JP7004802B2 - Optical film manufacturing method - Google Patents

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Description

本開示は、光学フィルムの製造方法に関するものである。 The present disclosure relates to a method for manufacturing an optical film.

近年、光学フィルムの需要が増加しつつある。光学フィルムの代表的なものとして、位相差フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム等が挙げられる。 In recent years, the demand for optical films has been increasing. Typical optical films include retardation films, antireflection films, antiglare films and the like.

光学フィルムは、生産性向上のため、長尺のフィルム状支持体(以降、「連続フィルム支持体」という)を用い、ロールトゥロール(Roll to Roll)方式での連続プロセスによって製造される。
光学フィルムの製造方法の1例として、連続フィルム支持体の表面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布及び乾燥させて塗膜を形成する塗膜形成工程と、形成された塗膜に活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化する活性エネルギー線照射工程と、を有し、連続フィルム支持体の表面に目的とする光学機能層を形成する方法が挙げられる。
そして、ロールトゥロール方式での連続プロセスにて光学フィルムを製造する際には、各種のロールに連続フィルム支持体が接触することから、連続フィルム支持体の搬送位置のずれ防止のために、幅方向の両端に沿ってナーリング部と呼ばれる微小な突起が形成された部位を有する連続フィルム支持体を用いることが好ましい。
The optical film is manufactured by a continuous process in a roll-to-roll method using a long film-like support (hereinafter referred to as "continuous film support") in order to improve productivity.
As an example of a method for producing an optical film, a coating film forming step of applying and drying an active energy ray-curable resin composition on the surface of a continuous film support to form a coating film, and an activity on the formed coating film. A method comprising an active energy ray irradiation step of irradiating an energy ray to cure a coating film and forming a target optical functional layer on the surface of a continuous film support can be mentioned.
When an optical film is manufactured by a continuous process using a roll-to-roll method, the continuous film support comes into contact with various rolls, so that the width is prevented from shifting the transport position of the continuous film support. It is preferable to use a continuous film support having a portion where minute protrusions called knurled portions are formed along both ends in the direction.

例えば、特開2017-32756号公報には、基材フィルム上に、ナーリング加工により形成された第1の領域と、第1の領域に挟まれて形成された、微細凹凸構造を表面に有する層が設けられた第2の領域と、を有する透明フィルムが開示されている。また、この透明フィルムの製造方法として、第2の領域を、第1の領域が形成された基材フィルム上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布し、塗布された活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に転写用金型を押し付けて活性エネルギー線を照射することにより活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させ、その後、転写用金型を分離する方法が開示されている。 For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-32756 describes a layer having a first region formed by knurling on a base film and a layer having a fine concavo-convex structure formed between the first regions on the surface. A transparent film having a second region provided with a knurled film is disclosed. Further, as a method for producing this transparent film, the active energy ray-curable resin composition is coated on the base film on which the first region is formed in the second region, and the applied active energy ray-curable resin is applied. A method is disclosed in which a transfer mold is pressed against a composition and irradiated with active energy rays to cure the active energy ray-curable resin composition, and then the transfer mold is separated.

また、例えば、特開2010-139824号公報には、ナーリング加工を施された長尺のセルローストリアセテートフィルム上に、ハードコート層塗布組成物を塗布し、乾燥後に、紫外線ランプにて、塗布層を硬化させる方法が開示されている。 Further, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-139824, a hard coat layer coating composition is applied on a long cellulose triacetate film that has been knurled, and after drying, the coating layer is applied with an ultraviolet lamp. A method of curing is disclosed.

光学フィルムを製造する際には、活性エネルギー線照射工程にて、連続フィルム支持体の幅方向において、塗膜に対して照射される活性エネルギー線の照射量にムラが生じることがある。連続フィルム支持体の幅方向における活性エネルギー線の照射量にムラがある場合には、通常、塗膜形成工程にて、連続フィルム支持体の幅方向において、活性エネルギー線硬化樹脂組成物の塗布量を照射量にムラに応じて調整している。そして、この調整により、製造される光学フィルムにおいて、その幅方向での光学特性のバラツキが抑えられる。
しかしながら、活性エネルギー線照射工程において、連続フィルム支持体の幅方向に搬送位置がずれてしまった場合、塗膜形成工程にて行われた、活性エネルギー線硬化樹脂組成物の塗布量の調整位置がずれてしまい、製造される光学フィルムにおいて、幅方向での光学特性のバラツキを抑え難いという課題が生じる。連続フィルム支持体の幅方向の搬送位置のずれは、例えば、ナーリング部を有する連続フィルム支持体を用いることで低減される。
一方で、活性エネルギー線照射工程において、連続フィルム支持体を温調ロールに巻き掛けて、温調ロール上の塗膜に対して活性エネルギー線を照射する手段が取られることがある。この手段は、温調ロールの形状に沿って張架した状態の塗膜に対し活性エネルギー線が照射できる点、及び、温調ロールに連続フィルム支持体が接していることから連続フィルム支持体の温調がし易い点、において有効である。
しかしながら、ナーリング部を有する連続フィルム支持体を用いる際、ナーリング部が温調ロールに接していると、ナーリング部の存在により連続フィルム支持体の幅方向末端のみが浮くことがある。活性エネルギー線照射工程において、連続フィルム支持体の幅方向末端のみが浮いていると、活性エネルギー線の照射量に幅方向の中央部と末端とで差が出てしまい、やはり製造される光学フィルムにおいて幅方向での光学特性のバラツキが生じてしまうという課題が生じる。
When manufacturing an optical film, in the active energy ray irradiation step, the irradiation amount of the active energy ray applied to the coating film may be uneven in the width direction of the continuous film support. When the irradiation amount of the active energy ray in the width direction of the continuous film support is uneven, the amount of the active energy ray-curable resin composition applied in the width direction of the continuous film support is usually in the coating film forming step. Is adjusted according to the unevenness of the irradiation amount. Then, by this adjustment, the variation of the optical characteristics in the width direction of the manufactured optical film can be suppressed.
However, in the active energy ray irradiation step, when the transport position is displaced in the width direction of the continuous film support, the adjustment position of the coating amount of the active energy ray curable resin composition performed in the coating film forming step is performed. This causes a problem that it is difficult to suppress variations in optical characteristics in the width direction in the manufactured optical film. The deviation of the transport position in the width direction of the continuous film support is reduced by using, for example, a continuous film support having a knurling portion.
On the other hand, in the active energy ray irradiation step, a means of wrapping the continuous film support around the temperature control roll and irradiating the coating film on the temperature control roll with the active energy ray may be taken. This means can irradiate the coating film in a stretched state along the shape of the temperature control roll with active energy rays, and because the continuous film support is in contact with the temperature control roll, the continuous film support can be used. It is effective in that it is easy to control the temperature.
However, when a continuous film support having a knurling portion is used, if the knurling portion is in contact with the temperature control roll, only the widthwise end of the continuous film support may float due to the presence of the knurling portion. In the active energy ray irradiation step, if only the widthwise end of the continuous film support is floating, there will be a difference in the irradiation amount of the active energy ray between the center and the end in the width direction, and the optical film also manufactured. In, there arises a problem that the optical characteristics vary in the width direction.

特開2017-32756号公報及び特開2010-139824号公報では、いずれも、連続フィルム支持体のナーリング部が温調ロールに接しているかどうかが明記されておらず、活性エネルギー線照射工程において、連続フィルム支持体の幅方向に搬送位置がずれてしまうこと、又は、連続フィルム支持体の幅方向末端のみが浮くことが全く検討されていない。そのため、特開2017-32756号公報及び特開2010-139824号公報に記載の技術では、上記のような、製造される光学フィルムにて幅方向での光学特性のバラツキが生じてしまうものと考えられる。 In neither Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-32756 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-139824, it is not specified whether or not the knurled portion of the continuous film support is in contact with the temperature control roll, and in the active energy ray irradiation step, it is not specified. It has not been investigated at all that the transport position shifts in the width direction of the continuous film support or that only the width end of the continuous film support floats. Therefore, it is considered that the techniques described in JP-A-2017-32756 and JP-A-2010-139824 cause variations in optical characteristics in the width direction in the manufactured optical film as described above. Be done.

そこで、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、上記事情に鑑みてなされたものであり、ロールトゥロール方式での連続プロセスを用い、活性エネルギー線の照射にて塗膜を硬化する工程を含む光学フィルムの製造方法であって、幅方向における光学特性のバラツキが低減された光学フィルムの製造方法を提供することにある。 Therefore, the problem to be solved by one embodiment of the present invention has been made in view of the above circumstances, and the coating film is cured by irradiation with active energy rays using a continuous process in a roll-to-roll method. It is a method for manufacturing an optical film including a step, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical film in which variations in optical characteristics in the width direction are reduced.

上記課題を解決するための手段は、以下の実施形態を含む。
<1> 連続搬送される、幅方向の両端に沿ってナーリング部を有する連続フィルム支持体のナーリング部を有する面に、活性エネルギー線硬化樹脂組成物を塗布及び乾燥して塗膜を形成する工程と、
塗膜が形成された連続フィルム支持体のナーリング部を有する面とは反対の面を、温調ロールに接触させて巻き掛け、温調ロール上の塗膜に対して活性エネルギー線を照射する工程と、
連続フィルム支持体のナーリング部を有する面を、温調ロールよりも連続フィルム支持体の搬送方向下流側に設けられたロール部材に接触させる工程と、
を有し、
温調ロール上の連続フィルム支持体の搬送速度をUとし、温調ロールの表面温度における空気の粘度をμとし、温調ロールの半径をRとし、ナーリング部の高さをhとし、温調ロール上の連続フィルムに掛かる張力をTとし、連続フィルム支持体と温調ロールとの離間点から連続フィルム支持体とロール部材との接触点までの距離をLとしたとき、以下の関係式(1)を満たす、光学フィルムの製造方法。
Means for solving the above problems include the following embodiments.
<1> A step of applying and drying the active energy ray-curable resin composition on the surface of a continuous film support having knurled portions along both ends in the width direction, which is continuously conveyed, to form a coating film. When,
A step of wrapping the surface of the continuous film support on which the coating film is formed, which is opposite to the surface having the knurled portion, in contact with the temperature control roll and irradiating the coating film on the temperature control roll with active energy rays. When,
A step of bringing the surface of the continuous film support having a knurled portion into contact with a roll member provided on the downstream side of the continuous film support in the transport direction from the temperature control roll.
Have,
The transport speed of the continuous film support on the temperature control roll is U, the viscosity of the air at the surface temperature of the temperature control roll is μ, the radius of the temperature control roll is R, the height of the knurling portion is h k , and the temperature is high. When the tension applied to the continuous film on the adjusting roll is T and the distance from the separation point between the continuous film support and the temperature controlling roll to the contact point between the continuous film support and the roll member is L, the following relational expression A method for manufacturing an optical film that satisfies (1).

Figure 0007004802000001
Figure 0007004802000001

関係式(1)中、Uの単位はm/minであり、μの単位はPa・secであり、hの単位はmであり、Rの単位はmであり、Tの単位はN/mである。In the relational expression (1), the unit of U is m / min, the unit of μ is Pa · sec, the unit of h k is m, the unit of R is m, and the unit of T is N / sec. m.

<2> 温調ロール上の連続フィルム支持体の搬送速度Uが5m/min~40m/minである、<1>に記載の光学フィルムの製造方法。
<3> 温調ロールの半径Rが0.2m~0.4mである、<1>又は<2>に記載の光学フィルムの製造方法。
<4> 温調ロールの表面温度が80℃~160℃である、<1>~<3>のいずれか1に記載の光学フィルムの製造方法。
<2> The method for manufacturing an optical film according to <1>, wherein the transport speed U of the continuous film support on the temperature control roll is 5 m / min to 40 m / min.
<3> The method for producing an optical film according to <1> or <2>, wherein the radius R of the temperature control roll is 0.2 m to 0.4 m.
<4> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <3>, wherein the surface temperature of the temperature control roll is 80 ° C. to 160 ° C.

<5> 連続フィルム支持体のナーリング部の高さhが1μm~20μmである、<1>~<4>のいずれか1に記載の光学フィルムの製造方法。
<6> 温調ロール上の連続フィルムに掛かる張力Tが100N/m~600N/mである、<1>~<5>のいずれか1に記載の光学フィルムの製造方法。
<5> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <4>, wherein the height h k of the knurled portion of the continuous film support is 1 μm to 20 μm.
<6> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <5>, wherein the tension T applied to the continuous film on the temperature control roll is 100 N / m to 600 N / m.

<7> 連続フィルム支持体のナーリング部が形成されていない箇所の厚みが20μm~100μmである、<1>~<6>のいずれか1に記載の光学フィルムの製造方法。
<8> 連続フィルム支持体の幅長が50mm~2000mmである、<1>~<7>のいずれか1に記載の光学フィルムの製造方法。
<9> ロール部材の半径が20mm~70mmである、<1>~<8>のいずれか1に記載の光学フィルムの製造方法。
<7> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <6>, wherein the thickness of the portion where the knurled portion of the continuous film support is not formed is 20 μm to 100 μm.
<8> The method for manufacturing an optical film according to any one of <1> to <7>, wherein the width length of the continuous film support is 50 mm to 2000 mm.
<9> The method for manufacturing an optical film according to any one of <1> to <8>, wherein the radius of the roll member is 20 mm to 70 mm.

本発明の一実施形態によれば、ロールトゥロール方式での連続プロセスを用い、活性エネルギー線の照射にて塗膜を硬化する工程を含む光学フィルムの製造方法において、幅方向における光学特性のバラツキが低減された光学フィルムの製造方法が提供される。 According to one embodiment of the present invention, there are variations in optical characteristics in the width direction in a method for producing an optical film, which comprises a step of curing a coating film by irradiation with active energy rays using a continuous process in a roll-to-roll method. A method for manufacturing an optical film in which the amount of energy is reduced is provided.

一実施形態の光学フィルムの製造方法の各工程を示す概略図である。It is a schematic diagram which shows each process of the manufacturing method of the optical film of one Embodiment. 一実施形態の光学フィルムの製造方法に用いる連続フィルム支持体の上面図である。It is a top view of the continuous film support used in the manufacturing method of the optical film of one Embodiment. 一実施形態の光学フィルムの製造方法に用いる連続フィルム支持体におけるナーリング部の拡大断面図である。It is an enlarged sectional view of the knurling part in the continuous film support used in the manufacturing method of the optical film of one Embodiment.

以下、光学フィルムの製造方法の実施形態について説明する。但し、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。 Hereinafter, embodiments of a method for manufacturing an optical film will be described. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and can be carried out with appropriate modifications within the scope of the object of the present invention.

本開示において「~」を用いて示された数値範囲は、「~」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示にて示す各図面における各要素は必ずしも正確な縮尺ではなく、本開示の原理を明確に示すことに主眼が置かれており、強調がなされている箇所もある。
また、各図面において、同一機能を有する構成要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
本開示において、「幅方向」とは、長尺の連続フィルム支持体及び光学フィルムの長手方向と直交する方向を指す。
本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
The numerical range indicated by using "-" in the present disclosure means a range including the numerical values before and after "-" as the minimum value and the maximum value, respectively.
In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of the numerical range described in another stepwise description. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
Each element in each of the drawings shown in this disclosure is not necessarily on an exact scale, with a focus on clearly showing the principles of this disclosure and some emphasis.
Further, in each drawing, components having the same function are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted.
In the present disclosure, the "width direction" refers to a direction orthogonal to the longitudinal direction of a long continuous film support and an optical film.
In the present disclosure, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.

≪光学フィルムの製造方法≫
本発明者らは、ロールトゥロール方式での連続プロセスを用い、活性エネルギー線の照射にて塗膜を硬化する工程を含む光学フィルムの製造方法について検討を行ったところ、以下の方法にて、幅方向における光学特性のバラツキが低減されることを見出した。
即ち、一実施形態の光学フィルムの製造方法は、連続搬送される、幅方向の両端に沿ってナーリング部を有する連続フィルム支持体のナーリング部を有する面に、活性エネルギー線硬化樹脂組成物を塗布及び乾燥して塗膜を形成する工程(以降、「塗膜形成工程」ともいう)と、塗膜が形成された連続フィルム支持体のナーリング部を有する面とは反対の面を、温調ロールに接触させて巻き掛け、温調ロール上の塗膜に対して活性エネルギー線を照射する工程(以降、「活性エネルギー線照射工程」ともいう)と、連続フィルム支持体のナーリング部を有する面を、温調ロールよりも連続フィルム支持体の搬送方向下流側に設けられたロール部材に接触させる工程(以降、「ナーリング部接触工程」ともいう)と、を有し、温調ロール上の連続フィルム支持体の搬送速度をUとし、温調ロールの表面温度における空気の粘度をμとし、温調ロールの半径をRとし、ナーリング部の高さをhとし、温調ロール上の連続フィルムに掛かる張力をTとし、連続フィルム支持体と温調ロールとの離間点から連続フィルム支持体とロール部材との接触点までの距離をLとしたとき、以下の関係式(1)を満たす、光学フィルムの製造方法である。
≪Manufacturing method of optical film≫
The present inventors have investigated a method for producing an optical film including a step of curing a coating film by irradiation with active energy rays using a continuous process of a roll-to-roll method. It has been found that the variation in optical characteristics in the width direction is reduced.
That is, in the method for producing an optical film of one embodiment, the active energy ray-curable resin composition is applied to the surface of a continuous film support having a knurling portion along both ends in the width direction, which is continuously conveyed. A temperature control roll is formed on the surface opposite to the surface of the continuous film support on which the coating film is formed, which is opposite to the surface having the nerling portion. A step of irradiating the coating film on the temperature control roll with active energy rays (hereinafter also referred to as "active energy ray irradiation step") and a surface of the continuous film support having a nerling portion. The continuous film on the temperature control roll has a step of contacting the roll member provided on the downstream side of the continuous film support in the transport direction with respect to the temperature control roll (hereinafter, also referred to as "nulling portion contact step"). The transport speed of the support is U, the viscosity of the air at the surface temperature of the temperature control roll is μ, the radius of the temperature control roll is R, the height of the narling portion is hk, and the continuous film on the temperature control roll is formed. When the applied tension is T and the distance from the separation point between the continuous film support and the temperature control roll to the contact point between the continuous film support and the roll member is L, the following relational expression (1) is satisfied. This is a film manufacturing method.

Figure 0007004802000002
Figure 0007004802000002

関係式(1)中、Uの単位はm/minであり、μの単位はPa・secであり、hの単位はmであり、Rの単位はmであり、Tの単位はN/mである。In the relational expression (1), the unit of U is m / min, the unit of μ is Pa · sec, the unit of h k is m, the unit of R is m, and the unit of T is N / sec. m.

上記の光学フィルムの製造方法では、ナーリング部を有する連続フィルム支持体を用いている。そして、その連続フィルム支持体を、ナーリング部を有する面とは反対の面を温調ロールに接触させて巻き掛け、その領域にて、温調ロール上の塗膜に対して活性エネルギー線を照射する。この方法を採用することにより、活性エネルギー線照射工程にて、温調ロール上の連続フィルム支持体において、幅方向末端のみが浮くことがない。そのため、この浮きに起因する、活性エネルギー線の照射量に幅方向の中央部と末端とで差が出てしまうことを抑制しうる。
また、上記の光学フィルムの製造方法では、ナーリング部接触工程にて、連続フィルム支持体は、ナーリング部を有する面を、温調ロールよりも連続フィルム支持体の搬送方向下流側に設けられたロール部材に接触させる。ナーリング部接触工程にて、ロール部材に対しナーリング部が接触することで、連続フィルム支持体の幅方向に搬送位置がずれてしまうことを抑制する。
ここで、関係式(1)を満たすことで、ナーリング部接触工程よりも連続フィルム支持体の搬送方向上流側にて行われる、活性エネルギー線照射工程においても、連続フィルム支持体の幅方向に搬送位置がずれてしまうことを抑制しうる。
In the above method for manufacturing an optical film, a continuous film support having a knurling portion is used. Then, the continuous film support is wound by bringing the surface opposite to the surface having the knurled portion into contact with the temperature control roll, and in that region, the coating film on the temperature control roll is irradiated with active energy rays. do. By adopting this method, in the active energy ray irradiation step, only the end in the width direction does not float in the continuous film support on the temperature control roll. Therefore, it is possible to suppress the difference in the irradiation amount of the active energy rays caused by this floating between the central portion and the terminal portion in the width direction.
Further, in the above-mentioned optical film manufacturing method, in the knurling portion contacting step, the continuous film support is provided with a surface having the knurling portion on the downstream side of the continuous film support in the transport direction with respect to the temperature control roll. Contact the member. In the knurling portion contacting step, the contact of the knurling portion with the roll member prevents the transport position from shifting in the width direction of the continuous film support.
Here, by satisfying the relational expression (1), even in the active energy ray irradiation step performed on the upstream side in the transport direction of the continuous film support from the knurling portion contact step, the film is transported in the width direction of the continuous film support. It is possible to prevent the position from shifting.

上記関係式(1)の詳細について説明する。
関係式(1)中、hは、活性エネルギー線照射工程において、連続フィルム支持体が温調ロールに巻き掛かる際に、連続フィルム支持体と温調ロールとの間に空気を巻きこむために生じる、連続フィルム支持体と温調ロールとの間の空気層(所謂、エアフィルム)の厚みに該当する。
このエアフィルムの厚みhが大きいほど、温調ロール上での連続フィルム支持体の搬送位置ずれは起き易くなることを意味する。
一方で、hは、連続フィルム支持体のナーリング部の高さを示す。ナーリング部の高さhがエアフィルムの厚みhに対して小さくなってしまうと、ナーリング部接触工程におけるナーリング部とロール部材との接触による、搬送位置ずれの抑制効果が出にくくなる。つまり、ナーリング部の高さhがエアフィルムの厚みhに対して小さくなってしまうと、ロール部材に対するナーリング部のグリップ力が機能しにくく、搬送位置ずれを十分に抑制することができなくなる。
そこで、本発明者らは、「エアフィルムの厚みhをナーリング部の高さhで除した値(即ち、h/hの値)」に着目し、この値と搬送位置ずれの発生し易さとに相関があると考えて、調査検討を行った。その結果、「h/hの値」と「搬送位置のずれ量」の関係性を調査した際、「h/hの値」に対し、係数「2.38」と乗数「0.9」を適用した場合に、連続フィルム支持体と温調ロールとの離間点から連続フィルム支持体とロール部材との接触点までの距離Lとの間で相関関係が得られたため、関係式(1)を見出すに至った。
上記関係式(1)を満たすと、活性エネルギー線照射工程において、連続フィルム支持体の幅方向に搬送位置がずれてしまうことを抑制しうる。
The details of the above relational expression (1) will be described.
In the relational expression (1), ha is generated because air is entrained between the continuous film support and the temperature control roll when the continuous film support is wound on the temperature control roll in the active energy ray irradiation step. , Corresponds to the thickness of the air layer (so-called air film) between the continuous film support and the temperature control roll.
The larger the thickness ha of this air film, the more likely it is that the transport position shift of the continuous film support on the temperature control roll will occur.
On the other hand, h k indicates the height of the knurled portion of the continuous film support. If the height h k of the knurling portion becomes smaller than the thickness ha of the air film, the effect of suppressing the transfer position shift due to the contact between the knurling portion and the roll member in the knurling portion contacting process becomes difficult to be obtained. That is, if the height h k of the knurling portion becomes smaller than the thickness ha of the air film, the grip force of the knurling portion with respect to the roll member does not function easily, and the transfer position deviation cannot be sufficiently suppressed. ..
Therefore, the present inventors paid attention to " a value obtained by dividing the thickness h a of the air film by the height h k of the knurling portion (that is, the value of ha / h k )", and this value and the transport position deviation. Considering that there is a correlation with the likelihood of occurrence, we conducted a survey. As a result, when the relationship between the "value of ha / h k " and the "displacement amount of the transport position" was investigated, the coefficient "2.38" and the multiplier "0" were given to the "value of ha / h k ". When ".9" was applied, a correlation was obtained between the distance L from the separation point between the continuous film support and the temperature control roll and the contact point between the continuous film support and the roll member. I came to find (1).
When the above relational expression (1) is satisfied, it is possible to prevent the transport position from being displaced in the width direction of the continuous film support in the active energy ray irradiation step.

ここで、関係式(1)中の「U」、「μ」、及び「T」について説明する。
関係式(1)中の「U(単位:m/min)」は、温調ロール上の連続フィルム支持体(即ち、温調ロールとの接触点から温調ロールとの離間点までの連続フィルム支持体)の搬送速度を指す。
関係式(1)中の「μ(単位:Pa・sec)」は、温調ロールの表面温度における空気の粘度を指す。本開示における空気の粘度は、「流体の力学(コロナ社出版、2002年刊)」に記載の文献値又は文献値に基づき計算にて算出した値である。
関係式(1)中の「T(単位:N/m)」は、温調ロール上の連続フィルム(即ち、温調ロールとの接触点から温調ロールとの離間点までの連続フィルム支持体)に対して長手方向(即ち搬送方向)に掛かる張力、即ち、テンションを指す。
Here, "U", "μ", and "T" in the relational expression (1) will be described.
“U (unit: m / min)” in the relational expression (1) is a continuous film on the temperature control roll (that is, a continuous film from the contact point with the temperature control roll to the separation point with the temperature control roll). Refers to the transport speed of the support).
“Μ (unit: Pa · sec)” in the relational expression (1) refers to the viscosity of air at the surface temperature of the temperature control roll. The viscosity of air in the present disclosure is a value calculated by calculation based on the literature value or the literature value described in "Fluid Dynamics (Corona Publishing Co., Ltd., 2002)".
“T (unit: N / m)” in the relational expression (1) is a continuous film on the temperature control roll (that is, a continuous film support from the contact point with the temperature control roll to the separation point with the temperature control roll). ) In the longitudinal direction (that is, the transport direction), that is, the tension.

以上の結果、一実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、幅方向における光学特性のバラツキが低減された光学フィルムを製造しうる。 As a result of the above, according to the method for manufacturing an optical film of one embodiment, it is possible to manufacture an optical film in which variations in optical characteristics in the width direction are reduced.

以下、一実施形態の光学フィルムの製造方法における、塗膜形成工程、活性エネルギー線照射工程、及びナーリング部接触工程の詳細について説明する。
ここで、塗膜形成工程及び活性エネルギー線照射工程を経ることで、連続フィルム支持体上には硬化膜が形成される。形成される硬化膜は、光学フィルムにおける光学機能層(例えば、光学異方性層、反射防止層、防眩層等)となる。
Hereinafter, the details of the coating film forming step, the active energy ray irradiation step, and the nerling portion contacting step in the method for manufacturing an optical film of one embodiment will be described.
Here, a cured film is formed on the continuous film support through the coating film forming step and the active energy ray irradiation step. The cured film formed becomes an optical functional layer (for example, an optically anisotropic layer, an antireflection layer, an antiglare layer, etc.) in the optical film.

[塗膜形成工程]
塗膜形成工程では、連続搬送される、幅方向の両端に沿ってナーリング部を有する連続フィルム支持体のナーリング部を有する面に、活性エネルギー線硬化樹脂組成物を塗布及び乾燥して塗膜を形成する。
[Coating film forming process]
In the coating film forming step, the active energy ray-curable resin composition is applied and dried on the surface of the continuous film support having knurling portions along both ends in the width direction, which is continuously conveyed, to form a coating film. Form.

塗膜形成工程の一例について、図1を参照して説明する。
図1に示すように、巻回された連続フィルム支持体10は、その先端が送り出されると、まず、ナーリング部を有する面とは反対の面に、塗布手段1により活性エネルギー線硬化樹脂組成物の塗布が行われ、その後、乾燥手段2による乾燥領域にて乾燥される。こうして、連続フィルム支持体上には、活性エネルギー線硬化樹脂組成物を塗布及び乾燥して得られる塗膜が形成される。
後述する活性エネルギー線照射工程にて、連続フィルム支持体は、温調ロールに対しナーリング部とは反対の面を接触させる。そのため、本塗膜形成工程においては、活性エネルギー線硬化樹脂組成物が塗布される面は、連続フィルム支持体のナーリング部を有する面となる。
An example of the coating film forming step will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, when the tip of the wound continuous film support 10 is sent out, the active energy ray-curable resin composition is first applied to the surface opposite to the surface having the knurled portion by the coating means 1. Is applied, and then dried in the drying area by the drying means 2. In this way, a coating film obtained by applying and drying the active energy ray-curable resin composition is formed on the continuous film support.
In the active energy ray irradiation step described later, the continuous film support brings the surface opposite to the knurling portion into contact with the temperature control roll. Therefore, in the present coating film forming step, the surface on which the active energy ray-curable resin composition is applied is the surface having the knurled portion of the continuous film support.

-連続フィルム支持体-
光学フィルムの製造に用いる連続フィルム支持体には、公知のポリマーフィルムを用いることができる。
連続フィルム支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレート(例えば、セルローストリアセテート(トリアセチルセルロース、屈折率1.48)、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート)、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリ(メタ)アクリルニトリル、脂環式構造を有するポリマー(例えば、ノルボルネン系樹脂(商品名「アートン(登録商標)」、JSR社)、非晶質ポリオレフィン(例えば、商品名「ゼオネックス(登録商標)」、日本ゼオン社))などが挙げられる。
このうち、光学異方性の低さ等の点から、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート(PET)、及び脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
-Continuous film support-
A known polymer film can be used as the continuous film support used in the production of the optical film.
Examples of polymer film materials used as continuous film supports include cellulose acylate (eg, cellulose triacetate (triacetyl cellulose, refractive index 1.48), cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate. ), Polyethylene, Polyethylene and other polyolefins, Polyethylene terephthalate, Polyethylene naphthalate and other polyesters, Polyethersulfone, Polymethylmethacrylate and other acrylic resins, Polysulfone, Polysulfone, Polysulfone, Polyether, Polymethylpentene, Polyetherketone, Poly ( Meta) Acrylic nitrile, polymer having an alicyclic structure (for example, norbornene resin (trade name "Arton (registered trademark)", JSR)), amorphous polyolefin (for example, trade name "Zeonex (registered trademark)", Japan Zeon))) and so on.
Of these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate (PET), and a polymer having an alicyclic structure are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable, from the viewpoint of low optical anisotropy and the like.

連続フィルム支持体のナーリング部が形成されていない箇所の厚みとしては、製造適性、用途等に応じて決定されればよく、例えば、3μm~250μmの範囲が好ましい。温調ロールへの巻き掛けに対する適用性が高い点等から、連続フィルム支持体の厚みは20μm以上がより好ましい。
特に、連続フィルム支持体の厚みが薄い際には、搬送位置のずれが発生し易くなる傾向があるが、関係式(1)を満たすことで、20μm~100μmの範囲の薄い連続フィルム支持体が好ましく用いることができる。
なお、材料コストの点から、連続フィルム支持体の厚みは80μm以下が好ましい。
上記のことから、連続フィルム支持体の厚みとしては、20μm~80μmが好ましく、20μm~60μmがより好ましい。
The thickness of the portion where the knurled portion of the continuous film support is not formed may be determined according to the manufacturing suitability, application, etc., and is preferably in the range of 3 μm to 250 μm, for example. The thickness of the continuous film support is more preferably 20 μm or more from the viewpoint of high applicability to winding on the temperature control roll.
In particular, when the thickness of the continuous film support is thin, the transfer position tends to be displaced. However, by satisfying the relational expression (1), a thin continuous film support in the range of 20 μm to 100 μm can be obtained. It can be preferably used.
From the viewpoint of material cost, the thickness of the continuous film support is preferably 80 μm or less.
From the above, the thickness of the continuous film support is preferably 20 μm to 80 μm, more preferably 20 μm to 60 μm.

連続フィルム支持体の幅長としては、製造適性、用途等に応じて決定されればよく、例えば、50mm~2000mmの範囲が好ましい。幅長の大きいものほど搬送位置のずれの影響が大きいが、関係式(1)を満たすことで、800mm~1500mmの幅長の連続フィルム支持体を好ましく用いることができる。 The width and length of the continuous film support may be determined according to manufacturing suitability, application, etc., and is preferably in the range of, for example, 50 mm to 2000 mm. The larger the width, the greater the influence of the displacement of the transport position. However, by satisfying the relational expression (1), a continuous film support having a width of 800 mm to 1500 mm can be preferably used.

連続フィルム支持体は、図2Aに示すような、幅方向の両端に沿ってナーリング部を有する。
ここで、「ナーリング部」とは、連続フィルム支持体において、図2Bに示すような微小な突起が設けられている部位(図2Aにおける12)を意味する。
The continuous film support has knurled portions along both ends in the width direction, as shown in FIG. 2A.
Here, the "knurling portion" means a portion (12 in FIG. 2A) of the continuous film support in which minute protrusions as shown in FIG. 2B are provided.

ナーリング部の高さ(即ち、関係式(1)におけるh)は、連続フィルム支持体の搬送位置のずれ防止の点から、1μm~20μmが好ましく、2μm~10μmがより好ましく、4μm~10μmが更に好ましい。
ナーリング部の高さは、連続フィルム支持体が有するナーリング部において、連続フィルム支持体の長手方向の先端から5000mmの2か所(即ち、幅方向の両端部のそれぞれ1か所ずつ)、及び、連続フィルム支持体の長手方向の末端から5000mmの2か所(即ち、幅方向の両端部のそれぞれ1か所ずつ)の計4か所の最大高さの平均値を指す。
具体的な測定方法は、以下の通りである。
まず、連続フィルム支持体の長手方向の先端から5000mmの位置において、連続フィルム支持体の幅方向の両端部から100mm内側から外側に向かって連続的に連続フィルム支持体の厚みを測定する。この測定により、ナーリング部が形成されていない箇所から、ナーリング部が形成されており厚みが大きくなっている領域まで、連続フィルム支持体の厚みを測定することができる。そして、ナーリング部が形成されており厚みが大きくなっている領域において測定された最も大きな値、つまり最も厚みの大きい箇所の厚みから、ナーリング部が形成されていない箇所の厚みの平均値を引いた値を、最大高さとする。これが、連続フィルム支持体が有するナーリング部の、連続フィルム支持体の長手方向の先端から5000mmの2か所(即ち、幅方向の両端部のそれぞれ1か所ずつ)における最大高さになる。
続いて、連続フィルム支持体の長手方向の末端から5000mmの位置においても、上記と同様の測定を行い、最大高さを求める。これが、連続フィルム支持体が有するナーリング部の、連続フィルム支持体の長手方向の末端から5000mmの2か所(即ち、幅方向の両端部のそれぞれ1か所ずつ)の最大高さとなる。
ここで、測定には、接触式厚み測定器((株)フジワーク、S-2270)を用いる。なお、接触式厚み測定器には、連続フィルム支持体の長手方向の先端又は末端から5000mmの位置を含む幅5mmの短冊を適用し、測定を行う。
The height of the knurled portion (that is, h k in the relational expression (1)) is preferably 1 μm to 20 μm, more preferably 2 μm to 10 μm, and 4 μm to 10 μm from the viewpoint of preventing the transfer position of the continuous film support from shifting. More preferred.
The height of the knurled portion is 5000 mm from the tip in the longitudinal direction of the continuous film support in the knurled portion of the continuous film support (that is, one at each end in the width direction), and It refers to the average value of the maximum heights at two locations (that is, one at each end in the width direction) of 5000 mm from the end in the longitudinal direction of the continuous film support, for a total of four locations.
The specific measurement method is as follows.
First, the thickness of the continuous film support is continuously measured from the inside to the outside by 100 mm from both ends in the width direction of the continuous film support at a position of 5000 mm from the tip in the longitudinal direction of the continuous film support. By this measurement, the thickness of the continuous film support can be measured from the portion where the knurling portion is not formed to the region where the knurling portion is formed and the thickness is large. Then, the average value of the thickness of the portion where the knurling portion is not formed is subtracted from the largest value measured in the region where the knurling portion is formed and the thickness is large, that is, the thickness of the portion having the largest thickness. Let the value be the maximum height. This is the maximum height of the knurled portion of the continuous film support at two locations (that is, one at each end in the width direction) of 5000 mm from the longitudinal tip of the continuous film support.
Subsequently, the same measurement as above is performed at a position of 5000 mm from the end in the longitudinal direction of the continuous film support to obtain the maximum height. This is the maximum height of the knurled portion of the continuous film support at two locations (that is, one at each end in the width direction) of 5000 mm from the longitudinal end of the continuous film support.
Here, a contact type thickness measuring instrument (Fujiwork Co., Ltd., S-2270) is used for the measurement. A strip with a width of 5 mm including a position of 5000 mm from the tip or end of the continuous film support in the longitudinal direction is applied to the contact-type thickness measuring device for measurement.

ここで、ナーリング部の幅の和(図2A中のw1+w2)の割合は、搬送位置のずれ防止の機能発現の点、製品としての有効幅を確保し、歩留りを向上させる点から、連続フィルム支持体の全幅に対して、0.5%~5.0%の範囲が好ましく、0.7%~4.0%の範囲がより好ましい。 Here, the ratio of the sum of the widths of the knurled portions (w1 + w2 in FIG. 2A) supports the continuous film from the viewpoint of developing the function of preventing the displacement of the transport position, ensuring the effective width as a product, and improving the yield. The range of 0.5% to 5.0% is preferable, and the range of 0.7% to 4.0% is more preferable with respect to the total width of the body.

連続フィルム支持体の幅方向の端部からナーリング部までの距離が0mm~15mmであることが好ましい。
ここで、連続フィルム支持体の幅方向の端部からナーリング部までの距離とは、連続フィルム支持体の幅方向の端部からナーリング部の幅方向の外端までの距離(図2Aにおける距離dに相当)を指す。即ち、ナーリング部は、図2Aに示すように、連続フィルム支持体の幅方向の各端部からの距離dが0mm~15mmである位置に形成されることが好ましい。連続フィルム支持体の幅方向の端部からナーリング部までの距離dは、ナーリング部が形成し易い点、製品としての有効幅を確保し、歩留りを向上させる点から、一般的には、0mm~20mmであればよく、0mm~15mmが好ましく、2mm~15mmがより好ましい。
The distance from the widthwise end of the continuous film support to the knurled portion is preferably 0 mm to 15 mm.
Here, the distance from the widthwise end of the continuous film support to the knurled portion is the distance from the widthwise end of the continuous film support to the widthwise outer end of the knurled portion (distance d in FIG. 2A). Equivalent to). That is, as shown in FIG. 2A, the knurling portion is preferably formed at a position where the distance d from each end portion in the width direction of the continuous film support is 0 mm to 15 mm. The distance d from the widthwise end of the continuous film support to the knurled portion is generally 0 mm or more because the knurled portion is easy to form, the effective width as a product is secured, and the yield is improved. It may be 20 mm, preferably 0 mm to 15 mm, and more preferably 2 mm to 15 mm.

ナーリング部における突起は、ナーリング部の形成の際に、連続フィルム支持体に対して押し当てられるナーリングロールが有する凸部の形状に応じて形成されるものである。凸部の形状としては、角錐台、円錐台等がある。
例えば、ナーリングロールが有する凸部の形状が、四角錐台(即ち、四角錐を底面と平行な平面で切り、頂点を有する角錐部分を取り除いた形状)であれば、連続フィルム支持体にも四角形の形状に沿って凸部(ナーリング)が形成される。
この連続フィルム支持体に形成される凸部は、ナーリングロールが有する凸部の形状の縁部のみが突出している形状であってもよい。
The protrusions in the knurling portion are formed according to the shape of the convex portion of the knurling roll pressed against the continuous film support when the knurling portion is formed. The shape of the convex portion includes a pyramid base, a truncated cone, and the like.
For example, if the shape of the convex portion of the narling roll is a quadrangular pyramid (that is, a shape in which the quadrangular pyramid is cut in a plane parallel to the bottom surface and the pyramid portion having the apex is removed), the continuous film support is also a quadrangle. A convex portion (nerling) is formed along the shape of.
The convex portion formed on the continuous film support may have a shape in which only the edge portion in the shape of the convex portion of the knurling roll protrudes.

この連続フィルム支持体に形成される凸部(ナーリング)の数は、ロール部材に対するグリップ力の発現の点、及び、ナーリング部が形成された領域の連続フィルム支持体の強度確保の点から、連続フィルム支持体におけるナーリング部を上面視したとき、1cm当たり10個~200個であることが好ましく、1cm当たり80個~150個であることがより好ましい。
なお、この凸部の観察及び数の求め方は、以下の方法で行うことができる。
即ち、凸部は連続して配列してナーリング部を形成しているため、この繰返し最小単位の数を凸部の数(「凸部密度」ともいう)とする。
凸部の数(凸部密度)は、連続フィルム支持体が有するナーリング部において、長手方向の先端の2か所(即ち、幅方向の両端部のそれぞれ1か所ずつ)及び末端の2か所(即ち、幅方向の両端部のそれぞれ1か所ずつ)の計4か所につき5mm四方を5倍拡大鏡にて観察して数え、各測定箇所の平均値を4倍した値とする。なお、得られた値は小数第一位を四捨五入し、これを凸部の数(凸部密度)とする。
なお、測定箇所は、連続フィルム支持体の長手方向の先端から5000mmで、幅方向におけるナーリング部の両外端の各々を含む5mm四方の2か所、及び、連続フィルム支持体の長手方向の末端から5000mmで、幅方向におけるナーリング部の両外端の各々を含む5mm四方の2か所とする。
なお、ナーリング部の幅が5mm未満である場合、凸部の数(凸部密度)は、ナーリング部の両外端を各々含む最大長四方を5倍拡大鏡にて観察して数え、これを1cm当たりの数に換算すればよい。例えば、ナーリング部の幅が3mmであれば、4か所につき3mm四方を5倍拡大鏡にて観察して凸部の数(凸部密度)を数え、各測定箇所の平均値を100/9倍すればよい。なお、得られた値は小数第一位を四捨五入し、これを凸部の数(凸部密度)とする。
The number of convex portions (knurling) formed on the continuous film support is continuous from the viewpoint of developing grip force on the roll member and ensuring the strength of the continuous film support in the region where the knurling portion is formed. When the knurling portion of the film support is viewed from above, the number is preferably 10 to 200 per 1 cm 2 , and more preferably 80 to 150 per 1 cm 2 .
The method of observing the convex portions and obtaining the number of the convex portions can be performed by the following method.
That is, since the convex portions are continuously arranged to form the knurled portion, the number of the repeating minimum units is referred to as the number of convex portions (also referred to as "convex portion density").
The number of protrusions (convex density) is two at the tip in the longitudinal direction (that is, one at each end in the width direction) and two at the end in the narling portion of the continuous film support. (That is, one place at each end in the width direction), 5 mm square is observed and counted with a 5x magnifying glass for a total of 4 places, and the average value of each measurement point is multiplied by 4. The obtained value is rounded off to the first decimal place, and this is taken as the number of convex portions (convex portion density).
The measurement points are 5000 mm from the tip in the longitudinal direction of the continuous film support, two points of 5 mm square including each of both outer ends of the knurled portion in the width direction, and the end in the longitudinal direction of the continuous film support. There are two places of 5 mm square including each of both outer ends of the knurled portion in the width direction at 5000 mm.
When the width of the knurled portion is less than 5 mm, the number of convex portions (convex portion density) is counted by observing the maximum length square including both outer ends of the knurled portion with a 5x magnifying glass. It may be converted into a number per 1 cm 2 . For example, if the width of the knurled portion is 3 mm, the number of convex portions (convex portion density) is counted by observing 3 mm squares at 4 locations with a 5x magnifying glass, and the average value of each measurement location is 100/9. Just double it. The obtained value is rounded off to the first decimal place, and this is taken as the number of convex portions (convex portion density).

ナーリング部は、図2Aに示すように、連続フィルム支持体の両端に沿って、連続フィルム支持体の長手方向の先端から末端まで1本の帯にて形成されていてもよいが、ナーリング部の幅の和が上述の範囲を外れなければ、複数の帯にて形成されていてもよい。 As shown in FIG. 2A, the knurling portion may be formed by a single band from the tip to the end in the longitudinal direction of the continuous film support along both ends of the continuous film support, but the knurling portion may be formed. As long as the sum of the widths does not deviate from the above range, it may be formed by a plurality of bands.

ナーリング部の形成方法は、特に制限はなく、公知のナーリング装置を用いることができる。
ナーリング装置としては、具体的には、特開2014-218016号公報等に記載の装置を用いることができる。
The method for forming the knurling portion is not particularly limited, and a known knurling device can be used.
Specifically, as the knurling device, the device described in JP-A-2014-21801 can be used.

-塗布-
塗布には、公知の塗布手段が適用される。
塗布手段として、具体的には、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等を利用した塗布装置が挙げられる。
-Apply-
Known coating means are applied for coating.
Specific examples of the coating means include curtain coating method, dip coating method, spin coating method, printing coating method, spray coating method, slot coating method, roll coating method, slide coating method, blade coating method, gravure coating method, and wire. An example is a coating device using the bar method or the like.

-乾燥-
乾燥には、公知の乾燥手段が適用される。
乾燥手段として、具体的には、オーブン、温風機、赤外線(IR)ヒーター等が挙げられる。
温風機による乾燥においては、連続フィルム支持体の塗布液が塗布された面とは反対の面から温風を当てる構成でもよく、塗布された塗布液の表面が温風にて流動しないよう、拡散板を設置した構成としてもよい。
乾燥条件は、用いた塗布液の種類、塗布量、搬送速度等に応じて決定されればよく、例えば、30℃~140℃の範囲で、10秒~10分間行うことが好ましい。
-Drying-
Known drying means are applied to the drying.
Specific examples of the drying means include an oven, a warm air blower, an infrared (IR) heater, and the like.
In drying with a warm air blower, warm air may be applied from the surface opposite to the surface on which the coating liquid of the continuous film support is applied, and the surface of the applied coating liquid is diffused so as not to flow with the warm air. It may be configured by installing a board.
The drying conditions may be determined according to the type of coating liquid used, the coating amount, the transport speed, and the like, and are preferably carried out in the range of, for example, 30 ° C. to 140 ° C. for 10 seconds to 10 minutes.

以上の塗膜形成工程を経て、活性エネルギー線により硬化する、未硬化の塗膜が形成される。
塗膜形成工程を経て得られる、塗膜の厚みは、光学フィルムの用途に応じて決定されればよい。塗膜が後述する液晶層用塗膜であれば、活性エネルギー線照射工程に供される、乾燥後の塗膜の膜厚(所謂、ドライ膜厚)で、0.5μm~10μmであることが好ましく、1μm~5μmであることがより好ましい。
また、塗膜形成工程において、後述する液晶層用塗膜を形成する場合、塗布直後の膜厚(所謂、ウエット膜厚)としては、3μm~30μmであることが好ましく、5μm~15μmであることがより好ましい。
Through the above coating film forming step, an uncured coating film that is cured by active energy rays is formed.
The thickness of the coating film obtained through the coating film forming step may be determined according to the use of the optical film. If the coating film is a liquid crystal layer coating film described later, the film thickness of the coating film after drying (so-called dry film thickness) to be subjected to the active energy ray irradiation step may be 0.5 μm to 10 μm. It is preferably 1 μm to 5 μm, and more preferably 1 μm to 5 μm.
Further, in the coating film forming step, when forming a coating film for a liquid crystal layer to be described later, the film thickness immediately after coating (so-called wet film thickness) is preferably 3 μm to 30 μm, preferably 5 μm to 15 μm. Is more preferable.

[活性エネルギー線照射工程]
活性エネルギー線照射工程では、塗膜が形成された連続フィルム支持体のナーリング部を有する面とは反対の面を、温調ロールに接触させて巻き掛け、温調ロール上の塗膜に対して活性エネルギー線を照射する。
[Active energy ray irradiation process]
In the activation energy ray irradiation step, the surface of the continuous film support on which the coating film is formed, which is opposite to the surface having the nerling portion, is brought into contact with the temperature control roll and wound around the coating film on the temperature control roll. Irradiate with active energy rays.

活性エネルギー線照射工程の一例について、図1を参照して説明する。
図1に示すように、塗膜が形成された連続フィルム支持体10は、温調ロール34に巻き掛けられており、この領域にて、温調ロール34上の塗膜に露光光源32から活性エネルギー線が照射される。
この時、温調ロール34には、連続フィルム支持体10のナーリング部とは反対の面が接触している。そのため、連続フィルム支持体10の幅方向端部が温調ロール34に対しナーリング部にて持ち上げられ、浮いてしまうことがない。
ここで、図1中、Pは連続フィルム支持体10と温調ロール34との接触点を示し、Qは連続フィルム支持体10と温調ロール34との離間点を示す。即ち、連続フィルム支持体10は、接触点Pから離間点Qまで温調ロール34に接していることとなる。
An example of the active energy ray irradiation step will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, the continuous film support 10 on which the coating film is formed is wound around the temperature control roll 34, and in this region, the coating film on the temperature control roll 34 is activated by the exposure light source 32. The energy ray is irradiated.
At this time, the surface of the continuous film support 10 opposite to the knurled portion is in contact with the temperature control roll 34. Therefore, the widthwise end portion of the continuous film support 10 is lifted by the knurling portion with respect to the temperature control roll 34 and does not float.
Here, in FIG. 1, P indicates a contact point between the continuous film support 10 and the temperature control roll 34, and Q indicates a separation point between the continuous film support 10 and the temperature control roll 34. That is, the continuous film support 10 is in contact with the temperature control roll 34 from the contact point P to the separation point Q.

-活性エネルギー線-
活性エネルギー線照射工程にて用いられる活性エネルギー線としては、照射する塗膜中に活性種を発生させうるエネルギーを付与することができるものであれば、特に制限はない。活性エネルギー線としては、具体的には、例えば、α線、γ線、X線、紫外線、赤外線、可視光線、電子線等が挙げられる。これらのうち、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、活性エネルギー線照射工程にて用いられる活性エネルギー線としては、紫外線又は電子線が好ましく、紫外線がより好ましい。
-Active energy ray-
The active energy ray used in the active energy ray irradiation step is not particularly limited as long as it can impart energy capable of generating active species to the irradiated coating film. Specific examples of the active energy ray include α-rays, γ-rays, X-rays, ultraviolet rays, infrared rays, visible rays, and electron beams. Of these, ultraviolet rays or electron beams are preferable, and ultraviolet rays are more preferable, as the active energy rays used in the active energy ray irradiation step from the viewpoint of curing sensitivity and availability of the apparatus.

-露光光源-
活性エネルギー線照射工程にて、活性エネルギー線を照射するために用いる露光光源としては、上述の活性エネルギー線を照射する光源が挙げられる。硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、露光光源としては、紫外線を照射する光源が好ましい。
紫外線を照射する光源としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー(例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、YAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザー)、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
紫外線を照射する光源から発せられる紫外線のピーク波長は、200nm~400nmが好ましい。
-Exposure light source-
Examples of the exposure light source used for irradiating the active energy ray in the active energy ray irradiation step include the above-mentioned light source for irradiating the active energy ray. From the viewpoint of curing sensitivity and availability of the apparatus, a light source that irradiates ultraviolet rays is preferable as the exposure light source.
Examples of the light source for irradiating ultraviolet rays include tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, carbon arc lamps and other lamps, and various lasers (eg, semiconductor lasers, helium neon lasers, etc.). Examples thereof include an argon ion laser, a helium cadmium laser, a YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser), a light emitting diode, and a cathode wire tube.
The peak wavelength of ultraviolet rays emitted from a light source that irradiates ultraviolet rays is preferably 200 nm to 400 nm.

-温調ロール
活性エネルギー線照射工程にて用いられる温調ロールは、特に制限無く、公知のものを用いることができる。
温調ロールとしては、例えば、表面が、ハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。
メッキの厚みは、導電性と強度とを確保する観点から40μm~60μmが好ましい。
また、温調ロールの表面粗さは、連続フィルム支持体と温調ロールとの摩擦力のバラツキを低減させる点から、表面粗さRaにて0.1μm以下が好ましい。
-Temperature control roll The temperature control roll used in the activation energy ray irradiation step is not particularly limited, and known ones can be used.
As the temperature control roll, for example, one having a hard chrome-plated surface can be preferably used.
The thickness of the plating is preferably 40 μm to 60 μm from the viewpoint of ensuring conductivity and strength.
Further, the surface roughness of the temperature control roll is preferably 0.1 μm or less in terms of the surface roughness Ra from the viewpoint of reducing the variation in the frictional force between the continuous film support and the temperature control roll.

温調ロールの表面温度は、塗膜の組成、塗膜の硬化性能、連続フィルム支持体の耐熱性等に応じて決定されればよく、60℃~250℃が好ましく、80℃~160℃がより好ましく、80℃~140℃が更に好ましい。
温調ロールの表面温度を上記の温度にすることで、塗膜の硬化速度を上げることができ、巻き掛けられる連続フィルム支持体の温度制御を行うこともできる。また、温調ロールの表面温度により、関係式(1)における空気の粘度が変化する。
温調ロールの表面温度は、以下のようにして測定される。
即ち、温調ロールの表面の、温調ロールの幅方向の任意の5点について、放射温度計(例えば、キーエンス社のFT-H30)にて表面温度を測定する。測定値の平均値を温調ロールの表面温度とする。
The surface temperature of the temperature control roll may be determined according to the composition of the coating film, the curing performance of the coating film, the heat resistance of the continuous film support, etc., preferably 60 ° C to 250 ° C, preferably 80 ° C to 160 ° C. More preferably, 80 ° C to 140 ° C is further preferable.
By setting the surface temperature of the temperature control roll to the above temperature, the curing speed of the coating film can be increased, and the temperature of the continuous film support to be wound can be controlled. Further, the viscosity of air in the relational expression (1) changes depending on the surface temperature of the temperature control roll.
The surface temperature of the temperature control roll is measured as follows.
That is, the surface temperature of the surface of the temperature control roll is measured with a radiation thermometer (for example, FT-H30 manufactured by KEYENCE CORPORATION) at any five points in the width direction of the temperature control roll. The average value of the measured values is taken as the surface temperature of the temperature control roll.

温調ロールは、表面温度を検知し、その温度に基づいて温度制御手段によって温調ロールの表面温度が維持されることが好ましい。
温調ロールの温度制御手段には、加熱手段及び冷却手段がある。加熱手段としては、誘導加熱、水加熱、油加熱等が用いられ、冷却手段としては、冷却水による冷却が用いられる。
It is preferable that the temperature control roll detects the surface temperature and the surface temperature of the temperature control roll is maintained by the temperature control means based on the temperature.
The temperature control means of the temperature control roll includes a heating means and a cooling means. As the heating means, induction heating, water heating, oil heating and the like are used, and as the cooling means, cooling with cooling water is used.

温調ロールの半径(即ち、関係式(1)中のR)としては、連続フィルム支持体が巻き掛け易い点、活性エネルギー線の照射が容易な点、及び、温調ロールの製造コストの点から、0.1m~0.5mが好ましく、0.2m~0.4mがより好ましい。 The radius of the temperature control roll (that is, R in the relational expression (1)) is that the continuous film support is easy to wind, the activation energy ray is easy to irradiate, and the manufacturing cost of the temperature control roll is high. Therefore, 0.1 m to 0.5 m is preferable, and 0.2 m to 0.4 m is more preferable.

活性エネルギー線照射工程では、活性エネルギー線の照射を張架した状態の連続フィルム支持体に対して行うため、温調ロールが巻き掛けられた連続フィルム支持体に対して長手方向(即ち搬送方向)に張力(テンションともいう)が掛けられている。
温調ロール上の連続フィルム支持体に掛ける張力(即ち、関係式(1)におけるT)としては、100N/m~700N/mが好ましく、100N/m~650N/mがより好ましく、300N/m~600N/mが更に好ましく、400N/m~600N/mが特に好ましい。
温調ロール上の連続フィルム支持体の長手方向に掛ける張力(即ちテンション)は、直接測定することができないため、以下のようにして測定される値を採用する。
即ち、温調ロールに対し、連続フィルム支持体の搬送方向下流側(例えば、連続フィルム支持体と温調ロールとの離間点から5000mm離れた位置)に設けられたテンションセンサにより、温調ロール上での連続フィルム支持体の長手方向に掛ける張力を測定する。ここで、テンションセンサとしては、例えば、ロードセルを内蔵するテンションセンサが好適であり、具体的には、ニレコ社のMBテンションセンサが挙げられる。
In the activation energy ray irradiation step, since the irradiation of the active energy ray is performed on the continuous film support in a stretched state, the longitudinal direction (that is, the transport direction) with respect to the continuous film support around which the temperature control roll is wound. Tension (also called tension) is applied to.
The tension applied to the continuous film support on the temperature control roll (that is, T in the relational expression (1)) is preferably 100 N / m to 700 N / m, more preferably 100 N / m to 650 N / m, and 300 N / m. -600 N / m is more preferable, and 400 N / m to 600 N / m is particularly preferable.
Since the tension (that is, tension) applied in the longitudinal direction of the continuous film support on the temperature control roll cannot be directly measured, the value measured as follows is adopted.
That is, the tension sensor provided on the downstream side of the continuous film support in the transport direction (for example, at a position 5000 mm away from the separation point between the continuous film support and the temperature control roll) with respect to the temperature control roll is used on the temperature control roll. Measure the tension applied in the longitudinal direction of the continuous film support at. Here, as the tension sensor, for example, a tension sensor having a built-in load cell is suitable, and specific examples thereof include an MB tension sensor manufactured by Nireco Corporation.

温調ロール上での連続フィルム支持体の搬送速度(即ち、関係式(1)におけるU)は、生産性の確保の点、及び、活性エネルギー線の照射の正確性を高める点から、5m/min~40m/min以下であることが好ましく、10m/min~30m/min以下であることがより好ましく、15m/min~25m/min以下であることが更に好ましい。
なお、温調ロール上での連続フィルム支持体の搬送速度は、温調ロールの回転速度(所謂、周速度)と一致するため、温調ロールの回転速度の値を採用すればよい。
The transport speed of the continuous film support on the temperature control roll (that is, U in the relational expression (1)) is 5 m / from the viewpoint of ensuring productivity and improving the accuracy of irradiation of active energy rays. It is preferably min to 40 m / min or less, more preferably 10 m / min to 30 m / min or less, and further preferably 15 m / min to 25 m / min or less.
Since the transport speed of the continuous film support on the temperature control roll matches the rotation speed of the temperature control roll (so-called peripheral speed), the value of the rotation speed of the temperature control roll may be adopted.

また、温調ロールに対する連続フィルム支持体のラップ角は、60°以上が好ましく、90°以上がより好ましい。
ラップ角の上限としては、例えば、180°である。
なお、ラップ角とは、連続フィルム支持体が温調ロールに接触する際の連続フィルム支持体の搬送方向と、温調ロールから連続フィルム支持体が離間する際の連続フィルム支持体の搬送方向と、からなる角度をいう。
The lap angle of the continuous film support with respect to the temperature control roll is preferably 60 ° or more, more preferably 90 ° or more.
The upper limit of the lap angle is, for example, 180 °.
The lap angle is the transport direction of the continuous film support when the continuous film support comes into contact with the temperature control roll, and the transport direction of the continuous film support when the continuous film support is separated from the temperature control roll. , The angle consisting of.

以上の活性エネルギー線照射工程を経て、塗膜が硬化され、連続フィルム支持体上に硬化膜(即ち、光学機能層)が形成される。 Through the above active energy ray irradiation step, the coating film is cured, and a cured film (that is, an optical functional layer) is formed on the continuous film support.

[ナーリング部接触工程]
ナーリング部接触工程では、連続フィルム支持体のナーリング部を有する面を、温調ロールよりも連続フィルム支持体の搬送方向下流側に設けられたロール部材に接触させる。
[Knurling part contact process]
In the knurling portion contacting step, the surface of the continuous film support having the knurling portion is brought into contact with the roll member provided on the downstream side of the continuous film support in the transport direction with respect to the temperature control roll.

ナーリング部接触工程の一例について、図1を参照して説明する。
図1に示すように、塗膜が形成された連続フィルム支持体10は、温調ロール34から離間した後、ロール部材4に巻き掛けられる。
この時、ロール部材4には、連続フィルム支持体10のナーリング部が接触しており、ナーリング部によるロール部材4へのグリップ性能が発現し、連続フィルム支持体10の搬送位置のずれを抑制する。
ここで、図1中、Sは連続フィルム支持体10とロール部材4との接触点を示す。即ち、連続フィルム支持体と温調ロールとの離間点から連続フィルム支持体とロール部材との接触点までの距離Lは、図1中の離間点Qから接触点Sまで距離をいう。
An example of the knurling portion contacting process will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, the continuous film support 10 on which the coating film is formed is separated from the temperature control roll 34 and then wound around the roll member 4.
At this time, the knurling portion of the continuous film support 10 is in contact with the roll member 4, and the grip performance of the knurling portion to the roll member 4 is exhibited, and the displacement of the transport position of the continuous film support 10 is suppressed. ..
Here, in FIG. 1, S indicates a contact point between the continuous film support 10 and the roll member 4. That is, the distance L from the separation point between the continuous film support and the temperature control roll to the contact point between the continuous film support and the roll member means the distance from the separation point Q in FIG. 1 to the contact point S.

-ロール部材-
ロール部材は、関係式(1)を満たす位置に設けられていればよい。
つまり、連続フィルム支持体と温調ロールとの離間点から連続フィルム支持体とロール部材との接触点までの距離Lが、関係式(1)における2.38×(h/h0.9未満になるように設けられていればよい。
上記のような位置にロール部材が設けられることで、既述の活性エネルギー線照射工程において、連続フィルム支持体の幅方向に搬送位置がずれてしまうことを抑制しうる。
-Roll member-
The roll member may be provided at a position satisfying the relational expression (1).
That is, the distance L from the separation point between the continuous film support and the temperature control roll to the contact point between the continuous film support and the roll member is 2.38 × (ha a / h k ) 0 in the relational expression (1). It may be provided so as to be less than 0.9 .
By providing the roll member at the position as described above, it is possible to prevent the transport position from being displaced in the width direction of the continuous film support in the above-mentioned active energy ray irradiation step.

ロール部材は、特に制限無く、公知の搬送ロールを用いることができる。
ロール部材の材質としては、特に制限はなく、表面にメッキが施されてものであってもよい。
ロール部材としては、例えば、ナーリング部による搬送位置のずれの抑制のため、表面粗さ、例えば、最大高さRzにて0.4μm~1.6μmが好ましい。
As the roll member, a known transfer roll can be used without particular limitation.
The material of the roll member is not particularly limited, and the surface may be plated.
As the roll member, for example, the surface roughness, for example, 0.4 μm to 1.6 μm at the maximum height Rz is preferable in order to suppress the deviation of the transport position due to the knurling portion.

ロール部材の半径としては、連続フィルム支持体が巻き掛け易い点、ナーリング部によるグリップ力の発現等の点から、10mm~100mmが好ましく、20mm~70mmがより好ましい。 The radius of the roll member is preferably 10 mm to 100 mm, more preferably 20 mm to 70 mm, from the viewpoint of easy winding of the continuous film support, the development of grip force by the knurled portion, and the like.

ロール部材に対する連続フィルム支持体のラップ角は、連続フィルム支持体の幅方向の搬送位置のずれを抑制し易い点から、60°以上が好ましく、90°以上がより好ましい。
ラップ角の上限としては、例えば、180°である。
The lap angle of the continuous film support with respect to the roll member is preferably 60 ° or more, and more preferably 90 ° or more, from the viewpoint of easily suppressing the deviation of the transport position in the width direction of the continuous film support.
The upper limit of the lap angle is, for example, 180 °.

以上のナーリング部接触工程後、硬化膜(即ち、光学機能層)が形成された連続フィルム支持体は、例えば、図1に示すように、ロール状に巻き取られる。 After the above knurling portion contacting step, the continuous film support on which the cured film (that is, the optical functional layer) is formed is wound into a roll, for example, as shown in FIG.

一実施形態の光学フィルムの製造方法により形成される光学機能層としては、位相差フィルムにおける光学異方性層、反射防止フィルムにおける反射防止層、防眩フィルムにおける防眩層等が挙げられる。
つまり、一実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、光学異方性層を有する位相差フィルム、反射防止層を有する反射防止フィルム、防眩層を有する防眩フィルム等が挙げられる。
Examples of the optical functional layer formed by the method for producing an optical film of one embodiment include an optically anisotropic layer in a retardation film, an antireflection layer in an antireflection film, and an antiglare layer in an antiglare film.
That is, according to the method for manufacturing an optical film of one embodiment, a retardation film having an optically anisotropic layer, an antireflection film having an antireflection layer, an antiglare film having an antiglare layer, and the like can be mentioned.

[位相差フィルムの製造方法]
以下、一実施形態の光学フィルムの製造方法の一例として、位相差フィルムの製造方法について説明する。
位相差フィルムは、連続フィルム支持体上に、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるため配向規制力を備える配向層と、配向し且つ固定化された液晶化合物を含む光学異方性層(以降、液晶層ともいう)と、がこの順に設けられたものである。
[Manufacturing method of retardation film]
Hereinafter, a method for manufacturing a retardation film will be described as an example of a method for manufacturing an optical film according to an embodiment.
The retardation film is an optically anisotropic layer containing an oriented and immobilized liquid crystal compound and an alignment layer having an orientation restricting force for arranging the liquid crystal compounds of the liquid crystal layer in a certain direction on a continuous film support (hereinafter referred to as an optically anisotropic layer). , Also referred to as a liquid crystal layer), are provided in this order.

(配向層とその形成方法)
位相差フィルムにおける配向層は、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるため配向規制力が付与されているものであれば、特に制限はない。
位相差フィルムにおける配向層は、例えば、ラビング方式で液晶化合物に対する配向規制力を付与された配向層、具体的には、ラビング処理が施された有機化合物(好ましくはポリマー)の層を挙げることができる。
ここで、ラビング方式とは、配向層形成用材料を含む塗膜(以降、配向層用塗膜ともいう)の表面をラビング布にて一定方向に擦ることで、塗膜に液晶化合物に対する配向規制力を与える方式である。また、配向層用塗膜の表面をラビング布にて一定方向に擦る処理をラビング処理という。
(Orientation layer and its formation method)
The alignment layer in the retardation film is not particularly limited as long as the alignment restricting force is applied to arrange the liquid crystal compounds of the liquid crystal layer in a certain direction.
Examples of the alignment layer in the retardation film include an alignment layer to which an orientation regulating force is applied to a liquid crystal compound by a rubbing method, specifically, a layer of an organic compound (preferably a polymer) subjected to a rubbing treatment. can.
Here, the rubbing method is a method of rubbing the surface of a coating film containing a material for forming an alignment layer (hereinafter, also referred to as a coating film for an alignment layer) with a rubbing cloth in a certain direction to regulate the orientation of the coating film with respect to a liquid crystal compound. It is a method of giving power. Further, a process of rubbing the surface of the coating film for an alignment layer with a rubbing cloth in a certain direction is called a rubbing process.

-配向層形成用材料-
配向層の形成に用いられる配向層形成用材料としては、以下に示す有機化合物と有機化合物を溶解する溶剤とを含むことが好ましい
有機化合物としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸/メタクリル酸共重合体、スチレン/マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ(N-メチロールアクリルアミド)、スチレン/ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びポリカーボネート等のポリマー、並びに、シランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。
好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ポリビルアルコール、及びアルキル基(好ましくは炭素数6以上のアルキル基)を有するアルキル変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
配向層形成用材料に用いるポリマーとしては、特に、アルキル変性ポリビルアルコールが好ましく、炭素原子数6~14のアルキル基が、-S-、-(CH)C(CN)-、又は-(C)N-CS-S-を介してポリビニルアルコールの末端又は側鎖に結合しているアルキル変性ポリビルアルコールが好ましい。
-Material for forming an alignment layer-
The material for forming the alignment layer used for forming the alignment layer preferably contains the following organic compound and a solvent for dissolving the organic compound. Examples of the organic compound include polymethylmethacrylate and acrylic acid / methacrylic acid. Polymers, styrene / maleinimide copolymers, polyvinyl alcohol, poly (N-methylolacrylamide), styrene / vinyl toluene copolymers, chlorosulfonated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefins, polyesters, polyimides, Examples thereof include polymers such as vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, carboxymethyl cellulose, polyethylene, polypropylene, and polycarbonate, and compounds such as silane coupling agents.
Examples of preferred polymers include polyimides, polystyrenes, polymers of styrene derivatives, polyvinyl alcohols, and alkyl-modified polyvinyl alcohols having an alkyl group (preferably an alkyl group having 6 or more carbon atoms).
As the polymer used as the material for forming the oriented layer, alkyl-modified polyvinyl alcohol is particularly preferable, and the alkyl group having 6 to 14 carbon atoms is —S—, − (CH 3 ) C (CN) −, or − ( C 2 H 5 ) Alkyl-modified polymer alcohol bonded to the terminal or side chain of polyvinyl alcohol via N-CS-S- is preferable.

配向層用塗膜は、既述の塗膜形成工程における塗布方法及び乾燥方法と同じ方法を用いることができ、好ましい態様も同様である。
配向層用塗膜の膜厚は、0.1μm~5μmが好ましく、0.2μm~1μmがより好ましい。
As the coating film for the alignment layer, the same methods as the coating method and the drying method in the above-mentioned coating film forming step can be used, and the preferred embodiment is also the same.
The film thickness of the coating film for the alignment layer is preferably 0.1 μm to 5 μm, more preferably 0.2 μm to 1 μm.

-配向規制力の付与-
ラビング方式の場合には、連続フィルム支持体に形成された配向層用塗膜の表面をラビング布にて一定方向に擦ればよい。
ラビング処理としては、特に制限はなく、公知の方法が適用可能である。具体的には、ラビング処理として、配向層用塗膜の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン、ポリエステル繊維等のラビング布にて一定方向に擦る方法が挙げられる。一般的には、均一性のある長さ及び太さの繊維が平均的に植毛されたラビング布を用いて、数回程度、配向層用塗膜の表面を擦る、といったラビング処理が行われる。
以上のようにして、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層が形成される。
-Giving orientation control force-
In the case of the rubbing method, the surface of the coating film for the alignment layer formed on the continuous film support may be rubbed in a fixed direction with a rubbing cloth.
The rubbing treatment is not particularly limited, and a known method can be applied. Specifically, as a rubbing treatment, a method of rubbing the surface of the coating film for an alignment layer with a rubbing cloth such as paper, gauze, felt, rubber, nylon, or polyester fiber in a certain direction can be mentioned. Generally, a rubbing treatment such as rubbing the surface of the coating film for an alignment layer several times is performed using a rubbing cloth in which fibers of uniform length and thickness are transplanted on average.
As described above, an alignment layer having an orientation regulating force with respect to the liquid crystal compound is formed.

(液晶層とその形成方法)
以上のようにして形成された配向層上には、液晶層形成用材料の塗膜(以降、液晶層用塗膜ともいう)が形成される。その後、液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向と固定とがなされ、液晶層(即ち、光学異方性層)が得られる。
一実施形態の光学フィルムの製造方法が、位相差フィルムの製造方法であった場合、液晶層用塗膜の形成が、既述の塗膜形成工程に該当し、液晶層用塗膜の形成に用いる液晶層形成用材料が、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に該当する。
(Liquid crystal layer and its formation method)
On the alignment layer formed as described above, a coating film of a material for forming a liquid crystal layer (hereinafter, also referred to as a coating film for a liquid crystal layer) is formed. After that, the liquid crystal compound in the liquid crystal layer coating film is oriented and fixed to obtain a liquid crystal layer (that is, an optically anisotropic layer).
When the method for producing an optical film of one embodiment is a method for producing a retardation film, the formation of a coating film for a liquid crystal layer corresponds to the above-mentioned coating film forming step, and is used for forming a coating film for a liquid crystal layer. The liquid crystal layer forming material used corresponds to an active energy ray-curable resin composition.

-液晶層形成用材料-
液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物を含有し、電子エネルギー線により硬化する材料である。液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物の他、必要に応じて、重合性化合物、架橋性化合物、キラル剤、配向制御剤、重合開始剤、配向助剤等の公知のその他の成分を含有していてもよい。
-Material for forming a liquid crystal layer-
The liquid crystal layer forming material is a material that contains a rod-shaped liquid crystal compound or a disk-shaped liquid crystal compound and is cured by electron energy rays. The material for forming the liquid crystal layer may be a rod-shaped liquid crystal compound or a disk-shaped liquid crystal compound, as well as other known materials such as a polymerizable compound, a crosslinkable compound, a chiral agent, an orientation control agent, a polymerization initiator, and an orientation aid, if necessary. It may contain the component of.

・棒状液晶化合物
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
-Stick-shaped liquid crystal compounds Examples of the rod-shaped liquid crystal compounds include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, and alkoxy-substituted compounds. Phenylpyrimidines, phenyldioxans, trans and alkenylcyclohexylbenzonitriles are preferably used.
Not only small molecule liquid crystal molecules as described above, but also high molecular weight liquid crystal molecules can be used.

棒状液晶化合物は、重合によって配向を固定することがより好ましく、そのため、重合性基を有する棒状液晶化合物を用いることが好ましい。
重合性を有する棒状液晶化合物としては、Makromol. Chem., 190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)、米国特許4683327号公報、同5622648号公報、同5770107号公報、国際公開第95/22586号、同第95/24455号、同第97/00600号、同第98/23580号、同第98/52905号、特開平1-272551号公報、同6-16616号公報、同7-110469号公報、同11-80081号公報、及び特開2001-328973号公報などに記載の化合物が挙げられる。
更に、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平11-513019号公報、特開2007-279688号公報等に記載のものも好ましく用いることができる。
It is more preferable to fix the orientation of the rod-shaped liquid crystal compound by polymerization, and therefore, it is preferable to use a rod-shaped liquid crystal compound having a polymerizable group.
Examples of the polymerizable rod-shaped liquid crystal compound include Makromol. Chem. , 190, 2255 (1989), Advanced Materials 5, 107 (1993), US Pat. No. 4,683,327, 5,622,648, 5770107, International Publication 95/22586, 95. / 24455, 97/00600, 98/23580, 98/52905, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-272551, No. 6-16616, No. 7-110469, No. 11- Examples thereof include compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 80081 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-328973.
Further, as the rod-shaped liquid crystal compound, for example, those described in JP-A No. 11-513019, JP-A-2007-279688, etc. can also be preferably used.

・円盤状液晶化合物
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開2007-108732号公報、特開2010-244038号公報等に記載のものを好ましく用いることができる。
-Disc-shaped liquid crystal compound As the disc-shaped liquid crystal compound, for example, those described in JP-A-2007-108732, JP-A-2010-244038 and the like can be preferably used.

液晶層用塗膜は、既述の塗膜形成工程における塗布方法及び乾燥方法と同じ方法を用いることができ、好ましい態様も同様である。 As the liquid crystal layer coating film, the same methods as the coating method and the drying method in the above-mentioned coating film forming step can be used, and the preferred embodiment is also the same.

-液晶化合物の配向-
液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向を固定する前には、液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向処理を行うことが好ましい。
配向処理は、室温等により乾燥させる、又は加熱することにより行うことができる。
配向処理で形成される液晶は、サーモトロピック性をもつ液晶化合物の場合、一般に温度又は圧力の変化により転移させることができる。また、リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。
-Orientation of liquid crystal compounds-
Before fixing the orientation of the liquid crystal compound in the liquid crystal layer coating film, it is preferable to perform the orientation treatment of the liquid crystal compound in the liquid crystal layer coating film.
The alignment treatment can be performed by drying or heating at room temperature or the like.
In the case of a liquid crystal compound having thermotropic properties, the liquid crystal formed by the orientation treatment can generally be transferred by a change in temperature or pressure. Further, in the case of a liquid crystal compound having a lyotropic property, it can be transferred by a composition ratio such as the amount of solvent.

棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する場合、ネマチック相を発現する温度領域の方が、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域よりも高いことが普通である。従って、棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域まで棒状液晶化合物を加熱し、次に、加熱温度を棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域まで低下させることにより、棒状液晶化合物をネマチック相からスメクチック相に転移させることができる。このような方法でスメクチック相とすることで、液晶化合物が高秩序度で配向した液晶が得られる。 When the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, the temperature region in which the nematic phase is expressed is usually higher than the temperature region in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase. Therefore, the rod-shaped liquid crystal compound is heated to the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the nematic phase, and then the heating temperature is lowered to the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, whereby the rod-shaped liquid crystal compound is brought into the nematic phase. Can be transferred to the smectic phase. By forming the smectic phase by such a method, a liquid crystal in which the liquid crystal compound is oriented with high order can be obtained.

棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がモノドメインを形成するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、10秒間~5分間が好ましく、10秒間~3分間が更に好ましく、10秒間~2分間が最も好ましい。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、10秒間~5分間が好ましく、10秒間~3分間が更に好ましく、10秒間~2分間が最も好ましい。
In the temperature range where the rod-shaped liquid crystal compound expresses the nematic phase, it is necessary to heat for a certain period of time until the rod-shaped liquid crystal compound forms a monodomain. The heating time is preferably 10 seconds to 5 minutes, more preferably 10 seconds to 3 minutes, and most preferably 10 seconds to 2 minutes.
In the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, it is necessary to heat for a certain period of time until the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase. The heating time is preferably 10 seconds to 5 minutes, more preferably 10 seconds to 3 minutes, and most preferably 10 seconds to 2 minutes.

液晶化合物の配向は、液晶層用塗膜を形成する際の乾燥にて行われてもよい。つまり、液晶層用塗膜と形成する際の乾燥にて、配向層上に塗布された液晶層形成用材料の乾燥と液晶化合物の配向との両方を行ってもよい。
勿論、液晶化合物の配向を、液晶層用塗膜と形成する際の乾燥とは別に行ってもよい。
The orientation of the liquid crystal compound may be performed by drying when forming the coating film for the liquid crystal layer. That is, in the drying when forming the coating film for the liquid crystal layer, both the drying of the material for forming the liquid crystal layer coated on the alignment layer and the orientation of the liquid crystal compound may be performed.
Of course, the orientation of the liquid crystal compound may be performed separately from the drying at the time of forming the coating film for the liquid crystal layer.

-液晶化合物の配向の固定-
液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向の固定には、熱重合又は活性エネルギー線による重合で、液晶層用塗膜を硬化することで行うことが好ましい。
一実施形態の光学フィルムの製造方法が、位相差フィルムの製造方法であった場合、活性エネルギー線を用いた液晶化合物の配向の固定が、既述の活性エネルギー線照射工程に該当する。
重合性を有する液晶化合物を用いる場合、活性エネルギー線の照射量が少ないと、未重合の液晶化合物が残存し、光学特性の温度変化、経時劣化等の起きる原因となる。そのため、残存する未重合の液晶化合物の割合が5%以下になるように照射条件を決めることが好ましい。
照射条件としては、液晶層形成用材料の処方、及び液晶層用塗膜の厚みにもよるが、活性エネルギー線照射量は、50mJ/cm~1000mJ/cmが好ましく、100mJ/cm~500mJ/cmがより好ましい。
-Fixing the orientation of liquid crystal compounds-
It is preferable to fix the orientation of the liquid crystal compound in the liquid crystal layer coating film by curing the liquid crystal layer coating film by thermal polymerization or polymerization with active energy rays.
When the method for producing an optical film of one embodiment is a method for producing a retardation film, fixing the orientation of the liquid crystal compound using active energy rays corresponds to the above-mentioned active energy ray irradiation step.
When a polymerizable liquid crystal compound is used, if the irradiation amount of the active energy ray is small, the unpolymerized liquid crystal compound remains, which causes temperature change of optical characteristics, deterioration with time, and the like. Therefore, it is preferable to determine the irradiation conditions so that the ratio of the remaining unpolymerized liquid crystal compound is 5% or less.
The irradiation conditions depend on the formulation of the material for forming the liquid crystal layer and the thickness of the coating film for the liquid crystal layer, but the amount of active energy rays irradiated is preferably 50 mJ / cm 2 to 1000 mJ / cm 2 , preferably 100 mJ / cm 2 to. 500 mJ / cm 2 is more preferable.

活性エネルギー線の照射に用いる光源としては、既述の塗膜形成工程における露光光源が適用でき、好ましい態様も同様である。 As the light source used for irradiating the active energy rays, the exposure light source in the above-mentioned coating film forming step can be applied, and the preferred embodiment is also the same.

その他、液晶層の詳細は、特開2008-225281号公報及び特開2008-026730号公報の記載を参酌できる。 In addition, the details of the liquid crystal layer can be referred to in JP-A-2008-22281 and JP-A-2008-026730.

以上のようにして得られた位相差フィルムは、幅方向における光学特性(例えば、レターデーション)のバラツキが少ない。
そのため、光学特性(例えば、レターデーション)の面内均一性に優れた位相差フィルムとなりうる。
The retardation film obtained as described above has little variation in optical characteristics (for example, lettering) in the width direction.
Therefore, it can be a retardation film having excellent in-plane uniformity of optical characteristics (for example, letteration).

以上、位相差フィルムの液晶層を得る際に、一実施形態の光学フィルムの製造方法を適用する例について説明したが、この他、既述の、反射防止フィルムの反射防止層、防眩フィルムの防眩層等を得る際に適用することもできる。 An example of applying the method for producing an optical film of one embodiment to obtain a liquid crystal layer of a retardation film has been described above. In addition, the antireflection layer of the antireflection film and the antiglare film described above have been described. It can also be applied when obtaining an antiglare layer or the like.

以下に、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The materials, amounts used, ratios, treatment contents, treatment procedures, etc. shown in the following examples can be appropriately changed as long as they do not deviate from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

<ナーリング部を有する連続フィルム支持体>
[連続フィルム支持体(1)~(3)]
下記表1に記載のナーリング部が形成された連続フィルム支持体(セルローストリアセテートフィルムTJ40、富士フイルム社)を用意した。
用意した連続フィルム支持体の幅長は1.34m、長さは1000mであった。
表1中、「帯の数」とは、連続フィルム支持体の幅方向の一方の端部に沿って、連続フィルム支持体の長手方向の先端から末端までに形成されたナーリング部による帯の本数を意味し、「凸部密度」とは、連続フィルム支持体におけるナーリング部を上面視したときの、1cm当たりに存在する凸部の数を意味し、「膜厚」は連続フィルム支持体のナーリング部が形成されていない箇所の厚みを示す。
<Continuous film support with knurling part>
[Continuous film support (1)-(3)]
A continuous film support (cellulose triacetate film TJ40, FUJIFILM Corporation) on which the knurled portion shown in Table 1 below was formed was prepared.
The width length of the prepared continuous film support was 1.34 m, and the length was 1000 m.
In Table 1, the "number of bands" is the number of bands formed by the narling portion formed from the tip to the end in the longitudinal direction of the continuous film support along one end in the width direction of the continuous film support. The "convex density" means the number of convex portions existing per 1 cm 2 when the nerling portion of the continuous film support is viewed from above, and the "thickness" means the continuous film support. The thickness of the portion where the knurling portion is not formed is shown.

Figure 0007004802000003
Figure 0007004802000003

[ナーリング部の測定]
連続フィルム支持体(1)~(3)について、ナーリング部の高さ、凸部の数(「凸部密度」を、前述のようにして、測定した。
測定結果を表1に示す。
[Measurement of knurling part]
For the continuous film supports (1) to (3), the height of the knurled portion and the number of convex portions (“convex portion density”) were measured as described above.
The measurement results are shown in Table 1.

[実施例1]
(配向層用塗膜の形成及びラビング処理)
長さ1000m、幅1340mm、連続フィルム支持体(1)の片面(ナーリング部を有する面)に、アルキル変性のポリビニルアルコール(ポバールMP-203、クラレ社)の2質量%水溶液を、連続フィルム支持体1m当り25ml塗布後、60℃で60秒乾燥させることにより、ドライ膜厚0.5μmの配向層用塗膜を形成した。そして、配向層用塗膜が形成された連続フィルム支持体を、30m/分の搬送速度で搬送させながら、配向層用塗膜の表面にラビング処理を施し、厚み0.5μmの配向層を形成した。
[Example 1]
(Formation of coating film for alignment layer and rubbing treatment)
A continuous film support with a length of 1000 m, a width of 1340 mm, and a 2% by mass aqueous solution of alkyl-modified polyvinyl alcohol (Poval MP-203, Kuraray Co., Ltd.) on one side (the side having a knurling portion) of the continuous film support (1). After applying 25 ml per 1 m 2 , it was dried at 60 ° C. for 60 seconds to form a coating film for an alignment layer having a dry film thickness of 0.5 μm. Then, while transporting the continuous film support on which the coating film for the alignment layer is formed at a transport speed of 30 m / min, the surface of the coating film for the alignment layer is subjected to a rubbing treatment to form an alignment layer having a thickness of 0.5 μm. did.

(液晶層用塗膜の形成:塗膜形成工程)
続いて、図1に示すように構成された装置にて、塗膜形成工程、活性エネルギー線照射工程、及びナーリング部接触工程を行った。
具体的には、下記の組成にて調製された液晶層形成用材料を、配向層上にバーコーターを用いて塗布した。
液晶層形成用材料が塗布された連続フィルム支持体を、膜面温度150℃として60秒間加熱して乾燥し、ドライ膜厚が2μmの液晶層用塗膜を形成した。
(Formation of coating film for liquid crystal layer: coating film forming process)
Subsequently, a coating film forming step, an active energy ray irradiation step, and a knurling portion contacting step were performed with the apparatus configured as shown in FIG.
Specifically, a liquid crystal layer forming material prepared with the following composition was applied onto the alignment layer using a bar coater.
The continuous film support coated with the liquid crystal layer forming material was heated and dried at a film surface temperature of 150 ° C. for 60 seconds to form a liquid crystal layer coating film having a dry film thickness of 2 μm.

-液晶層形成用材料の組成-
下記の逆波長分散液晶性化合物 R-2 : 100質量部
光重合開始剤 : 3.0質量部
(イルガキュア819、BASF社)
下記の含フッ素化合物 A : 0.8質量部
下記の架橋性ポリマー O-2(Tg:10℃) : 0.3質量部
クロロホルム : 588質量部
-Composition of material for forming liquid crystal layer-
The following inverse wavelength dispersion liquid crystal compound R-2: 100 parts by mass Photopolymerization initiator: 3.0 parts by mass (Irgacure 819, BASF)
The following fluorine-containing compound A: 0.8 parts by mass The following crosslinkable polymer O-2 (Tg: 10 ° C): 0.3 parts by mass Chloroform: 588 parts by mass

Figure 0007004802000004
Figure 0007004802000004

Figure 0007004802000005
Figure 0007004802000005

Figure 0007004802000006
Figure 0007004802000006

(紫外線の照射:活性エネルギー線照射工程)
続いて、表面温度が120℃の温調ロール(半径R:0.3m、材質ステンレス)に、液晶層用塗膜が形成された連続フィルム支持体を、温調ロールにナーリング部を有する面とは反対の面を接触させてラップ角90°で巻き掛けた。そして、巻き掛けられた領域の液晶層用塗膜に対し、空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社)を用いて紫外線を照射し、液晶化合物の配向を固定化し、液晶層を得た。紫外線の照射量は300mJ/cmであった。
ここで、温調ロール上での液晶層用塗膜が形成された連続フィルム支持体の搬送速度Uは20m/minであり、温調ロール上での塗膜が形成された連続フィルム支持体の長手方向に掛かるテンションTは、450N/mであった。
ここで、温調ロールの表面温度120℃における空気の粘度μは、2.299×10-5Pa・secとした。
(Irradiation of ultraviolet rays: activation energy ray irradiation process)
Subsequently, a continuous film support on which a coating film for a liquid crystal layer was formed was placed on a temperature control roll (radius R: 0.3 m, material stainless steel) having a surface temperature of 120 ° C., and a surface having a narling portion on the temperature control roll. Wrapped at a lap angle of 90 ° with the opposite surfaces in contact. Then, the coating film for the liquid crystal layer in the wound region was irradiated with ultraviolet rays using an air-cooled metal halide lamp (Igraphics) to fix the orientation of the liquid crystal compound, and a liquid crystal layer was obtained. The irradiation amount of ultraviolet rays was 300 mJ / cm 2 .
Here, the transport speed U of the continuous film support on which the coating film for the liquid crystal layer is formed on the temperature control roll is 20 m / min, and the continuous film support on which the coating film is formed on the temperature control roll is formed. The tension T applied in the longitudinal direction was 450 N / m.
Here, the viscosity μ of air at a surface temperature of 120 ° C. of the temperature control roll was set to 2.299 × 10-5 Pa · sec.

(ナーリング部接触工程)
活性エネルギー線照射工程後、ロール部材(半径50mm、材質ステンレス)側へ液晶層が形成された連続フィルム支持体を搬送し、液晶層とは同じ面にあるナーリング部をロール部材へと接触させて、ラップ角90°で巻き掛けた。
連続フィルム支持体と温調ロールとの離間点から連続フィルム支持体とロール部材との接触点までの距離Lは、2mであった。
(Knurling part contact process)
After the activation energy ray irradiation step, the continuous film support on which the liquid crystal layer is formed is conveyed to the roll member (radius 50 mm, material stainless steel) side, and the narling portion on the same surface as the liquid crystal layer is brought into contact with the roll member. , Wrapped at a lap angle of 90 °.
The distance L from the separation point between the continuous film support and the temperature control roll to the contact point between the continuous film support and the roll member was 2 m.

以上のようにして、実施例1の位相差フィルムを得た。
実施例1における各条件は、表2にまとめた。
As described above, the retardation film of Example 1 was obtained.
Each condition in Example 1 is summarized in Table 2.

[実施例2~7、及び比較例1~8]
連続フィルム支持体(1)を下記表2に記載の連続フィルム支持体(2)~(3)のいずれかに代えた、及び/又は、各条件の値を下記表2に記載の値に変えた以外は、実施例1と同様にして、位相差フィルムを作製した。
[Examples 2 to 7 and Comparative Examples 1 to 8]
The continuous film support (1) was replaced with any of the continuous film supports (2) to (3) shown in Table 2 below, and / or the values of each condition were changed to the values shown in Table 2 below. A retardation film was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.

[評価:光学特性のバラツキの評価]
上記実施例及び比較例で作製した位相差フィルムについて、幅方向における光学特性のバラツキを、下記方法及び評価基準に基づいて評価した。結果を表2に示す。
[Evaluation: Evaluation of variations in optical characteristics]
With respect to the retardation films produced in the above Examples and Comparative Examples, the variation in optical characteristics in the width direction was evaluated based on the following method and evaluation criteria. The results are shown in Table 2.

得られた位相差フィルムの末端(即ち、巻き終わり側の端部)から長手方向に、1m、500m、及び999mの3箇所につき、幅方向の13点(具体的には、幅方向片端部から100mm間隔で6点、50mm間隔で1点、更に50mm間隔を空けて1点、続いて100mm間隔で5点の計13点)について、レターデーションを測定した。
幅方向13点のレターデーションの測定値から最大値と最小値との差分を求め、この差分が上記3箇所のうち最大のものを評価の対象とした。差分が大きいほど、幅方向における光学特性のバラツキが大きいこととなる。
レターデーションの測定には、自動複屈折率計(KOBRA-21ADH、王子計測機器(株)
13 points in the width direction (specifically, from one end in the width direction) at three locations of 1 m, 500 m, and 999 m in the longitudinal direction from the end (that is, the end on the winding end side) of the obtained retardation film. Letterings were measured at 6 points at 100 mm intervals, 1 point at 50 mm intervals, 1 point at 50 mm intervals, and 5 points at 100 mm intervals, for a total of 13 points).
The difference between the maximum value and the minimum value was obtained from the measured values of the lettering at 13 points in the width direction, and the one having the maximum difference among the above three points was evaluated. The larger the difference, the larger the variation in optical characteristics in the width direction.
For measurement of letteration, automatic birefringence index meter (KOBRA-21ADH, Oji Measuring Instruments Co., Ltd.)

Figure 0007004802000007
Figure 0007004802000007

表2に明らかなように、実施例の位相差フィルムは、比較例の位相差フィルムに比べて、幅方向における光学特性のバラツキが抑制されていることが分かる。 As is clear from Table 2, it can be seen that the retardation film of the example suppresses the variation in the optical characteristics in the width direction as compared with the retardation film of the comparative example.

〔符号の説明〕
1 塗布手段
2 乾燥手段
10 連続フィルム支持体
12 ナーリング部
32 露光光源
34 温調ロール
4 ロール部材
d ナーリング部の連続フィルム支持体の幅方向の各端部からの距離
w1 ナーリング部の幅
w2 ナーリング部の幅
P 連続フィルム支持体と温調ロールとの接触点
Q 連続フィルム支持体と温調ロールとの離間点
S 連続フィルム支持体とロール部材との接触点
[Explanation of sign]
1 Applying means 2 Drying means 10 Continuous film support 12 Knurling part 32 Exposure light source 34 Temperature control roll 4 Roll member d Distance from each end of the continuous film support of the knurling part in the width direction w1 knurling part width w2 Narling part Width P Contact point between continuous film support and temperature control roll Q Separation point between continuous film support and temperature control roll S Contact point between continuous film support and roll member

2018年3月28日に出願された日本出願2018-062709の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
The disclosure of Japanese application 2018-062709 filed on 28 March 2018 is incorporated herein by reference in its entirety.
All documents, patent applications, and technical standards described herein are to the same extent as if the individual documents, patent applications, and technical standards were specifically and individually stated to be incorporated by reference. Incorporated by reference herein.

Claims (9)

連続搬送される、幅方向の両端に沿ってナーリング部を有する連続フィルム支持体のナーリング部を有する面に、活性エネルギー線硬化樹脂組成物を塗布及び乾燥して塗膜を形成する工程と、
塗膜が形成された連続フィルム支持体のナーリング部を有する面とは反対の面を、温調ロールに接触させて巻き掛け、温調ロール上の塗膜に対して活性エネルギー線を照射する工程と、
連続フィルム支持体のナーリング部を有する面を、温調ロールよりも連続フィルム支持体の搬送方向下流側に設けられたロール部材に接触させる工程と、
を有し、
温調ロール上の連続フィルム支持体の搬送速度をUとし、温調ロールの表面温度における空気の粘度をμとし、温調ロールの半径をRとし、ナーリング部の高さをhとし、温調ロール上の連続フィルムに掛かる張力をTとし、連続フィルム支持体と温調ロールとの離間点から連続フィルム支持体とロール部材との接触点までの距離をLとしたとき、以下の関係式(1)を満たす、光学フィルムの製造方法。
Figure 0007004802000008


関係式(1)中、Lの単位はmであり、Uの単位はm/minであり、μの単位はPa・secであり、hの単位はmであり、Rの単位はmであり、Tの単位はN/mである。
A step of applying and drying the active energy ray-curable resin composition on the surface of a continuous film support having knurled portions along both ends in the width direction, which is continuously conveyed, to form a coating film.
A step of wrapping the surface of the continuous film support on which the coating film is formed, which is opposite to the surface having the knurled portion, in contact with the temperature control roll and irradiating the coating film on the temperature control roll with active energy rays. When,
A step of bringing the surface of the continuous film support having a knurled portion into contact with a roll member provided on the downstream side of the continuous film support in the transport direction from the temperature control roll.
Have,
The transport speed of the continuous film support on the temperature control roll is U, the viscosity of the air at the surface temperature of the temperature control roll is μ, the radius of the temperature control roll is R, the height of the knurling portion is h k , and the temperature is high. When the tension applied to the continuous film on the adjusting roll is T and the distance from the separation point between the continuous film support and the temperature controlling roll to the contact point between the continuous film support and the roll member is L, the following relational expression A method for manufacturing an optical film that satisfies (1).
Figure 0007004802000008


In the relational expression (1), the unit of L is m, the unit of U is m / min, the unit of μ is Pa · sec, the unit of h k is m, and the unit of R is m. Yes, the unit of T is N / m.
温調ロール上の連続フィルム支持体の搬送速度Uが5m/min~40m/minである、請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for manufacturing an optical film according to claim 1, wherein the transport speed U of the continuous film support on the temperature control roll is 5 m / min to 40 m / min. 温調ロールの半径Rが0.2m~0.4mである、請求項1又は請求項2に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to claim 1 or 2, wherein the radius R of the temperature control roll is 0.2 m to 0.4 m. 温調ロールの表面温度が80℃~160℃である、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 3, wherein the surface temperature of the temperature control roll is 80 ° C to 160 ° C. 連続フィルム支持体のナーリング部の高さhが1μm~20μmである、請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 4, wherein the height h k of the knurled portion of the continuous film support is 1 μm to 20 μm. 温調ロール上の連続フィルムに掛かる張力Tが100N/m~600N/mである、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 5, wherein the tension T applied to the continuous film on the temperature control roll is 100 N / m to 600 N / m. 連続フィルム支持体のナーリング部が形成されていない箇所の厚みが20μm~100μmである、請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 6, wherein the thickness of the portion where the knurled portion of the continuous film support is not formed is 20 μm to 100 μm. 連続フィルム支持体の幅長が50mm~2000mmである、請求項1~請求項7のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for manufacturing an optical film according to any one of claims 1 to 7, wherein the width length of the continuous film support is 50 mm to 2000 mm. ロール部材の半径が20mm~70mmである、請求項1~請求項8のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for manufacturing an optical film according to any one of claims 1 to 8, wherein the radius of the roll member is 20 mm to 70 mm.
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