ring frame transfer mechanism. リングフレーム搬送機構の第３例の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the 3rd example of a ring frame transfer mechanism. リングフレームを回転させて第３例からリングフレームを取り外す状態を示 す平面図である。It is a top view which shows the state which the ring frame is rotated and the ring frame is removed from the 3rd example. リングフレーム搬送機構の第４例の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the 4th example of a ring frame transfer mechanism. リングフレーム搬送機構を備える加工装置の一例の構成を示す斜視図であ る。It is a perspective view which shows the structure of an example of a processing apparatus provided with a ring frame transfer mechanism.

図１に示すリングフレーム搬送機構１０は、中央に開口を有するリングフレームＦを搬送するリングフレーム搬送機構の第１例であって、プレート１１と、プレート１１の中央に連結されたシャフト１２と、プレート１１の下端隅部に配設されリングフレームＦの一方の面を吸引保持する少なくとも３つの吸盤１３（２つのみ図示）と、吸盤１３を吸引源１に連通させる吸引路１４と、吸盤１３の近傍に配設され吸引路１４を大気開放させる開放バルブ１５とを備えている。 The ring frame transport mechanism 10 shown in FIG. 1 is a first example of a ring frame transport mechanism that transports a ring frame F having an opening in the center, and includes a plate 11, a shaft 12 connected to the center of the plate 11, and a shaft 12. At least three suction cups 13 (only two are shown) arranged at the lower end corner of the plate 11 to suck and hold one surface of the ring frame F, a suction path 14 for communicating the suction cups 13 to the suction source 1, and a suction cup 13. It is provided with an opening valve 15 which is arranged in the vicinity of the above and opens the suction path 14 to the atmosphere.

吸引源１は、例えば、バキュームポンプで構成してもよいし、エジェクタで構成してもよい。また、吸引源１は、バキュームポンプとエジェクタとを併用した構成でもよい。吸引源１には、動力源となる電源２が接続されている。リングフレーム搬送機構１０には、図示していないが、リングフレームＦを吸引保持した状態で水平方向に移動する移動手段と鉛直方向に昇降する昇降手段とが接続されている。 The suction source 1 may be configured by, for example, a vacuum pump or an ejector. Further, the suction source 1 may be configured by using a vacuum pump and an ejector in combination. A power source 2 serving as a power source is connected to the suction source 1. Although not shown, the ring frame transport mechanism 10 is connected to a moving means that moves horizontally while the ring frame F is sucked and held, and a raising / lowering means that moves up and down in the vertical direction.

開放バルブ１５は、例えば逃がし弁であり、吸引路１４において吸盤１３の近傍の位置に配設されている。図示の例における開放バルブ１５は、ポートを切り替えるためのローラ１５０を備えている。開放バルブ１５では、ローラ１５０に外力が作用していないときは開放バルブ１５で吸引路１４を密閉させることができ、ローラ１５０に外力が作用することにより開放バルブ１５が開き吸引路１４を大気開放させることができる。リングフレーム搬送機構１０は、例えば、切削装置、レーザ加工装置、研削装置等の加工装置に搭載される。 The release valve 15 is, for example, a relief valve, and is arranged at a position in the vicinity of the suction cup 13 in the suction path 14. The release valve 15 in the illustrated example includes a roller 150 for switching ports. In the opening valve 15, when an external force is not acting on the roller 150, the suction path 14 can be sealed by the opening valve 15, and when the external force acts on the roller 150, the opening valve 15 opens and the suction path 14 is opened to the atmosphere. Can be made to. The ring frame transfer mechanism 10 is mounted on a processing device such as a cutting device, a laser processing device, or a grinding device, for example.

次に、リングフレーム搬送機構１０の動作例について説明する。ウエーハＷは、被加工物の一例である。リングフレーム搬送機構１０が稼働する際には、予めリングフレームＦの開口を塞いで貼着され開口から露出したテープＴにウエーハＷが貼着され、ウエーハＷがリングフレームＦと一体となって支持されたフレームユニットが形成される。なお、リングフレーム搬送機構１０は、リングフレームＦ単体を搬送することもできるが、本実施形態では、フレームユニットの形態でリングフレームＦを搬送するものとする。 Next, an operation example of the ring frame transport mechanism 10 will be described. The wafer W is an example of a workpiece. When the ring frame transport mechanism 10 operates, the wafer W is attached to the tape T which is previously attached by closing the opening of the ring frame F and exposed from the opening, and the wafer W is integrally supported with the ring frame F. The frame unit is formed. The ring frame transport mechanism 10 can transport the ring frame F alone, but in the present embodiment, the ring frame F is conveyed in the form of a frame unit.

図１に示すように、リングフレーム搬送機構１０を用いてリングフレームＦを搬送する場合は、電源２を投入し吸引源１を作動させるとともに、吸盤１３と吸引源１とを連通させて吸引路１４内を負圧にさせる。吸引作用が発揮した吸盤１３でリングフレームＦの一方の面を吸引保持したら、図示しない昇降手段及び移動手段によって、リングフレーム搬送機構１０を移動させて所定の搬送先にリングフレームＦを搬送する。 As shown in FIG. 1, when the ring frame F is transported by using the ring frame transport mechanism 10, the power supply 2 is turned on to operate the suction source 1, and the suction cup 13 and the suction source 1 are communicated with each other to communicate with the suction path. The inside of 14 is made to have a negative pressure. After sucking and holding one surface of the ring frame F with the suction cup 13 exhibiting the suction action, the ring frame transport mechanism 10 is moved by an elevating means and a moving means (not shown) to transport the ring frame F to a predetermined transport destination.

ここで、リングフレーム搬送機構１０によるリングフレームＦの搬送中に、加工装置等に不具合が発生した場合でも吸盤１３の吸引は解除されない。例えば、図２に示すように、吸盤１３がリングフレームＦを吸引保持した状態で、加工装置等に不具合が発生しても、開放バルブ１５によって吸引路１４が密閉されている。そのため、吸盤１３に作用する吸引力が維持される。加工装置等の不具合としては、例えば、切削装置において切削ブレードが破損した場合や、切削ブレードを回転させるスピンドルの負荷（電流値）が急上昇するなどの異常が発生した場合などが挙げられ、特にリングフレーム搬送機構１０とは関連しない異常が生じた場合が想定される。図示の例では、電源２が遮断されていないものとする。このように、リングフレーム搬送機構１０では、上記不具合が生じても、吸盤１３の吸引が解除されないため、リングフレームＦが落下するのを防ぐことができる。 Here, even if a problem occurs in the processing device or the like during the transfer of the ring frame F by the ring frame transfer mechanism 10, the suction of the suction cup 13 is not released. For example, as shown in FIG. 2, even if a malfunction occurs in the processing device or the like while the suction cup 13 sucks and holds the ring frame F, the suction path 14 is sealed by the open valve 15. Therefore, the suction force acting on the suction cup 13 is maintained. Problems with the processing equipment include, for example, the case where the cutting blade is damaged in the cutting equipment, or the case where an abnormality such as a sudden rise in the load (current value) of the spindle that rotates the cutting blade occurs, and in particular, the ring. It is assumed that an abnormality not related to the frame transport mechanism 10 occurs. In the illustrated example, it is assumed that the power supply 2 is not shut off. As described above, in the ring frame transport mechanism 10, even if the above-mentioned trouble occurs, the suction of the suction cup 13 is not released, so that the ring frame F can be prevented from falling.

電源２を遮断せずに吸引源１を作動させたまま、リングフレーム搬送機構１０の吸盤１３からリングフレームＦを取り外す場合は、図３に示すように、ローラ１５０に外力を付与して開放バルブ１５を開くことにより、負圧が発生している吸引路１４を大気開放させる。開放バルブ１５が吸盤１３の近傍に配設されているため、吸盤１３側の吸引路１４の真空破壊と吸引源１側の吸引路１４の大気開放とを速やかに実施して吸盤１３の吸引を効率よく解除することができる。そして、吸盤１３の吸引を解除したら、吸盤１３からリングフレームＦを取り外すことができる。かかる取り外し作業は、装置によって自動で行ってもよいし、作業者によって手動で行ってもよい。 When the ring frame F is removed from the suction cup 13 of the ring frame transport mechanism 10 while the suction source 1 is operated without shutting off the power supply 2, an external force is applied to the roller 150 to open the valve as shown in FIG. By opening 15, the suction path 14 in which the negative pressure is generated is opened to the atmosphere. Since the release valve 15 is arranged in the vicinity of the suction cup 13, the suction path 14 on the suction cup 13 side is evacuated and the suction path 14 on the suction source 1 side is opened to the atmosphere promptly to suck the suction cup 13. It can be released efficiently. Then, after the suction of the suction cup 13 is released, the ring frame F can be removed from the suction cup 13. Such removal work may be performed automatically by an apparatus or manually by an operator.

このように、本発明に係るリングフレーム搬送機構１０は、吸盤１３を吸引源１に連通させる吸引路１４と、吸盤１３の近傍に配設され吸引路１４を大気解放させる開放バルブ１５とを備え、吸盤１３がリングフレームＦを吸引保持した状態で開放バルブ１５により吸引路１４を大気開放させ、吸盤１３からリングフレームＦを取り外すことを可能にしたため、リングフレームＦの取り外し作業を容易に行うことができる。 As described above, the ring frame transport mechanism 10 according to the present invention includes a suction path 14 for communicating the suction cup 13 with the suction source 1, and an open valve 15 disposed in the vicinity of the suction cup 13 for releasing the suction path 14 to the atmosphere. In the state where the suction cup 13 sucks and holds the ring frame F, the suction path 14 is opened to the atmosphere by the opening valve 15 so that the ring frame F can be removed from the suction cup 13, so that the ring frame F can be easily removed. Can be done.

図４に示すリングフレーム搬送機構１０Ａは、リングフレーム搬送機構の第２例である。第２例における吸引源１ａは、例えばバキュームポンプにより構成されている。吸引源１ａには、動力源となる電源２ａが接続されている。電源２ａには、電源２ａが遮断されたどうかを検知する動力源遮断検知部３が接続されている。リングフレーム搬送機構１０Ａにおいて第１例と同様の構成部分については、共通の符号を付している。 The ring frame transfer mechanism 10A shown in FIG. 4 is a second example of the ring frame transfer mechanism. The suction source 1a in the second example is configured by, for example, a vacuum pump. A power source 2a, which is a power source, is connected to the suction source 1a. A power source cutoff detecting unit 3 for detecting whether or not the power source 2a is cut off is connected to the power source 2a. In the ring frame transport mechanism 10A, the same components as in the first example are designated by a common reference numeral.

リングフレーム搬送機構１０Ａは、吸引源１ａの電源２ａが遮断されたら吸引路１４を密閉して負圧を維持させるために開放バルブ１５と吸引源１ａとの間の吸引路１４に保持維持バルブ１６を備えている。保持維持バルブ１６は、例えば、開閉のみを行う切り替えバルブである。保持維持バルブ１６には、動力源遮断検知部３が接続されている。リングフレーム搬送機構１０Ａでは、動力源遮断検知部３により電源２ａが遮断されていると検知されると、保持維持バルブ１６が閉じて吸引路１４を密閉して吸引路１４内の負圧を維持させることができる。 The ring frame transfer mechanism 10A holds and maintains the valve 16 in the suction path 14 between the open valve 15 and the suction source 1a in order to seal the suction path 14 and maintain the negative pressure when the power supply 2a of the suction source 1a is shut off. It is equipped with. The holding / maintaining valve 16 is, for example, a switching valve that only opens and closes. A power source cutoff detection unit 3 is connected to the holding / maintaining valve 16. In the ring frame transfer mechanism 10A, when the power source cutoff detection unit 3 detects that the power source 2a is cut off, the holding / maintaining valve 16 closes and the suction path 14 is sealed to maintain the negative pressure in the suction path 14. Can be made to.

次に、リングフレーム搬送機構１０Ａの動作例について説明する。図４に示すように、リングフレーム搬送機構１０Ａを用いてリングフレームＦを搬送する場合は、第１例と同様に、電源２ａを投入し吸引源１ａを作動させるとともに、吸盤１３と吸引源１ａとを連通させて吸引路１４内を負圧にさせる。電源２ａの投入中は、保持維持バルブ１６は常に開いており、吸引路１４を通じて吸盤１３と吸引源１ａとを連通させている。吸引作用が発揮した吸盤１３でリングフレームＦの一方の面を吸引保持したら、図示しない昇降手段及び移動手段によって、リングフレーム搬送機構１０Ａを移動させて所定の搬送先にリングフレームＦを搬送する。 Next, an operation example of the ring frame transport mechanism 10A will be described. As shown in FIG. 4, when the ring frame F is conveyed using the ring frame transfer mechanism 10A, the power supply 2a is turned on to operate the suction source 1a, and the suction cup 13 and the suction source 1a are operated as in the first example. And are made to communicate with each other to create a negative pressure in the suction path 14. While the power supply 2a is turned on, the holding / maintaining valve 16 is always open, and the suction cup 13 and the suction source 1a are communicated with each other through the suction path 14. After sucking and holding one surface of the ring frame F with the suction cup 13 exhibiting the suction action, the ring frame transport mechanism 10A is moved by an elevating means and a moving means (not shown) to transport the ring frame F to a predetermined transport destination.

ここで、リングフレーム搬送機構１０ＡによるリングフレームＦの搬送中に、動力源遮断検知部３により電源２ａが遮断されていると検知した場合、吸引源１ａへの電力供給が途絶えるため、図５に示すように、保持維持バルブ１６が閉じて吸引路１４を密閉し吸引路１４内の負圧を維持させ、吸盤１３でリングフレームＦを吸引保持した状態が維持される。このように、リングフレーム搬送機構１０Ａでは、電源２ａが遮断されても、吸盤１３の吸引が解除されないため、リングフレームＦが落下するのを防ぐことができる。 Here, if it is detected by the power source cutoff detection unit 3 that the power source 2a is cut off during the transfer of the ring frame F by the ring frame transfer mechanism 10A, the power supply to the suction source 1a is cut off. As shown, the holding / maintaining valve 16 is closed to seal the suction path 14 to maintain the negative pressure in the suction path 14, and the suction cup 13 maintains the state in which the ring frame F is suction-held. As described above, in the ring frame transport mechanism 10A, even if the power supply 2a is cut off, the suction of the suction cup 13 is not released, so that the ring frame F can be prevented from falling.

リングフレーム搬送機構１０Ａの吸盤１３からリングフレームＦを取り外す場合は、図６に示すように、第１例と同様に、ローラ１５０に外力を付与して開放バルブ１５を開くことにより、負圧が発生している吸引路１４を大気開放させる。吸盤１３の吸引を解除したら、吸盤１３からリングフレームＦを取り外すことができる。図６の例では、電源２ａが遮断され保持維持バルブ１６が閉じた状態でリングフレームＦの取り外しが行われているが、この場合に限られず、電源２ａの投入中においても開放バルブ１５を開けばリングフレームＦを吸盤１３から取り外すことができる。かかる取り外し作業は、装置によって自動で行ってもよいし、作業者によって手動で行ってもよい。 When the ring frame F is removed from the suction cup 13 of the ring frame transfer mechanism 10A, as shown in FIG. 6, a negative pressure is applied by applying an external force to the roller 150 to open the release valve 15 as in the first example. The generated suction path 14 is opened to the atmosphere. After releasing the suction of the suction cup 13, the ring frame F can be removed from the suction cup 13. In the example of FIG. 6, the ring frame F is removed in a state where the power supply 2a is shut off and the holding / maintaining valve 16 is closed. The valve frame F can be removed from the suction cup 13. Such removal work may be performed automatically by an apparatus or manually by an operator.

このように、本発明に係るリングフレーム搬送機構１０Ａは、吸引源１ａの電源２ａが遮断されたら吸引路１４を密閉して負圧を維持させるために開放バルブ１５と吸引源１ａとの間の吸引路１４に保持維持バルブ１６を備えたため、電源２ａから吸引源１ａへの電力供給が途絶えたとしても、吸盤１３でリングフレームＦを吸引保持した状態を維持できる。また、第１例と同様に、開放バルブ１５を大気開放すれば、吸盤１３からリングフレームＦを容易に取り外すことができる。 As described above, in the ring frame transport mechanism 10A according to the present invention, when the power supply 2a of the suction source 1a is shut off, the suction path 14 is sealed and the negative pressure is maintained between the opening valve 15 and the suction source 1a. Since the suction path 14 is provided with the holding / maintaining valve 16, even if the power supply from the power supply 2a to the suction source 1a is interrupted, the suction cup 13 can maintain the state in which the ring frame F is sucked and held. Further, as in the first example, if the opening valve 15 is opened to the atmosphere, the ring frame F can be easily removed from the suction cup 13.

図７に示すリングフレーム搬送機構１０Ｂは、リングフレーム搬送機構の第３例である。リングフレーム搬送機構１０Ｂは、略Ｈ形状のプレート１１ａと、プレート１１ａの中央に連結され８シャフト１２と、プレート１１ａの下端隅部に配設されリングフレームＦの一方の面を吸引保持する少なくとも３つの吸盤１３と、吸盤１３を吸引源１に連通させる吸引路１４と、吸盤１３の近傍に配設され吸引路１４を大気開放させる開放バルブ１７と、吸盤１３と開放バルブ１７との間の吸引路１４に配設された継手１８と、シャフト１２を支持する図８に示すアーム１９と、開放バルブ１７を操作する操作手段２０とを備えている。第３例の吸盤１３は、プレート１１ａの下端隅部に４つ取り付けられているが、少なくとも３つあればよい。リングフレーム搬送機構１０Ｂには、リングフレームＦを吸引保持した状態で水平方向に移動する移動手段４４と鉛直方向に昇降する昇降手段４５とが接続されている。 The ring frame transfer mechanism 10B shown in FIG. 7 is a third example of the ring frame transfer mechanism. The ring frame transport mechanism 10B has a substantially H-shaped plate 11a, an 8 shaft 12 connected to the center of the plate 11a, and at least 3 disposed at the lower end corner of the plate 11a to suck and hold one surface of the ring frame F. Two suction cups 13, a suction path 14 that connects the suction cup 13 to the suction source 1, an open valve 17 that is arranged near the suction cup 13 and opens the suction path 14 to the atmosphere, and suction between the suction cup 13 and the open valve 17. It includes a joint 18 arranged on the road 14, an arm 19 shown in FIG. 8 that supports the shaft 12, and an operating means 20 for operating the release valve 17. Four suction cups 13 of the third example are attached to the lower end corner of the plate 11a, but at least three suction cups 13 may be attached. The ring frame transport mechanism 10B is connected to a moving means 44 that moves horizontally while the ring frame F is sucked and held, and an elevating means 45 that moves up and down in the vertical direction.

操作手段２０は、吸盤１３が配設されたプレート１１ａの面方向にプレート１１ａの中心のシャフト１２を軸にしてプレート１１ａを回転移動させる移動機構２１と、プレート１１ａの原点位置を位置決めするストッパ２２と、プレート１１ａを原点位置に向かって付勢するバネ２３と、プレート１１ａを原点位置から遠ざかる方向に移動させたときに開放バルブ１７を操作し吸引路１４を大気開放する操作部２６とを備えている。 The operating means 20 includes a moving mechanism 21 that rotates and moves the plate 11a around the shaft 12 at the center of the plate 11a in the plane direction of the plate 11a on which the suction plate 13 is arranged, and a stopper 22 that positions the origin position of the plate 11a. A spring 23 that urges the plate 11a toward the origin position, and an operation unit 26 that operates the release valve 17 to open the suction path 14 to the atmosphere when the plate 11a is moved away from the origin position. ing.

第３例における開放バルブ１７は、シャフト１２の側面から水平方向（図示の例では＋Ｘ方向側）に突出しているバー２７ａの上に取り付けられており、ポートを切り替えるプッシュボタン１７０を備えている。操作部２６は、プッシュボタン１７０を押すための部材であり、例えばバー状に形成されプレート１１ａの上に立設されている。操作部２６の高さ位置と開放バルブ１７のプッシュボタン１７０の高さ位置とが一致している。開放バルブ１７では、操作部２６によりプッシュボタン１７０が押されていないときは開放バルブ１７が閉じて吸引路１４を密閉させることができ、操作部２６によりプッシュボタン１７０が押されることにより開放バルブ１７が開き吸引路１４を大気開放させることができる。 The release valve 17 in the third example is mounted on a bar 27a projecting horizontally (+ X direction side in the illustrated example) from the side surface of the shaft 12, and includes a push button 170 for switching ports. The operation unit 26 is a member for pushing the push button 170, and is formed in a bar shape, for example, and is erected on the plate 11a. The height position of the operation unit 26 and the height position of the push button 170 of the release valve 17 match. In the release valve 17, when the push button 170 is not pressed by the operation unit 26, the release valve 17 can be closed to seal the suction path 14, and when the push button 170 is pressed by the operation unit 26, the release valve 17 can be closed. Can be opened and the suction path 14 can be opened to the atmosphere.

バー２７ａと反対側のシャフト１２の側面から水平方向（図示の例では－Ｘ方向側）にバー２７ｂが突出して取り付けられている。ストッパ２２は、バー２７ｂの側方に接触するようにプレート１１ａの上に配設されている。バー２７ｂの側面がストッパ２２に当接することによりプレート１１ａの原点位置が位置決めされる。 The bar 27b is attached so as to project from the side surface of the shaft 12 on the opposite side of the bar 27a in the horizontal direction (-X direction side in the illustrated example). The stopper 22 is arranged on the plate 11a so as to come into contact with the side of the bar 27b. The origin position of the plate 11a is positioned by the side surface of the bar 27b coming into contact with the stopper 22.

移動機構２１は、回転機構であり、シャフト１２を囲繞するベアリング２１０とシャフト１２とベアリング２１０との間に転動可能に配設された図示しない複数の転動体とを少なくとも備えている。移動機構２１では、吸盤１３でリングフレームＦを吸引保持した状態でリングフレームＦを回転移動させることにより、リングフレームＦの回転にともなってベアリング２１０がシャフト１２を中心として回転してプレート１１ａを原点位置から遠ざかる方向に移動させることができる。 The moving mechanism 21 is a rotating mechanism and includes at least a bearing 210 surrounding the shaft 12 and a plurality of rolling elements (not shown) rotatably arranged between the shaft 12 and the bearing 210. In the moving mechanism 21, the ring frame F is rotationally moved while the suction cup 13 sucks and holds the ring frame F, so that the bearing 210 rotates around the shaft 12 as the ring frame F rotates, and the plate 11a is the origin. It can be moved away from the position.

バネ２３は、例えば引きバネからなり、両端にフック２４ａ，２４ｂをそれぞれ有している。プレート１１ａの上面には、バー２７ｂから例えば－Ｙ方向側に所定距離離間した位置に突起部２５が配設され、バー２７ｂの上面には突起部２５と対向する位置に突起部２８が配設されている。バネ２３のフック２４ａが突起部２５に引っ掛けられるとともに、バネ２３のフック２４ｂが突起部２８に引っ掛けられプレート１１ａを原点位置に向かって付勢している。このように、第３例では、吸盤１３で吸引保持した状態のリングフレームＦを作業者が回転移動させてプレート１１ａを原点位置から遠ざかる方向に移動させた状態から、リングフレームＦを離すと、バネ２３の復元力によってプレート１１ａが原点位置に向かって戻るように構成されている。 The spring 23 is composed of, for example, a pull spring, and has hooks 24a and 24b at both ends, respectively. A protrusion 25 is arranged on the upper surface of the plate 11a at a position separated from the bar 27b by a predetermined distance, for example, in the −Y direction, and a protrusion 28 is arranged on the upper surface of the bar 27b at a position facing the protrusion 25. Has been done. The hook 24a of the spring 23 is hooked on the protrusion 25, and the hook 24b of the spring 23 is hooked on the protrusion 28 to urge the plate 11a toward the origin position. As described above, in the third example, when the ring frame F is separated from the state in which the operator rotates and moves the ring frame F in the state of being sucked and held by the suction cup 13 to move the plate 11a in the direction away from the origin position. The plate 11a is configured to return toward the origin position by the restoring force of the spring 23.

次に、リングフレーム搬送機構１０Ｂの動作例について説明する。リングフレーム搬送機構１０Ｂを用いてリングフレームＦを搬送する動作は、上記第１例と同様である。すなわち、電源２を投入し吸引源１を作動させて吸引路１４内を負圧にさせて吸盤１３でリングフレームＦの一方の面を吸引保持し、図８に示す昇降手段４５及び移動手段４４によって、リングフレーム搬送機構１０Ｂを移動させて所定の搬送先にリングフレームＦを搬送すればよい。 Next, an operation example of the ring frame transport mechanism 10B will be described. The operation of transporting the ring frame F using the ring frame transport mechanism 10B is the same as that of the first example. That is, the power supply 2 is turned on to operate the suction source 1 to make the suction path 14 have a negative pressure, and the suction cup 13 sucks and holds one surface of the ring frame F, and the elevating means 45 and the moving means 44 shown in FIG. The ring frame transport mechanism 10B may be moved to transport the ring frame F to a predetermined transport destination.

図９に示すように、リングフレーム搬送機構１０ＢでリングフレームＦを吸引保持しているときに、吸盤１３からリングフレームＦを取り外す場合は、作業者の手でリングフレームＦを把持して、例えばＲ方向に回転移動させることにより、プレート１１ａを原点位置から遠ざかる方向に移動させ、操作部２６で開放バルブ１７のプッシュボタン１７０を押す。その結果、開放バルブ１７が開いて吸引路１４が大気開放するため、吸盤１３からリングフレームＦを取り外すことが可能となる。 As shown in FIG. 9, when the ring frame F is sucked and held by the ring frame transport mechanism 10B and the ring frame F is removed from the suction cup 13, the ring frame F is grasped by an operator's hand, for example. By rotating and moving in the R direction, the plate 11a is moved in a direction away from the origin position, and the push button 170 of the release valve 17 is pushed by the operation unit 26. As a result, the opening valve 17 opens and the suction path 14 opens to the atmosphere, so that the ring frame F can be removed from the suction cup 13.

このように、本発明に係るリングフレーム搬送機構１０Ｂは、開放バルブ１７を操作する操作手段２０を備え、操作手段２０は、吸盤１３が配設されたプレート１１ａの面方向にプレート１１ａの中心を軸にプレート１１ａを回転移動させる移動機構２１と、プレート１１ａの原点位置を位置決めするストッパ２２と、プレート１１ａを原点位置に向かって付勢するバネ２３と、プレート１１ａを原点位置から遠ざかる方向に移動させたときに開放バルブ１７を操作し吸引路１４を大気開放する操作部２６とを備えたため、吸盤１３が吸引保持した状態のリングフレームＦを作業者が把持して回転移動させるだけで、開放バルブ１７を開いて吸引路１４を大気開放させることができ、リングフレーム搬送機構１０Ｂから容易にリングフレームＦを取り外すことができる。 As described above, the ring frame transport mechanism 10B according to the present invention includes an operating means 20 for operating the release valve 17, and the operating means 20 has the center of the plate 11a in the surface direction of the plate 11a on which the suction plate 13 is arranged. A moving mechanism 21 that rotates and moves the plate 11a around the shaft, a stopper 22 that positions the origin position of the plate 11a, a spring 23 that urges the plate 11a toward the origin position, and a movement of the plate 11a away from the origin position. Since the operation unit 26 that operates the release valve 17 to open the suction path 14 to the atmosphere is provided, the operator simply grasps and rotates the ring frame F in the state where the suction plate 13 is suction-held to open the ring frame F. The valve 17 can be opened to open the suction path 14 to the atmosphere, and the ring frame F can be easily removed from the ring frame transport mechanism 10B.

図１０に示すリングフレーム搬送機構１０Ｃは、リングフレーム搬送機構の第４例である。リングフレーム搬送機構１０Ｃは、開放バルブ１７を操作する操作手段３０を備えている。リングフレーム搬送機構１０Ｃにおいて操作手段３０以外の構成は、リングフレーム搬送機構１０Ｂと同様の構成であるため、共通の符号を付している。 The ring frame transfer mechanism 10C shown in FIG. 10 is a fourth example of the ring frame transfer mechanism. The ring frame transfer mechanism 10C includes an operating means 30 for operating the release valve 17. In the ring frame transport mechanism 10C, the configurations other than the operating means 30 are the same as those of the ring frame transport mechanism 10B, and therefore, they are designated by a common reference numeral.

操作手段３０は、吸盤１３が配設されたプレート１１ａの面方向にプレート１１ａをスライド移動させる移動機構３１と、プレート１１ａの原点位置を位置決めするストッパ３２と、プレート１１ａを原点位置に向かって付勢するバネ３３と、プレート１１ａを原点位置から遠ざかる方向に移動させたときに開放バルブ１７を操作し吸引路１４を大気開放する操作部３６とを備えている。 The operating means 30 has a moving mechanism 31 that slides and moves the plate 11a in the surface direction of the plate 11a on which the suction plate 13 is arranged, a stopper 32 that positions the origin position of the plate 11a, and a plate 11a toward the origin position. It is provided with a spring 33 to force and an operation unit 36 that operates an opening valve 17 to open the suction path 14 to the atmosphere when the plate 11a is moved away from the origin position.

移動機構３１は、スライダ機構であり、プレート１１ａの上面中央に配設されたスライダベース３１０と、スライダベース３１０に沿ってＹ軸方向にスライド移動するスライダ３１１とを少なくとも備えている。スライダ３１１の上面にはシャフト１２の下端が連結され、スライダ３１１の下面にはスライダベース３１０の外形に応じた凹部３１１ａが形成されている。この凹部３１１ａにスライダベース３１０が 接可能に嵌め込まれている。ストッパ３２は、スライダベース３１０の側方で、かつ、スライダ３１１のスライド移動の経路上でスライダ３１１の角部が接触する位置に配設されている。移動機構３１では、吸盤１３でリングフレームＦを吸引保持した状態でリングフレームＦを水平移動させることにより、スライダベース３１０に沿ってスライダ３１１がスライド移動してプレート１１ａを原点位置から遠ざかる方向に移動させることができる。 The moving mechanism 31 is a slider mechanism, and includes at least a slider base 310 arranged in the center of the upper surface of the plate 11a and a slider 311 that slides along the slider base 310 in the Y-axis direction. The lower end of the shaft 12 is connected to the upper surface of the slider 311, and the concave portion 311a corresponding to the outer shape of the slider base 310 is formed on the lower surface of the slider 311. The slider base 310 is fitted into the recess 311a so as to be in contact with the recess 311a. The stopper 32 is arranged on the side of the slider base 310 and at a position where the corner portion of the slider 311 comes into contact with the slide movement path of the slider 311. In the moving mechanism 31, by horizontally moving the ring frame F while the suction cup 13 sucks and holds the ring frame F, the slider 311 slides along the slider base 310 and moves the plate 11a away from the origin position. Can be made to.

操作部３６は、例えばバー状に形成されプレート１１ａの上に立設されている。開放バルブ１７は、スライダ３１１の側部から水平方向（図示の例では＋Ｘ方向側）に突出しているバー３７ａの上に取り付けられ、ポートを切り替えるプッシュボタン１７０を備えている。操作部３６の高さ位置と開放バルブ１７のプッシュボタン１７０の高さ位置とが一致している。 The operation unit 36 is formed in a bar shape, for example, and stands on the plate 11a. The release valve 17 is mounted on a bar 37a projecting horizontally (+ X direction side in the illustrated example) from the side of the slider 311 and includes a push button 170 for switching ports. The height position of the operation unit 36 and the height position of the push button 170 of the release valve 17 match.

バー２７ａと反対側のスライダ３１１の側部から水平方向（図示の例では－Ｘ方向側）にバー３７ｂが突出して取り付けられている。バネ３３は、両端にフック３４ａ，３４ｂをそれぞれ有している。プレート１１ａの上面には、バー３７ｂから例えば－Ｙ方向側に所定距離離間した位置に突起部３５が配設され、バー３７ｂの上面には突起部３５と対向する位置に突起部３８が配設されている。バネ３３のフック３４ａが突起部３５に引っ掛けられるとともに、バネ３３のフック３４ｂが突起部３８に引っ掛けられプレート１１ａを原点位置に向かって付勢している。このように、第４例では、吸盤１３で吸引保持した状態のリングフレームＦを水平移動させてプレート１１ａを原点位置から遠ざかる方向に移動させた状態から、リングフレームＦを離すと、バネ２３の復元力によってプレート１１ａが原点位置に向かって戻るように構成されている。 The bar 37b is attached so as to project in the horizontal direction (-X direction side in the illustrated example) from the side portion of the slider 311 on the opposite side of the bar 27a. The spring 33 has hooks 34a and 34b at both ends, respectively. A protrusion 35 is arranged on the upper surface of the plate 11a at a position separated from the bar 37b by a predetermined distance, for example, in the −Y direction, and a protrusion 38 is arranged on the upper surface of the bar 37b at a position facing the protrusion 35. Has been done. The hook 34a of the spring 33 is hooked on the protrusion 35, and the hook 34b of the spring 33 is hooked on the protrusion 38 to urge the plate 11a toward the origin position. As described above, in the fourth example, when the ring frame F in the state of being sucked and held by the suction cup 13 is horizontally moved and the plate 11a is moved in the direction away from the origin position, the spring 23 is released. The plate 11a is configured to return toward the origin position by the restoring force.

次に、リングフレーム搬送機構１０Ｃの動作例について説明する。リングフレーム搬送機構１０Ｃを用いてリングフレームＦを搬送する場合は、第３例と同様に、吸盤１３でリングフレームＦの一方の面を吸引保持し、昇降手段４５及び移動手段４４によって、リングフレーム搬送機構１０Ｃを移動させて所定の搬送先にリングフレームＦを搬送する。リングフレーム搬送機構１０ＣでリングフレームＦを吸引保持しているときに、吸盤１３からリングフレームＦを取り外す場合は、作業者の手でリングフレームＦを把持して、リングフレームＦを例えば＋Ｙ方向に水平移動させることによりスライダ３１１が同方向にスライド移動してプレート１１ａを原点位置から遠ざかる方向に移動させ、操作部３６でプッシュボタン１７０を押す。その結果、開放バルブ１７が開いて吸引路１４が大気開放するため、吸盤１３からリングフレームＦを取り外すことが可能となる。 Next, an operation example of the ring frame transport mechanism 10C will be described. When the ring frame F is conveyed by using the ring frame conveying mechanism 10C, one surface of the ring frame F is sucked and held by the suction cup 13 and the ring frame is conveyed by the elevating means 45 and the moving means 44, as in the third example. The transport mechanism 10C is moved to transport the ring frame F to a predetermined transport destination. When removing the ring frame F from the suction cup 13 while the ring frame F is being sucked and held by the ring frame transport mechanism 10C, the ring frame F is gripped by the operator's hand and the ring frame F is moved in the + Y direction, for example. By moving horizontally, the slider 311 slides in the same direction to move the plate 11a away from the origin position, and the push button 170 is pressed by the operation unit 36. As a result, the opening valve 17 opens and the suction path 14 opens to the atmosphere, so that the ring frame F can be removed from the suction cup 13.

このように、本発明に係るリングフレーム搬送機構１０Ｃは、開放バルブ１７を操作する操作手段３０を備え、操作手段３０は、吸盤１３が配設されたプレート１１ａの面方向にプレート１１ａをスライド移動させる移動機構３１と、プレート１１ａの原点位置を位置決めするストッパ３２と、プレート１１ａを原点位置に向かって付勢するバネ３３と、プレート１１ａを原点位置から遠ざかる方向に移動させたときに開放バルブ１７を操作し吸引路１４を大気開放する操作部３６とを備えたため、吸盤１３が吸引保持した状態のリングフレームＦを作業者が把持して水平移動させるだけで、開放バルブ１７を開いて吸引路１４を大気開放させることができ、リングフレーム搬送機構１０Ｃから容易にリングフレームＦを取り外すことができる。 As described above, the ring frame transport mechanism 10C according to the present invention includes an operating means 30 for operating the release valve 17, and the operating means 30 slides the plate 11a in the surface direction of the plate 11a on which the suction plate 13 is arranged. A moving mechanism 31 for moving the plate 11a, a stopper 32 for positioning the origin position of the plate 11a, a spring 33 for urging the plate 11a toward the origin position, and an opening valve 17 when the plate 11a is moved away from the origin position. Since the operation unit 36 for opening the suction path 14 to the atmosphere is provided, the opening valve 17 is opened and the suction path is opened only by the operator grasping the ring frame F in the state where the suction board 13 is suction-held and moving it horizontally. 14 can be opened to the atmosphere, and the ring frame F can be easily removed from the ring frame transport mechanism 10C.

図１１に示す加工装置４は、上記のリングフレーム搬送機構１０Ｂ，１０Ｃを備えた加工装置の一例である。加工装置４は、装置基台４００と、装置基台４００に連接した筐体４０１とを有している。装置基台４００のＹ軸方向前部側には、Ｚ軸方向に昇降可能なステージ４０２が配設され、ステージ４０２には、テープＴを介してリングフレームＦと一体となったウエーハＷが複数収容されたカセット（図示せず）が載置されている。ステージ４０２の近傍には、ウエーハＷを保持する保持テーブル４０と、保持テーブル４０とステージ４０２に載置されたカセットとの間でウエーハＷを搬送するプッシュプル４１とが配設されている。装置基台４００のＹ軸方向後部側には、加工後のウエーハＷを洗浄する洗浄手段４２が配設されている。 The processing device 4 shown in FIG. 11 is an example of a processing device provided with the above-mentioned ring frame transfer mechanisms 10B and 10C. The processing apparatus 4 has an apparatus base 400 and a housing 401 connected to the apparatus base 400. A stage 402 that can be raised and lowered in the Z-axis direction is arranged on the front side of the device base 400 in the Y-axis direction, and a plurality of wafers W integrated with the ring frame F via the tape T are provided on the stage 402. A contained cassette (not shown) is placed. In the vicinity of the stage 402, a holding table 40 for holding the wafer W and a push-pull 41 for transporting the wafer W between the holding table 40 and the cassette mounted on the stage 402 are arranged. A cleaning means 42 for cleaning the processed wafer W is disposed on the rear side of the apparatus base 400 in the Y-axis direction.

筐体４０１の側面４０１ａには、リングフレーム搬送機構１０Ｂを水平方向（Ｙ軸方向）に移動させる移動手段４４と、リングフレーム搬送機構１０ＢをＺ軸方向に昇降させる昇降手段４５と、リングフレーム搬送機構１０ＣをＹ軸方向に移動させる移動手段４４Ａと、リングフレーム搬送機構１０ＢをＺ軸方向に昇降させる昇降手段４５Ａとが配設されている。筐体４０１の前方には、加工装置４を稼働させる加工条件などを設定するための操作パネル４３が配設されている。操作パネル４３は、例えばタッチパネルであり、作業者により操作される。筐体４０１の内部には、図示していないが、例えば切削手段、レーザ加工手段、研削手段等の加工手段が配設されている。 On the side surface 401a of the housing 401, a moving means 44 for moving the ring frame transport mechanism 10B in the horizontal direction (Y-axis direction), an elevating means 45 for moving the ring frame transport mechanism 10B up and down in the Z-axis direction, and a ring frame transport A moving means 44A for moving the mechanism 10C in the Y-axis direction and an elevating means 45A for moving the ring frame transport mechanism 10B up and down in the Z-axis direction are arranged. An operation panel 43 for setting processing conditions for operating the processing apparatus 4 and the like is arranged in front of the housing 401. The operation panel 43 is, for example, a touch panel and is operated by an operator. Although not shown, processing means such as a cutting means, a laser processing means, and a grinding means are arranged inside the housing 401.

本実施形態に示す加工装置４では、操作パネル４３の位置がリングフレーム搬送機構１０Ｂ，１０Ｃから離れているが、本発明によれば、操作パネル４３を操作することなく、１人の作業者だけで上記第３例及び第４例で説明した取り外し動作を行い、開放バルブ１７を開いて吸引路１４を大気開放させることができるため、リングフレーム搬送機構１０Ｂ，１０ＣからリングフレームＦを容易に取り外すことができる。よって、従来に比べて作業効率が向上する。 In the processing device 4 shown in the present embodiment, the position of the operation panel 43 is separated from the ring frame transfer mechanisms 10B and 10C, but according to the present invention, only one operator does not operate the operation panel 43. Since the removal operation described in the third and fourth examples is performed and the opening valve 17 can be opened to open the suction path 14 to the atmosphere, the ring frame F can be easily removed from the ring frame transport mechanisms 10B and 10C. be able to. Therefore, the work efficiency is improved as compared with the conventional case.

１，１ａ：吸引源 ２：電源 ３：動力源遮断検知部
４：加工装置 ４００：装置基台 ４０１：筐体 ４０１ａ：側面 ４０２：ステージ
４０：保持テーブル ４１：プッシュプル ４２：洗浄手段 ４３：操作パネル
４４，４４Ａ：移動手段 ４５，４５Ａ：昇降手段
１０，１０Ｂ，１０Ｃ：リングフレーム搬送機構 １１，１１ａ：プレート
１２：シャフト １３：吸盤 １４：吸引路 １５：開放バルブ １５０：ローラ
１６：保持維持バルブ １７：開放バルブ １７０：プッシュボタン １８：継手
１９：アーム
２０：操作手段 ２１：移動機構 ２１０：ベアリング ２２：ストッパ ２３：バネ
２４ａ，２４ｂ：フック ２５：突起部 ２６：操作部 ２７ａ，２７ｂ：バー
２８：突起部
３０：操作手段 ３１：移動機構 ３１０：スライダベース ３１１：スライダ
３２：ストッパ ３３：バネ ３４ａ，３４ｂ：フック ３５：突起部 ３６：操作部
３７ａ，３７ｂ：バー ３８：突起部 1,1a: Suction source 2: Power supply 3: Power source cutoff detection unit 4: Processing device 400: Device base 401: Housing 401a: Side surface 402: Stage 40: Holding table 41: Push-pull 42: Cleaning means 43: Operation Panels 44, 44A: Moving means 45, 45A: Elevating means 10, 10B, 10C: Ring frame transport mechanism 11, 11a: Plate 12: Shaft 13: Sucker 14: Suction path 15: Open valve 150: Roller 16: Holding and maintaining valve 17: Open valve 170: Push button 18: Joint 19: Arm 20: Operating means 21: Moving mechanism 210: Bearing 22: Stopper 23: Spring 24a, 24b: Hook 25: Projection 26: Operation part 27a, 27b: Bar 28 : Projection 30: Operating means 31: Moving mechanism 310: Slider base 311: Slider 32: Stopper 33: Spring 34a, 34b: Hook 35: Projection 36: Operation unit 37a, 37b: Bar 38: Projection

Claims (2)

リングフレームの一方の面を吸引保持する少なくとも３つの吸盤を備えたリングフレーム搬送機構であって、
該吸盤を吸引源に連通させる吸引路と、
該吸盤の近傍に配設され該吸引路を大気解放させる開放バルブと、該開放バルブを操作する操作手段と、を備え、
該操作手段は、該吸盤が配設されたプレートの面方向に該プレートの中心を軸に該プレートを回転移動または面方向にスライド移動させる移動機構と、
該プレートの原点位置を位置決めするストッパと、
該プレートを原点位置に向かって付勢するバネと、
該プレートを該原点位置から遠ざかる方向に移動させたときに該開放バルブを操作し該吸引路を大気開放する操作部と、を備え、
該吸盤が該リングフレームを吸引保持した状態で該操作部により操作した該開放バルブにより該吸引路を大気開放させ、該吸盤から該リングフレームを取り外すことを可能にするリングフレーム搬送機構。 A ring frame transfer mechanism provided with at least three suction cups for sucking and holding one surface of the ring frame.
A suction path that allows the suction cup to communicate with the suction source,
An opening valve arranged in the vicinity of the suction cup to open the suction path to the atmosphere and an operating means for operating the opening valve are provided.
The operating means includes a moving mechanism that rotationally moves or slides the plate in the plane direction of the plate on which the suction cup is arranged around the center of the plate.
A stopper for positioning the origin position of the plate and
A spring that urges the plate toward the origin position,
It is provided with an operation unit that operates the release valve to open the suction path to the atmosphere when the plate is moved in a direction away from the origin position.
A ring frame transport mechanism that allows the suction cup to be removed from the suction cup by opening the suction path to the atmosphere by the opening valve operated by the operation unit while the suction cup holds the ring frame by suction. 前記吸引源は、バキュームポンプであって、
該バキュームポンプの動力源が遮断されたら前記吸引路を密閉して負圧を維持させるために前記開放バルブと該吸引源との間の該吸引路に保持維持バルブを備え、
前記吸盤が前記リングフレームを吸引保持した状態で該開放バルブにより該吸引路を大気開放させ、該吸盤から該リングフレームを取り外すことを可能にする請求項１記載のリングフレーム搬送機構。 The suction source is a vacuum pump.
When the power source of the vacuum pump is shut off, the suction path between the open valve and the suction source is provided with a holding and maintaining valve in order to seal the suction path and maintain a negative pressure.
The ring frame transport mechanism according to claim 1, wherein the suction cup is opened to the atmosphere by the opening valve in a state where the suction cup sucks and holds the ring frame, and the ring frame can be removed from the suction cup.
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