JP6861182B2 - Optical film manufacturing method - Google Patents

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Description

本開示は、光学フィルムの製造方法に関する。 The present disclosure relates to a method for producing an optical film.

近年、光学フィルムの需要が増加しつつある。光学フィルムの代表的なものとして、位相差フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム等が挙げられる。 In recent years, the demand for optical films has been increasing. Typical optical films include retardation films, antireflection films, antiglare films and the like.

光学フィルムは、生産性向上のため、長尺のフィルム状支持体(以降、「連続フィルム支持体」)を用い、ロールトゥロール(Roll to Roll)方式での連続プロセスによって製造される。
光学フィルムの製造方法の一例として、連続フィルム支持体の表面に、活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液を塗布し、乾燥させて硬化性層を形成する硬化性層形成工程と、形成された硬化性層に活性エネルギー線を照射して硬化させる硬化工程と、を有し、連続フィルム支持体の表面に目的とする光学機能層を形成する方法が知られている。
このように、活性エネルギー線を照射することで硬化性層を硬化させる場合、雰囲気中の酸素が硬化性層の硬化反応を阻害する要因となっていることが知られている。
The optical film is manufactured by a roll-to-roll continuous process using a long film-like support (hereinafter, "continuous film support") in order to improve productivity.
As an example of a method for producing an optical film, a curable layer forming step of applying a coating liquid having a composition of being cured by active energy rays to the surface of a continuous film support and drying the film to form a curable layer was formed. A method is known which comprises a curing step of irradiating a curable layer with active energy rays to cure it, and forming a target optical functional layer on the surface of a continuous film support.
As described above, when the curable layer is cured by irradiating it with active energy rays, it is known that oxygen in the atmosphere is a factor that inhibits the curing reaction of the curable layer.

光学フィルムの製造方法に適用される塗布膜の硬化方法としては、例えば、特許文献1に記載の方法がある。
特許文献1には、走行する帯状の可撓性支持体の表面に形成された活性線硬化樹脂よりなる塗布膜に複数台の活性線照射手段により活性線を照射して塗布膜を硬化させる塗布膜の硬化方法において、1台以上の活性線照射手段により活性線が照射された可撓性支持体を次段の活性線照射手段に走行させるまでの間、塗布膜を脱酸素雰囲気に保つ塗布膜の硬化方法が開示されている。そして、特許文献1には、複数台の活性線照射手段同士の間に密閉空間を形成し、密閉空間内に不活性ガスを供給すること、及び、塗布膜に対する活性線の照射を、塗布膜を有する可撓性支持体を加温したバックアップロールに巻き掛けて行うことが開示されている。
As a method for curing a coating film applied to a method for producing an optical film, for example, there is a method described in Patent Document 1.
In Patent Document 1, a coating film made of an active ray-curing resin formed on the surface of a traveling strip-shaped flexible support is irradiated with active rays by a plurality of active ray irradiating means to cure the coating film. In the method of curing a film, a coating film is kept in a deoxidized atmosphere until a flexible support irradiated with active rays by one or more active ray irradiation means is run on a next-stage active ray irradiation means. A method for curing a film is disclosed. Then, in Patent Document 1, a closed space is formed between a plurality of active ray irradiating means, an inert gas is supplied into the closed space, and the coating film is irradiated with the active ray. It is disclosed that the flexible support having the above is wound around a heated backup roll.

また、特許文献2には、長尺の基材フィルム及び硬化層を備える光学フィルムの製造方法であって、基材フィルムと、活性エネルギー線によって硬化しうる硬化前層と、を備えた複層フィルムの基材フィルムを特定の状態で加熱する工程と、加熱された基材フィルムを、30℃以上のバックロールに接触させた状態で、硬化前層に活性エネルギー線を照射することによって、硬化前層を硬化させて硬化層を得る工程と、を含む、光学フィルムの製造方法が開示されている。また、特許文献2には、硬化前層への活性エネルギー線の照射を、不活性ガス雰囲気下で行うことについても開示されている。 Further, Patent Document 2 is a method for producing an optical film including a long base film and a cured layer, which includes a base film and a pre-cured layer that can be cured by active energy rays. The base film of the film is cured in a specific state, and the heated base film is cured by irradiating the pre-curing layer with active energy rays in a state of being in contact with a back roll of 30 ° C. or higher. A method for producing an optical film including a step of curing a front layer to obtain a cured layer is disclosed. Further, Patent Document 2 also discloses that the pre-curing layer is irradiated with active energy rays in an inert gas atmosphere.

更に、特許文献3には、樹脂フィルム上に活性エネルギー線硬化性樹脂層を設けた後、樹脂フィルムを搬送しながら、活性エネルギー線硬化性樹脂層に光源から活性エネルギー線を照射して硬化を行うハードコートフィルムの製造方法であって、不活性ガスを、活性エネルギー線が照射される活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面に供給する方法が開示されている。また、特許文献3には、樹脂フィルムをその背面でバックアップロールにて支持・搬送しながら、活性エネルギー線の照射および不活性ガスの供給を行うことも開示されている。 Further, in Patent Document 3, after providing an active energy ray-curable resin layer on a resin film, the active energy ray-curable resin layer is cured by irradiating the active energy ray-curable resin layer with active energy rays from a light source while transporting the resin film. A method for producing a hard coat film is disclosed, wherein an inert gas is supplied to the surface of an active energy ray-curable resin layer irradiated with active energy rays. Further, Patent Document 3 also discloses that while supporting and transporting a resin film on the back surface of the resin film with a backup roll, irradiation of active energy rays and supply of an inert gas are performed.

一方、光学フィルムを製造する場合には、長尺状のウェブと称されるフィルムが使用される。この長尺状のウェブは、フィルム同士を接合により連結して作製されるため、長手方向にはフィルムの連結部分である接合部が形成されている。
接合部には、連結方法の違いにより様々な形態がある。例えば、基材の一方面に粘着剤層を有する粘着材料(いわゆる粘着テープ)を貼り付けて連結する場合、連結される2つのフィルムの各端部を両面から粘着テープで挟んで繋ぎ合わせる。接合部は、連結される2つのフィルムが予期しない微小な角度を持って連結されたり、接合部がフィルムより厚くなるために剛性又は熱膨張が大きく異なる場合がある。
On the other hand, when manufacturing an optical film, a film called a long web is used. Since this long web is produced by connecting films to each other by joining, a joint portion which is a connecting portion of the films is formed in the longitudinal direction.
There are various forms of joints depending on the connection method. For example, when an adhesive material having an adhesive layer (so-called adhesive tape) is attached to one side of a base material and connected, each end of the two films to be connected is sandwiched between both sides with the adhesive tape and connected. The joint may differ significantly in rigidity or thermal expansion because the two films to be connected are joined at an unexpectedly small angle, or because the joint is thicker than the film.

特開2006−247530号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-247530 特開2017−111394号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-111394 特開2009−240921号公報JP-A-2009-240921

雰囲気中の酸素が硬化反応を阻害することに対しては、上記のように種々の技術が検討され、例えば窒素ガス等の不活性ガスを供給することにより、硬化反応を行う環境が窒素比率の高い不活性雰囲気に置換されていることが望ましい。 As described above, various techniques have been studied for the fact that oxygen in the atmosphere inhibits the curing reaction. For example, by supplying an inert gas such as nitrogen gas, the environment in which the curing reaction is performed has a nitrogen ratio. It is desirable to replace it with a highly inert atmosphere.

紫外線(UV)等の活性エネルギー線を照射して硬化性の層(塗膜)を硬化させるUV照射部(反応室)に窒素ガスを供給して不活性雰囲気を形成しようとすると、室内に搬送されたフィルムは、供給される窒素ガスにより冷やされてフィルム温度が低下する傾向にある。例えば、フィルムが室温以上の温度に調整(例えば120℃に温調)されたバックアップロールに巻き掛けられてUV照射部に搬送された場合、バックアップロールと接している側のフィルム表面は例えば120℃付近の温度に維持される一方、逆側のフィルムの硬化性層形成面は、UV照射部に供給された室温(例えば25℃)の窒素ガスにより冷やされ、フィルムの表裏で温度差が生じることになる。この温度差に起因してフィルムに回復できないシワが発生することがある。
ここにいう、回復できない強いシワ(皺)とは、フィルム幅方向に波形が連続しフィルム搬送方向に長く伸びた撚れから派生してバックアップロールの表面で互いに折り重なってできる皺(いわゆる「乗り上げシワ(Riding up wrinkles)」)を指す。
When nitrogen gas is supplied to the UV irradiation section (reaction chamber) that cures the curable layer (coating film) by irradiating it with active energy rays such as ultraviolet rays (UV) to form an inert atmosphere, it is transported indoors. The film is cooled by the supplied nitrogen gas, and the film temperature tends to decrease. For example, when the film is wound on a backup roll adjusted to a temperature equal to or higher than room temperature (for example, the temperature is adjusted to 120 ° C.) and conveyed to the UV irradiation unit, the surface of the film on the side in contact with the backup roll is, for example, 120 ° C. While the temperature is maintained in the vicinity, the curable layer forming surface of the film on the opposite side is cooled by the nitrogen gas at room temperature (for example, 25 ° C.) supplied to the UV irradiation part, and a temperature difference occurs between the front and back surfaces of the film. become. Due to this temperature difference, irreparable wrinkles may occur on the film.
The strong wrinkles that cannot be recovered here are wrinkles that are derived from twists that have continuous waveforms in the film width direction and are elongated in the film transport direction, and are folded on the surface of the backup roll (so-called "riding wrinkles"). (Riding up wrinkles) ").

特に、フィルム同士を接合して連結した長尺状の連続フィルム支持体(本明細書において、「ウェブ」ともいう。)を用いた場合、連結部分である接合部における連結角度の誤差、又は接合部とフィルムとの間の剛性の差もしくは熱膨張差等に起因して、接合部の前後において、フィルム幅方向に波形が連続し、かつ、波形がフィルム搬送方向に長く伸びる波形変形(いわゆる「ツレシワ」)が発生しやすくなる傾向がある。
そして、通常、接合部に起因したツレシワは、接合部がバックアップロールから離れて遠ざかると、バックアップロール上でフィルムが伸ばされてツレシワは解消するが、ツレシワが強かったり上手く引き伸ばされない等の要因が重なると、回復できない強いシワに変化することがある。
殊に、フィルムの接合部以外のツレシワの発生が弱い箇所では、フィルム表裏にある程度の温度差があってもシワへの影響は問題にならない(つまり乗り上げシワにならない)が、接合部より下流側の後続のフィルムを、強いツレシワが発生している状態で搬送させ、バックアップロールによりツレシワのあるフィルムに表裏の温度差ができた場合、ツレシワに応力が加わって乗り上げシワに変化する場合がある。
In particular, when a long continuous film support (also referred to as "web" in the present specification) in which films are joined and connected to each other is used, an error in the connecting angle at the joint portion which is the connecting portion, or joining is used. Waveform deformation (so-called "") in which the waveform is continuous in the film width direction and the waveform extends long in the film transport direction before and after the joint due to the difference in rigidity or thermal expansion between the portion and the film. There is a tendency for "scratch wrinkles") to occur easily.
Normally, when the joint is separated from the backup roll, the film is stretched on the backup roll to eliminate the wrinkles, but the wrinkles are strong or not stretched well. When they overlap, they may turn into strong wrinkles that cannot be recovered.
In particular, in places other than the joint of the film where wrinkles are weakly generated, the effect on wrinkles does not matter even if there is a certain temperature difference between the front and back of the film (that is, it does not cause run-up wrinkles), but it is on the downstream side of the joint. If the film following the above is conveyed in a state where strong wrinkles are generated and the film with wrinkles has a temperature difference between the front and back due to the backup roll, stress may be applied to the wrinkles and the film may change to run-up wrinkles.

このような状況に関連して、上記の従来技術のうち特許文献1に記載の塗布膜の硬化方法では、塗布膜を有する可撓性支持体の塗布膜に活性線を照射する際、可撓性支持体の塗布膜形成面側と、加温したバックアップロールに接触する側と、の間に温度差が生じやすく、シワが発生しやすく、ひいては乗り上げシワに発展しやすい。 In relation to such a situation, the coating film curing method described in Patent Document 1 among the above-mentioned prior arts is flexible when the coating film of a flexible support having a coating film is irradiated with active rays. A temperature difference is likely to occur between the coating film forming surface side of the sex support and the side in contact with the heated backup roll, wrinkles are likely to occur, and eventually, riding wrinkles are likely to occur.

また、特許文献2に記載の光学フィルムの製造方法の場合も、硬化前層を有する基材フィルムの硬化前層に活性エネルギー線を照射する際、基材フィルムの硬化前層が形成された側と、加温したバックロールに接触する側と、の間に温度差が生じやすく、やはり基材フィルムに乗り上げシワが発生する懸念がある。
特許文献3に記載のハードコートフィルムの製造方法においても、不活性ガスが、活性エネルギー線が照射される活性エネルギー線硬化性樹脂層の表面に供給される態様であり、フィルムの表裏で温度差が生じた際には、上記と同様に温度差に起因した乗り上げシワがフィルムに発生するおそれがある。
Further, also in the case of the method for producing an optical film described in Patent Document 2, when the pre-curing layer of the base film having the pre-curing layer is irradiated with active energy rays, the side on which the pre-curing layer of the base film is formed is formed. A temperature difference is likely to occur between the side that comes into contact with the heated back roll and the side that comes into contact with the heated back roll, and there is a concern that wrinkles may occur on the base film.
The method for producing a hard coat film described in Patent Document 3 is also a mode in which an inert gas is supplied to the surface of an active energy ray-curable resin layer irradiated with active energy rays, and there is a temperature difference between the front and back surfaces of the film. When this occurs, the film may have wrinkles on the film due to the temperature difference as described above.

本開示は、上記に鑑みなされたものである。
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、フィルムの連結部分である接合部を有する連続フィルム支持体(ウェブ)上の硬化性層を不活性雰囲気に曝された状態で硬化させる場合に、ウェブの乗り上げシワの発生が抑制される光学フィルムの製造方法を提供することにある。
The present disclosure has been made in view of the above.
An object to be solved by one embodiment of the present invention is the case where a curable layer on a continuous film support (web) having a joint portion which is a connecting portion of a film is cured in a state of being exposed to an inert atmosphere. The purpose of the present invention is to provide a method for producing an optical film in which the occurrence of wrinkles on the web is suppressed.

課題を解決するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
<1> フィルム同士が接合された接合部を有し、かつ、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を搬送する第1工程と、不活性ガスが第1の供給流量で供給される活性エネルギー線照射部内で、加熱されたバックアップロールに巻き掛けられた上記の連続フィルム支持体の巻き掛け領域の硬化性層に活性エネルギー線を照射する第2工程と、を有し、
第2工程において、活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流4mの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部の少なくとも一方は、不活性ガスを第2の供給流量で供給し、第1の供給流量f1と第2の供給流量f2とは下記式1を満たす、光学フィルムの製造方法である。
f1>f2 式1
<2> 活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流4mの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部の少なくとも一方における、第1の供給流量f1に対する第2の供給流量f2の比率が50%以下である<1>に記載の光学フィルムの製造方法である。
<3> 活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流4mの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部の少なくとも一方における、第1の供給流量f1に対する第2の供給流量f2の比率が20%以下である<1>又は<2>に記載の光学フィルムの製造方法である。
<4> バックアップロールの表面温度が、80℃以上160℃以下である<1>〜<3>のいずれか1つに記載の光学フィルムの製造方法である。
<5> 第2工程は、更に、搬送された連続フィルム支持体の接合部がバックアップロールに接触する前に、上記の式1を満たす範囲に不活性ガスの供給流量を調整する、<1>〜<4>のいずれか1つに記載の光学フィルムの製造方法である。
Specific means for solving the problem include the following aspects.
<1> The first step of transporting a continuous film support having a joint portion in which the films are joined and coated with a curable layer, and the inert gas being supplied at the first supply flow rate. It has a second step of irradiating the curable layer of the winding region of the continuous film support wound around the heated backup roll with the active energy ray in the active energy ray irradiation unit.
In the second step, the joint portion is formed at least a part of the time during which the joint portion passes through the active energy ray irradiation portion, and between the point where the continuous film support separates from the backup roll and the point 4 m downstream from this point in the transport direction. Production of an optical film in which the inert gas is supplied at a second supply flow rate for at least one of at least a part of the passage, and the first supply flow rate f1 and the second supply flow rate f2 satisfy the following formula 1. The method.
f1> f2 Equation 1
<2> The joint passes at least a part while the joint passes through the active energy ray irradiation part, and between a point where the continuous film support separates from the backup roll and a point 4 m downstream from this point in the transport direction. The method for producing an optical film according to <1>, wherein the ratio of the second supply flow rate f2 to the first supply flow rate f1 is 50% or less in at least one of at least a part of the space.
<3> The joint passes at least a part while the joint passes through the active energy ray irradiation part, and between a point where the continuous film support separates from the backup roll and a point 4 m downstream from this point in the transport direction. The method for producing an optical film according to <1> or <2>, wherein the ratio of the second supply flow rate f2 to the first supply flow rate f1 is 20% or less in at least one of at least a part of the space.
<4> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <3>, wherein the surface temperature of the backup roll is 80 ° C. or higher and 160 ° C. or lower.
<5> In the second step, the supply flow rate of the inert gas is further adjusted within the range satisfying the above formula 1 before the joint portion of the conveyed continuous film support comes into contact with the backup roll. <1> The method for producing an optical film according to any one of <4>.

<6> 第2工程は、活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流4mの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部において、第2の供給流量f2を維持する、<1>〜<5>のいずれか1つに記載の光学フィルムの製造方法である。
<7> 第2工程の前に、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を予熱する第3工程を有する<1>〜<6>のいずれか1つに記載の光学フィルムの製造方法である。
<8> 連続フィルム支持体の幅長が、200mm以上2000mm以下である<1>〜<7>のいずれか1つに記載の光学フィルムの製造方法である。
<9> 連続フィルム支持体の厚みが、3μm以上100μm以下である<1>〜<8>のいずれか1つに記載の光学フィルムの製造方法である。
<10> 不活性ガスの第1の供給流量f1が、5m/h以上300m/h以下である<1>〜<9>のいずれか1つに記載の光学フィルムの製造方法である。
<11> 連続フィルム支持体に硬化性層が形成された積層体の総厚は、3.1μm以上115μm以下である<1>〜<10>のいずれか1つに記載の光学フィルムの製造方法。
<6> In the second step, at least a part while the joint portion passes through the active energy ray irradiation portion, and between a point where the continuous film support separates from the backup roll and a point 4 m downstream from this point in the transport direction. The method for producing an optical film according to any one of <1> to <5>, wherein the second supply flow rate f2 is maintained at least for a part while the joint portion passes through.
<7> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <6>, which has a third step of preheating a continuous film support coated with a curable layer before the second step. Is.
<8> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <7>, wherein the width length of the continuous film support is 200 mm or more and 2000 mm or less.
<9> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <8>, wherein the thickness of the continuous film support is 3 μm or more and 100 μm or less.
<10> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <9>, wherein the first supply flow rate f1 of the inert gas is 5 m 3 / h or more and 300 m 3 / h or less.
<11> The method for producing an optical film according to any one of <1> to <10>, wherein the total thickness of the laminated body in which the curable layer is formed on the continuous film support is 3.1 μm or more and 115 μm or less. ..

本発明の一実施形態によれば、フィルムの連結部分である接合部を有する連続フィルム支持体(ウェブ)上の硬化性層を不活性雰囲気に曝された状態で硬化させる場合に、ウェブの乗り上げシワの発生が抑制される光学フィルムの製造方法が提供される。 According to one embodiment of the present invention, when the curable layer on a continuous film support (web) having a joint portion which is a connecting portion of the film is cured in a state of being exposed to an inert atmosphere, the web rides on the web. A method for producing an optical film in which the generation of wrinkles is suppressed is provided.

本発明の一実施形態の光学フィルムの製造方法の各工程を示す概略図である。It is the schematic which shows each process of the manufacturing method of the optical film of one Embodiment of this invention. 本発明の他の一実施形態の光学フィルムの製造方法の各工程を示す概略図である。It is the schematic which shows each step of the manufacturing method of the optical film of another embodiment of this invention.

以下、本開示の光学フィルムの製造方法について詳細に説明する。 Hereinafter, the method for producing the optical film of the present disclosure will be described in detail.

本明細書において、第1工程及び第2工程等における「工程」の語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。 In the present specification, the term "process" in the first process, the second process, etc. is not limited to an independent process, and the intended purpose of the process is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other processes. If so, it is included in this term.

本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。 In the present specification, the numerical range indicated by using "~" indicates a range including the numerical values before and after "~" as the minimum value and the maximum value, respectively. In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described stepwise. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the value shown in the examples.

本開示の光学フィルムの製造方法は、フィルム同士が接合された接合部を有し、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を搬送する第1工程と、不活性ガスが第1の供給流量で供給される活性エネルギー線照射部内で、加熱されたバックアップロールに巻き掛けられた連続フィルム支持体の巻き掛け領域の硬化性層に活性エネルギー線を照射する第2工程と、を有し、
第2工程において、(1)活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び(2)連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流4mの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部、の少なくとも一方は、不活性ガスを第2の供給流量で供給し、第1の供給流量f1と第2の供給流量f2とが下記式1を満たす。
f1>f2 ・・・式1
The method for producing an optical film of the present disclosure includes a first step of transporting a continuous film support having a joint portion to which the films are bonded and coated with a curable layer, and a first supply of an inert gas. It has a second step of irradiating the curable layer of the winding region of the continuous film support wound on the heated backup roll with the active energy ray in the active energy ray irradiation unit supplied by the flow rate.
In the second step, (1) at least a part while the joint portion passes through the active energy ray irradiation portion, and (2) a point where the continuous film support separates from the backup roll and a point 4 m downstream from this point in the transport direction. The inert gas is supplied at a second supply flow rate for at least one of at least a part of the gap between the joints, and the first supply flow rate f1 and the second supply flow rate f2 are expressed by the following equation 1. Meet.
f1> f2 ・ ・ ・ Equation 1

本開示において、第1の供給流量及び第2の供給流量は、1時間あたりに供給される体積流量を指し、「m/h」を単位として表される物質量である。 In the present disclosure, the first supply flow rate and the second supply flow rate refer to the volumetric flow rate supplied per hour, and are the amount of substance expressed in units of "m 3 / h".

窒素ガスが供給されて不活性雰囲気が形成されたUV照射部に被照射体を搬入し、不活性雰囲気下で硬化性の硬化性層を硬化させる場合、既述の特許文献1〜3に記載された技術のように、供給された窒素ガスによって雰囲気温度が低下したり、供給された窒素ガスに直接曝される等によって、ウェブの一方面が冷やされ、ウェブの表裏で温度差が発生する場合がある。ウェブの表裏で温度差が生じた場合、ウェブには回復困難なシワが発生しやすくなる傾向がある。特に、フィルム同士を接合して連結した長尺状のウェブのように、長手方向に連結部分である接合部が存在する場合、フィルムの表裏に温度差が生じた際に接合部に起因したシワの発生が顕著になり、ツレシワと称されるシワが現れる。そして、ツレシワが発生している状態でウェブを搬送させ、接合部がバックアップロールから離れた際、後続のフィルムがツレシワをきっかけとしてバックアップロール上で回復できない乗り上げシワの発生を招く場合がある。
乗り上げシワが発生した後のシワの解消は必ずしも容易に行えないため、乗り上げシワが発生する前に、シワが発生しにくい環境に整えることが重要である。
Described in Patent Documents 1 to 3 described above in the case where the irradiated body is carried into the UV-irradiated portion where nitrogen gas is supplied to form an inert atmosphere and the curable curable layer is cured in the inert atmosphere. One side of the web is cooled by lowering the ambient temperature due to the supplied nitrogen gas, direct exposure to the supplied nitrogen gas, etc., and a temperature difference occurs between the front and back of the web. In some cases. When there is a temperature difference between the front and back of the web, the web tends to have irreparable wrinkles. In particular, when there is a joint portion that is a connecting portion in the longitudinal direction, such as a long web in which films are joined and connected to each other, wrinkles caused by the joint portion occur when a temperature difference occurs between the front and back of the film. The occurrence of wrinkles becomes remarkable, and wrinkles called wrinkles appear. Then, when the web is conveyed in a state where wrinkles are generated and the joint is separated from the backup roll, the subsequent film may cause irreparable run-up wrinkles on the backup roll triggered by the wrinkles.
Since it is not always easy to eliminate wrinkles after riding wrinkles occur, it is important to prepare an environment in which wrinkles are unlikely to occur before riding wrinkles occur.

上記に鑑み、本開示の光学フィルムの製造方法では、フィルム同士が接合された接合部を有し、かつ、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体(ウェブ)を加熱されたバックアップロールに巻き掛け、不活性ガスが第1の供給流量f1で供給される活性エネルギー線照射部内で、ウェブの巻き掛け領域の硬化性層に対し、活性エネルギー線を照射する際、特に、活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間と、連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点(離間地点)と離間地点から搬送方向下流4mの地点との間を接合部が通過する間と、の少なくとも一方(好ましくは両方)の少なくとも一部の区間においては、不活性ガスが第1の供給流量f1と第2の供給流量f2とが特定の関係(式1)を満たすものとする。
これにより、硬化性層が塗設されたウェブ(好ましくは、厚みが3μm〜100μmの薄手フィルム)を用いて光学フィルムを製造する際、供給される窒素ガスによりウェブの片面だけが冷やされることで発生する面外方向の力を抑制し、バックアップロール上でシワが発生しやすい状態、例えば、フィルムの連結部分である接合部における連結角度の誤差、又は接合部とフィルムとの間の剛性の差もしくは熱膨張差等に起因して波形変形しやすい状態を緩和することができる。
特に、フィルム同士を接合して連結した接合部を有するウェブを搬送する場合、接合部が加熱されたバックアップロール上、つまり活性エネルギー線照射部内にある間は温度差が生じやすいため、式1を満たすことによる温度差の抑制効果は大きい。また、接合部がバックアップロールから離れた後の特定の区間、つまり接合部が、ウェブがバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流4mの地点との間にある際は、一般に波形変形(ツレシワ)が解消する傾向にある。そのため、搬送方向下流4mの地点までの区間の温度が下がり過ぎないように調整することができれば、ツレシワが乗り上げシワに変化するのを効果的に防ぐことができる。
即ち、本開示の光学フィルムの製造方法は、一定の区間において式1を満たすことで、発生する温度差の抑制効果が大きくなり、乗り上げシワへ発展するのを防ぐことができる。
In view of the above, in the method for producing an optical film of the present disclosure, a continuous film support (web) having a joint portion in which the films are bonded to each other and having a curable layer coated on the continuous film support (web) is used as a heated backup roll. When irradiating the curable layer in the wrapping region of the web with the active energy ray in the active energy ray irradiation section in which the wound and inert gas is supplied at the first supply flow rate f1, the active energy ray irradiation is particularly performed. At least one of the time during which the joint portion passes through the portion and the time during which the joint portion passes between the point where the continuous film support separates from the backup roll (separation point) and the point 4 m downstream from the separation point in the transport direction (separation point). In at least a part of (preferably both), the inert gas assumes that the first supply flow rate f1 and the second supply flow rate f2 satisfy a specific relationship (Equation 1).
As a result, when an optical film is produced using a web coated with a curable layer (preferably a thin film having a thickness of 3 μm to 100 μm), only one side of the web is cooled by the supplied nitrogen gas. A state in which the generated out-of-plane force is suppressed and wrinkles are likely to occur on the backup roll, for example, an error in the connection angle at the joint portion which is the connection portion of the film, or a difference in rigidity between the joint portion and the film. Alternatively, it is possible to alleviate a state in which the waveform is easily deformed due to a difference in thermal expansion or the like.
In particular, when transporting a web having a joint portion in which films are joined and connected to each other, a temperature difference is likely to occur while the joint portion is on a heated backup roll, that is, in the active energy ray irradiation portion. The effect of suppressing the temperature difference by satisfying is great. In addition, when a specific section after the joint is separated from the backup roll, that is, when the joint is between a point where the web is separated from the backup roll and a point 4 m downstream in the transport direction from this point, the waveform deformation (generally). Tsure wrinkles) tend to disappear. Therefore, if the temperature of the section up to the point 4 m downstream in the transport direction can be adjusted so as not to drop too much, it is possible to effectively prevent the wrinkles from changing to the riding wrinkles.
That is, in the method for producing an optical film of the present disclosure, by satisfying Equation 1 in a certain section, the effect of suppressing the temperature difference generated becomes large, and it is possible to prevent the development of riding wrinkles.

−第1工程−
本開示における第1工程では、フィルム同士が接合された接合部を有し、かつ、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を搬送する。
-First step-
In the first step of the present disclosure, a continuous film support having a joint portion in which films are bonded to each other and having a curable layer coated therein is conveyed.

「連続フィルム支持体」とは、複数の長尺フィルムの端部同士を接合して更に長尺な形状に形成された支持体を指す。したがって、連続フィルム支持体は、複数の長尺フィルムの端部同士を接合して連結した接合部を長尺方向に有している。 The "continuous film support" refers to a support formed by joining the ends of a plurality of long films to each other to form a longer shape. Therefore, the continuous film support has a joint portion in the elongated direction in which the end portions of the plurality of long films are bonded and connected to each other.

接合部は、複数のフィルムの端部同士を互いに接合して連結した部位を指し、ウェブに任意の間隔で形成されていてよい。 The joint refers to a portion where the ends of a plurality of films are joined to each other and connected to each other, and may be formed on the web at arbitrary intervals.

接合部の形態としては、特に制限されるものではなく、例えば、接合されるフィルムを互いの端部を重ねて接着剤等で接合した部分、同一平面上でフィルム端部を互いに突き合わせた2つのフィルムを粘着テープ(例えば、基材上に粘着層を有するもの)で片面のみ又は両面において固定した部分、又は2つのフィルムを重ねて熱融着した部分等のいずれでもよい。 The form of the joint is not particularly limited. For example, a portion in which the ends of the films to be bonded are overlapped with each other and bonded with an adhesive or the like, and two film ends are abutted against each other on the same plane. The film may be fixed with an adhesive tape (for example, one having an adhesive layer on a base material) on only one side or both sides, or two films may be overlapped and heat-sealed.

連続フィルム支持体には、公知のポリマーフィルムを用いることができる。
連続フィルム支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレート(例えば、セルローストリアセテート(トリアセチルセルロース、屈折率1.48;TAC)、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート)、ポリオレフィン(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等)、ポリエーテルスルホン、アクリル樹脂(例えば、ポリメチルメタクリレート等)、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリ(メタ)アクリルニトリル、脂環式構造を有するポリマー(例えば、ノルボルネン系樹脂(商品名「アートン(登録商標)」、JSR社)、非晶質ポリオレフィン(例えば、商品名「ゼオネックス(登録商標)」、日本ゼオン社))などが挙げられる。
このうち、光学異方性の低さ等の点から、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、及び脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
A known polymer film can be used as the continuous film support.
Examples of polymer film materials used as continuous film supports include cellulose acylate (eg, cellulose triacetate (triacetyl cellulose, refractive index 1.48; TAC), cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate pro. Pionate), polyolefin (eg, polyethylene, polypropylene, etc.), polyester (eg, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), etc.), polyether sulfone, acrylic resin (eg, polymethylmethacrylate, etc.), polyurethane, Polycarbonate, polysulfone, polyether, polymethylpentene, polyether ketone, poly (meth) acrylic nitrile, polymer having an alicyclic structure (for example, norbornene resin (trade name "Arton (registered trademark)", JSR), Amorphous polyolefin (for example, trade name "Zeonex (registered trademark)", Nippon Zeon Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
Of these, triacetyl cellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), and a polymer having an alicyclic structure are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable, from the viewpoint of low optical anisotropy and the like.

連続フィルム支持体の厚みとしては、製造適性、用途、ユーザーからの要求等に応じて決定されればよく、例えば、3μm〜250μmの範囲が好ましい。特に、連続フィルム支持体の厚みが薄い場合、シワが発生し易くなる傾向があるが、本開示においては既述の第2工程が施されることにより、3μm〜100μmの範囲の薄い連続フィルム支持体を好適なものとして用いることができ、ウェブの乗り上げシワの発生抑制効果がより効果的に奏される。
連続フィルム支持体の厚みは、バックアップロールへの巻き掛けに対する適用性が高い点等から、15μm以上がより好ましく、材料コストの点から、80μm以下が好ましい。中でも、連続フィルム支持体の厚みは、20μm以上60μm以下がより好ましく、30μm以上50μm以下が更に好ましい。
The thickness of the continuous film support may be determined according to manufacturing suitability, application, user's request, etc., and is preferably in the range of 3 μm to 250 μm, for example. In particular, when the thickness of the continuous film support is thin, wrinkles tend to occur. However, in the present disclosure, by performing the second step described above, a thin continuous film support in the range of 3 μm to 100 μm is applied. The body can be used as a suitable one, and the effect of suppressing the occurrence of wrinkles on the web is more effectively exhibited.
The thickness of the continuous film support is more preferably 15 μm or more from the viewpoint of high applicability to winding on a backup roll, and preferably 80 μm or less from the viewpoint of material cost. Above all, the thickness of the continuous film support is more preferably 20 μm or more and 60 μm or less, and further preferably 30 μm or more and 50 μm or less.

連続フィルム支持体の幅長としては、シワが生じやすい幅長であり、ウェブの乗り上げシワの発生抑制効果がより効果的に奏される点で、200mm以上2000mm以下であることが好ましく、600mm以上1500mm以下であることがより好ましい。 The width of the continuous film support is preferably 200 mm or more and 2000 mm or less, preferably 600 mm or more, in that wrinkles are likely to occur and the effect of suppressing the occurrence of wrinkles on the web is more effectively exhibited. It is more preferably 1500 mm or less.

−−接合工程−−
本開示の光学フィルムの製造方法では、複数のフィルムの端部同士を接合して長尺状の連続フィルム支持体を作製する工程(接合工程)を有していてもよい。接合工程を設けた場合には、連続フィルム支持体に既述の接合部が形成されることになる。
接合は、公知の接合方法を用いて行うことができる。
フィルム同士の接合には、接着剤、又は粘着テープ(例えば、基材上に粘着層を有する粘着材料)等を用いることができる。
--Joining process ---
The optical film manufacturing method of the present disclosure may include a step (bonding step) of joining the ends of a plurality of films to form a long continuous film support. When the joining step is provided, the above-mentioned joining portion is formed on the continuous film support.
Joining can be performed using a known joining method.
An adhesive, an adhesive tape (for example, an adhesive material having an adhesive layer on a base material) or the like can be used for joining the films.

−−硬化性層形成工程−−
本開示の光学フィルムの製造方法では、第1工程の前に、連続フィルム支持体に硬化性層を塗設する工程(硬化性層形成工程)を設けることができる。
--Curable layer forming process ---
In the method for producing an optical film of the present disclosure, a step of applying a curable layer to a continuous film support (curable layer forming step) can be provided before the first step.

本工程は、活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液を用い、この塗布液を連続フィルム支持体上に塗布し、乾燥させることで行われることが好ましい。 This step is preferably performed by using a coating liquid having a composition that is cured by active energy rays, applying this coating liquid on a continuous film support, and drying the coating liquid.

(塗布)
塗布には、塗布手段として公知の塗布装置を適用することができる。
塗布装置としては、例えば、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等を利用した装置が挙げられる。
(Application)
For coating, a coating device known as a coating means can be applied.
Examples of the coating device include a curtain coating method, a dip coating method, a spin coating method, a printing coating method, a spray coating method, a slot coating method, a roll coating method, a slide coating method, a blade coating method, a gravure coating method, and a wire bar method. And the like.

(乾燥)
乾燥には、乾燥手段として公知の乾燥装置を適用することができる。
乾燥手段としては、例えば、オーブン、温風機、赤外線(IR)ヒーター等が挙げられる。
(Dry)
For drying, a drying device known as a drying means can be applied.
Examples of the drying means include an oven, a hot air blower, an infrared (IR) heater and the like.

温風機による乾燥においては、連続フィルム支持体の塗布液が塗布された面とは反対の面から温風を当てる構成でもよく、塗布された塗布液の表面が温風にて流動しないように拡散板を設置した構成としてもよい。
乾燥条件は、用いた塗布液の種類、塗布量、搬送速度等に応じて決定されればよく、例えば、30℃〜140℃の範囲で10秒〜10分間行うことが好ましい。
In drying with a warm air blower, warm air may be applied from the surface of the continuous film support opposite to the surface on which the coating liquid is applied, and the surface of the applied coating liquid is diffused so as not to flow with the warm air. A board may be installed.
The drying conditions may be determined according to the type of coating liquid used, the coating amount, the transport speed, and the like. For example, the drying conditions are preferably performed in the range of 30 ° C. to 140 ° C. for 10 seconds to 10 minutes.

以上の塗布及び乾燥を経ることで、活性エネルギー線により硬化する未硬化の硬化性層が形成される。
硬化性層の厚みとしては、0.1μm以上15μm以下が好ましく、0.5μm以上5μm以下がより好ましい。連続フィルム支持体に硬化性層が形成された際の総厚が小さいほど、後述する第2工程におけるシワの発生が生じやすい。そのため、硬化性層の厚みは小さいほど、シワの発生抑制効果が得られ易い。
Through the above coating and drying, an uncured curable layer that is cured by active energy rays is formed.
The thickness of the curable layer is preferably 0.1 μm or more and 15 μm or less, and more preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less. The smaller the total thickness when the curable layer is formed on the continuous film support, the more likely it is that wrinkles will occur in the second step described later. Therefore, the smaller the thickness of the curable layer, the easier it is to obtain the effect of suppressing the occurrence of wrinkles.

連続フィルム支持体に硬化性層が形成されて形成された積層体の総厚としては、3.1μm以上115μm以下であることが好ましい。積層体の総厚が薄い場合には、シワが発生しやすくなるが、本開示の光学フィルムの製造方法では、総厚が上記範囲である場合にシワの発生抑制効果が高い。 The total thickness of the laminated body formed by forming the curable layer on the continuous film support is preferably 3.1 μm or more and 115 μm or less. When the total thickness of the laminate is thin, wrinkles are likely to occur, but in the method for producing an optical film of the present disclosure, the effect of suppressing the occurrence of wrinkles is high when the total thickness is within the above range.

硬化性層形成工程の一例を図1を参照して説明する。
図1に示すように、巻回された連続フィルム支持体(ウェブ)Fは、その先端が送り出されると、まず、塗布手段の例である塗布装置1により活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液の塗布が行われる。その後、塗布により形成された硬化性層は、乾燥手段である乾燥装置2における乾燥領域にて乾燥される。
このようにして、ウェブ上には、活性エネルギー線により硬化する組成の塗布液を塗布及び乾燥して得られる硬化性層が形成される。
An example of the curable layer forming step will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, when the tip of the wound continuous film support (web) F is sent out, first, a coating liquid having a composition of being cured by active energy rays by a coating device 1 which is an example of coating means. Is applied. Then, the curable layer formed by the coating is dried in a drying region in the drying apparatus 2 which is a drying means.
In this way, a curable layer obtained by applying and drying a coating liquid having a composition that is cured by active energy rays is formed on the web.

−第2工程−
本開示における第2工程では、不活性ガスが第1の供給流量で供給される活性エネルギー線照射部内で、加熱されたバックアップロールに巻き掛けられた連続フィルム支持体の巻き掛け領域の硬化性層に活性エネルギー線を照射する。
-Second step-
In the second step of the present disclosure, the curable layer in the winding region of the continuous film support wound on the heated backup roll in the active energy ray irradiation unit in which the inert gas is supplied at the first supply flow rate. Is irradiated with active energy rays.

活性エネルギー線照射部は、少なくとも硬化性層に対して活性エネルギー線を照射するための領域を指し、照射により硬化性層中の硬化成分の硬化反応を促進する。
活性エネルギー線照射部には、通常、不活性ガスが第1の供給流量で供給される。不活性ガスが供給されることで、活性エネルギー線照射部の内部は不活性ガスで置換され、不活性雰囲気が形成される。
The active energy ray irradiation unit refers to a region for irradiating at least the curable layer with active energy rays, and the irradiation promotes the curing reaction of the curing component in the curable layer.
Normally, the inert gas is supplied to the active energy ray irradiation unit at the first supply flow rate. When the inert gas is supplied, the inside of the active energy ray irradiation portion is replaced with the inert gas, and an inert atmosphere is formed.

不活性ガスは、いずれの方法で活性エネルギー線照射部に供給されてもよく、例えば、不活性ガスの活性エネルギー線照射部への供給が行える位置に活性エネルギー線照射部に設置されたノズルから供給することができる。
ノズルは、外部の不活性ガス供給手段に他端で接続されたガス供給管の一端に取り付けられ、不活性ガスを吐出(例えば、放出もしくは噴射等)できるものを使用できる。
不活性ガスを供給するためのノズルは、活性エネルギー線照射部のいずれの位置に設置されていてもよく、不活性ガスの吐出方向にも制限はない。ノズルの設置位置は、例えば図1又は図2に示すように、ノズル36a及びノズル36bが設置されている位置としてもよく、ノズル36a又はノズル36bに示される矢印方向を不活性ガスの吐出方向としてもよい。
The inert gas may be supplied to the active energy ray irradiation unit by any method. For example, the inert gas may be supplied to the active energy ray irradiation unit from a nozzle installed in the active energy ray irradiation unit at a position where the inert gas can be supplied to the active energy ray irradiation unit. Can be supplied.
The nozzle can be attached to one end of a gas supply pipe connected to the external inert gas supply means at the other end and can discharge (for example, release or inject) the inert gas.
The nozzle for supplying the inert gas may be installed at any position of the active energy ray irradiation unit, and the discharge direction of the inert gas is not limited. As shown in FIG. 1 or 2, for example, the nozzle installation position may be the position where the nozzle 36a and the nozzle 36b are installed, and the arrow direction indicated by the nozzle 36a or the nozzle 36b is used as the inert gas discharge direction. May be good.

活性エネルギー線照射部は、加熱手段により加熱された内部雰囲気で満たされた状態とされてもよい。この場合、内部雰囲気が加熱手段により加温されていればよく、例えば、不活性ガスを加熱手段により加熱する態様、反応室の内壁を加熱手段により加熱する態様が挙げられる。
不活性ガスを加熱手段により加熱する態様による場合、加熱手段は、例えば図1に示すようにノズル36aから反応室3内に供給される不活性ガスを予め加熱する手段であってもよいし、反応室内に供給される不活性ガスを反応室内にて加温する手段であってもよい。例えば、活性エネルギー線照射部に供給される不活性ガスは、活性エネルギー線照射部の外部温度より高い温度域に加温されてから供給されてもよい。
以上のように、活性エネルギー線照射部の雰囲気又は供給される不活性ガス等が加温されることにより、シワの発生の低減効果がより期待できる。
上記の点に対し、本開示の光学フィルムの製造方法は、不活性ガス又は反応室の内壁を加熱手段で加熱する方法に比べ、より低コストに行える利点がある。
The active energy ray irradiation unit may be in a state of being filled with an internal atmosphere heated by the heating means. In this case, the internal atmosphere may be heated by the heating means, and examples thereof include a mode in which the inert gas is heated by the heating means and a mode in which the inner wall of the reaction chamber is heated by the heating means.
When the inert gas is heated by the heating means, the heating means may be, for example, a means for preheating the inert gas supplied from the nozzle 36a into the reaction chamber 3 as shown in FIG. It may be a means for heating the inert gas supplied to the reaction chamber in the reaction chamber. For example, the inert gas supplied to the active energy ray irradiation unit may be supplied after being heated to a temperature range higher than the external temperature of the active energy ray irradiation unit.
As described above, the effect of reducing the occurrence of wrinkles can be further expected by heating the atmosphere of the active energy ray irradiation unit or the supplied inert gas.
With respect to the above points, the method for producing an optical film of the present disclosure has an advantage that it can be carried out at a lower cost than a method of heating the inner wall of an inert gas or a reaction chamber by a heating means.

活性エネルギー線照射部に供給される不活性ガスの第1の供給流量f1は、5m/h以上300m/h以下が好ましく、100m/h以上300m/hがより好ましく、150m/h以上250m/hが更に好ましい。
不活性ガスの供給流量は、ノズルの吐出口又はノズルと接続された供給管にフローメータを取り付けて測定することができる。
The first supply flow rate f1 of the inert gas supplied to the active energy ray irradiation unit is preferably 5 m 3 / h or more 300 meters 3 / h or less, 100 m 3 / h or more 300 meters 3 / h, more preferably, 150 meters 3 / It is more preferably h or more and 250 m 3 / h.
The supply flow rate of the inert gas can be measured by attaching a flow meter to the discharge port of the nozzle or the supply pipe connected to the nozzle.

活性エネルギー線の照射は、張架された状態の連続フィルム支持体に対して行うことが好ましい。本工程のように、バックアップロールに巻き掛けられた連続フィルム支持体は、長手方向に張力(テンション)が与えられて張架されていることが好ましい。
バックアップロール上で連続フィルム支持体の長手方向に与えられる張力としては、100N/m〜600N/mが好ましい。
The irradiation of the active energy rays is preferably performed on the continuous film support in the stretched state. As in this step, it is preferable that the continuous film support wound around the backup roll is stretched by applying tension in the longitudinal direction.
The tension applied in the longitudinal direction of the continuous film support on the backup roll is preferably 100 N / m to 600 N / m.

バックアップロール上を搬送する連続フィルム支持体の搬送速度は、生産性の確保の点及び活性エネルギー線の照射精度を高める点から、10m/min以上100m/min以下であることが好ましく、20m/min以上60m/min以下であることがより好ましい。 The transport speed of the continuous film support transported on the backup roll is preferably 10 m / min or more and 100 m / min or less, preferably 20 m / min, from the viewpoint of ensuring productivity and improving the irradiation accuracy of active energy rays. More preferably, it is 60 m / min or less.

バックアップロールに対する連続フィルム支持体のラップ角としては、60°以上が好ましく、90°以上がより好ましい。
なお、ラップ角とは、連続フィルム支持体がバックアップロールに接触する際の連続フィルム支持体の搬送方向と、バックアップロールから連続フィルム支持体が離間する際の連続フィルム支持体の搬送方向と、からなる角度をいう。
The lap angle of the continuous film support with respect to the backup roll is preferably 60 ° or more, more preferably 90 ° or more.
The lap angle is defined as the transport direction of the continuous film support when the continuous film support comes into contact with the backup roll and the transport direction of the continuous film support when the continuous film support is separated from the backup roll. The angle that becomes.

(活性エネルギー線)
本工程で用いられる活性エネルギー線としては、照射する硬化性層中に活性種を発生させうるエネルギーを付与することができるものであれば、特に制限はない。
活性エネルギー線としては、例えば、α線、γ線、X線、紫外線(UV)、赤外線、可視光線、電子線等が挙げられる。これらのうち、活性エネルギー線としては、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線又は電子線が好ましく、紫外線がより好ましい。
(Active energy ray)
The active energy ray used in this step is not particularly limited as long as it can impart energy capable of generating active species to the curable layer to be irradiated.
Examples of the active energy ray include α ray, γ ray, X ray, ultraviolet ray (UV), infrared ray, visible ray, electron beam and the like. Of these, as the active energy ray, ultraviolet rays or electron beams are preferable, and ultraviolet rays are more preferable, from the viewpoint of curing sensitivity and availability of an apparatus.

(光源)
活性エネルギー線を照射するための光源としては、上述の活性エネルギー線を照射する光源が挙げられる。光源は、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線を照射する光源が好ましい。
紫外線を照射する光源としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー(例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、YAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザー)、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
紫外線を照射する光源から発せられる紫外線のピーク波長は、200nm〜400nmが好ましい。
(light source)
Examples of the light source for irradiating the active energy ray include the above-mentioned light source for irradiating the active energy ray. The light source is preferably a light source that irradiates ultraviolet rays from the viewpoint of curing sensitivity and availability of an apparatus.
Examples of the light source for irradiating ultraviolet rays include lamps such as tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, mercury xenon lamps, and carbon arc lamps, and various lasers (eg, semiconductor lasers, helium neon lasers, etc.). Examples thereof include an argon ion laser, a helium cadmium laser, a YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser), a light emitting diode, and a cathode wire tube.
The peak wavelength of ultraviolet rays emitted from a light source that irradiates ultraviolet rays is preferably 200 nm to 400 nm.

(不活性ガス)
本工程で用いられる不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス、及びネオンガス等の希ガス、並びに、炭酸ガス等が挙げられ、中でも、窒素ガスが好ましい。
(Inert gas)
Examples of the inert gas used in this step include rare gases such as nitrogen gas, argon gas and neon gas, and carbon dioxide gas, and among them, nitrogen gas is preferable.

(バックアップロール)
バックアップロールには、特に制限はなく、公知のものを用いることができる。
バックアップロールとしては、例えば、表面がハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。
メッキの厚みは、導電性と強度とを確保する観点から40μm〜60μmが好ましい。
また、バックアップロールの表面粗さは、連続フィルム支持体とバックアップロールとの摩擦力のバラツキを低減させる点から、表面粗さRaにて0.1μm以下が好ましい。
(Backup role)
The backup roll is not particularly limited, and a known backup roll can be used.
As the backup roll, for example, one having a hard chrome-plated surface can be preferably used.
The thickness of the plating is preferably 40 μm to 60 μm from the viewpoint of ensuring conductivity and strength.
The surface roughness of the backup roll is preferably 0.1 μm or less in terms of surface roughness Ra from the viewpoint of reducing the variation in the frictional force between the continuous film support and the backup roll.

バックアップロールの表面温度は、硬化性層の組成、硬化性層の硬化性能、連続フィルム支持体の耐熱性等に応じて決定されればよく、50℃〜250℃が好ましく、60℃〜160℃がより好ましい。
バックアップロールの表面温度を上記の温度にすることで、硬化性層の硬化速度を上げることができ、巻き掛けられる連続フィルム支持体の温度制御を行うこともできる。
The surface temperature of the backup roll may be determined according to the composition of the curable layer, the curing performance of the curable layer, the heat resistance of the continuous film support, etc., and is preferably 50 ° C to 250 ° C, preferably 60 ° C to 160 ° C. Is more preferable.
By setting the surface temperature of the backup roll to the above temperature, the curing speed of the curable layer can be increased, and the temperature of the continuous film support to be wound can be controlled.

バックアップロールは、表面温度を検知し、その温度に基づいて温度制御手段によってバックアップロールの表面温度が維持されることが好ましい。
バックアップロールの温度制御手段には、加熱手段及び冷却手段がある。加熱手段としては、誘導加熱、水加熱、油加熱等が用いられ、冷却手段としては、冷却水による冷却が用いられる。
It is preferable that the backup roll detects the surface temperature and the surface temperature of the backup roll is maintained by the temperature control means based on the temperature.
The temperature control means of the backup roll includes a heating means and a cooling means. As the heating means, induction heating, water heating, oil heating and the like are used, and as the cooling means, cooling with cooling water is used.

バックアップロールの直径としては、連続フィルム支持体が巻き掛け易い点、紫外線の照射が容易な点及びバックアップロールの製造コストの点から、100mm〜1000mmが好ましく、100mm〜800mmがより好ましく、200mm〜700mmが更に好ましい。 The diameter of the backup roll is preferably 100 mm to 1000 mm, more preferably 100 mm to 800 mm, and more preferably 200 mm to 700 mm from the viewpoints of easy wrapping of the continuous film support, easy irradiation of ultraviolet rays, and manufacturing cost of the backup roll. Is more preferable.

本開示における第2工程において、(1)活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び(2)連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流4mの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部、の少なくとも一方は、不活性ガスを第2の供給流量で供給し、第1の供給流量f1と第2の供給流量f2とが下記式1を満たす。
f1>f2 ・・・式1
In the second step of the present disclosure, (1) at least a part while the joint portion passes through the active energy ray irradiation portion, and (2) a point where the continuous film support separates from the backup roll and 4 m downstream from this point in the transport direction. At least one of at least a part of the time during which the joint passes between the points and the above points, the inert gas is supplied at the second supply flow rate, and the first supply flow rate f1 and the second supply flow rate f2 The following equation 1 is satisfied.
f1> f2 ・ ・ ・ Equation 1

上記式1を満たす範囲で活性エネルギー線照射部内への不活性ガスの供給流量が制御されることにより、活性エネルギー線照射部に供給された不活性ガスでウェブの片側だけが冷やされた際の、ウェブの表裏における温度差が大きくなり過ぎる起因した面外方向の力を抑えることができる。
フィルム同士を接合して連結した接合部を有するウェブを搬送する場合、接合部が加熱されたバックアップロール上、つまり活性エネルギー線照射部内にある間は特に温度差が生じやすいため、上記式1を満たすと温度差の抑制効果が大きい。
また、バックアップロールから離れた後の特定の区間、つまり接合部が、連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる離間地点と離間地点から搬送方向下流4mの地点との間の搬送路にある間は、一般に波形変形(ツレシワ)が解消する傾向にある。そのため、搬送方向下流4mの地点までの区間の温度が下がり過ぎないように調整することができれば、ツレシワが乗り上げシワに変化するのを効果的に防ぐことができる。
即ち、本開示の光学フィルムの製造方法は、一定の区間において式1を満たすことで、発生する温度差の抑制効果が大きくなり、乗り上げシワへ発展するのを防ぐことができる。
By controlling the supply flow rate of the inert gas into the active energy ray irradiation unit within the range satisfying the above formula 1, when only one side of the web is cooled by the inert gas supplied to the active energy ray irradiation unit. , It is possible to suppress the force in the out-of-plane direction caused by the temperature difference between the front and back of the web becoming too large.
When transporting a web having a joint portion in which films are joined and connected to each other, a temperature difference is particularly likely to occur while the joint portion is on a heated backup roll, that is, in the active energy ray irradiation portion. When it is satisfied, the effect of suppressing the temperature difference is large.
Also, while the specific section after leaving the backup roll, that is, the joint, is in the transport path between the separation point where the continuous film support separates from the backup roll and the point 4 m downstream from the separation point in the transport direction. Generally, waveform deformation (wrinkles) tends to disappear. Therefore, if the temperature of the section up to the point 4 m downstream in the transport direction can be adjusted so as not to drop too much, it is possible to effectively prevent the wrinkles from changing to the riding wrinkles.
That is, in the method for producing an optical film of the present disclosure, by satisfying Equation 1 in a certain section, the effect of suppressing the temperature difference generated becomes large, and it is possible to prevent the development of riding wrinkles.

活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流4mの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部、の少なくとも一方における、第1の供給流量f1に対する第2の供給流量f2の比率(=f2/f1×100)は、50%以下であることが好ましい。
第2の供給流量f2の比率が50%以下であると、シワの発生を飛躍的に軽減することができる。
中でも、上記した第1の供給流量f1に対する第2の供給流量f2の比率(=f2/f1×100)としては、20%以下であることがより好ましく、10%以下であることが更に好ましく、0(ゼロ)%であること(即ち、第2の供給流量がゼロであること)が特に好ましい。
At least a part of the time during which the joint passes through the active energy ray irradiation part, and at least while the joint passes between the point where the continuous film support separates from the backup roll and the point 4 m downstream from this point in the transport direction. The ratio (= f2 / f1 × 100) of the second supply flow rate f2 to the first supply flow rate f1 in at least one of the parts is preferably 50% or less.
When the ratio of the second supply flow rate f2 is 50% or less, the occurrence of wrinkles can be dramatically reduced.
Above all, the ratio (= f2 / f1 × 100) of the second supply flow rate f2 to the first supply flow rate f1 described above is more preferably 20% or less, further preferably 10% or less. It is particularly preferable that it is 0 (zero)% (that is, the second supply flow rate is zero).

また、不活性ガスの第2の供給流量f2は、上記のように第1の供給流量f1との関係を満足していれば特に制限されるものではないが、具体的な範囲としては、例えば、100m/h以下であることが好ましく、20m/h以下であることがより好ましく、0m/hであることが更に好ましい。 The second supply flow rate f2 of the inert gas is not particularly limited as long as the relationship with the first supply flow rate f1 is satisfied as described above, but specific ranges include, for example. , 100 m 3 / h or less, more preferably 20 m 3 / h or less, and even more preferably 0 m 3 / h.

なお、不活性ガスの供給流量を減らし過ぎた場合、不活性ガスの供給流量をf1に戻しても活性エネルギー線照射部内の酸素濃度を一定の範囲まで低下させるのに時間が掛かり、結果、支持体ロスの増加を招くおそれがある。この点は、接合部がバックアップロールから離れた後に不活性ガスの供給流量を戻すタイミングが遅くなり過ぎた場合も同様である。したがって、不活性ガスの供給流量は、酸素濃度が一定の範囲を維持しやすい範囲で制御されることが好ましい。 If the supply flow rate of the inert gas is reduced too much, it takes time to reduce the oxygen concentration in the active energy ray irradiation section to a certain range even if the supply flow rate of the inert gas is returned to f1, and as a result, it is supported. It may lead to an increase in body loss. This point also applies when the timing of returning the supply flow rate of the inert gas after the joint is separated from the backup roll is too late. Therefore, it is preferable that the supply flow rate of the inert gas is controlled in a range in which the oxygen concentration can be easily maintained in a constant range.

第2工程では、シワの発生をより飛躍的に軽減する観点から、活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流4mの地点との間を接合部が通過する間の少なくとも一部の双方において、第2の供給流量f2を維持していることが好ましい。
即ち、上記の通り、活性エネルギー線照射部内にある間はウェブ表裏の温度差が大きくなりやすく、また、バックアップロールから離れた後の特定の区間はシワが起きにくい環境に整えることが望ましいことから、活性エネルギー線照射部内の通過時及びバックアップロールの離間地点から下流4mまでの通過時において不活性ガスの供給流量を減じることが効果的である。
具体的には、接合部が活性エネルギー線照射部内を通過する間のうち、接合部がバックアップロールから離れる離間地点(例えば図1の点Q)から上流1mまでの間の少なくとも一部と、連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる離間地点(例えば図1の点Q)と離間地点(例えば点Q)から搬送方向下流4mの地点との間を接合部が通過する間のうち、離間地点から搬送方向下流2mまで(好ましくは下流4mまで)の地点までの間の少なくとも一部と、において第2の供給流量f2を維持していることが好ましい。
In the second step, from the viewpoint of dramatically reducing the occurrence of wrinkles, at least a part of the time during which the joint passes through the active energy ray irradiation part, and from the point where the continuous film support separates from the backup roll and from this point. It is preferable to maintain the second supply flow rate f2 at least in both of at least a part of the time when the joint portion passes between the point and the point 4 m downstream in the transport direction.
That is, as described above, the temperature difference between the front and back of the web tends to be large while inside the active energy ray irradiation part, and it is desirable to prepare an environment in which wrinkles are unlikely to occur in a specific section after being separated from the backup roll. It is effective to reduce the supply flow rate of the inert gas when passing through the active energy ray irradiation unit and when passing from the separation point of the backup roll to 4 m downstream.
Specifically, while the joint portion passes through the active energy ray irradiation portion, it is continuous with at least a part of the distance from the separation point (for example, point Q in FIG. 1) where the joint portion is separated from the backup roll to 1 m upstream. While the joint passes between the separation point (for example, point Q in FIG. 1) where the film support separates from the backup roll and the point 4 m downstream in the transfer direction from the separation point (for example, point Q), the film support is conveyed from the separation point. It is preferable to maintain the second supply flow rate f2 at least a part of the distance to a point up to 2 m downstream (preferably up to 4 m downstream) in the direction.

第2工程は、搬送された連続フィルム支持体の接合部がバックアップロールに接触する前(例えば、図1の接触地点Pに達する前)に、式1を満たすように不活性ガスの供給流量を調整することも好適である。
活性エネルギー線照射部内では、供給された不活性ガスによるフィルム表裏での温度差を招来しやすいため、バックアップロールで加熱される前(例えば図1のように、バックアップロールに接する地点(接触地点)Pへ到達する前)にf1>f2を満たす範囲に調整することで、シワの発生をより抑えやすくなる。
具体的には、接合部がバックアップロールに接触する接触地点(例えば図1の点P)に到達する前にf1>f2を満たすことが好ましい。
In the second step, the supply flow rate of the inert gas is adjusted so as to satisfy Equation 1 before the joint portion of the conveyed continuous film support comes into contact with the backup roll (for example, before reaching the contact point P in FIG. 1). It is also preferable to adjust.
In the active energy ray irradiation section, the temperature difference between the front and back of the film due to the supplied inert gas is likely to occur, so before heating with the backup roll (for example, as shown in FIG. 1, the point in contact with the backup roll (contact point)). By adjusting the range to satisfy f1> f2 before reaching P), it becomes easier to suppress the occurrence of wrinkles.
Specifically, it is preferable to satisfy f1> f2 before the joint reaches a contact point (for example, point P in FIG. 1) in contact with the backup roll.

第2工程の一例を図1を参照して説明する。
図1に示すように、塗膜である硬化性層が形成されたウェブ(連続フィルム支持体)Fは、不活性ガスの例である窒素ガスが第1の供給流量f1で供給される活性エネルギー線照射部の例である反応室3内にて、活性エネルギー線の例である紫外線の照射が行われる。具体的には、硬化性層が形成されたウェブFは、反応室3内にてバックアップロール34に巻き掛けられ、光源32から塗膜である硬化性層に紫外線が照射される。
この際、反応室3内には、ノズル36aから窒素ガスが供給されるが、既述のように、ウェブの接合部が反応室3内を通過する間、及び接合部がバックアップロール34から離れる離間地点Qの下流4mまでの距離を通過する間の少なくとも一方は、窒素ガスを第2の供給流量f2で供給し、第1の供給流量f1と第2の供給流量f2とが特定の関係式(上記の式1)を満たす範囲で調整される。
これにより、硬化性層を不活性雰囲気下で硬化させる際に生じやすいウェブの乗り上げシワの発生を効果的に抑制することができる。
An example of the second step will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, the web (continuous film support) F on which the curable layer, which is a coating film, is formed has an active energy in which nitrogen gas, which is an example of an inert gas, is supplied at the first supply flow rate f1. In the reaction chamber 3 which is an example of the ray irradiation unit, irradiation of ultraviolet rays which is an example of active energy rays is performed. Specifically, the web F on which the curable layer is formed is wound around the backup roll 34 in the reaction chamber 3, and the light source 32 irradiates the curable layer, which is a coating film, with ultraviolet rays.
At this time, nitrogen gas is supplied from the nozzle 36a into the reaction chamber 3, but as described above, the joint portion of the web is separated from the backup roll 34 while passing through the reaction chamber 3. Nitrogen gas is supplied at the second supply flow rate f2 for at least one of the passages up to 4 m downstream of the separation point Q, and the first supply flow rate f1 and the second supply flow rate f2 have a specific relational expression. It is adjusted within the range that satisfies (Equation 1 above).
As a result, it is possible to effectively suppress the occurrence of web run-up wrinkles that are likely to occur when the curable layer is cured in an inert atmosphere.

図1では、ノズル36aからウェブに直接窒素ガスがあたらないように窒素ガスを吐出する例を示しているが、本開示の光学フィルムの製造方法では、窒素ガスの吐出方向に特に制限はなく、図2のノズル36bに示されるように、ウェブに直接窒素ガスがあたるように窒素ガスを吐出するようにすることができる。 FIG. 1 shows an example in which nitrogen gas is discharged from the nozzle 36a so that the nitrogen gas does not directly hit the web. However, in the method for producing an optical film of the present disclosure, the discharge direction of nitrogen gas is not particularly limited. As shown in the nozzle 36b of FIG. 2, the nitrogen gas can be discharged so that the nitrogen gas directly hits the web.

−第3工程(予熱工程)−
本開示の光学フィルムの製造方法は、第2工程の前に、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を予熱する第3工程(以下、「予熱工程」ともいう。)を有していることが好ましい。
予熱工程を有することで、硬化性層を有するウェブが加熱された状態で第2工程へと搬送され、バックアップロールに接触することになるため、硬化性層が形成された側とバックアップロールに接触する側との温度差が生じ難くなり、シワの発生がより効果的に抑制される。
-Third process (preheating process)-
The method for producing an optical film of the present disclosure includes a third step (hereinafter, also referred to as "preheating step") of preheating a continuous film support coated with a curable layer before the second step. It is preferable to have.
By having the preheating step, the web having the curable layer is conveyed to the second step in a heated state and comes into contact with the backup roll, so that the side on which the curable layer is formed and the backup roll come into contact with each other. The temperature difference between the surface and the surface is less likely to occur, and the occurrence of wrinkles is suppressed more effectively.

予熱工程において、硬化性層が形成されたウェブを加熱する方法には、特に制限はなく、接触加熱方法を用いてもよいし、非接触加熱方法を用いてもよい。
接触加熱方法としては、硬化性層が形成されたウェブに加熱されたロール、ベルト等を接触させる方法が挙げられる。
また、非接触加熱方法としては、硬化性層が形成されたウェブに対して、温風を吹き付けて加熱する方法、赤外線ヒータを用いて輻射熱をあてて加熱する方法、雰囲気が加熱された加熱ゾーン内をウェブを通過させて加熱する方法等が挙げられる。
予熱工程の具体例の一つとして、例えば図1及び図2に示されるように、硬化性層が形成されたウェブFを所望温度に温調された温調ロール4に接触させて加熱してもよい。なお、硬化性層が形成されたウェブFの温度制御の精度を高めるためには、温調ロール4に硬化性層が形成されたウェブFを巻き掛けて搬送すればよい。
In the preheating step, the method of heating the web on which the curable layer is formed is not particularly limited, and a contact heating method or a non-contact heating method may be used.
Examples of the contact heating method include a method in which a heated roll, belt, or the like is brought into contact with the web on which the curable layer is formed.
The non-contact heating method includes a method of blowing warm air to heat the web on which the curable layer is formed, a method of applying radiant heat using an infrared heater to heat the web, and a heating zone in which the atmosphere is heated. Examples thereof include a method of passing the inside through a web to heat the inside.
As one specific example of the preheating step, as shown in FIGS. 1 and 2, for example, the web F on which the curable layer is formed is brought into contact with the temperature control roll 4 which has been temperature-controlled to a desired temperature and heated. May be good. In order to improve the accuracy of temperature control of the web F on which the curable layer is formed, the web F on which the curable layer is formed may be wound around the temperature control roll 4 and conveyed.

予熱工程において、硬化性層が形成されたウェブに対する加熱温度は、第2工程におけるバックアップロールの表面温度に近いことが好ましい。ここで、加熱温度は、硬化性層が形成されたウェブの表面の温度を指す。
つまり、硬化性層が形成されたウェブに対する加熱温度は、60℃〜250℃が好ましく、80℃〜250℃がより好ましく、80℃〜150℃が更に好ましい。
予熱工程で加熱されたウェブの加熱温度は、ウェブの表面を非接触温度計又は非接触温度センサを用いて測定される温度である。
In the preheating step, the heating temperature for the web on which the curable layer is formed is preferably close to the surface temperature of the backup roll in the second step. Here, the heating temperature refers to the temperature of the surface of the web on which the curable layer is formed.
That is, the heating temperature for the web on which the curable layer is formed is preferably 60 ° C. to 250 ° C., more preferably 80 ° C. to 250 ° C., and even more preferably 80 ° C. to 150 ° C.
The heating temperature of the web heated in the preheating step is the temperature at which the surface of the web is measured using a non-contact thermometer or a non-contact temperature sensor.

また、硬化性層が形成されたウェブに対する加熱温度をT℃とし、加熱されたバックアップロールの表面温度をT℃とした場合、Tは、T−20℃以上T+20℃以下であることが好ましい。
つまり、温度Tは、温度Tを基準として±20℃以内であることが好ましい。
また、硬化性層が形成されたウェブが加熱された後、活性エネルギー線照射部への搬送途中で温度低下することを考慮すると、温度T>温度Tの関係を満たすことが好ましい。
Further, the heating temperature for the web-curable layer is formed as a T 3 ° C., if the surface temperature of the heated back-up roll was set to T 2 ° C., T 3 is, T 2 -20 ° C. or more T 2 + 20 ° C. or less Is preferable.
That is, the temperature T 3 is preferably within ± 20 ° C. with respect to the temperature T 2.
Further, considering that the temperature drops during transportation to the active energy ray irradiation portion after the web on which the curable layer is formed is heated, it is preferable to satisfy the relationship of temperature T 3 > temperature T 2.

以上のようにして、フィルム同士が接合された接合部を有する連続フィルム支持体(ウェブ)上に、光学機能層である硬化性層が形成される。
光学機能層としては、位相差フィルムにおける光学異方性層、反射防止フィルムにおける反射防止層、防眩フィルムにおける防眩層、レンチキュラーシートのレンチキュラーレンズ層等が挙げられる。
つまり、本開示の光学フィルムの製造方法によれば、光学異方性層を有する位相差フィルム、反射防止層を有する反射防止フィルム、防眩層を有する防眩フィルム、レンチキュラーレンズ層を有するレンチキュラーシート等が得られる。
As described above, a curable layer, which is an optical functional layer, is formed on a continuous film support (web) having a joint portion in which the films are bonded to each other.
Examples of the optical functional layer include an optically anisotropic layer in a retardation film, an antireflection layer in an antireflection film, an antiglare layer in an antiglare film, and a lenticular lens layer in a lenticular sheet.
That is, according to the method for producing an optical film of the present disclosure, a retardation film having an optically anisotropic layer, an antireflection film having an antireflection layer, an antiglare film having an antiglare layer, and a lenticular sheet having a lenticular lens layer. Etc. can be obtained.

〜位相差フィルムの製造方法〜
以下、本開示の光学フィルムの製造方法の一例として、位相差フィルムの製造方法について説明する。
位相差フィルムは、連続フィルム支持体(ウェブ)上に、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるため配向規制力を備える配向層と、配向され、かつ、固定化された液晶化合物を含む光学異方性層(以下、「液晶層」ともいう)と、がこの順に設けられたものである。
~ Manufacturing method of retardation film ~
Hereinafter, a method for producing a retardation film will be described as an example of the method for producing the optical film of the present disclosure.
The retardation film is an optical difference containing an alignment layer having an orientation regulating force for arranging the liquid crystal compounds of the liquid crystal layer in a certain direction on a continuous film support (web) and an oriented and immobilized liquid crystal compound. The anisotropic layer (hereinafter, also referred to as “liquid crystal layer”) is provided in this order.

(配向層とその形成方法)
位相差フィルムにおける配向層は、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるため配向規制力が付与されているものであれば、特に制限はない。
位相差フィルムにおける配向層は、例えば、ラビング方式で液晶化合物に対する配向規制力を付与された配向層、具体的には、ラビング処理が施された有機化合物(好ましくはポリマー)の層を挙げることができる。
ここで、ラビング方式とは、配向層形成用材料を含む塗膜(以降、配向層用塗膜ともいう)の表面をラビング布にて一定方向に擦ることで、塗膜に液晶化合物に対する配向規制力を与える方式である。また、配向層用塗膜の表面をラビング布にて一定方向に擦る処理をラビング処理という。
(Orientation layer and its formation method)
The alignment layer in the retardation film is not particularly limited as long as it has an orientation regulating force for arranging the liquid crystal compounds in the liquid crystal layer in a certain direction.
Examples of the alignment layer in the retardation film include an alignment layer to which an orientation regulating force is applied to a liquid crystal compound by a rubbing method, specifically, a layer of an organic compound (preferably a polymer) subjected to a rubbing treatment. it can.
Here, the rubbing method is a method of restricting the orientation of a liquid crystal compound on a coating film by rubbing the surface of a coating film containing a material for forming an alignment layer (hereinafter, also referred to as a coating film for an alignment layer) with a rubbing cloth in a certain direction. It is a method of giving power. Further, a process of rubbing the surface of the coating film for an alignment layer with a rubbing cloth in a certain direction is called a rubbing process.

−配向層形成用材料−
配向層の形成に用いられる配向層形成用材料としては、以下に示す有機化合物と有機化合物を溶解する溶剤とを含むことが好ましい
有機化合物としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸/メタクリル酸共重合体、スチレン/マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、スチレン/ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びポリカーボネート等のポリマー、並びに、シランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。
好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ポリビニルアルコール、及びアルキル基(好ましくは炭素数6以上のアルキル基)を有するアルキル変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
配向層形成用材料に用いるポリマーとしては、特に、アルキル変性ポリビルアルコールが好ましく、炭素原子数6〜14のアルキル基が、−S−、−(CH)C(CN)−、又は−(C)N−CS−S−を介してポリビニルアルコールの末端又は側鎖に結合しているアルキル変性ポリビルアルコールが好ましい。
-Material for forming an orientation layer-
The material for forming the alignment layer used for forming the alignment layer preferably contains the following organic compound and a solvent for dissolving the organic compound. Examples of the organic compound include polymethylmethacrylate and acrylic acid / methacrylic acid. Polymers, styrene / maleinimide copolymers, polyvinyl alcohol, poly (N-methylolacrylamide), styrene / vinyl toluene copolymers, chlorosulfonated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefins, polyesters, polyimides, Examples thereof include polymers such as vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, carboxymethyl cellulose, polyethylene, polypropylene, and polycarbonate, and compounds such as silane coupling agents.
Examples of preferred polymers include polyimides, polystyrenes, polymers of styrene derivatives, polyvinyl alcohols, and alkyl-modified polyvinyl alcohols having an alkyl group (preferably an alkyl group having 6 or more carbon atoms).
As the polymer used as the material for forming the alignment layer, alkyl-modified polyvinyl alcohol is particularly preferable, and the alkyl group having 6 to 14 carbon atoms is -S-,-(CH 3 ) C (CN)-, or-(. C 2 H 5 ) Alkyl-modified polymer alcohol bonded to the terminal or side chain of polyvinyl alcohol via N-CS-S- is preferable.

配向層用塗膜の形成には、既述の硬化性層形成工程における塗布方法及び乾燥方法と同じ方法を用いることができ、好ましい態様も同様である。
配向層用塗膜の膜厚は、0.1μm〜5μmが好ましく、0.2μm〜1μmがより好ましい。
The same methods as the coating method and the drying method in the curable layer forming step described above can be used for forming the coating film for the alignment layer, and the preferred embodiment is also the same.
The film thickness of the coating film for the alignment layer is preferably 0.1 μm to 5 μm, more preferably 0.2 μm to 1 μm.

−配向規制力の付与−
ラビング方式の場合には、連続フィルム支持体に形成された配向層用塗膜の表面をラビング布にて一定方向に擦ればよい。
ラビング処理としては、特に制限はなく、公知の方法が適用可能である。具体的には、ラビング処理として、配向層用塗膜の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン、ポリエステル繊維等のラビング布にて一定方向に擦る方法が挙げられる。一般的には、均一性のある長さ及び太さの繊維が平均的に植毛されたラビング布を用いて、数回程度、配向層用塗膜の表面を擦る、といったラビング処理が行われる。
以上のようにして、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層が形成される。
-Giving orientation control force-
In the case of the rubbing method, the surface of the coating film for the alignment layer formed on the continuous film support may be rubbed with a rubbing cloth in a certain direction.
The rubbing treatment is not particularly limited, and a known method can be applied. Specifically, as a rubbing treatment, a method of rubbing the surface of the coating film for an alignment layer with a rubbing cloth such as paper, gauze, felt, rubber, nylon, or polyester fiber in a certain direction can be mentioned. Generally, a rubbing treatment such as rubbing the surface of the coating film for an alignment layer several times is performed using a rubbing cloth on which fibers of a uniform length and thickness are evenly transplanted.
As described above, the alignment layer having the orientation regulating force for the liquid crystal compound is formed.

(液晶層とその形成方法)
以上のようにして形成された配向層上には、液晶層形成用材料の硬化性層(以下、「液晶層用硬化性層」ともいう)が形成されることが好ましい。その後、液晶層用硬化性層中の液晶化合物の配向と固定とがなされ、液晶層(即ち、光学異方性層)が得られる。
(Liquid crystal layer and its formation method)
It is preferable that a curable layer of the liquid crystal layer forming material (hereinafter, also referred to as “curable layer for liquid crystal layer”) is formed on the oriented layer formed as described above. After that, the liquid crystal compound is oriented and fixed in the curable layer for the liquid crystal layer, and a liquid crystal layer (that is, an optically anisotropic layer) is obtained.

−液晶層形成用材料−
液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物を含有し、更に、重合性化合物、架橋性化合物、キラル剤、配向制御剤、重合開始剤、配向助剤等の公知のその他の成分を含有していてもよい。
-Material for forming a liquid crystal layer-
The liquid crystal layer forming material contains a rod-shaped liquid crystal compound or a disk-shaped liquid crystal compound, and further known other components such as a polymerizable compound, a crosslinkable compound, a chiral agent, an orientation control agent, a polymerization initiator, and an orientation auxiliary. May be contained.

・棒状液晶化合物
棒状液晶化合物としては、アゾメチン系化合物、アゾキシ系化合物、シアノビフェニル系化合物、シアノフェニルエステル系化合物、安息香酸エステル系化合物、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル系化合物、シアノフェニルシクロヘキサン系化合物、シアノ置換フェニルピリミジン系化合物、アルコキシ置換フェニルピリミジン系化合物、フェニルジオキサン系化合物、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル系化合物が好ましく用いられる。
棒状液晶化合物には、上記のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
-Stick-shaped liquid crystal compounds Examples of rod-shaped liquid crystal compounds include azomethine-based compounds, azoxy-based compounds, cyanobiphenyl-based compounds, cyanophenyl ester-based compounds, benzoic acid ester-based compounds, cyclohexanecarboxylic acid phenyl ester-based compounds, cyanophenylcyclohexane-based compounds, and cyano. Substituted phenylpyrimidine-based compounds, alkoxy-substituted phenylpyrimidine-based compounds, phenyldioxane-based compounds, trans and alkenylcyclohexylbenzonitrile-based compounds are preferably used.
As the rod-shaped liquid crystal compound, not only low molecular weight liquid crystal molecules as described above but also high molecular weight liquid crystal molecules can be used.

棒状液晶化合物は、重合によって配向を固定することがより好ましい。かかる点から、重合性基を有する棒状液晶化合物を用いることが好ましい。
重合性基を有する棒状液晶化合物としては、Makromol.Chem.,190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)、米国特許第4683327号公報、同5622648号公報、同5770107号公報、国際公開第95/22586号、同第95/24455号、同第97/00600号、同第98/23580号、同第98/52905号、特開平1−272551号公報、同6−16616号公報、同7−110469号公報、同11−80081号公報、及び特開2001−328973号公報などに記載の化合物が挙げられる。
更に、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平11−513019号公報、特開2007−279688号公報等に記載のものも好ましく用いることができる。
It is more preferable that the orientation of the rod-shaped liquid crystal compound is fixed by polymerization. From this point of view, it is preferable to use a rod-shaped liquid crystal compound having a polymerizable group.
Examples of the rod-shaped liquid crystal compound having a polymerizable group include Makromol. Chem. , 190, 2255 (1989), Advanced Materials 5, 107 (1993), US Pat. Nos. 4,683,327, 562,648, 5770107, International Publication 95/22586, 1993. 95/24455, 97/00600, 98/23580, 98/52905, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-272551, 6-16616, 7-110469, 11 Examples thereof include the compounds described in JP-A-80081 and JP-A-2001-328973.
Further, as the rod-shaped liquid crystal compound, for example, those described in JP-A No. 11-513019, JP-A-2007-279688, etc. can be preferably used.

・円盤状液晶化合物
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開2007−108732号公報、特開2010−244038号公報等に記載のものを好ましく用いることができる。
-Disc-shaped liquid crystal compound As the disk-shaped liquid crystal compound, for example, those described in JP-A-2007-108732, JP-A-2010-2404038 and the like can be preferably used.

液晶層用硬化性層は、既述の硬化性層形成工程における塗布及び乾燥と同様にして形成することができ、好ましい態様も同様である。本開示の光学フィルムの製造方法が位相差フィルムの製造方法である場合、液晶層用硬化性層の形成が、既述の硬化性層形成工程に該当する。 The curable layer for a liquid crystal layer can be formed in the same manner as in the coating and drying in the curable layer forming step described above, and the preferred embodiment is also the same. When the method for producing an optical film of the present disclosure is a method for producing a retardation film, the formation of a curable layer for a liquid crystal layer corresponds to the above-described curable layer forming step.

−液晶化合物の配向−
液晶層用硬化性層中の液晶化合物の配向を固定する前には、液晶層用硬化性層中の液晶化合物の配向処理を行うことが好ましい。
配向処理は、室温等により乾燥させる、又は加熱することにより行うことができる。
配向処理で形成される液晶は、サーモトロピック性をもつ液晶化合物の場合、一般に温度又は圧力の変化により転移させることができる。また、リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。
-Orientation of liquid crystal compounds-
Before fixing the orientation of the liquid crystal compound in the curable layer for the liquid crystal layer, it is preferable to perform the orientation treatment of the liquid crystal compound in the curable layer for the liquid crystal layer.
The orientation treatment can be performed by drying at room temperature or the like or by heating.
In the case of a liquid crystal compound having thermotropic properties, the liquid crystal formed by the orientation treatment can generally be transferred by a change in temperature or pressure. Further, in the case of a liquid crystal compound having a lyotropic property, it can be transferred by a composition ratio such as the amount of solvent.

棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する場合、ネマチック相を発現する温度領域の方が、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域よりも高いことが普通である。したがって、棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域まで棒状液晶化合物を加熱し、次に、加熱温度を棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域まで低下させることにより、棒状液晶化合物をネマチック相からスメクチック相に転移させることができる。このような方法でスメクチック相とすることで、液晶化合物が高秩序度で配向した液晶が得られる。 When the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, the temperature range in which the nematic phase is expressed is usually higher than the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase. Therefore, the rod-shaped liquid crystal compound is heated to the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the nematic phase, and then the heating temperature is lowered to the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, whereby the rod-shaped liquid crystal compound is brought into the nematic phase. Can be transferred to the smectic phase. By forming the smectic phase in this way, a liquid crystal in which the liquid crystal compounds are oriented with high order can be obtained.

棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がモノドメインを形成するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、10秒間〜5分間が好ましく、10秒間〜3分間が更に好ましく、10秒間〜2分間が最も好ましい。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、10秒間〜5分間が好ましく、10秒間〜3分間が更に好ましく、10秒間〜2分間が最も好ましい。
In the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the nematic phase, it is necessary to heat the rod-shaped liquid crystal compound for a certain period of time until it forms a monodomain. The heating time is preferably 10 seconds to 5 minutes, more preferably 10 seconds to 3 minutes, and most preferably 10 seconds to 2 minutes.
In the temperature range in which the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase, it is necessary to heat for a certain period of time until the rod-shaped liquid crystal compound expresses the smectic phase. The heating time is preferably 10 seconds to 5 minutes, more preferably 10 seconds to 3 minutes, and most preferably 10 seconds to 2 minutes.

液晶化合物の配向は、液晶層用硬化性層を形成する際の乾燥にて行われてもよい。つまり、液晶層用硬化性層と形成する際の乾燥にて、配向層上に塗布された液晶層形成用材料の乾燥と液晶化合物の配向との両方を行ってもよい。
また、液晶化合物の配向を、液晶層用硬化性層と形成する際の乾燥とは別に行ってもよい。
The orientation of the liquid crystal compound may be performed by drying when forming the curable layer for the liquid crystal layer. That is, in the drying when forming the curable layer for the liquid crystal layer, both the drying of the material for forming the liquid crystal layer coated on the alignment layer and the orientation of the liquid crystal compound may be performed.
Further, the orientation of the liquid crystal compound may be performed separately from the drying when forming the curable layer for the liquid crystal layer.

−液晶化合物の配向の固定−
液晶層用硬化性層中の液晶化合物の配向の固定には、熱重合又は活性エネルギー線による重合で、液晶層用硬化性層を硬化することで行うことが好ましい。本開示の光学フィルムの製造方法が位相差フィルムの製造方法である場合、活性エネルギー線を用いた液晶化合物の配向の固定が、既述の第2工程に該当する。
重合性を有する液晶化合物を用いる場合、活性エネルギー線の照射量が少ないと、未重合の液晶化合物が残存し、光学特性の温度変化、経時劣化等の起きる原因となる。そのため、残存する未重合の液晶化合物の割合が5%以下になるように照射条件を決めることが好ましい。
-Fixing the orientation of liquid crystal compounds-
The orientation of the liquid crystal compound in the curable layer for the liquid crystal layer is preferably fixed by curing the curable layer for the liquid crystal layer by thermal polymerization or polymerization with active energy rays. When the method for producing an optical film of the present disclosure is a method for producing a retardation film, fixing the orientation of the liquid crystal compound using active energy rays corresponds to the second step described above.
When a polymerizable liquid crystal compound is used, if the irradiation amount of the active energy ray is small, the unpolymerized liquid crystal compound remains, which causes temperature change of optical characteristics, deterioration with time, and the like. Therefore, it is preferable to determine the irradiation conditions so that the proportion of the remaining unpolymerized liquid crystal compound is 5% or less.

ここでの照射条件は、液晶層形成用材料の処方、及び液晶層用硬化性層の厚みにもよるが、活性エネルギー線照射量としては、50mJ/cm〜1000mJ/cmが好ましく、100mJ/cm〜500mJ/cmがより好ましい。 Wherein the irradiation conditions of the formulation of the liquid crystal layer forming material, and depending on the thickness of the liquid crystal layer curable layer, active energy ray irradiation amount is preferably 50mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 , 100mJ / Cm 2 to 500 mJ / cm 2 is more preferable.

活性エネルギー線の照射に用いる光源としては、既述の第2工程における光源が適用でき、好ましい態様も同様である。 As the light source used for irradiating the active energy rays, the light source in the second step described above can be applied, and the preferred embodiment is also the same.

その他、液晶層の詳細は、特開2008−225281号公報及び特開2008−026730号公報の記載を参酌できる。 In addition, for details of the liquid crystal layer, the description of JP-A-2008-225281 and JP-A-2008-026730 can be referred to.

以上のようにして得られる位相差フィルムは、液晶化合物の配向の固定の際に生じるシワが低減される。そのため、光学性能の面内均一性に優れた位相差フィルムとなり得る。 In the retardation film obtained as described above, wrinkles generated when the orientation of the liquid crystal compound is fixed are reduced. Therefore, it can be a retardation film having excellent in-plane uniformity of optical performance.

上記では、本開示の光学フィルムの製造方法を位相差フィルムの液晶層を得る際に適用する例について説明したが、この例以外にも、既述の、反射防止フィルムの反射防止層、防眩フィルムの防眩層、レンチキュラーシートのレンチキュラーレンズ層等を得る際に適用することもできる。 In the above, an example in which the method for producing an optical film of the present disclosure is applied when obtaining a liquid crystal layer of a retardation film has been described, but in addition to this example, the antireflection layer and antiglare of the antireflection film described above have been described. It can also be applied to obtain an antiglare layer of a film, a lenticular lens layer of a lenticular sheet, and the like.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples as long as the gist of the present invention is not exceeded.

[実施例1〜9及び比較例1]
(ウェブの準備)
幅1340mm、厚み40μmのセルローストリアセテートフィルム(TACフィルム;TD40UL、富士フイルム株式会社)の一端に、別の同種のTACフィルムの一端を同一平面上で突き合わせて長手方向が直線になるように位置決めした。そして、互いに突き合わせた2つのTACフィルムを粘着テープで全幅に亘って両面に貼り付けて連結した。このようにして、接合部を有するウェブを作製した。
粘着テープには、厚み100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)の一方面に粘着層として厚み100μmの両面テープを貼り付けたものを使用した。
2つのTACフィルムの連結部分である接合部は、PET/両面テープ/TACフィルム/両面テープ/PETの積層構造となっており、合計厚みは440μmである。
[Examples 1 to 9 and Comparative Example 1]
(Web preparation)
One end of another TAC film of the same type was abutted against one end of a cellulose triacetate film (TAC film; TD40UL, FUJIFILM Corporation) having a width of 1340 mm and a thickness of 40 μm on the same plane and positioned so that the longitudinal direction was straight. Then, the two TAC films that were butted against each other were attached to both sides with an adhesive tape over the entire width and connected. In this way, a web having a joint was produced.
As the adhesive tape, a polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 100 μm was used, to which a double-sided tape having a thickness of 100 μm was attached as an adhesive layer on one surface.
The joint portion that is the connecting portion of the two TAC films has a laminated structure of PET / double-sided tape / TAC film / double-sided tape / PET, and the total thickness is 440 μm.

(配向層用塗膜の形成及びラビング処理)
長さ1000m、幅1340mm、厚み40μmのセルローストリアセテートフィルムTD40UL(富士フイルム株式会社)からなる連続フィルム支持体の片面に、アルキル変性のポリビニルアルコール(ポバールMP−203、クラレ社)の2質量%水溶液を、連続フィルム支持体1m当り25ml塗布後、60℃で60秒乾燥させることにより、乾燥膜厚0.5μmの配向層用塗膜を形成した。そして、配向層用塗膜が形成された連続フィルム支持体を、30m/分の搬送速度で搬送させながら、配向層用塗膜の表面にラビング処理を施し、厚み0.5μmの配向層を形成した。
(Formation of coating film for alignment layer and rubbing treatment)
A 2% by mass aqueous solution of alkyl-modified polyvinyl alcohol (Poval MP-203, Kuraray) was applied to one side of a continuous film support made of a cellulose triacetate film TD40UL (Fujifilm Corporation) having a length of 1000 m, a width of 1340 mm and a thickness of 40 μm. After applying 25 ml per 1 m 2 of the continuous film support, the film was dried at 60 ° C. for 60 seconds to form a coating film for an alignment layer having a dry film thickness of 0.5 μm. Then, while transporting the continuous film support on which the coating film for the alignment layer is formed at a transport speed of 30 m / min, the surface of the coating film for the alignment layer is subjected to a rubbing treatment to form an alignment layer having a thickness of 0.5 μm. did.

(液晶層用硬化性層の形成)
続いて、図1と同様に構成された装置を用意し、下記の組成を混合して調製した液晶層形成用材料を、バーコーターを用いて配向層上に塗布した。液晶層形成用材料が塗布された連続フィルム支持体を、膜面温度150℃として60秒間加熱して乾燥し、乾燥膜厚が2μmの液晶層用硬化性層を形成した(硬化性層形成工程)。なお、接合部の前後10mは、バーコーターを塗布点より離脱し、塗布を行わなかった。
ウェブに液晶層用硬化性層が形成された積層体の総厚は、42.5μmである。
(Formation of curable layer for liquid crystal layer)
Subsequently, an apparatus having the same configuration as in FIG. 1 was prepared, and a liquid crystal layer forming material prepared by mixing the following compositions was applied onto the alignment layer using a bar coater. The continuous film support coated with the liquid crystal layer forming material was heated and dried at a film surface temperature of 150 ° C. for 60 seconds to form a curable layer for a liquid crystal layer having a dry film thickness of 2 μm (curable layer forming step). ). In addition, 10 m before and after the joint portion, the bar coater was separated from the coating point, and coating was not performed.
The total thickness of the laminate in which the curable layer for the liquid crystal layer is formed on the web is 42.5 μm.

−液晶層形成用材料の組成−
逆波長分散液晶性化合物R−2 100質量部
光重合開始剤 3.0質量部
(イルガキュア819、BASF社)
含フッ素化合物A 0.8質量部
架橋性ポリマー O−2(ガラス転移温度Tg:10℃) 0.3質量部
クロロホルム 588質量部
-Composition of material for forming liquid crystal layer-
Reverse wavelength dispersion liquid crystal compound R-2 100 parts by mass Photopolymerization initiator 3.0 parts by mass (Irgacure 819, BASF)
Fluorine-containing compound A 0.8 parts by mass Crosslinkable polymer O-2 (glass transition temperature Tg: 10 ° C.) 0.3 parts by mass Chloroform 588 parts by mass

Figure 0006861182
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Figure 0006861182
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Figure 0006861182
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(予熱)
次に、液晶層用硬化性層を有する連続フィルム支持体(ウェブ)Fを搬送させ(ライン速度:20m/分;第1工程)、表面温度を120℃に調整した直径600mmの加熱ロール4に液晶層用硬化性層を有するウェブFを当接させた。このようにして、液晶層用硬化性層を有するウェブFを加熱した(第3工程)。
(Preheating)
Next, a continuous film support (web) F having a curable layer for a liquid crystal layer was conveyed (line speed: 20 m / min; first step) to a heating roll 4 having a diameter of 600 mm whose surface temperature was adjusted to 120 ° C. A web F having a curable layer for a liquid crystal layer was brought into contact with the web F. In this way, the web F having the curable layer for the liquid crystal layer was heated (third step).

(紫外線硬化)
続いて、反応室3内にて、バックアップロール(直径:500mm、材質:ステンレス)にラップ角90℃で巻き掛け、巻き掛けられた領域の液晶層用硬化性層に対し、空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社)を用いて紫外線(活性エネルギー線)を照射した(第2工程)。ここでの紫外線の照射量は、300mJ/cmであった。
(UV curing)
Subsequently, in the reaction chamber 3, the backup roll (diameter: 500 mm, material: stainless steel) is wound around the backup roll (diameter: 500 mm, material: stainless steel) at a lap angle of 90 ° C., and the air-cooled metal halide lamp (eye) is applied to the curable layer for the liquid crystal layer in the wound area. (Graphics) was used to irradiate ultraviolet rays (active energy rays) (second step). The irradiation amount of ultraviolet rays here was 300 mJ / cm 2 .

なお、反応室内には、2mm×2000mmのスリット状の吹き出し口から供給流量200m/h(第1の供給流量f1)にて室温(25℃)の窒素ガスが供給されており、ウェブの幅方向全体に亘り窒素ガスを当てた。なお、スリット状の吹き出し口は、短尺(2mm)側を連続フィルム支持体の搬送方向に沿うように、また、長尺(2000mm)側を連続フィルム支持体の幅方向に沿うように設置した。また、スリット状の吹き出し口は、連続フィルム支持体とバックアップロールの接触地点にある塗膜面から5mm離間した位置に設置した。 Nitrogen gas at room temperature (25 ° C.) is supplied to the reaction chamber at a supply flow rate of 200 m 3 / h (first supply flow rate f1) from a slit-shaped outlet of 2 mm × 2000 mm, and the width of the web. Nitrogen gas was applied over the entire direction. The slit-shaped outlet was installed so that the short (2 mm) side was along the transport direction of the continuous film support and the long (2000 mm) side was along the width direction of the continuous film support. Further, the slit-shaped outlet was installed at a position 5 mm away from the coating film surface at the contact point between the continuous film support and the backup roll.

そして、上記のように紫外線照射を行って液晶層用硬化性層を硬化させる際、反応室3の内部を接合部が通過する際、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる離間地点Qと離間地点Qから搬送方向下流4mの地点との間の距離を通過する間においては、供給流量200m/hにて供給される窒素ガスの供給流量(第1の供給流量f1)を、下記表1に示すように供給流量f1より少ない第2の供給流量f2に変化させて供給した。なお、バックアップロールの表面(周方向1/4相当の面)に巻き掛けられている連続フィルム支持体の長さは、400mmである。 Then, when the curable layer for the liquid crystal layer is cured by irradiating with ultraviolet rays as described above, when the joint portion passes through the inside of the reaction chamber 3, and when the continuous film support is separated from the separation point Q away from the backup roll. While passing the distance from the point Q to the point 4 m downstream in the transport direction, the supply flow rate of nitrogen gas supplied at the supply flow rate of 200 m 3 / h (first supply flow rate f1) is shown in Table 1 below. As shown in the above, the supply was changed to a second supply flow rate f2, which is smaller than the supply flow rate f1. The length of the continuous film support wound around the surface of the backup roll (the surface corresponding to 1/4 in the circumferential direction) is 400 mm.

以上のようにして、液晶化合物の配向が固定化された液晶層を有する位相差フィルムを作製した。 As described above, a retardation film having a liquid crystal layer in which the orientation of the liquid crystal compound is fixed was produced.

[評価]
実施例及び比較例で作製した位相差フィルムに対して、以下の方法で乗り上げシワの発生の頻度を測定した。結果を表1に示す。
具体的には、作製した位相差フィルムの末端(巻き終わり側の端部)から0m〜1mmの領域について、幅方向全体に亘って乗り上げシワの発生状態を目視にて観察し、乗り上げシワの有無を確認した。シワ発生率は、N回の接合部通過の中で乗り上げシワが発生した回数をnとし、N=10として以下の式より算出した。
シワ発生率(%)=n/N×100
[Evaluation]
With respect to the retardation films produced in Examples and Comparative Examples, the frequency of run-up wrinkles was measured by the following method. The results are shown in Table 1.
Specifically, in the region from 0 m to 1 mm from the end (end on the winding end side) of the produced retardation film, the state of occurrence of riding wrinkles is visually observed over the entire width direction, and the presence or absence of riding wrinkles is observed. It was confirmed. The wrinkle occurrence rate was calculated from the following formula, where n was the number of times that wrinkles were generated during the N times of passing through the joint, and N = 10.
Wrinkle occurrence rate (%) = n / N x 100

Figure 0006861182
Figure 0006861182

表1に明らかなように、実施例の位相差フィルムは、比較例の位相差フィルムに比べて、乗り上げシワの発生頻度が顕著に軽減された。
特に、活性エネルギー線照射部内を接合部が通過する間と、連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点とこの地点から搬送方向下流4mの地点との間を接合部が通過する間とにおいて、当初流量である第1の供給流量より少ない第2の供給流量f2を維持した実施例1〜4では、乗り上げシワの発生抑制に対する効果がより顕著であった。
As is clear from Table 1, the retardation film of the example has a significantly reduced frequency of run-up wrinkles as compared with the retardation film of the comparative example.
In particular, during the time when the joint portion passes through the active energy ray irradiation portion and between the point where the continuous film support separates from the backup roll and the point where the joint portion passes 4 m downstream from this point in the transport direction, initially. In Examples 1 to 4 in which the second supply flow rate f2, which is smaller than the first supply flow rate, which is the flow rate, was maintained, the effect on suppressing the occurrence of run-up wrinkles was more remarkable.

1・・・塗布装置(塗布手段)
2・・・乾燥装置(乾燥手段)
3・・・反応室(活性エネルギー線照射部)
4・・・加熱ロール
32・・・光源
34・・・バックアップロール
36a、36b・・・ノズル
F・・・ウェブ(連続フィルム支持体)
P・・・連続フィルム支持体とバックアップロールとが接する接触地点
Q・・・連続フィルム支持体(特に接合部)がバックアップロールから離れる離間地点
1 ... Coating device (coating means)
2 ... Drying device (drying means)
3 ... Reaction chamber (active energy ray irradiation section)
4 ... Heating roll 32 ... Light source 34 ... Backup roll 36a, 36b ... Nozzle F ... Web (continuous film support)
P: Contact point where the continuous film support and the backup roll come into contact Q: Separation point where the continuous film support (particularly the joint) separates from the backup roll

Claims (9)

フィルム同士が接合された接合部を有し、かつ、硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を搬送する第1工程と、
不活性ガスが第1の供給流量で供給される活性エネルギー線照射部内で、加熱されたバックアップロールに巻き掛けられた前記連続フィルム支持体の巻き掛け領域の硬化性層に活性エネルギー線を照射する第2工程と、
を有し、
前記第2工程において、活性エネルギー線照射部内を前記接合部が通過する時間中の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体がバックアップロールから離れる地点と前記地点から搬送方向下流4mの地点との間を前記接合部が通過する時間中の少なくとも一部の少なくとも一方は、不活性ガスを第2の供給流量で供給し、前記第1の供給流量f1に対する前記第2の供給流量f2の比率が20%以下である、光学フィルムの製造方法
The first step of transporting a continuous film support having a joint portion in which films are bonded to each other and having a curable layer coated therein.
In the active energy ray irradiation unit where the inert gas is supplied at the first supply flow rate, the active energy ray is irradiated to the curable layer in the winding region of the continuous film support wound on the heated backup roll. Second step and
Have,
In the second step, at least a part of the time during which the joint portion passes through the active energy ray irradiation portion, and between a point where the continuous film support separates from the backup roll and a point 4 m downstream from the point in the transport direction. At least one of at least a part of the time during which the joint passes supplies the inert gas at the second supply flow rate, and the ratio of the second supply flow rate f2 to the first supply flow rate f1 is 20%. The following is a method for manufacturing an optical film.
前記バックアップロールの表面温度が、60℃以上160℃以下である請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the surface temperature of the backup roll is 60 ° C. or higher and 160 ° C. or lower. 前記第2工程は、更に、搬送された連続フィルム支持体の前記接合部が前記バックアップロールに接触する前に、下記式1を満たす範囲に不活性ガスの供給流量を調整する、請求項1又は請求項2に記載の光学フィルムの製造方法。
f1>f2 式1
It said second step further, before the junction of the transported continuous film support comes into contact with the backup roll, to adjust the supply flow rate of the inert gas in the range satisfying the formula 1, claim 1 or The method for producing an optical film according to claim 2.
f1> f2 formula 1
前記第2工程は、活性エネルギー線照射部内を前記接合部が通過する時間中の少なくとも一部、及び連続フィルム支持体が前記バックアップロールから離れる地点と前記地点から搬送方向下流4mの地点との間を前記接合部が通過する時間中の少なくとも一部において、第2の供給流量f2を維持する、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 In the second step, at least a part of the time during which the joint portion passes through the active energy ray irradiation portion, and between a point where the continuous film support separates from the backup roll and a point 4 m downstream from the point in the transport direction. The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 3 , wherein the second supply flow rate f2 is maintained for at least a part of the time during which the joint portion passes through. 前記第2工程の前に、前記硬化性層が塗設された連続フィルム支持体を予熱する第3工程を有する請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 4 , further comprising a third step of preheating the continuous film support coated with the curable layer before the second step. 前記連続フィルム支持体の幅長が、200mm以上2000mm以下である請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 5 , wherein the width length of the continuous film support is 200 mm or more and 2000 mm or less. 前記連続フィルム支持体の厚みが、3μm以上100μm以下である請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 6 , wherein the thickness of the continuous film support is 3 μm or more and 100 μm or less. 不活性ガスの第1の供給流量f1が、5m/h以上300m/h以下である請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 7 , wherein the first supply flow rate f1 of the inert gas is 5 m 3 / h or more and 300 m 3 / h or less. 連続フィルム支持体に硬化性層が形成された積層体の総厚は、3.1μm以上115μm以下である請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 8 , wherein the total thickness of the laminate in which the curable layer is formed on the continuous film support is 3.1 μm or more and 115 μm or less.
JP2018064742A 2018-03-29 2018-03-29 Optical film manufacturing method Active JP6861182B2 (en)

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