JP7009650B2 - フォトニックデバイス、フォトニックデバイスの動作方法、及びフォトニックデバイスの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 125
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 105
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 34
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 14
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 14
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 14
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 9
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 3
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001137251 Corvidae Species 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
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- G01L9/0041—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
- G01L9/0076—Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using photoelectric means
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/1225—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths comprising photonic band-gap structures or photonic lattices
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/28—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals
- G02B6/293—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means
- G02B6/29346—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means operating by wave or beam interference
- G02B6/2935—Mach-Zehnder configuration, i.e. comprising separate splitting and combining means
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12133—Functions
- G02B2006/12159—Interferometer
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
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Description
20 メンブレン
21 凹部
22 配線層の後端
23 懸架メンブレン領域
30 フォトニック構造
31 光カプラ
32 導波路
33 領域
34 領域
35 測定ブランチ
36 基準ブランチ
37 キャビティ(光共振器)
38 測定セクション
39 基準セクション
40 光源
41 光センサ
50 接着剤層、接着層
Claims (18)
- 半導体の基板(10)と、
前記基板(10)内に又は前記基板(10)上に配置された感圧のメンブレン(20)と、
前記メンブレン(20)に少なくとも部分的に結合されたフォトニック構造(30)と、を備え、
前記フォトニック構造(30)は、前記メンブレン(20)に加わる圧力によって生じる変形に応じて、光学特性を変化させるように配置されており、
前記フォトニック構造(30)は、引張ひずみ及び圧縮ひずみにより前記光学特性を変化させるように配置され、
変化する前記光学特性は、前記フォトニック構造(30)の屈折率であり、
前記メンブレン(20)に加わる圧力によって生じる前記変形は、前記フォトニック構造(30)の屈折率の変化をもたらす、
フォトニックデバイス。 - 前記メンブレン(20)に加わる圧力によって生じる変形が前記フォトニック構造(30)を変形させるように、前記フォトニック構造(30)は、前記メンブレン(20)の懸架メンブレン領域(23)に結合されている、請求項1に記載のフォトニックデバイス。
- 前記フォトニック構造(30)は、少なくとも1つの光カプラ(31)と、少なくとも1つの導波路(32)とを備え、
前記少なくとも1つの光カプラ(31)は、前記少なくとも1つの導波路(32)に光を入力及び/又は出力するように配置され、
前記少なくとも1つの導波路(32)は、前記メンブレン(20)に加わる圧力により生じる変形の関数として変化する屈折率を有するように構成されている、請求項1に記載のフォトニックデバイス。 - 前記導波路は、前記メンブレン(20)内若しくは配線層の後端(22)内に設けられ、例えば、所定の表面において限られた厚さの範囲内で構成されるか若しくはその表面と同一面となり、又は、
前記導波路は、前記メンブレン(20)の表面上若しくは前記配線層の後端(22)上に設けられ、例えば、前記表面から突出している、請求項3に記載のフォトニックデバイス。 - 前記少なくとも1つの光カプラ(31)は、垂直結合のための格子カプラ、エッジカプラ、断熱カプラのうちの少なくとも1つを含む、請求項3又は4に記載のフォトニックデバイス。
- 前記導波路(32)は、コヒーレント受信器又は干渉計のうちの少なくとも1つを含む、請求項3から5のうちいずれか一項に記載のフォトニックデバイス。
- 干渉計として実装される前記導波路(32)は、測定ブランチ(35)と、基準ブランチ(36)とを含み、
前記測定ブランチ(35)は、測定セクション(38)を含み、
前記測定セクション(38)は、検出アームを形成すると共に、前記メンブレン(20)に少なくとも部分的に重なり、
前記基準ブランチ(36)は、基準アームを形成している基準セクション(39)を含む、請求項6に記載のフォトニックデバイス。 - 前記測定ブランチ及び前記基準ブランチ(35,36)が、マッハ・ツェンダー干渉計又はカスケードマッハ・ツェンダー干渉計として配置されている、請求項7に記載のフォトニックデバイス。
- 前記測定ブランチ及び前記基準ブランチ(35,36)は、リング共振器又はレーストラック共振器干渉計として配置されている、請求項7に記載のフォトニックデバイス。
- 少なくとも1つの光カプラ(31)を用いて前記フォトニック構造(30)に結合された光センサ(41)をさらに備えている、請求項1~9のうちいずれか一項に記載のフォトニックデバイス。
- 少なくとも1つの光カプラ(31)を用いて前記フォトニック構造(30)に結合された光源(40)をさらに備えている、請求項1~10のうちいずれか一項に記載のフォトニックデバイス。
- 請求項1~11のうちいずれか一項に記載の少なくとも1つのフォトニックデバイスを備えた光マイクロフォン。
- 前記フォトニック構造(30)は、前記フォトニックデバイスに完全に組み込まれており、
前記フォトニックデバイスは、同一のフォトニックデバイス内に位置するか又は同一の基板に組み込まれた光センサを備え、
複数のフォトダイオードが同一の基板に組み込まれている、
請求項12に記載の光マイクロフォン。 - フォトニックデバイスを動作させるための方法であって、
前記フォトニックデバイスは、
基板(10)内に又は当該基板(10)上に配置された感圧のメンブレン(20)と、
前記メンブレン(20)に少なくとも部分的に結合されたフォトニック構造(30)と、を備え、
前記方法は、
前記メンブレン(20)に圧力を加えるステップと、
前記メンブレン(20)に加わる前記圧力により生じる変形に応じた前記フォトニック構造(30)の光学特性の変化を検出するステップと、を含み、
前記フォトニック構造(30)は、引張ひずみ及び圧縮ひずみにより前記光学特性を変化させるように配置され、
変化する前記光学特性は、前記フォトニック構造(30)の屈折率であり、
前記メンブレン(20)に加わる圧力によって生じる前記変形は、前記フォトニック構造(30)の屈折率の変化をもたらす、
フォトニックデバイスを動作させるための方法。 - 光源(40)を用いて光を出射するステップと、
光カプラ(31)を用いて前記出射された光を前記フォトニック構造(30)の入力側に結合するステップと、
前記フォトニック構造の出力側にて、別の光カプラ(31)を介して光を出力結合するステップと、
前記出力側からの光を光センサ(41)を用いて検出するステップと、
をさらに含む、
請求項14に記載の方法。 - 前記フォトニック構造(30)は、前記メンブレン(32)に結合された少なくとも1つの導波路(32)を備え、
前記導波路(32)は、前記メンブレン(20)に加わる圧力により生じる変形の関数として変化する屈折率を有するように構成され、
前記光センサ(41)は、前記少なくとも1つの導波路(32)の前記屈折率に応じて光強度の変化を検出する、請求項15に記載の方法。 - フォトニックデバイスを製造するための方法であって、
半導体の基板(10)を設けるステップと、
前記基板(10)内に又は前記基板(10)上に感圧のメンブレン(20)を配置するステップと、
フォトニック構造(30)を少なくとも部分的に前記メンブレン(20)に結合するステップと、を含み、
前記フォトニック構造(30)は、前記メンブレン(20)に加わる圧力によって生じる変形に応じて、光学特性を変化させるように配置され、
前記フォトニック構造(30)は、引張ひずみ及び圧縮ひずみにより前記光学特性を変化させるように配置され、
変化する前記光学特性は、前記フォトニック構造(30)の屈折率であり、
前記フォトニック構造(30)は、前記メンブレン(20)に加わる圧力によって生じる変形により前記フォトニック構造(30)の屈折率を変化させる材料からなる、
フォトニックデバイスを製造するための方法。 - 前記半導体基板(10)は、シリコンからなり、
前記フォトニック構造(30)は、二酸化ケイ素、窒化ケイ素又はこれらの組み合わせからなる、請求項17に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP18167569.5A EP3557211A1 (en) | 2018-04-16 | 2018-04-16 | Photonic device, method for operating a photonic device and method for manufacturing a photonic device |
EP18167569.5 | 2018-04-16 | ||
PCT/EP2019/059535 WO2019201800A1 (en) | 2018-04-16 | 2019-04-12 | Photonic device, method for operating a photonic device and method for manufacturing a photonic device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021521436A JP2021521436A (ja) | 2021-08-26 |
JP7009650B2 true JP7009650B2 (ja) | 2022-01-25 |
Family
ID=62044496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020555810A Active JP7009650B2 (ja) | 2018-04-16 | 2019-04-12 | フォトニックデバイス、フォトニックデバイスの動作方法、及びフォトニックデバイスの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11906385B2 (ja) |
EP (1) | EP3557211A1 (ja) |
JP (1) | JP7009650B2 (ja) |
CN (1) | CN112368556A (ja) |
WO (1) | WO2019201800A1 (ja) |
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2018
- 2018-04-16 EP EP18167569.5A patent/EP3557211A1/en not_active Withdrawn
-
2019
- 2019-04-12 JP JP2020555810A patent/JP7009650B2/ja active Active
- 2019-04-12 US US17/047,637 patent/US11906385B2/en active Active
- 2019-04-12 WO PCT/EP2019/059535 patent/WO2019201800A1/en active Application Filing
- 2019-04-12 CN CN201980026526.8A patent/CN112368556A/zh active Pending
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JP6418749B2 (ja) | 2013-02-12 | 2018-11-07 | ザ・ボーイング・カンパニーThe Boeing Company | 多機能光学センサユニット |
JP6693759B2 (ja) | 2015-02-09 | 2020-05-13 | ザ・ボーイング・カンパニーThe Boeing Company | フォトニック膜を背景とする多機能光ファイバー燃料センサシステム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20210108978A1 (en) | 2021-04-15 |
JP2021521436A (ja) | 2021-08-26 |
EP3557211A1 (en) | 2019-10-23 |
CN112368556A (zh) | 2021-02-12 |
US11906385B2 (en) | 2024-02-20 |
WO2019201800A1 (en) | 2019-10-24 |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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