JP6955304B2 - Optical film manufacturing method - Google Patents
Optical film manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP6955304B2 JP6955304B2 JP2018065502A JP2018065502A JP6955304B2 JP 6955304 B2 JP6955304 B2 JP 6955304B2 JP 2018065502 A JP2018065502 A JP 2018065502A JP 2018065502 A JP2018065502 A JP 2018065502A JP 6955304 B2 JP6955304 B2 JP 6955304B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating film
- film
- support
- continuous
- heated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
本開示は、光学フィルムの製造方法に関するものである。 The present disclosure relates to a method for producing an optical film.
近年、光学フィルムの需要が増加しつつある。光学フィルムの代表的なものとして、位相差フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム等が挙げられる。 In recent years, the demand for optical films has been increasing. Typical optical films include retardation films, antireflection films, antiglare films and the like.
光学フィルムは、生産性向上のため、長尺のフィルム状支持体(以降、「連続フィルム支持体」)を用い、ロールトゥロール(Roll to Roll)方式での連続プロセスによって製造される。
光学フィルムの製造方法の1例として、連続フィルム支持体の表面に、活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液を塗布し、乾燥させて塗膜を形成する塗膜形成工程と、形成された塗膜に活性エネルギー線を照射して硬化させる硬化工程と、を有し、連続フィルム支持体の表面に目的とする光学機能層を形成する方法が挙げられる。
The optical film is manufactured by a roll-to-roll continuous process using a long film-like support (hereinafter, "continuous film support") in order to improve productivity.
As an example of a method for producing an optical film, a coating film forming step of applying a coating liquid having a composition cured by active energy rays to the surface of a continuous film support and drying the coating film to form a coating film, and the formed coating film. Examples thereof include a method having a curing step of irradiating a film with active energy rays to cure the film, and forming a target optical functional layer on the surface of a continuous film support.
光学フィルムの製造方法に適用される塗布膜の硬化方法として、例えば、特許文献1に記載の方法がある。
特許文献1には、走行する帯状の可撓性支持体の表面に形成された活性線硬化樹脂よりなる塗布膜に複数台の活性線照射手段により活性線を照射して塗布膜を硬化させる塗布膜の硬化方法において、1台以上の活性線照射手段により活性線が照射された可撓性支持体を次段の活性線照射手段に走行させるまでの間、塗布膜を脱酸素雰囲気に保つ塗布膜の硬化方法が開示されている。そして、特許文献1には、複数台の活性線照射手段同士の間に密閉空間を形成し、密閉空間内に不活性ガスを供給すること、及び、塗布膜に対する活性線の照射を、塗布膜を有する可撓性支持体を加温したバックアップロールに巻き掛けて行うことが開示されている。
As a method for curing a coating film applied to a method for producing an optical film, for example, there is a method described in Patent Document 1.
In Patent Document 1, a coating film made of an active ray-curable resin formed on the surface of a traveling strip-shaped flexible support is irradiated with active rays by a plurality of active ray irradiating means to cure the coating film. In the method of curing a film, a coating film is kept in a deoxidized atmosphere until a flexible support irradiated with active rays by one or more active ray irradiation means is run on a next-stage active ray irradiation means. A method for curing a film is disclosed. Then, in Patent Document 1, a closed space is formed between a plurality of active ray irradiating means, the inert gas is supplied into the closed space, and the coating film is irradiated with the active ray. It is disclosed that the flexible support having the above-mentioned is wound around a heated backup roll.
また、特許文献2には、長尺の基材フィルム及び硬化層を備える光学フィルムの製造方法であって、基材フィルムと、活性エネルギー線によって硬化しうる硬化前層と、を備えた複層フィルムの基材フィルムを、基材フィルムの有効部分が空中にある状態で、加熱する工程と、加熱された基材フィルムを、30℃以上のバックロールに接触させた状態で、硬化前層に活性エネルギー線を照射することによって、硬化前層を硬化させて硬化層を得る工程と、を含む、光学フィルムの製造方法が開示されている。また、特許文献2には、硬化前層への活性エネルギー線の照射を、不活性ガス雰囲気下で行うことについても開示されている。
Further,
更に、特許文献3には、樹脂フィルム上に活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた後、樹脂フィルムを搬送しながら、活性エネルギー線硬化性樹脂層に光源から活性エネルギー線を照射して硬化を行うハードコートフィルムの製造方法であって、軸方向が樹脂フィルムの幅方向と平行になるように設置されたガス供給管を用いて、不活性ガスを、活性エネルギー線が照射される活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面に供給するハードコートフィルムの製造方法、が開示されている。また、特許文献3には、樹脂フィルムをその背面でバックアップロールにて支持及び搬送しながら、活性エネルギー線の照射および不活性ガスの供給を行うことも開示されている。
Further, in
加えて、特許文献4には、被着体の被貼付面に貼付されたエネルギー線硬化型の接着剤層を有する接着シートに対しエネルギー線を照射するエネルギー線照射装置において、エネルギー線照射領域に不活性ガスを供給する前に不活性ガスを加熱する加熱手段を備えるエネルギー線照射装置が開示されている。 In addition, Patent Document 4 describes in the energy ray irradiation region in an energy ray irradiating device for irradiating an adhesive sheet having an energy ray-curable adhesive layer attached to an adherend surface of an adherend with energy rays. An energy ray irradiation device including a heating means for heating the inert gas before supplying the inert gas is disclosed.
光学フィルムの製造において、上記した硬化工程は、酸素による硬化反応の阻害を抑制するため、例えば、不活性ガスを充填した反応室に、塗膜が形成された連続フィルム支持体を搬送し、通過させている最中に行われる。
また、活性エネルギー線の照射による塗膜の硬化は、硬化反応の促進のために、上記の反応室内で、加温したバックアップロールに、塗膜が形成された支持体を巻き掛けて行われることがある。
しかしながら、塗膜が形成された連続フィルム支持体が、反応室内にて加温したバックアップロールに接触すると、塗膜が形成された側とバックアップロールに接触する側とで温度差ができ、この温度差に起因するシワが発生することがある。
発生したシワが大きい場合又は多い場合には、光学フィルムの光学性能が不均一となり、製品としての品質が低下してしまう。
ここで、上記の温度差に起因するシワは、連続フィルム支持体に幅方向に数mmの大きさで数個〜数100個並んで発生する、波打ち形状のシワをいう。このシワは、連続フィルム支持体における接合部(即ち、長尺にするためにフィルム同士を接合した連結部)などとは関係なく定常的に発生し易い。シワが大きい場合(強い場合)には、シワが長手方向に連続してしまうこともある。
In the production of the optical film, in the above-mentioned curing step, in order to suppress the inhibition of the curing reaction by oxygen, for example, the continuous film support on which the coating film is formed is conveyed and passed through the reaction chamber filled with the inert gas. It is done during the process.
Further, the coating film is cured by irradiation with active energy rays in order to accelerate the curing reaction by wrapping a support on which the coating film is formed around a heated backup roll in the above reaction chamber. There is.
However, when the continuous film support on which the coating film is formed comes into contact with the backup roll heated in the reaction chamber, a temperature difference is formed between the side on which the coating film is formed and the side in contact with the backup roll, and this temperature. Wrinkles may occur due to the difference.
If the generated wrinkles are large or large, the optical performance of the optical film becomes non-uniform, and the quality of the product deteriorates.
Here, the wrinkles caused by the above temperature difference refer to wrinkles having a wavy shape, which are generated by arranging several to several hundreds of wrinkles in a size of several mm in the width direction on the continuous film support. This wrinkle tends to occur constantly regardless of the joint portion in the continuous film support (that is, the joint portion in which the films are joined to make the film longer). If the wrinkles are large (strong), the wrinkles may be continuous in the longitudinal direction.
特許文献1に記載の塗布膜の硬化方法では、塗布膜を有する可撓性支持体の塗布膜に活性線を照射する際、塗布膜が形成された側と加温したバックアップロールに接触する側とで温度差ができ、シワが発生してしまう。
特許文献2に記載の光学フィルムの製造方法の場合にも、硬化前層を有する基材フィルムの硬化前層に活性エネルギー線を照射する際、硬化前層が形成された側と加温したバックロールに接触する側とで温度差ができ、シワが発生してしまう。
特許文献3に記載のハードコートフィルムの製造方法では、バックアップロールの加温については言及されていない。
特許文献4に記載のエネルギー線照射装置は、エネルギー線の照射を、エネルギー線硬化型の接着剤層を有する樹脂フィルムを、バックアップロールに巻き掛けて行うことについては言及されていない。
In the method for curing a coating film described in Patent Document 1, when the coating film of a flexible support having a coating film is irradiated with active rays, the side on which the coating film is formed and the side in contact with a heated backup roll There is a temperature difference between and, and wrinkles occur.
Also in the case of the method for producing an optical film described in
In the method for producing a hard coat film described in
The energy ray irradiating apparatus described in Patent Document 4 does not mention that the energy ray irradiation is performed by wrapping a resin film having an energy ray-curable adhesive layer around a backup roll.
そこで、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、上記事情に鑑みてなされたものであり、活性エネルギー線による塗膜の硬化工程を含む光学フィルムの製造方法において、シワの発生が低減された光学フィルムの製造方法の提供を提供することを目的とする。 Therefore, the problem to be solved by one embodiment of the present invention has been made in view of the above circumstances, and the occurrence of wrinkles is reduced in the method for producing an optical film including a step of curing a coating film with active energy rays. It is an object of the present invention to provide a method for producing an optical film.
上記課題を解決するための手段は、以下の実施形態を含む。
<1> 連続フィルム支持体上に、活性エネルギー線により硬化する塗膜を形成する塗膜形成工程と、
不活性ガスが供給及び充填され且つ加熱手段により内部雰囲気が加温された反応室内の、塗膜が形成された連続フィルム支持体を加温されたバックアップロールに巻き掛けた領域にて、塗膜に対し活性エネルギー線を照射して、塗膜を硬化させる硬化工程と、
を有する光学フィルムの製造方法。
Means for solving the above problems include the following embodiments.
<1> A coating film forming step of forming a coating film cured by active energy rays on a continuous film support, and
In the reaction chamber where the inert gas is supplied and filled and the internal atmosphere is heated by the heating means, the coating film is formed in the region where the continuous film support on which the coating film is formed is wound around the heated backup roll. The curing process of irradiating the film with active energy rays to cure the coating film,
A method for producing an optical film having.
<2> 反応室内の内部雰囲気を加温する加熱手段が、不活性ガスを加熱する加熱手段である、<1>に記載の光学フィルムの製造方法。
<3> 加熱手段が反応室内に供給される不活性ガスを加熱することにより、反応室内の内部雰囲気を加温する、<1>又は<2>に記載の光学フィルムの製造方法。
<2> The method for producing an optical film according to <1>, wherein the heating means for heating the internal atmosphere in the reaction chamber is the heating means for heating the inert gas.
<3> The method for producing an optical film according to <1> or <2>, wherein the heating means heats the inert gas supplied to the reaction chamber to heat the internal atmosphere in the reaction chamber.
<4> 連続フィルム支持体上に、活性エネルギー線により硬化する塗膜を形成する塗膜形成工程と、
不活性ガスが供給及び充填された反応室内において、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱し、且つ、塗膜が形成された連続フィルム支持体を加温されたバックアップロールに巻き掛けた領域にて塗膜に対し活性エネルギー線を照射して、塗膜を硬化させる硬化工程と、
を有する光学フィルムの製造方法。
<4> A coating film forming step of forming a coating film cured by active energy rays on a continuous film support, and
In the reaction chamber to which the inert gas is supplied and filled, the surface of the continuous film support on which the coating film is formed is heated, and the continuous film support on which the coating film is formed is wound on a heated backup roll. A curing step of irradiating the coating film with active energy rays in the applied area to cure the coating film,
A method for producing an optical film having.
<5> 加温された不活性ガスにより連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱する、<4>に記載の光学フィルムの製造方法。
<6> 加温された不活性ガスを連続フィルム支持体の塗膜が形成された面に当てて、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱する、<4>又は<5>に記載の光学フィルムの製造方法。
<5> The method for producing an optical film according to <4>, wherein the surface on which the coating film of the continuous film support is formed is heated by the heated inert gas.
<6> A heated inert gas is applied to the surface of the continuous film support on which the coating film is formed to heat the surface of the continuous film support on which the coating film is formed. <4> or <5> The method for producing an optical film according to.
<7> 反応室内において、連続フィルム支持体とバックアップロールとの離間地点までにある連続フィルム支持体の塗膜が形成された面に加温された不活性ガスを当てて、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱する、<6>に記載の光学フィルムの製造方法。
<8> 反応室内において、連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点までにある連続フィルム支持体の塗膜が形成された面に加温された不活性ガスを当てて、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱する、<6>又は<7>に記載の光学フィルムの製造方法。
<7> In the reaction chamber, a heated inert gas is applied to the surface of the continuous film support on which the coating film is formed up to the separation point between the continuous film support and the backup roll, and the continuous film support is subjected to. The method for producing an optical film according to <6>, wherein the surface on which the coating film is formed is heated.
<8> In the reaction chamber, a heated inert gas is applied to the surface of the continuous film support on which the coating film is formed up to the contact point between the continuous film support and the backup roll, and the continuous film support is subjected to. The method for producing an optical film according to <6> or <7>, wherein the surface on which the coating film is formed is heated.
<9> 塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みが3μm以上115μm以下である、<1>〜<8>のいずれか1に記載の光学フィルムの製造方法。
<10> 反応室内でのバックアップロールの表面温度が80℃以上250℃以下である、<1>〜<9>のいずれか1に記載の光学フィルムの製造方法。
<9> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <8>, wherein the total thickness of the continuous film support on which the coating film is formed is 3 μm or more and 115 μm or less.
<10> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <9>, wherein the surface temperature of the backup roll in the reaction chamber is 80 ° C. or higher and 250 ° C. or lower.
<11> 反応室内の、連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点における温度をT1℃とし、加温されたバックアップロールの表面温度をT2℃とした場合、T1はT2−20℃以上T2+20℃以下である、<1>〜<10>のいずれか1に記載の光学フィルムの製造方法。 <11> in the reaction chamber, when the temperature at the contact point between the continuous film support and the backup roll and T 1 ° C., the surface temperature of the backup roll which is heated to a T 2 ° C., T 1 is T 2 -20 The method for producing an optical film according to any one of <1> to <10>, wherein the temperature is not less than or equal to T 2 and not more than 20 ° C.
<12> 反応室内の、連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点における温度をT1℃とし、加温されたバックアップロールの表面温度をT2℃とし、塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みをtμmとした場合、下記式(1)を満たす、<1>〜<10>のいずれか1に記載の光学フィルムの製造方法。
式(1) 0≦|T2−T1|≦t
<12> The temperature at the contact point between the continuous film support and the backup roll in the reaction chamber is T 1 ° C, the surface temperature of the heated backup roll is T 2 ° C, and the continuous film support on which the coating film is formed. The method for producing an optical film according to any one of <1> to <10>, which satisfies the following formula (1) when the total thickness of the body is tμm.
Equation (1) 0 ≤ | T 2- T 1 | ≤ t
<13> 塗膜形成工程後で硬化工程前に、塗膜が形成された連続フィルム支持体を加熱する前加熱工程を更に有する、<1>〜<12>のいずれか1に記載の光学フィルムの製造方法。 <13> The optical film according to any one of <1> to <12>, further comprising a preheating step of heating the continuous film support on which the coating film is formed after the coating film forming step and before the curing step. Manufacturing method.
本発明の一実施形態によれば、活性エネルギー線による塗膜の硬化工程を含む光学フィルムの製造方法において、シワの発生が低減された光学フィルムの製造方法が提供される。 According to one embodiment of the present invention, there is provided a method for producing an optical film in which the occurrence of wrinkles is reduced in the method for producing an optical film including a step of curing a coating film with active energy rays.
以下、光学フィルムの製造方法の実施形態について説明する。但し、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。 Hereinafter, embodiments of a method for manufacturing an optical film will be described. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and can be carried out with appropriate modifications within the scope of the object of the present invention.
本開示において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示にて示す各図面における各要素は必ずしも正確な縮尺ではなく、本開示の原理を明確に示すことに主眼が置かれており、強調がなされている箇所もある。
また、各図面において、同一機能を有する構成要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
本開示において、「加温」とは、対象物の温度を目的とする温度まで上昇させることを意味する。
The numerical range indicated by using "~" in the present disclosure means a range including the numerical values before and after "~" as the minimum value and the maximum value, respectively.
In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described stepwise. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
Each element in each of the drawings presented in this disclosure is not necessarily on an exact scale, with an emphasis on clearly showing the principles of this disclosure and some emphasis.
Further, in each drawing, components having the same function are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted.
In the present disclosure, "warming" means raising the temperature of an object to a desired temperature.
≪光学フィルムの製造方法≫
本発明者らは、ロールトゥロール方式での連続プロセスでの活性エネルギー線による塗膜の硬化工程を含む光学フィルムの製造方法について検討を行ったところ、以下の方法にて、シワの発生を低減できることを見出した。
即ち、塗膜が形成された連続フィルム支持体の塗膜への活性エネルギー線の照射を、不活性ガスが充填した反応室にて、加温したバックアップロールに塗膜が形成された支持体を巻き掛けて行う、硬化工程において、反応室内の雰囲気温度を加熱手段により加温する、又は、反応室にて連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱する、方法である。
上記の方法を採用することで、塗膜が形成された連続フィルム支持体が反応室内にて加温したバックアップロールに接触した際、塗膜が形成された側とバックアップロールに接触する側との間にできる温度差を間接的又は直接的に小さくすることができる。その結果、塗膜が形成された側とバックアップロールに接触する側との間でできる温度差に起因するシワの発生を低減することができる。
≪Manufacturing method of optical film≫
The present inventors have studied a method for producing an optical film including a step of curing a coating film with active energy rays in a continuous process of a roll-to-roll method, and as a result, the occurrence of wrinkles is reduced by the following method. I found out what I could do.
That is, the coating film of the continuous film support on which the coating film is formed is irradiated with active energy rays, and the support having the coating film formed on the back-up roll heated in the reaction chamber filled with the inert gas is applied. In the curing step of winding, the atmospheric temperature in the reaction chamber is heated by a heating means, or the surface on which the coating film of the continuous film support is formed is heated in the reaction chamber.
By adopting the above method, when the continuous film support on which the coating film is formed comes into contact with the backup roll heated in the reaction chamber, the side where the coating film is formed and the side which comes into contact with the backup roll The temperature difference between them can be reduced indirectly or directly. As a result, it is possible to reduce the occurrence of wrinkles due to the temperature difference formed between the side on which the coating film is formed and the side in contact with the backup roll.
〔第1の実施形態及び第2の実施形態〕
以上のことから、第1の実施形態の光学フィルムの製造方法は、連続フィルム支持体上に、活性エネルギー線により硬化する塗膜を形成する塗膜形成工程(以降、「塗膜形成工程(1)」ともいう)と、不活性ガスが供給及び充填され且つ加熱手段により内部雰囲気が加温された反応室内の、塗膜が形成された連続フィルム支持体を加温されたバックアップロールに巻き掛けた領域にて、塗膜に対し活性エネルギー線を照射して、塗膜を硬化させる硬化工程(以降、「硬化工程(1)」ともいう)と、を有する光学フィルムの製造方法である。
[First Embodiment and Second Embodiment]
From the above, the method for producing an optical film of the first embodiment is a coating film forming step of forming a coating film cured by active energy rays on a continuous film support (hereinafter, "coating film forming step (1)". ) ”), And the continuous film support on which the coating film is formed is wrapped around the heated backup roll in the reaction chamber where the inert gas is supplied and filled and the internal atmosphere is heated by the heating means. This is a method for producing an optical film, which comprises a curing step (hereinafter, also referred to as “curing step (1)”) of irradiating the coating film with active energy rays to cure the coating film in the region.
また、第2の実施形態の光学フィルムの製造方法は、連続フィルム支持体上に、活性エネルギー線により硬化する塗膜を形成する塗膜形成工程(以降、「塗膜形成工程(2)」ともいう)と、不活性ガスが供給及び充填された反応室内において、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱し、且つ、塗膜が形成された連続フィルム支持体を加温されたバックアップロールに巻き掛けた領域にて塗膜に対し活性エネルギー線を照射して、塗膜を硬化させる硬化工程(以降、「硬化工程(2)」ともいう)と、を有する光学フィルムの製造方法である。 Further, the method for producing an optical film of the second embodiment is also referred to as a coating film forming step (hereinafter, "coating film forming step (2)") for forming a coating film cured by active energy rays on a continuous film support. In the reaction chamber to which the inert gas was supplied and filled, the surface of the continuous film support on which the coating film was formed was heated, and the continuous film support on which the coating film was formed was heated. A method for producing an optical film, which comprises a curing step (hereinafter, also referred to as "curing step (2)") of irradiating the coating film with active energy rays in a region wound around a backup roll to cure the coating film. Is.
第1の実施形態及び第2の実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、硬化工程(1)又は硬化工程(2)を経ることで、連続フィルム支持体上には硬化膜が形成される。
形成される硬化膜は、光学フィルムにおける光学機能層(例えば、光学異方性層、反射防止層、防眩層、レンチキュラーレンズ層等)となる。
)となる。
According to the method for producing an optical film of the first embodiment and the second embodiment, a cured film is formed on the continuous film support through the curing step (1) or the curing step (2). ..
The cured film formed becomes an optical functional layer (for example, an optically anisotropic layer, an antireflection layer, an antiglare layer, a lenticular lens layer, etc.) in the optical film.
).
以下、まず、第1の実施形態の光学フィルムの製造方法における塗膜形成工程(1)及び硬化工程(1)の詳細について説明する。 Hereinafter, details of the coating film forming step (1) and the curing step (1) in the method for producing an optical film of the first embodiment will be described first.
[塗膜形成工程(1)]
塗膜形成工程(1)では、連続フィルム支持体上に、活性エネルギー線により硬化する塗膜を形成する。
塗膜形成工程(1)は、活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液を用い、この塗布液を、連続フィルム支持体上に塗布し、乾燥させることで行われることが好ましい。
[Coating film forming step (1)]
In the coating film forming step (1), a coating film cured by active energy rays is formed on the continuous film support.
The coating film forming step (1) is preferably carried out by using a coating liquid having a composition that is cured by active energy rays, applying this coating liquid on a continuous film support, and drying the coating liquid.
塗膜形成工程(1)の一例について、図1を参照して説明する。
図1に示すように、巻回された連続フィルム支持体Fは、その先端が送り出されると、まず、塗布手段1により活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液の塗布が行われ、その後、乾燥手段2による乾燥領域にて乾燥される。こうして、連続フィルム支持体上には、活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液を塗布及び乾燥して得られる塗膜が形成される。
An example of the coating film forming step (1) will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, when the tip of the wound continuous film support F is sent out, the coating means 1 first applies a coating liquid having a composition that is cured by active energy rays, and then the film is dried. It is dried in the drying area by
−連続フィルム支持体−
光学フィルムの製造に用いる連続フィルム支持体には、公知のポリマーフィルムを用いることができる。
連続フィルム支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレート(例えば、セルローストリアセテート(トリアセチルセルロース、屈折率1.48)、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート)、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリ(メタ)アクリルニトリル、脂環式構造を有するポリマー(例えば、ノルボルネン系樹脂(商品名「アートン(登録商標)」、JSR社)、非晶質ポリオレフィン(例えば、商品名「ゼオネックス(登録商標)」、日本ゼオン社))などが挙げられる。
このうち、光学異方性の低さ等の点から、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート(PET)、及び脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
-Continuous film support-
A known polymer film can be used as the continuous film support used in the production of the optical film.
Examples of polymer film materials used as continuous film supports include cellulose acylate (eg, cellulose triacetate (triacetyl cellulose, refractive index 1.48), cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate. ), Polyethylene such as polyethylene and polypropylene, Polyester terephthalate, Polyester such as polyethylene naphthalate, Acrylic resin such as polyethersulfone and polymethylmethacrylate, Polysulfone, Polysulfone, Polysulfone, Polyether, Polymethylpentene, Polyetherketone, Poly ( Meta) Acrylic nitrile, polymer having an alicyclic structure (for example, norbornene resin (trade name "Arton (registered trademark)", JSR), amorphous polyolefin (for example, trade name "Zeonex (registered trademark)"), Japan Zeon Co., Ltd.)), etc.
Of these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate (PET), and a polymer having an alicyclic structure are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable, from the viewpoint of low optical anisotropy.
連続フィルム支持体の厚みとしては、製造適性、用途、ユーザーからの要求等に応じて決定されればよく、例えば、3μm〜250μmの範囲のものが用いられる。特に、連続フィルム支持体の厚みが薄い際には、シワが発生し易くなる傾向があるが、後述する硬化工程(1)を採用することで、3μm〜100μmの範囲の薄い連続フィルム支持体が好ましく用いられる。
バックアップロールへの巻き掛けに対する適用性が高い点等から、15μm以上がより好ましく、材料コストの点から、80μm以下が好ましい。
The thickness of the continuous film support may be determined according to manufacturing suitability, application, user's request, etc., and for example, a film in the range of 3 μm to 250 μm is used. In particular, when the thickness of the continuous film support is thin, wrinkles tend to occur. However, by adopting the curing step (1) described later, a thin continuous film support in the range of 3 μm to 100 μm can be obtained. It is preferably used.
From the viewpoint of high applicability to winding on a backup roll, 15 μm or more is more preferable, and from the viewpoint of material cost, 80 μm or less is preferable.
−塗布−
塗布には、公知の塗布手段が適用される。
塗布手段として、具体的には、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等が挙げられる。
-Applying-
Known coating means are applied for coating.
Specific examples of the coating means include curtain coating method, dip coating method, spin coating method, printing coating method, spray coating method, slot coating method, roll coating method, slide coating method, blade coating method, gravure coating method, and wire. The bar method and the like can be mentioned.
−乾燥−
乾燥には、公知の乾燥手段が適用される。
乾燥手段として、具体的には、オーブン、温風機、赤外線(IR)ヒーター等を用いる方法が挙げられる。
温風機による乾燥においては、連続フィルム支持体の塗布液が塗布された面とは反対の面から温風を当てる構成でもよく、塗布された塗布液の表面が温風にて流動しないよう、拡散板を設置した構成としてもよい。
乾燥条件は、用いた塗布液の種類、塗布量、搬送速度等に応じて決定されればよく、例えば、30℃〜140℃の範囲で、10秒〜10分間行うことが好ましい。
− Drying −
Known drying means are applied to the drying.
Specific examples of the drying means include a method using an oven, a warm air blower, an infrared (IR) heater, and the like.
In drying with a warm air blower, warm air may be applied from the surface of the continuous film support opposite to the surface on which the coating liquid is applied, and the surface of the applied coating liquid is diffused so as not to flow with the warm air. A board may be installed.
The drying conditions may be determined according to the type of coating liquid used, the coating amount, the transport speed, and the like. For example, the drying conditions are preferably carried out in the range of 30 ° C. to 140 ° C. for 10 seconds to 10 minutes.
以上の塗膜形成工程(1)を経て、活性エネルギー線により硬化する、未硬化の塗膜が形成される。
塗膜形成工程(1)を経て得られる、塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みは、3μm以上115μm以下であることが好ましく、3μm以上80μm以下であることがより好ましい。
塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みが小さいほど、硬化工程において、シワが発生し易い。そのため、上記のような薄い総厚みを有するものほど、後述する硬化工程(1)による、シワの発生抑制効果が得られ易い。
ここで、塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みとは、連続フィルム支持体に塗膜が複数積層されている場合には、連続フィルム支持体自体の厚みと積層されている全ての層の厚みの総計とを合わせた厚みをいう。
Through the above coating film forming step (1), an uncured coating film that is cured by active energy rays is formed.
The total thickness of the continuous film support on which the coating film is formed, which is obtained through the coating film forming step (1), is preferably 3 μm or more and 115 μm or less, and more preferably 3 μm or more and 80 μm or less.
The smaller the total thickness of the continuous film support on which the coating film is formed, the more likely it is that wrinkles will occur in the curing process. Therefore, the thinner the total thickness as described above, the easier it is to obtain the effect of suppressing the occurrence of wrinkles by the curing step (1) described later.
Here, the total thickness of the continuous film support on which the coating film is formed is the thickness of the continuous film support itself when a plurality of coating films are laminated on the continuous film support. The total thickness of the layers.
[硬化工程(1)]
硬化工程(1)は、不活性ガスが供給及び充填され且つ加熱手段により内部雰囲気が加温された反応室内の、塗膜が形成された連続フィルム支持体を加温されたバックアップロールに巻き掛けた領域にて、塗膜に対し活性エネルギー線を照射して、塗膜を硬化させる。
ここで、硬化工程(1)における加熱手段は、上記のように反応室の内部雰囲気を加温する手段であって、シワが発生を抑制するために設けられた手段である。
[Curing step (1)]
In the curing step (1), the continuous film support on which the coating film is formed is wound around a heated backup roll in the reaction chamber in which the inert gas is supplied and filled and the internal atmosphere is heated by the heating means. The coating film is cured by irradiating the coating film with active energy rays in the region.
Here, the heating means in the curing step (1) is a means for heating the internal atmosphere of the reaction chamber as described above, and is a means provided for suppressing the occurrence of wrinkles.
硬化工程(1)の一例について、図1を参照して説明する。
図1に示すように、塗膜が形成された連続フィルム支持体Fは、反応室3内にて、活性エネルギー線の照射が行われる。
具体的には、塗膜が形成された連続フィルム支持体Fは、反応室3内にてバックアップロール34に巻き掛けられており、この領域にて、露光光源32にて塗膜に活性エネルギー線が照射される。
なお、反応室3内には、ノズル36aから加温された不活性ガスが供給されており、この不活性ガスが反応室3内に充填されている。この加温された不活性ガスにより、反応室3の内部雰囲気が加温される。
An example of the curing step (1) will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, the continuous film support F on which the coating film is formed is irradiated with active energy rays in the
Specifically, the continuous film support F on which the coating film is formed is wound around the
A heated inert gas is supplied from the
図1においては、ノズル36aから加温された不活性ガスを供給し、それが反応室3内に充填されることで、反応室3の内部雰囲気が加温される態様を示したが、硬化工程(1)はこれに限定されるものではない。
硬化工程(1)は、内部雰囲気が加熱手段により加温されていればよく、例えば、不活性ガスを加熱手段により加熱する態様、反応室の内壁を加熱手段により加熱する態様が挙げられる。
なお、加熱手段による加熱条件、不活性ガスの温度、不活性ガスの供給量、不活性ガスの排出量、連続フィルム支持体の搬送速度等を、適宜、調整することで、反応室の内部雰囲気の温度を制御できる。
FIG. 1 shows an embodiment in which the internal atmosphere of the
In the curing step (1), the internal atmosphere may be heated by the heating means, and examples thereof include a mode in which the inert gas is heated by the heating means and a mode in which the inner wall of the reaction chamber is heated by the heating means.
The internal atmosphere of the reaction chamber can be adjusted by appropriately adjusting the heating conditions by the heating means, the temperature of the inert gas, the supply amount of the inert gas, the discharge amount of the inert gas, the transport speed of the continuous film support, and the like. The temperature of the can be controlled.
硬化工程(1)にて、不活性ガスを加熱手段により加熱する態様を採用する場合、上述のように、加熱手段がノズル36aから反応室3内に供給される不活性ガスを予め加熱する手段であってもよいし、加熱手段が反応室内に供給される不活性ガスを反応室内にて加温する手段であってもよい。後者の場合、加熱手段は、反応室内に設置された例えば加熱板などであり、この加熱板に不活性ガスを当てて、反応室内にて不活性ガスを加熱する方法が挙げられる。
When the embodiment in which the inert gas is heated by the heating means is adopted in the curing step (1), the means for the heating means to preheat the inert gas supplied from the
−活性エネルギー線−
硬化工程(1)にて用いられる活性エネルギー線としては、照射する塗膜中に活性種を発生させうるエネルギーを付与することができるものであれば、特に制限はない。活性エネルギー線としては、具体的には、例えば、α線、γ線、X線、紫外線、赤外線、可視光線、電子線等が挙げられる。これらのうち、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、硬化工程(1)にて用いられる活性エネルギー線としては、紫外線又は電子線が好ましく、紫外線がより好ましい。
-Active energy ray-
The active energy ray used in the curing step (1) is not particularly limited as long as it can impart energy capable of generating active species to the coated film to be irradiated. Specific examples of the active energy ray include α-rays, γ-rays, X-rays, ultraviolet rays, infrared rays, visible rays, and electron beams. Of these, ultraviolet rays or electron beams are preferable, and ultraviolet rays are more preferable, as the active energy rays used in the curing step (1) from the viewpoint of curing sensitivity and availability of an apparatus.
−不活性ガス−
硬化工程(1)にて用いられる不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス、ネオンガス、炭酸ガス等が挙げられ、中でも、窒素ガスが好ましい。
-Inert gas-
Examples of the inert gas used in the curing step (1) include nitrogen gas, argon gas, neon gas, carbon dioxide gas and the like, and among them, nitrogen gas is preferable.
−露光光源−
硬化工程(1)にて、活性エネルギー線を照射するために用いる露光光源としては、上述の活性エネルギー線の光源が挙げられる。硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、露光光源としては、紫外線の光源が好ましい。
紫外線の光源としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー(例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、YAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザー)、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
紫外線の光源から発せられる紫外線のピーク波長は、200nm〜400nmが好ましい。
-Exposure light source-
Examples of the exposure light source used for irradiating the active energy ray in the curing step (1) include the above-mentioned light source of the active energy ray. From the viewpoint of curing sensitivity and availability of the apparatus, an ultraviolet light source is preferable as the exposure light source.
Examples of the light source of ultraviolet rays include tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, carbon arc lamps and other lamps, and various lasers (eg, semiconductor lasers, helium neon lasers, argon ions). Examples include lasers, helium cadmium lasers, YAG (Yttrium Aluminum Garnet) lasers), light emitting diodes, and cathode wire tubes.
The peak wavelength of ultraviolet rays emitted from the light source of ultraviolet rays is preferably 200 nm to 400 nm.
−バックアップロール−
硬化工程(1)にて用いられるバックアップロールは、特に制限無く、公知のものを用いることができる。
バックアップロールとしては、例えば、表面が、ハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。
メッキの厚みは、導電性と強度とを確保する観点から40μm〜60μmが好ましい。
また、バックアップロールの表面粗さは、連続フィルム支持体とバックアップロールとの摩擦力のバラツキを低減させる点から、表面粗さRaにて0.1μm以下が好ましい。
-Backup roll-
The backup roll used in the curing step (1) is not particularly limited, and known ones can be used.
As the backup roll, for example, one having a hard chrome-plated surface can be preferably used.
The thickness of the plating is preferably 40 μm to 60 μm from the viewpoint of ensuring conductivity and strength.
The surface roughness of the backup roll is preferably 0.1 μm or less in terms of surface roughness Ra from the viewpoint of reducing the variation in the frictional force between the continuous film support and the backup roll.
硬化工程(1)におけるバックアップロールは、塗膜の硬化速度及び硬化効率を高めるため、加温されている。
バックアップロールの表面温度は、塗膜の組成、塗膜の硬化性能、連続フィルム支持体の耐熱性等に応じて決定されればよく、60℃〜250℃が好ましく、80℃〜250℃がより好ましく、80℃〜150℃が更に好ましい。
バックアップロールの表面温度を上記の温度にすることで、塗膜の硬化速度を上げることができ、巻き掛けられる連続フィルム支持体の温度制御を行うこともできる。
バックアップロールの表面温度は、以下のようにして測定される。
即ち、バックアップロールの表面の、バックアップロールの幅方向の任意の5点について、放射温度計(例えば、キーエンス社のFT−H30)にて表面温度を測定する。測定値の平均値をバックアップロールの表面温度とする。
The backup roll in the curing step (1) is heated in order to increase the curing rate and curing efficiency of the coating film.
The surface temperature of the backup roll may be determined according to the composition of the coating film, the curing performance of the coating film, the heat resistance of the continuous film support, etc., and is preferably 60 ° C. to 250 ° C., more preferably 80 ° C. to 250 ° C. It is preferable, and more preferably 80 ° C. to 150 ° C.
By setting the surface temperature of the backup roll to the above temperature, the curing speed of the coating film can be increased, and the temperature of the continuous film support to be wound can be controlled.
The surface temperature of the backup roll is measured as follows.
That is, the surface temperature of the surface of the backup roll is measured with a radiation thermometer (for example, FT-H30 manufactured by KEYENCE) at any five points in the width direction of the backup roll. The average value of the measured values is taken as the surface temperature of the backup roll.
バックアップロールは、表面温度を検知し、その温度に基づいて温度制御手段によってバックアップロールの表面温度が維持されることが好ましい。
バックアップロールの温度制御手段には、加熱手段及び冷却手段がある。加熱手段としては、誘導加熱、水加熱、油加熱等が用いられ、冷却手段としては、冷却水による冷却が用いられる。
It is preferable that the backup roll detects the surface temperature and the surface temperature of the backup roll is maintained by the temperature control means based on the temperature.
The temperature control means of the backup roll includes a heating means and a cooling means. Induction heating, water heating, oil heating and the like are used as the heating means, and cooling with cooling water is used as the cooling means.
バックアップロールの直径としては、連続フィルム支持体が巻き掛け易い点、活性エネルギー線の照射が容易な点、及び、バックアップロールの製造コストの点から、100mm〜1000mmが好ましく、100mm〜800mmがより好ましく、200mm〜700mmが更に好ましい。 The diameter of the backup roll is preferably 100 mm to 1000 mm, more preferably 100 mm to 800 mm, from the viewpoints of easy winding of the continuous film support, easy irradiation of active energy rays, and manufacturing cost of the backup roll. , 200 mm to 700 mm is more preferable.
硬化工程(1)では、活性エネルギー線の照射を張架した状態の連続フィルム支持体に対して行うため、バックアップロールが巻き掛けられた連続フィルム支持体に対して長手方向にテンションが掛けられていることが好ましい。
バックアップロール上で連続フィルム支持体の長手方向に掛けるテンションとしては、100N/m〜600N/mが好ましい。
In the curing step (1), since the continuous film support in a stretched state is irradiated with active energy rays, tension is applied in the longitudinal direction to the continuous film support around which the backup roll is wound. It is preferable to have.
The tension applied in the longitudinal direction of the continuous film support on the backup roll is preferably 100 N / m to 600 N / m.
バックアップロール上での連続フィルム支持体の搬送速度は、生産性の確保の点、及び、活性エネルギー線の照射の正確性を高める点から、10m/min以上100m/min以下であることが好ましく、20m/min以上60m/min以下であることがより好ましい。 The transport speed of the continuous film support on the backup roll is preferably 10 m / min or more and 100 m / min or less from the viewpoint of ensuring productivity and improving the accuracy of irradiation with active energy rays. It is more preferably 20 m / min or more and 60 m / min or less.
また、バックアップロールに対する連続フィルム支持体のラップ角は、60°以上が好ましく、90°以上がより好ましい。
なお、ラップ角とは、連続フィルム支持体がバックアップロールに接触する際の連続フィルム支持体の搬送方向と、バックアップロールから連続フィルム支持体が離間する際の連続フィルム支持体の搬送方向と、からなる角度をいう。
The lap angle of the continuous film support with respect to the backup roll is preferably 60 ° or more, more preferably 90 ° or more.
The lap angle is defined as the transport direction of the continuous film support when the continuous film support comes into contact with the backup roll and the transport direction of the continuous film support when the continuous film support is separated from the backup roll. The angle that becomes.
−ノズル−
反応室内に不活性ガスを供給するためのノズルは、反応室のどの位置に設置されていてもよく、不活性ガスの吐出方向にも制限はない。
既述のように、反応室の内部雰囲気を、反応室内に供給される不活性ガスを加熱することで加温する態様であれば、シワの発生を効率的に低減させる点から、後述する第2の態様の光学フィルムの製造方法における、ノズルの設置位置及びノズルから吐出される不活性ガスの吐出方向の好ましい態様と同様とすることが好ましい。
ここで、反応室3内に供給される不活性ガスを加熱するためには、ノズルに通じる不活性ガスの配管を加熱手段(例えば、コイルヒータ等)にて加熱すればよい。
-Nozzle-
The nozzle for supplying the inert gas into the reaction chamber may be installed at any position in the reaction chamber, and the discharge direction of the inert gas is not limited.
As described above, if the internal atmosphere of the reaction chamber is heated by heating the inert gas supplied to the reaction chamber, the occurrence of wrinkles can be efficiently reduced. It is preferable that the method is the same as in the preferred embodiment of the nozzle installation position and the ejection direction of the inert gas discharged from the nozzle in the method for producing the optical film of the second aspect.
Here, in order to heat the inert gas supplied into the
−内部雰囲気の温度−
反応室の内部雰囲気の温度は、反応室の外気温よりも加温されていれば、シワの発生の低減効果は得られるが、バックアップロールの表面温度と近ければ近いほど、シワの発生の低減効果は高くなる。
-Internal atmosphere temperature-
If the temperature of the internal atmosphere of the reaction chamber is warmer than the outside air temperature of the reaction chamber, the effect of reducing the occurrence of wrinkles can be obtained, but the closer it is to the surface temperature of the backup roll, the less the occurrence of wrinkles. The effect is high.
具体的には、反応室内の、連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点における温度をT1℃とし、バックアップロールの表面温度をT2℃とした場合、T1はT2−20℃以上T2+20℃以下であることが好ましい。つまり、温度T1は温度T2を基準とし±20℃以内であることが好ましい。特に、硬化工程(1)においては、温度T1=温度T2であることが最も好ましい。
ここで、本開示における「連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点における温度T1」とは、連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点(図1中の点P)の塗膜面から1mm離間した位置で測定した温度を指す。
なお、温度T1は、反応室内の、連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点(図1中の点P)の塗膜面から1mm離間した位置に、温度計(例えば、熱電対等)を設置して、測定すればよい。
Specifically, the reaction chamber, the temperature at the contact point between the continuous film support and the backup roll and T 1 ° C., if the surface temperature of the backup roll was T 2 ° C., T 1 is T 2 -20 ° C. or higher It is preferably T 2 + 20 ° C. or lower. That is, the temperature T 1 is preferably within ± 20 ° C. with respect to the temperature T 2. In particular, in the curing step (1), it is most preferable that the temperature T 1 = the temperature T 2.
Here, the "temperature T 1 at the contact point between the continuous film support and the backup roll" in the present disclosure refers to the coating film surface at the contact point between the continuous film support and the backup roll (point P in FIG. 1). Refers to the temperature measured at a position separated by 1 mm.
The temperature T 1 is set at a position 1 mm away from the coating film surface at the contact point between the continuous film support and the backup roll (point P in FIG. 1) in the reaction chamber, and a thermometer (for example, a thermoelectric pair) is installed. Just install and measure.
反応室の内部雰囲気の温度としては、以下の式(1)を満たすことも好ましい。
即ち、反応室内の、連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点における温度をT1℃とし、加温されたバックアップロールの表面温度をT2℃とし、塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みをtμmとした場合、下記式(1)を満たすことが好ましい。
式(1) 0≦|T2−T1|≦t
式(1)によれば、塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みが小さいほど、温度T2と温度T1との差が小さい方が好ましいことを意味する。また、塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みが大きい場合には、温度T2と温度T1との差の許容範囲が大きくなることを意味する。これは、塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みが小さいほど、シワが発生し易いことに由来する。
また、反応室3の内部雰囲気の温度としては、以下の式(2)を満たすことがより好ましい。
式(2) 0≦|T2−T1|≦t/2
ここで、塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みをtとしては、3μm以上115μm以下(より好ましくは、3μm以上80μm以下)が好ましい。
また、加温されたバックアップロールの表面温度をT2として、80℃以上250℃以下(より好ましくは80℃以上150℃以下)が好ましい。
It is also preferable that the temperature of the internal atmosphere of the reaction chamber satisfies the following formula (1).
That is, the temperature at the contact point between the continuous film support and the backup roll in the reaction chamber is T 1 ° C, the surface temperature of the heated backup roll is T 2 ° C, and the continuous film support on which the coating film is formed is formed. When the total thickness of is tμm, it is preferable to satisfy the following formula (1).
Equation (1) 0 ≤ | T 2- T 1 | ≤ t
According to the formula (1), the smaller the total thickness of the continuous film support on which the coating film is formed, the smaller the difference between the temperature T 2 and the temperature T 1 is preferably. Further, when the total thickness of the continuous film support on which the coating film is formed is large, it means that the permissible range of the difference between the temperature T 2 and the temperature T 1 becomes large. This is because the smaller the total thickness of the continuous film support on which the coating film is formed, the more likely it is that wrinkles will occur.
Further, it is more preferable that the temperature of the internal atmosphere of the
Equation (2) 0 ≤ | T 2- T 1 | ≤ t / 2
Here, the total thickness of the continuous film support on which the coating film is formed is preferably 3 μm or more and 115 μm or less (more preferably 3 μm or more and 80 μm or less).
Further, the surface temperature of the heated backup roll is T 2 , and it is preferably 80 ° C. or higher and 250 ° C. or lower (more preferably 80 ° C. or higher and 150 ° C. or lower).
以上の硬化工程(1)を経て、塗膜が硬化され、連続フィルム支持体上に硬化膜(即ち、光学機能層)が形成される。 Through the above curing step (1), the coating film is cured, and a cured film (that is, an optical functional layer) is formed on the continuous film support.
続いて、第2の実施形態の光学フィルムの製造方法における塗膜形成工程(2)及び硬化工程(2)の詳細について説明する。 Subsequently, the details of the coating film forming step (2) and the curing step (2) in the method for manufacturing the optical film of the second embodiment will be described.
[塗膜形成工程(2)]
塗膜形成工程(2)では、連続フィルム支持体上に、活性エネルギー線により硬化する塗膜を形成する。
[Coating film forming step (2)]
In the coating film forming step (2), a coating film cured by active energy rays is formed on the continuous film support.
塗膜形成工程(2)の一例について、図2を参照して説明する。
図2に示すように、巻回された連続フィルム支持体Fは、その先端が送り出されると、まず、塗布手段1により活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液の塗布が行われ、その後、乾燥手段2による乾燥領域にて乾燥される。こうして、連続フィルム支持体上には、活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液を塗布及び乾燥して得られる塗膜が形成される。
An example of the coating film forming step (2) will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 2, when the tip of the wound continuous film support F is sent out, the coating means 1 first applies a coating liquid having a composition that is cured by active energy rays, and then the film is dried. It is dried in the drying area by
図2に示す通り、塗膜形成工程(2)における塗布方法、乾燥方法等は、既述の塗膜形成工程(1)と同様であり、好ましい態様も同様であるため、詳細な説明は省略する。 As shown in FIG. 2, the coating method, the drying method, and the like in the coating film forming step (2) are the same as those in the above-mentioned coating film forming step (1), and the preferred embodiments are also the same, so detailed description thereof will be omitted. do.
以上の塗膜形成工程(2)を経て、活性エネルギー線により硬化する、未硬化の塗膜が形成される。
塗膜形成工程(2)を経て得られる、塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みは、塗膜形成工程(1)を経て得られる、塗膜が形成された連続フィルム支持体の総厚みと同様であり、好ましい範囲も同様である。
Through the above coating film forming step (2), an uncured coating film that is cured by active energy rays is formed.
The total thickness of the continuous film support on which the coating film is formed, which is obtained through the coating film forming step (2), is the total thickness of the continuous film support on which the coating film is formed, which is obtained through the coating film forming step (1). It is the same as the total thickness, and the preferable range is also the same.
[硬化工程(2)]
硬化工程(2)では、不活性ガスが供給及び充填された反応室内において、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱し、且つ、塗膜が形成された連続フィルム支持体を加温されたバックアップロールに巻き掛けた領域にて塗膜に対し活性エネルギー線を照射して、塗膜を硬化させる。
[Curing step (2)]
In the curing step (2), in the reaction chamber to which the inert gas is supplied and filled, the surface of the continuous film support on which the coating film is formed is heated, and the continuous film support on which the coating film is formed is added. The coating film is cured by irradiating the coating film with active energy rays in a region wound around a warmed backup roll.
硬化工程(2)の一例について、図2を参照して説明する。
図2に示すように、塗膜が形成された連続フィルム支持体Fは、反応室3内にて、活性エネルギー線の照射が行われる。
具体的には、塗膜が形成された連続フィルム支持体Fは、反応室3内にてバックアップロール34に巻き掛けられており、この領域にて、露光光源32にて塗膜に活性エネルギー線が照射される。
なお、反応室3内には、ノズル36bから加温された不活性ガスが供給されており、この加温された不活性ガスが、連続フィルム支持体Fの塗膜が形成された面に当てられている。つまり、この加温された不活性ガスを当てることで、連続フィルム支持体Fの塗膜が形成された面を加熱している。
An example of the curing step (2) will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 2, the continuous film support F on which the coating film is formed is irradiated with active energy rays in the
Specifically, the continuous film support F on which the coating film is formed is wound around the
A heated inert gas is supplied from the
図2においては、ノズル36bから加温された不活性ガスを反応室3内に供給し、これを連続フィルム支持体Fの塗膜が形成された面に当てる態様を示したが、硬化工程(2)はこれに限定されるものではない。
硬化工程(2)は、上記の態様以外に、加温された不活性ガスにより連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱する別の態様として、反応室内に加温された不活性ガスを供給し、これを連続フィルム支持体の塗膜が形成された面とは反対の面に当て、間接的に、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱する態様が挙げられる。この他にも、加温したロール、ベルト等を連続フィルム支持体の塗膜が形成された面又はその反対の面に当てる態様、輻射熱を利用して連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱する方法が挙げられる。
なお、不活性ガスの温度、不活性ガスの吹き出し口の形状及び位置、不活性ガスの供給量、不活性ガスの排出量、ロール、ベルトなどの表面温度、連続フィルム支持体の搬送速度等を、適宜、調整することで、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面の温度を制御できる。
FIG. 2 shows an embodiment in which the inert gas heated from the
In the curing step (2), in addition to the above aspect, another aspect of heating the surface on which the coating film of the continuous film support is formed by the heated inert gas is the inert activity heated in the reaction chamber. An embodiment in which gas is supplied, the gas is applied to the surface of the continuous film support opposite to the surface on which the coating film is formed, and the surface of the continuous film support on which the coating film is formed is indirectly heated. .. In addition to this, a mode in which a heated roll, belt, etc. is applied to the surface on which the coating film of the continuous film support is formed or the opposite surface, and the coating film of the continuous film support is formed by utilizing radiant heat. A method of heating the surface can be mentioned.
The temperature of the inert gas, the shape and position of the outlet of the inert gas, the supply amount of the inert gas, the discharge amount of the inert gas, the surface temperature of the roll, belt, etc., the transport speed of the continuous film support, etc. By adjusting as appropriate, the temperature of the surface on which the coating film of the continuous film support is formed can be controlled.
硬化工程(2)にて、加温された不活性ガスにより連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱する態様の場合、以下のようにすることが好ましい。
即ち、反応室内において、連続フィルム支持体とバックアップロールとの離間地点(図2中の点Qに該当)までにある連続フィルム支持体の塗膜が形成された面に、加温された不活性ガスを当てて、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱する。
この方法のためには、反応室内のノズルの設置位置、不活性ガスの吹き出し口の位置を調整すればよい。
つまり、反応室内に搬送されてきた連続フィルム支持体が有する塗膜に対し、連続フィルム支持体とバックアップロールとの離間地点(図2中の点Q)までに、加温した不活性ガスを当てる。このタイミングで加温した不活性ガスを当てることで、連続フィルム支持体とバックアップロールとが離間した後に加温した不活性ガスを当てる場合よりも、塗膜を有する連続フィルム支持体において、塗膜が形成された側とバックアップロールに接触する側との温度差ができ難くなり、シワの発生を効果的に抑制することができる。
In the case of the mode in which the surface on which the coating film of the continuous film support is formed is heated by the heated inert gas in the curing step (2), the following is preferable.
That is, in the reaction chamber, the surface on which the coating film of the continuous film support is formed up to the separation point between the continuous film support and the backup roll (corresponding to the point Q in FIG. 2) is heated and inert. A gas is applied to heat the surface of the continuous film support on which the coating film is formed.
For this method, the installation position of the nozzle in the reaction chamber and the position of the outlet of the inert gas may be adjusted.
That is, the heated inert gas is applied to the coating film of the continuous film support conveyed into the reaction chamber up to the separation point (point Q in FIG. 2) between the continuous film support and the backup roll. .. By applying the warmed inert gas at this timing, the coating film is applied on the continuous film support having a coating film, as compared with the case where the heated inert gas is applied after the continuous film support and the backup roll are separated from each other. The temperature difference between the side on which the gas is formed and the side in contact with the backup roll becomes difficult to form, and the occurrence of wrinkles can be effectively suppressed.
また、反応室内において、連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点(図2中の点Pに該当)までにある連続フィルム支持体の塗膜が形成された面に加温された不活性ガスを当てて、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱する、ことがより好ましい。
この方法のためには、反応室内のノズルの設置位置及び不活性ガスの吹き出し口の位置を調整すればよい。
つまり、反応室内に搬送されてきた連続フィルム支持体Fが有する塗膜に対し、連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点までに、加温した不活性ガスを当てる。このタイミングで加温した不活性ガスを当てることで、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面が加温された状態で、バックアップロールに接触することになるため、塗膜が形成された側とバックアップロールに接触する側との温度差がよりでき難くなり、シワの発生を更に効果的に抑制することができる。
Further, in the reaction chamber, the inert gas heated on the surface on which the coating film of the continuous film support is formed up to the contact point between the continuous film support and the backup roll (corresponding to the point P in FIG. 2). It is more preferable to heat the surface of the continuous film support on which the coating film is formed.
For this method, the installation position of the nozzle in the reaction chamber and the position of the outlet of the inert gas may be adjusted.
That is, the heated inert gas is applied to the coating film of the continuous film support F that has been conveyed into the reaction chamber up to the contact point between the continuous film support and the backup roll. By applying the warmed inert gas at this timing, the surface of the continuous film support on which the coating film is formed comes into contact with the backup roll in a heated state, so that the coating film is formed. The temperature difference between the side and the side in contact with the backup roll becomes more difficult to form, and the occurrence of wrinkles can be suppressed more effectively.
加温された不活性ガスにより連続フィルム支持体Fの塗膜が形成された面を加熱する態様の場合、連続フィルム支持体の幅よりも長い幅の吹き出し口から、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面の幅方向全体に対し、加温された不活性ガスを当てることが好ましい。
また、吹き出し口は、窒素ガスの吐出方向が塗膜面に略垂直になるように設置されることが好ましい。
更に、吹き出し口は、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面の幅方向全体に対し、不活性ガスを均一に当てる点から、スリット状であるか、穴が一列又は複数列に並んだ形状であることが好ましい。
In the embodiment in which the surface on which the coating film of the continuous film support F is formed is heated by the heated inert gas, the coating film of the continuous film support is formed from an outlet having a width longer than the width of the continuous film support. It is preferable to apply the warmed inert gas to the entire width direction of the surface on which the film is formed.
Further, it is preferable that the outlet is installed so that the discharge direction of nitrogen gas is substantially perpendicular to the coating film surface.
Further, the outlet is slit-shaped or has holes arranged in one or more rows from the point of uniformly applying the inert gas to the entire width direction of the surface on which the coating film of the continuous film support is formed. The shape is preferable.
硬化工程(2)における活性エネルギー線、不活性ガス、露光光源、バックアップロール、内部雰囲気の温度等は、既述の硬化工程(1)と同様であり、好ましい態様も同様であるため、詳細な説明は省略する。 The active energy rays, the inert gas, the exposure light source, the backup roll, the temperature of the internal atmosphere, etc. in the curing step (2) are the same as those in the curing step (1) described above, and the preferred embodiments are also the same. The description is omitted.
以上の硬化工程(2)を経て、塗膜が硬化され、連続フィルム支持体上に光学機能層(即ち、光学機能層)が形成される。 Through the above curing step (2), the coating film is cured, and an optical functional layer (that is, an optical functional layer) is formed on the continuous film support.
[前加熱工程]
第1の実施形態及び第2の実施形態の光学フィルムの製造方法においては、塗膜形成工程後で硬化工程前に、塗膜が形成された連続フィルム支持体を加熱する前加熱工程を有することが好ましい。
この工程を有することで、塗膜を有する連続フィルム支持体Fが加温された状態で硬化工程へと搬送され、バックアップロールに接触することになるため、塗膜が形成された側とバックアップロールに接触する側との温度差ができ難くなり、シワの発生を効果的に抑制することができる。
[Preheating process]
In the method for producing an optical film of the first embodiment and the second embodiment, there is a preheating step of heating the continuous film support on which the coating film is formed after the coating film forming step and before the curing step. Is preferable.
By having this step, the continuous film support F having the coating film is conveyed to the curing step in a heated state and comes into contact with the backup roll, so that the side on which the coating film is formed and the backup roll It becomes difficult to make a temperature difference with the side that comes into contact with the film, and the occurrence of wrinkles can be effectively suppressed.
−加熱方法−
前加熱工程において、塗膜が形成された連続フィルム支持体を加熱する方法としては、特に制限はなく、接触加熱方法を用いてもよいし、非接触加熱方法を用いてもよい。
接触加熱方法としては、塗膜が形成された連続フィルム支持体に、加温したロール、ベルト等へと接触させる方法が挙げられる。また、非接触加熱方法は、塗膜が形成された連続フィルム支持体に対し温風を吹き付ける方法、塗膜が形成された連続フィルム支持体を輻射熱により加熱する方法、オーブンなどの加熱ゾーン内を塗膜が形成された連続フィルム支持体を通過させる方法等が挙げられる。
前加熱工程として、具体的には、例えば、図1及び図2に示されるように、塗膜が形成された連続フィルム支持体Fを加温されたロール4に接触させる方法が挙げられる。なお、塗膜が形成された連続フィルム支持体Fの温度制御の性能を高めるためには、ロール4に塗膜が形成された連続フィルム支持体Fを巻き掛けて搬送すればよい。
-Heating method-
The method for heating the continuous film support on which the coating film is formed in the preheating step is not particularly limited, and a contact heating method or a non-contact heating method may be used.
Examples of the contact heating method include a method in which a continuous film support on which a coating film is formed is brought into contact with a heated roll, belt, or the like. The non-contact heating method includes a method of blowing warm air onto a continuous film support on which a coating film is formed, a method of heating a continuous film support on which a coating film is formed by radiant heat, and a heating zone such as an oven. Examples thereof include a method of passing a continuous film support on which a coating film is formed.
Specific examples of the preheating step include, as shown in FIGS. 1 and 2, a method in which the continuous film support F on which the coating film is formed is brought into contact with the heated roll 4. In order to improve the temperature control performance of the continuous film support F on which the coating film is formed, the continuous film support F on which the coating film is formed may be wound around the roll 4 and conveyed.
前加熱工程においては、塗膜が形成された連続フィルム支持体の、塗膜面又はその反対の面(即ち、連続フィルム支持体の裏面)の温度が、硬化工程におけるバックアップロールの表面温度に近くなるように加熱されることが好ましい。
つまり、前加熱工程における加熱により、塗膜が形成された連続フィルム支持体の塗膜面又はその反対の面の温度が、60℃〜250℃となることが好ましく、80℃〜250℃となることがより好ましく、80℃〜150℃となることが更に好ましい。
また、塗膜が形成された連続フィルム支持体の塗膜面又はその反対の面の温度をT3℃とし、加温されたバックアップロールの表面温度をT2℃とした場合、T3はT2−20℃以上T2+20℃以下であることが好ましい。つまり、温度T3は温度T2を基準とし±20℃以内であることが好ましい。また、塗膜が形成された連続フィルム支持体が加熱された後、反応室への搬送途中にて温度低下してしまうことを考慮すると、温度T3>温度T2の関係を満たすことが好ましい。
In the preheating step, the temperature of the coating surface or the opposite surface (that is, the back surface of the continuous film support) of the continuous film support on which the coating film is formed is close to the surface temperature of the backup roll in the curing step. It is preferable that it is heated so as to become.
That is, the temperature of the coating film surface or the opposite surface of the continuous film support on which the coating film is formed by heating in the preheating step is preferably 60 ° C. to 250 ° C., preferably 80 ° C. to 250 ° C. More preferably, it is more preferably 80 ° C. to 150 ° C.
Further, when the temperature of the coating film surface or the opposite surface of the continuous film support on which the coating film is formed is T 3 ° C. and the surface temperature of the heated backup roll is T 2 ° C., T 3 is T. 2 is preferably -20 ° C. or more T 2 + 20 ° C. or less. That is, the temperature T 3 is preferably within ± 20 ° C. with respect to the temperature T 2. Further, considering that the temperature drops during transportation to the reaction chamber after the continuous film support on which the coating film is formed is heated, it is preferable to satisfy the relationship of temperature T 3 > temperature T 2. ..
以上のようにして、連続フィルム支持体上に硬化膜である光学機能層が形成される。
第1の実施形態及び第2の実施形態の光学フィルムの製造方法により形成される光学機能層としては、位相差フィルムにおける光学異方性層、反射防止フィルムにおける反射防止層、防眩フィルムにおける防眩層、レンチキュラーシートのレンチキュラーレンズ層等が挙げられる。
つまり、第1の実施形態及び第2の実施形態の光学フィルムの製造方法によれば、光学異方性層を有する位相差フィルム、反射防止層を有する反射防止フィルム、防眩層を有する防眩フィルム、レンチキュラーレンズ層を有するレンチキュラーシート等が得られる。
As described above, the optical functional layer which is a cured film is formed on the continuous film support.
Examples of the optical functional layer formed by the methods for producing the optical film of the first embodiment and the second embodiment include an optically anisotropic layer in a retardation film, an antireflection layer in an antireflection film, and an antiglare layer in an antiglare film. Examples include a glare layer and a lenticular lens layer of a lenticular sheet.
That is, according to the method for producing an optical film according to the first embodiment and the second embodiment, a retardation film having an optically anisotropic layer, an antireflection film having an antireflection layer, and an antiglare having an antiglare layer. A film, a lenticular sheet having a lenticular lens layer, or the like can be obtained.
[位相差フィルムの製造方法]
以下、第1の実施形態及び第2の実施形態の光学フィルムの製造方法の一例として、位相差フィルムの製造方法について説明する。
位相差フィルムは、連続フィルム支持体上に、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるため配向規制力を備える配向層と、配向し且つ固定化された液晶化合物を含む光学異方性層(以降、液晶層ともいう)と、がこの順に設けられたものである。
[Manufacturing method of retardation film]
Hereinafter, a method for producing a retardation film will be described as an example of the method for producing an optical film according to the first embodiment and the second embodiment.
The retardation film is an optically anisotropic layer containing an oriented and immobilized liquid crystal compound and an alignment layer having an orientation regulating force for arranging the liquid crystal compounds of the liquid crystal layer in a certain direction on a continuous film support (hereinafter referred to as an optically anisotropic layer). , Also referred to as a liquid crystal layer), are provided in this order.
(配向層とその形成方法)
位相差フィルムにおける配向層は、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるため配向規制力が付与されているものであれば、特に制限はない。
位相差フィルムにおける配向層は、例えば、ラビング方式で液晶化合物に対する配向規制力を付与された配向層、具体的には、ラビング処理が施された有機化合物(好ましくはポリマー)の層を挙げることができる。
ここで、ラビング方式とは、配向層形成用材料を含む塗膜(以降、配向層用塗膜ともいう)の表面をラビング布にて一定方向に擦ることで、塗膜に液晶化合物に対する配向規制力を与える方式である。また、配向層用塗膜の表面をラビング布にて一定方向に擦る処理をラビング処理という。
(Orientation layer and its formation method)
The alignment layer in the retardation film is not particularly limited as long as it has an orientation regulating force for arranging the liquid crystal compounds in the liquid crystal layer in a certain direction.
Examples of the alignment layer in the retardation film include an alignment layer to which an orientation regulating force is applied to a liquid crystal compound by a rubbing method, specifically, a layer of an organic compound (preferably a polymer) subjected to a rubbing treatment. can.
Here, the rubbing method is a method of restricting the orientation of a liquid crystal compound on a coating film by rubbing the surface of a coating film containing a material for forming an alignment layer (hereinafter, also referred to as a coating film for an alignment layer) with a rubbing cloth in a certain direction. It is a method of giving power. Further, a process of rubbing the surface of the coating film for an alignment layer with a rubbing cloth in a certain direction is called a rubbing process.
−配向層形成用材料−
配向層の形成に用いられる配向層形成用材料としては、以下に示す有機化合物と有機化合物を溶解する溶剤とを含むことが好ましい
有機化合物としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸/メタクリル酸共重合体、スチレン/マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、スチレン/ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びポリカーボネート等のポリマー、並びに、シランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。
好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ポリビルアルコール、及びアルキル基(好ましくは炭素数6以上のアルキル基)を有するアルキル変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
配向層形成用材料に用いるポリマーとしては、特に、アルキル変性ポリビルアルコールが好ましく、炭素原子数6〜14のアルキル基が、−S−、−(CH3)C(CN)−、又は−(C2H5)N−CS−S−を介してポリビニルアルコールの末端又は側鎖に結合しているアルキル変性ポリビルアルコールが好ましい。
-Material for forming an orientation layer-
The material for forming the alignment layer used for forming the alignment layer preferably contains the following organic compound and a solvent for dissolving the organic compound. Examples of the organic compound include polymethylmethacrylate and acrylic acid / styrenic acid. Polymer, styrene / maleinimide copolymer, polyvinyl alcohol, poly (N-methylolacrylamide), styrene / vinyl toluene copolymer, chlorosulfonated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, Examples thereof include polymers such as vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, carboxymethyl cellulose, polyethylene, polypropylene, and polycarbonate, and compounds such as silane coupling agents.
Examples of preferred polymers include polyimides, polystyrenes, polymers of styrene derivatives, polyvinyl alcohols, and alkyl-modified polyvinyl alcohols having an alkyl group (preferably an alkyl group having 6 or more carbon atoms).
As the polymer used as the material for forming the alignment layer, alkyl-modified polyvinyl alcohol is particularly preferable, and the alkyl group having 6 to 14 carbon atoms is -S-,-(CH 3 ) C (CN)-, or-(. C 2 H 5 ) Alkyl-modified polymer alcohol bonded to the terminal or side chain of polyvinyl alcohol via N-CS-S- is preferable.
配向層用塗膜は、既述の塗膜形成工程(1)又は(2)における塗布方法及び乾燥方法と同じ方法を用いることができ、好ましい態様も同様である。
配向層用塗膜の膜厚は、0.1μm〜5μmが好ましく、0.2μm〜1μmがより好ましい。
As the coating film for the alignment layer, the same methods as the coating method and the drying method in the coating film forming step (1) or (2) described above can be used, and the preferred embodiment is also the same.
The film thickness of the coating film for the alignment layer is preferably 0.1 μm to 5 μm, more preferably 0.2 μm to 1 μm.
−配向規制力の付与−
ラビング方式の場合には、連続フィルム支持体に形成された配向層用塗膜の表面をラビング布にて一定方向に擦ればよい。
ラビング処理としては、特に制限はなく、公知の方法が適用可能である。具体的には、ラビング処理として、配向層用塗膜の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン、ポリエステル繊維等のラビング布にて一定方向に擦る方法が挙げられる。一般的には、均一性のある長さ及び太さの繊維が平均的に植毛されたラビング布を用いて、数回程度、配向層用塗膜の表面を擦る、といったラビング処理が行われる。
以上のようにして、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層が形成される。
-Giving orientation control force-
In the case of the rubbing method, the surface of the coating film for the alignment layer formed on the continuous film support may be rubbed with a rubbing cloth in a certain direction.
The rubbing treatment is not particularly limited, and a known method can be applied. Specifically, as the rubbing treatment, a method of rubbing the surface of the coating film for the alignment layer with a rubbing cloth such as paper, gauze, felt, rubber, nylon, or polyester fiber in a certain direction can be mentioned. Generally, a rubbing treatment such as rubbing the surface of the coating film for an alignment layer several times is performed using a rubbing cloth on which fibers of a uniform length and thickness are evenly transplanted.
As described above, the alignment layer having the orientation regulating force for the liquid crystal compound is formed.
(液晶層とその形成方法)
以上のようにして形成された配向層上には、液晶層形成用材料の塗膜(以降、液晶層用塗膜ともいう)が形成される。その後、液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向と固定とがなされ、液晶層(即ち、光学異方性層)が得られる。
(Liquid crystal layer and its formation method)
On the oriented layer formed as described above, a coating film of a material for forming a liquid crystal layer (hereinafter, also referred to as a coating film for a liquid crystal layer) is formed. After that, the liquid crystal compound in the liquid crystal layer coating film is oriented and fixed to obtain a liquid crystal layer (that is, an optically anisotropic layer).
−液晶層形成用材料−
液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物を含有し、電子エネルギー線により硬化する材料である。液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物の他、必要に応じて、重合性化合物、架橋性化合物、キラル剤、配向制御剤、重合開始剤、配向助剤等の公知のその他の成分を含有していてもよい。
-Material for forming a liquid crystal layer-
The material for forming a liquid crystal layer is a material containing a rod-shaped liquid crystal compound or a disk-shaped liquid crystal compound and cured by electron energy rays. The material for forming the liquid crystal layer may be a rod-shaped liquid crystal compound or a disk-shaped liquid crystal compound, as well as other known materials such as a polymerizable compound, a crosslinkable compound, a chiral agent, an orientation control agent, a polymerization initiator, and an orientation auxiliary, if necessary. May contain the components of.
・棒状液晶化合物
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
-Stick-shaped liquid crystal compounds Examples of rod-shaped liquid crystal compounds include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidins, and alkoxy-substituted ones. Phenylpyrimidines, phenyldioxans, trans and alkenylcyclohexylbenzonitriles are preferably used.
Not only low molecular weight liquid crystal molecules as described above, but also high molecular weight liquid crystal molecules can be used.
棒状液晶化合物は、重合によって配向を固定することがより好ましく、そのため、重合性基を有する棒状液晶化合物を用いることが好ましい。
重合性を有する棒状液晶化合物としては、Makromol. Chem., 190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)、米国特許4683327号公報、同5622648号公報、同5770107号公報、国際公開第95/22586号、同第95/24455号、同第97/00600号、同第98/23580号、同第98/52905号、特開平1−272551号公報、同6−16616号公報、同7−110469号公報、同11−80081号公報、及び特開2001−328973号公報などに記載の化合物が挙げられる。
更に、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平11−513019号公報、特開2007−279688号公報等に記載のものも好ましく用いることができる。
It is more preferable to fix the orientation of the rod-shaped liquid crystal compound by polymerization, and therefore it is preferable to use a rod-shaped liquid crystal compound having a polymerizable group.
Examples of the polymerizable rod-shaped liquid crystal compound include Makromol. Chem. , 190, 2255 (1989), Advanced Materials 5, 107 (1993), US Pat. Nos. 4,683,327, 562,648, 5770107, International Publication 95/22586, 95 / 24455, 97/00600, 98/23580, 98/52905, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-272551, 6-16616, 7-110469, 11- Examples thereof include compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 80081 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-328973.
Further, as the rod-shaped liquid crystal compound, for example, those described in JP-A No. 11-513019, JP-A-2007-279688, etc. can be preferably used.
・円盤状液晶化合物
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開2007−108732号公報、特開2010−244038号公報等に記載のものを好ましく用いることができる。
-Disc-shaped liquid crystal compound As the disk-shaped liquid crystal compound, for example, those described in JP-A-2007-108732, JP-A-2010-2404038 and the like can be preferably used.
液晶層用塗膜は、既述の塗膜形成工程(1)又は(2)における塗布方法及び乾燥方法と同じ方法を用いることができ、好ましい態様も同様である。
第1の実施形態及び第2の実施形態の光学フィルムの製造方法が、位相差フィルムの製造方法であった場合、液晶層用塗膜の形成が、既述の塗膜形成工程(1)又は(2)に該当する。
As the coating film for the liquid crystal layer, the same methods as the coating method and the drying method in the coating film forming step (1) or (2) described above can be used, and the preferred embodiment is also the same.
When the method for producing the optical film of the first embodiment and the second embodiment is the method for producing a retardation film, the formation of the coating film for the liquid crystal layer is the coating film forming step (1) described above or It corresponds to (2).
−液晶化合物の配向−
液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向を固定する前には、液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向処理を行うことが好ましい。
配向処理は、室温等により乾燥させる、又は加熱することにより行うことができる。
配向処理で形成される液晶は、サーモトロピック性をもつ液晶化合物の場合、一般に温度又は圧力の変化により転移させることができる。また、リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。
-Orientation of liquid crystal compounds-
Before fixing the orientation of the liquid crystal compound in the liquid crystal layer coating film, it is preferable to perform the orientation treatment of the liquid crystal compound in the liquid crystal layer coating film.
The orientation treatment can be performed by drying at room temperature or the like or by heating.
In the case of a liquid crystal compound having thermotropic properties, the liquid crystal formed by the orientation treatment can generally be transferred by a change in temperature or pressure. Further, in the case of a liquid crystal compound having a lyotropic property, it can be transferred by a composition ratio such as the amount of solvent.
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する場合、ネマチック相を発現する温度領域の方が、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域よりも高いことが普通である。従って、棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域まで棒状液晶化合物を加熱し、次に、加熱温度を棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域まで低下させることにより、棒状液晶化合物をネマチック相からスメクチック相に転移させることができる。このような方法でスメクチック相とすることで、液晶化合物が高秩序度で配向した液晶が得られる。 When the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, the temperature range in which the nematic phase is expressed is usually higher than the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase. Therefore, the rod-shaped liquid crystal compound is heated to the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the nematic phase, and then the heating temperature is lowered to the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, whereby the rod-shaped liquid crystal compound is brought into the nematic phase. Can be transferred to the smectic phase. By setting the smectic phase in this way, a liquid crystal in which the liquid crystal compounds are oriented with high order can be obtained.
棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がモノドメインを形成するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、10秒間〜5分間が好ましく、10秒間〜3分間が更に好ましく、10秒間〜2分間が最も好ましい。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、10秒間〜5分間が好ましく、10秒間〜3分間が更に好ましく、10秒間〜2分間が最も好ましい。
In the temperature range where the rod-shaped liquid crystal compound expresses the nematic phase, it is necessary to heat for a certain period of time until the rod-shaped liquid crystal compound forms a monodomain. The heating time is preferably 10 seconds to 5 minutes, more preferably 10 seconds to 3 minutes, and most preferably 10 seconds to 2 minutes.
In the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, it is necessary to heat for a certain period of time until the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase. The heating time is preferably 10 seconds to 5 minutes, more preferably 10 seconds to 3 minutes, and most preferably 10 seconds to 2 minutes.
液晶化合物の配向は、液晶層用塗膜を形成する際の乾燥にて行われてもよい。つまり、液晶層用塗膜と形成する際の乾燥にて、配向層上に塗布された液晶層形成用材料の乾燥と液晶化合物の配向との両方を行ってもよい。
勿論、液晶化合物の配向を、液晶層用塗膜と形成する際の乾燥とは別に行ってもよい。
The orientation of the liquid crystal compound may be performed by drying when forming the coating film for the liquid crystal layer. That is, in the drying when forming the coating film for the liquid crystal layer, both the drying of the material for forming the liquid crystal layer coated on the alignment layer and the orientation of the liquid crystal compound may be performed.
Of course, the orientation of the liquid crystal compound may be performed separately from the drying when forming the coating film for the liquid crystal layer.
−液晶化合物の配向の固定−
液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向の固定には、熱重合又は活性エネルギー線による重合で、液晶層用塗膜を硬化することで行うことが好ましい。
第1の実施形態及び第2の実施形態の光学フィルムの製造方法が、位相差フィルムの製造方法であった場合、活性エネルギー線を用いた液晶化合物の配向の固定が、既述の硬化工程(1)又は(2)に該当する。
重合性を有する液晶化合物を用いる場合、活性エネルギー線の照射量が少ないと、未重合の液晶化合物が残存し、光学特性の温度変化、経時劣化等の起きる原因となる。そのため、残存する未重合の液晶化合物の割合が5%以下になるように照射条件を決めることが好ましい。
照射条件としては、液晶層形成用材料の処方、及び液晶層用塗膜の厚みにもよるが、活性エネルギー線照射量は、50mJ/cm2〜1000mJ/cm2が好ましく、100mJ/cm2〜500mJ/cm2がより好ましい。
-Fixing the orientation of liquid crystal compounds-
The orientation of the liquid crystal compound in the liquid crystal layer coating is preferably fixed by curing the liquid crystal layer coating by thermal polymerization or polymerization with active energy rays.
When the method for producing the optical film of the first embodiment and the second embodiment is the method for producing a retardation film, fixing the orientation of the liquid crystal compound using active energy rays is the curing step described above. It corresponds to 1) or (2).
When a polymerizable liquid crystal compound is used, if the irradiation amount of the active energy ray is small, the unpolymerized liquid crystal compound remains, which causes temperature change of optical characteristics, deterioration with time, and the like. Therefore, it is preferable to determine the irradiation conditions so that the proportion of the remaining unpolymerized liquid crystal compound is 5% or less.
The irradiation conditions, the formulation of the liquid crystal layer forming material, and depending on the thickness of the liquid crystal layer coating film, the active energy ray irradiation amount is preferably 50mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 , 100mJ /
活性エネルギー線の照射に用いる光源としては、既述の塗膜形成工程(1)又は(2)における露光光源が適用でき、好ましい態様も同様である。 As the light source used for irradiating the active energy rays, the exposure light source in the coating film forming step (1) or (2) described above can be applied, and the preferred embodiment is also the same.
その他、液晶層の詳細は、特開2008−225281号公報及び特開2008−026730号公報の記載を参酌できる。 In addition, for details of the liquid crystal layer, the description of JP-A-2008-225281 and JP-A-2008-026730 can be referred to.
以上のようにして得られた位相差フィルムは、液晶化合物の配向の固定の際に生じるシワが低減される。
そのため、光学性能の面内均一性に優れた位相差フィルムとなりうる。
In the retardation film obtained as described above, wrinkles generated when the orientation of the liquid crystal compound is fixed are reduced.
Therefore, it can be a retardation film having excellent in-plane uniformity of optical performance.
以上、位相差フィルムの液晶層を得る際に、第1の実施形態及び第2の実施形態の光学フィルムの製造方法を適用する例について説明したが、この他、既述の、反射防止フィルムの反射防止層、防眩フィルムの防眩層、レンチキュラーシートのレンチキュラーレンズ層等を得る際に適用することもできる。 An example of applying the methods for producing an optical film of the first embodiment and the second embodiment to obtain a liquid crystal layer of a retardation film has been described above, but in addition to the above-mentioned antireflection film. It can also be applied to obtain an antireflection layer, an antiglare layer of an antiglare film, a lenticular lens layer of a lenticular sheet, and the like.
以下に、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The materials, amounts used, ratios, treatment contents, treatment procedures, etc. shown in the following examples can be appropriately changed as long as they do not deviate from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.
[実施例1〜24、及び、比較例1〜2]
(配向層用塗膜の形成及びラビング処理)
長さ1000m、幅1340mm、下記表1記載の厚みのセルローストリアセテートフィルムTD40UL、ZRF20SL、及びTD60UL(富士フイルム社)のいずれかからなる連続フィルム支持体の片面に、アルキル変性のポリビニルアルコール(ポバールMP−203、クラレ社)の2質量%水溶液を、連続フィルム支持体1m2当り25ml塗布後、60℃で60秒乾燥させることにより、乾燥膜厚0.5μmの配向膜用塗膜を形成した。そして、配向膜用塗膜が形成された連続フィルム支持体を、30m/分の搬送速度で搬送させながら、配向膜用塗膜の表面にラビング処理を施し、厚み0.5μmの配向膜を形成した。
[Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 2]
(Formation of coating film for alignment layer and rubbing treatment)
Alkyl-modified polyvinyl alcohol (Poval MP-
(液晶層用塗膜の形成:塗膜形成工程)
続いて、図1又は図2に示すような各工程を有する装置にて、塗膜形成工程、前加熱工程、硬化工程を行った。
具体的には、下記の組成にて調製された液晶層形成用材料を、配向層上にバーコーターを用いて塗布した。
液晶層形成用材料が塗布された連続フィルム支持体を、膜面温度150℃として60秒間加熱して乾燥し、乾燥膜厚が2μmの液晶層用塗膜を形成した。
(Formation of coating film for liquid crystal layer: coating film forming process)
Subsequently, a coating film forming step, a preheating step, and a curing step were performed in an apparatus having each step as shown in FIG. 1 or FIG.
Specifically, a liquid crystal layer forming material prepared with the following composition was applied onto the alignment layer using a bar coater.
The continuous film support coated with the liquid crystal layer forming material was heated and dried at a film surface temperature of 150 ° C. for 60 seconds to form a liquid crystal layer coating film having a dry film thickness of 2 μm.
−液晶層形成用材料の組成−
逆波長分散液晶性化合物 R−2 100質量部
光重合開始剤 3.0質量部
(イルガキュア819、BASF社)
含フッ素化合物 A 0.8質量部
架橋性ポリマー O−2(Tg:10℃) 0.3質量部
クロロホルム 588質量部
-Composition of material for forming liquid crystal layer-
Reverse wavelength dispersion liquid crystal compound R-2 100 parts by mass Photopolymerization initiator 3.0 parts by mass (Irgacure 819, BASF)
Fluorine-containing compound A 0.8 parts by mass Crosslinkable polymer O-2 (Tg: 10 ° C) 0.3 parts by mass Chloroform 588 parts by mass
(前加熱工程)
その後、下記表1に記載の表面温度の加熱ロール(直径600mm)に、液晶層用塗膜を有する連続フィルム支持体を巻き掛け、液晶層用塗膜を有する連続フィルム支持体を加熱した。
(Preheating process)
Then, a continuous film support having a coating film for a liquid crystal layer was wound around a heating roll (diameter 600 mm) having a surface temperature shown in Table 1 below to heat the continuous film support having a coating film for a liquid crystal layer.
(紫外線の照射:硬化工程)
続いて、反応室内にて、バックアップロール(直径500mm、材質ステンレス)にラップ角90℃で巻き掛け、巻き掛けられた領域の液晶層用塗膜に対し、空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社)を用いて紫外線を照射した。紫外線の照射量は300mJ/cm2であった。
なお、反応室内には、2mm×2000mmのスリット状の吹き出し口から供給量100m3/hにて窒素ガスが供給されており、連続フィルム支持体の幅方向全体に亘り窒素ガスを当てた。なお、スリット状の吹き出し口は、短尺(2mm)側を連続フィルム支持体の搬送方向に沿うように、また、長尺(2000mm)側を連続フィルム支持体の幅方向に沿うように設置した。また、スリット状の吹き出し口は、連続フィルム支持体とバックアップロールの接触地点にある塗膜面から5mm離間した位置に設置し、窒素ガスの吐出方向が塗膜面に略垂直(図2の場合の矢印に示す方向)になるようにした。
なお、実施例1〜24の場合、反応室内に供給される窒素ガスは下記表1に記載の温度に加温されたものであり、比較例1〜2の場合、反応室内に供給される窒素ガスは加温されていないものであった。
(Ultraviolet irradiation: curing process)
Subsequently, in the reaction chamber, a backup roll (diameter 500 mm, material stainless steel) was wrapped around the wrap angle at 90 ° C., and an air-cooled metal halide lamp (Igraphics Co., Ltd.) was applied to the coating film for the liquid crystal layer in the wrapped area. Used to irradiate ultraviolet light. The irradiation amount of ultraviolet rays was 300 mJ / cm 2 .
Nitrogen gas was supplied into the reaction chamber at a supply amount of 100 m 3 / h from a slit-shaped outlet of 2 mm × 2000 mm, and nitrogen gas was applied over the entire width direction of the continuous film support. The slit-shaped outlet was installed so that the short (2 mm) side was along the transport direction of the continuous film support and the long (2000 mm) side was along the width direction of the continuous film support. Further, the slit-shaped outlet is installed at a position 5 mm away from the coating film surface at the contact point between the continuous film support and the backup roll, and the nitrogen gas discharge direction is substantially perpendicular to the coating film surface (in the case of FIG. 2). The direction shown by the arrow).
In the case of Examples 1 to 24, the nitrogen gas supplied to the reaction chamber was heated to the temperature shown in Table 1 below, and in the case of Comparative Examples 1 to 2, the nitrogen supplied to the reaction chamber was used. The gas was unheated.
反応室内の雰囲気温度は、既述の通り、反応室内の、連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点にある塗膜面から1mm離間した位置に設置された熱電対(二宮電線工業社、スーパー極細−01−K)にて測定した。 As described above, the atmospheric temperature in the reaction chamber is the thermocouple installed at a position 1 mm away from the coating film surface at the contact point between the continuous film support and the backup roll in the reaction chamber (Ninomiya Electric Wire Industry Co., Ltd., Supermarket). It was measured with an extra-fine -01-K).
以上のようにして、硬化工程を行い、液晶化合物の配向を固定化し、液晶層を形成して、位相差フィルムを得た。 As described above, the curing step was carried out to fix the orientation of the liquid crystal compound and form a liquid crystal layer to obtain a retardation film.
[実施例25]
実施例5において、前加熱工程を行わなかった以外は、実施例5と同様にして、位相差フィルムを得た。
[Example 25]
A retardation film was obtained in the same manner as in Example 5 except that the preheating step was not performed in Example 5.
[実施例26]
実施例5における紫外線の照射を、以下のように変更した以外は実施例5と同様にして、位相差フィルムを得た。
[Example 26]
A retardation film was obtained in the same manner as in Example 5 except that the irradiation of ultraviolet rays in Example 5 was changed as follows.
(紫外線の照射)
反応室内にて、バックアップロール(直径500mm、材質ステンレス)にラップ角90℃で巻き掛け、巻き掛けられた領域の液晶層用塗膜に対し、空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社)を用いて紫外線を照射した。紫外線の照射量は150mJ/cm2であった。
なお、反応室内には、2mm×2000mmのスリット状の吹き出し口から供給量100m3/hにて、加温された100℃の窒素ガスを供給した。なお、図3に示すように、スリット状の吹き出し口(図3中の36c)は、反応室の出口付近で、塗膜面から50mm離れた位置に設置し、窒素ガスの吐出方向が塗膜面と略平行で且つ搬送方向と逆向きなるようにした。
(Ultraviolet irradiation)
In the reaction chamber, wrap it around a backup roll (diameter 500 mm, material stainless steel) at a wrap angle of 90 ° C. Was irradiated. The irradiation amount of ultraviolet rays was 150 mJ / cm 2 .
A heated nitrogen gas at 100 ° C. was supplied into the reaction chamber from a slit-shaped outlet of 2 mm × 2000 mm with a supply amount of 100 m 3 / h. As shown in FIG. 3, the slit-shaped outlet (36c in FIG. 3) is installed near the outlet of the reaction chamber at a position 50 mm away from the coating film surface, and the nitrogen gas discharge direction is the coating film. It was made to be substantially parallel to the surface and opposite to the transport direction.
[評価:シワの発生]
上記実施例及び比較例で作製した位相差フィルムについて、シワの状態を、下記方法及び評価基準に基づいて評価した。
結果を表1に示す。
[Evaluation: Occurrence of wrinkles]
The wrinkle state of the retardation films produced in the above Examples and Comparative Examples was evaluated based on the following methods and evaluation criteria.
The results are shown in Table 1.
得られた位相差フィルムの末端(巻き終わり側の端部)から0m〜1mの幅方向全体について、シワの状態を目視にて観察し、評価を行った。
より具体的には、2枚の偏光板で位相差フィルムを挟み、透過光を入れながら偏光板の角度を調整して全体的に暗くなるようにして、シワの部分から光が透過する強度を観察し、それをもとに官能評価を行った。
The state of wrinkles was visually observed and evaluated in the entire width direction from 0 m to 1 m from the end (end on the winding end side) of the obtained retardation film.
More specifically, the retardation film is sandwiched between two polarizing plates, and the angle of the polarizing plate is adjusted while allowing transmitted light to be darkened as a whole to increase the intensity of light transmitted from the wrinkled portion. Observation was performed, and sensory evaluation was performed based on the observation.
−評価基準−
A: シワがみられない
B: シワが僅かに視認できる
C: シワが視認できるが、例えば液晶表示装置等の製品へと実装した際の品質に影響はなし
D: シワが視認でき、例えば液晶表示装置等の製品へと実装した際に影響が僅かにあるが、製品の品質としては実用許容レベルである
E: シワが大きく又は多く、例えば液晶表示装置等の製品へと実装した際の影響が大きく、製品の品質が実用不可レベルである
-Evaluation criteria-
A: No wrinkles B: Wrinkles are slightly visible C: Wrinkles are visible, but there is no effect on the quality when mounted on products such as liquid crystal display devices D: Wrinkles are visible, for example, liquid crystal display There is a slight effect when mounted on products such as devices, but the quality of the product is at a practically acceptable level. E: Wrinkles are large or many, and the effect when mounted on products such as liquid crystal display devices is Large and product quality is impractical
表1中、「支持体の厚み」とは連続フィルム支持体自体の厚みであり、表1中、「支持体と塗膜との総厚み」とは連続フィルム支持体と連続フィルム支持体上に設けられた塗膜との厚みの総計であり、「支持体とロールとの接触地点の度T1」は連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点の温度T1であり、「ロールの表面温度T2」はバックアップロールの表面温度T2である。 In Table 1, the "thickness of the support" is the thickness of the continuous film support itself, and in Table 1, the "total thickness of the support and the coating film" is on the continuous film support and the continuous film support. It is the total thickness of the provided coating film, and "the degree of contact point between the support and the roll T 1 " is the temperature T 1 at the contact point between the continuous film support and the backup roll, and "the surface of the roll". “Temperature T 2 ” is the surface temperature T 2 of the backup roll.
表1に明らかなように、実施例の位相差フィルムは、比較例の位相差フィルムに比べて、シワの発生が抑制されていることが分かる。
特に、温度T1と温度T2との差が小さく、温度T1が温度T2に対して±20℃以内であると、シワの発生が抑制されていることも分かる。
更に、連続フィルム支持体と塗膜との総厚みtが大きいほど、温度T1と温度T2との差が大きくても、シワの発生が抑制できることも分かる。
As is clear from Table 1, it can be seen that the retardation film of the example suppresses the occurrence of wrinkles as compared with the retardation film of the comparative example.
In particular, it can be seen that when the difference between the temperature T 1 and the temperature T 2 is small and the temperature T 1 is within ± 20 ° C. with respect to the temperature T 2 , the occurrence of wrinkles is suppressed.
Further, it can be seen that the larger the total thickness t between the continuous film support and the coating film, the more wrinkles can be suppressed even if the difference between the temperature T 1 and the temperature T 2 is large.
1 塗布手段
2 乾燥手段
3 反応室
4 加熱ロール
32 露光光源
34 バックアップロール
36a、36b、36c ノズル(吹き出し口)
F 連続フィルム支持体
P 連続フィルム支持体とバックアップロールとの接触地点
Q 連続フィルム支持体とバックアップロールとの離間地点
1 Coating means 2 Drying means 3 Reaction chamber 4
F Continuous film support P Contact point between continuous film support and backup roll Q Separation point between continuous film support and backup roll
Claims (16)
不活性ガスが供給及び充填され且つ加熱手段により内部雰囲気が加温された反応室内の、塗膜が形成された連続フィルム支持体を加温されたバックアップロールに巻き掛けた領域にて、塗膜に対し活性エネルギー線を照射して、塗膜を硬化させる硬化工程と、
を有し、硬化工程において、連続フィルム支持体と加温されたバックアップロールとの最初の接触地点が反応室内にある光学フィルムの製造方法。 A coating film forming step of forming a coating film cured by active energy rays on a continuous film support,
In the reaction chamber where the inert gas is supplied and filled and the internal atmosphere is heated by the heating means, the coating film is formed in the region where the continuous film support on which the coating film is formed is wound around the heated backup roll. The curing process of irradiating the film with active energy rays to cure the coating film,
In Yes, and curing step a method for producing an optical film in which the first contact point between the backup roll which is a heated continuous film support is in the reaction chamber.
不活性ガスが供給及び充填された反応室内において、連続フィルム支持体の塗膜が形成された面を加熱し、且つ、塗膜が形成された連続フィルム支持体を加温されたバックアップロールに巻き掛けた領域にて塗膜に対し活性エネルギー線を照射して、塗膜を硬化させる硬化工程と、
を有し、硬化工程において、連続フィルム支持体と加温されたバックアップロールとの最初の接触地点が反応室内にある光学フィルムの製造方法。 A coating film forming step of forming a coating film cured by active energy rays on a continuous film support,
In the reaction chamber to which the inert gas is supplied and filled, the surface of the continuous film support on which the coating film is formed is heated, and the continuous film support on which the coating film is formed is wound on a heated backup roll. A curing step of irradiating the coating film with active energy rays in the applied area to cure the coating film,
In Yes, and curing step a method for producing an optical film in which the first contact point between the backup roll which is a heated continuous film support is in the reaction chamber.
式(1) 0≦|T2−T1|≦t The temperature at the first contact point between the continuous film support and the backup roll in the reaction chamber was set to T 1 ° C, the surface temperature of the heated backup roll was set to T 2 ° C, and the continuous film support on which the coating film was formed was formed. The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 10, wherein the total thickness of the film is tμm, which satisfies the following formula (1).
Equation (1) 0 ≤ | T 2- T 1 | ≤ t
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018065502A JP6955304B2 (en) | 2018-03-29 | 2018-03-29 | Optical film manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018065502A JP6955304B2 (en) | 2018-03-29 | 2018-03-29 | Optical film manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019171340A JP2019171340A (en) | 2019-10-10 |
JP6955304B2 true JP6955304B2 (en) | 2021-10-27 |
Family
ID=68169822
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018065502A Active JP6955304B2 (en) | 2018-03-29 | 2018-03-29 | Optical film manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6955304B2 (en) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2523574B2 (en) * | 1987-02-05 | 1996-08-14 | 松下電器産業株式会社 | Method for manufacturing coating film |
JP4839037B2 (en) * | 2004-08-04 | 2011-12-14 | 富士フイルム株式会社 | Manufacturing method of optical film |
JP2016022595A (en) * | 2014-07-16 | 2016-02-08 | コニカミノルタ株式会社 | Gas barrier film, production method thereof, and electronic device having gas barrier film |
JP6305319B2 (en) * | 2014-11-14 | 2018-04-04 | 富士フイルム株式会社 | Wavelength conversion member, backlight unit including the same, liquid crystal display device, and method for manufacturing wavelength conversion member |
-
2018
- 2018-03-29 JP JP2018065502A patent/JP6955304B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019171340A (en) | 2019-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5235469B2 (en) | Drying apparatus and optical film manufacturing method | |
JP6955304B2 (en) | Optical film manufacturing method | |
KR20150082102A (en) | Method for producing optical film | |
JP7004802B2 (en) | Optical film manufacturing method | |
JP6861182B2 (en) | Optical film manufacturing method | |
JP6708580B2 (en) | Method for producing retardation film | |
JP2008224968A (en) | Manufacturing method of optical compensation film, and the optical compensation film | |
JP6977152B2 (en) | Optical film manufacturing method | |
JP6823725B2 (en) | Manufacturing method of retardation film | |
JP6841970B2 (en) | Phase difference film manufacturing method and retardation film manufacturing equipment | |
JP7358064B2 (en) | Optical film manufacturing method and optical film manufacturing device | |
JP6694407B2 (en) | Method for producing retardation film | |
JP6789164B2 (en) | Manufacturing method of retardation film | |
WO2020066918A1 (en) | Polarization module, polarized light irradiation device, and optical film production method | |
JP6938758B2 (en) | Phase difference film manufacturing method and manufacturing equipment | |
JP4687909B2 (en) | Optical film manufacturing method and apparatus | |
WO2020066528A1 (en) | Method for producing optical film | |
JP6950076B2 (en) | UV irradiation device and manufacturing method of optical film | |
JP6840248B2 (en) | Manufacturing method of retardation film | |
JPWO2019098215A1 (en) | A long liquid crystal film, a long polarizing plate, an image display device, and a method for manufacturing a long liquid crystal film. | |
US20110135828A1 (en) | Method for manufacturing coating film | |
JP2009103981A (en) | Method for manufacturing optical compensation film and optical compensation film |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200128 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201208 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210205 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210322 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210907 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210928 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6955304 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |